TW553830B

TW553830B - Low reflection member

Info

Publication number: TW553830B
Application number: TW89122445A
Authority: TW
Inventors: Tomohiro Taruishi; Kensaku Higashi
Original assignee: Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date: 1999-10-29
Filing date: 2000-10-25
Publication date: 2003-09-21
Also published as: JP2001194505A; KR20010051230A; JP3657869B2; US6572973B1; KR100720022B1

Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 6864pif.doc /008 Λ ______ 五、發明說明（（）發明領域本發明是關於一種具有極佳防止光反射之低反射材料’且適用於液晶顯示器、電漿顯示器、CRT與EL等畫面顯示裝置。 5 發明背f 各種畫面顯示裝置設置低反射材料係爲了防止光反射。在薄膜或玻璃等透明的基體之最外層，利用低折射率物質形成低折射率層，且光學膜之厚度爲可見光波長之 10四分之一左右，如此可知會降低類似干涉之反射率。在基體之至少一面設置之單層低折射率層係由低反射材料所構成，且基體之至少一面具有之多層結構係依序由高折射率層與低折射率層所沈積而成的。各層的折射率與膜厚發現其良好的防止反射之機能可藉由眾所皆知的計 15算式所計算出來。「薄膜•光裝置」（東京大學出版社製，吉田貞史與矢嶋弘義所著）一書中提到入射光垂直射入低折射率層的情形下，光不會反射且會百分之百地穿透過去之條件下，可以滿足下列的關係式。又，式中的ηι係爲低折射率層的折射率，ns係爲基體上高折射率層的折射率， 2〇山係爲低折射率層之厚度且λ。表示爲光的波長。 ni2=ns 式 1 λ 〇/4 式 2 百分之百防止光的反射由前述式1可知低折射率層的折射率需爲下層（即基體上之高折射率層）的折射率之本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---^--------I 丨！ — 丨訂 1|丨_—·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（>) 平方根，且低折射率層之膜厚必須藉由利用式1所選擇之低折射率層之折射率與光的波長套入式2中計算而得。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由式1中，通常在基體上使用的高折射率層的折射率ns係介於1.45至2.10之範圍內，如此所適用的低折射 5率層之折射率A則介於1.20至1·45之間。由式2中，在可見光領域之最低反射率之情形下，膜厚di應爲1〇〇nm 左右。可是’防止反射膜大多利用真空蒸著法或噴濺法，在真空下的成膜法所形成，基體選擇塑膠膜時，會降低基 10體的熱變形溫度，因此充分地加熱時，得到防止反射膜但基體之密著性十分不佳。又，此方法僅限於用來生產比較小型之材料’且不適合進行連續生產，有生產成本提高之缺點。因此大多以真空成i吴法形成防止反射膜。經濟部智慧財產局員工消费合作社印製另一方面，近年來液晶顯示器、PDP、CRT與EL 15所代表之畫面顯示裝置（以下簡稱爲顯示器）開始時使用於電視或電腦上，之後在各式各樣的領域中有驚人的發展。如此之顯示器的開發，正投注於畫面的高精細化、高畫質化及低價格化的方向努力，且同時潮流係對防止反射有強烈的要求。於是，儘可能大面積化與連續生產的同時， 2〇也可能經由溶劑塗佈之生產以降低成本，所開發之低反射材料正受注目。如此對低反射性材料的要求特性，當然是需折射率 1.45以下’此外顯不器之最表面的條件需符合耐使用、高密著性與耐摩擦性之要求，但大多數具有受注目之低折射本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（、）率的低反射材料，其耐摩擦性必然不佳。利用溶劑塗佈之方法所得到之低折射率層，與含有氟之材料所設計之低折射率化的方法、微粒子設置堆積於膜表面的孔洞、混入空氣降低折射率之方法有極大之分 5別。依據低折射率所構成之材料進行分類，大致可分爲加水分解性矽烷化合物利用凝膠反應以硬化之方法（日本公開專利公報(A)平9-24575號）、使用氟系列之有機材料之方法（日本公開專利公報(A)平2-19801號）及使用具有 10低折射率之微粒子的方法等三種。