TW500817B - ITO sputtering target - Google Patents

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TW500817B
TW500817B TW089110839A TW89110839A TW500817B TW 500817 B TW500817 B TW 500817B TW 089110839 A TW089110839 A TW 089110839A TW 89110839 A TW89110839 A TW 89110839A TW 500817 B TW500817 B TW 500817B
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indium
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Kentaro Uchiumi
Satoshi Kurosawa
Yasushi Tsubakihara
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Tosoh Corp
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Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 500817 A7 B7 五、發明説明(1 ) 〔發明所屬技術領域〕 本發明有關透明導電性薄膜製造時所使用的I T〇濺射 祀(IT 0 s p u 11 e r i n g t a r g e t)者。 〔以往之技術〕 銦錫氧化物(Indium Tin 〇xide,IT〇)薄膜具有如高導電 性’筒穿透率的特徵,再者,由於亦可容易進行微細加工之 故’在如扁平面板顯示器用顯示電極,太陽電極用素材,防 帶靜電膜等之廣泛範圍使用。尤其以液晶顯示裝置爲首的扁 平面板顯示器的領域中,近年來對大型化及高精細化在進展 ’對屬於其顯示電極的I T〇薄膜的需求亦日益高漲。 如此的I T 0薄膜可大分爲噴灑熱分解法,C V D (化 學氣相沉積)法等之化學成膜法,及電子束蒸鍍法,濺射法 等之物理成膜法。其中,濺射法係由於容易大面積化且可得 高性能膜的成膜法之故,在種種領域中被採用。 如依照濺射法製造I T 0薄膜之情形,所用的濺射靶有 由金屬麵及金屬錫而成的合金祀(I T?G)、或由氧化姻及 氧化錫而成的複合氧化物靶(I T〇靶)。此中,使用I T 〇靶的方法,如與使用I T靶的方法比較,由於所得的膜之 電阻値及穿透率之經時變化較小且成膜條件之控制容易之故 ,已成爲I T 0薄膜製造方法之主流。 將I T 0靶在氬氣與氧氣的混合氣體氣氛中連續進行濺 射的情形,隨著累積濺射時間之增加,在靶表面將析出稱爲 小結C nodule )的黑色附著物)。被認是銦之低級氧化物的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^ ---^---^---裝-----:—訂------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 500817 A7 B7 五、發明説明(2 ) 此種黑色附著物,由於將析出在靶之侵蝕(erosion)部之周 圍之故,容易成爲濺射時之異常放電之原因’並被公認爲其 本身係成爲異物(微粒)之發生源。 其結果,如連續進行濺射,則在所形成的薄膜中發生異 物缺陷而成爲液晶顯示裝置等之扁平面板顯示器之製造產率 低落之原因。尤其近年,在扁平面板顯示器之領域正在進展 高精細化當中,如此的薄膜中之異物缺陷所引起之動作不良 ,經成爲特別需要解決的重要課題。 爲解決如此問題’例如日本專利特開平〇 8 -060352號中報告,藉由作成靶之密度爲6 . 4 g / c m 2以上並控制靶之表面粗細度即可降低小結之發生 〇 然而,近年,隨著液晶顯示元件之高精細化,高性能化 而以所形成的薄膜之性能改善爲目的,逐漸開始採用以較低 施加電力進行放電的成膜方法。惟’由於採用較低施加電力 下的成膜,即使採用如上述之手法的靶的情形仍會發生小結 ,而成爲問題。