TW504605B - Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the same, the device and mask - Google Patents

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5046U!) A7 五、發明說明（1 本發明有關—種微影投影裝置，其包括： 一個供應輻射投影光束用之輻射系統； 一個固疋光罩用之第一目標台； 一個固足基板用之第二目標台；以及 ，二技〜系統，其使孩光罩經照射部分成像在該基板標 的部分上。 更特別的是，本發明有關一個此種裝置用之光罩台。 爲求簡化起見，該投影系統於下文可稱爲，，透鏡”；然而該 辭必須廣義地解釋爲包括各種種類之投影系統，包括例如 折射光學'反射光學、光線反射曲折系統與帶電粒子光學 。該輻射系統亦可能包括根據用以引導、整形或控制該輻 射投影光束原則操作之元件，以及諸如下文亦可稱爲集體 或各自稱爲"透鏡"之元件。此外，該第—與第二目標台分 别％馬光罩台”與"基板台 '此外，該微影裝置可爲一種且 有兩個以上光罩台及/或兩個以上基板台之種類。此種"多、 台”裝置中，該額外台可並使用，或者可於—或多個其他台 用於曝光時，在其中-或多個台上進行預備㈣。例如: 國際專利申請案W0 98/28665與W0 9議791中描述雙台微 影裝置。 又口 微影投影裝置可用於例如積體電路（ICs)製造中。此種情 況下，該光罩（標線）可包含一個相當於該1(：個別層之電路圖 型，此圖型可成像在一個已塗履一層光敏性材料（光阻）基板 (矽晶圓）之標的邵分（包括一或多個晶粒）上。通常，_ 一口 rp 早一曰日 圓包含相鄰標的部分之完整網絡，該相鄰部分經由該光罩 (請先閱讀背面之注意事:填寫本頁) 裝·. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4 - 504605 五、發明說明（ 依八接連照射。在一種微影投影裝置中，一次將整個光罩 圖f曝於標的部分以照射各個標的部分；此種裝置通常稱 a印圓步迦器。在_種替代裝置_常稱爲步進掃描裝置中 万、舁既疋參考方向（"掃描方向，，）平行或非平行同步掃描該 基板口寺在技景〉光束下以該參考方向逐漸掃描該光罩圖 型’以照射各個標的部彳；因爲通常該投影系統具有放大 口數（通^ <1 )，掃描該基板台之速度v則爲掃描該光罩台 速度的Μ倍。可以自國際專利申請案W〇97/33205蒐集更多 此處所述與微影裝置有關之資訊。 上述裝置中，必須確實固定（夾住）該光罩，如此可以準確 足位X、^與2方向，並以該X、y與Z旋轉定向（稱爲Rx、！^與 RZ方向）。Z方向定義爲沿著與投影系統光軸實質上平行之 車$方向x與y方向沿著與z抽實質上垂直之軸，並彼此平 行可以在忒光罩平面（xy平面）進行大規模加速度，特別是 步進掃描裝置中，該加速度可約爲5 g (其中g爲重力加速度 )。在z方向，可以一個1〇〇赫帶寬致動器定位該光罩，該致 動备Z方向需要較向強度。該光罩夾鉗設備必須充分堅固以 承受此種加速度，以及提供該光罩xy平面必要強度。 然而，先前光罩夾鉗設備，諸如在光罩台上之剛性眞空 夾鉗具有可能致使該光罩變形之問題。此問題可能是該光 罩與該眞空夹鉗其中之一或二者不完全令坦，或者介於該 光罩與該夾鉗間之污染粒子陷〜住所致。例如，該光罩可能 平坦至數微米内。該光罩變形導致投影影像扭曲，而介於 不同光罩間之扭曲變異導致重疊誤差。