JP2010501655A - Uv線量インジケータ - Google Patents
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Abstract
Description
(a)酸に反応する着色剤;
(b)光潜在性の酸;
を含み、(b)がスルホニルオキシムエステル化合物であることを特徴とする組成物が、照射されたコーティングにより、吸収された照射線量を判定するのに特に適していることが見出されている。
3−ジブチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ−6−メチルフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2,4−ジメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−t−ブチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−カルボキシエチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−エトキシエチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−6,8−ジメチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−ベンゾ[a]フルオラン、3−ジエチルアミノ−ベンゾ[c]フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチルフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2,4−ジメチルアニリノ)−フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−エトキシエチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−クロロ−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(4−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジペンチルアミノ−6−メチル−7−(4−2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルアミノ−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジペンチルアミノ−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−プロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−n−ヘキシルアミノ)−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)アミノ−7−メチルフルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−テトラヒドロフルフリルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−ブチル−N−イソアミルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−イソプロピル−N−3−ペンチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−エトキシプロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロロフルオラン、2−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−メトキシ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−クロロ−3−メチル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−フェニル−6−メチル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−ベンジル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジエチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジブチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2,4−ジメチル−6−[(4−ジメチルアミノ)−アニリノ]フルオランを含むが、これらに限定されない。
R1及びR2は、互いに独立にC6〜C14アリール又はC5〜C14ヘテロアリールであり、それらの両方が場合により1個以上のC1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシ、C1〜C12ジアルキルアミノ、C1〜C12アルキルアミノ、C6〜C14アリール、C6〜C14アリールアミノ、ジ(C1〜C14アリール)アミノ又はハロゲンにより置換されており;
m及びnは、互いに独立に整数0又は1であり、ただしn+mの和は1であり;
p及びqは、互いに独立に整数0又は1であり;
Xは、CH又はNであり;
X1及びX2は、互いに独立にC2〜C8アルケニレンであり;そして
Eは、C6〜C14アリール又はC5〜C14ヘテロアリール環あるいは環系であり、ここでC6〜C14アリール又はC5〜C14ヘテロアリール環あるいは環系は場合により1個以上のC1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシC1〜C12アルキルアミノ、C1〜C12ジアルキルアミノ、NO2、CN又はハロゲンにより置換されている]
で示されるものである。
R20は、
R21は、R20に対して与えられた定義のうちの一つを有するか、あるいは
R22は、C1〜C20アルキル、C1〜C20ハロアルキル、カンフォリル、フェニル−C1〜C6アルキル、C3〜C30シクロアルキル、フェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリルであり、基シクロアルキル、フェニル、ナフチル、アントラシル及びフェントリルは無置換であるか、あるいは1個以上のハロゲン、C1〜C12ハロアルキル、CN、NO2、C1〜C20アルキル、フェニル、C1〜C12アルキルチオ、C1〜C12アルコキシ、フェノキシ、C1〜C12アルキル−O(CO)−、C1〜C12アルキル−(CO)O−、R24OSO2−及び/又は−NR25R26で置換されており;
uは、0又は1であり;
vは、2〜6の整数、好ましくは3であり;
R23は、C1〜C20アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、カンフォリル、無置換のフェニル又は1個以上のハロゲン、C1〜C12アルキル、OR27、SR27もしくはNR25R26により置換されたフェニルであり;
R24は、水素、C1〜C20アルキル、フェニル又はC1〜C20アルキルにより置換されたフェニルであり;
R25及びR26は、互いに独立に水素、C1〜C20アルキル、C2〜C12ヒドロキシアルキルであるか、あるいはR25とR26は、それらが結合するN原子と一緒になって、5−又は6−員環を形成し、これは場合により1個以上のOもしくはNR28を含み;
