JP2980736B2 - 光記録媒体の製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は合成樹脂基板を用いた光
記録媒体の製造装置に関し、更に詳しくは高生産性、高
品質の光記録媒体の製造装置、中でも光磁気記録媒体の
製造に好適な製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、非接触で読み書きでき、
且つその記憶容量が大きく、媒体がフレキシブル磁気デ
ィスクと同様交換できることから既に多方面で利用され
ている。中でも最近市販が開始された光磁気ディスク
は、書き替えできる点で注目され、コンピュータの補助
メモリ等の記憶媒体としてその安定供給が待望されてい
る。

【０００３】この光ディスクは、安価で割れない点から
ポリカーボネート、アクリル、エポキシ等の合成樹脂の
基板を用い、その上に記録層、保護層等からなる記録膜
をスパッタ法、真空蒸着法等の真空薄膜形成法で形成す
ることにより製造するのが一般である。

【０００４】かかる製造装置としては、特開昭６３―１
２１６６４号公報、特開昭６３―１９９８６７号公報に
開示のように、複数の基板をパレット等の基板保持具に
保持し、該基板保持具をロード室、スパッタ法等による
成膜室、アンロード室と順次移送して、必要な構成の記
録膜を形成して製造するインライン型薄膜形成装置から
なるものが知られ、連続生産できる点から注目されてい
る。

【０００５】ところで、合成樹脂の基板を用いた光ディ
スクの製造においては、基板の水分、ガス等が記録膜の
形成、更には得られた膜の膜質等に悪影響を与えること
から、特開昭６３―１２１６６４号公報の如く薄膜形成
装置の前段に真空ガス出し室または加熱ガス出し室を付
加したもの、あるいは特開昭６３―２１６９６３号公報
の如く真空ガス出し装置を別に設けてガス出しをした基
板を薄膜形成装置にセットするもの、更には特開昭６３
―２５７９３８号公報の如く、大気圧より高圧の保管庫
に一定時間保持した後、基板ホルダーにセットし、真空
中でガス出しをし、次いで膜形成する方法等が提案され
ている。

【０００６】最初の真空ガス出し室または加熱ガス出し
室を付加した例はガス出し面では充分であるが、１個の
基板保持具に保持された全基板を処理するのに必要な時
間が１個の基板保持具に保持された基板の成膜時間に比
べ長いためこの処理時間で制約され、生産性を良くしよ
うとすると高価な基板保持具が多数必要になりガス出し
室が大型化するという問題がある。

【０００７】後の２例は生産性は良いが、ガス出し後ま
たは正圧保管後短時間ではあるが通常室内雰囲気にさら
されるため水分、ガスが再び吸着、吸収され、ガス出し
面で問題がある。

【０００８】そしてこれら従来例に共通の欠点は基板の
水分、ガス等と同様の悪影響を与える基板保持具に吸
着、吸収された水分、ガス等に何らの対策がなされてい
ないことである。特に複数の基板を保持して処理できる
ようにした特開昭６３―１９９８６７号公報開示のパレ
ットまたはこのパレットとその移送装置とを一体化した
ものの如き複雑な構成の基板保持具を用いた場合は、上
記水分等の量が多くなり、その影響は大となる。なお、
基板保持具のような金属面に吸着した水分は、合成樹脂
基板に吸着した水分より真空中での放出速度が遅く、そ
の点でも生産性及び媒体性能への影響は無視できない。

【０００９】

【発明の目的】本発明は、かかる現状に鑑みなされたも
ので、上記の問題のない、生産性が良くコンパクトな構
成で設備費も安く、高品質の光記録媒体を製造できる光
記録媒体の製造装置を提供することを目的とするもので
ある。

【００１０】

【発明の構成、作用】上述の目的は以下の本発明により
達成される。すなわち本発明は、合成樹脂の基板を用い
た光記録媒体の製造装置において、該基板のガス出し処
理をするガス出し処理装置と、間欠的に該基板を複数個
装着した基板ホルダーをロード室に受け入れ、次いで膜
形成室に移送して所定の光記録膜を形成し、アンロード
室を介して大気下に取り出すようにしたインライン式薄
膜形成装置とを備え、該薄膜形成装置のアンロード室か
らロード室へ基板ホルダーを回送するその雰囲気が所定
湿度以下に維持されたホルダー搬送路を設けると共に、
ガス出し処理装置から薄膜形成装置のホルダー搬送路の
所定箇所へ該基板を搬送するその雰囲気が所定湿度以下
に維持された基板搬送路を設けたことを特徴とする光記
録媒体の製造装置である。