可藉由調整該裝置 -5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNtS)A4規格（21〇 X 297公釐） (請先闓讀背面之注意备 -裝--- :填寫本頁) *tr?J· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 504605 A7 B7 五、發明說明（ 内或夕個透鏡校正某些變形；然而，並非所有變形均可 以此種万式校正，而且不同光罩間之變形通常不會重現。 、本發明目的係提出一種用以固定光罩之經改良裝置，其 避兄或減輕上述問題。 、根據本發明，提出一種微影投影裝置，其用以將光罩中 I光罩圖型成像在具有輻射敏感層之基板上，該裝置包括： 一個供應輕射投影光束用之輻射系統； 一個固定光罩用之第一目標台； 一個固足基板用之第二目標台；以及 -個投影系統，其使該光罩經照射部分成像在該基板標 的部分上：其特徵係： 丁 琢光罩台包括至少一個用以固定該光罩之順應性構件， 如此該至少一個順應性構件與該光罩輪廓實質上一致。 使用至少一個順應性構件可以固定該光罩，但是不會強 迫彼松用特足形狀而造成不當變形。該構件係一種隔膜爲 佳，其具有Μ面強度，如此可以藉由該構件之撓性調節 該光罩之熱膨脹，但是不會使該光罩相對於該構件滑動。 .因爲滑動會發生不對稱，所以，其對於重叠精確性之傷害更 甚於熱膨服。 藉由適當選擇該構件之材料與厚度，可以決定其強度， 如此陷在該光罩與構件間之任何粒子會優先使該構件變形 而非使該光罩變形。與習用“夾鉗設備相較，此舉可^ 使/亏染粒子所致之光罩偏斜因數減少高達⑼〇。 較佳情況係，該至少一個構件包括一對平行片條，沿著 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事一 裝--- :填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（ 各片條長度支撑彼此。 該裝置包括一個位於該構件内之 該光罩與該構件彼此相對固定之p 作局使 該設備兼顧牢固與緊密。 —工間（坪見任何圖4)。 =包：數個支撑點，其用以界定該光罩與 I：—方向。各個構件界定該光罩之… ” Z位置，而且支撑點界定該光罩剩餘位置，不 曲成特定形狀。三個支撑 扭 < 徊十面，豆佴所兩士 ::數目而且不會過度壓迫該光罩位置。第四點亦可提： j女：：，但是該第四點最好係例如-種減震氣體，以 減少孩光罩振動。 、該裝置最好另外包括-個支撑該至少-個構件之台内直 全至，以使該構件變形。藉由使該構件向下彎至該直空室 將：個力偶導至支撑在該構件對面邊緣上之光罩上，其 έ補"ί員遠光罩之弛垂。 、、上：-種氣體減震器以支撑該至少—個構件爲佳；此種 減展斋可爲例如1 〇微米原菩έ 产 佩木/子寺級。这減震器中之氣體（諸如空 氣）支撑該構件，該構件係一種隔膜爲佳，同時容許平面振 動。其亦使該構件與固定於其上之光罩減少振動，同時仍 然提供2方.向之適當強度。該氣體減震器亦改善該受支撑光 罩…茨口間〈扁傳導係《。因爲此現象可使輻射入射在該 光罩上所產生之熱導離該光罩，所以相當重要。 該（或各個）構件係由選自金屬、氧化矽（Si〇、）、CaF2、 MgF^、BaF2、Al2〇3與Zer〇dur(商標）陶瓷之一或多種材料製 (210 x 297 公釐） (請先閱讀背面之注意事义 -·裝—— :填寫本頁) 訂、· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ 得爲佳。大部分此等材料可使該構件 製得。如此具线光罩能構件 Μ相同材料 熱膨脹之優點，因此進^ 目同機械性質，諸如 此進一步減少扭曲與潛動。 根據本發明另一方面，提出一 製诰一錄姑w 、、& 使用一種微影投影裝置