或將上述三種予以組合，例如提出組合氟系列之有機材料與加水分解性矽烷化合物的方法（日本公開專利公報(A)平7-331115號）、組合氟系列之有機材料與使用具有低折射率之微粒子的方法 (日本公開專利公報(A)平6-230201號）及組合加水分解 15性矽烷化合物與使用具有低折射率之微粒子的方法（日本公開專利公報(A)平8-211202號）。但是’選擇此方法在基體上得到的塑膠薄膜的情形，實際上要有完全防止反射的特性與耐摩擦性，但仍然不具有生產性。 20 例如使用具有低折射率之微粒子的方法，黏合劑之比率較多時’折射率會提高而無法完全地防止反射，但黏合劑之比率較少時會降低膜的強度而無法使用。使用氟系列之有機材料的方法主要是使用含有氟丙烯的自由基聚合物，利用自由基聚合之化合物容易受到空 ----；-----------------訂·！------線 41^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） A7 A7 6864pif.doc /008 B7_ 五、發明說明（Ί ) 3.3.3- 三氟丙基三乙基矽烷、3,3,3-三氟丙基三丙基矽烷、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3.3.3- 三氟丙基三氯矽烷、3,3,3-三氟丙基三異氰酸矽烷、 111，111，211，211-四氫氟基己基三甲基矽烷、111，111，211，211-四氫氟基己基三乙基矽烷、111，111，211，211-四氫氟基己基三丙經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 5基矽烷、1H，1H，2H，2H-四氫氟基己基三氯矽烷、 1扎111，211，211-四氫氟基己基三異氰酸矽烷、111，111，211，211-四氫氟基壬基三甲基矽烷、111，111，211，211-四氫氟基壬基三乙基矽烷、111，111，211，211-四氫氟基壬基三丙基矽烷、 111，111，211，211-四氫氟基壬基三氯矽烷、111，111，211，211_四氫 10 氟基壬基三異氰酸矽烷、111，111，211，211-四氫氟基葵基三甲基矽烷、1H，1H，2H，2H-四氫氟基葵基三乙基矽烷、 111，111，211，2^1-四氫氟基葵基三丙基矽烷、111，111，211，211-四氫氟基葵基三氯矽烷、1艮111，211，211-四氫氟基葵基三異氰酸石夕院、1-七氟炔丙氧基丙基三甲基砂院、1-七氟炔丙氧 I5基丙基三乙基矽烷、1-七氟炔丙氧基丙基三丙基矽烷、1-七氟炔丙氧基丙基三氯矽烷、1-七氟炔丙氧基丙基三異氰酸矽烷、1，4-二（三甲基甲矽烷基）-2,2,3,3-四氟丁烷、1，5-二（三甲基甲矽烷基）-2,2,3,3,4,4-六氟戊烷等，且不限定於此。其中以折射率、反應性與溶劑溶解性的觀點來看， 20 1艮111，211，211-四氫氟基葵基三乙基矽烷是最適合的。如此的分子中含四個加水分解基的矽烷化合物與氟矽烷化合物混合使用係最適合調和低折射率層之折射率與膜強度。此時的混合比隨著矽烷化合物的種類而變，一般來說，分子中含四個加水分解基的矽烷化合物相對重量爲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 553830 6864pif.doc /008 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製五、發明說明（〔）樣稀釋之後，加入使用硬化促進成分。本發明的低反射材料之透明基體，例如是玻璃、塑膠薄膜、塑膠板。在使用於液晶顯示器或CRT之表面時，薄膜的生產性、成本與重量係爲考量之重點。此實例例如 5爲聚乙烯對苯二甲酸樹脂（PET，折射率η= 1·65)、三乙酸纖維素（TAC，1.50)、聚碳酸酯（pC，n= 158)、聚苯乙烯（η=1·60)、聚氯乙烯（η=1·53)、賽職扮、聚乙烯或聚丙烯等其中之一的各種樹脂薄膜。其中以 PET、TAC或PC較適合使用。透明基體之透明性需極高 10的程度，具體的光線透過率需達百分之八十以上，最好達到百分之九十以上。透明基體的厚度以輕量化的觀點係朝向薄的方向與生產性考慮，此時，薄膜的厚度最好介於10 // m 至 200 // m 之間。另外，光線透過率係利用日本工業規格（JIS)K-6714 15爲基準所測定的。具體的說，作成5個寬約13毫米、長約40毫米之測試片，再利用空氣爲基準，設定爲透光率爲百分之百，之後，各測試片依序透過波長爲450nm、550mn 與650nm之光線，並讀取其分光透過率，各測試片的最大透過率之平均値即爲光線透過率。 