TW496958B - Method and apparatus for laser cutting of microscopic specimens - Google Patents
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Description
496958 五、發明説明( 1) 詳 細 說 明 發 明 背 景 發 明 領 域 本 發 明 係 關 於 一 種 用 於雷 射 切割微小樣本之方法。 本 發 明 也 關 於 一 種 用 於雷 射 切割微小樣之裝置,該裝 置 係 包 括 :顯微鏡,係含有至少- -個用於觀測待切割樣 本 的 物 鏡 Μ 物 鑲 會 定 主 我 :出光 ;軸 1及物鏡孔徑;雷射,係用 於 產 生 雷 射 光 束 、及 、至少一 ‘個 1光學系統,係用於使雷 射 光 束 親 合 於 物 鏡 之 內 〇 相 關 技 術 說 明 長 久 以 來 對 諸 如 癌 症 之類 的 疾病的辨認係藉由執行 組 織 樣 本 之 切 片 以 辨 認 出不 正 常的細胞。藉由微切割 或 其 他 實 驗 方 法 依 手 動 或機 械 方式隔離出待檢驗的細 胞 〇 未 審 定 專 利 甲 Ξ主 δ円 案 第 DE 1 96 1 6 2 1 6.5號文件說明了 — 種 這 類 方 法 亦 即 所 三田 明 雷射 壓 力射出(LPC)方法,其係 藉 由 雷 射 從 裝 設 於 透 明 樣本 玻 片上的樣本切出樣本片 段 〇 以 這 種 方 法 ,藉由 1誘發式 :雷 ’射處理法完成從完整樣 本 移 除 所 切 出 樣 本 片 段 的作 業 。爲了這個目的,藉由支 持 臂 引 導 其 內 側 表 面 塗 覆有 黏 著劑的收集裝置使之越 過 切 出 樣 本 片 段 〇 妖 J \ \\ 後 使這 樣 樣本片段曝露在具有適 當 輸 出 之 二 維 雷 射 的 撞 擊作 用 下,結果從完整樣本中向 上 射 出 所 切 出 的 樣 本 片 段。 由 收集裝置上塗覆有黏著 劑 的 內 側 表 面 截 住 依 這 種方 -3 式 卸下的樣本片段,然後能 496958 五、發明説明(2) 夠將之送出以接受額外的檢驗。用來射出樣本片段的 雷射脈波可能對組織造成破壞。另外,能夠使因切割處 理從切割線卸下的樣本粒子澱積到待檢驗的樣本區域 之上。在使用倒置顯微鏡時特別會發生這樣問題。 於來自實際應用的已知系統中,能夠藉由修正雷射強 度及其聚焦位置而調整雷射的切割品質。於這類已知 系統中,係藉由物鏡孔徑定出用於雷射光包的孔徑,因 此該物鏡孔徑必須是儘可能愈大愈好以便得到最高的 影像品質。如同先前的說明,吾人很難以含現有設計的 裝置及方法達成一致的切割品質。切割品質一方面係 取決於標本的聚焦位置及其厚度,另一方面係取決於雷 射強度。後者可能因使用者而改變以便使切割品質最 佳化。 發之扼要說明 從這種現有習知技術出發,本發明的目的是建造一種 用於雷射切割微小樣本之裝置,其方式是保證在樣本之 寬廣波譜下都具有大槪一致的切割品質。 根據本發明,此目的係藉由提供有能夠產生經攔阻雷 射光束之光闌並由比物鏡孔徑更小之物鏡產生雷射孔 徑的事實達成的。 本發明的另一目的是揭示一種用於雷射切割微小樣 本之方法,以便能夠在樣本之寬廣波譜下都具有大槪一 致的切割品質。 此目的係藉由一種包括下列步驟的方法達成的: -4- 496958 五、發明説明(3) a) 將含有待檢驗樣本的樣本玻片引進包括至少一個 物鏡的顯微鏡之內; b) 以物鏡確定出樣本上將要切出的區域; c) 定義出圍繞該區域的切割線; d) 藉由光闌產生經攔阻雷射光束,以致減小其直徑其 方式是由比物鏡本身之物鏡孔徑更小之物鏡產生雷射 孔徑;以及 e) 沿著所定義出的切割線切割樣本。 