R27は、C1〜C20アルキル、フェニル、フェニル−C1〜C6アルキル又はC2〜C12ヒドロキシアルキルであり;そして
R28は、水素、フェニル、フェニル−C1〜C6アルキル、C1〜C20アルキル又はC2〜C12ヒドロキシアルキルである]
で示されるスルホニルオキシムエステルを含む組成物である。
で示されるものである。
1.低温もしくは熱架橋性の、アルキド、アクリレート、ポリエステル、エポキシ、尿素樹脂又はメラミン樹脂あるいはそのような樹脂の混合物をベースとし、硬化触媒を添加されているか、あるいはされていない塗料;
2.ヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステル又はポリエーテル樹脂及び脂肪族もしくは芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースにした二成分系ポリウレタン塗料;
3.チオール含有アクリレート、ポリエステル又はポリエーテル樹脂及び脂肪族もしくは芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースにした二成分系ポリウレタン塗料;
4.焼付けの過程で非ブロック化されるブロックイソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースにした一成分系ポリウレタン塗料であって、適切である場合にはメラミン樹脂が添加されていてもよい塗料;
5.脂肪族もしくは芳香族ウレタン又はポリウレタン及びヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステル又はポリエーテル樹脂をベースにした一成分系ポリウレタン塗料;
6.ウレタン骨格にフリーのアミン基を有する、脂肪族もしくは芳香族ウレタンアクリレート又はポリウレタンアクリレート及びメラミン樹脂又はポリエーテル樹脂をベースにした一成分系ポリウレタン塗料であって、硬化触媒を添加されているか、あるいはされていない塗料;
7.(ポリ)ケチミン及び脂肪族もしくは芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースにした二成分系塗料;
8.(ポリ)ケチミン及び不飽和アクリレート樹脂又はポリアセトアセテート樹脂あるいはメタクリルアミドグリコレートメチルエステルをベースにした二成分系塗料;
9.カルボキシル−もしくはアミノ−含有ポリアクリレート及びポリエポキシドをベースにした二成分系塗料;
10.無水物基を含有するアクリレート樹脂及びポリヒドロキシ又はポリアミノ成分をベースにした二成分系塗料;
11.アクリレート含有無水物及びポリエポキシドをベースにした二成分系塗料;
12.(ポリ)オキサゾロン及び無水物基を含むアクリレート樹脂又は不飽和なアクリレート樹脂、あるいは脂肪族もしくは芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースにした二成分系塗料;
13.不飽和なポリアクリレート及びポリマロネートをベースにした二成分系塗料;
14.エーテル化されたメラミン樹脂と組み合わせた、熱可塑性アクリレート樹脂又は外部架橋性アクリレート樹脂をベースにした熱可塑性ポリアクリレート塗料;
15.シロキサン又はフルオロで修飾されたアクリレート樹脂をベースにした塗料;
16.マロネートでブロックされたイソシアネートと、架橋剤(酸で触媒される)としてのメラミン樹脂(例えばヘキサメトキシメチルメラミン)をベースにした塗料、特にはクリヤー塗料;
17.オリゴマーのウレタンアクリレート及び/又はアシル化アクリレートをベースにしたUV硬化系であって、場合により他のオリゴマー又はモノマーを添加している系;
18.最初に熱により、次にUVにより硬化させるか、あるいはその逆で硬化させる二元硬化系であって、塗料組成物の成分は、UV光及び光開始剤及び/又は電子線により反応させられる二重結合を含む系;
19.(メタ)クリロイル基及びフリーのイソシアネート基を含むウレタン(メタ)クリレート及び一種類以上のイソシアネート−反応性化合物、例えばエステル化されていないか、エステル化されているポリオールをベースにした塗料系。そのような系は、例えばEP928800中に公表されている。
1.(a)酸に反応する着色剤、
(b)上記に定義した光潜在性の酸、
(c)エチレン性不飽和単量体、オリゴマー、及び/又はポリマー化合物、及び場合により
(e)ラジカル光開始剤
を含む組成物を調製し;
2.前記組成物を基材に塗布し;
3.被覆された基材を、定義されたエネルギーの放射線に定義された時間曝露し;
4.コーティングの色の変化を測定する
ことを含む。
1.(a)酸に反応する着色剤、
(b)上記に定義した光潜在性の酸、
(c)エチレン性不飽和単量体、オリゴマー、及び/又はポリマー化合物、及び場合により
(e)ラジカル光開始剤
を含む組成物を調製し;
2.前記組成物を基材に塗布し;
3.被覆された基材を、定義されたエネルギーの放射線に定義された時間曝露し;
4.コーティングの色の変化を測定し;
5.ステップ2〜4を、異なる照射線量と時間において繰り返し、照射線量と色の変化の程度との間の相関を判定し;そして
6.測定された色の変化を、ステップ5において得られた照射線量/色相関と比較することにより、ステップ1〜2に従って調製されたサンプルに適用された未知の照射線量を判定する
ことを含む。
被覆された基材により吸収された照射線量を判定する方法であって、以下:
1.(a)酸に反応する着色剤、
(b)上記に定義した光潜在性の酸、
(d)熱硬化性配合物、そして場合により
(f)熱開始剤
を含む組成物を調製し;
2.前記組成物を基材に塗布し;
3.被覆された基材を、定義されたエネルギーの放射線に定義された時間曝露し;
4.コーティングの色の変化を測定する
ことを含むものでもある。
1.(a)酸に反応する着色剤、
(b)上記に定義した光潜在性の酸、
(d)熱硬化性配合物、そして場合により
(f)熱開始剤
を含む組成物を調製し;
2.前記組成物を基材に塗布し;
3.被覆された基材を、定義されたエネルギーの放射線に定義された時間曝露し;
4.コーティングの色の変化を測定し;
5.ステップ2〜4を、異なる照射線量と時間において繰り返し、照射線量と色の変化の程度との間の相関を判定し;そして
6.測定された色の変化を、ステップ5において得られた照射線量/色相関と比較することにより、ステップ1〜2に従って調製されたサンプルに適用された未知の照射線量を判定する
ことを含む。
上記に定義した組成物、特には上記に記載した成分(a)及び(b)を含む組成物で被覆された基材を含むものである。
CL−1:ビスインドリルフタリド化合物
配合物1
18.700g ポリオール、イソシアネート及びアクリル酸エステルをベース
ポリマー、Laromer UA 9050 V、BASF AGより提供
0.410g 光開始剤としての2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパノン
1.030g 溶媒としての酢酸ブチル、Aldrichより提供
0.040g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
0.198g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.004g 光潜在性の酸としてのPLA−1
0.105g 光潜在性の酸としてのPLA−2
配合物2