【００１１】以上の通り本発明では基板及び基板ホルダ
ーをその雰囲気が所定湿度以下である基板搬送路、ホル
ダー搬送路で搬送するようにしてあるので、基板ホルダ
ーは常に一定湿度下にあり、またガス出し処理後の基板
も常に一定湿度下で取り扱われるので、基板、基板ホル
ダーに吸着、付着した水分、ガス等の量は膜形成に影響
のない許容値以下となり、前述の水分、ガスの悪影響が
防止でき、高品質の光記録媒体が製造できると共に、そ
の水分・ガス等の量は安定した一定の値となるので生産
条件が安定し、安定生産、生産性向上、歩留り向上等の
工業生産上重要な効果も得られる。

【００１２】上記本発明が適用できる光記録媒体は、合
成樹脂基板を用いたものであれば全て適用できること
は、その発明の趣旨より明らかである。かかる光記録媒
体としては、周知のコンパクトディスク等の読み出し専
用のもの、文書保存システムとして利用されて追記がで
きる“ＷＯＲＭ”と略称される追記形のもの、更に前述
した書き替えできる光磁気型あるいは相変化型のもの等
が挙げられる。

【００１３】中でも本発明はその趣旨から明らかなよう
に、水分・ガス等の影響を受け易い記録膜を用いる光記
録媒体、具体的には酸化し易い希土類元素と遷移金属元
素とを主成分とした非晶質合金膜を記録層とした光磁気
記録媒体の製造に好適である。かかる記録層としては、
ＴｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＮｄＤｙＴｂＦｅＣ
ｏ等、更にはこれらを積層した複層構成のもの等種々の
ものが知られている。また基板に用いる合成樹脂も特に
限定されず、光記録媒体の基板として公知のものがその
まま適用できる。その代表例としては前述のポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ
る。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の詳細を光磁気記録媒体の製造
に適用した実施例に基いて説明する。図１は該実施例の
全体構成の概略説明図、図２はガス出し装置の出入口部
及び保管庫部の構成の説明図、図３は基板ホルダーを回
送するホルダー搬送部の基板交換部の構成の説明図であ
る。

【００１５】図において、１０は光ディスク基板用の射
出成形機で、市販のものを適用した。１１は射出成形機
１０で成形された基板１を射出成形機１０から取り出
し、カセット２へ移載する基板移載ロボットであり、吸
着ハンドを備えた市販品をそのまま使用した。

【００１６】なお、本例の基板１は、書き替え可能光記
録媒体のＩＳＯ規格案に準拠したもので、該規格案のフ
ォーマットをプリフォーマティングした直径１３０mmの
溝付基板で、ポリカーボネート製である。また基板１を
収納するカセット２は市販（フロロウェア社等から）さ
れているもので、多数の基板１を一定間隔の直立状態に
収納するように載置された基板１の下部半円の周縁を支
持する略半円形の円弧状溝を一定間隔で底部に並設した
箱体からなり、本例では２５個の円弧状溝を並設し２５
枚の基板１を収納するようになっている。このカセット
２を用いることによりコンパクトに基板１を保管できる
ので、後述のガス出し装置及び基板搬送路が小型化でき
る。

【００１７】２０は基板１のガス出し処理を行なうガス
出し処理装置であり、射出成形機１０で成形された基板
１が収納されたカセット２を受け入れる入口部２１と、
一定雰囲気下に一定時間以上カセット２を保管し、収納
された基板１のガス出し処理を行なう保管部２２と、ガ
ス出し処理後のカセット２を基板搬送路３０へ送り出す
出口部２３と、入口部２１と保管部２２と出口部２３と
の間でカセット２の出し入れ、運搬をするカセット運搬
手段２４と保管部及びカセット２の運搬経路を所定の湿
度及びクリーン度に保つ空調装置で構成されている。

【００１８】図２に示すように、射出成形機１０の取り
出し台１２から入口部２１へは、カセット２を運搬する
２系列のコンベア２１ｃ、２１ｄが布設され、保管部に
収納された空カセットを射出成形機の取り出し位置へ供
給し、ここで基板１が満載されたカセット２を入口部２
１へ運搬するようになっている。なお、射出成形機１０
の取り出し台１２は、コンベア１２ａと、入口部２１の
コンベア２１ｃへの接続位置で基板１を搭載する間コン
ベア１２ａ上のカセット２を把持して位置決めするカセ
ット固定装置１２ｂと、コンベア１２ａを入口部２１の
コンベア２１ｃ、２１ｄとの接続位置へ移動する位置決
め手段１２ｃとからなる。