2〇又，透明基體上係經電暈處理、電漿處理或濺鍍處理等的表面處理，並進行介面活性劑或矽烷耦合劑之塗佈，以形成本發明的低折射率層塗料之潮濕性，並改善硬化後的低折射率層之密著性。以下爲本發明之低反射材料在硬化的過程中的塗料本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---r-----------------tr (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（u) 調製、塗工、乾燥與聚合的方法。塗料係利用任意的溶劑溶解上述的砂院化合物，必要時應加水分解低聚合物化之後，混合上述之硬化促進成分之調製而成。在這種情形與目的下，塗工膜厚取決於砂 5烷化合物之濃度，通常是重量百分比0.1至50之範圍，最佳調製的範圍係重量百分比〇·5至30。溶劑至少是可溶解加水分解之矽烷化合物的極性溶劑。又使用乾燥時具揮發性之溶劑的沸點爲攝氏50度至攝氏150度左右。所用的溶劑包括甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丁醇、乙二醇、 10乙二醇甲醚或乙二醇乙醚等一價或多價之醇類，丙酮、丁酮或甲基異丁基甲酮等酮類，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯或乙酸丁酯等酯類，三氯甲烷、二氯甲烷或三氯乙烯等鹵化碳水化合物等，且不限定於此。又，上述的溶劑可單獨使用或混合使用。 15 上述所調製的塗料可利用印刷的方法在塗佈於透明基體之一面，且兩面設有低折射率層。具體的說係爲氣動塗佈、電鍍塗佈、線纜塗佈、靜電塗佈、逆向塗佈、連續自動塗佈、凹板塗佈、微控塗佈、缺陷塗佈、鑄造塗佈、壓延塗佈、浸焊塗佈或擠壓塗佈等塗佈之方法，與流體印 20刷等的凸版印刷、直接凹版印刷或膠印凹版印刷等的凹版印刷、膠印印刷等的平版印刷或玻璃版印刷等的孔版印刷等的印刷方法。另外，上述所形成之低折射率層的厚度與前述式1 與式2之關係相符合，折射率與光波長的關係爲考慮適當本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------------------訂·!-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 Α7 Β7 6864pif.doc /008 五、發明說明層厚之決定因素，並無特別的限定，lOOnm是最適合的。塗膜的乾燥與聚合係加熱乾燥使溶劑揮發而硬化，之後繼續加熱硬化。加熱的溫度爲攝氏40度以上，最佳範圍在攝氏80度至攝氏12〇度之間。加熱溫度的上限視所使用 5之基體而改變，一般所使用的透明薄膜在攝氏120度以上開始軟化。溶膠法與一般矽烷化合物之硬化方法通常需加熱至攝氏300度以上會使塑膠製的基體難以適應。習知的溶膠法以塑膠製的基體所能適應之攝氏120度加熱數小時，在實際上使用時呈現半硬化狀態，會有耐摩擦性不夠 10之問題，且長時間的加熱也會使生產性不佳。但本發明添加硬化促進成分之方法只需攝氏40度即可完全硬化。此時使用之熱源可由電熱器、噴燈或誘導加熱等擇一，特別是以送風加熱之電熱器爲最適合。在本發明中，透明基體上可以直接形成低折射率 I5層，當反射率降低時，之間最好存在有高折射率層。高折射率層設置的時機，係高折射率層直接位於透明基體之表面，且之間尙設有接著層。高折射率層係利用溶劑塗佈法製作，使用具高折射率黏著樹脂，與在黏著樹脂中添加具高折射率超微粒子而得。又具高折射率之物質可利用真空 20成膜法輕易製成。高折射率層之折射率比透明基體高，最佳範圍在1·50至2.30之間。特別是當反射率低時，最好選擇折射率在1.60至2.30，但不限於此範圍中。當透明基體折射率低的時候，使用前述範圍之外的情形會對防止反射之效果造成損害。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---Μ-----------------訂----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 553830 6864pif.doc /008 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明說明（ο ) 高折射率層之構成材料例如是市售的JSR公司的「KZ_7886B」（折射率 η=1·65)、「KZ-7886C」（折射率η = 1·65 )。又，二季戊四醇六丙烯酸（DPHA，折射率 n= 1_51 )之折射率不高，但有高耐摩擦性。 5 又，使用市售的高折射率形成材料導入芳香環或氟之外的鹵素基離子可達成黏著樹脂之高折射率化。