TW497011B

TW497011B - Alkylsulfonyloximes for high-resolution i-line photoresists of high sensitivity

Info

Publication number: TW497011B
Application number: TW086112586A
Authority: TW
Inventors: Kurt Dietliker; Martin Kunz; Hitoshi Yamato; Leo Christoph De
Original assignee: Cida Specialty Chemicals Holdi
Priority date: 1996-09-02
Filing date: 1997-09-02
Publication date: 2002-08-01
Also published as: JP2000517067A; MY118505A; KR100686473B1; CN1228851A; ES2194218T3; ATE237830T1; EP0925529B1; DE69721019D1; CA2263254A1; ID17338A; DE69721019T2; KR20000068387A; EP0925529A1; BR9713311A; CN1133901C; JP3875271B2; WO1998010335A1; AU726458B2; AU4455297A

Description

I497011 經濟部中央標準局員工消贽合作社印製 A7 B7五、發明説明（上，）共聚物，也為習知者，在E P — A — 0 2 4 1 4 2 3中有揭示。依照此參考文獻，2 0 0至6 Ο Ο n m的輻射可用於使光阻曝光。然丨衍》這些光I沮的缺點是解析度和敏度從來不會同時令人感到滿意。在經過汞i線範圍輻射之下曝光的情況更是如此，i線的波長為3 6 5 n m，經常用於光阻薄膜的影像樣態曝光》這是因為用於製造具備高敏度的這些波長的光的汞中壓及汞高壓燈為昂貴的照射源。 (£ Masamitsu S h i i* a i 及 M a s a h i r ο Ϊ s u η ο o k a 所著 ’’Photochemistry o f I m i η o Sulfonate Compounds and Their Application to Chemically Amplified Resists*1 文獻 M 及 P h o t ο p ο 1 y ni e r Science and Technology, Vol. 3 ( 3 )， 1 9 9 0 , p . 3 ϋ 1 - 3 0 4當中，也揭示M肟磺酸酯作為酸產生劑以及聚（對-三级丁氧基羰基氧基苯乙烯）作為酸敏性成份為基礎的ib學放大光阻組成物-苯乙烯成份分解，被酸產生劑經照射曝光所產生酸所催ib，而形成聚（對-羥基苯乙烯）。此造成曝光區域在鹼性顯影劑中變為可溶解，所Μ用此類顯影劑可Μ得到正影像、所述的肟磺酸酯在紫外線/可見光(U V / V I S )光譜中約2 5 0奈米有Μ大吸收，但是在波長為3 1 3奈米及更高波長中的光照吸收低如此只發琨組成物對3 1 3奈米輻射為低敏性 1 (:;B — Λ 2 3 0 5 8敘述使用肟磺酸酯作為光馼性酸産生刪，其特別適合用於波昆高於3 9 0奈米的光。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙张尺度適用屮國國家標芈（CNS ) Λ4规格（210X 297公釐） 497011 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 ! A7 B7五、發明説明（3、）然而，使用這些起始劑所得到的光阻配方的解析度和敏度並不能令人感到滿意。據上所述，仍然窬要反應性潛在酸產生劑，此酸產生劑在熱及化學上很穩定，經過光的活ib之後，特別是具備汞i線波S ( 3 6 5奈米）的照射之後，可作為不同酸一催ib反應，例如聚縮合反應，酸-催化解聚反應，酸一催化親電性取代反應或酸-催化除去保護基等，之觸媒。特別是需要一種酸產生劑，此酸產生劑可被光活化》使用後會使系統有較高的敏度和較優良的解析度，具備改善的性質，例如光阻輪靡外形和側壁陡度。再者，需要曝光會被轉換成酸且可作為光阻配方中的溶解抑制劑的化合物。 IJ S 5 6 2 7 Ο 1 1揭示一種肟磺酸酯ib合物在高敏度的高解析度i線光阻的應用。然而，此公報只提到可以產生芳香系磺酸的肟磺酸酯化合物。令人感到驚訝的是，頃發琨當藉由光ib學方式產生烷基磺酸時*會得到優良敏度、解析度和具備優良光阻輪鄹的光阻。在其它不含任何磺酸基的肟之中，U S 4 4 5 1 2 8 6揭示甲基fiM醯氧基亞胺苄基IUL·物、甲基磺_氧基亞胺禁基Μ化物和甲基磺醯氧基亞胺一 3 - 6S代苯基讓化物等 ib合物與乙醯替氯笨胺化合物的組合，作為植物保護基。本發明提烘具授良解析度及饅良敏度的光阻組成物 ‘1 。這些性質特別是在纪阻組成物曝光於波良約為3 6 5奈米之汞彳線範圍内時可看到。 (請先閲讀背面之注意事 4 •項再填. 裝-- :寫本頁) 訂 Φ 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) Λ4規格（210XM7公釐） 497011 A7 B7 五、發明説明（★、）令人感到驚訝的是，在使用Μ下式I的肟烷基磺酸醋可Κ達到優良的解析度和出色的敏度，肟烷基磺酸_係針對分子的發色部份予Κ特別選擇而作為可在水性鹼性媒介中顯影的化學放大光阻組成物中的光酸產生劑。此適用於含有酸敏性成份的相對應負光阻及正光阻，該成份進行酸催化學反應，而改變組成物在水性鹼性顯影劑中的溶解度〇據上所述，本發明係關於可被光活化的組成物，其包括 (a )至少一種ib含物，可被酸作用交聯和/或 (b )至少一種化合物*在酸作用之下改變其溶解度·和 (c )作為光起始劑的至少一種式1化合物 NCx m /C 二 N — 〇一 S〇2—R3 (1)

R •裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 其基萘為 s 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝烷¾

R 為

接直為X 氫為 /4— •収基 z ; 或 R 子代或原取 X 氧經 I 或未基或 TT* Tfo c c C ^ 的 Μ 斷坫間t!i 原選 ί 經 ο 成 i 代被収可經或术的為

c C 本紙張尺度適州中國囡家標準（CMS ) Λ4現格（2丨OX 297公鏟） 497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ! A7 B7 五、發明説明（5*、） C 4 )烷基和（C i — C 4 )烷氧基的組群取代的苯基；

Rz為氫或（Ci —C4 )烷基；和 R3為直鍵或支謎（Ci — Ci 2 )烷基*其未經取代或經一或多個鹵原子取代，或為笨基一（C i 一 C 2 ) 烷或坎培基（c a ni p h e r y 1 );此組成物除了成份（c ) Μ夕卜，可含有其它光起始劑、敏化劑和/或添加劑。本發明也關於式1化合物在對波長高達3 9 0奈米之照射敏感的光阻劑中作為光敏性酸產生劑的應用。本發明更關於一種可在鹼性媒介中顯影的化學放大光阻，其對3 4 0至3 9 0奈米範圍的照射敏感，光阻係以作為光敏性酸產生劑的肟烷基磺酸酯為基礎，並含有如上所述式1化合物作為肟烷基磺酸酯。依據本發明，可能使用式1的肟烷基磺酸酯的異構物形式（順式一反式異構物，也就是習知的E / Ζ —或順式 /反式異構物）的混合物。本發明的S的特別是提供包括式1化合物的光阻。這呰光阻包括可在鹼性媒介中顯影且對3 4 0至3 9〇奈米範圍的照射敏感的化學放大、正光丨ifl，此光阻係Μ作為光敏性酸產生劑的肟烷基磺酸酯為基礎*並含有如上所述式 1化合物作為眄烷基磺酸酯，其中X ，R ，R 0 > R 1 ， R ζ和R 3也具爝上述定義。 1 木發明的另〜以體賞_例ί系關於可在鹼性媒介中顯影且劉3 4 0至3 9 0奈米範圍的照射敏感的化學放大、負 -8- 本紙張尺度適州屮阀國家標準（CNS ) Λ4规格（210Χ29?公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 、1Τ 497011 A7 B7 五、發明説明（L) 光阻，此光阻ί系以作 S礎，並含有如上所

R ， R R 3和 (C 1 - C 4 )烷基 (C i 一 C 4 :)烷基的苯基；R 2為氫或本發明光阻的兩範圍尺寸的结構單元，所使用的輻射約為在S材上的结構表琨的照射具備優越石印因選定作為酸產生劑。新穎的光阻因此在是其優點是其作業辐常容地進行曝光。光阻較佳包括式為光敏性酸產生劑的肟烷基磺酸酯為述式1化合物作為肟烷基磺酸酯，其 X也具備上述定義，Ri為氫，或未經取代或經選自包括氯，溴，和（C i 一 C 4 )烷氧基的組群取代 (C i 一 C 4 )烷基。種具體實施例能夠很快地解析次微米，典型為尺寸低至0 · 3微米的结構 3 4 0至3 9 0奈米。顯影之後殘留非常優良的側壁陡度。光阻更對給予術敏度。此特色特別令人感到意外，的肟烷基磺酸酯甚少吸收此波長輻射石印術性質方面符合深U V光阻，但射範圍為近U V範圍，技術上可K非 1 ib合物*其中裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 R為

R.— X

;X為直接鐽或氧原子；Ri為 (C 1 - C ,)烷基或苯基；Rs為直鍵或支鐽的（Ci —C i z )烷魅，其未經取代或經一或多個鹵原子取代。本發明lii關於式1出合物作為可在酸作用下交聯的化合物的起始劑的應用或/和作為在酸作用下改變其溶解度 -9- 本紙張尺度適州中國國家標车（CNS ) Λ4规格（210X 297公釐 497011 A7 B7 五、發明説明（1 ) 的化合物的溶解抑制劑，其中照射係Μ，例如，影像樣態進行。一些式1 ib合物為新穎的。據上所述，本發明也關於式1 a化合物 NC、 r:C=N-〇-s〇2-r3

(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其中R為萘基或 R〇為 Ri — X 或 Rz X為直接鍵，氧原子或硫原子； R i為氫，（C i — C 4 )烷基或未經取代或經選自包括氯，漠，（C 1 — C 4 )焼基和（C 1 一 C 4 )焼氧基的組群取代的苯基； R 2為氫或（C i 一 C 4 )烷基；和 R 3為直鏈或支鏈（C ! 一 C ! 2 )烷基，其未經取代或經一或多個鹵原子取代；經濟部中央標準局員工消費合作社印聚如果R 3為甲基，R不為萘基，笨基或3 —噻吩基。定義為（C 1 — C 4 )院基的R 1和R 2個自獨乂為甲基，乙基，正丙基，異丙基*正丁基，異丁基，二级丁基或三級丁基。定義為直鍵或支鐽的（c i — C i 2 )烷基的R 3典 t 型為甲基，乙莛，正丙基，異丙基，正丁基，異丁基，二级丁基，三级丁基，正辛基或正十二基。如果（c i 一 >10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X 297公釐） 497011 A7 B7 五、發明説明（〇 1 2 )烷基R 3為鹵素所取代，則其為，例如氯甲基，三氯甲基，3 —氯丙基，三氟甲基或衍生自所述烷基的完全氟化越。經-·或多個鹵素取代，例如經一至三個或二個鹵素，較佳經一至三個鹵素取代。本發明較佳的光阻、卬刷板、滤色器或影像記錄材料系統包括下式的肟烷基磺酸酯化合物

NC、 R—X

R〇 C^N-O-SO —R3 ^ 、S c=n-o-so —R. /

NC 2 *3 裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印¾ 其中X為直鍵鍵或氧原子，Ri為氫，苯基或（Ci 一 C 4 )烷基，R 2為氫或（C ! — C 4 )烷基，R 3為直鏈或支鍵（C i - C 8 )烷基，三氯甲基或三氟甲基。這些光阻當中，特佳者為其中X為直鏈鍵或氧原子， R L為（C i — C 4 )烷基，較佳為甲基或乙基，或苯基，R 2為氫或甲基的肟磺酸酯化合物。特佳者為X為直接鐽或氧，R,為甲基，Rz為氫原子或甲基* R3為 C Η 3 ，C C 1 3 或 C F 3 基。較佳&為Μ作為酸產生劑的式1 ib合物為基礎的光阻其中R為 R 〇為氫，R 3為未經取代或經或多flil鹵原子収代的1謎或支Μ