此乃被認爲,由於降低施加電力’而一度發 生的小結之核不會被強的施加電力所消滅以致增加成爲窪陷 露出之核的或然率之故。 〔發明擬解決的課題〕 本發明之課題在於提供一種I T 0濺射靶,係即使採用 以容易發生小結的低施加電力進行成膜的方法的情形,仍可 降低在靶表面發生的小結量的I τ〇濺射靶。 ----,·---Γ.·--衣 、訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨〇X 297公釐) -5- 500817 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(3 ) 〔爲解決課題的方法〕 本發明人等,爲降低I το濺射靶之小結發生量起見, 就小結之形成原因,進行詳細的硏究。其結果發現,一部分 之小結係在I T〇燒結體與背板(backing plate )之粘接所 用的屬於焊接劑的金屬銦將在濺射中附著在靶表面之侵蝕部 ’而以所附著的金屬銦作爲核以致靶窪陷露出而成爲小結的 事實。金屬銦成爲使發生未被挖掘的核的原因至今尙未明瞭 ’惟可能是,經附著在靶表面的金屬銦將與濺射氣體內所含 之氧氣起反應而形成氧化銦,而由於此氧化銦較I T〇其電 阻率甚高之故,將未被挖掘而殘存。 於是,本發明人等,就作爲I T 0燒結體與背板之粘接 劑使用的焊料以及I T 0濺射靶之構造加以詳細的硏究。其 結果發現作爲本申請案之第1發明的焊料,由於採用銦一錫 合金,或在本申請案之第2發明的背板上使用銦焊料將I τ 〇燒結體與背板予以轱接後,由於將經露岀焊料材的部分之 一部分或全部使用由銦及錫而成的合金覆蓋,即可降低焊料 材引起的小結發生,而完成本發明。 亦即,本發明有關I T〇濺射靶,在第1發明中,係將 實質上由銦、錫以及氧氣而成的I T〇燒結體,使用銦—錫 焊料粘接至金屬製背板而成的I T〇濺射靶,以及在第2發 明中,係將實質上由銦、錫以及氧氣而成的I T 0燒結體, 使用金屬粘接劑粘接至背板而成的I T〇濺射靶,而其特徵 爲:將經露出金屬粘接劑的部分之一部分或全部,使用由_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ^ ^ ~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .三==*=0i ·裝· 訂-- 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 500817 A7 __ —_B7 五、發明説明(4 ) 及錫而成的合金予以被覆。 以下,詳細說明本發明。 本發明所使用的I T〇燒結體之製造方法,不特別予以 限定’惟例如可依照如下的方法製造之。 首先,氧化銦粉末與氧化錫粉末的混合粉末或I τ〇粉 末等中添加粘接劑等,依照壓塑加工或徺鑄法之成型方法予 以成型以製造I T〇成型體。此時,如所使用的粉末的平均 粒徑較大,則有燒結後之密度不會充分升高的情形,'故將使 用之粉末之平均粒徑較佳爲1 . 5 /zm以下,更佳爲〇 . 1 至1 _ 5 // m。如此,則能製得燒結密度更高的燒結體。 又’混合粉末或I T 0粉末中之氧化錫含有量,在依照 濺射法製造薄膜時,較佳爲作成比電阻會降低的5至 1 5重量%。 其次,對所得成型體,視需要,進行c I P等之壓緊化 處理。此時,爲能獲得充分的壓緊效果,C I P (冷間等靜 壓壓力機)壓力需要2 t ο n / c m 2以上,較佳爲2至3 t ο n / c m 2。在此,如在起初時之成型採用澆鑄法之情 形,可以除去殘存在C I P後之成型體中的水分以及粘接劑 等之有機物爲目的施予脫粘接劑處理。又,起初時之成型採 用壓塑加工法之情形,如在成型時使用粘接劑時,亦較佳爲 施予同樣之脫粘接劑處理。 將如此製得的成型體投入燒結爐內以進行燒結。燒結方 法而言,可採用任何方法,惟如考慮生產設備之成本等時, 較佳爲大氣中燒結。但,當然亦可採用其他的加熱預混器( 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) :7二 ' I丨丨J·Μ丨~------β——--丨dw-I,—I·- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印災 500817 A7 B7 五、發明説明(5 ) Η P )法’熱間等靜壓壓力機(η I P )以及氧氣加壓燒結 法等向來周知燒結法。 