TW467884B - Process for the hydrogenation of dinitriles - Google Patents

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TW467884B
TW467884B TW087119263A TW87119263A TW467884B TW 467884 B TW467884 B TW 467884B TW 087119263 A TW087119263 A TW 087119263A TW 87119263 A TW87119263 A TW 87119263A TW 467884 B TW467884 B TW 467884B
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Vincent Boschat
Philippe Leconte
Daniel Rochette
Lionel Sever
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Rhone Poulenc Fibres
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/44Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
    • C07C209/48Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
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Description

467884 五、發明說明(l) -- 本發明係關於一種使脂肪族二睛至少部份氫化成對應胺 基睛之方法8 4 將二睛氫化成對應二胺之技術早已為人所知,尤其將己 二睛氫化成己二胺(其係製備聚醯胺66之一種起始物質)。 近年來對於使脂肪族二睛氫化(有時候亦稱為半氫化)成 胺基胺,尤其,使己二睛氫化成6_胺基己睛(其可直接或 經由己内醯胺產生聚醯胺6)有顯著興趣。 因此’美國專利US-A-5, 151,543說明一種在相對於該二 睛至少2/1莫耳過量之溶劑存在下及在雷尼(Raney)觸媒存 在下,於25-150 t及大於大氣壓之壓力下,使脂肪族二睛 選擇性虱化成對應胺基睛之方法,該溶劑包含液體氨或具 有1至4個碳原子之醇(其包含可溶於該醇中之無機鹼),所 獲得之胺基睛被回收作為主要產物。 專利WO-A- 93/ 1 6 034說明一種在選自鉻,鎢,鈷,鐵及 雷尼錄之低原子價過渡金屬複合物之無機鹼(作為觸媒)存 在下’於50 °c至90 r溫度下,利用氫壓使己二睛氫化製備 6-胺基己睛之方法。 專利WO-A-96/18603說明在視需要主要含添加劑的雷尼 鞋或鎮及主要含強無機鹼之觸媒存在下,經由氫使脂肪族 二睛半氫化成胺基睛’可形成含有水,該胺基睛及/或該 二胺與未轉化之二睛之初氫化介質。 全部這些氫化方法皆可產生所要之胺基睛,且這些方能 夠在工業工廠中連續進行。 然而,在工業應用時,某些問題並未顯現出來。因此,
第5頁 467884 五、發明說明(2) ' 〜-- 經由申請者在本範圍内所進行之研究中,頃發現當在睛官 能基存在下,且無氫之情況下,氫化觸媒(且尤其雷尼 鎳田尼鈷,承载金屬,尤其得自元素週期表族之金 屬,例如’鎳,鈷,釕及铑)沉積在通常為氧化物之載體 上’有明顯更快去活化之傾向。 在產生該二胺之現行工業製法中,此問題幾乎從不發 生,然而,經由氫化產生胺基睛會導致大量睛官能基永久 保留在該反應介質中。用這樣一種方法,需要回收反應產 物’胺基睛及二胺,以及未轉化之二睛,同時需要維持或 使大部份具足夠活性之觸媒再循環。基於上述觀察報告, 因此’需要分離所形成之胺基睛與二胺及未轉化之二睛以 便回收’且必需維持或使該觸媒再循環而不會導致額外去 活化作用。因此’其包括能夠相當快速分離反應混合物之 觸媒與液體部份,且適合工業利用之操作條件與裝置,且 亦需要該分離作用不會使該觸媒過量去活化。 雖然可知’含有該觸媒之部份該反應混合物可經由過濾 或離心分離’但是,根據該申請者之觀察,在無氫且在腈 官能基存在下,因此處理之該觸媒會部份損失其活性;因 此,該觸媒壽命之減短對於該方法之成本、效力有不利的 影響。另一方面,利用氫壓力(例如,在已溶解之氫存在 下)過濾,可避免該觸媒去活化。 本發明提議一種解決這些不同問題之方法。更明確地 說,本發明包括在不溶於反應介質中之氫化觸媒存在下。 使二睛至少部份氫化成對應胺基睛之連續方法,其特徵在
