TW497190B - Quartz member for semiconductor manufacturing equipment, manufacturing method of quartz member for semiconductor manufacturing equipment, thermal treatment equipment, and analysis method of metal in quartz member - Google Patents

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TW497190B TW090102441A TW90102441A TW497190B TW 497190 B TW497190 B TW 497190B TW 090102441 A TW090102441 A TW 090102441A TW 90102441 A TW90102441 A TW 90102441A TW 497190 B TW497190 B TW 497190B
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Yoshinori Marumo
Kaname Suzuki
Teruyuki Hayashi
Takashi Tanahashi
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Description

497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明( 技術領域 本發明係有關半導體製造裝置 衣I州石英構件、丰壤 裝置用石英構件之製造方法、埶 牛導姐製造 热處理裝置、石苯摇、 金屬之分析方法’尤其是有關適料熱處理砍 ^ 體基板之域理裝置之半導體製造裝置用石英構件·、^ 體製造裝置用石英構件之製造太 表仏万法、熱處理裝置、石盆姐 件中之金屬之分析方法。 央構 背景技術 熱處理^導體晶圓之熱處理裝置的構造,係在保持概略 水平的狀怨下將數片半導體晶圓收容在熱處理裝置内,並 以熱處理裝置内的加熱器加熱。圖12爲主要之熱處理裝置 概略構成的垂直剖面圖。 ^ 如圖12所示,數片半導體晶圓129收容在熱處理裝置 内。在熱處理裝置内配置有概略成圓筒形狀的石英管,亦 即石英玻璃爐心管124,半導體晶圓129收容在將其保持 概略水平的晶舟1 2 8上及上述石英玻璃爐心管丨2 4内,在 保持概略眞空的狀態下,以設置成包圍石英玻璃爐心管 1 2 4之加熱器丨2 2的熱度實施加熱處理。 另外’該圖中的爐蓋1 2 7係用於各晶舟1 2 8之半導體晶 圓1 2 9進出石英玻璃爐心.管丨2 4的蓋子;旋轉台1 2 6係在 熱處理中旋轉,以提高晶舟1 2 8上之半導體晶圓1 2 9的處 理均勻性。此外,設置之反射板丨2 5、均熱管1 2 3係促 熱處理裝置内之溫度分佈均勻;設置之隔熱材料丨2 1係 盖整體以保持熱處理裝置内的熱度。 -4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) ------------φ裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--- # 進 覆 497190 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(2 然而,加熱器122中含有銅等金屬原子,在加熱時,金 屬原子自加熱器1 22中擴散而附著在石英玻璃爐心管i 的表面。附著在石英玻璃爐心管124表面的金屬原子向石 英玻璃爐心管124的厚度(深度)方向擴散而到達石英玻璃 爐心管124的内部,以致進入石英玻璃爐心管124内側的 空間内,附著在熱處理中的半導體晶圓i 2 9上,因而造成 /亏染’形成半導體晶圓1 2 9發生不良的原因。 °
因考慮到石英玻璃爐心管1 2 4之物性及組成與上述金屬 擴散、污染有關,因此需要管理形成石英玻璃爐心管124 之石英材料的物性及組成。尤其是當金屬原子擴散至石英 玻璃中時的擴散係數係掌握污染物質移動速度的指標,因 此,正確掌握該擴散係數實屬重要。 T 但是,製造石英玻璃爐心管之廠商所提供之構成石英玻 璃爐心管之石英材料的擴散係數資料,各廠商的差显很 大,比較各廠商發現其間差異最大竟高達約105倍。欲以 廠商所提供之擴散絲資料統—判斷製品之石$玻璃爐心 管的品質並不i刀實際。 此外,先前係採用SIMS法(二次離子質量分析法)及光學 方法來測量石英玻璃爐心管的擴散係數、然而,因麵法 的檢測TP艮爲4#g/g’極爲粗链’且其分析區域(深度)僅 約爲2〇〇μιη,導致測量能力低、測量精度低、設備投資大 及每次測量的成本高等問題。 而光學方法的深度分解能力又過深,爲⑽_,檢測下 限亦約lOng/g,均不能充分滿足測量能力及測量精度。 Μ--------^---------. (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) > 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210] 297公釐 497190 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
裝--------訂--- (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) n ·ϋ
ϋ n I # y A7 B7 五 、發明說明( 4 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 =出;分離步驟,其係化學分解上述被分析層,自上 =料劑中分離出分解物;分析步驟,其#分析上述被二 金屬量:、及計算步驟,其係從上述被分 ^述石英試劑與上述分解物被分離後之上 迷石英試劑的體積變化求出上述被分析層的體積。 出搪I你t發明〈石英構件中之金屬之分析方法爲用於求 =石英構件中之金屬之分析方法,其特徵爲具 “I V驟’其係使位於石英試劑中之所需深度的被 、漱—步驟’其係化學分解上述被分析層,自丄 =英試财分離出分解物;第三步驟,其係分析上述被 物中的金屬量;第四步碟,其係從上述被分析 層…如之上述石英試劑與上述分解物被分離後之上述 石英試劑的體積變化求出上述被分析層的體積;第五 其f使上述好析層在厚度^向更内側的被分析層 狀’及第,、步驟’其係藉由反覆實施上述第二步驟至上 弟五步驟,求出上述石盆二4、令丨、》- 分佈。 、石英试劑 <厚度方向的擴散金屬濃 本發明由於係將石英試劑的表面區分成薄的被分析層 以化學分析万法分析各個被分析層之石英材料的品質, 得高精密度的分·析結果及可靠性高的擴散係數 精此’由於係使用擴散係數小的材料來製造使用在半導 :造=的石英構件,因此’可以獲得實施熱 致污染半導體晶圓之使用在半導體製造裝置上的石英構 件0 分 上 步 訂 述 度 因 體 不 # >紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公^ 五 發明說明( ®式之簡要説明 圖1爲本發明之分析方法之流程的流程圖。 圖2爲模式顯示實施本發明之分析方法的狀態。 】3 !不同於圖1之本發明之分析方法之流程的流程圖。 狀能4。馬不同於圖2之以模式顯示實施本發明之分析方法的 圖5爲本發明 < 分析方法重現性檢測實驗結果圖。 :_ 6 Β爲本發明之分析方法之交互污染檢測實驗 及其結果圖。 圖7爲比較本發明之分析方法與先前之分析方法的差異 回8爲不同製法之石英分類與其石英差異圖。 圖9爲本發明之石英管製造方法的流程圖。 圖1〇爲繼續圖9之本發明之石英管製造方法的流程圖。 圖11爲本發明一種實施例之熱處理裝置的剖面圖。 圖12爲代表性之熱處理裝置的垂直剖面圖。 發明之最佳實施形態 』本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第1項,上述擴 散係$以石英構件中之金屬之分析方法求出,其方法具 備:露出步驟’其係使偉於石英試劑中之所需深度的被分 析層露出;㈣步驟,其係化學分解上述被分析層,自上 2石英試劑中分離出分解物;分析步驟,其係分析上述被 刀離 < 分解物中的金屬量;及計算步驟,其係從上述被分 析層万;刀解則之上述石英試劑與上述分解物被分離後之上