本發明的一個優點是雷射光錐會因爲減小了雷射孔 徑而變得比較細長,造成場域深度的增加。因爲雷射光 具有較大的場域深度的必然結果,減低了對聚焦準確度 的要求,因此得到了均勻而窄小的切割通路。 根據本發明裝置之實施例的另一個優點是能夠於切 割作業期間維持其物鏡孔徑的尺寸。因此能夠在任何 時刻對樣本施行全物鏡孔徑的觀測。這會確保能夠對 樣本平面作出最佳化定義並確保有最高影像品質以便 對樣本進行評估。需要高達大槪0.8的物鏡孔徑以便 施行具有高細緻度的成像作用並明確地選出各樣本區 域。這自然會需要很淺的場域深度,以致能夠依受控制 方式聚焦於不同的樣本平面上。不過對以雷射光束進 行切割的作業而言,很淺的場域深度是吾人所不想要 的。現在本發明會使相當大的物鏡孔徑與經攔阻電射 光束結合,其方式是由比物鏡本身之物鏡孔徑更小之物 鏡產生其雷射孔徑。吾人能夠在不改變其開口下使用 496958 五、發明説明(4) 該物鏡,以便同時對樣本進行觀測及切割作業。 根據本發明的一實際實施例,光學系統係含有能夠反 射電射光並使之耦合於物鏡之內的雙色分光器,且該分 光器會同時允許落在觀則光束路徑上的光通過目鏡或 照相機。 爲了允許對雷射切割進行監視,特別是依切割品質的 形式,本發明也提出一種可同時藉由影像產生系統(照 相機)進行觀測的雷射切割方法。若在進行影像評估時 發現樣本未因雷射撞擊而完全切穿或其切割幾何形狀 不充分,則吾人能夠藉由電腦對這種雷射切割的同時監 視作出反應,以便調整例如雷射強度及/或雷射光束的 聚焦位置及/或雷射光束內的光闌尺寸之類的單獨系統 參數。這種同時監視作業縮短了整體的切割時間而改 良了其品質。 圖式簡述 本發明的這些及其他特徵及優點將會因爲以下對各 附圖的說明而變得更明顯,其中係藉由實例簡略地描繪 了一種根據本發明用於雷射切割微小樣本之裝置的解 釋用實施例。 第1圖係用以顯示一種用於雷射切割微小樣本之裝 置的示意側視圖; 第2圖顯示的是落在樣本之待切割區域內的光束路 徑;及 第3圖係依圖形方式以雷射光束孔徑的函數繪製出 -6- 496958 五'發明説明(5) 切割寬度。 較佳實施例的詳細說明 如第1圖所示用於雷射切割微小樣本的裝置,係包括 一種配備有用於收納樣本玻片1 0之工作平臺2的顯微 鏡1。待檢驗或待切割樣本係裝設於樣本玻片1 〇上。 同時提供有一種照明系統3以及會產生用來切割樣本 之雷射光束4a的雷射4。 如上所述的顯微鏡1係一種將照明系統3配置於工 作平臺2及樣本1 2以下之顯微鏡架5上的顯微鏡。顯 微鏡1的物鏡6係配置於工作平臺2及樣本1 2之上。 物鏡6會定義出光軸1 4,其中也配置有照明系統3。不 過,吾人也能夠以倒置顯微鏡執行雷射切割,其中則係 將照明系統3配置於工作平臺2之上且將至少一個物 鏡6配置於樣本1 2以下。 於如第1圖所示之解釋用實施例中,經由聚光透鏡7 從底下將發射自照明系統3的光指引到配置於工作平 臺2上的樣本玻片1 0及樣本1 2之上。貫穿到樣本1 2 之內的光會到達顯微鏡1的物鏡6。於顯微鏡1內部, 係經由各透鏡及鏡面(未標示)將光指引到顯微鏡1的 至少一個目鏡8上,使用者能夠透過此目鏡8觀測配置 於工作平臺2上的樣本。 光學系統1 6係提供於顯微鏡架5上物鏡6之光軸 內。該光學系統1 6可能是一種雙色分光器。也能夠想 像該光學系統1 6係包括數個光學元件,這指的是當雷 -7- 五、發明説明(6) 射4必需繞數個角落產生偏轉的例子。同時於雷射光 束4a內提供有光闌丨8,吾人能夠以光闌1 8對應地限制 雷射光束的直徑。吾人能夠將光闌1 8建造成一種固定 的光闌。於追種例子裡係依例如旋轉碟片之類的適當 方式配置有數個固定光闌以便使必要的光闌1 8位移到 光束路徑之內。此位移作業能夠由使用者依手動或是 馬達驅動方式加以執行。