TW587197B - Mask safekeeping apparatus, exposure apparatus and manufacturing method of device - Google Patents

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587197 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 I發明，係有關光罩保管裝置及曝光裝置、以及元件 製造方法，尤其是有關一種保管光罩之光罩保管裝置、及 將形成於光罩之圖案轉寫至物體上之曝光裝置，^及使用 該曝光裝置之元件製造方法。 【先前技術】 至今，在半導體素子（積體電路等）、液晶顯示素子等鲁 之製造上之微影成像步驟中仍使用著各種曝光裝置。近年 來，其主流是投影曝光裝置，例如有：將光罩（亦稱為標 線片（reticle))之圖案（將待形成之圖案等比放大約4〜5 倍所形成之圖案）透過投影光學系統縮小轉寫至晶圓等被 曝光物體上之步進及重覆方式之縮小投影曝光裝置（所謂 步進機）、對該步進機加以改良而成之步進及掃描方式之 掃描型投影曝光裝置（所謂掃描步進機）。 該等投影曝光裝置’為因應積體電路之細微化並實現 向解像度’而將其曝光波長轉向更短波長侧。現在，該波 長是以KrF準分子雷射之248nm為主，但更短波長之ArF 準分子雷射之193nm亦正逐步進入實用化階段。

.— r Μ*^ P 在进紫外域之曝光波長之曝光裝置，會發生曝光光被 二氧中之物質（主要有有機物）所吸收之現象、由於曝光光 而活性化之有機物附著在透鏡等以致透過率惡化之現象等 。因此，為將有機物自光路中除去，將光路中之空間以經 6 除去有機物之空氣以外的氣體充滿通常是有效。 〜又’將來’曝光波長之更進-步之短波長化-定會進 因此，已有人開發或提出使用屬於真空紫外域（其波 長比ArF準分子雷射還短）之光源的投影曝光裝置，該光源 列如有輸出波長157111„之&雷射、輸出波長12_之 雷射。 2 該等屬於真空紫外域之光（以下稱為「吸收性氣體」） 之極大部分會被例如氧氣、水蒸氣及—般有機物所吸收。 因此，在以真空紫外域之光束為曝光光之曝光裝置中，為 將曝光光經過之光路上Μ中的吸收性氣體之濃度降低至 數ppm以下之濃度，有必要將該光路上空間之氣體以曝光 光之吸收少的氮氣或氦氣等惰性氣體（以下稱為「低吸收 性氣體」）置換。 又不僅光路中之吸收性氣體，還有，附著於構成曝 光裝置内光學系統之透鏡之表面的有機物或水蒸氣，真空 紫外域之曝光光之吸收亦大，但藉由降低光路中之氣體所 含之有機物、水蒸氣之濃度，可防止該等物質附著於透鏡 表面。 又H線片而a，當其表面有水蒸氣、有機物等附 著時，由於該等物質所造成之曝光光之吸收量大，在曝光 前必須將該等吸收物質從標線片表面除去。就該等物質之 除去方法而言，曾有報告指出所謂「光洗淨」是有效的， 係照射波長1 ⑽之Xe準分子燈等之紫外光，藉以利用光 化學反應來分解有機物、水等。 587197 【發明内容】 ()發明所欲解決之技術問題 然而，用於該光洗淨之準分子燈光源需要大電力 f熱亦大。另—方面’投影曝光裝置，係為維持其曝光精 度而需要極高精度的溫度管理，故在曝 C-^«^^^,(retlcle stage)：：：^ 先學糸統-晶圓部分）附近設置這樣的熱源這件事從/ 精度之觀點來看並不好。 $ 1一方面，為降低溫度所造成之影響，若使準分子燈 光源遠離標線片台，則光洗淨後將標線Μ搬運至標線: 之搬運路㈣變長，但在該搬運路徑上，騎止洗淨後I 標線片再度受污染，必須進行高精度的化學性污毕對策 氣體置換等。因此，搬運路徑部分會大型化，4至 起曝光裝置全體之大型化。 曰本發明為基於上述各問題所開發者，其第"的在於 提供-種可防止光洗淨後之光罩之污染之光罩保管裝置 0 本發明之帛2目的在於，提供—種可謀求曝光精 展徒向及裝置小型化之曝光裝置。 —又纟發明之第3目的在於，提供一種可將高集積度 一件之生產性加以提南之元件製造方法。 (二）解決問題之技術手段 從第1觀點來看，本發明為一種光罩保管裝置，係用 來保&光罩，其特徵在於’具有：保管裝置本體，其具有 8 587197 可收容該光罩之内部空間，並形成有該光罩可出入之開口 :及開閉部，用來將該保管裝置本體之該開口加以開閉； ^在該保管裝置本體及該開閉部之至少一方，設有使對收 容於該内部空間内之光罩洗淨用之光透過之透過部。 依據上述構成，由於在保管裝置本體之内部空間，透 過被開閉門所打開之開口將光罩收容’並藉由開閉門將開 口閉鎖，故可於將外部環境氣體隔絕在外之内部空間保管 光罩，以免光罩接觸。又，由於在保管裝置本體及開閉門 之至少-部分形成有使光洗淨用之光透過的透過部，故可 對光罩以其在保管裝置本體内之狀態進行光洗淨。藉此可 防止光罩受到化學性的污染。又，例如，藉由預先將保管 4置本體之内空間以光罩之污染少的氣體予以充填，即 可減J光洗淨完成之光罩受到長期的污染。因此，藉由以 收容於保管裝置本體之狀態搬運光罩，就不須進行搬運路 徑之氣體置換等。 在本發明之光罩保管裝置中，該保管裝置本體，係整 體上/、有相型之形狀。在此情形，該保管裝置本體之四方 之側土中至少彳1個側壁之特定側壁形成有該開口；且★亥 開閉部，係以對庫於兮叫 應於該開口之方式設於該保管裝置本體之 該特定側壁。又，兮 忒開閉部，係以既定之轴為中心能旋 之方式安裝於該侔总妝班丄儿 呆吕裝置本體之開閉門，或者是，以 平行於該保管裝詈士 本體之该特定側壁的面内移動之方式 裝於該特定側壁之、、典 π動門。再者，該開閉部，係安裝於該 保管裝置本體之誃姓τ肢 ^ ^ χ寺疋侧土的閘閥（gate valve) 〇 587197 在本發明之光罩保管裝置中，在該保管裴置 部及底部中至少—方之至少一部分設有該透過部。在此情 形，該透過部，係構成該保管裝置本體之頂部及底部中至 ^方之—部分的窗玻璃。在此情形，在該保管裝置本體 之底部形成有該開口；且該開閉部，係底部開閉部，其具 有可支撐該光罩之支撐部，用來可閉塞該開口、能以拆裝 :如之方式卡合於該底部β x，本發明之光罩保管裝置進 二具有鎖定機構’其設於該保管裝置本體及該底部開閉 部之至少一方，用來鎖定該底部開閉部對於該保管裝置本 狀態。再者，在該底部開閉部之至少-部：設有 過。卜在此情形’該透過部’係構成該底部開閉部之 一部分的窗玻璃。 在本發明之光罩保管裝置中，在該保管裳置本體及該 開閉部之至少-方，形成有連通該内部空間與外部之通氣 孔，該光罩保管褒置進一步具有使該通氣孔成為閉狀能之 開閉閥機構。該開閉閥機構，係具有··閥構件，其配置於 通氣孔的構件之内部；及彈逐構件，其為使該通 軋孔成為該閉狀態而向該通氣孔彈壓該閥構件。又， 閉閥機構，係具有··筒狀構件，其 以幵 ，、又於形成有该通氣孔的 構件之外面侧’一端連通於該通氣孔並且 部；及閥構件，其可在該筒狀t k於卜 同狀構件之内部移動，被往通氣 孔之相反側彈麼而將該筒狀構件之内部與外部之連 閉鎖。 再者，在本發明之光罩保管裝置中，該内部空間之氣 10 f奐：既定之氣體；該光罩保管裝置進一步具有離子 化裳置，其設於該内部空間內 之氣體離子化。 用來將該内部空間内既定 ，，收容於該内部空間之該光軍，係具有：光罩基 其:、具有形成有圖案之面；框構件’其一端部設於該光 基板上該圖案形成領域之周圍；及膠片（pelli似，設 =框構件之他端部，用來保護該圖案形成領域；且該保 二：本體具有保護空間用氣體置換機構，其用來將由該 2= 反、該框構件、及該膠片所形成之保護空間 體置換成既定之氣體。 第2觀點來看，本發明為一種曝光裝置，係在曝光光 且:’將形成於光罩之圖案轉寫於物體上；其特徵在於， 二有.保官裝置搬運機構，用來將光罩保管裝置沿既定路 ^運至該曝光光之光路附近之既定位置，該光罩保管裝 可將光罩收諸内部Μ，並具有該光罩可出入之構 '，及光罩搬運機構’其將該光罩從被搬運至該既定位置 搬運裝置之内部空間沿既定氣氛之第1搬運路徑 氣運至包含該曝光光之光路的空間。 依據上述曝光裝置’可在内部空間收容光罩並具有可 運:：：：出入之構造的光罩保管裝置，藉由保管裝置搬 ^構而沿既定路徑被搬運至曝光光之光路附近之既定位 收：於被搬運至該既定位置之光罩保管裝置之内部的 =由光罩搬運機構而沿既定氣氛之第〗搬 搬運至曝光光之光路上。因此，到既Μ置為止，係以1 ^8/197 先罩保管裝置之内部空間收容光罩之狀態搬運光罩，而從 :定:立置到曝光光之光路上為止，則沿既定氣氛之第】搬 路僅搬運光罩，故即使光罩之總搬運路徑變長，亦不必 使到既定位置為止之既定路徑具有既定氣氛。亦即，在曝 先裝置内可使需要既定氣氛之搬運路徑為最短，故可將搬 =部分小型化。藉此’彳因防止光罩受污染而提高曝 尤精度，同時將曝光裝置小型化。

在此情形，使用開閉型保管裝置當作該光罩保管裝置 ’且該開閉型保管裝置具有：保管裝置本體，具有 f間：並形成有該光罩可出入之開口；及開閉冑，用來將 "亥保管裝置本體之該開口予以開閉。 ， 又，該第1搬運路徑，係將包含該曝光光之光路的* 間、及被搬運至該既定位置之該光罩保管裝置之内部空： 予以連通而形成。 再者，該曝光裝置，係具有中空狀路徑區劃構件，龙 用來在將包含該曝光光之光路的空間加以包圍之隔牆，連 接上被搬運至該既定位置之該光罩保管裝置。 在本發明之曝光裝置中，該保管農置本體，係整體上 具有箱型之形狀’並在該保管裝置本體之四方之側壁中至 v有1個側壁之特定側壁，形成有藉由該開閉部來開閉之 該開口；且該路徑區劃構件，係包含：伸縮自如” 縮囊，其-端可連接於被搬運至該既定位置之該保 之該特定側壁；及中空之連接構件，其將該伸縮囊之另' — 立而與邊隔牆加以連接。 12 在此情形，在該保管f ^ ea pa 展置本體之底部形成有該開口， 該開閉部，係底部開閉部 ，用來可閉塞該開…以可拆==罩的支樓部 空間連通之狀態連接二與該隔牆内部 被搬運”既、Γ 在該1體之頂壁形成有 既疋位置之該保管裝置的底部可嵌合之開口。 X在該路徑區劃構件連接有供氣管及排氣管。

波長光罩保管裝置中至少-部分，設有使既定 波長之I外線透過之透過部。 在本發明之曝光裝置中，係進一 其對該光罩保管裝置照射 、 Λ 4外，線，而進行該光罩保管裝 士及透過該透過部對該光罩之光洗淨之至少一 ，且=管裝置搬運機構，係將該光罩保管裝置沿著該 既疋位置與該光洗淨裝置之間之第2搬運路徑搬運。 又’在本發明之曝光裝置中，係具有收容該曝光裝置

:體之收容室’·該曝光裝置進一步具有光洗淨裝置，其配 置於該收容室夕卜1來對該光罩保管裝置照射該紫外線， :進行該光罩保管裝置之光洗淨、及透過該透過部對該光 罩之光洗淨之至少一方。 在此情形，該光洗淨裝置，係用來進行該光罩之洗淨 的裝置；且該曝光裝置進-步具有氣體置換機構，其用來 在利用該光洗淨裝置開始進行該光罩之該光洗淨之前，將 該光罩保管裝置内之氣體置換成既定之氣體。 又，該氣體置換機構，係設於該光洗淨裝置。 13 587197 在本發明之曝光裝置中，該光罩保 具有開閉閥機構，直开彡占於—> 係進一步 至少-方，用U 裝置本體及該開閉部之 狀能.且，使連通該内部空間與外部之通氣孔成為閉 狀V氣體置換機構，係具有氣體供給機構，t 開閉閥機構成為開狀態， /、使该 該既定之氣體。 通乳孔向該内部空間供給 "二”，，置換機構進-步具有：積知該内部 &孔體之/辰度的感測器、及根據該感測器 來調整該特定氣體之濃度的調整裝置… f 係氧氣或水蒸氣。 疋軋粗， 又三在該光罩保管裝置形成有至少2個該通氣孔，該 閉=:裝置’：具有分別對應於該通氣孔之複數個該開 _機構，·"該氣體置換機構進-步具有排氣機構，盆使 '、開閉機構不同的開閉閥機構成為開狀態，透過該通氣孔 :該内部空間之氣體排出，_閉閱機構，係為了該氣體 :、給機構將該既定之氣體供給該内部空間而已經成為開狀 態。 在此情形，該光洗淨裝置，係用來進行該光罩保管裝 置之洗淨的裝置；且該曝光裝置進一步具有氣體置換機構 ，其用來在利用該光洗淨裝置開始進行該光罩保管裝置之 光洗淨之前’將該光洗淨裝置内之氣體置換成既定之氣體 係進一步具有偵知該内 、及根據該感測器之輸 在此情形，該氣體置換機構， 部空間内特定氣體之濃度的感測器 14 又，該特定氣體 出來調整該特定氣體之濃度的調整裝置 ’係氧氣或水蒸氣。 管梦形’曝光裝置，係進—步具有用來將該光罩锦 4置暫扦保持在既定位置之保持裝置。 閉閉機II持裝置，係進—步具有使通氣孔成為閉狀態之開 2機構，該通氣孔，係形成於該開閉閥機構之一部分， 將该内部空間與外部予以連通；且該保持裝置具有： 使該開閉閱機構成為開狀態並透過該通氣孔向該内部空間