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(謂χ 297 - Μ--------^--- (請先閱讀背面之注音j事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(6 ) 埏石英試劑的體積變化求出上述被分析層的體積。 並此外,本發明較佳之實施形態如中請專利範園第2項, 八中上述分析方法中之求出上述被分析層體積的步驟,係 t =被分析層於分解前之上述石英試劑與上述分解物被 (上述石英試劑的厚度變化換算,來求出上述被分 析層的體積。 复此外,本發明較佳之實施形態如中請專利範圍第2項, 其中上述分析方法中之求出上述被分析層體積的步驟,係 =上述被分析層好解前之上述石英試劑與上述分解物被 分離後^上述石英試劑的重量變化換算,來求出上述被分 析層的體積。 此外,本發月較佳之實施形態如申請專利範圍第丨項, 上述擴散:數以石英構件中之金屬之分析方法求出,其方 /、備弟步驟,其係使位於石英試劑中之所需深度的 被刀析層路出;第二步驟,其係化學分解上述被分析層, 自上述石英試劑中分離出分解物;第三步驟,其係分析上 述被分離之分解物中的金屬量·,第四步驟,其係從上述被 刀析層於为解則之上述石英試劑與上述分解物被分離後之 上述石英試劑的體積變化求出上分析層的體積;第五 步藏’其係使上述被分析·層在厚度方向更内側的被分析層 露々出;及第六备驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至上 述弟五步驟,求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬濃 度分佈。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第2項, -9- -----------^--------^--------- (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 297公釐) / A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( 分析方法中之上述被分析層露出步碟,係以氟醆 触刻上述石英試劑的表面。 二本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第5項, 述分析方法中之露出上述被分析層的第一及/或第 五步驟,係以氟酸蝕刻上述石英試劑的表面。 ^外’本發明較佳之實施形態如巾請專利範圍第2項, f中上述分析方法中之分離步驟,其係化學分解上述被分 自上述石英4劑中分離出分解物,其具備·滴下步 —水/、係在上述路出《被分析層表面上滴下分解液;分解 步驟,其係使上述滴下之分解液保持特定時間後分解上述 、刀析層’及回收步驟’其係回收上述被分析層被分解後 所含的分解液。 此外、、本么明較佳之實施形態如申請專利範圍第5項, 八 I刀析方法中之第二步驟,其係化學分解上述被分 析層’自上述石英試劑中分離出分解物,其具備:滴下步 驟,其係在上述露出之被分析層表面上滴下分解液;分解 ^ ^ /、係使上述滴下之分解液保持特定時間後分解上述 被刀析層’及回收步驟’其係回收上述被分析層被分解後 所含的分解液。 此外’本發明較佳之穹施形態如申請專利範圍第8或9 /、八中上述刀解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、硫酸 及過氧化氫群中撰;^ 選擇足一種或兩種以上並與氟酸的混合 液。 此卜本么明車又佳之實施形態如申請專利範圍第2項, -10 本紙張尺度賴巾關家標準(α^ΰΙ1^_(210 x 297公爱) -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(8 ) 其中上述分析方法中之分析步驟,其係分析上述分離之分 解物中的金屬量,該步驟係採用原子吸光分析法、感應多吉 合電漿原子發光分析法或感應結合電漿質量分析法來實 施。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第5項’ 其中上述分析方法中之第三步驟,其係分析上述分離之分 解物中的金屬量,該步驟係採用原子吸光分析法、感應結 合電漿原子發光分析法或感應結合電漿質量分析法來實 施0 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第1項, 其中含有60pg/g以下的烴基(水酸基)。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第1項, 其中熱處理溫度爲1050。〇至15〇〇。〇。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範園第1項, 其具有2.2016至2.2027g/cm3的密度。 此外’本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第1項, 其具有5ng/g以下的含銅率。 此外’本發明較佳之實施形態如申請專利範園第1項, 其係以電溶融法形成。 此外,本發明較佳之實·施形態如申請專利範園第1項, 其係使用在石英玻璃爐心管上。 此外’本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第2 〇項, 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出,其方 法具備·路出步驟’其係使位於石英試劑中之所需深度的 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公爱) "— ----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明說明(9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 被分析層露出;分齙 自上述石英試劑中分::二解::化學分解上述被分析層, 被分析層於分解前之上’及“步驟’其係從上述 之上述石英&义石奂試劑與上述分解物被分離後 心上现石央试劑的體積 此外,本發明較佳之;1二述被分析層的體積。 二Π ::英構件中之金屬之分析方法求出,其 被分析層露出;第—半 〗丫之所而冰度 自上、tew 其係化學分解上述被分析層 k石夬武劑中分離出分組4· 一 述被分離之分解物中的金 ,其係分析上 八# Μ 1 γ Α 、、 屬1,罘四步驟,其係從上述被 1、成:=二則(上述石英試劑與上述分解物被分離後之 二的體積變化求出上述被分析層的體積;第五 t出二二ΐ述被分析層在厚度方向更内側的被分析層 :^:弟,步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至 佈:驟’求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬 匕外本發明較佳 < 實施形態如申請專利範圍第2 3項 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出,立 法具備:露出步驟,其係.使位於石英試劑中之所需深度 被分析層露出;分離步驟,其係化學分解上述被分析層 自上述石英試劑中分離出分解物;分析步驟,其係分析 述被分離之分解物中的金屬量;及計算步驟,其係、從上迎 被分析層於分解前之上述石英試劑與上述分解物被分離後 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公t ) 方 的 上 方 的 上 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 ----訂--- 五、發明說明(10) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之上述石英試劑的骨舍并槪7丨_L 此外,本發明較it求出上述被分析層的體積。 