Ik種裝置，孩微影投影裝置包括： I 一個供應輻射投影光束用之輻射系統； 一個固定光罩用之第一目標台： 一個固定基板用之第二目標台；以及 一個投影系統，其传哕# ¥ 、 使g先罩經射邵分成像在該基板標 的部分上；該方法包括步驟： 、 於第一目標台上提供一個具有圖型之光罩； 万;罘一目標台上提供一個具有輻射敏感層之基板；以及 照射該光罩部分，並使該光罩經照射部分成像在該基板 標的部分， 其特徵係下述步驟： 於操作期間，借助至少一個順應性構件將該光罩固定在 咸光罩台上，如此該至少一個順應性構件與該光罩輪廓實 質上一致。 在使用本發明微影投影裝置之製造方法中，將一光罩中 I圖型成像在一個至少部分覆蓋一層能量敏感材料（光阻）之 基板上。於此成像步驟之前，該基板可進行各種製程，諸 如塗底層、塗覆光阻與輕度g烤。於曝光後，該基板可以 進行其他製程，諸如曝光後烘烤（PEB)、顯影、烤乾以及製 造/檢查成像特徵。此陣列製程係作爲一種裝置（諸如1C)個 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事j -I --- :填寫本頁) 訂-· · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^^ 504605 A7 五、發明說明（6 ) 別層之製圖基礎。然後，此種經製圖層進行各種處理，諸 如蚀刻、離子植入（掺雜）、金屬化、氧化、化學機械磨光等 ，所有處理目的均在完成_層個別層。若需要數層，則每 層新層均必須重複整個製程或其變化。最後，該基板（晶圓） 上存在一排裝置。然後，藉由諸如切或鑛等技術將此等裝 置彼此分離，如此該個別裝置可以安裝於一個載體上、連 接於插腳等。可由例如P咖van ―之^⑽叫

Fabrication ： A Practical Guide to Semiconductor Processing -一書後得其他有關此種處理之資料，該書爲第二版， McGraw Hill Publishing Co., 1997, ISBN 0-07-067250-4 〇 ，雖…：本文中使用本發明裝置在IC製造中獲得特定參考資 料’但是必須清楚地暸解此種裝置具有許多其他可能應用 。例如，其可用於製造積體光學系統、磁域記憶體之導制 =偵測圖型、液晶顯示面板、薄膜磁頭等。熟知本技藝者 將/月白，在此等其他應用環境中，文中所使用之"標線I、 曰口圓或’’晶粒”任何一辭被視爲可分別以，，光罩"、"基板”與 ’·標的部分"等更常用辭代替。 〃 本又件中’照㈣射與照射光束等辭用以包括所有種類 之電磁赛射或粒子流，其包括但不受限於紫外線輕射（例: 丄波長365、248、193、157或126毫微米）、咖、X射線、 電子與離子。 見在僅以A例方式，爹考附圖描述本發明具體實例，其 中： 圖丨描述一個根據本發明第一具體實例之微影投影裝置； 本紙張尺度適用家標準7^NS)A4規^·^ χ 297公爱: (請先閱讀背面之注意事 1 裝— :填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 -9 - A7 五、發明說明（7 ) 圖2與3係使用本發明構件將光罩支撑 、 70早口上的兩個 設備略圖； 圖4係本發明光罩、構件與光罩台部分之橫剖面； 圖5係本發明裝置零件之橫剖面，其顯示用於構件與 之支撑與眞空供應； 、 圖6顯示使用本發明減震支撑點之橫剖面；以及 圖7顯示本發明具體實例之橫剖面，該構件下方結合一個 氣體減震器。 ° 口 圖1概略描述一個本發明微影投影裝置。該裝置包括： •一個輻射系統LA、Ex、IN、c〇，其用以供應輻射投影光 束PB ; :罘一目標台（光罩台）Μτ，其用以固定光罩MA (例如一個 匕罩）並連接於第一定位工具，其使光罩相對於項目p L於 確定位； ^ " •第一目標台（基板台）WT，其用以固定基板w (例如一個 塗覆光时晶圓），並連接於第二定位玉具，其使該基板相 對於項目PL精確定位； 〜系、’·充（匕鏡）p L (例如一個折射或光線反射曲折系統 ，個叙組或場偏轉器陣列），其將該光罩MA之經照射部 分成像在基板W之標的部分c上（包括一或多個晶粒）。