又’燒結條件而言,亦可適宜選擇,惟爲能得到充分的 密度提升效果起見,又爲抑制氧化錫之蒸發起見,燒結溫度 較佳爲1 4 5 0至1 6 5 0 °C。又,燒結時之氣氛較佳爲大 氣或純氧氣氣氛。又,爲能得充分的密度提升效果,燒結時 間需要5小時以上,較佳爲5至3 0小時。 據此,可製得燒結密度高的I T〇燒結體。 本發明中,不特別限定所使用的I T 0燒結體之密度, 惟爲抑制燒結體之氣孔(pore)之邊緣(edge)部的因電場 集中引起的異常放電或小結之發生起見,相對密度較佳爲作 成99%以上,更佳爲99·5%以上。 在此,本發明所稱相對密度(D >,係表示從 I η 2〇3及S η〇2之真密度之算術平均求得的理論密度( d )所對的相對値。從算術平均求得的理論密度(d )係, 在燒結體組成中,將I η 2 0 3及S η 0 2粉末之混合量(g )分別設爲a ,b時,使用I η 2〇3及S η〇2之真密度7 • 18、6.98(g/cm3),而由: d = (a + b)/((a/7.18) + (b/6.95)) 求得。並且,如將燒結體之測定密度設爲d 1,則其相對密 度D ( % )係由式: D=(di/d)xl〇〇 求得。 接著,將依照上述方法所製造的I T〇燒結體施予磨削 本紙張尺度適用中國國家標準( CNS )八4^洛(2i〇X297公釐) -- __11 ml —m (ml —HI— etui mu mil fm tmmmmmmt em immmmMmmmm-·J man —an ml mV 111 n-tv (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 500817 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(6 ) 加工爲所希望之大小。I T〇燒結體,由於愈是高密度,愈 是高密度,在磨削加工中於燒結體內部容易產生龜裂之故, 加工較佳爲依照濕式加工進行。 又,同時將I T 0燒結體之濺射面進行機械方式之硏磨 ,·在第1發明,需要將濺射面之表面粗細度加工爲平均線中 心粗細度(R a ) 〇 · 8 /i m以下,且高大高度( Rmax)爲了 . 〇/im以下,較佳爲Ra爲〇 · 1/zm以 下,且Rma X爲2 . 0#m以下。在第2發明,需要加工 爲將濺射面之平均線中心粗細度(R a ) 〇 · 8 // m以下, 且最大高度(Ry)爲6 · 5μιη以下,較佳爲 Ra爲0 · l//m以下,且Ry爲2/zm以下。 另外,本發明中所稱R a及R y之定義以及測定方法, 係如J I S B〇6 0 1 — 1 9 9 4所記載者, R m a X之定義以及測定方法,係如J I S B〇6 0 1 -1 9 8 2所記載者。由於如此做,即能有效抑制在靶表面之 凹凸部發生的異常放電或因異常放電引起的小結之形成。 將如此所得的I T〇燒結體粘接在背板上。本發明所使 用的背板不予特別限定,惟可例舉無氧銅及磷青銅等。 粘接時,在申請案之第1發明中,可按照下列所示的過 程進行之。首先,將I T 0燒結體及背板加熱至使用的焊料 材之熔點以上。接著,在經加熱的I T〇燒結體及背板之粘 接面上塗層銦-錫焊料。焊料之塗層方法而言,可依使用超 音波烙鐵(soldenng iron)的塗層,或直熔融焊料並予以塗 層,塗層厚而言,較佳爲〇·1至0·6mm。 ►裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Η--0,, 注意事項再填{ί iIT--- 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 500817 A7 B7 五、發明説明(7 ) 由於焊料材料採用銦-錫合金,即使在濺射中焊料材不 慎附著在靶之侵蝕部而氧化仍會成爲I T 0之故,將與周圍 之燒結體之電阻率略同値,並不會發生窪陷亦不會產生小結 。另一方面,如採用以往方式的銦的情形,由於在附著在侵 蝕部後會氧化而成爲較I τ〇燒結體爲高電阻率之故,容易 成爲小結生成之核。 