18.700g ポリオール、イソシアネート及びアクリル酸エステルをベース
ポリマー、Laromer UA 9050 V、BASF AGより提供
0.410g 光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニ
ルホスフィンオキシド
1.030g 溶媒としての酢酸ブチル、Aldrichより提供
0.040g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
0.200g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.098g 光潜在性の酸としてのPLA−1
配合物3
18.700g ポリオール、イソシアネート及びアクリル酸エステルをベース
ポリマー、Laromer UA 9050 V、BASF AGより提供
0.410g 光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニ
ルホスフィンオキシド
1.030g 溶媒としての酢酸ブチル、Aldrichより提供
0.040g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
0.198g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.200g 光潜在性の酸としてのPLA−1
0.200g 光潜在性の酸としてのPLA−2
配合物4
9.35g ポリオール、イソシアネート及びアクリル酸エステルをベース
ポリマー、Laromer UA 9050 V、BASF AGより提供
0.20g 光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニ
ルホスフィンオキシド
0.50g 溶媒としての酢酸ブチル、Aldrichより提供
0.02g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
0.10g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.10g 光潜在性の酸としてのPLA−2
配合物5
18.700g ポリオール、イソシアネート及びアクリル酸エステルをベース
ポリマー、Laromer UA 9050 V、BASF AGより提供
0.410g 光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニ
ルホスフィンオキシド
1.030g 溶媒としての酢酸ブチル、Aldrichより提供
0.040g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
0.198g 潜在的着色剤としてのCL−2
0.100g 光潜在性の酸としてのPLA−2
配合物6
成分A: 73.00g 酢酸ブチル中の70%ヒドロキシ担持ポリアクリレート
Desmophen A VP LS 2350、Bayer AGより提供
00.70g 酢酸ブチル中の10%添加剤、Byk 333、Bykより提供
00.90g 50%供給形態の添加剤、Byk 355、Bykより提供
00.70g 4%供給形態の添加剤、Byk 141、Bykより提供
24.70g 溶媒としてのキシレン/メトキシプロピルアセテート/
酢酸ブチル 1:1:1
1.0g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.50g 光潜在性の酸としてのPLA−3
87.0g 成分A
11.5g 脂肪族ポリイソシアネート(HDI三量体)、Desmodur(登録商標) N 3390、Bayer AGより提供
配合物7
成分A: 6.0g 潜在的着色剤としてのCL−1
0.1g 光潜在性の酸としてのPLA−1
3.0g 光潜在性の酸としてのPLA−2
90.9g モノマー、ヘキサンジオールジアクリレート(HDAA)、
BASF AGより提供
13.0g 成分A
1.6g 光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホ
スフィンオキシド
0.2g 平滑化剤、Byk 306、Bykより提供
8.7g 6官能性脂肪族ウレタンアクリレート、Ebecryl 1290、Cytecより提
供
50.4g ウレタン−アクリレートリゴマー、Ebecryl 4858、Cytecより提供
26.1g 溶媒としての酢酸ブチル:キシロール(7:3)
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物1を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたプレートをプラズマ室に導入した。プラズマ室内の圧力を0.02mbarまで下げ、空隙を窒素(ガス流量=30sccm)とヘリウム(ガス流量=24sccm)の混合物で満たして0.05mmbarの圧力に達しさせた。800Wのマイクロ波出力を付与してプラズマを誘起し、マイクロ波発生器の出力を固定して期待される強度である1.6mJ/cm2に達しさせた。全プロセス時間(すなわち照射時間)は、20秒であった。実験を異なるプロセス持続時間で繰り返した。硬化したフィルムの色を、ミノルタ分光光度計CM−3600dにソフトウェア(CGREC、Ciba Specialty Chemicalsにより開発)を組み合わせたものにより測定した。前記測定において、DIN6174法にしたがって比色分析によりa*を測定した。プロセス持続時間及び照射線量に対する色の依存性を表1に示した。所与のプラズマ照射時間における発色の温度依存性を表2に示した。室温又は140℃のいずれにおいて照射を行っても、同様な色値が得られた。暗所及び日光の下で保管されたフィルムに関して、照射の後の色安定性を表3に示した。フィルムは日光に対してわずかに敏感であるが、暗所においては安定である。
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物3を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたプレートを異なるUV線量で暴露した。表6は、異なる照射条件の下で測定された色値をまとめたものである。
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物4を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたプレートを異なる電子線量で暴露した。表7は、EB線量の関数としての発色を示している。
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物5を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたサンプルをプラズマにより異なる時間暴露した。結果を表8にまとめた。
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物6を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたプレートを130℃で15分間加熱し、室温まで冷却した後にプラズマ室に導入した。プラズマ室内の圧力を0.02mbarまで下げ、空隙を窒素(ガス流量=30sccm)とヘリウム(ガス流量=24sccm)の混合物で満たして0.05mmbarの圧力に達しさせた。800Wのマイクロ波出力を付与してプラズマを誘起し、マイクロ波発生器の出力を固定して期待される強度に達しさせた。実験を異なるプロセス持続時間で繰り返した。硬化したフィルムの色を、ミノルタ分光光度計CM−3600dにCGRECソフトウェアを組み合わせたものにより測定した。プロセス持続時間及び照射線量に対する色の依存性を表9に示した。