如此 處所述’琢裝置係一種透射型（即，具有透射光罩）。然而， 通¥其亦可爲例如反射型。〜 、津田射系、’’充包括來源La (例如Hg燈、激元雷射、位於儲 存％或同步加逯器中電子光束路徑附近之波紋印碼機或電 -1 〇 - 規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事i 裝--- :填寫本頁) 訂-· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 504605 A7 五、發明說明（ 子或離子光束源），其產生輕射光束。使此光束穿過包括在 該照射系統内的各種光學組件—例如光束整形光學以、整 合器IN與聚光器C0，如此所 /成1先束PB具有所需形狀， 以及橫剖面強度分佈。 光束PB連續地阻斷固定在光罩台Μτ上之光罩财。通過 光罩MA之後，光束PB通過透飢，其將光㈣^在基 板w之標的部分c。借助該干擾替代與測量工具ιρ，可以精 確地移動該基板台WT，例如以定位該光束pB路徑中之不同 標的邵分C。同樣地，例如自—七罢、之u々、 W如目先罩貧料館機械性取還後或 掃描期間，該第一定位工具 、 j用以札確疋位光罩MA相對於 PB之路徑。通常，可借助圖 口 i禾月確i田述 < 長衝程模組（路 線定位）與短衝程模组（細微定位）完成該目標台町、『之 移動。在晶圓步進器實例（與步進掃描裝置相對）實例中，該 光罩台可以僅連接於一個短衝程定位模组，或者其可固定。 所述裝置可用於兩種不同模式： 在步進模式中，光罩台奶基本上保持靜止，—次（即單一 閃光"）將整個光罩影像投影 、 界仅心土铋的邯分C。然後，以乂及/或 y方向平移該基板台WT，如此可w氺占dd v 匕了以光束Ρβ照射不同標的部 分C ; 2.在掃描模式中，除了既八 的4刀C未Β恭於單一"閃光"之 外’進行基本上相同之腳本。此 土 此外，先罩台MT可以既定參 考万向（所謂”掃描方向”，例如 叉 J如y万向）以速度v移動，如此投 以光束PB掃描過光罩影像； 、 u吁及先罩台以相同或相反 万向，以速度V=Mv同時移動，並由i、 m其中Μ係透鏡PL之放大倍數 297公釐） (請先閱讀背面之注意事.^ I --- :填寫本頁) 訂：· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 504605 A7 B7 五、發明說明（） (通常，Μ二1/4或1/5)。以此種方式，可以曝光較大標的部分 C，不會損及解析度。 圖2與〇圖不兩個裝置，其利用一對構件μ將光罩1〇支撑 在光罩口令件1 2上。圖2中，標線丨〇兩個對面邊緣係支撑在 自孩光罩台相對零件12邊緣垂懸之構件14部分；在透射光 罩實例中，如此處，在零件12間提供空間，使該投影光束 牙過及光罩台。或者，如圖3所示，該標線可以支撑在一對 平订構件14上’其末端各支撑在零件12上。圖2之布置通常 較佳，因爲該條狀構件14係沿著其長度以丫方向支撑在零件 12上，因此具有較高強度以降低該標線弛垂。 在^射光罩實例中，使用一種（幾乎）完全支撑該反射光罩之 隔膜爲佳。培有實例中，該構件均具順應性，如此其產生 標線10形狀，而且不會強迫採用特定形狀使之變形。 在範例具體實例中’才鼻件14可由與標線相同之材料製得 ，諸如例如氧切、caF2、MgF2、BaF2、A12_zerodur (商標）陶爱。然而，預期有其他可能性，諸如例如將該標噪 支撑在凝膠槽上，或使該構件（部分）沒有金屬。 在石英（一種氧化矽之結晶形式）構件實例中，該構件厚产 通常約250微米。