【００１９】入口部２１は４個のケートバルブ２１ｇで
仕切られ、独立して雰囲気制御ができる２系列のエアロ
ック室２１ａ、２１ｂを経由してカセット２の授受を行
なう。基板１が搭載されたカセット２の受け入れはエア
ロック室２１ａの系列により以下のようになされる。図
で右の外側のゲートバルブ２１ｇが開いてコンベア２１
ｃによりカセット２はエアロック室２１ａに移動する。
移動後外側のゲートバルブ２１ｇが閉じて密閉され空調
装置のドライエア源２１ｈより一定の条件のドライエア
が供給されエアロック室２１ａの雰囲気が所定の条件に
制御される。図の２１ｉは空調装置のダンパーである。
本例では温度常温、湿度５ＲＨ％、圧は大気圧に対し１
〜３mmＨ₂ Ｏ正圧の条件とした。雰囲気が所定の条件に
なると図で左の内側のゲートバルブ２１ｇを開き、エア
ロック室２１ａ内のコンベア２１ｃとこれにゲートバル
ブ２１ｇを間にして隣接する内部のコンベア２１ｅを駆
動して、カセット２を入口部２１の内部へ受け入れる。
受け入れが終ると内側のゲートバルブ２１ｇを閉じて次
のカセット２を待機することになる。なお、入口部２１
の内部は次記の保管部２２と一体となっておりその雰囲
気も保管部２２と同じように制御される。

【００２０】一方、空のカセット２の取り出し台２１へ
の供給は、エアロック室２１ｂの系列により以下のよう
になされる。エアロック室２１ｂは常時前述のエアロッ
ク室２１ａと同じ雰囲気に制御されている。そして間欠
的にエアロック室２１ｂの図で左の内側ゲートバルブ２
１ｇが開き、空のカセット２はコンベア２１ｆからコン
ベア２１ｄへ供給され、供給が終わると内側ゲートバル
ブ２１ｇが閉じる。次いでエアロック室２１ｂの図で右
の外側ゲートバルブ２１ｇが開き、空のカセット２は取
り出し台１２のコンベア１２ａ上へ供給され、供給が終
わると外側ゲートバルブ２１ｇは閉じる。取り出し台２
１ではコンベア２１ａは位置決め手段１２ｃによりコン
ベア２１ｄへの接続位置から基板１の取り出し位置であ
るコンベア２１ｃへの接続位置へ移動され、カセット固
定位置１２ｂで固定される。そして基板１のカセット２
ヘの収納が行なわれる。

【００２１】図の２１ｓは空調装置のドライエア源、２
１ｊ、２１ｎは循環用送風機、２１ｋ、２１ｐはフィル
ター、２１ｍはダンパーである。

【００２２】入口部２１の内部に受け入れたカセット２
は、内部のベルトコンベア２１ｅ、２１ｆ上からカセッ
ト運搬手段２４により図２に示すように、保管部２２の
保管棚２２ａに移載される。このカセット運搬手段２４
はカセット２を保持して保管部２２の所定の保管棚２２
ａまで走行し該保管棚２２ａにカセット２を載置できる
ものであれば良く、市販の自動倉庫の運搬手段等が利用
できる。

【００２３】保管部２２は多段多列に区画された一定容
積の保管棚２２ａの背後に空調装置のフィルター２２ｄ
を設け、フィルター２２ｄから一定の条件の空気を吹き
出してその雰囲気を一定の温湿度条件で一定のクリーン
度に維持するようになっている。なお、図２の２２ｂは
空調装置の循環用送風機、２２ｃはそのダクトである。
本例では温度５０℃、湿度０．１ＲＨ％、クリーン度
０．３μクラス１００以下に維持するようになってい
る。カセット２はこの保管部２２に搭載した基板１の水
分、ガス等が目標の許容値以下になるまで保管される。
これは具体的には保管温度と時間により管理される。本
例では上記条件の下で５０℃、１２時間以上保持した。
これにより基板１の水分は０．０１ｗｔ％以下となるこ
とを確認した。

【００２４】保管時間が経過したカセット２は必要に応
じカセット運搬手段２４により保管棚２２ａから取り出
され、出口部２３まで運搬され、出口部２３に接続され
た基板搬送路４０のコンベア４１、４２に載置される。