C 烷訂 11- 本紙张尺度通丨fl屮國國家標攀（CNS ) Λ4規格（21ΟΧΜ7公鐘） 497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 kl B7

五、發明説明（D 較佳的ib合物為那些式1 a ib合物，其中X為直鍵或氧原子，R i為氫或（C i — C 4 )烷基，R 3為未經取代或經一或多個鹵原子取代的直鏈或支鏈的（C i 一 C 8 )烷基或C C 1 3或C F 3 〇特佳的化合物為α — （甲基磺_氧基亞胺基.）一 4 一甲氧基苄基氣化物，α — （甲基磺醯氧基亞胺基：）一 3 — 甲氧基苄基氰化物），α — （甲基磺醯氧基亞胺基）一 4 一甲基苄基氰化物，α — （甲基磺_氧基亞胺基）一 3 ， 4 —二甲基苄基氰化物，α — （甲基磺醯氧基亞胺基）暖吩—3 —乙腈，α — （甲基磺醯氧基亞胺基）噻吩一 2 — 乙腈，α —(異丙基磺醯氧基亞胺基）噬吩一 2 —乙腈， α — (丁基磺醯氧基亞胺基）噻吩一 2 —乙腈，α — （十二基磺醯氧基亞胺基）瞎吩一2 —乙腈，α - （十二基磺酿氧基Α胺基）睡盼-2 —乙臈，α — ( 3 —氯内基骚隨氧基亞胺基）噻吩—2 —乙腈* u —(三氣甲基磺_氧基亞胺基）噬吩—2 —乙腈，α — （辛基磺醯氧基亞胺基） •- 4 —中氧基苄基氣化物，α — ( 3 —氯丙基磺驢氧基亞胺基）一 4 —甲氧·节基氰ib物。異構物形式（順式一反式異構物，也稱為E / Z -或順式/反式異構物）的混合物也具新穎性。新穎的式1或1 a的肟烷基磺酸酯可由文獻中所述方法加W製造，例如使合適的自山迆式2 II弓與式3的烷基礦酸_化物在鹼如三乙胺存在下反應*或者使肟酯與烷基磺 -1 2- 木紙張尺欢適州中國國家標準（CNS ) Λ.彳.¾格（210>·:297公釐） -裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印t ! A7 B7五、發明説明（〜）酸M ib物反應。這些方法已經在Ε Ρ — A 4 8 6 1 5中公開 NC \ C = N — 〇H + CIS〇2-R3 / R (2) (3) ⑴鄭 a) 反應係方便地在惰性有機溶劑中及三级胺存在下進行肟的納酯可得S於，例如使相對應肟與醇酸納在二甲基甲_胺（D M F )中反應。含雜環芳香五環取代基的肟烷基磺酸衍生物也可以製造於合適烷基磺酸衍生物*典型為肟基丙二腈 (ο X i ni i η 〇 iu a 1 〇 d i η i t r i 1 e )或阴基氰醋酸酯 (o x i πι i η o c y a η o a c e t. ate) 的酯類與合適的1 ，3 -偶極化合物如腈氧化物的1 ，3 -偶極環加成作用。此類合成在 J . P e r r o c h e a u , R . Carre, Bull. S o c . C h i m · Beige 1 9 il 4，1 (] 3 , 9 中有記載。肟烷基磺酸酯可得自於順式（E , ? c i s )或反式（Z , t r a u s )形式或者也可為兩種構象體（c 〇 ii f 〇 ria e r )的混合物。依據本發明，可M使用單一搆象體Μ及任何二種構象體的混合物。反應所需要的肟(2 )可依習知方法中大致類丨U方法加Μ製造，例如使含Φ撐基的iL·合物，例如τ il氣ib物衍生物或苯基醋酸衍生物，與烷基腈，例如甲基腈或異戊基 -1 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210 X 297公楚） NC \

II

R C = N—0 —S —R,/ II 〇裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 497011 A7 B7 ,經濟部中央標準局員工消費合作社印製五、發明説明（,卜) 111 ί K 及醇酸納 > 例如甲醇酸納反應此類反應在 ’’The sy s t e in at, i c id e n t, i fi c a t i ο η of 0 Γ ga ni C C 0 111 P 0 U n d s”， Jo h ii W i 1 ey a n d S on s , N e w Υ or k , 1 9 8 0 , P • 1 8 1 Μ 及” Die M a k r o m ol e k u 1 a r e Ch e m i e > 1 9 6 7 , 1 08 > 17 〇 , 或” Or ga n i c Sy n t. li e s i s，， 19 7 9 j 59 y 9 5 中有記戦〇肟也可 K 得白於相對應羰基 ib 合物或硫代羰基化合物與羥基胺的反應 O 肟也可 K 羥芳香糸的亞硝化作用加 Μ 製造。製造烷基磺酸鹵化物（3 )對熟習此技藝人士而言係習知的，且在，例如標準化學教科書中有記載。在光硬化組成物中，肟磺酸酯作為潛在性硬化觸媒：當被輻射照射時，肟磺酸酯產生酸而催化交聯反應。除此之外，_射照射所產生的酸例如可以催化從聚合物结搆除去合適的酸敏性保護基，或者切斷聚合物骨架含酸敏性基的聚合物：其它應用上例如為Μ例如經酸敏性保護基保護的顔枓的ρ II或溶解度改變為基礎的顔色變化系統。最後，甚少溶於水性鹼性顯影劑中的肟磺酸酯在經過光誘導轉换成為自由態酸的作用下可成為可溶於顯影劑中，结果可與合適的成膜樹脂·起作為溶解抑制劑。可被酸觸媒作用所交聯的樹脂例如為多官能基醇類或含羥基丙烯酸和聚酯澍脂的混合物*或部份水解的聚 1 聚乙烯_縮乙_ ( Ρ ϋ 1 y V i n y ] a c d a 1 )或聚乙烯醇與多官能丛締乙猎衍生物。ίι: !ί些情況下、例如縮乙官能基樹脂本紙掁尺度適州中國®家標率（CNS ) Λ4现格（210X29?公籍） -裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 497011 A7 B7 五、發明説明（Ρ ) 的酸催ib的自行縮合也可行。除此之外j肟磺酸酯可作為，例如含矽氧烷基樹脂的硬ib劑，經照射而活ib。那些樹脂例如藉由酸催化水解而進行自行縮合，或者可用第二樹脂成份如多官能基醇、含羥基丙烯酸或聚酯樹脂、部份水解的聚乙烯醇縮乙醛或聚乙烯酵進行交聯。此型態的聚矽氧烷的聚縮合例如記載於 J . J . L e b r u η, Η. Ρ ο d e, Comprehensive Polymer Science, Volume 5 , page 5 9 3 , P e r g a ηι ο n Press, Oxford, 1 9 8 9 . 如同先前所述，經過照射及未經過照射部份之間在光姐經過照射期間或之後的光阻材料酸催化反應所造成在溶解度的差異*依光阻中的組成份而分為兩種型態。如果本發明的組成物包括會提高組成物在顯影劑中溶解度的成份，光阻為正。另一方面，如果這些成份會降低組成物的溶解度，則光阻為負。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 產生負光阻特徵的酸敏性成份特別是在被酸（式I ib 合物在被照射期間所產生的酸）催化時能夠自身或著與一或多種組成物中的成份進行交聯反應的化合物◊此型態的化合物例如為習知的酸硬化樹脂，例如丙烯酸樹脂，聚酯樹脂，醇酸樹脂，二聚氰醯胺，塚素，環氧樹脂和_樹脂，或者其混合物。胺樹腊，Si)澍脂和環氧樹脂特別適合。此型態的酸硬ib樹脂…般為習知的，例如記載於U 1 1 m a η η ’ s Κ η c y c I ο l) a d i e d e r l c h n i s c h e n C ii e m i e , 4th Edition, V ο 1 . 1 5 ( 1 9 7 8 )， p · β 1 3 - G 2 8。該化合物--般的濃度為2 -1 5 - 本紙张尺度適用屮國國家標準（r'NS ) Λ4规格（210X2^7公縫） 497011 A7 B7 五、發明説明（Ο ) 至4 0%重量，較佳為5至30%重量* Μ負組成物中白勺總固體含量為基礎。非常適合的酸硬化樹脂為胺阍脂，例如非醚ib或醚化的三聚氯醯胺，尿素，胍或縮二脲樹脂，較佳為甲基化的三聚氣醯胺樹脂或丁基化的三聚氮醯胺樹脂，相對應的甘 fl脲和糖醆。在本文中應理解樹脂為習用的技術混合物，通常也包括寡聚物，Μ及純和高純度化合物。N —甲氧基甲基二聚氯醯胺（式7 )和四甲氧基甲基甘脲（式8 )和Ν ，Ν < —二甲氧基甲基糖醛（式9)為最佳的酸硬化樹脂 H3C、〇an产Ο〆％ ,Ο-CH, 1· ϋϋ —ϋ - I- m_i —ϋ m ϋϋ n (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) H3C、〇 N 〇 CH.

、1T

从、〇〇〆 I I CH, CHQ ⑺； (8)； h3c—cr 、〇一chu

HqC—〇义

N 、〇-CH3 (9)· •看經濟部中央標準局員:!:消費合阼社印鉍

、CT 式I化合物在:負光15且中的濃度典型為0 · 1至3 0 % 重Μ，較佳為多達2 0 %重量，同樣地K組成物的總固體含Μ為基礎。1至1 5 %重量為最佳的濃度。合適的話，負組成物可額外地包括成膜聚合结合劑、此沾η麵較洼為坷溶於鹼的酚樹脂、'適合此目的者例如為酚醛，衍生0醛，典型為乙_或簡醒，但是特別為衍生_ -1 6- 本紙張尺度適用中因國家標準（CNS ) Λ4規格（21〇Χ2()7公艟） 497011

I A7 B7 五、發明説明（4、）甲醛，K及酚，冽如未經取代的鼢、單氯取代或二氯取代的_，例如對—氯酚、經(C 1 - C ,)烷基單一取代或二取代的酚，例如郯一、間一或對甲酚，各種二甲酚，對 --Η级丁基酚，對一壬基酚，對一笨基酚，間笨二酚，雙 (4 —羥基苯基）甲烷或2 ，2 —雙（4 一羥基苯基）丙烷。也適合者為Κ乙烯系不飽和酚為基礎的均聚物和共聚合物，例如乙烯基-和1 -丙烯基一取代的酚的均聚物，例如對一乙烯基鼢或對（1-丙烯基）酚，或這些酚與一或多種乙烯系不飽和材料，例如苯乙烯，的共聚物。结合劑的數量一般應該為3 0 %至9 5 %重量，較佳為4〇％至8 0 %重量。如此，本發明的一特殊具體實施例包括可以在大於 3 9 0奈米Κ上波長的照射下於鹼性媒介中顯影的負光阻，其包括上述式I的肟烷基磺酸酯*作為结合劑之可溶於鹼的酚樹脂和被酸催化時會自行進行交聯反應和/或與结合劑進行交聯反應的成份。經濟部中央標準局’負工消費合作社印t (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 特佳的負光阻形式為1 %至1 5 %重量的肟烷基磺酸 Sp > 4 0 %至9 9 %重量的作為结合劑的齡樹脂，例如上述中-種，K及0 * 5 %至3 0 %;重量的作為交聯劑的三聚氯_胺樹脂，上述百分比係相對於組成物的固體含量而存。使用酚_，或者特別是聚乙婦S3作為结合劑時，會得到性質特別優良的負光阻。最奸使用的負光為S活高純度或技術形式的N —甲 -1 7 一本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4规格（210X 297公釐） 497011 A7 B7 五、發明説明（σ 胺釀氮聚三基甲 Ν Ν 和腺基甲基氧甲四旨過基經甲 Κ) 可基劑丙生氧產環酸 ί 此聚，如劑中生統產系酸阻樹為光胺作負為Κ於作可用醛出使糖酯而基酸ib 甲磺活基肟學氧ih 甲光在應反 £ur $ 交類此 Ο 應反交 ib3 1199 酸1 的 S 酯11 酸01 烯P 丙ill