上述擴散係數以二;施中形t申物 土H . 央構件中<金屬之分析方法求出,其方 法具備.弟一步,骤,复俏 被分㈣^ 料财之所需深度的 白= 步氍,其係化學分解上述被分析層, 自上述石英試劑中分離 、十、妯八私、X , 码刀鮮物,弟二步驟,其係分析上 物中的金屬量;第四步驟,其係從上述被 曰:刀”則之上述石英試劑與上述分解物被分離後之 =石英試劑的體積變化求出上述被分析層的體積;第五 步驟’其係使上述被分析層在厚度方向更内侧的被分析層 露,出;及第六步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至 述第五步驟,求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬 度分佈。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第2 6項 其中求出上述被分析層體積的步驟,係從上述被分析層 分解前之上述石英試劑與上述分解物被分離後之上述石 試劑的厚度變化換算,來求出上述被分析層的體積。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第26項 其中求出上述被分析層體積的步驟,係從上述被分析層 分解前之上述石英試劑幾上述分解物被分離後之上述石 試劑的重量變化換算,來求出上述被分析層的體積。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第2 6項 其中上述被分析層露出步驟,係以氟酸蝕刻上述石英試 的表面。 上 於 英 於 英 劑 ------------—------訂— (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) # -13- 497190 A7 五、發明說明(!1 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第29項, 其中露出上述被分析層的第一及/或第五步冑,係以氣酸 蚀刻上述石英試劑的表面。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第2 6項, 其中分離步驟’其係化學分解上述被分析層,自上述石、英 試劑中分離出分解物,其具備:滴下步驟,其係在上述露 出心被分析層4面上滴下分解液分解㈣,其係使上述 滴下之分解液保持特定時間後分解上述被分析層;及回收 步驟,其係回收上述被分析層被分解後所含的分解液。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範園第2 9項, 其中第二步驟,其係化學分解上述被分析層,自上述石 試劑中分離出分解物,其具備··滴下步驟,其係在上述 出之被分析層表面上滴下分解液;分解步驟,其係使上 滴下之分解液保持特定時間後分解上述被分析層;及回 步驟,其係回收上述被分析層被分解後所含的分解液。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第” 3 3員其中上述分解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、 酸及過氧化氫群中選擇之一種或兩種以上並與氟:的混 液。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範園第“項 其中分析步驟,其係分析上述分離之分解物中的金屬量 該步驟係採用原子吸光分析法、感應結合電漿原子發光 析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 此外,本發明較佳之實施形態如申請專利範圍第29項 英 露 述 收 或 石A 合 分 --------^--------- Γ凊先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁} -14- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^/19〇 五、發明說明(η) 其中第三步驟,並得合& L、,、 二、 斤上逑分離之分解物中的金屬量, 舔步驟係採用原子吸井分 4.^ r Λ,. 斤法、感應結合電漿原子發光分 析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 π以下參照圖式説明本發明的實施形態: 屋·二種實施形熊 圖1馬罘一種實施形態之分析方法的流程圖,圖2爲以模 式顯π實施該方法的狀態。 /實施本實施形態之分析方法時,首先準備如矩形或正方 /的4剡片2 1,將孩试劑片2丨浸潰在氟酸(Ηρ)等表面處 里液中,來蚀刻试劑片2 1的表面。將該被姓刻之表面作爲 被分析層的表面。露出自試劑片21表面深達―層的表 面(v I1 1 ) Λ時’可以藉由適切調節所使用之氟酸等處 理液濃度及I虫刻實施時間、溫度等條件來控制蚀刻層的厚 度。此外,氟酸採用液體或氣體(蒸汽)均可。 田其久,自氟酸中取出試劑片2 1,經過清洗、乾燥後,測 f试劑片2 1的厚度(步驟丨2)。測量厚度時可以採取使用 在測微計(Micrometer)及電磁波上之各種已知的測量方 法。並記錄此時的厚度d η。 其次,在試劑片2 1的一部分上滴下氟酸與硝酸混合液的 分解液2 2 (步驟1 3 )。此·時的分解液2 2可以採用單一氟 酸,或是氟酸與其他酸,如硝酸、鹽酸、硫酸等之一種或 兩種以上的混合液,或是氟酸與過氧化氫的混合液、氟酸 與過氧化氫與其他酸,如硝酸、鹽酸、硫酸等之一種或兩 種以上的混合液。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 裝--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) #· 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明(13) 若考慮使石英中的金屬原子容易溶解於分解液22中,則 宜採用氟酸與硝酸的混合液。 分解液2 2之組成及濃度,以及混合液中的混合比率等宜 調節適切的値,使其能夠以約每3 0分鐘分解1 〇 " m之試劑 片21的石英表面。 滴下分解液2 2時,在適當溫度下繼續保持,使其在石英 试劑片2 1表面僅分解如厚度約1 〇 極薄的一層(步驟 14) 〇 此時,由於分解液22係藉由分解液22本身的表面張力 保持在試劑片21上,因此不需要蓋子及容器等。因而,分 角千時之分解液2 2不致被附著在容器上的物質污染,或是因 加蓋而改變分解液2 2容量。另外,測量分解液2 2分佈的 面積S ’或事先保持其面積,將分解液2 2分佈在已知面積 S的範圍内。 保持該分解液22時的時間及條件屬於設計事項,宜調節 成如以約30分鐘分解約ι〇μηι的石英表面。 繼續,經過特定時間完成分解後,回收分解液22(步驟 15) 。 ·水 將如此獲得的分解液22置於定量分析裝置中,分析分解 液22中所含的金屬,如鈣含量(步驟16)。此時雖然可以 採用任何的定量分析裝置,不過主要可以使用如原子吸光 (AAS)分析裝置及ICP_AES(感應結合電漿原子發光分析)裝 置、ICP-MS(感應結合電漿質量分析)裝置等。並記綠此 所獲得的金屬量C η。 -----------裝--------訂--- (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) -16-
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,、久,私用與上述步驟丨2同樣的方法測量在上述步躁 14中分解表面之石英試劑片21的厚度(步驟17)。並記錄 此時的試劑片2 1厚度dn+1。 其次’從以上所求得的資料計算上述被分析層的金屬濃 度亦即,從步驟1 2所求得之試劑片2 1厚度d η與步驟1 7 所求传 < 試劑片2 1厚度<+1求出被分析層的厚度,再乘上 步驟1 4所求知之面積s來求出被分析層的體積。由於該 體積Vn中含有步驟Η求出之〇^量的金屬,因此,被分析 層中所含的金屬濃度爲Cn/vn。 求出該金屬濃度後,因Fick的第二法則爲ac/& = D · 3 C/3X2 ’因此,該被分析層的擴散係數〇爲InC = _x2/4m + A。(公式中,c :深度X的金屬濃度[at〇ms/cm3],D : 擴散係數[cm2/s],X :深度[cm],t :擴散時間[s ],a : 苇數)求解该公式算出擴散係數D (步驟丨8 )。並記錄所獲 得之擴散係數D n(步驟1 9 )。