ワイヤーワウンドバーコーターによって、配合物7を白色コイル皮膜上に塗布し、40μmの乾燥フィルム厚さを得た。被覆されたプレートを60℃で10分間乾燥し、そして室温で一回、異なるベルト速度における二つの中圧水銀ランプ(それぞれ80W/cm)の連携を使用して照射した。硬化したフィルムの色を、ミノルタ分光光度計CM−3600dにCGRECソフトウェアを組み合わせたものにより測定した。暴露条件に対する色の依存性を表10に示した。
Claims (15)
- 吸収された照射線量に応じて色の変化を示す組成物であって、
(a)酸に反応する着色剤;
(b)光潜在性の酸;
を含み、
(b)がスルホニルオキシムエステル化合物であることを特徴とする組成物。 - 光潜在性の着色剤(a)が、スピロピラン、スピロオキサジン、ナフトピラン及びラクトンからなる群より選択される、請求項1記載の組成物。
- 光潜在性の酸としての(b)が、式IIa、IIb又はIIc:
[式中、
R20は、
、(CO)O−C1〜C20アルキル、CN又はC1〜C20ハロアルキルであり;
R21は、R20に対して与えられた定義のうちの一つを有するか、あるいは
であり;
R22は、C1〜C20アルキル、C1〜C20ハロアルキル、カンフォリル、フェニル−C1〜C6アルキル、C3〜C30シクロアルキル、フェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリルであり、基シクロアルキル、フェニル、ナフチル、アントラシル及びフェントリルは無置換であるか、あるいは1個以上のハロゲン、C1〜C12ハロアルキル、CN、NO2、C1〜C20アルキル、フェニル、C1〜C12アルキルチオ、C1〜C12アルコキシ、フェノキシ、C1〜C12アルキル−O(CO)−、C1〜C12アルキル−(CO)O−、R24OSO2−及び/又は−NR25R26で置換されており;
uは、0又は1であり;
vは、2〜6の整数、好ましくは3であり;
R23は、C1〜C20アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、カンフォリル、無置換のフェニル又は1個以上のハロゲン、C1〜C12アルキル、OR27、SR27もしくはNR25R26により置換されたフェニルであり;
R24は、水素、C1〜C20アルキル、フェニル又はC1〜C20アルキルにより置換されたフェニルであり;
R25及びR26は、互いに独立に水素、C1〜C20アルキル、C2〜C12ヒドロキシアルキルであるか、あるいはR25とR26は、それらが結合するN原子と一緒になって、5−もしくは6−員環を形成し、これは場合により1個以上のO又はNR28を含み;
R27は、C1〜C20アルキル、フェニル、フェニル−C1〜C6アルキル又はC2〜C12ヒドロキシアルキルであり;そして
R28は、水素、フェニル、フェニル−C1〜C6アルキル、C1〜C20アルキル又はC2〜C12ヒドロキシアルキルである]
で示されるスルホニルオキシムエステル化合物である、請求項1記載の組成物。 - エチレン性不飽和単量体、オリゴマー、及び/又はポリマー化合物(c)あるいは熱硬化性樹脂(d)と混ぜられた、請求項1記載の組成物。
- エチレン性不飽和単量体、オリゴマー、及び/又はポリマー化合物(c)あるいは光開始剤(e)と混ぜられた、請求項1記載の組成物。
- 熱硬化性樹脂(d)及び熱開始剤(f)と混ぜられた、請求項1記載の組成物。
- コーティングの色強度を測定し、照射されていない状態から照射された状態への被覆された基材の色の変化によって照射線量について直接的な相関を与え、被覆された基材により吸収された照射線量を判定する方法であって、コーティングが、請求項1に定義した組成物を含むことを特徴とする方法。
- 基材により吸収された放射線がUV放射線源、UVA蛍光灯、電子線又はプラズマガスに由来するものである、請求項7記載の方法。
- 色の変化が、無着色のコーティングから着色されたコーティングに展開する、請求項7記載の方法。
- 色の変化が、着色されたコーティングから退色した、あるいは無色のコーティングにまで展開する、請求項7記載の方法。
- 照射線量を判定するための、請求項1記載の組成物の使用。
- 請求項1に定義される組成物により被覆された基材を含む、照射線量インジケータ。
- 基材がポリマーフィルムである、請求項12記載の照射線量インジケータ。
- 請求項1に定義される組成物により被覆された基材が透明なポリマーフィルムによりラミネートされている、請求項12記載の照射線量インジケータ。
- (h)フォイルを製造するのに適切なポリマーと混ぜられた、請求項1記載の組成物。
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153259A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Fuji Xerox Co Ltd | 曝露量判定用媒体、曝露量判定装置、曝露量判定システム及びプログラム |
JP2016000523A (ja) * | 2014-05-22 | 2016-01-07 | 大日本印刷株式会社 | 積層体の製造方法及びそれに用いる接着シート |
JP2016065204A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-28 | 株式会社サクラクレパス | プラズマ処理検知用インキ組成物及びプラズマ処理検知インジケータ |
WO2018070360A1 (ja) * | 2016-10-11 | 2018-04-19 | 株式会社村田製作所 | 揮発性有機物検知体及びその製造方法、揮発性有機物の検知方法並びに揮発性有機物検知装置 |
US10181414B2 (en) | 2013-08-22 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Indicator used in electronic device manufacturing apparatus and method for designing and/or managing the apparatus |
US10180392B2 (en) | 2014-05-09 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Plasma processing detection indicator using inorganic substance as a color-change layer |
US10180413B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for plasma processing detection, and indicator for plasma processing detection using said ink composition |
US10184058B2 (en) | 2014-04-21 | 2019-01-22 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for detecting plasma treatment and indicator for detecting plasma treatment |