7 1X 載記有中被顯 t性下鹼在用存習酸於在溶是可但物中產鹼應於反溶的可留，殘物種合一 ibM 合夠聚能或者體或單 ’ 斷切 lr PP 夕 S 額。的排酸重耐被和内性中鹼分於在溶，抑可式解外方溶另的為成溶稱造可被或成中 \ 變文和屮本 , 劑在式影質方顯物的在的中劑態劑合型 '-·> fl 泰 ^ 種劑制 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ♦ 裝· 在Irlb % 的可影種顯一中括介包媒此性因鹼明於發下本射 ’ 照中的例長施波實米體奈 ϋπΤ ο -IV. ΛΗΜ cl 殊 3 特至 : ο 另 4 式 S JJJ EJ h 其質 ’ 實阻物防預此存 , 酸物在合是 ib但 II’ 一 ^1 少劑 1'· ·/% 7ΓΙΜ 及顯 Κ性 , 鹼物於合溶 ib物的成 rt ιί·方 ΚΚ 勺 :口V AM rr 斷劑切影皮頁 t性 F .¾ ί ή 片 Μ 夠 Ltl ,0 利習的於劑溶影可顯物於產溶應不反全的完留成殘造種或

經濟部中央標挲局員工消費合作社印鉍的備 ΓΓΠ4、 1· 所物 4口 ib II 有 ο <α 解聚溶和中體劑單影的顯劑在制劑抑合解結溶外為額作的可酸耐 ’ 合基的羥液香鹼芳於如溶例不如與例Ε3疋 , 但者，中 S 介 _ 媒及性基鹼麵於和溶基可胺身级本二為 > 基基 LL 麵一3 茇反物 <ίη 適 ¾ 之 -Λ- 度應反官述此上如在， , 斷 v,;-* uj 學作 ib媒生 _ 產酸經被已夠 til Λ0 基所il 本紙張尺度適川中國阖家標华（CNS ) /VI现格（2】〇Χ2()7公t ) 497011 ，經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ! A7 B7五、發明説明（ft ) 原為其原有形式。保護羥基、羧酸基或二级胺基*合適的有，例如二氫呋喃或3 ，4 一二氫吡喃及其衍生物，苄基鹵化物，烷基鹵化物，_醋酸，鹵醋酸酯，氯碳酸酯，烷基磺醯鹵化物，芳香磺醯鹵化物*二烷基二碳酸酯或三烷基甲矽烷鹵化物，反應可以在習知方式中進行。習用的轉換成為縮酮和乙縮醛的方法適合用於保護嗣基和醛基。此類化學放大正光阻系統在 E · Eeichflianis, F·M. Houlihan, 0. N a]a m a s α, T. X, N e e n a n, C h e m . M a ter. 1 9 9 1, 3 , 3 9 4 ; 或 C · G . Willson, ’’Introduction to M i c r ο 1 i t, h o g r a p h y， 2nd, Ed.; L.S. Thompson， C . G . Willson, M . J . Bowden, Eds. , A m e r. C h e m . Sox. , Washington DC, 1 9 ，μ · 1 3 9中有記載。 M含嵌段芳香羥基的化合物為最佳，此化合物同樣可為單體Κ及聚合物。芳香系單體較佳含一或多個芳香核，較佳為2至6個芳香核，含6至1 4個，較佳6個環碳原子。除了含嵌段羥基之外，芳香核當然含其它取代基，較 ί圭為（C i 一 C 4 )烷基，(C i — C 4 )烷氧基或鹵素特佳的單體溶解抑制劑為聯苯型態> tt就是 Y >其中每個Y為酸敏性基，例如酷系羥1，其受到合適的酸敏性基如酿、碳酸酯、甲矽烷基、四Μ吡喃基成四Μ呋_基（例如參t Ε Ρ - Α 7 5 9 ϋ 3 ) ，Ζ -· i 9 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·

、1T #

本紙張尺度適用中國國家標準（C'NS ) Λ4規格（210:<297公漦） 497011 經濟部中央標準局Μ工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（/T、）為直II單鍵或可為一 S —；一 Ο — ；一 S Ο £ -；一 C Ο —;(R a) ( R b)—，其中R a可為氫，甲基或芳基， R b可為氫或甲基：特佳的二價基一C ( R a) ( R b) 一為 -C Μ z ; — ( C ( C Η 3 ) a —和 C ( C H 3 ) ( P h )-。較佳的聚合溶解抑制劑為衍生自習用酗樹脂，典型為衍生自聚乙烯醇 > 其羥基也經過上述嵌段處理。含所示種類保護基的溶解抑制劑為此技藝所熟知者：.含碳酸酯基白勺抑制劑記載於 D e η η i s R . McKean, Scott A . McDonald, Nicholas J . C 1 e c a k and C . Grant Wilson in N ο v ο 1 a c based d e e p - U V resists^ , SPIE Vol. 920 Advances in Resist. Technology and Processing V ( 1 9 8 8 )， P . Γ〕:]，或 M a s a ni i Us u S h i r a 1 與 M a s a h i r ο T s u η ο o k a 在 P h o i o c h e m i s t r y of I m i n o 3 u f o n a t e Compounds and T Ii e i i* A }) p 1 i c a t i o u 1 o C h e ia i c a 1 1 y A in \> 1 i f i e d R e s i st Journal of P h o 1 ο ρ ο 1 y m e r Science a n d Technology, V ο 1 · 3 ( 3 ) s 1 3 U G , p . 3 (H - 3 ϋ 4。抑制劑可依標準習知方法加以製造，例如記戦於J . Μ · J . F r e c h e t , E . E i c h 1 e r , H . I 1 0 a Γ . G · W i 1 s ο η， Ρ ο 1 y lii (3 r 2 4 ( 1 9 8 3 )， i〕· 9 9 5。含二烷基甲矽烷氧基或二级丁氧基的溶解抑制劑記載於 E Ρ ·· A - 0 3 2 9 6 1丨1*含四氫呋喃基和四氫毗喃基型態的保護基的抑制劑記載於 N · Η a y a s li i , S . M . A . II e s p , T . U e η ο , M . ΐ o i u ill i , T t I w a y a n a g i 及8.^]〇11〇以[^所著的？〇1¥111.卜{&1:.· S c i · E n g · (Π ( 1 !〕8 9 )，p · 4 1 7 - 4 2 1，含取代的四氫[壯喃基的芳 -2 0 ~ 本紙張尺度遍用中國國家標率（CNS ) ,\4规秸（：:10Χ297公t ) ---^-----裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 # 497011 經濟部中央標率局处工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（（Γ) 香系合物在Ε Ρ - A - (1 4 7 5 9 ϋ 3中有更詳細的記載。在酸性條件之下添加3 , 4 -二氫吡喃或3，4 -二氫呋喃的習知方法中得到保護基。在所提到的正光阻中，成膜聚合溶解抑制劑可以是光阻中的唯·结合劑，或者可以混合酸惰性结合劑使用，適當的話再加上單體溶解抑制劑。酸惰性结合劑的賞例為酚醛類，特別是那些Μ鄰甲酚、間甲酚或對甲酚和甲醛為基礎者，也包括聚（對一羥基笨乙烯），聚（對—羥基一 α —甲基苯乙烯）和對一羥基苯乙烯、對一羥基一《 -甲基苯乙烯和乙醯氧基苯乙烯的共聚物。聚合溶解抑制劑的賞例為酚醛類，特別是那些基礎為鄰甲酚、間甲酚或對甲酚和甲醛*聚（對-羥基苯乙烯），聚（對一羥基一 cx —甲基苯乙烯）和對一羥基苯乙烯或對一羥基-α —甲基苯乙烯和乙醯氧基苯乙烯或丙烯酸和 /或甲越丙烯酸及（甲基）丙輝酸酯的共聚物，其係Κ習知方式與二氫呋喃，3 ，4 一二氫吡喃，苄基鹵化物，烷基卤化物，鹵醋酸，鹵醋酸酯，氯碳酸酯，烷基磺醯鹵化物，芳香系磺醯鹵化物，二烷基二碳酸酯或三烷基甲矽综 hi ib物反應：也適合使用者為對（2 —四氫毗喃基（氧基笨乙婦或對一（三级丁氧基羰基）氧基苯乙烯與（甲基） .1 內酸，（中基）丙烯酸酯和/或對-·乙醯氧莛苯乙烯白勺聚含物及對一羥越苯乙烯和/或對ί 2 —四氫吡喃基）氧 _ 2 1 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

r_

、1T φ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇Χ 297公釐） 497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ! A7 B7 五、發明説明（f?、）基乙烯與3 —羥基苄基（甲基）丙烯酸酯的聚合物，視需要，額外與一種上述（b合物進行反應而被保護。特別適合的聚合物為對波長1 8 0至1〇Ο Ο n m透明且含有在酸催化脫保護之後會造成溶解度改變的基團，以及會增加酸產生劑溶解度並確保水性鹼性顯影性的疏水性基和親水性基。此類聚合物的實例為丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，其係製造於相對應單體的共聚合或三聚合反應。此單體也可含有機矽基Μ，例如增加乾触方法情況的抗性。單體的實例為（甲基）丙烯酸甲酯，（甲基）丙烯酸， (甲基）丙烯酸三级丁酯，（甲基）丙烯酸三甲基甲矽烷甲酯，（甲基）丙烯酸3 —氧環己酯，（甲基）丙烯酸四氫蚍喃酯，（甲基）丙烯金剛烷酯，（甲基）丙稀酸環己酷，（甲基）丙烯酸降冰Η酯。據h所述，本發明ώ關於一種ib學放大正光阻，其包 Ji作為光敏性酸產生劑的式1化ir物K及包括對達1 8 0 n m波長透的聚合物的光阻。本發明正光阻的一特殊具體實施例包括7 5至9 9 · 5 %重1的成膜聚合物，其含有可被酸觸媒作用除去的保護基，K及0 · 5至2 S3 %重量的式I肟烷基磺酸酯，所用百分比係K紺成物的固體含量為基準。在本文中，組成物饅好是包括8 0至9 9 %重量的上述聚合物K及1至 1 2 0 %重量的肟烷基磺酸酯。另一種具體實施例為正光阻，其包括40至90%重 -2 2- 本紙張尺度適州中國國家標準（CNS ) Λ4Αί格（：HUX297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 ! A7 B7 五、發明説明（.) Μ的作為结合劑之酸性惰性成膜聚合物，5至4 Ο %重量的具備可被酸觸媒作用除去的保護基之單體或聚合iL·合物，Μ及0 · 5至2 5 %重量的式I肟烷基磺酸酯，百分比係組成物的固體含量。那些組成物中，最好是那些包括5 0至8 5 %重量的酸惰性结合劑，1 0至3 0 %重量的單體或聚合溶解抑制劑及1至1 5 %重量的肟烷基磺酸酯。 )]弓磺酸酯也可Μ作為溶解劑，可Μ被光活化。在那種情況下，化合物被加入賞質上不含在受熱或經光ib輻射照射之下#與肟磺酸醋產生聚合作用之成份的成膜材料。然而，肟磺酸酯會降低成膜材料溶解於合適顯影媒介中之速度。此抑制效果在混合物經烷化輻射照射之後#消失，所 Μ會產生正影像。此種應用在E P — A — 2 4 1 4 2 3中有記載。最後，本發明的另-種特殊具體實施例為正光丨沮，其包括式I化合物及完全不溶解於鹼性顯影劑且在式I化合物的光解產物存在下變成可溶解於顯影劑中的结合劑。在此情況下，所提到肟磺酸酯化合物的數量一般為5至5 0 %重量，W組成物中固體含量為基準。使用依據的本發明肟烷基磺酸_ fit ib學放大系統，此 i系依據從聚合物除去保護基的原則操作的，此應用·一般t 製成正光阻。在許多應用上，正光阴優於負光阻*特別是 1 因為K異備較優良的解析度。然而，止有興趣使兩正光阻储構製造負影像，Μ期綜合正光姐之高解析度優點及負光 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準·（ CNS )八4规格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