Ife續’判斷是否需要將内側層作爲被分析層來進行定量 分析(步驟2 0)。當需要進行定量分析時,則回到步驟 再度使用氣敗’與上述同樣的對内側層反覆實施步驟 1 1至1 9作業,求出擴散係數dn+i。 以下同樣的,藉由反覆實施步驟11至2〇作業,自石英 試劑片2 1外側至内側,以約ι〇μπ^9厚度作爲薄的被分析 層,分別求出其擴散係數Di,D2,D3,…,Dn,D ,
Dn + 2 ’ ’"Dx,並加以記綠,於最内側之被分析層完成定量 分析後’完成全部的分析作業。 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 裝--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 497190 五、發明說明(15) 如::上::明,由於本實施形態之分析方法係使用氣 ==需深度之被分析層的表面露出,來分析該被 :析:的金屬含量’因此,可以分析出石英試劑片21之任 思深度的金屬含量,以及任意層的擴散係數。 此外’由於係㈣分解液22分解被分析相進彳亍定量分 析,因此可以對極薄的被分析層進行分析。 另外,由於分解液22係〃分解液22本身的表面張力來 保持在試劑片21上,因此,分解時,冷染物質混入分解液 2 2中的可能性極低。 此外,由於係分析液狀的分解液22,因此試劑片21的 形狀有很大的自由度。 實施例 以下説明本發明的實施例: 凋裝出長X寬X厚=2〇mm χ 2〇mm χ 4mm之分析用石英 试劑片,作馬分析實驗用測量試劑。爲調查銅原子擴散在 石英試劑内部的狀態,而在該試劑片的一部分上塗佈 lOgg/g的離子化銅溶液,在大氣壓下及1〇5〇Ό下保持,在 该狀態下加熱2 4小時,使銅原子擴散。 繼績,清洗試劑片的表面後,將該試劑片浸潰在氟酸 中,蝕刻最外層約1〇μηι/使需要分析的被分析層表面 出。 其次,求出該試劑片的厚度d丨後,調製2 5 %氟酸與〇 · i 規定硝酸的混合液作爲分解液,滴在上述試劑片上。在該 狀心下以刀解液本身的表面張力使分解液保持在試劑片 -18 - 本紙張尺錢时目國家標準(CN^格(21〇 x 297公愛)
497190 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 Β7 五、發明說明(16) 表面上,來分解被分析層。分解約3 〇分鐘後回收分解液, 獲得預期含銅的分解液。 將該回收之分解液置於原子吸光分析裝置(AAS)内,异 量分析分解液中所含的銅,獲得銅含量。 另外,測量以分解液分解後之試劑片的厚度,獲得厚肩 d 2的値。 將先前測得之厚度dl與以後測得之厚度d2相減,獲謂 被分析層的厚度。 如此,#可算出分解層的擴散職。此外,藉由爾後所 進行的實驗確認以本發明之分析方法分析時的深度分解能 力約爲ΙΟμιη,石英試劑中所含之金屬檢測下限爲 2.8ng/g 〇 重現性檢測音藤 说本焱月之刀析方法進行檢測重現性的實驗。 採用上述實施例相同的方法作成兩個試驗片,塗佈銅溶 :夜:調製兩個強制污.染樣品,對該樣品實施與上述實施例 一 π η庚收狀怨(銅/辰度)。結果如圖5所 不。圖上橫轴表示距石英材挑矣 一 Υ人力、 夬材枓表面的距離(深度),縱軸表 』^辰度。攸该圖中可知兩個樣品 似,顯示具備高度重現性。 I、村非吊近 玄互污染檢 其次就本發明之分析方法進行交互〜 下夂昭图Δ 、、 禾的知測實驗。以 中所:二]加以'兄明。實驗方法係調製與上述實施例 中所调製(相同的樣品(強制污染樣品61)及未經塗佈㈣ -19- -----------«t----------IT--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度義巾關家gy^NS)A4規袼(2ΐ?Γ297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(17 ) =的石夬試劑樣品(基體材料6 2)。這兩種樣品6丨、6 2收 备在同個處理2間6 3内,將該處理空間6 3置於5 〇 0/〇氟 酸的環境下,靜置一定時間。 刀析強制>了染樣品6丨之各被分析層的銅濃度及基體材料 62之各被分析層的銅濃度,調查對基體材料62的影響。 t時刀析各分析層的銅濃度係與上述實施例同樣的對各 刀析層進行分析,鋼濃度係調查分解液中的銅濃度。結果 如圖6 B所示。 如圖6B所示,基體材料62幾乎沒有銅污染,幾乎看不 〜喜。亦即’落解於分解液中的銅不會再度擴散至試 ^中’對各被分析層所分析之銅含量顯示極正確的反映出 實際的銅擴散狀態。 圖7馬比較上述本發明之分析方法與先前之分析法。如 圖7所示,證貫本發明在檢測下限、分解區域(深度)、交 互’亏木及重現性各方面具備先前方法所沒有的優點。 二因此’由於本發明可以高精密度的分析方法求出可靠性 同的擴散係數,以該擴散係數選定石英材料的品質,因 此,可獲得實際上金屬原子不易擴散的石英管。 、亦即,由於係將石英試劑的表面區分成薄的被分析層, 並對每個分析層進行化學分析,因此可獲得高精密度的分 析結果,求出可靠性高的擴散係數。 此外’由於係將同一個試劑自外側至内側區分成鄰接之 數個層狀,對各層進行化學分析,因此,可以詳細檢測金 屬原子的擴散狀態,藉此可求出高精密度的擴散係數。 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公爱 ----I---丨 i 裝-----I--訂--------- (請先閱讀背面之注咅9事項再填寫本頁) 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(18 ) 再者,由於係以氧處理之化學方法使被分析層露出,以 分解液僅分解、分析各石英試劑的表面,因此,可以極薄 的被分析層單位來分析任意的深度,可以在厚度方向分析 石英試劑中之擴散係數的分佈。 再者,由於分解液係藉由分解液本身的表面張力來保 持’因此’可以儘量抑制容器等污染物質的混入,可以實 施南精金度的分析。 另外’圖8爲不同製法之石英的分類及其特性。如圖8所 示,以電熔融法所製造的石英,其中⑽量及金屬量均 少,因此爲最適於使用在半導體製造裝置上的材料。 第二種實施形熊 圖3爲不同於圖R實施形態之分析方法之流程的流程 圖;圖4爲以模式顯示實施該方法的狀態。本實施形態將 圖1所示之實施形態中之被分析層的體積計算方法改變成 其他方法,且被分析層與分解液的接觸不是靠滴下分解 液,而是在收容分解液的容器中進行。 實施本實施形態之分析方法時,首先準備如矩形或正方 形的試劑片41,將該試劑片41浸漬在氟酸(HF)等表面處 理液中,來蚀刻試劑片41的表面。將該被姓刻之表面 被分析層的表面。露出自試劑片41表面深達1〇㈣層 面(步驟3D。此時,可以藉由適切調節所使用之氟酸 理液濃度及蚀刻實施時間、溫度等條件來控制蚀刻 度。此外,氟酸採用液體或氣體(蒸汽)均可。以上二二 種實施形態相同。 〃 $ — 21 - 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公餐) ^--------1--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7______ 五、發明說明(19 ) 其次,自氟酸中取出試劑片4 1,經過清洗、乾燥後,以 重量測量機4 4測量試劑片4 1的重量(步驟3 2 )。測量重量 時可以採取各種已知的測量方法。並記錄此時的重量 wn ° 其次’將試劑片4 1放入收容有氟酸與硝酸之混合液等分 解液4 2的容器4 3中,使試劑片4 1的一面接觸分解液(步驟 33)。此時的分解液42也可以採用單一氟酸,或是氟酸與 其他酸,如硝酸、鹽酸、硫酸等之一種或兩種以上的混合 液’或是氟酸與過氧化氫的混合液、氟酸與過氧化氫與其 他酸,如硝酸、鹽酸、硫酸等之一種或兩種以上的混合 液。 