各構件14之長度最好實質上等於標線10: 長度’例如⑽至200毫微米長。參考圖2，各構件丨4之長 垂懸超出零件12個別邊緣之距離通常總長爲25毫米。其中 ，自零件12個別邊緣至標線1〇邊緣之距離約爲例如^毫 ，標線10與構件14重疊寬度約爲例如15毫米。 毛 構件14王要係支撑水平感測χ、嫩？方向之標線。圖4係 本纸張尺度適用中國國家鮮（CNS)A4規格（210 X 297公爱了 (請先閱讀背面之注意i 裝—— :填寫本頁) ' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制农 -12 A7 五、 發明說明（ B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印 空空間16形成構件14中、〈較佳方法。此具體實例中，眞 ^ ^ ^ . 中心凹處。孩凹處可能包括構件14中::::;==;平面垂直)之矩形沉陷，突出部小枝r夫海-山〜 可具有間隔物，諸如一或多 “ ^來），避免眞空空間16崩潰。 帕猎：Η、其當然意指降低之氣壓，諸如例如5.5 x 10 :正=過高之外部壓力提供使標線1。與構件Μ彼此固 中/ 藉由介於標線10與構件14間之摩擦阻止的 、:件間之相對運動，正常力會增加摩擦。當然， 面之材料及/或粗糙度選擇介於_ 二預期到，藉由眞空空間16以外之工具可提供 生 ：構件U間之正常力，諸如例如介於—對夹片間之： 夾鉗作用、磁性夾鉗作用與靜電夾鉗作用。 圖4圖示-眞空室18，其係本發明之另外選擇性特徵。 由抽空置18,所形成之力施加於構件14， :14下彎至室18内。此舉將-對應之向上力導至支= 泉10之構件14對面邊緣上，因此減少標線他垂。 j =使用任㈣用工具固定構件14與零件12。，例如螺旋 或黏合势j。 力=/撑室18之外，可使用其他設備形成經由構件14施 加A ^線10之扭轉力，以補償標線之弛番。 、、 土 1歹如，預加 孩構件，如此自由邊緣稍微立起。然後， 、 '知緣置於該 13 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 列 定 面 可 與 線 械 藉 構 壓 構 {請先閱讀背面之注意填寫本頁) -丨裝------Ί I訂： n n , n H · 504605 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（11 ) 件上，該構件略彎，該標線受到扭轉力。 上述構件14與標線1〇之裝備足以決定標線之&、y與。位 旦用以界定“線10 2方向位置之裝備示於圖5。支架20位 A (光罩口之）令件12上，並且包括一個小柱，其可與零件12 整體形成。此實例中，構件14下面與垂直支架2〇接觸，而 且標線ίο與構件14上形成之間隔物22接觸。以此種方式， 標線10下面之垂直位置係以此點界定。支架2〇可爲管形， 使w工供應導官24與具2 2間16相通。此係抽空眞空空間 16足便利方式，亦提供使構件14與標線ι〇夾於支架⑼之眞 空力20。如此製造間隔物22，因此眞空導管以可以將整個 眞空空間16抽空。在另一具體實例中，支架2〇可以通過一 個位於構件14中之孔，並直接接觸標線1〇。 爲了界定標線1 0之平面，必須提出至少三個支架，如此 以土少二點界定標線丨〇之z方向。標線1 〇之重量幾乎完全 (例如約90%)被構件14承受。然而，在構件14非預加壓之實 .例或是介於構件14與零件12間之空間未經加壓之實例中， 居支木會承受大邵分光罩重量。該標線支架2〇之功能通常 係決定Z、RX與Ry定位。介於支架20間之標線1〇與構件14在 重力下〶然不會弛垂’然而因爲該弛垂作用純粹由在該標 線上作用之重力決定，所以其不會重現，而且會產生扭曲 形狀’其實質上可由例如適當透鏡元件調整校正。 