衣· 497011 ! A7 B7 五、發明説明（ >丨、) 經濟部中夾標準局員工消費合作社印紧 P且之性質 0 導入例如 E P — A 一 3 6 1 9 〇 6 所述所亡田 m 的逆影像步驟可 Μ 達到 Μ 上所述 0 的 -：> 為了那個的 y 此經過影像樣態昭射之光阻材料在曰古 m 影步驟之前經過例如氣態基礎之處理參經過影像樣態處理而製成的酸被中和 0 接著 > 進 ·，--· 仃整個面積之第 —- 照射 Μ 及埶後處理 % 然後以習用方式 m 行負影像之顯影〇除了引述之成份之外 > 也可 Η 添加加速或放大形成酸作用之化合物到含新穎肟院基磺酸酯之負光阻組成物及正光阻組成物此頟酸放大 m 記載於 K . A r i m it s U e t a 1 ·， J. ρ 1ι 0 t op 〇1 y πι j S c 1 Te ch no 1 . 1995 » 8 , PP . 4 3 , K . Ku do e t a 1 • j J . P h 〇 to P〇 ly m . S c i T e c no 1 · 1 99 5 , 8 , PP .4 5 , 或 K . I c hi m u r a e t. a 1 • Ch e in • Le 1.1 • 1995 1 PP . 5 5 1 ‘: 除了上述組成份之外 y 負光蛆及正光 1¾ 組成物可額外地包括或多種數量為熟習此技藝人 1: 所習知之光阻所常用之添加 m 例如流動 ]]二制劑 > 濕潤劑 > 黏著劑 > 渴 m > 著色劑 > 顔料 > 瑣料 5 溶解加速劑 ν·ν 等 j 然而 > 不 m 該加會額外地在泵 i U 範圍的作業照射敏化組成物的物質，因正常情況下會造成光阻解析度降低 c 除了成份 ( ) Μ 外可用於新 _ 組成物敏 (b 劑的典型實例特別是芳香 % m 基化合物 > 例如一一苯甲 _ (b e Μ Z 0 P h e η Oil e ) 1 咕噸 m { X a n t ti o Ji e ) ， e 1 錕 (a .π t h r 1 a q Li i no n e )和3 - -聽基香豆素衍生物 κ 及 3 -一 ( 芳醯基甲撐 ) 睡唑啉 Μ 及曙紅 (e 0 S in e ) i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

本紙张尺度適爪十闽网家標率（CNS ) ( 21UX 297公飨） 497011 經濟部中央標率局員工消費合作社印制 f A7 B7 五、發明説明（八）若丹明（r h 〇 cl a in i I〗e )和赤蘇H ( e r y t h r 〇 s i 11 e )著色劑。對某些目的而言，使用具爝可聚合基之含單體或寡聚體組成份樹脂混合物。此類表面塗料也可K在使用式1化合物時被硬化。除了成份（c )之外，也可K使用1 ·自由基聚合起始劑或2光起始劑。前者在熱處理期間引發不飽和的聚合反應，而後者在紫外線照射期間引發聚合反應。用於本發明組成物之額外光起始劑的實例例如為自由基光起始劑，典型為二苯甲酮，苯乙_衍生，例如α —羥基環烷基笨基酬，二烷氧基笨乙酬，α —羥基苯乙酮或α —胺基笨乙_，4 一芳_基一 1 ，3 —二氧戊烷，，苯偶姻烷基醚和笨偶醜縮醛，單醯基膦氧化物，雙醯基膦氧化物或鈦烯（t i t a η ◦ c e η e )。特別合適的額外光起始劑之實例為：1 — ( 4 —十二基苯醯基）一 1 一羥基一 1 一甲基乙烷，1 — ( 4 —異丙基苯醯基）一 1 —羥基一 1 一甲基乙烷，1 —苯醯基一1 —羥基一1 一甲基乙烷，1 一〔4 (2 —羥基乙氧苯醯基〕一〗—羥基一 1 一甲基乙烷，1— 〔4 —(丙烯氧蓮乙氧基）苯醯基〕一1—羥基一 1 -甲基乙烷，二苯基酮，苯基一 1 —羥基環己基嗣，（ 4 —嗎_苯_基）·-· 1 —苄基—1 一二甲基胺基丙烷，1 -(3 > 4 —二甲氧基苯基）一2 — τ基一2 —二甲基胺基j ·- 1 —嗣，（4 — ψ基fcfi笨醯基）一1 --甲基一1 一嗎_蓰乙烷，苯偶醯：甲：1縮醛，雙（環戊二烯S )—雙 (Z 6 —二粼--3 ·-丨1比咯基苯越）鈦，三甲基苯_基二 -25- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經满部中央標準局肖工消費合作社印狀 ΑΊ Β7五、發明説明（>Υ) 苯基膦氧化物，雙（2，6 -二甲氧基苯醯基）一（2, 4 ，4 —三甲基戊基）膦氧ib物，雙（2 ，4 ，6 -三甲基苯醜基）—2 ，4 —二戊氧基苯基膦氧化物或雙（2 ， 4，6 —三甲基苯醯基）苯基膦氧化物。其它合適的額夕卜光起始劑可茌U S專利第4 9 5〇5 8 1 ，第2〇襴，3 5行至第2 1欄，3 5行發現。其它實例為三鹵甲基三嗪衍生物或六芳基雙_唑基化合物。額外光起始劑的另外實例為，例如陽離子光起始劑，典型為過氧ib物ib合物，例如苯酿過氧化物（其它合適白勺過氧ib物記戦於U S專利第4 9 5 0 5 8 1 ，第1 9襴1 7型25行），芳香系銃鹽或__，例如那些在US專利第4 9 5 0 5 8 1 ，第1 8欄，6 0至第1 9襴1 0行中所發現者，或者環戊二烯基—芳燔—鐵（I I )錯合物，典型為η 6 —異丙連苯殖基）(η ί:―環戊二烯基）一鐵 —I I 一六氣碟酸鹽ύ 在應用1:，組成物•般也必泊11话溶劑。合適溶劑的實例為醋酸乙酯> :3 —甲氧甚甲基丙酸酯，丙購酸乙酯， 2 -·庚嗣，二乙基二醇二甲基_，環戊，環己®，ί 一 Γ内_ >乙基甲基> 2 —乙氧基乙醇，2 —乙氧基醋醋酷，特別是1 ·-甲氧基一2 —丙基醋酸酯。溶劏til可W為混合物形式，例如二或多種上述溶劑之混合物。溶劑及濃度的選擇例如依組成物特性及塗頌//法而定。溶液被均勻地施用於基材之上*其係藉由習知之塗m (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

衣· 訂本紙张尺度適用中國國家標苹（CNS ) Λ4现格（2丨0X 297公廢）經濟部中央標準局·負工消費合作社印裝 497011 A 7’ B7 五、發明説明（W.) 方法進行的，例如藉由旋轉塗覆、浸漬塗料、刀塗覆、幕塗躞技術、刷塗應用，嗔塗和逆_滾塗覆。也可K將光敏性廇施用於暫時性的可撓性承載物上，然後Μ塗覆轉移 (積層）方式塗復最終的基材。所使用之數量（塗II厚度）及基W (塗覆基材）之特性依所要的應用領域而定。塗馕厚度之範圍原則上包括約〇* 1微米至大於100微米者。依據本發明的組成物的可能應用領域如下所述：作為電子儀器之光阻，例如蝕刻光蛆，電鍍光姐或耐焊光阻，積體電路或薄膜電晶體光阻之製造（Τ F Τ光阻），印刷板之製造，例如凸板印刷板或網板印刷樣板，在模造物蝕刻或立體石印術技術之應用，在滤色器或影像記錄材料之應手，較佳作為製造積體電路之微光阻。塗覆基材和加工條件隨之變化。當使用此組成物作為積體和大型積體電路之微光阻時 >較佳之層厚度典型為Ο · 1至1 0微米，較佳為0 · 5 至5微米，饅佳為0 · 5至1 ♦ 5微米。當使用此組成物於光阻，例如作為離子植入時》塗覆厚度典型為0 · 1至1 0微米，較佳為4至8徽米。藉由選擇合適的取代基R i和R 2 ，可以調整光阻之光學密度，特別是丨吏大的層厚度也能得到令人滿意地硬ib。 t 木發明之姐成物非常適合作為川於所有類型基Μ之塗？S組成物，類型扭括木材、紡織_ •紙、陶瓷、玻璃、 -2 7 - 木紙张尺度適川屮國阀家標準（CNS ) A4W,格（210、<297公錄） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標準¾¾工消#合作社印於 Μ B7五、發明説明（>J') 塑膠、例如聚酯、聚對苯二乙醇酯，聚烯烴或纖維素醋酸酯，待別是薄膜形式，但是特別是用於塗覆金屬，例如鎳、鐵、i辛、鎭、鈷或特別是銅和鋁Μ及矽、氧ib矽或氮化物，藉由Μ影像照射將影像施於該基材上。在塗覆作業之後，一般Κ加熱方式除去溶劑，在基材上形成一層光阻。乾燥溫度當然必須低於光阻某些成份可能會熱硬化的溫度。此方面必須小心，特別是為負光阻時。一般而言，乾燥溫度不應該超過8 0 t至1 3 0 t。然後光姐塗覆物接受Μ影像之照射。此種照射為使用光ib照射之預定圖案，包括透過含預定圖案之光罩如 (d i a o s i t I v e ) 予M照射，M及使用雷射光束在經塗覆之基材表面上移動之照射，例如在電腦控制之下進行，如此產生影像ύ 合適的照射源為耶驻t發出波疫約為1 8 0至3 9 0 奈米，例如約3 4 0至3 G 0奈米，或較佳從3 6 0至 :」9 0奈米音。點源和平面投射器（反射燈排列）均合適，其賞例為碳弧燈，氙弧燈，中壓、高壓和低壓汞燈，選性摻雜金屬_ iL·物（金願鹵化物燈），微波激發金屬蒸氣燈，激態燈（e X c i m tM· i a in μ s )，超光化螢光管，螢光燈* 氬絲燈，電子閃光橙，照相探照燈> [ί:1同步電子儀器或雷射電漿所產生之電f束和X射線束。特別合適者為汞蒸氣 Hi ，特別坫求ψ壓垃和a壓燈，如m釘嵛要，從其_射可 μ過濾其它波畏發射線、特別是對短波長照射更是如此。 -2 8 - 本紙張尺度適州中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (誚先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟郎中央標準局員工消費合作社印欠 A7’ B7五、發明説明（“、）燈及被照射之本發明基材之間的距離例如可K在2公分至 1 5 0公分之間變化，依所欲用途及燈之型態和/或強度而定。合適的雷射源例如為氯離子雷射，其放射波長為 3 6 4及3 8 8奈米之輻射。有了該照射型態，使用光罩與光聚合塗料接觸就不是絕對重要的了；經控制之雷射束能夠直接寫在塗料上。為了該目的，本發明之材料之高敏性就非常有利，允許在相當低強度時之高速寫之速度。在照射時，表面塗料的經照射部份之組成物中的肟烷基磺酸酯分解形成磺酸。在照射之後，視需要*進行熱處理，組成物的未經照射位置（如果為正光阻）或經照射位置（如果為負光阻）在本身為習知之方式中使用顯影劑予K除去。一般在顯影步驟之前必須允許--段時間，Μ期使光阻組成物之酸敏性成份反應。為了加速該反應，進而顯影劑中光阻塗料之經照射及未經照射部份之間的溶解度充分差異的發展，塗料較佳在經顯影之前先經加熱。也可Μ進行加熱，或者在照射期間開始加熱。最好使用6 0至1 5 0 C之溫度。時間期間依加熱方法而定，若有需要，最適的期間可簡單地由熟習此技藝人士 κ 一些例行賞驗加以決定 • -般為數秒至數分鐘。冽如，當使用熱板時》合適的時間為1 0至3 0 0秒，當使用傳統烘箝時，合適的時間為 1 1至3 0分鐘、然後使塗料顯影，塗料部份在經照射之後更能溶於被 -2 Ϊ) » (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