具有高折射率之樹脂有聚苯乙烯、聚（〇-氯苯乙烯）、聚（2,6 二氯苯乙烯）、聚溴苯乙烯、（2,6聚二溴苯乙烯）、聚碳酸酯、芳香族聚酯、聚磺酸、聚磺酸醚、聚戊烯酸、聚 10 (五氯酚甲基丙烯酸酯、苯氧樹、脂及其溴化物或環氧樹脂及其溴化物等。具高折射率超微粒子例如是氧化鋅（折射率n< 1.9)、二氧化鈦（η=2·3)、二氧化鈽（η= 1·95)等的超微粒子含有遮蔽紫外線防止液晶顯示器劣化之保護效 15 果。又，在二氧化錫（η = 1.95 )或ITO ( η = 1.95 )之微粒子塗料中添加銻，則有防止帶電的效果，且具有高折射率與防止塵埃之附著。此微粒子可單獨使用或混合使用，粒徑約爲lnm至lOOnm左右，爲了不損害塗膜的透明性最好在5nm至20nm之間 2〇又爲了提高耐摩擦性的目的，此高折射率層最好使用硬質材料。硬質材料例如最好添加DPE-6A、PE-3A或 PE-4A (共榮化學公司）等具有官能丙烯酸之DRK1173或 IRKK184 (千葉特用化學公司）等的光聚合起始劑。另外’爲了防止塵埃之附著，高折射率層最好添加本紙張尺度適用中國國家標準規格（21〇 X 297公釐） ------------------- --------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本真> 553830 6864pif.doc /008 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明說明（（4) 防止帶電劑。防止帶電劑係適用無機或有機的各種導電材料。例如是錫或錫等的金屬微粒子或晶鬚，塗佈銻之微粒子或晶鬚於氧化錫或氧化鈦等的金屬氧化物之上，7,7,8,8-四氰偏磷酸與金屬離子或有機陽離子等的電子供應體塡充 5形成電荷可自由移動之錯合體，N-三甲氧基苯甲矽烷基丙基-N，N，N-三甲基銨氯化物或十八烷基二甲基（3-(三甲氧基苯甲矽烷基）丙基）銨氯化物等的陽離子變形的含砂化合物。另外，爲了抑制玻璃板的暈眩性的目的，最好在硬 10質材料上添加塡充物以形成防眩層。本發明的低反射材料使用於液晶顯示器、PDP、CRT 或EL等畫面表示裝置上。例如接著劑與畫面表示部份之表面之間利用黏著劑貼合。例如第1圖所示爲液晶顯示器，電晶體薄膜或液晶等具備有TFT基板22與濾色器20夾於 15偏光板18之間，透明基體之外側一面的偏光板18之上的液晶顯不器設計沈積有低折射率層1 〇。另外，在圖示的例子中，偏光板18係吸附了二色性原子（陽離子染料等）在聚乙烯塗膜之延伸軸處理偏光子16之兩側沈積有三氯纖維素薄膜14、在三氯纖維素薄膜14與低折射率層10之 20間有防眩層12。如此的液晶顯示器可抑制外來光之反射，又，逆光層24的光不具有防眩性，因此可淸楚地目視所定之鮮明畫面。又，使用於PDP時，例如防止表面反射膜，本發明之低反射材料也可適用。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------I I -in----* 訂 i·—------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（β) 爲讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂，下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下= 圖式之簡單說明 5 第1圖係本發明之液晶顯不器之較佳實施例的截面示意圖。 _ 圖式之標記說明 10 :低折射率層 18 :偏光板 ίο 實施例、高折射率層之製作方法一：三氯纖維素（富士黏著UVD-80)之厚度爲80/zm， DRK1173 (千葉特用化學公司製的分裂型光起始劑）含有百分之五之DPE-6A (新中村化學製的具6官能基的丙烯 15酸，二季戊四醇六丙烯酸）塗佈3//m厚，使用功率爲每公分120瓦之聚光型高壓水銀燈，其照射距離爲10公分，進行每分鐘5公尺紫外線照射處理速度，進行塗膜之聚合與硬化。高折射率層之製作方法二： 20 三氯纖維素（富士 tackUVD-80)之厚度爲80// m，使用KZ-7886C (JSR製的硬化層）塗佈2//m厚，使用功率爲每公分120瓦之聚光型高壓水銀燈，其照射距離爲10 公分，進行每分鐘5公尺紫外線照射處理速度，進行塗膜之聚合與硬化。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —；-----------------IT·--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 553830 6864pif.doc /008 五、發明說明（A ) 第一較佳實施例塗料之形成：在100毫升之三口燒瓶中安裝機械攪拌器與循環冷凝管，並於攝氏70度下加入15克的四乙基矽烷、4克的蒸餾水、4克的甲醇與濃鹽酸一滴（約〇.