於三個支撑點界定該標線ζέ位可以獲得最大扭轉自由度 ，而且不會使該標線失眞。參考圖2，在一個較佳具體實例 中’在構件14之一下方提供兩個支撑點，位於各個末端者 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 χ 297公釐） ---------------- (請先閱讀背面之注意填寫本頁) 訂· 504605 A7 —---— _B7 ___ 五、發明說明（12 ) 係位於或接近標線丨〇頂點。在另一構件丨4下方提供第三支 撑點’其接近構件14中間或一端，接近標線10第三頂點。 根據另一具體實例，提供第四支撑點使該標線更具安定 性與強度，此實例中，可以在標線1〇各個頂點提供一個去 撑點。四個固定支撑點會過度決定該標線，迫使其採用特 足y狀 口此，利用以Z方向自由移動但是以一個力偏移之 第四支架提供該第四支撑點爲佳，如此其支撑四個支撑點 所承雙總重量約田分之一，即標線1〇之重量實質上相等承 載於四個支撑點之間。第四支撑點之實例示於圖6，而且包 括一個插腳26與氣體空間28。該氣體提供垂直力，亦減緩 該運動，其對於減少該構件與標線之振動極爲重要。最後 ，亦可以一種液體或凝膠代替該氣體。當然，可使用其他 裝備，諸如例如彈簧與減震器。 本發明之另外較佳特徵示於·圖7。在構件14與零件12間提 供一個小空間30。氣體供應32連接於空間3〇，其作爲一種 氣體減震器。此舉補償標線之弛垂，並改善標線1〇與零件 12間之熱傳導作用。形成該減震器之空間3〇厚度約爲1〇微 米，因此在構件14下，該氣體無法非常迅速移動；因此， 構件14之垂直移動減少，該氣體減震器之2方向具有實質強 度。可以與眞空導管24同軸提出氣體供應管線32，沿著氣 體減震器3〇之邊界爲佳。在構件14下方提供導管34，使來 自*亥減晨斋之氣體流出。孩氣體亦可在標線1 〇下方流出。 上述（各個）構件當然不必爲片條形式。在其他預期具體實 例中，提出四個環狀構件，其各環繞一個支架插腳或柱。 -15- 本紙張尺度適用中關家標準（CNS)A4規格（21G X 297公爱)-- (請先閱讀背面之注意事填寫本頁) 丨裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 13 五、發明說明（ --------------裝--- (請先閱讀背面之注意填寫本頁) 藉由四個支架以垂直方向定位該標線，支架之一係如圖6所 示之一種氣體插棒。藉由眞空夾於環繞各個支架之環形構 件，以xy方向固定該標線。 上述所有光罩夾钳裝置均適於以此種方式固光罩，避免 該光罩上受到足以使其實質上變形之力。然而，通常光罩 可能實質已變形，因此其形狀可能實質上偏離平面；此種 偏離實例係楔形狀、拋物線、鞍形與螺旋狀變形等。此種 光罩水平之變形通常形成不良之晶圓水平聚焦平面偏離。 在步進掃描裝置中，掃描期間該光罩位置通常可調整（三度 自由度：X、Rx、Ry)，以最小化或完全去除聚焦平面偏離 。最後，選擇性並個別地移動一或多個致動器一安裝彼以 使孩光罩台移動，因此該光罩可以X、以或”方向移動。爲 了建JL所需之足位校正，可決該光罩圖型之，，高度標記”。 可以使用諸如”F〇CAL”技術測定該高度標記平面形位置 ，或者例如使用一種透射影像感測器（丁IS)直接測量該天線 影像。下文將描述這兩種方法。 FOCAL係使用校準聚焦校正之首字縮寫（£^cus