【００２５】基板搬送路４０は、カセット２の搬送経路
の雰囲気が所定温湿度、クリーン度に維持できる構造で
あれば十分であるが、本例では図示の通り２条のコンベ
ア４１、４２を設けると共に、その周囲を壁により区画
した密閉構造とした。そして前述のガス出し処理装置入
口部２１と同様にコンベア４１、４２の上部に空調装置
の循環用のフィルターを設け、該フィルターより空気を
吹き出させ、コンベア４１、４２の下部より吸い込み、
空気をコンベア４１、４２の上部から下部へ循環させつ
つ、全体を一定の温湿度条件、クリーン度に維持するよ
うにしてある。本例では温度は常温、湿度１ＲＨ％以
下、クリーン度０．３μクラス１００以下とした。

【００２６】基板搬送路４０は、後述する薄膜形成装置
３０の基板ホルダー搬送路５０の基板交換部６０に接続
されており、基板１を搭載したカセット２はコンベア４
１で基板取出台４３上まで搬送され、基板取出台４３上
で一定位置に位置決めされ、固定され、基板１が取り出
される。基板１が取り出された空のカセット２はコンベ
ア４２で出口部２３へ返送され、保管部２２に保管され
る。なお、基板取出台４３は前述の射出成形機１０の取
り出し台１２と同様の構成である。

【００２７】基板交換部６０は、図１、図３に示すよう
に、基板搬送路４０とホルダー搬送路５０とに連結さ
れ、前述の基板搬送路４０と同じ上部吹き出し、下部吸
い込みの空調装置により同一条件に維持された密閉構造
で、基板取出台４３と製膜後の基板１を収納するカセッ
ト２を位置決め固定する製品取出台６２とが所定配置さ
れ、両台４３、６２間の中心位置より側方に所定間隔隔
ててホルダー搬送路５０の基板脱着用のホルダー位置決
め台５１が配置され、該中心位置に製膜後の基板１を基
板ホルダー３から取外し、製品取出台６２上のカセット
２に収納すると共に、基板取出台４３上のカセット２か
ら新しい基板１を取り出して基板ホルダー３に取着する
基板脱着ロボットからなる基板交換手段６１が配置され
た構成となっている。なお、基板脱着ロボットは市販の
物品移載用ロボットに真空吸着パッドをハンドに取り付
け、基板１の中心部の非記録領域を吸着して基板１を取
り扱うようにしたものを用いた。また製品取出台６２は
前述の射出成形機１０の取り出し台１２と同じ構成であ
る。

【００２８】上述の構成により、基板交換部６０で基板
ホルダー３の基板１は製膜後の製品基板１から新しい基
板１に交換される。そして基板ホルダー３は移送装置に
より一定時間間隔で以下の薄膜形成装置３０に移送さ
れ、所定の光磁気記録膜が形成される。

【００２９】薄膜形成装置３０は、特開昭６３―１９９
８６７号公報、特開平１―２６８８７０号公報等で公知
のインライン式スパッタ装置と基本的に同じ構成で、各
ゲートバルブ３１ａ〜３１ｇで仕切られたロード室３
２、製膜するスパッタ室３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３
ｄ、及びアンロード室３４とからなる。スパッタ室３３
ａ〜３３ｄは光磁気記録媒体の代表的構成である第１誘
電体層、光磁気記録層、第２誘電体層、金属反射層の４
層構成の光磁気記録膜の製造に適した４室となってお
り、スパッタ室３３ａで第１誘電体層を、スパッタ室３
３ｂで光磁気記録層を、スパッタ室３３ｃで第２誘電体
層を、スパッタ室３３ｄで金属反射層を形成するように
なっている。

【００３０】なお、光磁気記録媒体の具体例は、第１、
第２誘電体層としてはシリコン、アルミニウム、タンタ
ル等の酸化物、窒化物等が、光磁気記録層としては前述
のＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏ等の希土類金属と遷移金
属とを主成分とした非晶質合金膜等が、金属反射層とし
てはＡｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属膜が例示できる。

【００３１】なお、基板ホルダー３は図３に示すよう
に、特開昭６３―１９９８６７号公報、特開平１―１１
８４３３号公報、特開平１―１１９６６９号公報等に開
示のものと同様に、複数の基板１を取着できるようにし
た回転可能なプレート板３ａを支持体３ｂで支持した構
成となっている。

【００３２】製膜後の基板ホルダー３はアンロード室３
４から取り出され、ホルダー搬送路５０によりその基板
交換位置５１まで回送され、そこで基板交換手段６１に
より新しい基板１に交換しロード室３２へ移送される。