〇5 5毫升）攪拌三十分鐘。之後利用室溫冷卻’並加入甲醇稀釋至1重量百分比（以Si〇2換算），再加入相對於溶液1 重量百分比之正磷酸。當四乙基矽烷相對重量爲100時，正磷酸之相對重量爲5。塗膜之形成：利用高折射率層製程一形成於高折射 10率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹風乾燥機加熱硬化1小時左右。第二較佳實施例塗料之形成：將2克的二甲氧基矽氧烷低聚合物（三菱化學製的「MKC矽酸鹽MS-51」）溶解於98克的異丙 IS醇中，再加入1〇〇毫克的正磷酸（百分之八十五），於室溫下反應12小時。在塗料之MS-51相對重量爲100時，正磷酸的重量爲5左右。塗膜之形成：利用高折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹 2〇風乾燥機加熱硬化1小時左右。第三較佳實施例塗料之形成：在15克的MKC矽酸鹽MS-51 (三菱化學製）中加入4克的甲醇與4克的蒸餾水，在攝氏7〇度下加熱循環30分鐘，之後利用含有正磷酸0.2%之異丙 —：-----------------訂 -------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公1 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 6864pif.doc /008 五、發明說明（π) 醇溶液稀釋塗料爲原來的32·6倍。在塗料之MS-51相對重量爲100時，正磷酸的重量爲1〇左右。塗膜之形成：利用高折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹 5 風乾燥機加熱硬化1小時左右。第四較佳實施例在100毫升之三口燒瓶中，將2.40克的溴酸溶解於 14.16克的乙醇，再於橄欖油中循環。之後利用30分鐘滴入2.20克的四乙基矽烷（約10.7毫莫爾）與1·24克的 10 111，111，211，211-四氫氟基壬基二乙基矽院（約2.7毫莫爾）的混合物，再循環5小時，以完全加水分解。之後利用含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液稀釋塗料爲原來的8.26倍。在全部加水分解性矽烷相對重量爲100時，正磷酸的重量爲10左右。 15 塗膜之形成：利用高折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏1〇〇度下利用吹風乾燥機加熱硬化1小時左右。第五較佳實施例將第四實施例之2.20克的四乙基矽烷（約10.7毫 2〇莫爾）與1.24克的1氏1扎211，211-四氫氟基壬基三乙基矽烷（約2.7毫莫爾）的混合物，變更爲1.31克的MKC矽酸鹽MS-51 (三菱化學製之二甲氧基矽氧烷低聚合物）與 1.24克的1，1，1-三氟丙基三乙基矽烷（6.3豪莫爾）的混合物，其餘步驟與第四實施例相同。在全部加水分解性矽院本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------I-----訂—-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（α ) 相對重量爲100時，正磷酸的重量爲12左右。第六較佳實施例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有偏磷酸0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第四 5 實施例相同。第七較佳實施例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有硼氟酸鈉0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第四實施例相同。 10第八較佳實施例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有碳酸鈉〇_2%之異丙醇溶液’其餘步驟與第四實施例相同。第九較佳實施例 15 將第四實施例之高折射率層之製作方式變更爲利用高折射率層製程二對基體塗佈，其餘步驟與第四實施例相同。第+較佳實施例塗料之形成：在100毫升之三口燒瓶中安裝機械攪 20拌器與循環冷凝管，並於攝氏70度下加入15克的四乙基矽烷、4克的蒸餾水、4克的甲醇與濃鹽酸一滴（約0.05 毫升）攪拌三十分鐘。之後利用室溫冷卻，並加入甲醇稀釋至1重量百分比（以Si02換算），再加入相對於溶液1 重量百分比之苯磺酸。