因此,使用銦-錫合金爲焊料材的情形中,爲降低成爲 氧化物時之電阻率起見,較佳爲以重量比計,將焊料材中之 錫濃度(錫/ (銦+錫)χ 1 0 0)作成3至1 5%。 接著,將經塗層焊料材之I T 0燒結體與背板之粘接面 互相頂接並予以粘接,且冷卻至室溫,即可製得本發明之I T〇靶。 又,本申請案之第2發明中,金屬粘接劑而言,較佳爲 使用銦焊料等。銦焊料爲柔軟,而在濺射中,當I T 0燒結 體部分被加熱而膨脹時,有顯著的防止燒結體之裂開的效果 之故。 在此情形之粘接方法,例如,可按如下之過程進行之。 首先,將I T 0燒結體及背板加熱至所使用的金屬粘接劑之 溶點以上。接著,在經加熱的I T 0燒結體及背板之粘接面 上塗層粘接劑。接著,將經塗層粘接劑之 I T 0燒結體與背板之粘接面互相頂接並配置在背板上之所 希望之位置後,進行靶-背板粘接體之冷卻。 本發明之特徵係在於,將進行粘接時所露出(溢出)的 粘接劑部分之一部或全部,使用由銦及錫而成的合金予以被 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 71 一 ---1---^---ΦΕ------1T------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 500817 A7 B7 五、發明説明(8 ) 覆者,惟可由於在靶-背板粘接體之冷卻時進行此種被覆工 作而省略爲被覆工作的粘接體之再加熱的作業之故,較理想 〇 具體而言,當粘接體之溫度爲較銦-錫合金之熔點爲高 1至5 °C高的溫度時,將銦-錫合金加熱爲較其熔點爲高1 至5 °C高的溫度,並在粘接劑露出部分塗層以進行被覆。此 時,如塗層需要量以上的銦-錫合金時,則合金將從靶構件 大量溢出,該經溢出的部分將在濺射中被電漿擊出(knock-on) , 而如被擊出的粒子到達基板時即成 爲小結 ,以 致有可 能降低製品之產率之故,較佳爲作成爲1 m m以下。其後,冷卻至室溫,即可製得本發明之I T〇靶 〇 銦-錫合金而言,在形成氧化物時按不致發生窪陷之方 式可得與I T 0燒結體同樣低的電阻率的組成者較爲合適, 以Sn/ ( I n + Sn) g十’爲2至1 5重量%,較佳爲4 至1 2重量%者。 本發明之I T 0濺射靶,不需要限定濺射法而可使用之 。將配置在靶下部的磁鐵,可爲固定型者,亦可爲搖頭型者 ,亦可與磁鐵之強度無關使用之。 濺射氣體而言,在氬氣等惰性氣體中,視必要,加添氧 氣等,通常控制此等氣體壓爲2至1 〇Τ 〇 r r之下,進行 放電。爲放電的電力施加方式而言,能使用D C (直流電) 、R F (高頻)或將此等組合者,惟考慮放電之安定性,較 佳爲D C或在D C重疊R F者。施加至靶上的電力密度而言 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) I--^---:---------1T----^----1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 500817 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(9 ) ’並無特別限制,惟本發明之靶係在近年之低電力放電(2 • 〇 w/ c m 2以下)之條件下,特別有效。 又’本發明之濺射靶係在對I T〇賦予附加功能爲目的 而經添加第3之元素的靶亦屬有效。第3元素而言,可例舉 M. g,Al ’Si,Ti,Zn,Ga,Ge,Y,Zr, N b ’ H f ’ T a等。此等元素之添加量係並無特別限制, 惟爲防止I T 0之優良的電氣化學的特性之劣化起見,以( 第3元素之氧化物總和)/( I T〇+第3元素之氧化物總 和)/ 1 0 0計,較佳爲作成0 %以上2 0 %以下(重量比 )〇 〔實施例〕 以下,據實施例更詳細說明本發明,惟本發明不限定於 此等。 實施例1 將平均粒徑1 · 3 之氧化銦粉末9 0 0 g及平均粒 徑0 · 7 μηι之氧化錫粉末1 0 〇 g置入聚乙烯製之罐(p 〇 t )內,使用乾式球磨(ball mill )混合7 2小時以製造 混合粉末。測定前述混合粉末之出渣(Up )密度之結果爲 2 · 0 g / c m 3 〇 將此混合粉末置入模具內,以3 0 0 k g / c m 2之壓 力予以壓繋(press )作成爲成型體。