TW493173B - Method for producing optical recording medium - Google Patents

Description

493173 五、發明說明（1) 發明背景 發明範圍 本發明係關於一種方法用以產生一具有有機染料當作 記錄材料的光 相關技術的描 學記錄媒體。 述 記錄層 成。資 錄。特 成坑洞 射率的 在此 行以形 為目的 順序形 此時 其對於 性。此 十年之 媒體。 因此 體中是 質。 然而 具有有機染料當作一記錄材料的 在一透明基板，像塑膠 此記錄層之表面 藉由用雷射照射 入的資訊藉由利 主要由 訊措由 別地， 來記錄 改變來 帶有有 成一反 。所以 成以構 ，一高 一延伸 有機染 數量級 掃描在 此資訊 ，且寫 讀出。 機染料 射層在 ，一 I己 成一媒 密度光 的時間 料為底 的保證 ，儲存 重要的 光學記錄媒體包括一 ，上之有機染料所組 上收集的雷射光來記 此記錄層之表面上形 用資訊記錄造成之反 中，其為一例行的執 上，以反射率的實現 錄層，一反射層和一保護層經常以此 的光學記錄媒體 重疊自此記錄層 體組態。 學記錄媒體主要 週期被保持必須 的光學記錄媒體 週期要求此有機 的可靠度被認為在一染 ，且因此將在開始檢查 用於資訊備份，使得 維持再生特性的穩定 不是例外。通常，在 染料為底的光學記錄 料為底的光學記錄媒 由於保證此產品品 在一年數量級的儲存測試，事實上是不可能的以

第5頁 493173 五、發明說明（2) 至於平常的練 交換測試的加 此要求的特 信號特性等於 儲存可靠度 一單位 其中一 際上不 的。 如果 有機染 率，在 的條件 因為 改善此 和高濕 在高 媒體的 有機染 體而言 中誤差 以，其 善，以 發明概 方塊的 誤差修 會有問 完成儲 料為底 很多情 下之延 增加的 有機染 的條件 溫和南 全體類 料為底 所感知 的增加 無法理 表達其 要 存可靠度的 的光學記錄 況中，如果 長的時間。 誤差發生率 料為底之光 下儲存的誤 濕的條件下 別是迫切需 之光學記錄 的改善。原 是可歸於此 解在再生程 不可能得到 習將影響儲存在高溫和高濕的條件下當一像 速測試以週期地評估特性。 性是在高溫高濕大氣下儲存數百個小時後的 那些先前儲存的。 的評估通常藉由使用一標準評估裝置偵測每 許多誤差來評估。在許多光學碟片系統中， 正系統運轉中，許多低於一預設量的誤差實 題。然而，基本上零誤差的發生率是可預期 評估，假使一 C D R當作一代表之 媒體，注意到增加的誤差發生 此記錄媒體被儲存於高溫和高濕 危害在重現特性中的可靠度，在 學記錄媒體的品質以降低在高溫 差發生率是重要的。 之再生的穩定性對於此光學記錄 要的。然而，此再生的穩定性就 媒體而言並未像就一磁光記錄媒 因之一是其不能區別是否在再生 記錄層或此反射層的惡化。所 序中的再生步驟用最大的效應改 實際的量測。

第6頁 493173 五、發明說明（3) 因此本發明的一目的在於提供一種方法以產生一有機染 料為底的光學記錄媒體在儲存可靠度上特別優異。 為了達成以上的目的，本發明者已經引導耐心的研究和 達到一結論，此大氣的濕度對於遭受到的金屬層，像反射 層，表示一強烈的影響因子。 本發明，完全的基於本發現，存在一方法用以製造一具 有包含一有機染料和一金屬層之記錄層在一基板上的光學 記錄媒體’其中一用以傳送到至少在該金屬層形成之後的 下一階段之傳送路徑的大氣設定至4 〇 %以下的相對濕度。

如果此形成的金屬層曝露在一高濕度的大氣中，誤差 次數的數目隨儲存時間而增加。 如果相反地大氣被控制至4 0 %以下的相對濕度，此誤差 之次數的數目幾乎不會被注意到即使延長的儲存之後。 如果在傳送路徑丨5之大氣的相對濕度跟隨此金 射層)的形成至40%以下以防止此金屬層曝露在 二反 $，在此有機染料為底之光學記錄媒體中的重現赛 ;以維持-延長的時間以略為有一點改善此儲存 在此方法中，此 昇度，保持低於磁 善及穩定的維持。 圖式之簡述 有機染料為底之光學記錄媒體的错存。

光記錄媒體的那些，可以相當程声=可 &的改 概要的橫截面圖，顯示一 ί己ί争媒骰h w 职不 碉微栄料為底的光战 己錄媒體之伴隨說明之結構的必要部分。 先孥 五、發明說明（4) 圖2為一概要的側視圖，顯干 ^ ^ ^ ^ ^ ^ ΛΛ ^ 以不一有機染料為底的光學記