供給該既定之氣體的氣體供給機構。 ，、再：，在該光罩保管裝置，形成有至少、2個該通氣孔 •並且口又有刀別對應於該各通氣孔之複數個該開閉閥機構 _且忒保持裝置進一步具有排氣機構，其使與開閉機構不 同的開閉閥機構成為開狀態，透過該通氣孔將該内部空間 =氣體排ώ ’該開閉機構’係為了該氣體供給機構將該既 定之氣體供給該内部空間而已經成為開狀態。

在本發明之曝光裝置中，收容於該光罩保管裝置内之 忒光罩，係具有：光罩基板，其具有形成有圖案之面；框 構件，其一端部設於該光罩基板上之該圖案形成領域之周 圍，及膠片，其設於該框構件之他端部，用來保護該圖案 形成領域；且該曝光裝置進一步具有保護空間用氣體置換 機構，其將由該光罩基板、該框構件、及該膠片所形成之 保護空間内之氣體置換成既定之氣體。 又’藉由在微影成像過程使用本發明之曝光裝置進行 曝光’即可在物體上以高精度形成光罩之圖案，藉此，可 15 587197 以高良率製造有更高集積度之微型元件。因此，^ K力m 一隹見 點來看’本發明’係使用本發明之曝光裝置的元件製造方 法0 【實施方式】 第1實施例 以下’基於圖1〜圖8說明本發明之第丨實施例。圖^ 概略表示第1實施例曝光裝置11 〇之構成。 該曝光裝置110,係設置於潔淨度大致為等級1〇〇〜 1 000之潔淨室内。該曝光裝置110具有 、π · %境室 (environmental chamber)l(以下簡稱為「本體室j」），其 内部空間受到高度防塵且受高精度的溫度控制；設置於該 本體室1内之曝光裝置本體1〇〇;鄰接於該曝光裝置本體 100而配置成之標線片搬運系統120 ;及光洗淨裝置22等 。本體室1之内部，其化學性清淨度亦保持於一定程度。 在本體室1之+X側（圖1之右側）之端部，形成有比 其他部分還低的低段差部。在該低段差部配置有光罩箱 (mask container)之搬出入口 la。透過該搬出入口 la，藉 由未圖示之架空（cei 1 ing)搬運系統將作為光罩之標線片以 收納於標線片載體44内之狀態搬進本體室1，並自本體室 1搬出。該高架式搬運系統，係使用將標線片以收容於襟 線片載體44内之狀態搬運之〇HT(OverHeadTransf er)等。 曝光裝置本體100,係具有：未圖示之光源、透過未 圖示之送光光學系統連接於該光源且利用曝光光EL照亮標 16 線片R之照明單元ILU、保持標線>! R之標線片支撐具14 將自枯線片R射出之曝光光EL投射於晶圓W上之投影光 予系充PL保持晶圓W之晶圓載物台（wafer stage)wsT等· ο "亥光源，係在此使用輸出波長157nm之氟雷射（F2雷射 )光源，不限於氟雷射，也可使用波長約12〇nm〜約 19〇nm之真空紫外域的光源，例如輸出波長146nm之氪二 聚物雷射（Κι*2雷射），輸出波長126nm之氬二聚物雷射 (紅2雷射）等。或者是使用輸出波長1 93nm之ArF準分子雷 _ 射等近紫外光源。 该照明單70 ILU具有照明系統殼2及照明光學系統， 该照明光學系統則包含··以既定之位置關係配置於其内部 之f曲面鏡、光學積分器（〇pticai integrater) (homogenizer)、中繼透鏡（relay lens)、及作為視場光闌 (field stop)之標線片遮簾等。光學積分器，係將複眼透 鏡、桿型積分器（内面反射型積分器）或繞射光學素子等單 獨使用或是組合使用。又，標線片遮簾，係配置於與標、線鲁 片R之圖案面共軛的面。 在以真空紫外域之波長之光為曝光光的情形，必須自 該光路排除氧氣、水蒸氣、碳化氫系之氣體等，對該波長 帶域之光具有強吸收特性之氣體（以下，適當稱為「吸收 性氣體」）。因此，在本實施例中，將照明系統殼2内部之 曝光光EL光路上之空間之氣體，以吸收真空紫外域之光的 特性比空氣為低的特定氣體，例如氮氣、氦、氬，氖、氪 17 587197

等惰性氣體、或該等氣體之混合氣體（以下，心稱為「 低吸收性氣體」）置換。在本實施例中，在照明系：毅’;連 接有供氣管及排氣管，在該供氣管及排氣管之一端部附近 又分別設有供氣閥10及排氣閥u，供氣管之另一端連接 於未圖示之低吸收性氣體之供給裝置。又，供氣閥ι〇及排 氣閥經常均以既定之開度開著，使低吸收性氣體經常 自未圖示之低吸收性氣體之供給裝置流向照明系統殼2内 部。其結果，照明系統殼2内之吸收性氣體之濃度，係氧 =會在O.lppm以下，水蒸氣濃度會在ippm以下，有機物 濃度會在lOppb以下。又，在光源、送光光學系統之光路 空間中亦與照明系統殼2内同樣地進行氣體置換，其結果 同樣地，氧氣會在o.iPpm以下，水蒸氣濃度會在lppm以 下’有機物濃度會在1 Oppb以下。

該標線片R，係在此使用所謂膠片付標線片。亦即， ‘線片R，係如圖1所示包含：一面（圖1之下面）形成有 細Μ圖案之標線片用基板54、及安裝於該標線片用基板54 下面（以下，稱為「圖案面」）且用來保護該圖案面之圖案 保護裝置72。 標線片用基板54，係由以石英為主成分之材質，例如 氟添加石英（將羥基（hydroxyl group)排除至約剩lOppm以 下’並使其含有大約1%之氟而成者）所形成。使用這種材 料作為標線片用基板5 4的理由是，作為曝光光所使用之波 長190nm以下之所謂真空紫外域之光，因不僅在氧氣、水 蒸氣等氣體中之透過率低，而且在玻璃、有機物中之透過 18 587197 率亦低 故必須使用相對於真空紫外 光之透過率高的材料 …呆邊裝置72 ’係具有··膠片框（框狀構件）76，其 一端部是由接著於標線片用基板54之圖案面的矩形（” 正方形）框狀金屬（銘、其合金等）或石英玻璃所構成’·及膠 片75，其接者於該膠片框76之相對標線片用基板54之 對向面及相反側之面（他端部），並有圖㈣成，藉以保護 領域。在此情形’膠片75，係透過膠片框76安裝在離標 線片用基板54之圖案面約63mm之位置上。又，在膠片框 76*形成有未圖不之通氣孔’用來防止因飛機輸送或天候變 化等所造成之氣壓變化而使膠片75損壞。 就膠片75而言，為使真空紫外域之曝光光EL更良好 地透過’可使用例如由含有氟之樹脂所構成之薄膜、或由 螢石氟化鎂、氟化鐘等結晶材料所構成之約1 〇 〇〜3 〇 〇 # m厚之薄板、或由螢石、氟化鋰等所構成之約3〇〇〜8〇〇#m 厚之較厚的硬膠片。又，在使用近紫外光作為曝光光的情 形’可使用由有機系物質（以硝化纖維素（nitr〇cellul〇se) 等為主成分）所構成之透明薄膜。 該標線片支撐具14，係配置於標線片室1 5之内部， 該標線片室15由隔牆18之内部空間所形成，該隔牆18以 無間隙之方式與照明系統殼2及投影光學系統PL接合。標 線片支撐具14具有：支撐具本體14a，全體由矩形構件所 構成’在該矩形構件之中央部則形成有可收納該圖案保護 裝置72之開口；及4個真空吸附機構（vacuum chuck)63( 58719^ 圖1中僅表示2個之真空吸附機構），在該支撐具本體14a 上面之4角落附近各設1個。藉由該等4個真空吸附機構 63，標線片用基板54之下面在其4角落附近分別被吸附， 藉此’標線片R會固定於標線片支撐具14。真空吸附機構 63之吸附面，係由例如盧龍或鐵氟龍（tefl〇n)(註冊商標） 、陶瓷等材質所形成。 標線片支撐具14可藉由未圖示之標線片驅動系在χγ

面内受微小的驅動（包含圍繞2軸之旋轉）。標線片驅動系 玎包含例如2組音圈馬達（voice c〇u m〇t〇r)來構成。 該標線片室15之隔牆18是由不銹鋼（sus)等脫泡少的 材料所形成。在該標線片室15之隔牆18之頂 形成有比標線片用基板54還小的矩形開口，在該開口部分 ，以照明系統殼2之内部空間、與待配置標線片R之標線 片室15的内部空間分開之狀態配置有透過窗丨2。該透過 窗12,係因配置於由照明單元ILU向標線片用基板"照 射^曝光光EL之光路上，故由透過性相對作為曝光光之真 空紫外光為高的螢石（f luQri te) # a化物結晶等所形成。

又，在標線片室15之隔牆18之乂方向一側（+χ側）: 側壁形成有出入口 18a。該出入口 18a藉由開閉門m _ :為可開閉的構造。開閉門m，係透過未圖示之驅動多 、、先而受到未圖示之控制裝置之開閉控制。 又’在標線片室15内之標線片支揮具14與開閉严 置有構成鮮搬運機構標線片搬 (由水平多關節機械手臂所構成）。該標線片搬運機械^ 20 6之臂部可伸縮及纟XY ®内旋轉，亦可上下運冑。該標線 片搬運機械手臂6，係透過該出人口 18a將標線片R從標 =片至15外搬進標線片室15内，並且將標線片R裝載在 払線片支撐具14上。又，標線片搬運機械手臂6，係從椤 線片支撐具Η上將標線片“以卸下後，透過出入： 18a將標線片R搬出標線片室15外

严再者，在標線片室15之隔牆18，如圖i所示設有令 =閱16及排氣閥17。該供氣_、排氣閥」7均以經常挺 二：：度開著，低吸收性氣體經常從未圖示之低吸收㈣ 之氣俨、*裝置机到私線片至15。藉此’標線片室15内旬 體被置換為低吸收性氣體，標線片室15内之吸收㈣ 體之濃度將達數ppm以下之濃度。 ” 之出入口 18a周圍，設有 127。在此，根據圖2之 在標線片室15隔牆18外側 作為路彳災區劃構件之伸縮囊機構 (A)說明伸縮囊機構127。

A川丨小呷維震機構127具有：安| 圓筒1Γ於隔牆18外面之出入口i8a周圍部分的厚 該安裝構件96之隔於18相反广囊91，其-端連 使該伸忙查0 端面；及驅動機構 、、’百囊91沿X軸方向伸縮 環形構件9?’動驅動機構92具 缩囊= 伸縮囊91之另-端，且外徑 、、囊91還大；及3個致動器，其各 端以大致笙門J ^ -P 92b 夂相隔固定於該環形構件似之面向 '子向面。該等3個致動器，孫甘 個動益係其固定部埋進安裝心 21 猎由馬達等驅動源將可動冑92b沿x軸方向往復驅 1下，該等3個致動器為求方便，使用與可 相同之符號而稱為致動器92be 環等==:似之伸縮囊91相反側之面’貼有由0形 寻所構成之密封構件93。 在该安裝構件96形成有，2個向Z軸方向貫穿之貫穿 L在”亥貝穿孔插有供氣管94之一端及排氣管的之一端 仏氣& 94之他端側，係連接於供給低吸收性氣體之未 圖示之氣體供給裝置，排氣管95之他端側則連接於未圖示 之真空泵。 一回到圖卜該投影光學系統pL，係將由透鏡（由螢石、 氣化料氟化物結晶所構成）、反射鏡等所構成之光學系 統以鏡筒Μ密閉而成者。投影光學系統pL，係、使用投影 七率召為例如1/4 $ 1/5之縮小光學系統。因此，如前所 述’當由來自照明單元1Lu之曝光光EL照亮標線片R時， :成於標線片用基板54之圖案會被投影光學系統PL縮小 才又〜至aa圓W上之被曝光區，而形成圖案之縮小像。 又，投影光學系統PL亦可使用折射系統、反射折射系 統、及反射系統中任一系統。 “如本實施例所示，在使用真空紫外域之曝光光EL的曝 光裝置中，為避免氧氣、水蒸氣等吸收性氣體吸收曝光光 ’投影光學系、統PL之鏡筒内部之氣體亦必帛置換成低吸收 生氣體。S此’本實施例中，如圖1所示，在投影光學系 統PL之鏡筒連接有供氣管及排氣管，其等一端部附近分別 22 587197 設有供氣閥30及排氣閥31，並將供氣管之另一端連接於 未圖示之低吸收性氣體之供給裝置。又，供氣閥3〇及排氣 閥31均以既定之開度經常開著，從低吸收性氣體之供給裝 置經常有低吸收性氣體往鏡筒内部流，將鏡筒内之氣體置 換為低吸收性氣體。其結果，鏡筒内部之吸收性氣體之濃 度，係氧氣降至〇· lppm以下，水蒸氣濃度降至lppm以下 ’有機物濃度降至1 Oppb以下。

該晶圓載物台WST，係配置於被與投影光學系統PL ^ 鏡筒以無間隙方式接合之隔牆41所覆蓋之晶圓室40内。 晶圓室40之隔牆41，係由不銹鋼（sus)等脫泡少的材半 所形成。隔牆4卜係透過複數個(例如4個)防振單元“j 置於本體室1之底面（地面）上。藉由該等防振單元了，身 自地面之微振動會被絕緣而降至l〇_6G級。 在晶圓室40内，有底座Bs透過複數個防振單元39而 被支樓成水平。該等防振單元39,係有效防止伴 物么WST夕狡知 現日日圓载