Cahbrancm by usmg仏肿邮叫。其係使用微影裝置校準系 經濟部智慧財產局員工消費合作社印划衣 統’完全測定有關聚焦平面之最佳聚焦測量技術。經由聚 焦將-個特別且不對稱分段校準標號成像在—塗覆光阻晶 圓上。可以藉由該校準系統測量此經成像標號（潛像或經顯 影）。因為孩不對稱片萬之故：由該校準系統測量之定位會 視曝光期間所使用之散焦而定，因此可以決定最佳聚隹: 置。楮由將此等標號分佈在整個影像範圍，以及该片萬使 -16 504605 五 ___I_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π A7 B7 發明說明（14 ) 用不同定向’可以測量數個結構定向用之完全聚焦平面。 此種技術更詳細描述於US 5,674,650 (P-0052)，其•，以提及的 方式併入本文中。 可使用一或多個透射影像感測器（TIS)測定該在投影透鏡 下自該光罩投影影像之橫向位置與最佳聚焦位置（即垂直與 水平位置）。將一個透射影像感測器（TIS)插入一個與基板台 (WT)結合之物理參考表面。在一特定具體實例中，將兩個 感測器安裝在一個裝在基板台（WT)上表面之基準板上，位 於被晶圓W覆蓋區之對角位置外。該基準福由具有低熱膨 脹係數之鬲安定材料（例如Invar)所製，而且具有平坦反小 表面’其可載有使用其他校準方法基準之標號器。該TIS用 以直接測定該投影透鏡天線影像之垂直（與水平）位置。其包 括在個別表面之裝置，其後方鄰近處放置一個用於曝光處 理之對輻射敏感光偵測器。爲了偵測該聚焦平面位置，該 投影透鏡將光罩MA上所提供之圖型影像投影至—個空間， 而且具有明暗區。然後水平（以一個或兩個（較佳）方向）與垂 直知描遠基板台’如此該τιs之孔通過預期成像該孔影像之 空間。當該TIS孔通過該TIS圖型之影像明暗區時，該光偵 測器之輸出會變動（Moire效應）。該光偵測器輸出改變率幅 度最大之垂直水準表示該TIS圖型具有最大對比水準，因此 表示取佳化聚焦平面。改變率最高之水平水準表示今天綠 影像之橫向位置。此種TIS實例更詳細描述於us 4 540 277 ° TIS之優點包括健全度與速度，因爲其係一種不涉及光阻 曝光之直接測量技術。 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------------- (請先閱讀背面之注意填寫本頁) 五 N發明說明（ 15 A7 B7 可以單獨或合併使用本發明具體實例之上述與範例特徵 。附圖僅爲略圖而非特定比例圖，各圖中之元件相對大小 不一定彼此等比例，例如爲求清楚起見，放大橫剖面圖之 垂直比例。 雖然前文已描述本發明特定具體實例，但是可以所述以 外方式進行本發明。該說明並非用以隊制本發明° --------------裝· {請先閱讀背面之注意填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 申請專利範圍 2. 4. 6. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^^ 8· 9. 一種微影投影裝置，其係用於將一光罩中之光罩圖型成 像在一具有輕射敏感層之基板上，該裝置包括： 一個供應輕射投影光束用之輻射系統； 一個固定光罩用之第一目標台； 一個固定基板用之第二目標台；以及 一個投影系統，其使該光罩經照射部分成像在該基板 標的部分上；其特徵係： 1先罩台包括至少—個用以固㈣光罩之順應性構件 ，俾使孩至少-個順應性構件與該光罩輪摩實質上一致。 =據申請專利範圍第巧之裝置，其中該至少—個構件包 括一對平行片條。 :據申請專利範園第2項之裝置，其中沿著各片條長度支 4旱0 «申請專利範圍第2或3項之裝置，其中以棒過各片條 見度之各端實質上支撑。 /、 根據申请專利範圍第1、2或3項乏共士罢 、 '男' 之衣置，其另外包栝一個 使居光罩固足在該構件之眞空空間。 根據申請專利範圍第5項之裝置，t 士、、匕 ^ 、、 衣匕 具中孩具空空間包括一 個該構件内之凹處。 