若考慮使石英中的金屬原子容易溶解於分解液4 2中,則 宜採用氟酸與硝酸的混合液。 分解液42之組成及濃度,以及混合液中的混合比率等宜 調節適切的値,使其能夠以約每3 〇分鐘分解1〇μιη之試劑 片41的石英表面。 使分解液4 2與試劑片4 1接觸,在適當溫度下繼續保 持’使其在石英試劑片41表面僅分解如厚度約1〇 ^ m極薄 的—層0 保持該分解液42時的時間及條件屬於設計事項,宜調節 成如以約30分鐘分解約10μηι的石英表面。 繼續,經過特定時間完成分解後,將分解液22回收到回 收容器45内(步驟34)。 將如此獲得的分解液4 2置於定量分析裝置中,分析分解 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注咅2事項再填寫本頁) 20 > 497190 A7 -------B7 五、發明說明( 液4 2中所含的金屬,如分析銅含量(步驟3 5 )。此時雖然 可以採用任何的定量分析裝置,不過主要可以使用如原子 吸光(AAS)分析裝置及Icp-AES(感應結合電漿原子發光分 析)裝置、ICP-MS(感應結合電漿質量分析)裝置等。並記 錄此時所獲得的金屬量C n。 其次,採用與上述步驟3 2同樣的方法測量在上述步驟 3 3中分解表面之石英試劑片4 1的重量(步驟3 6 )。並記綠 此時的試劑片4 1重量w 。 n+l 其次,從以上所求得的資料計算上述被分析層的金屬濃 度。亦即,從步驟3 2所求得之試劑片41重量wn與步驟W 二求得之試劑片41重量'+1兩者的差,求出被分析層的重 f,再使用孩直與事先測量之試劑片4丨的比重,來求出被 分,層的體積Vn。另夕卜,也可以從所求得的體積與事先 測量之被分析層面的面積s算出其厚度(步驟3 7 )。所算出 的厚度係用於顯示試劑片4丨之被分析層在深度方向 置。由於體積Vn中含有於步驟35中所求 = 至屬,因此,被分析層中所含的金屬濃度爲cn/Vn。 求出該金屬濃度|,因Fick的第二法則爲㈣t = D . 抑/ax2’因此’該被分析層的擴散係數D^nc =必仙 + A。(公式中,c ··深度χ的金屬濃度[at_/cm3],D · 擴散係數[cm2/s]’ X :深度[cm]’ t :擴散時間⑷,A : 常數)求解該公式算出擴散係數D(步驟38)。並記錄 得之擴散係數D n(步驟3 9 )。 又 繼續’韻是h要㈣㈣作爲被特層來進行定量 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)_ -----------裝----------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7
497190 五、發明說明(21 ) 分析(步驟4 0 )。當需要進行定蚤八 疋订疋1分析時,則回到步驟 31,再度使用氟酸,與上述同娣沾祖 、丨j樣的對内側層反覆實施步驟 3 1至3 9作業,求出擴散係數d 。 π+1 以下同樣的,藉由反覆實施步驟3丨至4 〇作業,自石英 试劑片4 1外側至内側’以約1〇_的厚度作爲薄的被分析 層,分別求出其擴散係數Di,D D … 、 3 Un+l
Dn+2,…Dx,並加以記錄,於最内側之被分析層完成定量 分析後’完成全部的分析作業。 、如以上之説明,由於第二種實施形態亦係使用氟酸,使 位於所需深度之被分析層的表面露出,來分析該被分析層 的金屬含量,因此,可以分析出石英試劑片41之任意深度 的金屬含量,以及任意層的擴散係數。 此外,由於係採用分解液4 2分解被分析層以進行定量分 析,因此可以對極薄的被分析層進行分析。 另外’本發明並不限定於上述實施形態及實施例中所揭 示的範圍。例如在上述實施形態及實施例中,係説明分析 石英中所含之銅濃度及擴散係數,不過也同樣適用於^以 外的金屬。 此外,上述實施形態係説明將石英試劑片2 1、4丨自外 側至内側區分多層分析層,並依序對各被分析層進行定量 分析,不過,進行定量分析的被分析層也可以僅有—層, 也可以自石英試劑片2 1、41的最外部起,對所有可以分 析的各層進行定量分析,也可以僅對特定深度之數層被分 析層進行定量分析。 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------訂---------線. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 497190
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(22) 第三種實施形態 其次,説明本發明的第三種實施形態。另外,本實施形 態以後之各實施形態中,凡與先前之實施形態重複的内 容,省略其説明。 本實施形態係使用石英材料,其係使用上述第一或第二 種實施形態中説明之分析方法所獲得之在深度方向2〇卟111 以上具有擴散係數爲5 8E_10cm2/s以下的金屬擴散區域, 來製造石英管。 圖9及圖10爲本實施形態之石英管製造步驟的流程圖。 實施本實施形態之石英管的製造方法時,首先,選擇石 英材料(步驟9 1)。此時,選擇石英材料的基準爲:材料是 否爲在深度方向2〇〇μιη以上具有擴散係數爲5 8E_1〇cm2/s& 下的金屬擴散區域。 此處,選擇々·上述範圍内之擴散係數的理由,係因若擴 散係數超出該範圍時,在短時間内,造成金屬原子穿透石 英而複製到處理中的晶圓上,引起污染等不良情況等弊端 的發生。 此外,判斷石英材料品質的指標,除了擴散係數之外, 還包括含烴基率。具體而言,宜採用含烴基率在6〇jLig/g以 下的石英材料。 此處’將含烴基率的適宜範圍限定在上述範圍的理由, 係因若含烴基率超出該範圍時,石英材料中之金屬擴散係 數在5.8E-l〇cm2/s以下的區域未達深度2〇〇μιη,在短時間 内’造成金屬原子穿透石英而複製到處理中的晶圓上,引 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 χ 297公釐) -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(23 ) 起污染等不良情況等弊端的發生。 此:二石:材料中之烴基數與石英材料之擴散係數的關 Π增加時’擴散係數變大,亦即,擴散係 數小Ο衣度万向的區域淺。 其根據如圖8所示,以確初、+厪広7 、 崔…i屬原子較難擴散的電熔融 法製迨之石英中的〇 η量低,以磕二刃 ^ ^ r 低以確涊金屬原子較易擴散的 人fe、丨谷融法製造之石英中的〇 H量高。 =,使用以電㈣法製造之石英材料要比以火蹈溶融 法石英材料較適宜製造石英管。 再者,擴散係數以外的其他指標還包含石英材料的密 度。具體而言’宜採用密度爲2.編g/emn2G27g/c 石英材料。 2處1密度的適宜範圍限定在上述範圍的理由,係因 ,山,超出錢圍時’石英材料中之金屬擴散係數在5吓_ cm /s以下的區域未達深度2〇〇_,在短時間内,造成金 屬^子^透石英而複製到處理中的晶圓上,引起污染等不 艮h況等弊端的發生。 匕Q石英材料的密度與石英材料中之擴散係數的關 '、,係當密度超過上述區域時,擴散係數變大,亦即, 散係數小之深度方向的區域淺。 、 再者,擴散係數以外的其他指標還包含石英材料的含鋼 率具髂而1,宜採用含銅率在5ng/g以下的石英材料。 =處,將含銅率的適宜範圍限定在上述範圍的理由,係 因右含鋼率超出該範圍時,石英材料中之金屬擴散係數在 本紙張尺料 1--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -26- 2 A7 A7 B7 、發明說明(24 ) 係此:當:=:含料之擴散係數的關 小之深度方向的區域淺。_數皮大^即,擴散係數 採用經由如此選定的$ 1 901之石英管所需的長产後斷成製造如概略形狀 ❹々長度後,加以清洗(步驟92)。該清洗 4係在下-加工前,使用氟酸及純水清洗包含石英材料 所有原料。如使用5%氟酸清洗1G分鐘以上後,再以純 水清洗。 、 其次,在潔淨環境的室内風乾(步驟93),繼續使用轉 盤,將一端形成如概略形狀902的半球狀,以塞子密封 (步驟94)。同樣的使用轉盤旋轉,將釋放端向半徑方向外 側擴大以形成凸緣(步驟9 5 )。 