當四乙基矽烷相對重量爲100時，本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---；-----------------'訂--------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（1) 苯磺酸之相對重量爲5。塗膜之形成：利用局折射率層製程一形成於高折1身寸率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹風乾燥機加熱硬化1小時左右。 5 第十一較佳實施例塗料之，形成：將2克的一甲氧基砂氧院低聚合物（三菱化學製的「MKC矽酸鹽MS-51」）溶解於98克的異丙醇中，再加入100毫克的對甲苯基磺酸（百分之八十五），於室溫下反應12小時。在塗料之MS-51相對重量爲100 10 時，對甲苯基磺酸的重量爲5左右。塗膜之形成：利用高折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹風乾燥機加熱硬化1小時左右。第十二較佳實施例 15 塗料之形成：在15克的MKC矽酸鹽MS-51 (三菱化學製）中加入4克的甲醇與4克的蒸餾水’在攝氏Μ 度下加熱循環30分鐘，之後利用含有對甲苯基磺酸0·2% 之異丙醇溶液稀釋塗料爲原來的32·6倍。在塗料之MS_51 相對重量爲100時，對甲苯基磺酸的重量爲10左右。 20 塗膜之形成··利用高折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏1〇0度下利用吹風乾燥機加熱硬化1小時左右。第土三較佳實施例在100毫升之三口燒瓶中，將2.40克的溴酸溶解於本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —：--------L^w--------^ίι-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 6864pif.doc /008 Α7 Β7 五、發明說明（〜） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 14.16克的乙醇，再於橄欖油中循環。之後利用3〇分鐘滴入2.20克的四乙基矽烷（約10.7毫莫爾）與1·24克的 111，111，211，21^四氫氟基壬基三乙基矽烷（約2.7毫莫爾）的混合物，再循環5小時，以完全加水分解。之後利_ # 5有對甲苯基磺酸〇·2%之異丙醇溶液稀釋塗料爲原$白勺 8_26倍。在全部加水分解性矽烷相對重量爲1〇〇時，對甲苯基磺酸的重量爲10左右。塗膜之形成：利用局折射率層製程一形成於高折射率層上，微控塗佈方式進行塗佈，在攝氏100度下利用吹 10風乾燥機加熱硬化1小時左右。箆+四鮫佳實施例將第十三實施例之2.20克的四乙基矽烷（約10.7 毫莫爾）與1·24克的四氫氟基壬基三乙基矽烷（約2.7毫莫爾）的混合物，變更爲1.31克的MKC 15 矽酸鹽MS-51 (三菱化學製之二甲氧基矽氧烷低聚合物）與1·24克的1，1，1-三氟丙基三乙基矽烷（6.3豪莫爾）的混合物，其餘步驟與第十三實施例相同。在全部加水分解性矽烷相對重量爲100時，對甲苯基磺酸的重量爲12左右。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 第十五較佳貫施例將第十三實施例之含有對甲苯基磺酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有十二烷基苯磺酸0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第十三實施例相同。第+六鉸佳實施例本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（7() 將第十三實施例之含有對甲苯基磺酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有二異丙基荼磺酸0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第十三實施例相同。第十七較佳實施例 5 將第十三實施例之高折射率層之製作方式變更爲利用高折射率層製程二對基體塗佈，其餘步驟與第十三實施例相同。第一比較例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液， 10變更爲單獨使用異丙醇溶液，其餘步驟與第四實施例相同。第二比較例將第三實施例之正磷酸，變更爲鹽酸，其餘步驟與第三實施例相同。 