將此成型體以3 t ο ii / c m 2之壓力進行依C I P的精緻化處理。接著, ---^---^---^裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2i〇X297公釐) -12- 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 500817 A7 _B7 ___;__ 五、發明説明(1〇 ) 將此成型體設置在純氧氣氣氛燒結爐內,並按以下之條件予 以燒結。 (燒結條件) ..燒結溫度:1 5 0 0 °C、升溫速度:2 5 °c / H r,燒 結時間:1 0小時、導入繞結爐之氣體:氧氣、導入氣體線 速度:2 · 6cm/分鐘。 依阿基米德(Archimedes)法測定所得的燒結體之密度 的結果,爲7 · 1 1 g / c m 3 (相對密度:9 9 · 4 % ) 〇 依濕式加工法將此燒結體加工爲4吋X 7吋’厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射面之表面粗細度機械加工爲 Ra:〇.7//m、Rmax5.5//ni0 接著,將含有1 0重量%錫的銦-錫焊料’塗層在 I T 0燒結體及無氧銅製之背板各粘接面之後,進行粘接並 作成I T 0靶。 按下列濺射條件進行此靶的濺射。 DC 電力·· 1 · 3w/cm2 濺射氣體:A r +〇2 氣體壓力:5mT〇rr 〇 2 / A r : 〇 · 1 % 依上述條件連續實施濺射試驗6 0小時。對放電後之靶 之外觀照片,使用電腦施予影像處理並檢查小結發生量。其 結果/在靶表面之1 4 %之部分發生有小結。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^ I--一---Γ——------IT----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 500817 A7 ___ B7 五、發明説明(彳彳) 實施例2 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 依與實施例1同樣條件製造I T 0燒結體。依阿基米德 法測定所得的燒結體之密度的結果,爲7 · 1 1 g / c m 3 ο 依濕式加工法將此燒結體加工爲4吋x 7吋,厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射面之表面粗細度機械加工爲 Ra :〇. l//m、Rmax: 1 ·0/ζγπ〇 接著,將含有5重量%鍚的銦-錫焊料,塗層在 I Τ 0燒結體及無氧銅製之背板之各粘接面之後,進行粘接 並作成I Τ〇靶。 依與實施例1同樣之濺射條件進行此靶之濺射。連續實 施濺射試驗6 0小時後,與實施例1同樣進行靶之外觀照片 的影像處理之結果,在靶表面之6 %部分發生有小結。 實施例3 依與實施例1同樣條件製造I Τ 0燒結體。依阿基米德 經濟部智慧財產局R工消費合作社印製 法測定所ί辱的燒結體之治度的結果,爲7 · 1 1 g / c m 2。 依濕式加工法將此燒結體加工爲4吋X 7吋,厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射面之表面粗細度機械加工爲 Ra :〇 · 1/im、Rmax: 1 ·〇/ζιη〇 接著,將含有1 2重量%錫的銦-錫焊料’塗層在 I Τ 0燒結體及無氧銅製之背板之各粘接面之後,進行粘接 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 500817 A7 ____B7__ 五、發明説明(12 ) 並作成I T〇靶。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 依與實施例1同樣之濺射條件進行此靶之濺射。連續實 施濺射試驗6 0小時後,與實施例1同樣進行靶之外觀照片 的影像處理之結果,在靶表面之6 %部分發生有小結。 上匕_交f |丨1 依與實施例1同樣條件製造I T 0燒結體。依阿基米德 法測定所得的燒結體之密度的結果,爲7 . 