US10401338B2 (en) | 2014-02-14 | 2019-09-03 | Sakura Color Products Corporation | Plasma processing detection indicator |
WO2022181285A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181321A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181392A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181289A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線検査具、紫外線検査キット、紫外線検査方法 |
WO2022181332A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知キット、紫外線測定方法、および、紫外線感知キット用ユニット |
WO2022209858A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、紫外線感知キット |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2247983A1 (en) * | 2008-02-21 | 2010-11-10 | Basf Se | Uv-dose indicator films |
DE102008049848A1 (de) * | 2008-10-01 | 2010-04-08 | Tesa Se | Mehrbereichsindikator |
ES2400585T3 (es) * | 2008-10-02 | 2013-04-10 | Basf Se | Composiciones de color cambiante, multicolor, fotoactivas, y dosímetros de UV |
EP2414894B1 (en) * | 2009-03-30 | 2014-02-12 | Basf Se | Uv-dose indicator films |
US9121776B2 (en) | 2009-11-13 | 2015-09-01 | Lincoln Global, Inc. | Welding arc apparel with UV or thermochromic activated images |
US8284385B2 (en) * | 2009-11-13 | 2012-10-09 | Lincoln Global, Inc. | Welding arc apparel with UV activated images |
US20120288690A1 (en) * | 2009-11-16 | 2012-11-15 | Basf Se | Multi color, photoactive, color changing compositions |
CN102162997A (zh) * | 2010-02-24 | 2011-08-24 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种以太阳光为曝光光源制作微流控芯片的方法及其应用 |
US20120050520A1 (en) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | Raytheon Company | Method and Apparatus for Anti-Biofouling of Optics in Liquid Environments |
US8445864B2 (en) | 2011-08-26 | 2013-05-21 | Raytheon Company | Method and apparatus for anti-biofouling of a protected surface in liquid environments |
US9776219B2 (en) | 2013-01-17 | 2017-10-03 | Raytheon Company | Method and apparatus for removing biofouling from a protected surface in a liquid environment |
US20190142713A1 (en) | 2016-04-13 | 2019-05-16 | Segan Industries, Inc. | Optical Evanescent Color Change Compositions and Methods of Making and Using the Same |
US10725002B2 (en) | 2016-11-03 | 2020-07-28 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Chemical sensors for detection and display of environmental hazards |
EP3327088A1 (en) | 2016-11-28 | 2018-05-30 | Agfa-Gevaert Nv | A multicolour laser marking method |
GB2617847B (en) | 2022-04-21 | 2024-05-22 | Intellego Tech Ab Sweden | Stable UV indicator |
WO2023220461A1 (en) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | Quadratic 3D, Inc. | Photoinitiators, compositions, and methods of forming an object |
WO2023220841A1 (en) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | Jianguo Wen | A detecting element for visualizing the intensity distribution of microwave field, and method of preparation and use thereof |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5513780A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-30 | Dynachem Corp | Fluoran coupler containing phototropic photosensitive composition |
JPS6086540A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-16 | Pilot Pen Co Ltd:The | フオトクロミツク材料 |
JPS61137876A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-25 | Hodogaya Chem Co Ltd | キサンテン化合物、キサンテン化合物の製造方法及びキサンテン化合物を含有する画像形成組成物 |