C· 、1Τ ♦ 本紙悵尺度適州中國阐家標準（CNS )八4規格（210Χ 297公釐）

I I 經濟部中央標準局員工消費合作社印狀 497011 A7 B7 五、發明説明（/]、）除去之顯影劑中若有需要，輕微报動工作件，稍微刷動在顯影浴中的塗料或者噴霧顯影，可K加速該方法步驟j 例如，光阻技術中習ffl之水性鹼性顯影劑可用於顯影。此類顯影劑包括，例如氫氧化納或氫氧（L·鉀，相對應之碳酸鹽*碳酸，矽酸或間矽酸鹽*但是較佳為無金鼷鹼，例如氨或胺，例如乙基胺，正丙基胺，二乙基胺，二一正两基胺，三乙基胺，甲基二乙基胺，烷醇胺，例如二甲基乙醇胺*三乙醇胺 > 季銨氫氧化物，例如四甲基銨氫氧化物或四乙基銨氫氧化物。顯影劑溶液一般為0 · 5 N ，但是通常在使用之前先用合適方式予K稀釋。例如，莫耳濃度約為0 ♦ 1之溶液ώ適含使用、顯影劑之選擇依光阻之特性而定，特別是依使用之结合劑或所得到之光解產物而定小：性顯影劑溶液視需要th可包括相當少數量之濕潤劑和 /或育機溶劑可添加入顯影劑流體屮之典型有機溶劑例如為環己_，2 —乙氧基乙醇，甲苯，丙嗣，異丙醇M ft 包坫.或多撾那呰溶劑之混合物典把的水性/有機顯影劑系統涂Μ 丁基纖維素® /水為基礎。據上所述 > 本發明也關於·種製造影像之方法，此方法包话Μ依據本發明之組成物塗S基材，Μ波長為3 4 0 至3 9 0奈米之_射照射塗覆物，成為所要之圖案，在經過加熱之後，Μ水性_性顯影劑除去塗覆物溶解性更高之 t 部份‘‘ /i： « ‘内容方丽，本發明係關於新_組成物在製造印 -3 U ~ 本紙張尺,度適用不國國家標率（CNS ) Λ4規格（2丨0>< 297公缝） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011

I A7’

五、發明説明（D 刷板、Λ色器、光阻材料K及影像記錄材料之應用，Μ及式1或1 a ib合物在作為對波長低於3 9 0奈米之_射圼敏性之光敏性酸產生劑在製造印刷板、滤色器、光阻材料或影像記錄材料之應用，或者影像記錄材料在全像影像之應用。從[·: P — A — 5 9 2 1 3 9可得知肟磺酸酯可作為酸產生劑，其在適合用於表面處理及清潔玻璃、鋁和鋼表面之組成物中可被光活化。使用這些化合物於此類有機矽烷系統#得到貯存安定性優於使用自由態酸的組成物。

當與p Η變化時會變色的著色劑一起使用時*肟磺酸酯tii可以用於製造所謂的〃印出〃影像，例如在日本專利申請案 J P — A H e i 4 3 2 8 5 5 2 或在 U S - A —5 2 3 7 0 5 9 中所記載。依據 E P — A — 1 9 9 6 7 2 ，此類顔色改變系統lii可K用於監控對光或_射敏感之物品。除了顔色改變之外，也可Μ在可溶解顔料分子之酸觸媒脫保護期間讓顔料结晶沈澱；可用於製造癔色器。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 式1 ib合物一般添加入#被光活丨L·之組成物中之數量為Ο · 1至3 0 %重1 >例如0 · 5至1 0 %重量，較佳為1至5 %重量。 K下賞例史詳姻地説明本發明在K下教述及專利申 t 站專利範圍中 > 除非另外說明 > 份數及百分比均為重量計 -3 1 - 本紙张尺度通用屮阖國家標率（CNS ) Λ4規格（2丨0X 297公焓） 497011 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（2厂）賞例1 :製造u —羥基亞胺基一 4 —甲氧基苄基M ib物及 α — (Φ基磺醯基氧基亞胺基）-4 —甲氧基苄基氰化物 1 · 1 α —羥基亞胺基一4 一甲氧基苄基氰化物將6 4 · 5克甲醇，3 6 5克二甲苯及8〇克氫氧化納（2莫耳）與1 4 7克（1莫耳）之4 —甲氧基苯基乙腈一起置於反應器中。然後，在4 0 °C以2小時的時間滴加1 2 5克（1 · 0 7莫耳）異戊腈。首先在此溫度之下搜伴反應混合物2小時，然後在室溫另外报拌2 0小時。之後，反應混合物經水稀釋而形成乳化物，用氫氧ib納水溶液調整p Η至1 4 *然後分離有機相。水相經氫氣酸酸 fL· > Μ _萃取產物。乾躁醚相，脫除醚。從甲苯中再结晶，得到1 4 2克α —羥基亞胺基—4 —甲氧基苄基氰化物 >產率梠當於理論值之8 0 * 6 % 1 II — N M R光譜（丙嗣--d。）在芳香系範圍的7 ·〇6 及7 · 2 2 p p m !n ( 4 II )顯示兩個對稱多重譜線》 - 個謹線在3 ‘ 8 7 p p in ( 3 Η ) > 一個在譜線在1 2 ‘ 3 7 i> p rn ( 1 I I ) ° 1 2 α —(甲遥磺_基氧基亞胺基）一4 —甲氧基苄基氰化物 2 0克（Ο · 1 1 4莫耳）α —羥基亞胺 — 4 —甲氧堪τ苺氣ib物溶於1 () 0毫71門氫呋喃（T H F )中，加入1 7 ♦ 2兑（0 ‘ 1 7莫耳）二乙基胺。在此混合物 ~ 3 Ζ - 本紙张尺度適⑴屮网阄家標爭（CNS ) ( 2丨0/ 297公# ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

裝· 訂 Φ 497011 經濟部中央標準局員Η消費合作和印製 ! A7 B7五、發明説明（3。）滴加冷卻之溶於5 0毫升四氫呋II南中之1 4 · 3克（〇♦ 1 2 莫耳）甲烷磺_氯化物。然後，使混合物回溫到室溫 > 沒伴1 2小時。接著，K 3 0 0毫升二氯甲烷稀釋反應溶液，Μ水洗滌，Μ氫氯酸稀釋，再K水稀釋，然後Μ硫酸鎂乾燥之。經過過滤之後，在旋轉蒸發器上蒸餾溶劑，棕色粗製產物在甲苯中再结晶，得到2 3 · 9克（83%)之灰褐色结晶形式之G(—(甲基磺醯基氧基亞胺基）·- 4 — 甲氧基苄基氰化物，熔點為1 2 4至1 2 5 t。化合物之 1 Η — N M R光譜顯示產物為純之立體異構物。元素分析：C ! 〇 H 1 1 N z 〇 4 S (2 5 4 · 25) C 〔％〕 H C % ] Ν ί % ) S ί % ] 計算值 4 7 « 2 4 3 · 9 6 1 1*0 2 1 2 · 6 1 實際值 4 7 · 2 5 3-9 0 1 0*9 7 1 2*6 5 賞例2 : α—(甲基磺_基氧基亞胺基）一 3 —甲氧基苄基氣iL·物 2 ^ 1 α —羥基亞胺基一 3 —甲氧基苄基氰化物大致上依類Μ於1 · 1所述方法，使用3 —甲氧基苄 Μ M ib物取代4 —甲氧基〒基K iL·物作為起始原料K及使用氣態甲基腊（製備於0 i* g · s yn t li e s i s 5 ί)， 9 5 ( 1 9 7 !3 ))所製備）取代異戊腈；可製得α —羥S亞胺基—3 -甲氧筵 1' ΐ Μ Μ ([」物。所製得的u —經Μ亞胺基一3 —甲氧基τ基 M ib物產率為4 5 %，為無色之粉末；熔點為8 6至8 7 Γ -3 3- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

衣·

、1T . 本纸张尺度適用十阑國家標準（CNS )八4現格（210ΧΜ7公t ) 497011

I A7 B7 五、發明説明（）丨.） :1 II - N M R ( C D C 1 3 )與所建議之结搆·致- (8-8 4 ( s ，〇 Η ) ； 7 * 3 5 - 7 · 2 5 ( m ， 3個芳香系Η ) ; 7 · 0 5 ( rn ，1個芳香系Η ); 3 · 8 4 ( s ，C Η 3 Ο )。 2 * 2 «— （甲基磺醯基氧基亞胺基）一 3 —甲氧基苄基氰化物砍大致上類以於1 * 2所述方法，2 7 · 7克（〇· 157莫耳）α —羥基亞胺基一3 -甲氧基苄基氰化物在 2 3 . 9克（0 · 2 3 6莫耳）三乙S胺存在下與1 9 ♦ 8克（ϋ · 1 7 3莫耳）中烷磺醯基氯化物反應。在甲苯中再结晶，得到1 9 · 1克（48%)呈白色结晶形式之 α — （甲基磺_基氧基亞胺基）一 3 —甲氧基苄基氰ib物，熔點為1 0 5至1 0 7 TJ。元素分析：C i 〇 Μ 1 1 Ν ζ Ο 4 S ( 2 5 4 · 2 5 ) C ί % ..i 11 ι 96 i N i 96 j S l 9〇 .」言十算値 4 7-2 4 3 - 9 β 11*02 12*61 實際值 4 7 · 4 5 4 · Ο 1 1 1 * 4 2 1 2 · G 4 經濟部中央標準局員工消費合作社印餐 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 賞例3:製備α —(甲基磺_基氧基亞胺基）一 4 一甲基苄基氰化物 3 * 1 α ·-羥基亞胺基一4 一甲基〒基氰化物 1 將1 3 ] · 2克（1莫耳）之對甲苯基乙腈置於磺化燒腿中，加人溶fit 3 2 5毫升甲酵中之4 0克（1莫耳） -3 4 一本紙张尺度適州中闽國家標隼（CNS ) Λ4^格（210X297公釐） 497011 經濟部中央標準局負工黄AV作社印:^ A7五、發明説明（Π) 嶽氧ib納。此溶液在0至5 t、之冰浴中冷卻。在此溫度之下，在3小時内·邊搅拌一邊將1莫耳氣態甲基腈（原地製備於添加溶於6 5毫升水中之3 1 ♦ 5毫升濃硫酸於8 3克亞硝酸納在5 0毫升水及5 3毫升甲醇中所形成的溶液中（請參考〇rg. Synthesis)加入。然後移走冰浴，在室溫下對紅色溶液撹伴隔夜。在旋轉蒸發器上蒸餾除去甲酉I，將水和甲苯加入橙色殘留物。分離水相，K甲笨冼滌二次，以濃鹽酸予K酸ib。K醋酸乙酯萃取所得到的橙色乳iL·物三次，以水冼滌萃取物，Μ硫酸镁乾燥之。過濾之後，蒸餾除去溶劑，得到微黃色之橙色油，靜置後會固化。在甲苯中再结晶會得到1 3 3 ♦ 6克（理論值的8 3 % )之α -羥基亞胺基一 4 一甲基苄基氰化物灰褐色固體，熔點為1 1 0 * 5至1 1 4 · 5 t。1 Η - N M R光譜與所建議之结構一致。 3 * 2 α —(甲基磺81基氧基亞胺基）一 4 一甲氧基苄基氰ib物將3 3 · 6克（0 · 2 1莫耳）之α —羥基亞胺基一 4 -甲氧基苄基氣化物和3 1 · 9克（0 · 3 1莫耳）三乙基胺溶於4 2 5毫升四氫呋喃，然後，在5 Γ對此溶液滴加入2 6 · 4 4克(0 · 2 3莫耳）之甲烷磺薩基氯ib 物。在添加完雖之後，在0 υ搜拌混合物3 0分鐘，然後 1 在室溫下搜拌隔夜。接著，過滤反應混合物，Κ飽和氯化納溶液洗滌濾液 -3 5 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