繼續焊接、安裝分管,用於供應氣體至石英管内部(步 驟9 6 ),如概略形狀9 〇 3。繼續實施回火以消除焊接時產 生的坡度(步驟97)。該回火步驟係在1〇5〇Ό至12〇(rc下進 行3 0分鐘至2 4 0分鐘。 繼績以氟酸清洗後,再以純水清洗(步驟9 8 )。該清洗步 驟係使用5 %氟酸清洗1 〇分鐘以上後,再以純水清洗。繼 續在潔淨環境的室内風乾,使其乾燥(步驟9 9 )。 其次,以研磨機9 0 4研磨在步驟9 5中形成的凸緣部分 (步驟1 0 1 ),之後實施清洗(步驟丨〇 2 )。該清洗步驟係使 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) —.^w- ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 497190 A7 ----........— B7 ------~---- 五、發明說明(25 ) 用5 %氟酸清洗1 0分鐘以上後,再以純水清洗。繼續在潔 淨環境的立内風乾,使其乾燥(步驟1 〇 3 )。 、 繼續,以燃燒器烘烤、燃燒所獲得的石英管(步發 104)。此時的燃燒溫度爲擴散係數以外的另一種指標二 具體而言,宜在1050°C至15〇〇。(:的燃燒溫度下進行。 此處,將燃燒溫度的適宜範圍限定在上述範園的理由, 係因若燃燒溫度超出該範園時,石英材料中之金屬擴散係 數在5.8E-10cm2/s以下的區域未達深度2〇〇μιη,在短時間 内,造成金屬原子穿透石英而複製到處理中的晶圓上,% 起污染等不良情況等弊端的發生。 此因,燃燒溫度與石英材料之擴散係數的關係,係當燥 燒溫度超過上述範圍時,擴散係數變大,亦即,擴散係數 小之深度方向的區域淺。 其次,再度實施回火,以消除坡度(步驟1〇5)。該回火 步驟宜在1〇5〇1至1200。(:下進行3〇分鐘至24〇分鐘。 繼續,《氟酸清洗後,#以純水清洗(步驟ι〇6)。該清 洗步驟係使用5%氟酸清洗1〇分鐘以上後,再以純水清 洗。繼續在潔淨環境的室内風乾,使其乾燥(步驟ι〇7)。 再度檢查如此製造出的石英管(步驟1〇8),成爲最後的 成品。 本實施形態之製造方法’由於係在材料選擇階段以第一 或第,種實施形態所示之分析方法求出正確的擴散係數, 根據該擴散係數選擇具備適切物性的石英材料,使用如此 選定之石英材料來製造石英管,因此,可以製造出對碎晶 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) ----- 裝------丨丨訂--------- c請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁} 497190 A7 五、發明說明(26 ) 圓實施熱處理時可以避免因金屬原子引起污染的石英管。 第四種實施形態 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以下參照圖式説明本發明的第四種實施形態: 圖1 1爲熱處理裝置的整體構成圖。圖1 1中的1爲直立型 處理爐,其係用於在高溫下處理被處理體之半導體晶圓, 該處理爐1具備水平基板2,其在中央部具有圓形的開口部 2 a。該基板2開口部2 a的下端開口,且其開口端插入具有 凸緣部3 a之縱長圓筒狀處理管的石英管3,該石英管3之 凸緣部3 a的邊緣邵安裝在基板2上,可以經由歧管拆下。 此外,石英管3的下側一體形成導入管部3 b,其係導入處 理氣體;及圖上未顯示的排出管部,其係排出處理氣體。 在上述石英管3的邊緣部設有加熱器5,用於在石英管3 内加熱,在該加熱器5與石英管3之間設有與石英管3同心 圓狀的均熱管,覆蓋石英管3,並促使加熱管5的加熱均 勻。上述加熱器5係將包含鐵(Fe)、鉻(Cr)及鋁(八丨)之合金 等的電阻發熱線5 a捲成線圈狀,並在其外側及上方設有將 其覆盍的隔熱材料7,該隔熱材料7的外側以圖上未顯示的 外殼覆蓋。另外,也可以採用包含二矽化鉬(M〇si2)或 Kanthal(商品名稱)等者作爲上述電阻發熱線5a。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 加熱器5在高度方向分割成數(如3〜5 )區,同時在各區 上配置溫度感應器8,各區獨立進行溫度控制。上述加熱 器5、隔熱材料7及外殼支撑在上述基板2上。上述均熱^ 6以碳化矽(SiC)等具有耐熱性的材料形成下端開口的縱長 圓筒狀,其下端部以圓環狀的隔熱支撑體9支撑在上述美 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 497190 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(27 ) 板2上 上述石英管—3的下方配置有蓋體5。,用於開啓關閉其下 端開口,該盍體5 0上,經由保溫筒5 2搭载有晶舟$ 1,其 係以水平狀態,於上下方向隔開多段支撑多二半導體晶 圓。上述蓋體5 0連結有升降機構5 3,其係執行將上述晶 舟5 1搬入及搬出石英管3内,同時開啓、關閉蓋體π 其次,説明上述構成之熱處理裝置的作用。首先,以加 熱器5將處理爐1的石英管3内加熱至特定溫度,同時以氮 氣除氣(Gas Purge)。在該狀態下打開蓋體5〇,藉由上下移 動保溫筒5 2及蓋體5 0,將支撑本道M曲曰同 才文俘牛導f豆晶圓的晶舟5 1裝入 石英管3内,以導入管部3 b供靡#挪与踰 仏I處理乳體,開始進行處 理。 於處理中,以溫度感應器8管理加熱器5保持處理所需的 溫度。 加熱器5通電開始加熱時,加熱器5變高溫,加叔哭5内 所含的銅等金屬原子自加熱器5中逸出附著在石英管3的表 面0 但是,該石英管3係以上述第—或第二種實施形態中詳 权分析万法確認係以擴散係數極小的材料形成。因而, 附著在石英管3表面的銅等金屬焊早 T至屬原子不易擴散至石英管3的 内側。因此,可以擴散到读石盆其 卜 庚收〗運石奂管3内側表面的金屬原子 幾乎等於零’縱使在加散處理日Φ …&里0f,石英管3的内側依然保 持在極潔淨的狀態。所以,可予自六 J尤、防鋼寺金屬原子附著在熱 處理中的晶圓上造成污染的問題。 — — — — — — — — — — ·1111111 ^ « — — — — — I — . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -30 - ^/190 ^/190 五 、發明說明(28 ) 另外’本發明並不限定於上述的實施形態,只要屬本發 明要旨的範圍内,可以有各種類似實施形態。例如,上述 貫施形悲係以直立型的處理爐1爲例,不過也可以採用橫 式的處理爐。此外,被處理體,除了半導體晶圓之外,也 可以是L C D等。 本發明可以高精密度的分析方法求得可靠性高的擴散係 ,。此外,由於係藉由以高精密度之分析方法求得可靠性 鬲之擴散係數來選擇石英材料的品質,因此,可以獲得使 用在金屬原子擴散不易之石英管等半導體製造裝置上的石 英構件。 利用在產業上的可行性 本發明之石英構件可以在玻璃製造等原料產業中生產。 所製造<石英構件可以用於半導體製造裝置的零件上。因 此,可以使用在半導體製造裝置的製造產業上。 、止=外’本發明之石英構件的製造方法可以使用在玻璃製 等原料產業上。以該製造方法所製造出的石英構件可以 用於半導體製造裝置的零件上。因此,可以使用在半導體 製造裝置的製造產業上。 此外,本發明之熱處理裝置可以在半導體製造裝置的製 造產業中製造。所製造出·的熱處理裝置可以使用在半導體 製造產業上。 =夕卜’本發明之分析方法可錢用在麵製 料產 業上。 ----------I i — — — — — — — — — — — — (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -31 -

Claims (1)