錄媒體之生產線的陣列狀態。 T 圖3為一概要的圖，顯示一右她 Λ L ^ A ^貝不 有機染料為底的光學記錄媒 體之生產線的平面陣列狀態。 一 圖4為-圖顯示當在形成一金 路徑中的相對漁度時儲存時間對bl : 較佳具體實施例之描述 < W # 參考圖例，根據本發明的_ +、/3的用以製造有機染料為底之光 學記錄媒體方法的較佳且妒萝¥_、令狨卞 ^ ^ 1 一 衣置將詳細的解釋。雖然一所 谓的-在下文中當作例子被解釋，發明當然可能應 用於有機染料為底之光學記錄媒體的準備，通常不被限制 於CD-R的製造。 圖1顯示-有機染料為底之光學記錄媒體之說明的結 構，應用本發明的製造方法。 此？;、、員示方'圖1中之有機染料為底的記錄媒體是一所謂的 CDrR包括一碟片基板1由一透明的樹脂材料，像聚曱烯異 丁烯酸（PMMA)或聚碳酸鹽（PC)，模製成一近似直徑12〇關 和厚度1. 2 mm的碟片形狀。在此碟片基板1上由旋轉鍍上 一有機染料為底的記錄材料而形成記錄層2。在記錄層2上 也由金（Au)或銀（Ag)形成一反射薄膜3。在反射薄膜3上由 旋轉鍍上一，例如一紫外線可恢復的樹脂，而形成_保講 層4。 ' 此反射薄膜3可以直接地形成在記錄層2上或中間插入— 適當之在下面的薄層。

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五 、發明說明⑸ 在此Φ 心的澤y 干’一大約直徑5 0至11 6 mm自碟片基板1之中 —擺動 區域設定為一資訊記錄區域。至少在此區域中， 溝槽。在槽像一曲折的導引溝槽被形成，例如，像一螺旋 —記錄執暫存器中具有擺動溝槽5之記錄層2的部分設定為 信號）。道。在此記錄執道中記錄一 E F Μ調制的信號（£ ρ % 設的週期下擺動。藉由此招 此攘動溝样 動，包括’彳日5適合在一預說日ν㉝朋「保切。稽田此擺 溝槽中此FM調制的絕對時間資訊被記錄為ATI Ρ(在預先 在上、+、纟巴對時間）擺動信號。

成記錄届2 R中’此E F Μ信號記錄在一記錄軌道上當組 在製i之有機染料為底的記錄材料之反射率改變時。 保護層上述光學記錄媒體中，此記錄層2，反射薄膜U "^ i ^ ^ ^； 在製、生 被元成’像圖2和3中的例子。 、、 的、旋轉d中’顯示於圖2和3中’-用以形成記錄層2 一用以形成，一用以沉積反射薄膜3的濺鍍裝置12和 藉由碟片Ϊ 層。勺旋轉鑛膜器13被安排在一·線上且 、1寻迗路徑1 4，1 5相互連接。 立I!::此ί碟片基板，在旋轉鍍膜器11中鍍有記錚芦2， 立刻被^送路徑14傳遞至濺鍍裝置 形成。此碟片基板，現在載有反射薄膜3，在值寻膜3被 上被傳遞至旋轉鍍膜器丨3其中、 迗路徑1 5 上。在適合用以形成此rf :2 Λ 旋轉鑛膜在其 捭他 ，2，的紋轉鍍膜器1 1和濺铲f 置1 2之間棱供一烘箱1 6苴中开彡士认七Μ。 艰級衣 ，、Τ形成的έ己錄層2被乾燥起由此

第9頁 493173 五、發明說明（6) ----- 供給濺鍍裝置1 2以沉積反射薄膜3。此烘箱〗6，例行地提 供於一般的製造程序申，有時候可能被省略。 如果’在上述製造程序中，水分被沉積在一形成於；賤鍵 裝置12之曝光的薄膜上，其動辄造成腐钱而稍微降低長期 的可靠度。 因此，根據本發明，在濺鍍裝置1 2和旋轉鍍膜器1 3之間 的傳送路徑1 5上之大氣的相對濕度被控制而不高於40%以 避免此種不便。 此相對濕度可以由，例如，調整一空氣調節器來調整。 在此時’ 一乾淨的房間，其中架設有適合用以執行上述操 作程序的生產設備，整個的被調節空氣’或僅有傳送範圍 被控制濕度由於容易控制，或為了降低運轉的成本。 在本具體裝置中，一，例如，塵克力樹脂的遮蔽板1 7沿 傳送路徑1 5提供以藉由來自一空氣調節器1 8的向下空氣流 來控制傳送路徑丨5附近的濕度。 藉由控制此濺鍍裝置1 2和旋轉鍍膜為1 3之間的傳送路徑 1 5上之大氣的相對濕度至4 0 %以卞，其可能抑制此腐蝕的 發生，表示其可能產生一呈現優越製再生特性之基於有機 染料的記錄媒體，即使在延長的儲存後。 具體裝置 ¥ 在以下，解釋本發明之特定實驗的結果。 本發明已經處理樣品誤差的測量’根據製造程序中不同-的濕度程度，和測量結果的比較。此製造程序主要地包含 於三個步驟，稱為一記錄層形成步驟，一反射薄膜形成步_