訂 ♦ 本紙張尺度適用中國國家標苹（CNS ) Λ4規格（210X297公緩） 497011 經濟部中央標準为員工消費合作社印製 ! A7 B7五、發明説明（ > K硫酸_乾燥之：然後在旋轉蒸發器上蒸餾除去溶劑，得到固體殘留物，經過甲苯再结晶之後，得到3 7 · 3克 (75%)圼無色粉末形式之α — （甲基磺醯基氧基亞胺基）一4 —甲氧基苄基氰化物，熔點為97· 5至10 2 ‘ 5 °C。1 Η — N M R光譜顯示為純之立體異構物。元素分析·· C ^ 〇 H i 1 Ν ζ Ο 3 S (2 3 8*2 6) C 〔％〕 H〔％〕 N〔％〕 S 〔％〕計算值 5 0.4 1 4*2 8 1 1 · 7 6 13-46 賞際值 5 Ο · 4 7 4，3 4 11*92 13*56 實例4 :製備α —(甲基磺_基氧基亞胺基）一 3 ，4 一二甲基苄基氰ib物 4·1 α —羥基亞胺基一3 ，4 ·-二甲基苄基氣化物在一個磺ib燒瓶中，37·6克（0·26莫耳）3 ，4 —二甲基乙腦與0 · 5 2莫耳如：3 * 1所述之氣態甲基臈反應。在經過習用方法予Κ分離之後，2 3 · 2克（ 5 0 ‘:¾ 0之α -·羥基亞胺基一3 ，4 —二甲基苄基氯ib物之棕色樹脂此祖製產物供下·道步驟使用而不需要進一步純ib。1 Η — N M R光譜與所建議之结搆一致」 4 · 2 α — ( Φ MfiM醯基氧基亞胺基）一 3，4 一二甲基〒蕋氣ib物 1 如3 ♦ 2所述，2 :丨*2兒（0.13莫耳）α —羥呈亞胺里—4 —二中基τ Μ氣化物與2 7 · 2毫升( -3 6- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

衣· 、1Τ

木紙张尺度適州屮國國家標準（CNS ) Μ规格（210X 297公釐）經濟部中央標準局員工消費合作社印製 497011 ! A7 B7 五、發明説明（# ) 0 ‘ 20莫耳）三乙基胺及在四Μ呋哺中之1 1 · 1毫升 (〇，1 4莫耳）甲烷磺醯基氯ib物反應迮通常之操作之後，得到32 · 6克之粗製產物，然後在異丙醇中再结晶，得到3 0 * 5克（9 3 % )圼淺棕色粉末之α — （甲基磺醯基氧基亞胺基）一 3 ，4 -二甲基苄基氣化物，溶點為9 1至9 5 υ。實例5 :製備α - （ Φ基磺醯基氧基亞胺基）噬吩- 3 — 乙腦 5*1 α —羥莛亞胺基噻吩一 3 —乙腈 Μ大致上類iU 3 · 1所述之方法將5 9克（0 · 4 8 莫耳）噬吩一 3 -乙腈置於磺化燒瓶中，加入溶於2 0〇毫升甲醇之1 9 · 2克（0 · 4 8莫耳）氫氧ib納。在4 • 5小時内，於0至5 之下一邊授拌一邊將0 ♦ 4 8莫耳氣態甲基腈加入此溶液中。然後移走冰浴，在室溫下授伴棕色溶液隔夜在旋轉蒸發器上蒸餾除去甲醇*將水及醋酸乙酯加入所得到的橙色殘留物。分離水相* Μ醋酸乙酯冼滌二次，Μ濃鹽酸予Μ酸化：Κ醋酸乙酯萃取水相二次，Μ水洗滌萃取物二次，Μ硫酸_乾燥之。過濾之後，蒸餾除去溶劑…得到棕色固體，然後於甲苯中再结晶*製得灰褐色固體之2 8 · 6克（理論值之3 9 %：)之α —經 1 丛亞胺基丨丨室吩一3 ·-乙腊，瑢點為9 G至1 0 1 Η — N M R光譜與所建議之结構·致。 -3 7- 本紙張尺度適州屮國國家標準（CNS ) Λ4規梠（210X2()7公飨） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中失標率局員工消費合作社印製 ! A7 B7 五、發明説明（υ') 5 · 2 α -(甲基磺驢基氧基亞胺基）111吩—3 —乙腈大致上類Μ於3 · 2所述反應，1 5 · 2克（Ο · 1 莫耳）α —羥基亞胺基一噻吩-3 —乙腈與1 5 · 2克 (0 * 1 5莫耳）二乙基胺溶於1 5 0毫升四氫呋喃，在 0至5 υ添加12·6克（0· 11莫耳）甲烷磺醯基氯 ib物溶液，添加完_之後，在Ο υ撹拌此混合物3 0分鐘，然後在室溫下攪伴隔夜。過滤反應混合物，先後Μ稀氫氯酸及飽和氯ib納溶液洗滌滤液，然後以硫酸鎂乾燥之。在旋轉蒸發器上蒸發除去溶劑，得到固體殘留物，然後於醋酸乙酯/己烷（2 : 1 )中再结晶，得到1 1 · 2克（ 4 9¾)無色粉末形式之α — （甲基磺_基氧基亞胺基）睡吩一 3 —乙腈，熔點為1 1 6至1 2 4 Ό。1 Η — N M R 光譜顯示為純的順式異構物（實例5 a )。元素分析：C 7 Η。 N 2 〇 3 S £ (2 3 0 * 2 6) C r % ] II Γ % ] N [% ] S 〔96 : 計算值 8 6 * 5 1 2 ‘ Γ) 8 1 2 • 1 7 9 7 · 0 5 賞際值 6 * 5 8 2 · 5 4 1 1 .9 2 2 8 · 7 0 濃縮母液，得到另外3 ♦ 0克(13%)之熔點為 1 0 5至1 1 2 Τ:、之無色固體。1 Η - ··' N M R光譜顯不它 ,¾¾ α -(甲基磺_茧氧基亞胺基）_吩一 3 —乙腈（實例 5 h )之反式及順式異構物為8 0 : 2 0混合物、- 賞例fi :製備《 —(甲基磺醯基氧基亞胺基）噻吩一 2 - -3 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210XM7公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011

經^'、3中央標準局員工消合作"/H ! A7 B7 五、發明説明（Η ) 乙勝 6 ♦ 1 α —羥基亞胺基噬吩一2 —乙腈如同在3 * 1所述，在0至5 t之下，於4 · 5小時内於-邊搜伴下將8 6克（0 * 7莫耳）之噬吩一 2 —乙腈加入0 _ 7莫耳氣態甲基腈，然後移走冰浴，在溫援拌棕色溶液隔夜。蒸餾除去溶劑，將水和甲苯加入殘留物。分離水相，Μ醋酸乙酯洗滌二次，Μ濃鹽酸予以酸化。以甲苯萃取水相二次，Μ水洗滌萃取物，以硫酸鎂乾燥之。在過ί應之後，蒸餾除去溶劑，Κ甲笨再结晶殘留之棕色固體，製得2 8 · 6克（理論值之3 9 % )圼灰福色固體形式之α —羥基亞胺基噻吩—2 —乙腈，熔點為1 0 5 °C至 1 0 9 °C。1 Η — N M R光譜與所建議之结構一致。元素分析：C c Η 4 Ν 2 0 S (1 5 2-0 6) C L % ] Η C % ] Ν L % J S 〔％：計算值 4 7 .3 6 2 . 6 5 1 8 •4 1 2 1 · 〇7 實際值 4 7 • 4 8 2 · 6 5 18 •26 2 1 · 〇4 6 · 2 a —(甲基磺_基氧基亞胺基）噻吩一 2 —乙腈大致上類以於3 · 2所述反應，3 8克（0*25 莫耳）α —羥基亞胺基一 β塞吩一 2 —乙腈與3 7 · 9 5克 (0 ♦ 3 7 5莫耳）三乙·胺溶於3 5 0毫升四氫呋喃，然後在0至5 υ添加3 1 * 5克（.0 · 2 7 5莫耳）甲烷 1 磺Sii〗祜氮iL·物溶液》添加完喂之後* 0 C报伴此混合物 :3 0分鐘，然後在室溫下搜伴隔夜。 • 3 U - 本紙张尺度適州中阎國家標枣（C’NS ) A4AWM 21GX2W公t ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標準局舅工消費合作社印製 ! A7 B7五、發明説明（W ) 過瀹反應混合物，Μ飽和氯it:納溶液洗滌濾液，然後 Μ硫酸鎂乾燥之·在旋轉蒸發器上蒸發除去溶劑，得到灰色固體，然後於甲苯中再结晶，得到54· 2克（91% )灰褐色结晶形式之《 -(甲基磺醯基氧基亞胺基）噻吩 —2 —乙腈，熔點為1〇8至1 1 1 X、。1 Η — N M R光譜顯示為5 5 : 4 5之順式及反式異構物的混合物。元素分析：C 7 Η N z 〇 3 S ζ (2 3 0 · 26) C [ % ] Η〔％〕 Ν〔％〕 S 〔％〕計算值 3 6 · 5 1 2 · 6 3 12*1 7 2 7*8 5 實際值 3 6 · 8 9 2 · 6 0 1 2-2 2 2 8*23 實例7至1 1 W下賞例ί系肷大致上依照實例5 ♦ 2所述程序加Κ製㈣，ί&使《 —羥S心胺S U塞吩一2 —乙臈與相對應之磺氯 ib物反（I。賞例7 : α —(異内基磺酿基氧基亞胺S ) ·-噬吩一 2 — 月宁店由《 —羥基亞胺基睡吩- 2 —乙腈與異丙基磺_基氯化物之反應而製偫的再结晶後得到產率為6 0 %之 5 0 : 5 0圼灰褐色结晶形式之σ —(異丙基磺醯S氧基 t 亞胺Μ ) - HI ll« ·· 2 -乙_之頒式及反式異構物混合物， m點為8 0至8 2 υ (實例7 a )。一 4 Q - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

衣· 訂衣紙悵尺度適用中國國家椋準（CNS )八4規格（210X297公釐） 497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（β ') 元素分析：C g I I i ,:· Ν 2 〇 3 S 2 (2 5 8*3 1) C 〔％〕 Η 〔 % ] Ν 〔％〕丨 S [% ：計算值 4 1 · 8 5 3 • 9 0 1 0 • 8 4 2 4 · 8 2 實際值 4 1 · 8 9 3 • 9 3 1〇 • 7 6 2 4 . 8 4 濃縮母液，得到另外產率為2 4 %之相同物質之2 5 :75之順式及反式異構物混合物，熔點為76至8〇υ (實例7 b )。元素分析：C 9 H 1 〇 N z 〇 3 S z (2 5 8*3 1) C [ % ] H [ % j N [ % ] S [ 96 ] 計算值 4 1 ♦ 8 5 3 · 9 Ο 1 0-8 4 2 4-8 2 實際值 4 2 · 1 3 3*9 0 1 0*5 5 2 5*0 1 賞洌8 : - （丁基磺醯基氧基亞胺基）—噻吩一 2 —乙腈係由《 -羥基亞胺基噻吩- 2 -乙腈與丁烷磺醯基氯 iL·物之反應而製備的」經過在矽膠上進行色層分析，得到產率為9 0 %之3 5 : 6 5圼黏性微紅色油形式之α — ( 丁基磺基氧基亞胺基）一噬盼—2： —乙腈之順式及反式異搆物混合物，其靜置後會固化成為樹脂。元素分析： C 1 u 11 1 Ζ Ν ζ 0 3 S ζ (2 7 4 .3 4 ) C 〔％ ] Π〔％〕 Ν 〔％〕 S 〔％：計算 4 4 · 1 0 4 * 4 4 1 0 • 2 9 2 3 ♦ 5 4 "Μ 際 11 4 4 ，2 2 4 • 3 0 1 0 • 1 6 2 3 ‘ 7 7 4 1 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4规格（2iO:< 297公f ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 A7 B7 五、發明説明（；厂) 濃縮母液，得到另外產率為2 4 %之相同物質之2 5 :7 5之順式及反式異構物混合物，熔點為7 6至8〇°C (實例7 b )。元素分析： C 9 Η 1 〇 N z 0 3 S z (258 • 3 1 } C [% j Η [% j N 〔％〕 S [% ] 計算值 4 1 · 8 5 3 . 9〇 L 0 ♦ 8 4 2 4 · 8 2 賞際值 4 2 · 1 3 3 . 9〇： L〇 • 5 5 2 5 · 〇1 賞例9 : α — （辛基磺醯基氧基亞胺基）一 _吩一 2 —乙腈係由α —羥基亞胺基噻吩一 2 -乙腈與1 —辛烷磺醯基氯化物之反應而製備的。經甲笨苒结晶後得到產率為 4 1 %之7 8 : 22圼微棕色结晶形式之α —(辛基磺醯基氧埜亞胺)—噬吩- 2 —乙Μ之顺式R反式異構物混合物（1 Η — N M R )，熔點為7 7至8 2 °C (實例9 a (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