  1. C8 -------58 —_ 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁) h —種半導體製造裝置用石英構件,其係以石英材料形 成忒石英材料具有深度200μηι以上之擴散係數D爲 5-8E-l〇cm2/sa下的金屬擴散區域。 2·如申請專利範圍第丨項之半導體製造裝置用石英構件, 〜其中上逑擴散係數係以石英構件中之金屬分析方法求 得’其方法具備: 露出步驟,其係使位於石英試劑中之所需深度的被分 析層露出; 分離步驟,其係化學分解上述被分析層,自上述石英 試劑中分離出分解物; 分析步驟,其係分析上述被分離之分解物中的金屬 量;及 計算步驟,其係從上述被分析層於分解前之上述石英 試劑與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積。 3·如申請專利範圍第2項之半導體製造裝置用石英構件, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 其中上述分析方法中之求出上述被分析層體積的步 驟,係從上述被分析層於分解前之上述石英試劑與上述 分解物被分離後之上述石英試劑的厚度變化換算,來求 出上述被分析層的體積。 4.如申請專利範圍第2項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之求出上述被分析層體積的步 驟,係從上述被分析層於分解前之上述石英試劑與上述 为解物被力離後之上述石英試劑的重量變化換算,來東 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 出上述被分析層的體積。 5.如申請專利範圍第丨項之 上ϋίΛ埤π ^ 亨把裊绝装置用石英構件, 其方法具備·· 夂i屬艾分析方法求出, 第一步驟,其係使位於石英試劑中 析層露出; 之所需深度的被分 第二步驟 試劑中分離出:::學分解上述被分析層,自上述石英 第三步驟 量 ’其係分析上述被分離之分 解物中的金屬 第四步驟,其係從上述被分析層於分解前之上述石英 成劑與上述特物被㈣後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積; 第五步驟,其係使上述被分析層在厚度方向更内側的 被分析層露出;及 第六步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至上述第 五步驟,求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬濃度 分佈。 6.如申請專利範圍第2項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之上述被分析層露出步驟,係以 氟酸蝕刻上述石英試劑的表面。 7·如申請專利範圍第5項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述;,析方法中之露出上述被分析層的第一及/或 第五步驟,係以氟酸蝕刻上述石英試劑的表面。 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------訂-----1---線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 497190 A8 B8 C8 D8 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 六、申請專利範圍 8·如申請專利範圍第2項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之分離步驟,其係化學分解上述 被刀析層,自上述石英試劑中分離出分解物,其具備: 滴下步驟,其係在上述露出之被分析層 上滴 解液; 刀 刀解步驟,其係使上述滴下之分解液保持特定時間後 分解上述被分析層;及 回收步驟,其係回收上述被分析層被分解後所含的分 解液。 9.如申請專利範圍第5項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之第二步驟,其係化學分解上述 被分析層,自上述石英試劑中分離出分解物,其具備: 滴下步驟,其係在上述露出之被分析層表面上滴下分 解液; 分解步驟,其係使上述滴下之分解液保持特定時間後 分解上述被分析層;及 回收步驟,其係回收上述被分析層被分解後所含的分 解液。 10·如申請專利範圍第8之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、硫酸 及過氧化氫群中選擇之一種或兩種以上並與氟酸的混合 液。 口 11·如申請專利範圍第9項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、硫酸 --------------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -34 - 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 及過氧化氫群中選擇之一種或兩種以上並與氟酸的混合 液。 12·如申請專利範圍第2項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之分析步驟,其係分析上述分離 之分解物中的金屬量, 汶步驟係採用原子吸光分析法、感應結合電漿原子發 光分析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 13.如申请專利範圍第5項之半導體製造裝置用石英構件, 其中上述分析方法中之第三步驟,其係分析上述分離 之分解物中的金屬量, 4步驟係採用原子吸光分析法、感應結合電漿原子發 光分析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 14·如申請專利範圍第丨項之半導體製造裝置用石英構件, 其中含有60pg/g以下的烴基(水酸基)。 15.如申請專利範圍第丨項之半導體製造裝置用石英構件, 其中熱處理溫度爲l〇5〇°C至1500°C。 16·如申請專利範圍第丨項之半導體製造裝置用石英構件, 其具有2.2016至2.2027g/cm3的密度。 17. 如申請專利範圍第1項之半導體製造裝置用石英構件, 其具有5ng/g以下的含銅率。 18. 如申請專利範圍第1項之半導體製造裝置用石英構件, 其係以電熔融法形成。 19·如申請專利範園第1項之半導體製造裝置用石英構件, 其係使用在石英玻璃爐心管上。 35 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規袼(210 X 297公釐) ------------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 497190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 20· —種半導體製造裝置用石英構件之製造方法,其具有: 石英材料形成步驟,其係200μηι以上具備擴散係數D 爲5.8E_l〇cm2/s以下的金屬擴散區域·,及 將上述形成之石英材料管狀成形的步驟。 21.如申請專利範圍第2 〇項之半導體製造裝置用石英構件之 製造方法, 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出, 其方法具備: 露出步驟,其係使位於石英試劑中之所需深度的被分 析層露出; 分離步驟’其係化學分解上述被分析層,自上述石英 試劑中分離出分解物; 分析步驟,其係分析上述被分離之分解物中的金屬 量;及 计算步骤,其係從上述被分析層於分解前之上述石英 試劑與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積。 