° 動所造成之振動透過隔牆41向投影光學系统 孔、標線片R傳達。又’該防振單元％可採用主動式防振 裝置，其根據固定於底座BS—部分之半導體加速度計等振 動感測為之輸出來積極使底座BS振動衰減。 " 該晶圓載物台WST，係藉由例如由線 之未圖示晶圓驅動系，而广广D。 逆*所構成 觸之方式自由地受到驅動。 F接 在晶圓载物台WST上搭載有晶 table)35，利用裁 作 〇 (wafer 置於“固固疋工作台35上之未圖示晶 23 587197 圓支撐具將晶圓W吸附保持著。在晶圓固定工作台35之一 x側之端部，往Y軸方向延設有由平面鏡所構成之X移動 鏡36X。向該X移動鏡36X以大致垂直之方式投射來自X 軸雷射干計37X之測長束，其反射光被雷射干計37X 内部之偵知器（detector)所接收，以設於既定位置之參照 鏡之位置為基準，將X移動鏡36X之位置，亦即晶圓W之 X位置加以檢測。 同樣地，圖示雖已省略，但在晶圓固定工作台35之+Y 側之端部，往X軸方向延設有由平面鏡所構成之γ移動鏡 。又，透過該Y移動鏡，利用未圖示之γ軸雷射干計以 與前述相同之方式對Y移動鏡之位置，亦即晶圓W之γ位 ♦ 置進行檢測。該2個雷射干計之檢測值（測量值）會交給 未圖示之控制裝置。 控制裝置中，進行步進及重覆方式之曝光動作，係在 每次曝光間之步進式動作、及轉寫動作兩者反覆進行；該 每次曝光間之步進式動作，係邊監視該等雷射干計之檢 測值，邊透過未圖示之晶圓驅動系將晶圓載物台WST在χγ 面内驅動，並將晶圓W上之複數個被曝光區，依序定位在 標線片圖案之投影位置（曝光位置）；該轉寫動作，係每次 定位就控制光源之發光，並藉由曝光光EL將標線片R之圖 案之縮小像，透過投影光學系統PL轉寫至各被曝光區。 如本實施例所示，使用真空紫外域之曝光光EL的曝光 裝置中，為避免氧氣、水蒸氣等吸收性氣體吸收曝光光， 就從投影光學系統PL至晶圓W的光路而言，必須置換成該 24 587197 低吸收性氣體。因此，本實施例令，如圖！所示，在晶圓 之隔牆41連接有供氣f及排氣f，該供氣管及排氣 二之各-端部附近分別設有供氣間32及排氣閥33，供氣 官之另一端連接有未圖示之低吸收性氣體之供給裝置。又 ’供氣間32及排氣閥33均經常以既定之開度開著，並從 未心之低吸收性氣體之供給裝置經常有低吸收性氣體流 往晶圓室40内’將晶圓室40内之氣體置換成低吸收性氣 體。藉此’晶圓室40内吸收性氣體之濃度會被降至數_ 以下之濃度。 該標線片搬運系統120，係具有：開閉裝置 (ndexer)45’其載置於載置台1〇1上，用於進行該標線片 載體44之開閉，6亥載置台，其一端面連接於本體室1内部 +x側之側壁内m其被未圖示之支撐構件支撑成大致 水平），標線片搬運機械手臂47，其配置成靠近該開閉裝 置45之一X側；升降機單元13〇，其配置成與該標線片搬 運機械手臂47之-X側相隔有既定間隔；及橫向滑動機構 21，其設於升降機單元13〇之下端部附近。 該標線片載體44，在本實施例中使用一種 SMIF(StandardMechanicalInterface)英式容器，係可將複 數片標線片以上下方向有既定間隔之方式收納的下開式 (bottom open type)岔閉型容器（c〇ntainer)。該標線片載 體44，係如圖1所示具有··载體本體46,其與複數段（例 如3段）之收納架（用於將標線片以上下方向有既定間隔之 方式收納）設置為一體；從上方嵌合該載體本體46之罩子 25 587197 (cover) 1 02 ,及未圖示之鎖定機構，其設於載體本體46之 底板，用於鎖定罩子1〇2。 與私線片載體44之構造相對應，在有標線片載體44 待搬進之前述搬出入口 la，形成有比標線片載體44之載 體本體46之底板為大的開口 78。該開口 78通常被如圖j 所示之後述開閉構件82所閉塞。 闹闭稱仟μ、在其上端 該開閉裝置45，係具有

定有該開閉構# 82之以z軸方向為軸方向之驅動軸Μ、 及將該驅動軸84往上下方向(Z軸方向)驅動之驅動機損 186開閉構件82具有未圖示之卡合及鎖定解除機構，該 機構’係將搬進搬出人口 la的標線片載體以載體本體^ 底板之底面’卩真空吸引或機械之方式連結並加以卡合， 並且將設於該載體本體46之底板的未圖㈣定機構加二解 除。在開閉裝置45中’可利用開閉構件82之卡合及鎖定 解除機構’解除鎖定機構並且將載體本體46卡1二 閉構件82往下方移動既定量，藉 升

至1之内部盥外 邛隔離的狀態將載體本體46自罩子 ’、 置㈣未圖示之控制裝置所控•卜中刀離出。開閉裝 該標線片搬運機械手臂47’係由水平多關節機 所構成。該標線片搬運機械手臂47之 χγ面内旋轉，亦可上下運動。 ^係可伸縮及在 該升降機單元130包含： 在錯直方向延伸之4支滑導件 圖1之紙面裏側之一對滑導件 一端固定於本體室丨地面且 19a’ 19b’ 19c，I9d(其中， 19C，19d未圖示）、沿該等 26 587197 滑導件19a〜m可上下移動之滑塊48a，傷，他，類 其中’圖1之擊面裏側之一對滑塊48c，48d未圖示）、及 驅動滑塊48a〜48d之未圖示驅動機構等。滑塊48a〜· ，係呈L字形，可將作為後述光罩保管裝置之標線片保管 箱20之4角落附近從下方加以支樓。驅動料恤〜碰 之驅動機構，例如可使用設於各滑塊48a〜48d與所對應之 滑導件之間的線性馬達等。該驅動機構被未圖示之控制裝 置所控制，將滑塊48a〜48d同時往上下驅動同—量，藉此 將保持於滑塊48a〜48d之標線片保管箱2〇往上下搬運。 w在此’根據圖3之⑴及圖3之⑻來說明由該升降機 單元130所搬運之標線片保管箱2〇之構成，。 標線片保管孝I 20,係具有：作為保持裝置本體之保管 箱本體210,整體呈箱型之形狀且其内部形成有空間；及 作為開閉部之開閉門205a，205b，其用來分別開閉作為開 口之搬出入開口 21la，211b(參閱圖3之（B))，該等開口 分別形成於保管箱本體210之圖3之⑴"軸方向兩側 之側壁。 «亥保管相本體210，係具有：整體呈箱形之筐體211， 如圖3之（B)所示，其上面及下面分別形成有具2段之附段 開口（ ® )211c，211d ;作為透過構件之窗玻璃2〇la，其以 將該筐體211上面侧之附段開口 211c之開口部分予以閉塞 之狀態安裝而成；及窗玻璃201b(參閱圖3之（B))，其以 將筐體211下面侧之附段開口 211d之開口部分予以閉塞之 狀態安裝而成。在本實施例之標線片保管箱2()中，透過部 27 587197 是由窗玻璃201a，201b所構成。 該筐體211，係由不銹鋼等 21IX軸方向兩側之側壁的搬出入開口川成於該筐體 R會被搬進保管裝置本體21◦内部llb’標線片 營F f太# 91 η & ^、線# R會從保 體；li之γ站方：'出。又，如圖3之(A)所示，在筐 體⑴之Y抽方向兩側之壁，形成有通氣孔2〇4a，別“ 2〇4c，2Q4d(通氣孔騎，购在圖3之⑴未圖示，夫閱 圖6)，該通氣孔係用於向標線片保管箱2〇内供給既定之 氣體，並將標線片保管箱2〇内之氣體排出。又，如上述在 使筐體由不錢鋼等構成的情形，可藉由使其表面氧化^來 形成不動態膜，或者是藉由施以電解研磨來降低放出氣體 該窗玻璃201a，201b，係由板狀構件所形成，該板狀 構件則由螢石或氟添加石英等具紫外線透過性之材料所製 成。又，窗玻璃201a，201b，亦可使用由氟化鈣等材料所 製成之板狀構件。將一方之窗玻璃201a，如圖3之（B)所 示，在形成於筐體211上面之附段開口 211c之上算起第2 段段部，以介入由氣密性確保用之〇形環等製成的密封構 件265a之方式後上，並藉由嵌在自上算起第1段段部之矩 形框狀壓窗件202a來將該一方之窗玻璃201a以從上方受 緊壓之狀態加以固定。在此情形，在壓窗件202a與窗玻璃 201a之間亦設有由氣密性確保用之〇形環等所製成之密封 構件265c，壓窗件202a則被複數支螺絲203固定在筐體 211 上。 28 587197 將他方之窗玻璃201b，如圖3之（B)所示，在形成於 值體211下面的附段開口 211d之下算起第2段段部，以介 入由氣密性確保用之0形環等所製成之密封構件265b嵌上 ，並將該他方之窗玻璃201b，藉由嵌在下算起帛1段段部 上之矩形框狀星窗件202b以從下方受緊麼之狀態加以固定 。在此情形，在㈣件職與窗破璃2Qlb之間，設有由 氣密性確制之〇形環等所製成之密封構件2_，麼窗件 2〇2b則被複數支螺'絲2〇3固定在筐體2ιι上。又密封構

件2〇5a〜2G5d’可使用由例如吸收性氣體之脫泡少發生之 氟橡膠等製成的構件。

在筐體2U之内部底面中，如圖3之⑻所示，在附殺 開口 2Ud開口部之周圍部設有複數個（例如4個）標線片支 β冓件213(其中’圖3之⑻之紙面前面側之標線片支禮 構件213未圖示）。藉由該等標線片支撐構件213,在由機 將標線片R搬進保管箱本體21。内之後，將該標線 土反54下面之例如4角落之部分從下方予以支撐。 ::3之⑴所示，為可使料搬出入開開閉 立山部^ Y轴方向一側及另一側之側壁外面之+X側 :口別固定有—對矩形板狀支撑構#212(其中，固 疋於+Y側之側壁的支撐構件未圖示 狀支撐構件，^ n 對矩形板 旋動)之方式安/ 2〇6a為中心可起伏旋動(可在a面内 與搬出入開二==閉…在該開閉門㈣之 211a周圍部相對應之部分，如圖3之⑻所 °又石崔保氣密性之〇形環等所製成之密封構件隱 29 587197 ^在開閉門2G5a之—Υ侧之端面，如圖3之（Α)所 不汉有銷208a ’在與其相對應之保管箱本體21〇之一 γ側 | 土外面，以可起伏旋動之方式設有可與銷卡合之 鉤子208b。由該等銷、釣子鳩來構成鎖定開閉門 2〇5之開閉的鎖定機構。又，鎖定機構2〇8不僅設於— Y側，亦可設於+γ側。

他方之開閉門205b及其周圍構件之構成亦與開閉門 2〇5&相同°亦即’如圖3之（A)所示，為可使前述搬出入 開：211b開閉’而在筐體211之¥軸方向一側及另一側之 侧壁外面之-X側端部附近分㈣定—對切構件212(其 中：固定於+Y側之側壁之支撐構件未圖示），並在該一對 。冓件212以支軸206b為中心可起伏旋動（可在χζ面 内旋動）之方式安裝開閉門mbe在該開閉門mb之與搬 出入開口 21 lb周圍部相對應之部分，如圖3之（b)所示， 设有由確保氣密性之0形環等製成之密封構件270b。該密 :構件270b及該密封構件27〇a ’最好使用由例如吸收性 乳體之脫泡少發生之氟橡膠等製成之材料。 …又’在開閉門2G5b側，亦如圖3之（A)所示，與前述 鎖定，構208同樣地，設有由銷2〇7a及鈞子2()7b來構成 之鎖定機構207。藉由該鎖定機構207來鎖定開閉門2〇5b 之開閉。又，鎖定機構207不僅設於—γ側，亦可設於+γ 側。 、 以與該通氣孔204a〜204d相對應之方式，在筐體211 30 587197 之Y軸方向之一側及另一側之侧壁内面，設有開閉閥機構 212Α〜212D(參閱圖6)。在此，對於該等開閉閥機構212Α 〜212D之構成，以開閉閥機構212Α為代表例根據圖4加 以說明。 圖4表示該開閉閥機構212Α之立體圖。如圖4所示， 開閉閥機構212Α具有：閥構件215,其以與通氣孔2〇4a 對向之方式配設於筐體211之一 Y側之側壁之内面側；及

一對彈壓機構214A，214B，其對該閥構件215經常以既定 之力施加一γ方向之彈壓。 邊閥構件215包含：由矩形板狀構件所構成之閥本體 215a;及一對支撐構件215b，215c，其突設於閥本體2i5a 之X軸方向一側及另一側之端面。在閥本體2i5a之與該側 壁内面對向之面(—γ側之面)貼上由〇形環等所構成之密 封構件216 ;該密封構件216用來當被>1設於通氣孔204a 後，確保氣密性。

^ 之彈壓機構214A，係如圖4所示具有··導 2」7’其具有截面U字狀之形狀’且其開放側之—對端面 :於該側壁之内面，·及作為彈壓構件之麼縮螺旋彈箐Si 2’UR ; °亥導件217與支律構件215b之間。另一彈麼機 亦與該彈麼機構2UA有相同的構成。 ，閥ST有上述構成之開閉閥機構212A，在平常之狀 〇η Λ 5係被彈壓機構214Α，214Β之壓縮螺旋彈 Μ經常以既定之六 ^ 更正確來說是密封構::二方向之彈Η閥本體咖 再件216)破壓設於筐體211之一 Υ側： 31 側壁内面之通氣孔204 a部分，藉此，通氣孔204a會維持 〜 於閉塞狀態（閉狀態）。另一方面，當閥構件215抵抗彈壓 機構214A，214B之壓縮螺旋彈簧SR之彈壓力而受來自外. 側之緊壓後，閥構件215會往+Y側移動，閥本體215a(更· 正確來說是密封構件216)離開該側壁内面，使通氣孔2〇4a 成為開放狀態（開狀態）。 其他開閉閥機構212B〜212D亦與該開閉閥機構212A 有同樣的構成。 回到圖1，該橫向滑動機構21可包含：例如往χ軸方 _ 向延伸之移動導件；及滑塊，其以將該標線片保管箱2〇從 下方予以支撐之狀態沿移動導件往橫方向（χ軸方向）滑移 。該構向滑動機構21，係在後述光洗淨裝置與升降機單元 WO之間搬運標線片保管箱2〇者。該構向滑動機構Η只 要具有下列構成即可：可將在圖1中以符號2〇B所示之位 置之標線片保管箱20,由構成升降機單元13〇之滑塊48& 〜48d來接收，再搬進後述光洗淨裝置内，相反地，從光 洗淨裝置内部將標線片保管箱20搬出，再交給滑塊恤〜籲 48d。 在構成該升降機單元130之滑導件19a〜19d之上端部 上方’設有被吊掛支擇於本體室丨頂部的作為保持裝= 保管機構24。該保管機構24,係可將被升降機單元^3〇之 滑塊48a〜復所搬運之前述標線片保管箱2〇大致以氣密 狀態加以收容。 ' 再者，在本實施例之曝光裝i 11〇巾，設置有光洗淨 32 587197 裝置2 2 ’其位於橫向滑動機 歲構21之+χ側、載置右 置45等之載置台1〇1之下士 戰罝有開閉袭 之位置。就該光洗淨步晉？ 之構成等而言，根據光洗淨奘要r衣罝“ 脊裝置22縱截面圖之圖5 面圖之圖6加以說明 。 口 3及知戮 如圖5所不，光洗淨裝 / 置22具有：由箱狀構件所構成 之本體（body)228，其在該箱貼姐从 卞坏稱成 豕相狀構件之一X側之側壁形成有 使該標線片保管箱20出入之門 — 之開口 228a ;使該開口 228a開 閉之蓋構件23，及紫外線燈22〇a 〇〇〇u甘 且“Ua，220b，其以彼此面向之