於如第1圖所示的實施例中, 係將光闌1 8建造成一種例如膜片光闌之類可經由馬達 2 0控制其直徑的可變光_丨8。馬達2 〇會從電腦2 2接 收必要的控制信號以便設定出必要的光闌直徑。 顯微鏡1也配備有用來記錄待切割樣本1 2之影像的 照相機24。能夠將那個影像顯示於連接於電腦22上 的監視器2 6上。吾人能夠使用由電腦2 2、照相器 24、及監視器26製作的系統以致能夠對藉由雷射4進 行的切割作業施行觀測及監控。另外,能夠在監視器26 上使用滑鼠點選器以便畫出圍繞該待切割樣本1 2的區 域。然後沿著如是標示出的切割線執行切割作業。 第2圖顯示的是落在樣本之待切割區域內的光束路 徑。來自雷射4的雷射光束4 a係因光闌1 8而使其直 徑受到限制。具有較小直徑之經攔阻雷射光束4b會在 光闌18之後冒出。雷射光束4b會遇上建造雙色分光 器的光學系統1 6,且因此透過物鏡6將之指引到待切割 樣本1 2之上。於第2圖中係象徵性地將物鏡6繪製成 透鏡。裝設於樣本玻片1 〇上的樣本1 2係經由聚光透 496958 五、發明説明(7 ) 鏡7受到照明。物鏡6會產生其寬度大於光闌1 8後之 雷射光束4 b寬度的成像光束路徑6 a。 第3圖顯示的是一種比成像光束路徑6 a更窄且比未 經攔阻雷射光束更窄之經攔阻雷射光束4 b ,會塡滿整個 物鏡開口 3 2且能夠定義出最大可能光束截面的優點。 樣本1 2具有可#大於所用物鏡6場域丨朵度的寬度 3 〇。使用者能夠聚焦在樣本1 2內的不同平面上以便找 出與進一步檢驗相關的點。 若以未經攔阻且其截面係對應到物鏡6之物鏡開口 3 2的雷射光束切割樣本1 2,物鏡6會產生等於物鏡孔 徑3 4的最大雷射孔徑。所產生的最大雷射孔徑會於樣 本12內產生具有寬度34a的最大切割通路34b。 不過,若根據本發明以經攔阻的雷射光束切割樣本 1 2,則藉由物鏡6產生了經攔阻雷射光束並於樣本1 2 內產生具有寬度3 6 a的已減小切割通路3 6 b。使用直 徑愈小之切割用雷射光束,則能夠執行愈準確的切割作 業。 在觀測光束路徑外側將光闌1 8配置於光學系統1 6 之前以限制其雷射光束截面的事實,會確保能夠切割作 業期間用於觀看樣本1 2之物鏡6場域深度維持不變, 無論所設定的雷射孔徑爲何。因此即使於切割作業期 間也能夠保持其影像品質。 爲了進一步使切割品質最佳化,必需使用來限制雷射 光束的光闌1 8順應待切割樣本1 2的厚度3 〇。第一種 -9- 496958 五、發明説明(8 ) 可能性從查閱表(未標示)定出施行最佳化切割所需要 的光闌8 .然後由使用者依手動方式設定出光闌。 於另一種解釋用實施例中,能夠藉由電腦2 2由查閱 表(未標示)確定施行最佳化切割所需要的光闌1 8。然 後藉由電腦2 2自動地設定出光闌1 8爲了這個目的,從 電腦2 2將會導致對光闌丨8進行調整之對應信送到馬 達20上。 另一種使切割作業最佳化的可能性,係經由影像分銜 系統(未標示)將電腦22連接到顯微鏡1上,其方式是將 例如雷射強度、雷射光束的聚焦位置、及雷射光束內 的光闌尺寸之類單獨系統參數自動地設定爲最佳化數 値。吾人也能夠於切割作業期間自動地修正各設定値 以便將樣本1 2厚度上的任何起伏列入考量。 本發明係參照各解釋用實施例加以說明的。然而任 何熟悉習知設計的人都能夠在不偏離本發明所附申請 專利範圍之精神及架構下作各種改變及修正。 符號說明 1 ...顯微鏡 2…工作平臺 3··.照明系統 4…雷射 4a··.雷射光束 4b·..經攔阻雷射光束 5…顯微鏡架 -10- ' — 496958 五、發明説明(9 ) 6 ...物鏡 6a...成像光束路徑 7 ...聚光透鏡 8 ...目鏡 1 0 ...樣本玻片 1 2 ...樣本 1 4 ...光軸 1 6 ...光學系統 1 8 ...光闌 2 0 ...馬達 22.. .電腦 2 4...照相機 26.. .監視器 30.. .樣本厚度 3 2 ...物鏡開口 34.. .物鏡孔徑 34a...最大切割通路寬路 34b...最大切割通路 36…雷射孔徑 3 6a...已減小切割通路寬度 36b...已減小切割通路 -11-