JPS61251652A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-11-08 | チバ − ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | オキシムスルホネ−ト及び該化合物から製造されるポリマ− |
JPH01272930A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-10-31 | Tomoegawa Paper Co Ltd | エネルギー線線量測定シート |
JPH04295458A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光照射により酸を発生する化合物 |
JPH05318909A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JPH0667433A (ja) * | 1992-05-22 | 1994-03-11 | Ciba Geigy Ag | 高感度の高解像度i−線ホトレジスト |
JPH07508789A (ja) * | 1992-07-01 | 1995-09-28 | イクシトロニクス,インコーポレイテッド | 光色転換インキ |
JPH0996900A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト組成物 |
JPH09222725A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-08-26 | Ciba Geigy Ag | オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用 |
JP2000314956A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-11-14 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシム誘導体及びその潜在酸としての使用 |
JP2000517067A (ja) * | 1996-09-02 | 2000-12-19 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 高感度の高解像度i線ホトレジスト用のアルキルスルホニルオキシム類 |
US20010037037A1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-11-01 | Kurt Dietliker | Oximesulfonic acid esters and the use thereof as latent sulfonic acids |
JP2002508774A (ja) * | 1997-07-01 | 2002-03-19 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 新規なオキシムスルホナート類及び潜伏性スルホン酸としてのこれらの用途 |
JP2002122994A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
JP2004529395A (ja) * | 2001-06-12 | 2004-09-24 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | レーザーマーキング方法 |
JP2005015699A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光感応性高分子組成物、それを用いた着色方法及び記録方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2914427A1 (de) | 1979-04-10 | 1980-10-23 | Bayer Ag | Beschichtung fuer thermoplasten |
US4339240A (en) * | 1980-05-07 | 1982-07-13 | Allied Corporation | Color changing polyacetylenic compounds |
US5028792A (en) * | 1987-03-19 | 1991-07-02 | Xytronyx, Inc. | System for the visualization of exposure to ultraviolet radiation |
RU2046302C1 (ru) * | 1991-06-28 | 1995-10-20 | Владимир Наумович Генкин | Датчик для определения дозы облучения ультрафиолетовым излучением и фоточувствительный элемент для индикации облучения |
DE4338361A1 (de) | 1993-11-10 | 1995-05-11 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Zusammensetzungen auf der Basis von Epoxidgruppen-haltigen Silanen |
RU2116634C1 (ru) * | 1997-06-10 | 1998-07-27 | Виктор Федорович Иванов | Индикатор ультрафиолетового излучения |
DE19724396A1 (de) | 1997-06-10 | 1998-12-24 | Bayer Ag | UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme |
DE19724397A1 (de) | 1997-06-10 | 1999-01-14 | Bayer Ag | UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme |
US6406914B1 (en) * | 1999-03-31 | 2002-06-18 | Nichiyu Giken Kogyo Co., Ltd. | Radiation exposure dose-history indicator |
US7091257B2 (en) | 1999-07-27 | 2006-08-15 | Alcatel | Radiation-curable composition with simultaneous color formation during cure |
SG98433A1 (en) * | 1999-12-21 | 2003-09-19 | Ciba Sc Holding Ag | Iodonium salts as latent acid donors |
US20020022008A1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-02-21 | Forest Susan Ellen | UV indicator to signal the reduction of sunscreen efficiency |