狀態配設於該本體228内部之頂部及底面部。在本體挪 内部之底面設有複數個(例如4個)保管箱支揮構件 209b，2G9c，2G9d(其中，圖5之紙面面前側之保管箱支撑 構件2G9c，2G9d未圖示），料保管箱支撐構件是用來在 距離紫外線燈22Ga，22Gb大致等距離之位置上將標線片 保管箱20從下側大致水平地支撑。該等保管箱μ構件 2〇9a〜209d，係配置於例如可將標線片保管箱2〇下面大致 4角落附近之位置分別支撐的位置上。

該蓋構件23，係為使開口 228a可開閉，而以固定於 本體228之支軸238為中心可起伏旋動（參閱圖5之箭號'c 、C’）之方式安裝於本體228。在該蓋構件23之與開口 ^8a周圍部分相對應之部分，設有用來在蓋構件23閉狀 態時確保氣密性之由〇形環等所構成之密封構件239。又 ’與前述標線片保管箱20之開閉門205a，205b同樣地， 亦可在光洗淨裝置22之蓋構件23設置鎖定機構。 該紫外線燈220a，220b，可使用例如發出波長172nm 33 587197 之紫外光的Xe(氤氣）準分子燈、發出波長157nm之紫外光 的氟燈、或發出波長193nm之紫外光的ArF(氬氟）燈等。 通往該等燈電極之配線221a，221b及221c，221d，係透過 真空裝置用之電流導入端子等，從光洗淨裝置22之外部導 入。又’在紫外線燈220a，220b所造成周圍氣氛之溫度上 昇程度大的情形，可按需要將冷卻水等冷卻劑，利用未圖 不之流體導入裝置導入紫外線燈附近。又，可不這樣做， 或可與其並用，而採用下列構成··在光洗淨裝置22外周設 置冷卻管，在其内部通入冷卻水等冷卻劑，藉此將光洗淨 裝置2 2全體加以冷卻。 又’在光洗淨裝置22之内部有供氣管222及排氣管 223從外部導入，來自供氣管222的是有由未圖示之氣體 供給裝置所送來之氮氣或惰性氣體等低吸收性氣體供給光 洗淨裝置22内，來自排氣管223的則是，藉由未圖示之真 空泵之作動，將光洗淨裝置22内部之氣體加以吸引。藉此 光洗淨裝置22内之氣體被置換成氮氣或情性氣體等低吸 收性氣體。由紫外線燈22Qa，2照射出之光波長在 l，m以下之情形，可將光洗淨裝置22内之氧氣、水蒸氣 >力X降低，故紫外光之透過率高，可使紫外光（洗淨 光）到達標線片保管箱2〇。 一在此’在圖5未圖示，但在光洗淨裝置22内，如圖6 斤不有構成载置台之板狀構件160a，160b設置在既定高 在/板狀構件16〇a，i6〇b之上面設有各2個供氣單元 U’⑽及排氣單元51B，51D。該等供氣單元51A，51C、 34 587197 及排氣單元51B’ 51D’係用來置換標線片保管箱2〇内之 氣體者’其配置於與形成在標線片保管箱20之4個通氣孔 204a〜204d對向的位置。在該供氣單元51A，51(：分別連 接有，由光洗淨裝置22外部導入之供氣管224a，2仏之 -端’在排氣單元51B，51D則分別連接有，由光洗淨裝置 22外部導入之排氣管224b，md之一端。又，供氣管 224a，224c之另一端側連接於供給未圖示之低吸收性氣體 的氣體供給裝置’排氣管224b，224d之另一端侧則連接於 未圖示之真空泵。 ' 在此，對於供氣單元51A，51C，以供氣單元5U為代 表例根據圖7加以說明。 圖7表示供氣單元51A及其附近之構成的立體圖。如 圖7所示，供氣單元51A具有··由鋁等金屬製之伸縮囊等 所構成之伸縮可變構件64,其伸縮囊連接有供氣管22乜 之一端；兼作導桿安裝構件之連接管62，其連接於該伸縮 可變構件64之供氣管224a相反側之端部；前端構件6 j， 其連接於該連接管62之伸縮可變構件64相反側，且其内 部由透過伸縮可變構件64之内部空間而連通於供氣管 224a之管構件所構成；及板構件63，其裝設並固定於前端 構件61之外周部。 進一步詳述，供氣管224a，係固定於光洗淨裝置22 之外壁。在該連接管62外周面之X軸方向一侧及另一側分 別架設有一對導桿67A, 67B。在該板狀構件160a上面之 夾住連接管62之X軸方向之一側及另一側，固定有一對滑 35 68B分別形成有彳丨導該 之箭號B、β，方向）之γ 導件68A，68B，在該滑導件68a 導桿67A，67B往Y軸方向（圖7中 軸方向導槽86a，86b。 在該板構件63之+γ你丨夕c门* 之面固疋有由〇形環等 之密封…。該密封構件73可例如由吸收性 泡少發生之氟橡膠等所構成。 ’、之脱 該=構件61 η系由鐵氣龍(註冊商標)等 構成，其繼62相反側⑽侧)之端面被閉塞。斤

刖端構件61之+Υ端部附近之周壁形成有2個貫穿孔61 . 其中，圖7中未圖示形成於襄側之貫穿孔）。 8 依據具上述構成之供氣單元5U，在紐淨 收容有標線片保管箱2〇的情形，當導桿㈣，6?B受未= 不之驅動機構所驅動而分別沿滑導件68a，咖 .86b往箭號B方向運動時，連接管62、板構件63、曰 及别端構件61與導桿67Α，67β成一體受到驅動。藉此， 伸縮可變構件64 # •&工^ , 曰

以端構件61之前端部會插入形 成於軚線片保管箱20之通氣孔2〇4a内。 又，當導桿67A，67B受驅動機構所驅動而進一步往 號B方向運動既定量時，前端構件61之前端面會透過通： 二接觸開閉閥212A之閥構件215。又，當前端構件 2HA 一 2^+Y方向受•㈣時，閥構件215會抵抗彈壓機構 ，4Β所造成之彈壓力而被緊壓，而閥構件往η 方向（《 Β方向）移動’但該移動開始後，板構件μ就立 刻透過密封構件73被壓接於標線片保管箱20之筐體2η 36 2山因此，外部裱境氣體幾乎不可能透過通氣孔204a與 】而構件61之間之間隙摻進標線片保管箱20内部。圖6

了構成供氣單元51A之板構件63透過密封構件U 被[接於‘線片保管箱2〇之筐體外面的狀態。在圖6 、。通氣孔2G4a，係被密封構件73及板構件63所閉 塞处藉此，可在標線片保管箱2G内部之氣密性確實確保之 狀態’透過前端構件61之開口 61a對標線片保管箱2 〇内 供給低吸收性氣體。 仏氣單70 51C亦與該供氣單元51A有同樣的構成。 士 方面，就排氣單元51B，51D而言，其構成等雖與 ^仏孔單το 51A相同’但在透過排氣單元5iB，5id及排氣 吕22仇224d將標線片保管箱2()内之氣體排出之這一點（ 亦即，氣體之流動方向）上不相同。 據/、上述構成之供氣單& 5ia，5ic及排氣單元 1B，51D’在通氣孔驗難有供氣單元5ia，⑽之 則端構件人4在通氣孔2_，购有排氣單元5ib， D之月j知構件人，且以標線片保管箱⑼之内部相對外 部環境氣體保持氣密狀態下，透過供氣單元5u，W向標 線片保官箱20内供給低吸收性氣體，並透過排氣單元 51B」⑽將標線片保管肖2。内之氣體排出，而使標線片 保官粕20内之氣體置換以高效率進行。 在光洗淨裝置22内，藉由對經過以上述方式進行氣體 置換之‘線片保管肖2G，從上下照射來自紫外線燈族， 加之紫外光，來透過標線片保管箱2〇之窗玻璃馳， 37 587197 祕將紫外光照射在 R受到光洗淨。又，後二Λ 下而使標線片 紫外㈠…"片保管箱20本身亦由於所照射之 系外先或標線片R引彘 '^ 淨。 ，、反射光、散射光而會受到光洗 在t ^4先洗淨崎時，有時在 入微量之氧氣或水蒸氣可進 /之乳體心 光洗淨裝置22所進行之二…功效。因此，名 的教俨$仃之先洗淨，係在利用氮氣或惰性氣體

tr f行過程中，最好是以其内部之氣體中之氧 2::或水蒸现為例如約100ppm之既定濃度之狀態來進行 2?4h 9為A最好叹置用以測量從排氣管223及排氣管 、旦\24d排出之氣體中之氧氣濃度的氧氣濃度計、用以 測里水蒸氣的水蒸氣濃度計(濕度計），在所測量出之濃度 ㈣既Μ之狀態下才開始進行光洗淨。 " 严又’為了將自供氣管222、供氣管224a，224c所供給