Claims (1)
- 496958 六、申請專利範圍 1 _ 一種用於雷射切割微小樣本之方法,其特徵爲具有下 列步驟: a) 將含有待檢驗樣本(12)的樣本玻片(10)引進包括 至少一個物鏡(6)的顯微鏡(1)之內; b) 以物鏡(6)確定出樣本(12)上將要切出的區域; c) 定義出圍繞該區域的切割線; d) 藉由光闌(18)產生經攔阻雷射(4b),以致減小其 直徑其方式是由比物鏡(6)本身之物鏡孔徑(34)更小 之物鏡(6)產生電射孔徑(3 6);以及 e) 沿著所定義出的切割線切割樣本(1 2)。 2. 如申請專利範圍第1項之方法,其中能夠使用滑鼠游 標以便畫出圍繞該待切割樣本(12)的區域,在監視器 (26)上所顯示之樣本(12)影像上定義出切割線。 3. 如申請專利範圍第1項之方法,其中能夠以照相機(24) 對藉由雷射(4)進行的切割作業施行觀測及監控。 4. 如申請專利範圍第3項之方法,其中從表中確定需要 光闌(1 8)以便施行最佳化切割;且使用者係藉由手動 方式設定出該光闌(18)。 5. 如申請專利範圍第3項之方法,其中將含有影像分析 系統的電腦(2 2)連接到顯微鏡(1)上,其方式是將例 如雷射強度、雷射光束的聚焦位置、及雷射光束內 的光闌(18)尺寸之類單獨系統參數自動地設定爲最 佳化數値。 6. 如申請專利範圍第5項之方法,其中藉由電腦(22)從 -12- 496958 六、申請專利範圍 所儲存的表中確定需要光闌(1 8)以便施行最佳化切 割;且由電腦(22)利用馬達(20)自動地完成該光闌(18) 的設定。 7. —種用於電射切割微小樣本之裝置,其包括: 顯微鏡(1),係含有至少一個用於觀測待切割樣本 (12)的物鏡(6),該物鏡(6)會定義出光軸(14)及物鏡孔 徑(34); 雷射(4),係用來產生雷射光束(4a);以及 至少一個光學系統(16),係用來使雷射光束(4a)耦 合於物鏡之內; 其特徵爲 提供有能夠產生經攔阻雷射光束(4b)之光闌(18), 並由比物鏡(6)本身之物鏡孔徑(34)更小之物鏡(6)產 生雷射孔徑(36)。 8. 如申請專利範圍第7項之裝置,其中能夠利用可變光 闌(18)修正雷射光束(4a)直徑的尺寸。 9. 如申請專利範圍第7項之裝置,其中提供有用來照射 樣本(12)的照明系統(3)。 10. 如申請專利範圍第9項之裝置,其中照明系統(3)會 照穿樣本(1 2)。 Π .如申請專利範圍第7項之裝置,其中該光學系統(1 6) 包括至少一個雙色分光器 12.如申請專利範圍第7項之裝置,其中能夠以照相機 (24)對藉由雷射(4)進行的切割作業施行觀測及監 -13- 496958 六、申請專利範圍 控。 ▲ 1 3 ·如申g靑專利軔圍第丨2項之裝置,其中從表中確定需 定光闌(1 8)以便施行最佳化切割;且使用者係藉由手 動方式設定出該光闌(18)。 14·如申請專利範圍第12項之裝置,其中將含有影像分 析系統的電腦(22)連接到顯微鏡(1)上,其方式是將 例如雷射強度、雷射光束的聚焦位置,及雷射光束內 的光闌(1 8)尺寸之類單獨系統參數自動地設定爲最 · 佳化數値。 15.如申請專利範圍第14項之裝置,其中藉由電腦(22) 從所儲存的表中確定需要光闌(18)以便施行最佳化 - 切割;且由電腦(2 2)利用馬達(2 〇)自動地完成該光闌 (18)的設定。 -14-
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