GB0114265D0 (en) | 2001-06-12 | 2001-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Polymeric material containing a latent acid |
US6824954B2 (en) * | 2001-08-23 | 2004-11-30 | Jsr Corporation | Sulfonyloxime compound, and radiation sensitive acid generator, positive type radiation sensitive resin composition and negative type radiation sensitive resin composition using same |
BR0307501A (pt) | 2002-02-06 | 2004-12-07 | Ciba Sc Holding Ag | Derivados de sulfonato e o uso destes como ácidos latentes |
JP5073155B2 (ja) | 2002-04-19 | 2012-11-14 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | プラズマにより誘導される被覆の硬化 |
EP1354640A1 (de) | 2002-04-19 | 2003-10-22 | Dürr Systems GmbH | Verfahren und Vorrichtung zum Härten einer Beschichtung |
GB0228647D0 (en) | 2002-12-09 | 2003-01-15 | Ciba Sc Holding Ag | Polyeric material containing a latent acid |
MXPA05008118A (es) | 2003-02-19 | 2005-09-30 | Ciba Sc Holding Ag | Derivados de oxima halogenados y el uso de los mismos como acidos latentes. |
US7476874B2 (en) * | 2003-02-27 | 2009-01-13 | Jp Laboratories, Inc. | Self indicating radiation alert dosimeter |
US7147801B2 (en) * | 2003-03-13 | 2006-12-12 | Videojet Technologies Inc. | Ink jet ink composition and method for security marking |
EP1818091B1 (en) * | 2003-12-03 | 2011-06-08 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Moisture absorbent material with indicator function, humidity indicator and packaging bag |
US20050196616A1 (en) * | 2004-03-04 | 2005-09-08 | Stewart Kevin J. | Photochromic optical article |
US7727702B2 (en) | 2004-04-07 | 2010-06-01 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Method of coloring a coating composition |
CA2574054A1 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-26 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use therof as latent acids |
-
2007
- 2007-08-15 KR KR1020097005933A patent/KR20090043591A/ko not_active Application Discontinuation
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Patent Citations (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5513780A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-30 | Dynachem Corp | Fluoran coupler containing phototropic photosensitive composition |
JPS6086540A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-16 | Pilot Pen Co Ltd:The | フオトクロミツク材料 |
JPS61137876A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-25 | Hodogaya Chem Co Ltd | キサンテン化合物、キサンテン化合物の製造方法及びキサンテン化合物を含有する画像形成組成物 |
JPS61251652A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-11-08 | チバ − ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | オキシムスルホネ−ト及び該化合物から製造されるポリマ− |
JPH01272930A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-10-31 | Tomoegawa Paper Co Ltd | エネルギー線線量測定シート |
JPH04295458A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光照射により酸を発生する化合物 |
JPH05318909A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JPH0667433A (ja) * | 1992-05-22 | 1994-03-11 | Ciba Geigy Ag | 高感度の高解像度i−線ホトレジスト |
JPH07508789A (ja) * | 1992-07-01 | 1995-09-28 | イクシトロニクス,インコーポレイテッド | 光色転換インキ |
JPH0996900A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト組成物 |
JPH09222725A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-08-26 | Ciba Geigy Ag | オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用 |