之乳體中之氧氣濃度設定在既定之濃度，亦可將供氣管 222及供氣管224a，224c之—端連接於如圖8所示之氣體 i、、口機構之配t 235。該氣體供給機構，係具有氣體混合 及透過該氣體混合機230及連接管234而連接著 之作為感測器之氧氣濃度計231。 在遠氣體混合機230連接有供給配管232之另一端及 供給配管233之另-端；該供給配管挪之―^，係連接 /用來ί、…純氮氣或純惰性氣體之未圖示高純度氣體供給 裝置（例如一種具有氮氣氣體用之壓縮氣體瓶（cylinder)或 生氣體用之壓縮氣體瓶’將來自該壓縮氣體瓶之氣體透 38 587197 過具有 HEPA(high efficiency particulate air)過濾器及 化學過濾器中至少一種過濾器之串聯式過濾器（1 ine— filter)來加以供給之裝置），而該供給配管233之一端則 連接於用來供給含有約l〇〇ppm氧氣之氧氣濃度較高之氮氣 、或含有約1 OOppm水蒸氣之水蒸氣濃度較高之氮氣或惰性 氣體的未圖示高濃度氣體供給裝置。由該等供給配管232, 233供供氣體混合機230之氣體會在氣體混合機230混合 ’該混合氣體再透過連接管234、氧氣濃度計231、配管 235供給圖5之供氣管222、圖6之供氣管224a，224c。 在此情形，利用氧氣濃度計231測量經氣體混合機 230混合之混合氣體中之氧氣濃度，控制裝置236並根據 該測量結果，對氣體混合機230所產生之兩氣體之混合比 率進行回授控制，藉此可將所希望之氧氣濃度之氣體送往 供氣管 222，224a，224c。 如上述般，在本實施例中’由氣體混合機23〇、控制 裝置236構成調整裝置。 又，到目前為止之說明，均是以使光洗淨裝置22内之 氣體經氣體置換之狀態下對標線片保管箱2〇内之標線片進 行光洗淨的說明，但Xe(氙氣）燈或ArF燈之光束，係因在 某種程度會透過大氣中，故在進行光洗淨時，亦可對光洗 淨裝置22内之氣體不進行氣體置換。在此情形，光洗淨裝 置22本身就不需要氣密構造，有精簡構造之優點。但是: 在不進行氣體置換的情形，光洗淨裝置22内之氧氣所產生 之光之吸收會使紫外線之光量減少，以致照射在標線片上 39 之光量減少。為避免這種現象，最好將紫外線光源與標線 片保管箱2G上下之紫外線透過用之窗玻璃2Qia，別化之 間隔盡量縮小，例如設定在5nm以下。 -人在具上述構成之曝光|置J i 〇巾，將標線片由 曝光裝置之外部搬進曝光裝置之本體室i内，進行曝光動 作，再將使用完畢之標線片加以回收為止’就這一連串之 動作而言，將以圖i為中心加以說明…以下之各 =雖由未圖示控制裝置之控制動作所實現，但在此為簡 。祝明，有關控制裝置之說明在非特別必要時均予以省略 標線片之往標線片支樓具上之搬進動作，係以下 a · h ·之順序來進行。 複數藉由未圖示之高架式搬運系統，將收容有 之=片)標線片之標線片載體44搬進本體室】 出入口 la。此時，設於搬出入口 “之 開閉構件82而閉塞。 θ藉由 開閉2裝置’ 確認該標線片载體44搬㈣，即透@ 體：體4R Μ之開閉構件82之卡合及鎖定解除機構，將i =46與罩子1〇2之間之鎖定機構予以解除，並使二 構件82與载體本體46 卫使開閉 構件Mu 再透過驅動機構45驅動開@ 件82下降，並使其在圖！狀態待機。 開閉 驅動b:在 標線片搬運機械手臂47之臂部之伸缩 、 在ΧΥΦ内之旋轉驅動、及上下㈣$ + % 運機械手臂47之臂部μ ，使標線片搬 木入收谷於载體本體46之複數片標 587197 線片中任一片標線片之下側’再將該 藉以使標線片搬運機械手臂47接收標線片。缺後方，.=χγ 面内使標線片搬運機械手臂47之臂部旋轉大致9〇。 二將標線片R搬運至在圖1中以實線表示之位置待機^ 標線片保管箱20(以下，將該標線 寺：中之 「標線m位置」）之附近。 G之位置稱為 位置C附：之.Γ置，係當確認該標線“往標線片搬出入 ==運時’藉由設於標線片搬運機械手臂”與升 伴-r 2。：：間之未圖不鎖定開閉機構，來解除標線片 保吕相20之開閉門驗側之鎖定機構2〇8，並且夢由机 於標線片搬運機械手臂47與升降機單元m 開者之狀態，將保持有標線片R之臂部作伸縮 透過搬出入開口 211a，將標線片R 始 曰 内。 K搬進標線片保管箱20 又，在標線片R被定位於標線片保 置的狀態，將標線片搬運機械手臂” 之既疋位 而使標線片Κ載置於標線片保管彳之°卩作下降驅動， ⑴上。然後，將標線片搬運機械手：4㈣個支撐構件 動，藉以使臂部從標線片保管箱2 之臂部作伸縮驅 退出時，藉由該開閉機構，將標後^退出，當確認已完全 心加以閉鎮。又，藉由該鎖定^管箱20之開閉門 208予以鎖定。 ’閉機構來將鎖定機構 48d分 d•接著，將構成升降機單元13〇之滑塊恤〜 587197 別沿滑導件19a〜19d作下降驅動’藉以將内部收容有標線 片R之標線片保管箱20搬運至圖i中以符號2〇B所表示之 位置。又，當在該位置將標線片保管箱2。交給橫向滑動機 構21時，即透過該橫向滑動機構21將標線片保管箱別往 圖1中紙面内右方向（+X方向）搬運。當透過未圖示之_ 器等確認標線片保管箱20已藉由該搬運往光洗淨裝置22 靠近既定距離時，即藉由設於光洗淨裝置22附近之未圖示 之開閉機構，將光洗淨裝置22之蓋構件23打開。藉此， 當光洗淨裝置22之内部對外部開放時，即透過橫向鬚 構21將標線片保管箱2〇進-步往Η方向搬運’並將標線 片保官相2〇收容於光洗淨裝置22内(圖i之符號2〇c之 狀態）。在將該標線片保管箱收容於総淨裝置22内之 後又藉二閉機構，將光洗淨裝置“之蓋構件㈡關閉 定的情形，最好藉由鎖定開門:：二藉由鎖定機構來鎖 開閉。 ㈣機構來預先鎖定蓋構件23之 e.其次’在光洗淨货 爪及排氣單元51B ^ U2内’將該供氣單元训 21?a 919n , a 作π移驅動，藉以將開閉機構 2D打開，而進行標線片保管箱20内之氣體置換 。又，在此同時’光洗淨裝置22之本體 過 供氣管222及排氣管223來進行氣體置換。 仏 ” &相20内之氣體置換完成（例如上述 42 587197 氧氣/辰度到達約100 ppm之既定濃度之狀態）時，控制裝置 ^即開始進行來自紫外線燈220a，220b之紫外線之照射。 在此，對標線片保管箱20之洗淨、及對透過標線片保管箱 2 〇光透過固之標線片之光洗淨均進行既定時間。在該光洗 /爭之過程中，供氣單元51A，51C及排氣單元51B，51D係 仍然連接著，而繼續進行著標線片保管箱2〇内之氣體置換 。虽然，亦可在確認該氣體置換之完成後，就透過前述導 桿67A，67B之驅動機構將供氣單元51A，51C及排氣單元 51B，51D往離開標線片保管箱2〇之方向（圖7之b，方向） 作/月移驅動，而使供氣單元51A，5lc及排氣單元训， 51D脫離標線片保管箱。 一 ^ +又，照射時間經既定時間後，完成光洗淨。在該 m成後’為將由光洗淨所分解出之有機物、水等從 標線片保管箱20内排除，而仍然連接著供氣單元“A 训及排氣單元51B，51D，繼續進行著標線片保管箱2〇内 之軋體置換。在進行該氣體置換時，控制裝置Μ 制氣體供給機構之裔鹏、日人 工 “體5機230,使由氣體供給機 供給之乳體中所合之、曲 曲 之氧軋〉辰度在〇· lppm以下，或使水蒗 ?辰度在lppm以下。亦g 尸L a a > 、、礼 一 方即，停止來自尚濃度氣體供給裝 矶體t…’而僅由高純度氣體供給裝置進行氣體供給。 行既：時：T=:該高純度氣體供給裝置之氣體供給進 曰：標線片保管箱20内之氣體置換成 惰性氣體，藉以將槿#⑷Λ 央風氣乳或 將構成收谷於標線片保管箱2内 片R的，膠片75、桿蝮 之才不線 知綠片用基板54、與膠片框76之間所 43 587197 形成之空間（以下稱為「保護”」）内之氣體，透過形成 於膠片框76之前述通氣孔，置換成氮氣或惰性氣體。 又’就進行保護空間内之氣體置換的構 在標線片保管箱20進-步設置有別於該開閉門之_蓋， 透過該開閉蓋，在設於膠片框之通氣孔直接連接上保護空 間用氣體置換機構’藉以將保護空間内之氣體置換成氮氣 或惰性氣體。該保護空間用氣體置換機構，係具有連接於 通氣孔之氣體供給管及氣體排氣管。

又，當標線片保管箱20内之空間及保護空間内之氣體 被置換成氮氣或惰性氣體後’藉由未圖示之開閉機構，將 光洗淨裝置22之蓋構件23打開，再藉由橫向滑動機構21 將標線片保管箱20從光洗淨裝置22内取出。又，透過橫 向滑動機構21，將標線片保管箱20搬運至圖丨中以符號 20B所表示之位置，藉以將標線片保管箱2〇交給升降機單 元130之滑塊48a〜48d。

然後，將滑塊48a〜48d分別沿滑導件iga〜igd作上 昇驅動，藉以將標線片保管箱20搬運至圖1中以符號2〇D 所表示之位置。 g·當標線片保管箱20以上述方式往以符號2〇d所表 不之位置移動時，控制裝置隨即透過伸縮囊驅動機構92將 伸縮囊91往+χ方向伸長，並如圖2之（B)所示，將標線片 保管箱20與標線片室15之隔牆18之間連結成氣密狀態。 藉由上述方式將形成由伸縮囊機構12 7、隔牆18、與標線 片保管箱20所區劃出之空間99。 44 ^>87197 又’透過供氣管94將低吸收性氣體供給空間99内 並且透過排氣管95將空間99内之氣體排到外部，藉以將 空間99内置換成低吸收性氣體。又，當藉由未圖示之氧 氣濃度計（感測器）等確認該置換完成時，藉由設於空間的 内之未圖示之鎖定開閉機構將開閉門2〇5b之鎖定機構 解除，並且藉由設於空間99内之未圖示之開閉機構將標線 片保管箱20之開閉門205b打開。又，大致在與此同^、， 將標線片室15内之開閉門121之開放透過未圖示之驅^系

來進行。此時之狀態如圖2之（(：）所示。 ” h·接著，將標線片室15内之標線片搬運機械手臂 之臂部作伸縮驅動，使其透過隔牆18之出入口 、空巧

99、及標線片保管箱20之開口 2Ub深入標線片保管箱^ 内。又’將標線片搬運機械手臂6之臂部在深人標線 管箱20内標線片R之下側的狀態進一步作上昇驅動，藉： 由:亥臂部接收標線片R。標線片R被標線片 搬運機械手臂 之“所接收後’將該臂部伸縮驅動，而將標線片Κ搬注 標線片保管箱20外，並將標線片R往標線片t 15内㈣ 礼線片R之搬出（臂部往標線片保管箱外部退）之賴 控制咸置會將標線片保管箱2()之開閉門2㈣及開閉^ 21依序閉鎖。又，亦可在開閉μ 2脱之閉鎖的 將鎖定機構207加以鎖定。 又’將標線片搬運機械手臂6之臂部往標線片支撑具 具作伸細疑轉驅動，藉以將標線片r搬運至標線片支撑 又在攻個位置將臂部作下降驅動，藉以將標 45 587197 =R裝載於標線片支揮具14上。然、後，標線片搬運機械 手’ 6之臂部會從標線片支撐具14上退出。 當以上述方式將標線片R裝載於標線片支撐具Η上時 ’隨即進行所謂的標線片對準、未圖示之晶圓對準系之基 線測量、1 EGA(增強型全晶圓對準，enhanced_gi〇bJ_ allg繼nt)等既定之準備作業，其完成後再進行步進及重 覆方式之曝光動作。藉由該曝光動作，將形成於標線片r 之電路圖案依序轉寫於晶圓w上複數個被曝光區。

又，當對既定片數之晶圓進行使用標線片曝光完 成時，就以下列方式進行標線片R之搬運（搬出）。 兀 i.首先，當標線片搬運機械手臂6之臂部受到往標 線片支撐具14之伸縮驅動等，並移至標線片R之下侧時了 隨即將臂部作上昇驅動，而將標線片R交給臂部。又，在 此狀態將臂部作伸縮、旋轉驅動，藉以使其接近標線片室 15内之開閉門121。 當控制裝置透過未圖示之感測器等確認該接近時，隨 即透過驅動機構打開開閉門121，再透過開閉機構打開二 線片保管箱20之開閉門觸。又，將保持有標線片^ 標線片搬運機械手冑6之臂部作伸縮驅動，藉以使標線片 R位於標線片保管箱2〇内之既定位置，自此狀態起將臂部 作下降驅動既定量，而使標線片R載置於標線片保管箱別 内之支撐構件213上。 J·然後，將標線片搬運機械手臂6之臂部作 動，而將該臂部從標線片保管箱20内及空間99内退出： 46 587197 然後，將開閉Π 205b及開閉門121力口以閉鎖，並且藉由鎖 定機構207來鎖定開閉門205b ,再透過伸縮囊驅動機構92 將伸縮囊91作收縮驅動，而使標線片保管箱2()與伸縮囊 91之+X側端部（密封構件93)分離。藉此，空間99成為開 放狀態。 k.接著，將滑塊48a〜48d沿滑導件19a〜19d作下降 驅動，藉以將標線片保管箱2〇搬運至該標線片搬出入位置 。又’在該標線片搬出人位置，藉由鎖定開閉機構來解除 開閉H 205a側之鎖定機構2〇8，並且藉由未圖示之開閉機 構來打開開閉門205a。在這之後，前述標線片搬運機械手 臂47會進行與將標線片搬進標線片保管箱2〇内之動作相 反的動作，藉以從標線片保管箱20内搬出標線片R，並將 標線片R收納於載體本體46之空著的段。 然後，下一個才示線片R被搬往標線片保管箱2 ο，並、、八 與前述相同之搬運路徑搬運標線片保管箱2〇及標線片，再 反覆進行使用被搬至標線片支撐具14之標線片的曝光動作 〇 在此情形’亦可使曝光完成之標線片R不返回載體本 體46，而將該標線片R保管在標線片保管箱2〇内，等待 下次使用。在此情形，可利用設於升降機單元丨3 〇上端邻 附近之保管機構2 4來保管。 在此，就該保管機構24作簡單說明，該保管機構μ ，係如前所述，能以大致氣密狀態來收容標線片保管箱2〇 。又，該保管機構24 ’係有一部分設有與標線片保管箱別 47 587197 通氣孔之位置相對應之供氣單元、排氣單元，其分別與設 於刖述光洗淨裝置22内之供氣單元51A，51(：、排氣單元 51B’ 51D相同。在該等供氣單元、排氣單元，連接有一端 與仏給低吸收性氣體之未圖示氣體供給裝置相連之供氣管 、及連接有-端與未圖示之真空泵相連之排氣管等。 依據保管機構24 ’當標線片保管箱20被升降機單元 130搬運至圖1中以符號㈣表示之位置時，在該位置， 標線片保管箱2G會被保管機構24從下側㈣。又，在此 狀L仏氣單元、排氣單元連接於通氣孔之後，會進行標 線片保管箱20内之氣體置換。 藉由該氣體置換，可避免自構成標線片之構件（膠片框 之反射防止電鍍材料、接著材料等）所放出之有機物氣體 f標線片保管箱20内堆積，以致其濃度上昇。在此情形之 氣體置換，係基於上述理由而進行者，故不必像在光洗淨 波置22内之氣體置換一樣急遽地進行。 在此情形’亦可預先準備有別於標線片保管箱2()之標 線片保管箱’在一標線片保管箱20收容於該保管機構24 内後，使用另一標線片保管箱搬運下一個標線片。或者是 夕準備一組沿滑導件19a〜丨9d移動之滑塊，亦使該滑塊保 持標線片保管箱，就各個標線片，分別使用標線片保管箱 。藉由上述方式，在交替使用2片標線片之類的情形、及 頻繁地使用特定之1片標線片之類的情形是有效的。亦即 ’在這種情形，因不須連續處理光洗淨及曝光，故可有致 率地運用曝光裝置。 48 587197 由上述說明得知’由供氣單元51A，51C及供氣管 224a，224c構成第1氣體供給機構，由排氣單元51β，51]) 及排氣官224b，224d構成第！氣體排氣機構。 如以上詳細的說明，依據第1實施例之標線片保管箱 20’透過被開閉門205a所打開之開口 將標線u收 今於⑽示線片保官箱20之内部，並藉由開閉門2〇5a將開 口 21 la閉鎖。藉此，可在將外部環境氣體隔絕在外之標線 片保管箱20之内部空間保管標線片卜又，保管箱本體 210之一部分是由使光洗淨用之光透過之窗玻璃2〇la， 2〇lb所形成’故可以標線片以標線片保管箱2i〇内之狀 態進行光洗淨。藉此，可防止標線片之化學性污染。又， 例如藉由事先在標線片保管箱2〇之内部空間填充標線片化 子性U少的氣體’可長期減少総淨完成之標線片之 染。 又’依據本實施例之光罩保管箱2〇，在標線片保管箱 之一部分有通氣孔2〇4a〜2〇4d形成，並設有開閉該等 ==閉閥機請a，，故不必另外設置開閉通 :孔之機構，藉由對標線片保管箱2〇進行氣體之 乳的機構’即可將開閉閥機構212A〜212d打 片保管箱^之氣體置換。藉此，可在短時間内 片保管箱20内之氣體置換。 進仃“線 :’依據本實施例之曝光裝置11〇，標線片保 疋降機單元13〇在含有曝光光EL之光路附近之 置(20D)的搬運路徑上所搬運，被搬運至既定位置(2二： 49 587197 標線片保管箱20之内部所收衮 is m ^ ^ 谷之軚線片R則由標線片搬 運機械手臂6,沿既定氣氛之搬運路徑被搬運至曝光光 之先路上。因此’到既定位置⑽)為止，標線片之搬運是 以於將外部環境氣體隔絕在外之標線片保管箱20之 間收容有標線片之狀態來進行，從既定位置(_到含有： 光光之光路之標線片室15為止，標線片之搬運則沿經置換 =吸收性氣體之搬運路徑來進行。因此，例如即使標線 片R之總搬運路徑變長，對於到既定位置為止之搬運路押 亦不必置換成低吸收性氣體。亦即，可將曝光裝置内心 洗⑽哪）空間減至最小，故可謀求搬運路徑部分之小型化 。藉此’由於標線片之污染受到防正而提高曝光精度，以 及曝光裝置之小型化，兩者均可實現。 又，在本實施例之曝光裝置中，在曝光裝置ιι〇之本 體室1内設有光洗淨裝置22’因此，藉由對標線片R照射 紫外光，可分解具吸收曝光光EL之性質的化學性污毕 。因此，T良好且安定地維持曝光光此之透過率，並維持 曝光功率及提高產能，並可長期將曝光量控制精度維持在 高精度。 、在此情形，本實施例中，藉由使用標線片保管箱20搬 運標線片，可將光照射裝置22在不影響曝光精度下配置在 遠處。因此，可盡量減少紫外線照射所產生之熱對曝光裝 置本體之影響。在此情形’因標線片保f箱2Q亦受到光洗 淨’故即使將光洗淨後之標線片原封不動地保存於標線片 保管箱放著，洗淨後之標線片幾乎不會受到化學性污染。 587197 Μ本實施例中，在利用光洗淨裝置22對標線片R開 ;=淨之前，將標線片保管箱内之氣體置換成既定之氣 含有广100ppra之氧氣的氧氣濃度較高之氮氣或 f月丨生氣體），精此可接萬押綠 以 了扣同私線片保管箱及標線片之光洗淨 效率。 八