15第三比較例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有鹽酸0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第四實施例相同。第四比較例 20 將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液，變更爲含有馬林酸0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第四實施例相同。第五比較例將第四實施例之含有正磷酸0.2%之異丙醇溶液， —：---------0^--------tri^-------線# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 553830 6864pif.doc /008 A7 B7 五、發明說明（# ) 變更爲含有三乙銑丙酮鋁（III)錯合體0.2%之異丙醇溶液，其餘步驟與第四實施例相同。第六比較例 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將第^實施例之對甲苯基磺酸，變更鹽酸，其餘 5步驟與第十一實施例相同。分析方法上述之第一實施例至第十七實施例，及第一比較例至第六比較例所得到之低反射材料進行分析得到下列特性： 1° ( 1 )分光反射率：利用正反射5度之測量裝置的分光光度計（島津製造公司：UV-3100)對波長爲550nm 之反射率進行測量。但以塗佈面爲測量面，內裡的鋼絲絨將反射完全遮蔽，如同著上黑色墨水。 (2) 耐指夾擦拭性：塗佈面之內裡的鋼絲絨，如 15同以黑墨水著色。塗佈面之一側利用指夾強力來回20次，利用薄棉紙去除附著於表面的指紋油脂，接著利用目視辨認此部份之周圍顏色有無變化，顏色改變則標示爲X ，顏色不變則標示爲〇。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (3) 耐鋼絲絨性：在鉛筆硬度試驗器安裝鋼絲絨 20 之1公分的一角（# 0000)，負重250克/平方公分，在塗佈面來回五次。在利用薄棉紙除去削下之粉末’以目視觀察傷痕，傷痕超過4條者標示X，1至3條者標示八，完全沒有傷痕者標示〇。表中的矽烷化合物如下所示：本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 553830 A7 B7 6864pif.doc /008 五、發明說明（”） TEOS :四乙基矽烷 MS-51 :二甲氧基矽氧烷低聚合物 C8Si: 111，111，211，2士四氫氟基壬基三乙基矽烷 CISi: 1，1，1_三氟丙基三乙基矽烷 5 高折射率層1係爲DPE-6A、高折射率層2係爲 KZ-7886C。加水分解的方法如下所示： (1) 加水分解、 (2) 與蒸餾水共同加熱、 10 ( 3)與鹽酸共同加熱、、 (4)與溴酸共同加熱。分析的結果如表一與表二所示，本實施例之低反射性材料具有良好的防止反射性，及好的耐指夾擦拭性與耐鋼絲絨性。其他方法如比較例之耐指夾擦拭性與耐鋼絲絨 15 性不佳。本發明所提供之低反射性材料只需於攝氏40度左右之低溫即可硬化，更可做成薄膜之塗料。更進一步地說，本發明的低反射材料所得之矽烷硬化物有高的膜強度、密著性高且耐摩擦性好。 20 特別是使用具有四個加水分解基的矽烷化合物與氟矽烷化合物之混合物，能均衡地提高折射率與膜強度。雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -I I! I I I 訂 —‘I I — II--“ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 553830 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6864pif.doc /008 五、發明說明（）★) 保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準 27 —^----------—11 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -· 甸」-------線赢本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）沐丨比較例5 比較例4 比較例3 比較例2 比較例1 實施例9 實施例8 實施例7 實施例6 實施例5 實施例4 實施例3 實施例2 實施例1 TE0S:C8Si TE〇S:C8Si TEOS:C8Si MS-51 TEOS:C8Si i