US20010037037A1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-11-01 | Kurt Dietliker | Oximesulfonic acid esters and the use thereof as latent sulfonic acids |
JP2000517067A (ja) * | 1996-09-02 | 2000-12-19 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 高感度の高解像度i線ホトレジスト用のアルキルスルホニルオキシム類 |
JP2002508774A (ja) * | 1997-07-01 | 2002-03-19 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 新規なオキシムスルホナート類及び潜伏性スルホン酸としてのこれらの用途 |
JP2000314956A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-11-14 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシム誘導体及びその潜在酸としての使用 |
US6261738B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-07-17 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Oxime derivatives and the use thereof as latent acids |
JP2002122994A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
JP2004529395A (ja) * | 2001-06-12 | 2004-09-24 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | レーザーマーキング方法 |
JP2005015699A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光感応性高分子組成物、それを用いた着色方法及び記録方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153259A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Fuji Xerox Co Ltd | 曝露量判定用媒体、曝露量判定装置、曝露量判定システム及びプログラム |
US10181414B2 (en) | 2013-08-22 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Indicator used in electronic device manufacturing apparatus and method for designing and/or managing the apparatus |
US10401338B2 (en) | 2014-02-14 | 2019-09-03 | Sakura Color Products Corporation | Plasma processing detection indicator |
US10184058B2 (en) | 2014-04-21 | 2019-01-22 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for detecting plasma treatment and indicator for detecting plasma treatment |
US10180392B2 (en) | 2014-05-09 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Plasma processing detection indicator using inorganic substance as a color-change layer |
JP2016000523A (ja) * | 2014-05-22 | 2016-01-07 | 大日本印刷株式会社 | 積層体の製造方法及びそれに用いる接着シート |
US10400125B2 (en) | 2014-09-16 | 2019-09-03 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for plasma treatment detection, and plasma treatment detection indicator |
JP2016065204A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-28 | 株式会社サクラクレパス | プラズマ処理検知用インキ組成物及びプラズマ処理検知インジケータ |
US20170101548A1 (en) * | 2014-09-16 | 2017-04-13 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for plasma treatment detection, and plasma treatment detection indicator |
US10180413B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-01-15 | Sakura Color Products Corporation | Ink composition for plasma processing detection, and indicator for plasma processing detection using said ink composition |
WO2018070360A1 (ja) * | 2016-10-11 | 2018-04-19 | 株式会社村田製作所 | 揮発性有機物検知体及びその製造方法、揮発性有機物の検知方法並びに揮発性有機物検知装置 |
WO2022181285A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181321A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181392A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、マイクロカプセル、マイクロカプセルの製造方法、紫外線感知層形成用分散液、紫外線感知キット |
WO2022181289A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線検査具、紫外線検査キット、紫外線検査方法 |
WO2022181332A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知キット、紫外線測定方法、および、紫外線感知キット用ユニット |
WO2022209858A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知部材、紫外線感知キット |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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