轭例中，雖將作為透過部之窗玻璃201a :設於保管箱本體210’但不限於此，將開閉門胸 之至少-部分t作透過部來設置亦可。在此情形，〒 將:閉門（開閉部）設置於標線片保管箱之上側。m 將標線片保管箱全體以使光透過之構件

^又’上述實施例中，雖將開閉閥機構設置於標線片裔 目相之内部’但不限於此，亦可在標線片保管箱之外部認 置開閉閥機構。亦即，其構成，係具有：筒狀構件，並费 :形成有通氣孔之歸箱本體之外側面，―端與該通氣孔 通並且另-端與外部連通；及閥構件，其可在該筒狀構 之内。p移動’文到往通氣孔之相反側的彈壓，而將該筒 狀構件之内部與外部之連通予以閉鎖；且當闕構件受來自 外部之緊壓而移往通氣孔側時，開閉閥會打開。 又’上述實施例中，雖在光洗淨裝置22内對標線片保 官箱20及標線片w時進行光洗淨，但不限於此，亦可僅 對標線片保管箱2G進行光洗淨4此情形，藉由對標線片 保管箱20之光透過窗2()la，2Qlb進行遮光，即可實現僅 有標線片保管箱20之光洗淨。 又，標線片保管箱20内為極低濕度的環境，故收容於 51 其内部之標線片 圖案有可能損壞。 線、/5線、X線等 氣體離子化來防止 R易帶電’該電氣在放電時，標線片上之 此亦可在標線片保管箱2〇内設置α 放射線源，使標線片保管箱20内部之 帶電。 箱20内1 ’該通氣孔心〜204“行標線片保管

2_打開，在光洗淨/於?b亦可例如將開閉門 ，22内之氣體置換的同時 成線片保管箱20内部之氣體置換…亦可僅形 之通氣孔，由該通氣孔供給低吸收性氣體，並且 將Γ門2G5a，2G5b之至少—方打開，將内部之氣體排出 ，藉以騎標線片保管箱20内之氣體置換。在前者之情形 光洗淨裝£ 22内，不必將用來進行標線片保管箱内 之氣體置換的供氣管及排氣管導入光洗淨裝置内，在後者 之情形，僅導入供氣管即可。 又，在該實施例中，在曝光裝置之本體室内，將標線 片搬進標線片保管箱2G内，並在本體室内進行光洗淨，但 不限於此’亦可在本體室之外部將標線片搬進標線片保管 箱20内，而光洗淨亦在本體室之外部進行，再將標線片保 管箱20原封不動搬進本體室内。即使以上述方式進行，標 線片保管箱20内亦可維持氣密狀態，故不會使標線片1?受 到化學性污染。又，從該標線片載體到標線片保管箱之 標線片之搬進、及標線片保管箱20内之標線片之光洗淨， 亦可在曝光裝置本體之外的標線片前處理裝置内進行。在 52 587197 此情形，同樣地，當將標線片從該標線片前處理裝置搬運 至曝光裝置本體時，標線片受到該標線片保管箱2〇之保護 而免受化學性污染，故不必擔心標線片受到污染。 又，在該實施例中，通氣孔204a〜204d是形成於標線· 片保管箱20之對向之2面，但不限於此，亦可在相鄰2邊 形成通氣孔204a〜204d，又，為提高標線片保管箱2 〇内 之氣體置換之效率，亦可在標線片保管箱2〇之角部形成通 氣孔204a〜204d。 又，在該實施例中，已說明將標線片保管箱2〇之筐體 鲁 由一個構件來構成的情形，但從加工容易化之觀點來看， 亦可將筐體由複數個構件（例如土壁，側壁，底壁等）來構 成，在此情形，可將各構件間以熔接之方式加以固定，或 者是以螺絲固定等方式加以固定。又，在以螺絲固定等方 式將各構件間加以固定的情形，為確保氣密性，最好將〇 形環等密封構件設置於各構件間。 上述第1實施例中所說明之標線片保管箱2〇僅是本發 明之光罩保管裝置之—例，另外還有各種形式之光罩 _ 裝置。 ^ 圖9，係表示標線片保管箱之變形例。如該圖9所示 之標線片保管箱510,其特徵在於採用閘閥55〇Α，55〇β = 為開閉門’以代替上述第}實施例之開閉門ma，㈣。 以下，以該閘閥550A, 550B為中心加以說明。 方之閘閥550Α，係藉由擋門（shutter)504上下運動 而開閉之上下開閉式閘閥。該閘閥550A，係如圖9所示， 53 587197 具有：内部具有擋門504之閘閥本體506，其固定於構成 保管相本體210之筐體211之一 X側端部；開閉機構$ 〇 1， 其設於閘閥本體506之上部，用來將擋門5〇4上下驅動； 及矩形框狀驅動部505，其構成用來提高閘閥本體5〇6氣 密性之密閉機構之一部分。 該閘閥本體506,係如圖1〇之（A)所示，具有··擋門 盒（shutter b〇X)503,其截面大致呈L字狀、内部為中空 、且在±x端面形成有矩形開口 5〇3a，5〇3b ;及擂門， 其設於該擋Π盒503内，可上下移動自如。在該撞門盒 503之+ X側之開σ 503a之周圍(_χ側之面)形成環狀槽 527a，在該槽527a設有由0形環等構成之密封構件529。 該開閉機構5(Π，係包含馬達等而構成，在該馬達連 結有皮帶（belt)機構538。又，實際上，皮帶機構538不 僅設於播門504之+γ側，亦設於—γ侧(紙面前方）。在該 皮帶機構538，透過未圖示之安裝構件連接有該㈣504, 皮帶機構538被馬達所驅動，擋Π 504就與其連動而往上 下焚驅動。 〜v …、,H辦屻部、被該驅動部5()5 轴方向往復驅動之複數個軸53卜及固定於該等轴531 部之矩形棒狀之緊壓構件咖。在該緊麼構件533 之+Χ立而面形成有環狀凹样 形~ 在相槽533a設有由0 稱件535。该緊壓構件533,係藉由 滅於驅動部505之例如至、去么+ …a 例如馬達所產生之軸之往復驅動，而受 X轴方向之往復驅動。 & 54 587197 依據具上述構成之閘閥5 5 0 A ’閉鎖動作以下列方式從 圖10之（A)所示之擋門之開放狀態起進行。亦即，首先， 從如圖10之（A)所示之狀態起，擋門504藉由開閉機構 501所產生之皮帶機構538之驅動而受到下降驅動。又， 當擂門504被定位在圖1〇之（B)之位置時，抑壓構件 即與其連動，藉由構成密閉機構之驅動部5〇5而受到+χ方 向之驅動。藉此，位於緊壓構件533+χ方向之擋門5〇4會 被緊壓構件533往+Χ方向緊壓。藉此，如圖1〇之（〇所= ’撞門504被密封構件529壓住，而可將透過播門盒5 = 之開口 503a的氣體之流通大致完全遮斷。 另-方面’閘閥550A之開放動作，係以與該閉鎖動作 相反之順序來進行。亦即，當緊壓構件咖從圖ι〇 之狀態起受到往-X方向之㈣時，擋門5()4即連接 往—X方向移動至圖10之⑻所示之位置為 所i生之/帶1又，從該狀態起，藉由開閉機構⑽ 之皮帶機構538之驅動，擋門5。4受到上昇驅動， σ圖10之（A)所示將閘閥55〇B打開。 又’另—閘閥测亦以同樣的方式構成 亦以同樣的方式進行。 開閉動作 。其他之構成則與該第1實施例之標線片保管箱20相同 ^閉閥可由市面上講得，故能以 仏線片保管裝置，而可降低成本。方式裳作 閥因氣密性等之，性古„ ⑧此之外，這種閘 性间，故可縮短設計標線片保管箱所 55 需之時間。 ^ 不限於上下開閉型，亦可採用左右開閉型 之閘閥。 又’上述變形例中，雖將開閉閘閥之開閉裝置等直接· 设於閘閥，作不服 1一个限於此’亦可在開閉曝光裝置110内之閘 閥的既疋位置’事先設置開閉閘閥之驅動裝置。藉此，可 將標線片保管箱輕量化。 、其夂’根據圖11〜圖14之⑻說明，使用與上述標線鲁 =載體44(參_ ^相同的上下開閉式（下開式）標線片保 管箱作為光罩保管裝置之本發明第2實施例之曝光裝置。 势μ ”亥第2實施例中，使用上下開閉式（下開式）標線片保 f相作為標線片保管箱，並且與其相對應，僅有將標線片 進”亥才不線片保官箱之機構、及從標線片保管箱將標線片 搬出，機構是與前述第1實施例之裝置不同，其他部分之 構成等疋相同的。因此，以下，為避免重複說明，會以該 等不同點為中心加以說明。又，為避免重複說明，與前述· 第1實施例㈣或相當之構成部分會使用相同的符號，並 且將其說明簡化或省略。 圖11，係顯示上下開閉式標線片保管箱400之立體圖 圖12之（a) ’係顯示圖u之標線片保管箱4〇〇之縱截面 圖圖12之（B) ’係顯示圖12之（A)之標線片保管箱400 之底部開閉部開著的狀態。 該標線片保管箱400，係如圖12之（八）及圖12之〇) 56 587197 45。右作為光罩保官裝置本體之標線片保管箱本體 伽，其具有可收容標線片，之内部空間，而標線 入的開口則形成於其下面(底面）；及作為開閉部之底部門 閉部偏，其用來將設於該標線片保管箱本體伽底^ 開口 405b加以開閉。 - 該標線片保管箱本體450，係如圖n所示主要 個部分，亦即，下部側壁構件405，其呈具概略既定、高度 之矩形杧狀’鍔構件4。6，其在固定於該下部側壁構件4二 上端面之中央部具有矩形開口，且其向下部侧壁構件傷 之外側突出；及上部側壁構件4〇7，其固定於該鍔構件偏 上面，並在其上面中央部形成有具2段之段的附段開口 偷。該下部側壁構件、㈣件406、上部側壁構件 407，係由不銹鋼（sus)等脫泡少的構件所構成。 一在該下部侧壁構件405之如圖122(A)及圖12之“） :不之上端部全周’形成有向内側突出之突出部，並由該 突出部之内周面形成有前述開口 4〇5bq，在下部侧壁構 件405之下端部，設有圖12之⑻之左右各i個旋轉式鎖 定機構4UA，414B。—方（左側）之旋轉式敎機構遍， 係八有.軸構件524a，其在以上下方向之軸為旋轉軸可旋 轉自如的狀態被埋進下部側壁構件4〇5;及銷部52扑，其 又置成自°亥軸構件524a上端部附近往水平方向突出的狀態 。他方之旋轉式鎖定機構414亦同樣地具有：軸構件525a 9 以上下方向之軸為旋轉軸可旋轉自如的狀態被埋進 下"卩側壁構件405 ;及銷部525b，其設置成自該軸構件 57 587197 525a之上端部附近往水平方向突出的狀態。該等旋轉式鎖 定機構414Α，414Β圍繞前述旋轉轴旋轉，藉以使銷部 524b’ 525b往大致垂直於下部側壁構件揭壁面的方向突. 出（圖12之（A)之狀態），或深入形成於下部側壁構件僅 之壁的槽内（圖12之（B)之狀態）。 該鳄構件406,係如圖12之⑻所示由框狀構件所構 成，其在比下部側壁構件4〇5還大的板狀構件之中央部形 成有比前述開口 405b還小的開口。該烤構件綱，係在例 如將標線片R搬進標線片室15内時，用來當作被後述隔牆鲁 433之上壁所支撐之被支撐部（參閱圖14之（人））。 該上部侧壁構件407，係如圖12之（A)及圖12之（B) 所示，其中央部形成有具2段之段的附段開口 4〇7a，在該 附段開口 4G7a嵌入有窗玻璃權。該窗玻璃彻，係在形 成於上部側壁構件407之附段開口 407a的由上算起第2段 之段部，透過由氣密性確保用之〇形環等所構成之密封構 件440b被嵌入，並藉由在由上算起第丨段之段部所嵌入之 矩形框狀壓窗件409,該窗玻璃權以從上方麼住之狀態春 被固定。在此情形，在麼窗件4〇9與窗玻璃彻之間亦設 有氣密性確保用之密封構件碰a，麼窗件則藉由複數 支螺絲410固定於上部側壁構件4 〇 7。 又，上部側壁構件407，如圖11所示，在其χ軸方向 之一側及另一側之側面各丨個，在γ側方向之一側及另一 側之側面各2個，總共形成有6個通氣孔416a〜416f(其 中，圖11中，分別形成於+ χ側之側面及+ γ側之侧面的 58 587197 通氣孔416d及416e，416f係未圖示，參閱圖12之（B))。 透過該等通氣孔416a〜416f，可對標線片保管箱4〇〇 之内部進行氣體置換，又，透過該等通氣孔中至少2個通 氣孔，在膠片76設未圖示之通氣孔直接連接氣體供給管及 氣體排氣管，藉以可對由標線片R、膠片框76及膠片75 所圍出之空間進行氣體置換。 又，通氣孔416a〜416f，亦與前述第1實施例相同從 外側被緊壓，藉以分別設置可開放自如的開閉閥。 該底部開閉部460，係具有：矩形框狀底構件4〇4，其 中央部形成有具2段之段的附段開口 404a;標線片支撐構 件403，其下端面固定於底構件4〇4上面，其用來將標線 片R從下側支撐；及窗玻璃4U，其設置成將底構件4〇4 之附段開口 404a之開口部分加以閉塞的狀態。 該標線片支撐構件403雖從整體來看為矩形架，但為 其上端面比下端面還小的附段形狀。該標線片支撐構件 4〇3,係其下端面作成比底構件4〇4附段開口 4〇牦之上端 1分還大的矩形形狀’其上端面則作成比設於標線片尺之 膠片框7 6還大的矩形形狀。 又，標線片支樓構件403,不限於上述形狀，亦可採 用例如將標線片之X軸方向(或γ軸方向)兩端部附近予以 支撐的以γ軸方向(或χ軸方向)為長邊方向< 2 <固刀口 咖…如）狀之支擇構件。藉由在標線片支撑構件採用 "種構件’可將標線片往標線片支揮構件之搬進、及標線 片從標線片支撐構件之搬出’利用用於標線片搬運之臂部 59 587197 之在私線片支撐構件長邊方向之平行移動（及些微的上下 運動）容易地實現。