訂 Φ 經濟部中央標準局員工消費合作社印焚疋素分析：C ! 4 fl 2 〇 N 2 0 3 S 2 (3 2 0 · 44) C [% J Η ί % J Ν 〔％〕 S [% j 計 % ίΐ 5 ： L * 2 0 6 . ：1 4 8 ‘ 5 3 1 9 · 5 2 賞際值 5 0 · 9 4 6 ·] 10 8 . 5 6 1 9 . 5 6 ，曲 m 縮母液，得到另外產率為 4 % 之相同物質之 3 3 ： ΰ 之順式及反式異構物混合物，熔點為4 8 至5 5 °C ( 貝例 9 b )- -4 2 - 本紙悵尺度適川屮國阁家標举（CNS ) /\4规格（2丨():.<297公緒） 497011 經濟部中央標準局員工消f合作社印製 A7 B7 五、發明説明（R) 元素分析：C i Η z 〇 N 2 0 〇 3 S 2 (3 2 8 · 4 4 )C 〔％〕 II 〔％〕 N L % j S 〔％〕計算值 5 1 · 2 0 6 · 1 4 8 ♦ 5 3 1 9 · 5 2 實際值 5 1 ♦ 4 7 6 ·〇 5 8-3119*45 賞例1 Ο : α —(十二烷基磺隨基氧基亞胺基）一噻吩— 2 —乙腈 ί系由α —羥基亞胺基11塞吩—2 -乙腈與十二烷磺醯基氯ib物之反應而製備的。經甲笨再结晶後得到產率為4 1 % 之9 0 : 1 0圼微棕色结晶形式之α —(十二烷基磺醯基氧基亞胺基）-噬吩- 2 -乙腈之順式及反式異構物混合物（：1 Η — N M R )，熔點為9 4 · 5至9 7 °C (實例 10a)。元素分析：Ci8H23N2〇3S2 (3 8 4*55)

C [ % ] Η [ % ] Ν [ % ] S C % J I卜算值 56， 22 7· 3 4 7.28 1 6*6 7 實際值 5 5 · 9 5 7*2 3 7*5 4 1 6*7 2 濃縮母液，及經過色廇分析（矽膠，沖提液為石油If /醋酸乙酯為5 : 1 )得到另外產率為1 1 %之相同物質之2 0 : 8 0之順式及反式異構物混合物，熔點為6 6至 6 3 C (賞例 1 0 b ) 1 71：素分析：C i Η 2 s N 2 0 3 S 2 (8 8 4 * 55) C〔％〕 Η ί % J Ν [ % J S L % ] -4 3 - 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS )八4現格（21〇X2Q7公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標隼局員工消費合作社尔製 A7 B7 五、發明説明（W、）計算值 5 6·22 7 · 3 4 7*2 8 1 6*6 7 實際值 57*3 9 7，71 6.65 15*58 實例1 1 : —(辛基磺醯基氧基亞胺基）一噻吩一 2 — 乙腈係由α —羥基亞胺基噻吩一 2 -乙腈與3 -氯丙烷磺醯基氯化物之反應而製備的。在矽膠上進行色層分析得到產率為9 0 %之6 0 : 4 0之靜置後會固化之樹脂形式之 ex — （ 3 —氯丙基磺醯基氧基亞胺基）一噻吩—2 —乙腈之順式及反式異構物混合物（1 Η — N M R )，熔點為 5 6 至 5 8 °C ^ 元素分析：〇 9 Η 9 C 1 N 2 〇 3 S ζ (2 9 2 .7 6 ) C [% Η 〔％〕 Ν 〔％〕 S 〔％〕計算值〇 6 · 9 2 3 .： 10 9 •57 2 ； 1 ♦ 9 0 際值：3 15 . 7 1 3 . 19 9 •20 2 ]* 9 9 例 1 2 ： a - -（二 :氟甲基磺醯基氧基亞胺基 )- -Β塞吩一 2 —乙腦將1 0克（0 · 0 6 5莫耳）之α —羥基亞胺基一噻吩一 2 —乙腈懸浮於1 0 0毫升二氯屮烷，然後加入5 ♦ 2 克（0 * 0 6 5莫耳）Itt啶。然後，在一3 Ο Ϊ、至一 2〇υ 1 對懸浮物滴加入1 9 · 5克（0 · 0 7莫耳）三氟甲酸酐溶液。添加完_之後，在一2 0 拌混合物1小時，然 -44- 本紙張尺度適州中國國家標準（CNi;)八4規格（210Χ 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部中央標準局員工消費合作社印製 497011 A7 B7 五、發明説明（後在室溫下授隔夜。接著，將反應混合物倒入冰/水上， Μ二氯甲烷萃取水相，Μ硫酸鎂乾燥混合有機相。祖製產物經矽膠過漶（沖提液為醋酸乙酯），溶液在0至5 °C濃縮及貯存。經過一段時間後，得到5克（26%)之微棕色结晶肜式之α — （三氟甲基磺醜基氧基亞胺基）-噻吩 —2 —乙腈沈澱物，熔點為4 7至4 8 °C。1 Η - N M R 光譜顯示其為1 : 1順式及反式異構物混合物。元素分析：C 7 Η 3 3 Ν 2 〇 3 S 2 (2 8 4 · 23) C〔％〕 H C % j N〔％〕 SC%] 計算值 29.59 1 · 0 6 9*8 6 2 2.5 6 實際值 2 9 · 9 2 1 ♦ 1 1 9 · 8 9 2 2 ♦ 6 1 實例1 3至1 4 大致上依照實例1 · 2之程序製備Μ下實例，其係使 cx -羥基亞胺一 4 一甲氧基苄基氣ib物與相對應磺氯化物反應。實例1 3 : α - (辛基磺醯基氧基亞胺基）一 4 一甲氧基苄基氣化物係得自於《 —羥基亞胺基—4 一甲氧基苄基氰化物與 1 -辛烷磺醯基氯ib物之反應。在矽膠上進行色層分析（ 1 ;中提液為己烷：醋酸乙_為4 : 1 ) >得到產率7 7 %圼微黄色一橙色黏糊油之u —(辛基磺醯基氧基亞胺基）一 -1 E)- 本紙張尺度適用屮國國家標华（CNS ) /V丨规格（21〇X2()7公趁） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（C ) 4 —甲氧基苄基氯化物（1 Η — N M R分析）之順式及反式異搆物之6 3 : 3 7混合物。元素分析：C i 7 H 24N2〇4S(352.45) C 〔％〕 Η 〔％〕 N〔％〕 S〔％〕計算值 5 7 · 9 3 6 · 8 6 7 · 9 5 9 · 1 〇實際值 58·19 7·〇2 7*6 9 8·9〇實例]4 : cx — ( 3 —氯丙基磺醯基氧基亞胺基）一 4 一甲氧基苄基氰ib物係得自於α —羥基亞胺基一4 —甲氧基苄基氰化物與 3 -氯丙烷磺醯基氯化物之反應。在矽膠上進行色層分析 (沖提液為己烷：醋酸乙酯為4 : 1 )，得到產率5〇％圼微黃色一橙色黏稠油之《 — ( 3 —氯丙基磺_基氧基亞胺蕋）…4 Ψ氧基〒基氯化物（1 Η — N M R分析）之順式及反式異構物之5 8 : 4 2混合物（.賞例1 4 a )、元素分析：C i 2 H t 3 C 1 N z 〇 4 S ( 3 16*7 6 ) C [ % j II〔％〕 N〔％〕 S 〔％〕計算值 4 5 · 5 0 4 · 1 4 8 · 8 4 10*12 實際值 4 6 · 2 1 4 · Ο 2 9*5 2 9*9 3 第二次色層分析餾份得到產率為7 %之微黃色黏裯油之α - （ 3 —氣丙基磺醢莛氧基亞胺越）一4 —甲氧基苄基Μ化物之8 7 : 1 3順式及反式異構物混合物（實例1 -46- 本紙張尺度適州中國丨詞家椋準（CNS ) Λ4規格（2ΙΟΧ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部中央標準局員工消費合作社印製 497011 A7 B7 五、發明説明（你） 4b)。元素分析·♦ C i 2 Η ! 3 C 1 N 2 0 4 S ( 3 1 6 · 7 6 C l % J H [ % ] N〔％〕 S 〔％〕計算值 4 5 * 5 〇 4 · 1 4 8*84 10*12 實際值 4 5 · 8 2 4 · 1 1 9 · Ο 8 9 · 9 7 實例1 5 :製備光阻混合6 5份聚乙烯基酚（重量分子量為4 0 0〇， M a r u z e n C h e m i c a 1 s )，3 Ο份六（甲氧基甲基）三聚氰醯胺（(:y m e 1⑬3 0 3 , C y a n a m i d )和5份接受試驗化合物，將2 • 5克此混合物溶於7 * 5克含1 0 0〇p p m流動控制劑（F C 4 3 0 )之1 —甲氧基—2 —丙基醋酸酯。此溶液在5 0 0 0轉/分鐘之下於3 0秒内被旋轉塗覆於經拋光及六甲基二矽氨烷處理之直涇為1〇· 2公分（4英时 )矽晶Η ，塗覆厚度為1微米。經塗覆的晶片在1 1〇υ 熱板上乾燥β 0秒，除去溶劑，得到約1微米厚薄膜。如此得到的樣品透過含不同灰色度區域之光罩K (U影像樣態波照射，其係使用可選擇性譲對3 6 5奈米波長光透過 (C a u ϋ u P L A 5 ϋ 1，汞高.壓燈）之千授滤色器。然後將樣品加熱到]1 Ο υ達6 0抄> Κ便藉由輻射所產生酸的催化作用在經照則區域之交聯。然後在2 · 3 8 %四甲基氫氧化錢溶液中m行顯影6 〇秒。然後決定需要達成相當於顯影之前厚度之顯影後薄膜厚度的ii射劑Μ。使用z e i s s -4 7 - 本紙張尺度適用巾國國家標準（CNS ) Λ4現格（210:<297公趨） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 ! A7 B7五、發明説明（π) A X i 〇【r ο η (白光千擾）測定薄膜厚度、所需要_射劑量愈低 »潛在性光硬ib劑愈具反應性。结果列於表1 ，此表顯示使用本發明光硬化劑會得到高敏度之負光阻。表1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製賞例光硬ib劑 3 6 5 η in 敏度[rn J / c in2 ] 1 1 3 2 14 6 4 0 7 a 4 0 0 4 5 9 a 3〇 1〇a 5 0 1 1 1 5 0 -1 8 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 、11

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） 497011 t A7 B7 五、發明説明（4 ) 1 3 1 5 1 4 a 1 5 經濟部中央標準局員工消費合作社印製實例1 6 :製備正光阻 1 6 a :结合劑之製備係大致上依類Μ於U . S c h a d e 1 i等人之美國專利第5 5 5 8 9 7 8 (1 9 9 6)進行：由四氫一 2 Η -吡喃氧基苯乙烯，N -羥基甲基馬來醯亞胺和 Ν —乙醯氧基甲基馬來醯亞胺之三聚合物。在1〇〇〇毫升之廣口燒瓶中在氮氣大氣及6 Ο υ之下，5 6 · 2 9克 (2 7 6毫莫耳）四氫一2 Η -毗喃氧基苯乙烯，8 · 7 6 克（58毫莫耳）Ν —羥基甲基馬來_亞胺和35 ·〇〇克（207毫莫耳）Ν —乙醯氧基甲基馬來_亞胺及4 ·〇克二苯_基過氧化物在4 0 0毫升四氫呋喃所形成的溶液被授拌4小時。之三聚合物。冷卻反應溶液，然後Κ 2升甲醇使之沈澱。過濾所形成的沈澱 > 在真空（2 0毫巴）中乾燥，得到8 · 1克（理論值之8 8 % )的白色粉末 G P C (聚苯乙烯校正）：數目平均分子量為1 0 6 0〇，ΜΙ Μ平均分子量為6 7 8 0 0 ，P D為6 · 4.， Τ (; Λ ( 1 0 t、/分鐘）：1 7 0至2 5 0 之間的重量損失為2 5 %。 ~ 4 9 - 本紙張尺度適用中國國家標率（CMS ) Α4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