Λ67 88 ^ 五、發明說明(3) 於本發明方法能夠在氣體-液體轉移受到限制或無轉移之 區域令,連續分離氫化物與觸媒之裝置中進行,該觸媒之 分離作周與再循環係以低於或等於3 0分鐘之時間進行。 適於進行本發明方法之裝置可以在最不可能使該觸媒去 活化之時間内得到優良的氣體/液體接觸,接觸後可以使 這兩相快速並有效分離,可以使氫化物與該觸媒連續分 離,並使後者再循環。 該裝置包括3個主要區:反應區,氣體,液體分離區及 使該觸媒再循環並移除液體(氫化物)之觸媒-液體分離 區。 該反應區通常包括一或多個U形管,其支管直立或稱為 傾向直立,各U形管之支管之一可以使該氣體/液體/固體 解媒分散液上升,其它支管可以使至少部份脫氣之液體返 回°該反應部份亦包括在沖洗支管之底部有4個入口:氫 之入口,二腈之入口,新或再生的觸媒(其具或未具輔觸 媒)之入口,及再循環觸媒之入口。 該氣體-液體分離區由直立圓筒組成,其包括一或多個 切線入口(來自該反應器之沖洗支管),一或多個切線出口 (面向該反應器之下行支管),氣體出口及反應混合物至該 液體-固體分離區之出口。該氣體/液體/固體觸媒分散液 在該脫氣液體之出口點以下之位置處進入。 該液體-固體分離區由潷析器及/或可分離該氫化物與觸 媒,且使該觸媒再循環之濾器組成。連續移除該氫化物, 同時,使該潷析器及/或濾器内所分離出來之觸媒懸浮液
467884 五、發明說明(4) 返回該反應區。當認為需要以新觸媒取代部份觸媒時,則 進行沖洗。 適於本發明方法之裝置可經由例如,圖1說明。其包括 圓筒直立管(1)經由彎管(2)與在氣體/液體分離器(4)中以 切線方式出現之平管(3)連接,該氣體/液體分離器(4)係 由直控比該管(1)之直徑還大之直立圓筒組成。 該分離器(4)包括用以移除氣體或蒸汽之管機件(5)。使 於該分離器且在該管(3)之入口點以下之位置處以切線方 f開始之平管(6)經由彎管(7)與第二垂直管(8)連接’該 官(8)經由肘管(9)與管(1)連接。該管(1)與(8)及肘管(9) 起形成ϋ形。該管(1)於基底部包括用以導入氫之管機件 (10) ’及用以導入二睛之管機件(13)。如圖1所示,管(丄) ^ ( δ)可包括套管(;i丨)與(丨2 )以便使冷却或加熱流體循 衰該肘管(9)包括新或再生觸媒之入口(3〇),及再循環 觸媒之入口(21)。 該管(1)與(8)可直立或稍為傾斜(就後者情況而言,較 佳是,其軸向底部集中)。 伯根據化學工程學之常用規則計算肘管2 ’ 7及9之曲率半 $,致使在整個圓周内循環之物料填充量之損失儘可能降 -。其曲率角度範圍為45。至135。,且較佳 $圖1/,經由管機件(1〇)導入氩。雖然此管機件可配 何常用分散裝置,但是已排列在該管(〇之軸中之具 ,器壁等高之簡單管已足夠。使此管機件(丨〇 )與氫源連 设’凤可於大氣壓或較高壓力下導入。
467 88^ 五、發明說明(5) ~ ' -- 可以使移除該氣體之營機件(5)與任何用以處理已自該 氫化物分離之氣體之裝置連接。圖丨係說明一種裝置,其 中係使得自(5)之氣體進入冷凝器(14)中’其中使傳送二 該分離(4 )中之蒸汽與該氫分離。經由管機件(3 1 )使獲 知之冷凝物再循環至該裝置内。然後經由包括沖洗系統 (15)之管使過量氫進入壓縮機Π6)内,接著為了補償在氫 化時已消耗,及已被沖洗掉之氫,將大量氩導入(17)内 後,使其於(1 0 )内再循環。 需要移除已不含觸媒之所形成脫氣氫化物。為了能约移 除透明氫化物(亦即’實際上不含觸媒者),將潷析器(28) 直接放在該分離器(4)下面。使該液體/觸媒懸浮液(其氣 相已在該分離器(4)内被分離出來)進入該澤析器(18)内。 該潷析器(18)由末端為圓椎體(20)之圓筒(π)組成。管 (21)之功用為連續將已濃縮之觸媒聚狀物送回肘管(g ) 内。經由管(22)與配備有過剩入口(overspill) (24)之壺 (2 3 )’使不含該觸媒之氫化物離開’以便使透明氫化物能 夠連續移除,經由連續導入等量之二睛-溶劑。觸媒混合 物使整個裝置内之漿狀物含量保持恒定。可經.由閥(25 )調 整管(21)内之流速,致使該液體/觸媒漿狀物保持適當浪 度。該管機件(2 1 )包括使用以沖洗廢觸媒(其可視需再生) 之管機件(32)。 圖2係說明一種在本發明敘述文中所使用之特定潷析方 法。,方面為了避免自該反應器(18).内發生之觸媒物科及 氫化物過份快速移動,且另一方面為了防止氫滲入此澤析