该窗玻璃411，係介入由氣密性確保用之〇形環等所 構成之密封構件440d而被嵌進形成於底構件4〇4之附段開 口 404a之下面算起第2段之段部上，並被嵌進自下面算起 第1段之段部的矩形框狀壓窗件412以從下方壓住之狀態 固疋著在此情形，在壓窗件412與窗玻璃411之間亦設 有乳密性確保用之密封構件44〇。，壓窗彳412則被複數支 螺絲413固定於底構件404。 又，在該底構件404之上面固定著由矩形之〇形環等 所構成之密封構件418。

⑨依據具上述構成之標線片保管箱4〇〇，底部開閉部以 私線片保管箱本體450，係如圖12之（A)及圖12之（ϊ 斤7τ作成可拆裝自如（開閉自如），在底部開閉部46〇裝^ 於^線片保管箱本體450之狀態，如圖12之（A)所示，』 立由旋轉鎖定機構414A，⑽之銷部_，挪來阻止^ P開閉口p 460從標線片保管箱本體45〇上脫離。又，在[ 之（A)之狀態，藉由前述密封構件418，可維持有標線」 R配置著之空間之高氣密性。 在忒‘線片保官箱4〇〇，可透過上下之窗玻璃4〇ί 411對標線片R照射紫外線，故與前述第i實施例相同 標線片保管帛權導入光洗淨裝置22，可對標線」 ’、&相400内部之標線片R進行光洗淨。 因將標線片保管箱400作成如上述之構成，故不能ί 60 587197 圖1及圖2所示之機構（及方法）直接使用來從 箱40二中取出標線片卜因此’帛2實施例中，適合標線 片保官相400之用來使標線片進出之機構（標線片搬出入機 構）設置於曝光裝置内。

圖13，係顯示適合標線片從標線片保管箱4〇〇之搬出 及適口才示線片往標線片保管箱4〇〇之搬進的標線片搬出 入機構之一例。該標線片搬出入機構500，係具有：隔牆 433 ’其透過金屬伸縮囊或薄膜構件等伸縮性構件435而連 接於標線片台t 15;設於該隔牆433之内部底面的上下運 動單元⑽滑動開閉式裝載鎖定門m，其與形成於隔牆 433-X側之標線片室15相連通，用來使開口 4咖開閉自 如’以及對被㈤牆433所大致圍起之空間供給低吸收性氣 體之供氣管436、及將該空間之氣體排出之排氣管似。 該隔牆433，係除形成有該開口 433a之外，亦在其上

土部分形成有，比該標線片保管箱4〇〇之下部側壁構辦 405還大並比鍔構件4〇6還小的矩形開口 4咖。在該矩％ 開口觀之周圍固裝有由0形環等所構成之密封構件42: 該上下動單元47Q，係具有：支撐構件47卜在其X軸 方向一側及另一側之端部有段部仙，撕；開閉機構 43la，431b’其設於該支撐構件471之段部4na，471卜 用來使該標線片保管箱400之旋轉鎖定機構浦，⑽開 閉；及驅_構他，來將支撐構件471分別從 下側加以支撐，並且在上下方向驅動。 61 587197 該一方之開閉機構他，係具有：筒構件45ι，复且 與該標線片保管箱·之旋轉鎖定機構他二 大致同形狀之缺口部451a;及未圖 〇刀 燼杜動裝置，將該筒 二件⑸以上下方向（z方向）之轴為旋轉軸旋轉驅動。他 方之開閉機構偏亦同樣地具有：筒構件452 451a同形狀之缺σ 452a;及未圖示之驅動機構，將 或湾構件452圍繞Z軸方向之軸旋轉驅動。

在具有以上述之方式構成之標線片搬出入機構5〇〇的 第2實施例之曝光裝置中，將標線片r從標線片保管箱 400搬運至標線片室15之動作，係以下列方式來進行。

首先’當從圖13之狀態，將標線片保管箱4〇〇搬來時 (該搬運將於後述），如圖14之⑴所示，標線片保管箱 之下半部（下部側壁構件權部分）會成為插入隔牆奶 之開口娜的狀態。在此情形，標線片保管箱·係透過 鍔構件406被隔牆433之開口 433b之周圍部分所支撐，在 該鳄構件406與隔牆433之間設有密封構件42〇,由隔牆 433凌載鎖疋門434、及標線片保管箱400(及密封構件 420)所圍起之空間48〇成為氣密狀態（以下，將該氣密狀態 之空間稱為「氣密空間480」）。 又，在該氣密空間48〇形成之狀態，藉由供氣管436 及排氣管437來進行氣密空間48〇内部之氣體置換，當該 氣體置換之完成由未圖示之氣體感測器等確認時，上下運 動單疋470之支撐構件471即被驅動裝置432a，432b往上 方驅動’而成為旋轉鎖定機構414a，414B與開閉機構 62 587197 431a，431b之缺口部451a，452a嵌合的圖η之（A)之狀態 、 。又，藉由開閉機構431a，43lb之筒構件451，452被未 圖不之驅動裝置所旋轉驅動，而解除旋轉鎖定機構414a， · 414B。 ’ 藉此，在旋轉鎖定機構414A，414B解除的狀態，支撐 構件471被上下運動單元470之驅動機構432a，432b所下 降驅動，而如圖14之（b)所示成為底部開閉部46〇脫離標 線片保管箱本體450的狀態。 另一方面，在該底部開閉部460與標線片保管箱本體 · 450之脫離動作（底部之開放動作）的同時，將隔牆之 開口 433a閉塞之裝載鎖定門434會受到往下側之滑移驅動 。藉此，開口 433a成為開放狀態，故收容於標線片室i 5 内之標線片搬運機械手臂6之臂部深入氣密空間48〇内， 並由標線片搬運機械手臂6之臂部接收標線片R，此時， 藉由該臂部之伸縮、迴旋動作將標線片R搬進標線片室15 内。 又，將標線片R從標線片室15搬進標線片保管箱4〇〇 · 之動作，係以上述相反之動作來進行。 又，在第2實施例中，在將標線片R從如圖丨所示之 開閉構件82搬進標線片保管箱4GG時，亦需要如圖13所 :構成的標線片搬出入機構。在此情形，不須將標線片在 乳體置換之環境下處理，故就標線片搬出入機構而言，可 採用種從圖13所示之標線片搬出入機構500除去隔牆及 氣體置換用之供氣管及排氣管的簡易構成。 63 出又，如第2實施例所示，在採用上下開閉式標線片搬 機構的情形，若僅藉由圖1所示之升降機單元130， 則梅始u '、線片取出位置等之限制變大，故最好在曝光裝置内（— 一、體來說是在升降機單元13〇與標線片搬出入機構5〇〇 · 之間）增設標線片保管箱搬運用之橫向滑塊、上下方向滑 塊或保管箱搬運用之機械手臂。 依據具有以上詳細說明的標線片保管箱4〇〇及標線片 般出入機構500等之第2實施例之曝光裝置，可獲得與前 述第1實施例同等之功效。又，在第2實施例中，只要彡· 構造上無矛盾之處，可採用在前述第1實施例所說明之同 樣之各種變形例。 ^又，在該第2實施例中已經以下述情形為前提說明， 該情形，係藉由未圖示之高架式搬運系統，將在内部收容 有複數片標線片之標線片載體44搬進本體室丨之搬出入口 la。然而，就標線片載體44而言，亦可採用與該第2實施 例之標線片保管箱400相同的構成。又，在以下之說明中 ，將這種標線片載體稱為「改良式標線片載體」。 _ 在此情形，可將收容於本體室丨内之標線片搬運系统 120予以省略，並且可將光洗淨裝置22配置於本體室丄之 外部，故可將本體室1(亦即，曝光裝置全體）小型化。亦 即，若採用改良式標線片載體，即可將圖13所示之標線片' 搬出入機構500當作本體室1之搬出入口來利用。 在此情形，標線片R之搬運係以下列方式來進行。 首先’將有標線片R收容於内部之改良式標線片載體 64 587197 搬運至光洗淨裝置内，對改良式標線片載體、及收容於該 改良式標線片載體内之標線片R進行光洗淨，並且將改良 式標線片載體内、及標線片R之保護空間内之氣體置換成 氮氣或惰性氣體等。 又，光洗淨及氣體置換完成後，將改良式標線片載體 搬運至標線片搬出入機構500。但是，在此情形，構成標 線片搬出入機構500之隔牆433内，係在開口 433b插入改

良式標線片載體之前均是大氣氣氛，故在開口 433b插入改 良式標線片載體之後的階段，將隔牆433内置換成氮氣 惰性氣體等（與改良式標線片載體内之氣體相同的氣體）。 由於該氣體置換，在隔牆433内之氣體濃度到達既定濃度 々P白#又將改良式標線片載體之旋轉鎖定機構予以解除。 然後，與該第2實施例同樣地，改良式標線片載體: 打開，標線片R被標線片搬運機械手臂6搬運至標線片 15内’並且被裝載於標線片台RST上。

又，在以此方式將改良式標線片載體加以使用的情9 /預先设置複數個標線片搬出入機構5〇〇，並預先將下^ 待使用之軚線片以搬運至標線片冑! 5内的狀態使其待機c 又’上述說明中並未特別明示，但照明系統殼2、相 線片室15、投影弁風多^。 y 又〜尤予糸統PL之鏡筒、晶圓室40等之内告丨 ’係以與未圖示之登 —、 衣*兄及腔室（chamber)同程度之精度來这 行溫度調整。又， 躍在前述内容並未特別明示，但照明系 統殼2、投畢;ί朵與^备 〜子糸統pL之鏡筒等之低吸收性氣體所直接 1的刀’係最好與前述標線片室15、晶圓室40之隔 65 587197 牆同樣地由不銹鋼（sus)等脫泡少的材料所構成。或者是， 亦可在照明系統殼2、標線片室15、投影光學系統pL之 鏡筒、晶圓室40等之低吸收性氣體所直接接觸的部分施以 含有氟之樹脂等之被覆，該被覆係在其表面不常發生碳氣 化合物等吸收性氣體之脫泡。 又’在上述各實施例中，雖就設置晶圓室4〇之構成已 說明，但亦可不設置晶圓室，而僅將在投影光學系統p]L之 晶圓侧端部與晶圓之間之曝光光之光路空間以低吸收性氣 體予以充滿。 又，在上述各實施例中，雖就本發明適用於步進及重 覆方式等之縮小投影曝光裝置的情形已說明，但本發明之 適用範圍當然並不侷限於此n本發明亦可適用於在