1 1 g / c m 2 〇 依濕式加工法將此燒結體加工爲4吋X 7吋,厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射面之表面粗細度機械加工爲 Ra :〇. l//m、Rmax: 1 接著,將銦焊料塗層在I τ 0燒結體及無氧銅製之背板 之各粘接面之後,進行粘接並作成I Τ 0靶。 依與實施例1同樣之濺射條件進行此靶之濺射。連續實 施濺射試驗6 0小時後,與實施例1同樣進行靶之外觀照片 的影像處理之結果,在靶表面之3 8 %部分發生有小結。 經濟部智慧財產局S工消费合作钍印製 實施例4 將平均粒徑1 . 3 # m之氧化銦粉末9 0 0 g及平均粒 徑0 . 7 μιη之氧化錫粉末1 0 0 g置入聚乙烯製之罐內, 使用乾式球磨混合7 2小時以製造混合粉末。測定前述混合 粉末之出渣密度之結果爲2 · 0 g / c m 3。 將此混合粉末置入模具內,以3 0 0 k g / c m 2之壓 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(21〇X29>7公釐) 500817 A7 B7 五、發明説明(13 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 力予以壓緊作成爲成型體。將此成型體以3 t 〇 n/cm2 之壓力進行依C I P的精緻化處理。接著,將此成型體設置 在純氧氣氣氛繞結爐內,並按以下之條件予以燒結。 (.燒結條件) 燒結溫度:1 5 0 0 °C、升溫速度:2 5 t: / H r、燒 結時間:1 0小時、導入燒結爐之氣體:氧氣、導入氣體線 速度:2 . 6cm/分鐘。 根據J I S R 1 6 3 4 - 1 9 9 8並依阿基米德法測 定所得的燒結體之密度的結果,爲7 . 1 1 g / c m 3。 (相對密度:9 9 · 4 % )。
依濕式加工法將此燒結體加工爲1 0 Γ · 6 m m X 1 7 7 · 8 m m、厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射 面之表面粗細度機械加工爲Ra:0·7#m、 Ry=5· 2 // m 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,將此燒結體及背板加熱至1 5 6 t之後,在各粘 接面塗層銦焊料。接著,將燒結體配置在背板上所希望的位 置後,冷卻至1 4 9 °C。接著,就經露出粘接面之側面之銦 焊料材所露出的部分之全周全部,塗層含有1 〇重量%錫並 經加熱至1 4 9 °C的銦一錫合金(熔點:約1 4 5 °C )之後 ,冷卻至室溫以製得I T〇靶。 按下列濺射條件進行此靶的濺射。 DC 電力:300W 濺射氣體:A r + 0 2 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 500817 A7 一 —_B7 五、發明説明(14 ) 氣體壓力:5 m Τ ο I* r Ο 2 / A r : 0 . 1 % 依上述條件連續實施濺射試驗6 0小時。放電後之靶之 外觀照片,使用電腦施予影像處理,並檢查小結發生量。其 結果,在靶表面之僅1 2 %之部分發生有小結。 實施例5 依與實施例4同樣方法製得I T〇燒結體。測定所得的 燒結體之密度之結果,爲7 · 1 1 g / c m 3。(相對密度 ·· 9 9 . 4 % ) 〇。 依濕式加工法將此燒結體加工爲1 0 1 . 6 m m X 177 . 8mm、厚度6mm之燒結體,再將燒結體之濺射 面之表面粗細度機械加工爲Ra : 〇 . 06/im、Ry = 〇 • 8 μ m 〇 接著,將此燒結體及背板加熱至1 5 6 °C之後,在各粘 接面塗層銦焊料。接著,將燒結體配置在背板上所希望之位 置後,冷卻至1 5 0 °C。接著,就經露出粘接面之側面之銦 焊料材所露出的部分之全周全部,在露出部塗層含有 1 0重量%錫並經加熱至1 5 0 °C的銦一錫合金之後,冷卻 至室溫以製得I T〇靶。 依與實施例4同樣條件進行此靶的6 0小時濺射。 放電後之靶之外觀照片,使用電腦施予影像處理,並檢 查小結發生量。