第9頁 4 67 884 ______ 、發明說- 〜 離。需要分離這兩區(氣體-液體分離區與液體-固體分 '區)°然而.,益論如何皆不應該使觸媒沉積。避免觸媒 沉藉,”、 t 邮 之 方法為將隔板(26)安裝在分離器(4)與潷析器(18) 體間’經由營(2 7)(其直徑經計算好’以便稍為減少該液 趙=速度,例如,每秒低於〇. 5米之值)以確保該氣體-液 徑^離器與潷析器間所進行之循環作用。此管(27)經由直 〇 於或等於其直徑之管(28)在該潷析器内延伸β可以技 (18 上之圓錐體形狀之大篩目金屬網(29)放在潷析器 流。内,以減弱當該液體/觸媒漿狀物抵達時所產生之1湍 iX将濾器加到潷析 上述裝置 在該方法中 有可能獲# 形管(群)中, 能連續分離自 媒不會有任何 内,該觸媒之 被平均被限制 鐘,還更佳低 加濾器至該潷 為了在上述 用相當於該觸 觸媒濃度。就 使用上述裝置使己二睛半氫化成6_胺基己睛 在該液體反應物中之良好分散液,在整個U 此分散液安定且均勻。如前述,此裝置有可 欲被再循環之該觸媒移除之氫化物,且該觸 些微之去活化。有可能係因為該潷析器(丨8) 滯留時間,及該觸媒之再循環滯留時間可以 在低於或等於30分鐘,較佳低於或等於15分 於或等於5刀#。當以濾器取代潷析器或添 析器内時,亦注意這些滯留時間。 時間限制@,、使該觸媒經良好潷析,較佳使 媒/液體反應混合物重量比之大於5%之平均 較低濃度而言,當該潷析器(18)中之最大滯
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五、發明說明(7)
留時間時, 在此種情況 再以強調 以使該觸媒 可維持短時 可以使用在本發明 之二睛: 部份該觸媒有隨移除之氫化物被帶走之傾向。 下,可證明該過濾技術有利。 ’平均觸媒濃度大於或等於10%較佳,因為可 之潷析更快,因此於不理想的條件下,該~觸媒 間’例如,低於或等於1 5分鐘。 、 方法中之脂肪族二腈更佳為通式(j ) NC-R-CN (I) 其中K表示含有1至12個碳原子之直鏈或分支鏈伸 貌基或伸 較佳在本發明方法中使用式(1)之二睛,其中R表示含有 至6個碳原子之直鏈或分支鏈伸烷基。 此種二睛之實例尤其為己二睛’曱基戍二睛,乙基丁二 睛,丙二睛,丁二睛與戊二睛及其混合物,尤其可二自合 成己二睛之方法所獲得之己二睛及/或曱'基戊二腈及/或1 基丁 一睛之混合物。 實際上’R = (CH2)4是最常見的情況,由於此等於在本發 明方法中使用己二腈(AdN)。 隸觸媒一般包括以雷尼鎳及/或雷尼鈷為主之觸媒^其 視需要’且較佳包括一或多個選自元素週期表之ivb, VIb,Vllb 及 VIII 族(如Handbook of Chemistry and Physics,第51版( 1 970- 1 97 1 )所公佈)元素之摻雜元素。 本發明方法所使用之以電尼鎳及/或雷尼鈷為主之觸媒 因此除了鎳或鈷及當自合金之侵蝕獲得該觸媒時,自原先
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五、發明說明(8) 之合金移除之選用殘留量金屬外,尚包括一或多種 /.T K '、匕得 雜元素,例如,鉻,欽,鉬,鶴,鐵,鋅或銅。 這些摻雜元素之中,鉻及/或鐵及/或鈥被認為最佳。以 每一種鎳或鈷之重量基礎為基準計,這些摻雜元素通常佔 0%至15% ’且較佳佔0%至10%。 該觸媒亦可包含一種通常是得自元素週期表^丨丨族之金 屬(例如,釕,铑,鎳或鈷)沉積在通常是氧化物(例如, 馨土,碎石,紹石夕酸鹽,二氧化鈦,氧化锆或氧化鎂)之 載體上。 在該承载金屬觸媒中’該金屬通常佔該載體重量之0.1 至80%,較佳佔0. 5至50%。 在本發明之本文中’較佳為雷尼鎳,尤其已摻雜之雷尼 錦。 就該反應介質組合物而言,尤其就溶劑與驗之性質與用 里而έ ’更佳可參考專利WO-A - 9.6/18603中之說明文,其 内容併於本發明說明文供參考,或者,更佳可參考歐洲專 利ΕΡ-Α-0, 641,315.。 以下實例係說明本發明。 試驗Α鱼 這些式驗係用以說明在睛官能基存在下,且無氫時,該 雷尼Ni之去活化作用。 為了不妨礙該N i之"正常,'消耗,由於其催化作闬,所 以,在已二睛(A d N )氫化時,只將該氫消耗之初速率列入 考慮。