曝光時將標線片R與晶圓W作相對掃描之步進及掃描方式 之掃描型曝光裝置。 X

又’將由複數個透鏡所構成之照明光學系統、投影 學系統裝進曝光裝置本體、作光學調整’並且將由許多 械零件所構成之晶圓載物台(在掃描型之情形，標線片 亦）安裝於曝光裝置本體，並連接配線、配f，將構成 線片室15、晶圓室40之各隔牆等加以組裝，再連接含 低吸收性氣體之供氣系、排氣糸 饼孔糸之軋體配管系，在控制 置等之控制系連接上各部，再推γ ^人▲ 冉進仃綜合調整（電氣調整 動作確認等），藉以可製造嗜音# y , 〜亥實轭例之曝光裝置本體100 與本發明相關之曝光裝置。又，晛 *光裝置之製造最好在， 度及潔淨度等受到管理之潔淨室進行。 ‘ 66 587197 左件製造方法 其次，說明在微影成像製程使用上述曝光裝置之元件 製造方法之實施例。 圖15’係表示元件（IC、LSI等半導體晶片、液晶面板 、CCD、薄膜磁氣頭、微型機械等）之製造例之流程圖。如 圖15所示，首先，在步驟3〇1(設計步驟），進行元件之功 能及性能設計（例如，半導體元件之電路設計等），並進行 實現該功能之圖案設計。接著，在步驟3〇2(光罩製作步驟 )，製作形成有設計完成之電路圖案的光罩。另一方面， 在步驟303(晶圓製造步驟），使用矽等材料製造晶圓。 其次，在步驟304(晶圓處理步驟），使用在步驟3〇1〜 步驟303準備好之光罩及晶圓’以後述之方式，利用微影 成像技術等來於晶圓上形成實際之電路等。接著，在步驟 3〇5(元件裝配步驟），使用經步驟3〇4處理過之晶圓來進行 元件裝配。在步驟305中，依需要包含切割（dicing)製程 、接合（bonding)製程、及封裝（packaging)製程（晶片封入 )等製程。 最後，在步驟306(檢查步驟），對在步驟3〇5做出之 凡件進打動作確認測試、耐久測試等檢查。經這些製程後 ’元件製作完成，再將元件出貨。 圖16，係表示半導體元件在上述步驟3〇4之詳細流程 的例子。_ 16 +，步驟311 (氧化步驟），係將晶圓之表面 氣化。步驟312(CVD步驟），係在晶圓表面形成、緣膜。步 驟313(電極形成步驟），係利用蒸鍍在晶圓上形成電極。 67 587197 步驟314(離子植入步驟），係在晶圓楂入離子。以上之步 驟311 p驟314分別構成晶圓處理之各階段之前處理過 程，按照各階段所需的處理加以選擇執行。 · 晶圓製程之各階段中’當上述前處理過程完成時，以· 下列方式執行後處理過程。在該後處理過程中，首先，步 驟315(抗蝕劑形成步驟），係在晶圓塗布感光劑。接著， 步驟316(曝光步驟），係利用上述所說明之微影成像系統（ 曝光裝置)及曝光方法來將光罩之電路圖案轉寫至晶圓。 其次顯影步驟），係將受曝光之晶圓加以顯影« ，步驟318(蝕刻步驟），係將有抗蝕劑殘存之部分以外之 部分之露出構件利用蝕刻之方式予以除去。又，步驟319( 抗钮劑除去步驟），隸刻完成後除去不需要的抗姓劑。 藉由反覆進行該等前處理過程及後處理過程，而在晶 圓上形成多重之電路圖案。 "若使用以上所說明之本實施例之元件製造方法，則在 、光迻私（乂驟316)會使用上述實施例之曝光裝置故可 進行高精度的曝光。因此，可將形成有細微圖案之高隼積# 度之微型元件（miw)-deviee)之生錄予讀高。 發明之功# 、、如以上說明，依據本發明之光軍保管裝置，有可防止 光洗淨後之光罩之污染的功效。 依據本發明之曝光裝置，有提高曝光精度，以 置小型化的功效。 、裝 依據本發明之元件製造方法’有可將高集積度之元件 68 587197 之生產性予以提高的功效。 【圖式簡單說明】 . (一）圖式部分 圖1，係顯示第1實施例曝光裝置之概略構成圖。 圖2，係（A)為說明伸縮囊機構之構成的圖，（B)為用 以說明在標線片室之隔牆與標線片保管箱之間形成之空間 的圖’（C)為顯示在從標線片保管箱到標線片室之間形成之 搬運路徑的圖。 _ 圖3 ’係（A)為顯示標線片保管箱的立體圖，（β)為標 線片保管箱之縱截面圖。 圖4係顯示標線片保管箱内之開閉閥構成的立體圖 圖5 ’係光洗淨裝置之縱截面圖。 圖 6 ’係光洗淨裝置、及收容於該裝置内之標線片佯 管箱之橫截面圖 。 ，、

圖7，係顯示供氣單元的立體圖。 圖 8，孫1 德* ，肩不控制氣體内氧氣濃度之氣體供給裝置之 構成的圖。 牙、巧示與第1實施例之變形例相關之標 B相的立體圖。 圖10之m 笳夕„ )〜圖10之（C)，係設於圖9之標線 相之閘閥之槿占 圖。 风’以及用來就閘閥之開閉動作加以， 69 圖11 ’係顯示第2實施例之標線片保管箱的立體圖。 圖12,係（A)為圖U之標線片保管箱之縱截面圖，圖 )為顯示⑴之標線片保管箱之底部開閉部㈣之狀態的 入機構之構成的圖。 以說明從標線片保管箱搬 出 圖13，係顯示標線片搬出 圖14，係（A)、（B)均為用 標線片之搬出方法的圖。 圖15,係用以說明本發明之元件製造方法的流程圖 圖16’係顯示圖15之步驟3〇4之具體例的流程圖。 (二）元件代表符號 6 標線片搬運機械手臂（光罩搬運機構） 20 標線片保管箱（光罩保管裝置） 22 光洗淨裝置 24 保管機構（保持裳置） 51A，51C 供氣單元（第 51B, 51D 排氣單元（第 110 曝光裝置 氣體供給機構之一部分） 排氣機構之一部分） 130 料機單元（保f裝㈣運機構） 201a，201b光透過窗（透過構件） 204a〜204d通氣孔 205a，205b開閉門 211 筐體（保管裝置本體 211a，211b搬出入開口（開〗 212A〜212D開閉閥 587197

224a, 224b, 230 231 236 EL R W 224c供氣管（第1氣體供給機構之一部分） 224d排氣管（第1排氣機構之一部分） 氣體混合機（調整裝置之一部分） 氧氣濃度計（感測器） 控制裝置（調整裝置之一部分） 曝光光 標線片（光罩） 晶圓（物體）

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Claims (1)

1. 587197 拾、申請專利範圍： 1· 一種光罩保管裝置’係用來保管光罩；其特徵在於 ，具有： ' 保管裝置本體，其具有可收容該光罩之内部空間，並 形成有該光罩可出入之開口；及 開閉部，用來將該保管裝置本體之該開口加以開閉； 且在該保管裝置本體及該開閉部之至少一方，設有使 對收容於該内部空間内之光罩洗淨用之光透過之透過部。

   2·如申請專利範圍第1項之光罩保管裝置，其中，該 保管裝置本體，係整體上具有箱型之形狀。 3·如申請專利範圍第2項之光罩保管裝置，其中，該 保管裝置本體之四方之側壁中至少有丨個侧壁之特定側壁 形成有該開口； 置本體之該特定側壁

   4·如申請專利範圍第3項之光罩保管裝置，其中 開閉部，係以既定之軸為中心能旋動之方式安裝於該/ 裝置本體之開閉門。 5·如申請專利範圍第3項之光罩保管裝置，其中 開閉部，係卩可在平行於該保管裝置本體之該特定側^ 面内移動之方式安裝於該特定側壁之滑動門。 6申％專利範圍第3項之光罩保管裝置，其中 開閉邠係安裝於該保管裝置本體之該特定側壁的閘閥 7·如申晴專利範圍第2項之光罩保管裝置，其中 72 587197 該保管裝置本體之頂部及底 有該透過部。 部中至少一方之至少 一部分設 8·如申請專利範圍第7 透過部，係構成該保管裝置 之一部分的窗玻璃。 項之光罩保管裝置，其令，該 本體之頂部及底部中至少一方 .如申請專利範圍第1項之光罩保管裝置，”，在 該保管裝置本體之底部形成有該開口； -中在

   :該開閉部，係底部開閉部，其具有可支擇 該底部。 -以拆裝自如之方式卡合於 U).如申請專利範圍第9項之光罩保管裝置，係進一步 2 ,卜機構’其設於該保f裝置本體及該底部開閉部之 乂—方，用來鎖定該底部開閉部對於該保管裝置 卡合狀態。 二11 ·如申請專利範圍第9項之光罩保管裝置，其中，在 5亥底部開閉部之至少-部分設有該透過部。 ^丨2·如申請專利範圍第11項之光罩保管裝置，其中， 透k °卩’係構成該底部開閉部之一部分的窗玻璃。 13·如申請專利範圍第1項之光罩保管裝置，其中，在 該保管萝番士麻 、置本體及該開閉部之至少一方，形成有連通該内 部空間與外部之通氣孔； s玄光罩保管裝置進一步具有使該通氣孔成為閉狀態之 開閉閥機構。 女申明專利範圍第13項之光單保管裝置，其中， 73 587197 該開閉闕機構，係具有··閥構件，其配置於形成有該通氣 孔=構件之内部；及彈㈣件，其為使該通氣孔成為該閉 狀B而向該通氣孔彈壓該閥構件。 15.如申請專利範圍第13項之光罩保管裝置，其中， 該開閉間機構，係具有：筒狀構件，其設於形成有該通氣 孔的構件之外面側，一端連通於該通氣孔並且另一端連通 於外部；及間構件，其可在該筒狀構件之内部移動，被往 通氣孔之相反側彈Μ而將該筒狀構件之内部與外部 予以閉鎖。 “·如申請專利範圍第！項之光罩保管裝置，其中，該 内部空間之氣體被置換成既定之氣體； =罩保管裝置進-步具有離子化裝置，其設於該内 &間内，用來將該内部空間内既定之氣體離子化。 :·如申請專利範圍第】項之光罩保管裝置，其 成有圖垒十 早係-有.先罩基板，其具有形 tn框構件，其—端部設於該 案形成領域之周败上该圖 來俘 _ ° 片’設於該框構件之他端部，用 來保破该圖案形成領域； 且該保管裝置本體具有伴鳟 用來將由”…有保“間用氣體置換機構，其 -門內該框構件、及該膠片所形成之保護 二間内之氣體置換成既定之氣體。 圖宰轉寫二:光装置’係在曝光光之下，將形成於光罩之 案轉寫於物體上；其特徵在於，具有： 保官裝置搬運機構，用來將光罩保管裝置沿既定路徑 587197 搬運至該曝光光之光路附近之既定位置，該光軍保管梦置 _ ，可將光罩收容於内部空間，並具有該光罩可出入之構造 ;及 & ， 光罩搬運機構，其將該光罩從被搬運至該既定位置之、 該光罩保管裝置之内部空間沿既定氣氛之第1搬運路徑搬 運至包含該曝光光之光路的空間。 19·如申請專利範圍第18項之曝光裝置，其中，使用 開閉型保管裝置當作該光罩保管裝置； 且該開閉型保管裝置具有： 鲁 保管裝置本體，具有該内部空間，並形成有該光罩可 出入之開口；及 開閉部，用來將該保管裝置本體之該開口予以開閉。 20.如申請專利範圍第丨9項之曝光裝置，其中，該第 搬運路杈，係將包含該曝光光之光路的空間、及被搬運 忒既疋位置之該光罩保管裝置之内部空間予以連通而 成。 21 ·如申請專利範圍第20項之曝光裝置，係具有中空鲁 狀路和f杳 °°里彳構件’其用來在將包含該曝光光之光路的空間 加以包in - 隔牆，連接上被搬運至該既定位置之該光罩保 皆裴置。 管穿22·如申請專利範圍第21項之曝光裝置，其中，該保 本2本體，係整體上具有箱型之形狀，並在該保管裝置 之四方之側壁中至少有丨個側壁之特定側壁，形成有 曰由該開閉部來開閉之該開口； 75 587197 且口亥路仏區劃構件，係包含：伸縮自如的筒狀伸縮囊 八鈿可連接於被搬運至該既定位置之該保管裝置之該 特疋側壁’及中空之連接構件’其將該伸縮囊之另一端與 該隔牆加以連接。 〃 * 23.如申請專利範圍第22項之曝光裝置，其中，在該 保s 4置本體之底部形成有該開口，該開閉部，係底部開 閉部’其具有可支樓該光罩的支律部，用來可閉塞該開口 部、以可拆裝之方式卡合於該底部； 該路徑區劃構件包含董體，該董體，係以能與該隔牆· 内部空間連通之狀態連接於該隔牆，並在該篋體之頂壁形 成有被搬運至該既定位置之該保管裝置的底部可嵌合之開 _ 24.如申請專利範則21項之曝光裝置，其中，在該 路徑區劃構件連接有供氣管及排氣管。 18項之曝光裝置，其中，在該 分，設有使既定波長之紫外線透

   25.如申請專利範圍第 光罩保管裝置中至少一部 過之透過部。 26.如申請專利範圍第25 有光洗淨裝置，其對該光罩保 行該光罩保管裝置之光洗淨、 光洗淨之至少一方； 項之曝光裝置，係進一步具 管裝置照射該紫外線，而進 及透過該透過部對該光罩之 一且該保管裝置搬運機構，係將該光罩保管裝置沿著該 既疋位置與該光洗淨裝置之間之第2搬運路經搬運。 &如申請專利範圍第25項之曝光裝置，係具有收容 76 ϋ亥曝光裝置本體之收容室； ^該曝光裝置進一步具有光洗淨裝置，其配置於該收容 至外，用來對該光罩保管裝置照射該紫外線，而進行該光 罩保官裝置之光洗淨、及透過該透過部對該光罩之光洗淨 之至少一方。 / 28·如申請專利範圍第26項之曝光裝置，其中，該光 洗淨裝置，係用來進行該光罩之洗淨的裝置； 且該曝光裝置進一步具有氣體置換機構，其用來在利 用忒光洗淨裝置開始進行該光罩之該光洗淨之前，將該光 罩保管裝置内之氣體置換成既定之氣體。 29·如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其中，該氣 體置換機構，係設於該光洗淨裝置。 30.如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其中，該光 罩保管裝置’係進一步具有開閉閥機構，其形成於該保管 4置本體及该開閉部之至少一方，用來使連通該内部空間 與外部之通氣孔成為閉狀態； 且該氣體置換機構，係具有氣體供給機構，其使該開 閉閥機構成為開狀態，透過該通氣孔向該内部空間供給該 既定之氣體。 31·如申請專利範圍第30項之曝光裝置，其中，該氣 體置換機構進一步具有：偵知該内部空間内特定氣體之濃 度的感測器、及根據該感測器之輸出來調整該特定氣體之 濃度的調整裝置。 32·如申請專利範圍第31項之曝光裝置，其中，該特 77 定氣體，係氧氣或水蒸氣。 33.如申請專利範圍第3〇項之曝光裝置，复 光罩保管裝置形成有至少、2個該通氣孔，該光罩保管裝置 ，係具有分別對應於該通氣孔之複數個該開閉閱機構； 且該氣體置換機構進—步具有排氣機構，其使與開閉 立、不同的開閉閥機構成為開狀態，透過該通氣孔將該内 體排出’該開閉閥機構，係為了該氣體供給機 、/无疋之氣體供給該内部空間而已經成為開狀態。 、<34·如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其中，該光 洗淨裝置，係、用來進行該光罩保管裝置之洗淨的裝置； 且該曝光裝置進一步具有氣體置換機構，其用來在利 用4光洗淨裝置開始進行該光罩保管裝置之光洗淨之前， 將該光洗淨裝置内之氣體置換成既定之氣體。 35·如申請專利範圍第34項之曝光裝置，其中，該氣 體置換機構’係、進一步具有偵知該内部空間内特定氣體之 /辰度的感測器、及根據該感測器之輸出來調整該特定氣體 之濃度的調整裝置。 ； 36.如申請專利範圍第35項之曝光裝置，其中，該特 定氣體，係氧氣或水蒸氣。 ^、 37·如申睛專利範圍第18項之曝光裝置，係進一步具 有用來將4光罩保管裝置暫時保持在既定位置之保持裝置。 38·如申請專利範圍第37項之曝光裝置，其中，該保 持裝置’係進一步具有使通氣孔成為閉狀態之開閉閥機構 ，該通亂孔，係形成於該開閉閥機構之一部分，用來將該 78