【００３３】ホルダー搬送路５０は、本例では基板ホル
ダー３ａを平行移動する平行路５２ａ、５２ｂとこれを
縦列移動する縦列路５３とからなり、共に前述の基板搬
送路４０と同様の上部吹き出し、下部吸い込みの空調装
置で、基板搬送路４０と同じ条件の雰囲気に維持される
密閉構造となっている。なお、ホルダー搬送路５０も基
板搬送路４０と同様、その基板ホルダー３の雰囲気が所
定の条件に維持できればよく、必ずしも密閉構造にする
必要はない。

【００３４】基板ホルダー３の移送手段は縦列路５３で
は図３に示すように構成される。すなわちコ字状のレー
ル５４ａ、５４ｂを向い合わせ、その上部に基板ホルダ
ー３の支持体３ｂに当接して案内する対向したガイドロ
ーラ５５ａ、５５ｂを適当な間隔で設けると共に、支持
体３の底部にレール５４ａ、５４ｂの下辺上を転動する
従動ローラ５６ａ、５６ｂを適当な間隔で設けて、基板
ホルダー３を直立状態でレール５４ａ、５４ｂに従って
移動できるように支持したレール機構と、支持体３ａの
底面にラックを形成すると共にこれに噛み合い駆動され
るピニオン５７を適当間隔で配設し基板ホルダー３をレ
ール５６ａ、５６ｂに従って移動させるようにした駆動
機構とで構成される。なお図の５８はモーターである。
そして基板交換位置５１では支持体３ｂを挟持してロッ
クする固定機構５１ａにより位置決めするようになって
いる。

【００３５】一方平行路５２ａ、５２ｂでは、基板ホル
ダー３の支持体３ｂの巾と同じ長さの前述の縦列路５３
の移送手段と同じ構成のレール機構５８ａ、５８ｂをシ
リンダー構成の横移動手段５９ａ、５９ｂにより２つの
受渡し位置間を往復させ、一方の受渡し位置で基板ホル
ダー３をレール機構５８ａ、５８ｂに受け入れ、払い出
す他方の受渡し位置まで移動するようになっている。そ
して該受渡し位置で以下のように受渡しを行なう。すな
わち縦列路５３との受渡しの場合、ラックピニオン機構
により基板ホルダー３を縦列路５３のレール５４ａ、５
４ｂ上へ又はそこから所定長移動させ、縦列路５３また
はレール機構５８ａ、５８ｂに基板ホルダー３を引き渡
すようになっている。

【００３６】なお、薄膜形成装置３０の基板ホルダー３
の移送手段は、上述のホルダー搬送路５０と全く同じで
ある。すなわち、ロード室３２、スパッタ室３３ａ〜３
３ｄ、アンロード室３４の移送手段はホルダー搬送路５
０の縦列路５３の移送手段と全く同じ構成となってい
る。

【００３７】なお、図３の５０ａ、６０ａは空調装置の
ドライエア源、５０ｂ、６０ｂはその循環用送風機、５
０ｃ、６０ｃはそのフィルター、５０ｄ、６０ｄはその
ダンパーである。

【００３８】以上の構成により、射出成形機１０で成形
された基板１は、直ちに基板移載ロボット１１でカセッ
ト２に収納され、ガス出し処理装置２０へ移送され、ガ
ス出し処理される。ガス出し処理後の基板１を収納した
カセット２は一定雰囲気に制御された基板搬送路４０で
同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路５０との連結部
にある基板交換部６０に搬送され、基板交換手段６１に
より基板ホルダー３に装着され、薄膜形成装置３０に移
送され、所定の光磁気記録膜が形成される。膜形成後の
基板１は基板ホルダー３に装着したままで、基板搬送路
４０と同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路５０によ
りその基板交換位置５１まで搬送される。そこで、基板
交換手段６１により膜形成された基板１は基板ホルダー
３より取外され、製品取出台６２上に位置決めされたカ
セット２内に収納される。次いで基板ホルダー３には同
位置で前述と同様に基板取出台４３上に位置決めされた
カセット２から新しい基板１が装着され、薄膜形成装置
３０へ移送される。このように一定周期で各基板１に所
定の膜本例では４層の光磁気記録膜が形成される。製膜
された基板１のカセット２は以下のようにして基板交換
部６０から外部へ取り出し、周知の通り必要な工程、例
えば有機保護膜形成工程、更には貼合せ工程を経て製品
化される。すなわち該基板１を収納したカセット２の外
部への取り出し及び空のカセット２の供給は、前述のガ
ス出し処理装置２０の入口部２１のカセット２の授受と
同様に、ゲートバルブ６３で区画された二系列のエアロ
ック室６４ａ、６４ｂを使用して行なわれる。図の６５
ａ、６５ｂはコンベアである。その動作手順もガス出し
処理装置２０の入口部２１のカセット２の授受とほぼ同
様であり、説明は省略する。なお、図の１３ａ、１３ｂ
は搬送用のコンベアである。