TEOS:C8Si 1 TE0S:C8Si TE〇S:C8Si I TE0S:C8Si MS-51:ClSi TE〇S:ClSi MS-51 MS-51 TEOS 矽烷化合物三乙丙酮鋁 (Π)錯合體馬林酸鹽酸鹽酸浦正磷酸丨硼氟酸鈉硼氟酸鈉偏磷酸 1 正磷酸正磷酸正磷酸正磷酸正磷酸硬化促進成分 1—^ η—i 1—λ 1—^ to H—^ 1—^ Η-1 1—A 高折射率層 /^\ ^^S Η 1~1 Nw^ 加水分解方法 1.80 1.72 1.76 2.50 1.70 0.90 1.68 1.65 ! ___ 1 H—» 1.90 Η—1 2.23 2.25 2.30 分光反射率(％) X X X X X 〇〇〇 Ο 〇〇〇〇〇耐指甲擦拭性 X X X X X 〇〇 D> > t> 〇〇〇〇耐鋼絲絨性比較例6 實施例Π丨實施例16 j 實施例15 實施例14 |實施例13 實施例12 實施例11 實施例ίο MS-51 ! TEOS:C8Si -1 TE0S:C8Si | TE0S:C8Si MS-51 :C1 Si TE〇S:C8Si MS-51 MS-51 TEOS 矽烷化合物鹽酸對甲苯基磺酸二異丙基萘磺酸十二烷機苯磺酸對甲苯基磺酸對甲苯基磺酸對甲苯基磺酸對甲苯基磺酸苯磺酸硬化促進成分 to Η—* ►—A ι—^ η— 高折射率層 h-H NS^ /^Ν /^\ /^s H ΗΗ /g |加7K分解方法 2.50 0.92 Η-Λ Η-Α •—A Η-λ 2.23 | 2.40 2.28 L分光反射率(％) X 〇〇〇〇〇〇〇〇耐指甲擦拭性 X 〇 t> t> t> 〇〇〇〇耐鋼絲絨性

Claims

553830公告爲第 ifl.doc /011 力1224#號中文專利範圍^^ A8 B8 C8 D8 m ；ι： )，ΓτιΙ%ιβ·ΪΒ 規 Ί 年增正曰期丰〇似年7月丨8曰申請專利範圍 u™ ΐ·一種低反射材料，包括：一透明基體，在該透明基體之上有一低折射率層，且該低折射率層具有低折射率；該低折射率層係由含有一加水分解性矽烷化合物、該砂院化合物之一加水分解物與一硬化促進成分之混合物硬化而成’其中該硬化促進成分包括磷酸類、磺酸類與二氧化矽熔劑其中之一；該加水分解性矽烷化合物係爲下述之第1式所示之砂院化合物、第2式所示之矽烷化合物與第3式所示之化合物中至少選擇一種之一聚合物； RVSiX4_a X3Si-R2-SiX3 Y-(Si(OR3)2〇)n-Y 0^a^2 (1) (2) (3) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (X係表示Cl、Br、NCO、OR4，Y係表示氫或含碳數爲1至2〇之有機基，Ri、R2、R3與R4係表示含碳數爲 1至20之有機基，n係表示1至3〇之整數）。 2·如申請專利範圍第1項所述之低反射材料，其中該低折射率層係由該加水分解性矽烷化合物與該加水分解物的相對重量爲100，及相對重量爲i至30之含硬化促進成分的該混合物所形成的一硬化物。 3·如申請專利範圍第1項或第2項所述之低反射材料，其中該加水分解性矽烷化合物係爲具有4個加水分解基之砍丨兀化合物與下述之桌4式或第5式所表示的砂院化合物兩者混合而得之混合物； 28 ------訂'---I I 華本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 553830 B8 6864pin.doc/011 C8 D8 六、申請專利範圍 R5a-SiX4.a l^a^2 (4) X3Si-R6-SiX3 (5) (X係表示Cl、Βι*、NCO、OR4，R4係表示含碳數爲1至20之有機基，R5與R6係表示至少含有氟原子之有機基）。 4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之低反射材料，其中該磷酸類係爲正磷酸或偏磷酸兩者之一。 5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之低反射材料，其中該磺酸類係爲苯磺酸或對甲苯基磺酸。 6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之低反射材料，其中該低折射率層與該透明基體之間更包括設有一高折射率層。 7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之低反射材嵙，其中該透明基體包括有一偏光板。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印5衣 29 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）