497011 經濟部中央標準局員工消費合阼社印製 A7 B7五、發明説明（吟） 1 G b :製備正i線光阻 16b· 1 :製備·種光阻溶k，其ί系溶解0 · 9 8克實例1 6 a聚合物和2 0 *克賞例1之光起始劑於6克之1 —甲氧基—2 —醋酸丙酯。此溶液在1 3 0〇轉/分鐘之下被旋轉塗覆於直徑為3英吋矽晶片，接著在lOOC乾燥1分鐘，製得1 · 1微米塗覆厚度之薄膜。使用ϋ s h i 〇 ϋ X Μ - 5 ϋ 2 M D型汞蒸氣燈，透過窄頻干擾滤器及鉻/石英光罩 Μ :3 6 5奈米及3 6 m J / c m 2劑量對薄膜進行影像樣態照射。然後晶片在熱板上加熱1分鐘到1 0 0 °C，然後庄0 ♦ 2 6 2 N之四甲基氫氧化銨在水中之溶液中顯影，先前經照射之光阻薄膜區域溶解*但是仍剩下未經照射之區域。所得到之光罩之正影像具備優良之解析度。 1 B · b · 2 :光阻溶液之製備，係溶解0 · 9 8克賁例1 6 a聚合物和2 0毫克實例2之光起始劑於6克之1 -甲氧基一：」一醋酸丙_ :此溶液在1 0 0轉/分鐘之下被旋轉塗II Π徑為3英时矽晶Η ，接著在1 Ο Ο t乾燥1分鐘，製得1 ·]鼢米塗湲厚度之薄膜使用U s h i 〇 ϋ λ Μ - 2 M D型汞蒸氣燈 > 透過窄頻F搜滤器及絡/石英光罩以3 β 5奈米及3 2 ru J / c m 2劑量對薄膜進行影像樣態照射。然後晶Η在熱板上加熱1分鐘到1〇0 t〕，然後 0 · 2 6 2 N之四甲基氮氧ib钕在水中之溶液中顯影* 光前姅照射之祀m _膜區域溶解，但迠仍刺下未經照射之 Μ域所得到之光罩之正iM象具備ί變良之解析度- -50- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 2()7公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· '1Τ Φ 497011 A7 B7 五、發明説明（α) 1 C ，b * 3 :光阻溶液之製滿，隱溶解0 · 9 8克實冽1 6 a聚合物和2 0毫克賞例6之光起始劑於6克之1 —甲氧基—2 —醋酸丙酯。此溶液在1 3 0〇轉/分鐘之下被旋轉塗覆於直徑為3英时矽晶片，接著在1 Ο Ο υ乾燥1分鐘，製得1 · 1微米塗覆厚度之薄膜。使用Ushio ϋ X Μ - 5 ϋ 2 Μ 1)型汞蒸氣燈，透過窄頻干擾滤器及鉻/石英光罩 Κ 3 6 5奈米及7 2 m J / c m 2劑量對薄膜進行影像樣態照射。然後晶Η在熱板上加熱1分鐘到1 0 0 °C *然後在0 · 2 6 2 N之四甲基氬氧ib銨在水中之溶液中顯影，先前經照射之光阻薄膜區域溶解，但是仍剩下未經照射之區域。所得到之光罩之正影像具備優良之解析度。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

裝· 訂 # 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -51- 本紙張尺度適用t國國家標準（CNS ) Λ4规格（210X297公漦）

Claims

497011 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 2 ·如申請專利範圍第1項的組成物，其除了成份（ K外，包括其它光起始劑、敏化劑及/或添加劑。 3 · —種式（1 )的肟烷基磺酸酯化合物 NC R ,C = N - Ο — S〇rR3 ⑴，其中R為蔡基或 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

ΤΛ X ΓΛ ) 综氧烷基， \ ^ 4 ) 的苯基取代或 ) 燒基光阻中〇為R ! — X基或R 2 ; 為直接鍵或氧原子； ^為氫，未經取代或經苯基、〇Η或（C i - C 4 基取代的或可被一 0 —原子間斷的（C 1 一 C 4 ) 或R i為未經取代或經選自包括氯，溴，（C t 一烷基和（C i 一 C 4 )烷氧基的組群之取代基取代 2為氫或（C C 4 )烷基；和為直鍵或支鏈（C C )烷基，其為未經經一或多個鹵原子取代，或為苯基一（C i 一 C 2 或坎培基；其係在對達3 9 0奈米波長_射敏感之作為光敏性酸產生劑。 4 ♦ 一種化學放大正光阻，其可在鹼性媒介中顯影及對3 4 0至3 9 0奈米波長範圍的輻射敏感，該光阻係K -2- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐) 線

497011 A8B8C8D8 六、申請專利範圍作為光敏性酸產生劑的肟烷基磺酸酯為基礎，並含有作為肟烷基磺酸酷之如申請專利範圍第3項所述式（1 )化合物〇 5 · —種化學放大負光阻，其可在鹼性媒介中顯影及對3 4 0至3 9 0奈米波長範圍的轜射敏感，該光阻係Μ 作為先敏性酸產生劑的肟烷基磺酸酯為基礎，並含有作為肟烷基磺酸酯之如申請專利範圍第3項所述式（1 )化合物。 6 ·如申請專莉範圍第5項的負光阻，其包括1 %至 1 5 % Μ量的式（1 )之肟烷基磺酸酯，4 0 %至8 0 % 重量的作為结合劑的可溶於鹼之酚樹脂，Μ及5 %至3〇 %重量的作為交聯劑的胺樹脂，上逑百分比係相對於組成物的固體含量而言。 7 ♦如串請專利範圍第6項的負光阻，其包括高純度或工業形式之Ν —甲氧基甲基三聚氰醯胺或四甲氧基甲基甘脲和Ν ，Ν / —二甲氧基甲基糖醛作為胺樹脂。 8 ·如申請專利範圍第4項的正光阻，其包括0 · 5 %至2 5 %重量的式ί 1 )化合物Μ及7 5 %至9 9 · 5 96重量之化合物，該化合物可實質上防止組成物溶於鹼性本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁)

、言

497011 A8B8C8D8 六、申請專利範圍顯影劑中，但是此化合物在酸存在之下會κ 一種殘留的反應產物可溶於顯影劑中的方式被切斷，及/或造成完全不溶於顯影劑之耐酸性額外结合劑κ溶於顯影劑中，上述百分比係相對於組成物的固體含量言。 9 ♦如申請專利範圍第1項的組成物，其係用於製造印刷板、濾色器、光姐材料Μ及影像記錄材料。 1 0 * —種式（1 a )化合物， NCx Jc = N-〇-S〇rR3 (1a), R -

R〇為R! —X基或Rz ; X為直接鍵或氧原子或硫原子； R 1為氫，（C 1 一 C 4 )烷基或未經取代或經選自包括氯，溴，（C ! 一 C 4 )烷基和（C ! 一 C 4 )烷氧基的組群之取代基取代的苯基； R 2為氫或（C i 一 C 4 )烷基；和 R 3為直鍵或支鍵（C i 一 C ί 2 )烷基，其為未經取代或經一或多個鹵原子取代，其條件為如果R 3為甲基，R不為萘基，苯基或3 - _嗯基。 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297乂釐) (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁)

497011 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1 ♦如申請專利範圍第1〇項的式（1 a )化合物，其為α — （甲基磺醯氧基亞胺基）一4 一甲氧基τ基氟化物，α — （甲基磺醯氧基亞胺基）一 3 —甲氧基苄基氰化物），α — （甲基磺醯氧基亞胺基）一4 一甲基苄基氟化物，α — （甲基磺_氧基亞胺基）暖吩一 2 —乙腈，α 一（異丙基磺醯氧基亞胺基）_吩一 2 —乙腈，α — (丁基磺醯氧基亞胺基）噻吩一 2 -乙腈，α — （辛基磺_氧基亞胺基）31吩一 2 -乙腈，α — （十二基磺醯氧基亞胺基）瞎吩一2 —乙腈，α - （3——氯丙基磺_氧基亞胺基 )噻吩一 2 -乙腈，α - （三氟甲基磺醯氧基亞胺基）噻吩一 2 —乙膳，α — （辛基磺醯氧基亞胺基）一 4 一甲氧基τ基氰化物，α — （ 3 —氯丙基磺釀氧基亞胺基）一 4 一甲氧基苄基氟化物。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁)

497011 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明說明（j ) :二^、於1丨气本發明係關於一種特定的肟烷基磺酸酯化合物’也就是含有结構蜇元)C = N — 0 — S02—院基的化合物，Μ及其作為光敏性酸產生劑在化學放大光組、印刷板’濾色器或可Μ 、在鹼性媒介中顯影的影像記錄材料方面的應用’其在作為 . 相對應正光姐中溶解抑制劑的應用’ Μ及一種使用此類光阻，印刷板或影像記錄材料製造影像的方法° 應理解化學放大光阻意味著一種光姐組成物，其光敏性成份在經輻射照射時只會產生催化至少一種光阻的酸敏 " 性成份的化學反應所需要數量的酸，結果是光阻經照射和未經照射區域之間首先形成最終的溶解度差異。 Μ數量眾多的光敏性肟磺酸酯和傳統酸硬化樹脂為基 ν': 各礎的工業塗料配方在U S — Α — 4 5 4 0 5 9 8中多有揭示。這些配方首先在光化光之下硬化，特別是在波長為 2 5 0至4 0 0奈米的照射範圍。肟磺酸酯產生酸，所能夠產生熱硬化，使材料也在習用溶劑中變成不溶解，卽使在相當低溫之下也是如此。無法從相對應光組薄膜的影像樣態曝光或相關問題加Μ推論，Μ及無法從落在本專利說明書的屬性範圍內的眾多配方的影像問題加Μ推論。肟磺酸酯（在水性鹼性顯影液中的溶解度甚低）可在經過照射之下轉換成為自由態酸的可溶解形式。與合適的成膜樹脂混合之後，因此可作為製造正光阻的溶解抑制劑。 Μ肟磺酸酯和可溶於鹼性的结合劑為基礎的傳統正光阻組成物，典型為甲酚醛或羥基甲基丙烯酸瞻/丙烯酸一4 一 —Mm (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) If·· 訂---------線 t 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 497011

六、申請專利範圍 1 ♦一種可被具有3 4 Q至3 3 ϋ奈米波長之光活化的組成物，其包括： (a )至少一種化合物，其可被酸作用交聯及/或 (b )至少一種化合物，其在酸作用之下改變其溶解度* 和 ί c )作為光起始劑的至少一種式（1 )化合物， NCx = 〇 —SO^-R3 ⑴ 其中R為萘基，或 F R〇為Rt — X基或R2 X為直接鐽或氧原子； R ί為氫，未經取代或經苯基、〇Η或（C ι 一 C 4 )烷氧基取代的或可被一 0 —原子間斷的（C ι 一 C 4 ) 烷基，或R i為未經取代或經選自包括氯，溴，（Ci — C 4 )烷基和（C ί 一 C 4 )烷氧基的組群之取代基取代的苯基；R 2為氫或（C ^ 一 C 4 )烷基；和 R 3為直鍵或支鍵（C ! 一 C ^ 2 )烷基，其為未經取代或經一或多個鹵原子取代，或為苯基一（Cl 一 C 2 )烷基或坎培基（c a m P h e r y 1)。

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁)

、1T< 線