【００３９】以上の構成により、基板１はガス出し処理
後は常にその条件、特に湿度が許容範囲内の一定値に制
御された雰囲気下に置かれ、また基板ホルダー３も連続
運転中は同様の一定雰囲気下に置かれているので、前述
した通り従来例の問題のない高品質の光ディスクが生産
性良く安定生産できるという効果が得られた。

【００４０】上記実施例で前述した光磁気記録媒体、具
体的にはポリカーボネート基板上に第１、第２誘電体層
としてアルミニウム、シリコンの窒化物、光磁気記録層
としてＴｂＦｅＣｏ、金属反射層としてＡｌＡｕＴｉを
積層した光磁気記録媒体を製造したところ、各搬送路の
雰囲気が温度は常温で、湿度が５ＲＨ％以下において、
品質、生産性共に実用上十分満足すべき結果が得られ
た。更に該雰囲気のクリーン度をクラス１００（０．３
μ）以下にすることにより、得られる製品の歩留り等の
向上が確認された。なお、基板１はガス出し処理装置２
０において問題ないといわれる水分が０．０１ｗｔ％以
下に乾燥しておくことが好ましい。この際本例では射出
成形された基板１が大気に曝されるのはカセット２が満
載されるまでの短時間のみであるため、ガス出し処理の
時間も従来例に比較し大巾に短縮でき、保管部２２がコ
ンパクト化できる利点がある。

【００４１】以上本発明を実施例に基づき説明したが、
本発明はかかる実施例に限定されるものではないことは
言うまでもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】全体構成の概略説明図。

【図２】ガス出し装置の入口部及び保管庫部の構成説明
図。

【図３】ホルダー搬送路の基板交換部の構成説明図。

【符号の説明】

１０ 射出成形機 ２０ ガス出し処理装置 ３０ 薄膜形成装置 ４０ 基板搬送路 ５０ ホルダー搬送路 ６０ 基板交換部

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 7/26 531 G11B 11/10 541

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 合成樹脂の基板を用いた光記録媒体の製
   造装置において、該基板のガス出し処理をするガス出し
   処理装置と、間欠的に該基板を複数個装着した基板ホル
   ダーをロード室に受け入れ、次いで膜形成室に移送して
   所定の光記録膜を形成し、アンロード室を介して大気下
   に取り出すようにしたインライン式薄膜形成装置とを備
   え、該薄膜形成装置のアンロード室からロード室へ基板
   ホルダーを回送するその雰囲気が所定湿度以下に維持さ
   れたホルダー搬送路を設けると共に、ガス出し処理装置
   から薄膜形成装置のホルダー搬送路の所定箇所へ該基板
   を搬送するその雰囲気が所定湿度以下に維持された基板
   搬送路を設けたことを特徴とする光記録媒体の製造装
   置。
2. 【請求項２】 前記基板搬送路とホルダー搬送路の連結
   部に、基板ホルダーから膜形成された基板を取外して新
   基板を取り付ける基板交換手段を設けたことを特徴とす
   る請求項第１項記載の光記録媒体の製造装置。
3. 【請求項３】 前記基板交換手段は膜形成された基板を
   基板ホルダーから複数の基板を収納できるカセットに収
   納し、該カセットはエアロック室を介して搬送路外へ取
   り出されるようにされた請求項第２項記載の光記録媒体
   の製造装置。
4. 【請求項４】 ガス出し処理装置が、複数の基板が収納
   できるカセットに収納された基板を保管してガス出し処
   理をする保管部と、基板搬送路に連結された出口部と、
   基板を受け入れるエアロック室を備えた入口部と、保管
   部と入口部、出口部との間でカセットを出し入れするカ
   セット運搬手段とからなる請求項第１項、第２項または
   第３項記載の光記録媒体の製造装置。
5. 【請求項５】 前記所定湿度が相対湿度５％である請求
   項第１項、第２項、第３項または第４項記載の光記録媒
   体の製造装置。