22·如申請專利範圍第2〇項之半導體製造裝置用石英構件之 製造方法, 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出, 其方法具備: 第一步驟,其係使位於石英試劑中之所需深度的被分 析層露出; 第二步驟,其係化學分解上述被分析層, 36- 私紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(ϋ挪公爱 上述石英 ------------裂--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 禮· 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 試劑中分離出分解物; 第二步驟’其係分析上述被分離之分解物中的金屬 量; 第四步驟,其係從上述被分析層於分解前之上述石英 試劑與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積; 、第五步驟’其係使上述被分析層在厚度方向更内側的 被分析層露出;及 第六步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至上述第 五步驟,求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬濃度 分佈。 23· —種熱處理裝置,其具備: 本把’其係劃足向上下方向延伸之圓筒狀的熱處理 間; 石英官,其係設置於上述熱處理空間内,收容被處 基板,該石英管以石英材料形成,其係在深度2〇〇μιη 上具有擴散係數D爲5.8E-l〇cm2/s以下的金屬擴散區域; 加熱器,其係將上述石英管的外表面加熱; 氣體供應系統,其係供應氣體至上述石英管内;及 保持手段,其係在數個被處理基板維持相互水平的狀 態下,保持可以進出上述石英管内。 24.如申請專利範圍第23項之熱處理裝置, 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出, 其方法具備: 空 理 以 ^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -37- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、申凊專利範圍析=驟,其係使位於石英試劑中之所需深度 分離步驟,其係化學分解上述被分析層, 喊劑中分離出分解物; 量步驟’其係分析上述被分離之分解物中的金 ΘIt步% ’其係從上述被分析層於分解前之上述石英 屯 上述石奂试劑的體積變化 孓出上述被分析層的體積。 25.如申請專利範圍第23項之熱處理裝置, 上述擴散係數以石英構件中之金屬之分析方法求出, 其方法具備: 第-步驟’其係使位於石英試劑中之所f深度的被分 析層露出; 第二步驟,其係化學分解上述被分析層,自上述石英 試劑中分離出分解物; 第三步驟,其係分析上述被分 量; 的被分 上述石英 屬 離之分解物中的金屬 ^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第四㈣,其係從上述被分析層#分解前之上述石英 試劑與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積; 第五步驟’其係使上述被分析層在厚度方向更内側的 被分析層露出;及 第六步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至上述第 -38- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 申凊專利範圍 分佈:求出上述石英武劑之厚度方向的擴散金屬濃度 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 係翁#構件中〈金屬〈分析方法,其係用於求出擴散 係數,其具備: :出㈣’其係使位於石英試劑中之所需深度的被分 析層露出; 分離步驟’其係化學分解上述被分析層,自上述石英 试劑中分離出分解物; 刀析步粒,其係分析上述被分離之分解物中的金屬 量;及 2算步%,其係從上述被分析層於分解前之上述石英 、式J與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積。 27.如申請專利範圍第26項之石英構件中之金屬之分析方 法,其中求出上述被分析層體積的步驟,係從上述被分 析層於分解前之上述石英試劑與上述分解物被分離後之 上述石英試劑的厚度變化換算,來求出上述被分析層的 體積。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 8 ·如申請專利範圍第2 6項石英構件中之金屬之分析方法, 其中求出上述被分析層體積的步驟,係從上述被分析層 於分解前之上述石英試劑與上述分解物被分離後之上述 石英試劑的重量變化換算,來求出上述被分析層的體 積。 29· —種石英構件中之金屬之分析方法,其係用於求出擴散 -39- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 上述被分離之分解物中的金屬 申請專利範IS 係數,其具備·· 析第層露:秘’其係使位於石英試劑中之所需深度的被分 第二步驟,其係化學分解上 4x、 于刀螂上迷被分析層,自上述石英 4劑中分離出分解物; 第三步驟,其係分析 量; 第四步驟’其係從上述被分析層於分解前之上述石英 忒d與上述分解物被分離後之上述石英試劑的體積變化 求出上述被分析層的體積; 第五步驟,其係使上述被分析層在厚度方向更内側的 被分析層露出;及 第六步驟,其係藉由反覆實施上述第二步驟至上述第 五步驟,求出上述石英試劑之厚度方向的擴散金屬濃度 分佈。 30·如申請專利範圍第2 6項之石英構件中之金屬之分析方 法,其中上述被分析層露出步驟,係以氟酸蝕刻上述石 英試劑的表面。 31. 如申請專利範園第2 9項之石英構件中之金屬之分析方 法’其中露出上述被分析層的第一及/或第五步驟,係 以氟酸蝕刻上述石英試劑的表面。 32. 如申請專利範圍第26項之石英構件中之金屬之分析方 法, 其中分離步驟,其係化學分解上述被分析層,自上述 •40 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    六、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 石英試劑中分離出分解物,其具備: 商下步%,其係在上述露出之、^ ^ 解液; 刀叫臂衣面上滴下分 分解步驟,其係使上述滴下 分解上述被分析層4 下〈刀解履保持特定時間後 解:收步叛’其係回收上述被分析層被分解後所含的分 1申請專利範圍第29項之石英構件中之金屬之分析方 其_中第二步驟,其係化學分解上述被分析層,自上述 石英減劑中分離出分解物,其具備: 滴下步驟’其係在上述露出之被分析層表面上滴下分 解液; 解步%,其係使上述滴下之分解液保持特定時間後 分解上述被分析層;及 回收步.14,其係回收上述被分析層被分解後所含的分 解液。 34.如申請專利範圍第32項之石英構件中之金屬之分析方 法,其中上述分解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、硫 酸及過氧化氫群中選擇之一種或兩種以上並與氟酸的混 合液。 35·如申請專利範圍第3 3項之石英構件中之金屬之分析方 法,其中上述分解液係單一氟酸或包含硝酸、鹽酸、硫 酸及過氧化氫群中選擇之一種或兩種以上並與氟酸的混 -41 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 497190 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 合液。 36·如申請專利範圍第2 6項之石英構件中之金屬之分析方 法’其中分析步驟,其係分析上述分離之分解物中的金 屬量’該步驟係採用原子吸光分析法、感應結合電漿原 子發光分析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 37·如申請專利範圍第2 9項之石英構件中之金屬之分析方 法,其中第三步驟,其係分析上述分離之分解物中的金 屬量,該步驟係採用原子吸光分析法、感應結合電裝原 子發光分析法或感應結合電漿質量分析法來實施。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -42- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
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