其結果,在靶表面之僅5 %部分發生有小結 —-1—*· I---^---:----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印災 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) -17- 500817 A7 B7 五、發明説明(15 ) 比較例 依與實施例4同樣方法製造I T〇燒結體。依阿基德法 測定所得的燒結體之密度之結果’爲了 · 1 1 g/c m/。 (.相對密度·· 9 9 · 4 % )。。 依濕式加工法將此燒結體加工爲1 0 1 · 6 m m X 1 7 7 . 8 m m、厚度6 m m之燒結體,再將燒結體之濺射 面之表面粗細度機械加工爲Ra:〇·7#m、 Ry=5. 2 # m 〇 將如此所得的燒結體及背板加熱至1 5 6 °C之後,在各 粘接面塗層銦焊料。接著,將燒結體配置在背板上所希望之 位置後,冷卻至室溫以製得靶。 將此靶依與實施例4同樣濺射條件連續實施的6 0小時 濺射試驗。放電後之靶之外觀照片,使用電腦施予影像處理 ,並檢查小結發生量。其結果,靶表面之5 9%部分發生有 小結。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝— -----Η ,----- 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〔發明之效果〕 本發明之I τ〇濺射靶,在採用近年來之低施加電力之 成膜方法時,仍可降低小結發生量。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210X297公釐) -18-

Claims (1)

  1. 500817 公告本 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍巧 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 ·—種I τ〇濺射靶,係將實質上由銦、錫以及氧 氣而成的I τ〇燒結體,使用銦一錫焊料粘接至金屬製背 板而成者。 2 ·如申請專利範圍第1項之I τ〇濺射靶,其中實 質上由銦、錫以及氧氣而成的I T〇燒結體之相對密度爲 9 9 %以上。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項之I T 0濺射靶 ’其中將銦-錫焊料中之錫量作成以(錫)/(銦+錫) X 100計爲3至15重量%。 4 ·如申請專利範圍第1項或2項之之I T 0濺射靶 ,其中I T〇燒結體之濺射面之平均線中心粗細度(R a )爲0 · 8//m以下,且最大高度(Rmax)爲7 · 0 // m以下。 5 .如申請專利範圍第3項之I T 0濺射靶,其中 I T〇燒結體之亂畫LM之平均線中心粗細度(R a )爲 〇 . 8μιη以下,且最大高度(Rmax)爲7 . 0//m 以下。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 . —種I T〇濺射靶,係將實質上由銦、錫以及氧 氣而成的I T 0燒結體,使用金屬粘接劑粘接至背板而成 的I T 0濺射靶,其特徵爲:將經露出金屬粘接劑的部分 之一部分或全部使用由銦及錫而成的合金予以被覆.。 7 .如申請專利範圍第5項之I T〇濺射靶,其中 I T〇燒結體之相對密度爲9 9 %以上。 . β .如申請專利範圍第5項或第6項之I T〇濺射靶 本紙張又度逋用中國國家揲準(CNS ) Α4规格(210χ 297公釐)-19- 500817 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍2 a mR ^ ( 5 度 · 細 6 粗爲 心 } 中7 線 R 句 /L 平度 之高 面大 射最 濺且 之 , 澧 T— MOM 一 結以 燒mo y τ 8 I—I - 中 o c 其爲下 , \ly 以 (請先閎讀背面之注意事項再本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐)
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