五、發明說明（7) 驟和一保護層形成步 一 和濕产祐固定，ΡΪ "。在此個別的步驟中之大氣的溫度 中的i度被改變。在伴隨此反射薄膜3之沉積之傳送步驟 在本具體裝置中 首先，此鍍職的大：:里的條件如下· 35%，且一記錄層被一瑕；和相對濕度個別地被控制成25 °C和 120 mm的直徑。當基％轉鍍膜器鍍成一 L 2 mm的厚度和 板，具有一螺旋形狀=一射出模造之聚碳酸鹽樹脂的基 解1- 丁基_2_[5、導引溝槽，被使用。此記錄層由溶 〇 ! . , X . —丁基―3, 3-二甲基苯二氫 -2-yl idene)-l, 3- λ - ^ Ί 由化學式1表示： 烯基卜3,3_二甲基―1氫-苯二氫，

料、’溶解於有機溶液中，且旋轉鍍膜此產生的溶液 此導引溝槽之基板的一表面上。 此反射薄膜藉由濺鍍沉積且適合用以傳遞此薄膜至 保護膜的下一步驟之傳送路徑的大氣設定為相對濕 ’ 4 0% ’ 50%和1〇〇%的值，且被傳送以形成此保護 此記錄被完成在室溫，在一丨.2 m/sec的線性速度 像一染 在載有 然後 形成此 度 35°/〇 膜。 然後

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五、發明說明（8) 1 ^。的5己錄雷射功率下，儲存於70 °c和8〇%相對濕 2 , ^ ，且在一】· 2 m/sec的線性速度及每100小時下 :)ν、、'Λ，測量由BLER(每單位時間單位方塊的誤差 值）此、，、°果顯示於圖4中。 可以由圖4中看到，在傳送系 光學記錄媒體的特性。 r的濕度強烈地衫響此 例如’具有1 0 0 %的相對、、罗穿 .^ 超過數百。具有50%的相對ϋ，，此1。差的值在頭100小時 而增加直到在30Μ、時中產决差的值隨儲存時間 相反地，具有4。%的相差值超過1〇°。 甚至在過了 5 00小時之後。=’此队⑽不會大於20 CPS 中產生的樣品，一誤差幾、乂在，一 3 5%之相對濕度的大氣 的儲存時間。 不會增加’即使超過5 0 0小時 像可以由這些測試結果 保持傳送路徑15的大氣至1 =的，高儲存可靠度可以藉由 之後在40%的相對濕度於彦^t在AA形成此金屬薄膜（反射薄膜） 的光學記錄媒體中被實現。

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Claims (1)

1. 493173 六、申請專利範圍 1, 一種用以產生光學記錄媒體的方法，該記錄媒體具有 包含一有機染料之記錄層和一金屬層在一基板上，其中 用以至少在該金屬層形成之後傳遞至下一階段之傳送 路徑的大氣設定為4 0 %或以下的相對濕度。 2. 根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中該金屬層是一反射薄膜。 3 ·根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中該光學記錄媒體具有一保護薄膜在該金屬層 上，且其中該下一步驟為一保護薄膜形成步驟。 4. 根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中繞該傳送路徑提供一遮蔽平板，且其中由此遮 蔽平板包圍之區域的相對濕度被一空調器控制。 5. 根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中由該有機染料之記錄材料形成的記錄層藉由旋 轉鍍膜來形成。 6.根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的方 法，其中該記錄層是一1- 丁基-2-[5-(1- 丁基-3，3-二甲基 苯二氮 -2-ylidene) -1，3 -戊二稀基]- 3，3 -二曱基-1 氫-苯 二氫染料。 7. 根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中該記錄層由選擇自金，金合金，銀及銀合金的 群組之一所形成。 8. 根據申請專利範圍第1項之用以產生光學記錄媒體的 方法，其中一資訊記錄範圍被設定在該基板中，且其中一

   第14頁 493173 六、申請專利範圍 擺動溝槽像一曲折的導引溝槽至少在該資訊記錄範圍中被