根據申請專利範圍第1項之裝置 光罩與其平面垂直位置之支架（ 根據申請專利範圍第7項之裝置 或支即。 〜 根據申請專利範圍第7項之裝置 其另外包括一對界定該 其中各支架包栝一個柱 其中該至少—個支架包 (請先閱讀背面之注意事3填寫本頁) i I —.----^丨訂---------. -19- 504605 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、 申請專利範圍 括一個與該眞空空間相通之導管，以抽空該眞空空間。 10·根據申請專利範圍第7、8或9項之裝置，其包栝三個支架 ，其中該支架安裝在該光罩其中一側中間附近以及其頂 點附近，在反面支撑該光罩。 11·根據申請專利範圍第7、8或9項之裝置，其包栝三個支架 ，其中將各個支架安裝在個別頂點附近以支撑該光罩。 12.根據申請專利範圍第7、8或9項之裝置，其包栝四個支架 ，其中將各個支架安裝在個別頂點附近以支撑該光罩3 I3·根據申請專利範圍第12項之裝置，其中固定該支架其中 二個’使第四個支架與該光罩平面呈垂直移動，並安裝 以提供所需之支撑力。 14.根據申請專利範圍第13項之裝置，其中該第四支架包括 一個彈簧或氣體轴承。 15 ·根據申请專利範圍第13項之裝置，其中該第四支架係減 震。 16. 根據申請專利範圍第1、2或3項之裝置，其中安裝該至少 一個構件，使該光罩受到一個扭轉力，補償該光罩之動 力弛垂。 17. 根據申請專利範圍第丨項之裝置，其中該至少一個順應性 構件包括一個隔膜。 18. 根據申請專利範圍第17項之裝置，支撑該至少一個構件 疋台中包括一個眞空室使該構件變形。 19. 根據申請專利範圍第1?或B項之裝置，其中該構件係經 預加壓。 Ί (請先閱讀背面之注意事^填寫本頁) I 丨裝---.----r 訂 J--------_ 20

   申請專利 其中該至少一個 、MgF2、BaF2、 其另外包括一個 其另外包括一個 範圍 2〇.根據申請專利範圍第17或18項之裝置 構件係由選自：金屬、氧化矽、caF Al2〇3與 zer〇dur陶資；。 21.根據申請專利範圍第1、2或3項之裝置 用以支撑該至少一個構件之氣體輛承^。 2 ·根據申請專利範圍第1、2或3項之裝晉 用以支撑該至少一個構件之減震器。 23·根據申請專利範圍第22項之裝置，其中該氣體減震器之 厚度在5至20微米範圍内。 24·—種使用微影投影裝置製造一種裝置之方法，該裝置包 括： 個供應輪射投影光束用之輻射系統： —個固定光罩用之第一目標台； 一個固定基板用之第二目標台；以及 一個投影系統，其使該光罩經照射部分成像在該基板 標的部分上；該方法包括步驟： 於第一目標台上提供一個具有圖型之光罩： 於第二目標台上提供一個具有輻射敏感層之基板；以 及 照射該光罩部分，並使該光罩經照射部分成像在該基 板標的部分， 其特徵係下述步驟： 於操作期間，藉至少一猶順應性構件將該光罩固定在 該光罩台上，俾使該至少一個順應性構件與該光罩輪廓 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事填寫本頁) I ---·----^—訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 504605 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 實質上一致。 25. —種裝置，其係根據申請專利範圍第24項之方法製造。 (請先閱讀背面之注意事填寫本頁) 26. —種光罩台，其包括至少一個順應性構件以接觸並固定 光罩。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）