4-δ"7 88 4 五、發明說明(9) 將6 6. 5克AdN ’ 2 2. 3克HMD,10克水,每公斤Ni 0. 4莫耳 比例之氣氧化鉀,及1. 2克含1. 8重量%Cr之雷尼Ni裝入反 應器内。 在作為對照用之試驗A中,該氫化反應於5 〇。〇與2 0巴氫 壓下立即進行。 . 在試驗β中,雖然該氫化反應於50與2〇巴壓力下進 行’但是在導入該氫前,於5〇 t:下,在氮氮氣氛下攪拌該 反應混合物3 〇分鐘。 ^兩種試驗之初氫化速率經測定如下: -試驗A :每小時消耗24升氫, -試驗B :每小時消耗2 1升氩。 在睛官能基存在下,及無氫時,使該觸媒維持3〇分鐘因 此使該觸媒之初活性減少1 2 . 5%。
試驗C 在下述實例1至3中’為了分辨可能係由於在不含氫之情 況下,該雷尼N i之去活化所致之雷尼N i之"正常"消耗之部 份,進行連續AdN氫化試驗。 該試驗包括將143.6克人〇,201_1克胺基己腈(从们, 134.1克己二胺(HMD) ’呈每公斤Ni 0.46莫耳比例之氫氧 化鉀,及6.4克含1.8重量%Cr之雷尼Ni裝入反應器内,並 經渦輪混合機搜拌。 該裝置經氫沖洗後,調整溫度至5 0 °C且調整氫壓至2 5 巴。當該反應混合物於反應溫度時,以1 7 2 · 5克/小時之流 逮注入A d N ’然後以1 6. 4克/小時之流速注入〇. 〇 2莫耳/升
第13頁 467884 五、發明說明(I〇) '—:' 之氫氧化鉀水溶液。 、,星由通過該反應器内所置之濾器,連續移除反應混合 ,。,然未更換該鎳,但是,於在可提供該觸媒固定濃度 氫之氣體/液體轉移條件下,在本試驗中進行分離反應β =1 6克AdN氫化後,停止試驗,然後使用以下氫化試驗 測定該反應器内包含之雷尼N丨之活性。 移除1至2克雷尼N i漿狀物,以5 0毫升蒸餾水洗該觸媒6 次’然後在比重瓶内準確稱出〇. 40克觸媒。將該觸媒導入 配備有攪拌系統,加熱系統,導氫與試劑之裝置,及測定 溫度與壓力之裝置之1 50毫升不銹鋼壓熱器内。約〇. 4克水 (在由90% HMD與10%水組成之42克反應溶劑重量組合物 中,此重量被列入考慮)亦被該觸媒帶走。於氬氣氛下, 將Η M D,水及氫氧化卸(估該反應混合物之〇. 〇 $重量%之比 例)裝入該壓熱器内。先後以氮及氫沖洗壓熱器。然後使 其經加熱’並保持在25巴氫(經由氫槽)下。接通該槽内用 以記錄氫壓之系統,然後快速注入6克AdN。持續氮化反 應,直到氫已消耗完為止。 ' 一方面使用如試驗C中使用之新雷尼Ni進行上述試驗, 另一方面’使用已被使用來進行試驗c之雷尼Ni (廢Ni)以 進行上述試驗。本試驗中所測定之初氫化速率表示該雷尼 N i之活性。該廢N i之活性為新N i之4 〇 %活性。
經由N i之填充直6. 4克乘以试驗c前後活性之差(1 _ 〇 & ) 之結果,計算相當於由於N i作為氫化觸媒所損失之,,正常„ 活性之Ni化學消耗量,該結果除以該試驗c中被氫化之AdN
第14頁 __^^__ 五、發明說明(11) 量(1216克),且以已轉化Ad N之Ni/t之公斤數表示。 此"正常”化學消耗量為AdN之Ni/t 3. 1 5公斤β 實例1至3 在如圖1與2中所描述之裝置中進行各試驗。使用已二睛 進行氫化反應,該溶劑含水(佔所使用己二睛之8重量% 。 該觸媒為含有佔Ni重量之1.8重量%鉻摻質之雷尼鎳。使用 佔該反應混合物1 5 %之觸媒。 該己二睛,用以補償該觸媒之"正常"去活化(磨耗)之新 雷尼鎳,及氫氧化鉀溶液(5 0重量%之水溶液)之供應速率 顯示在以下表1中。 各試驗進行時之溫度(T °c ),該己二睛之轉化程度(% DC AdN),已轉化AdN對於6-胺基己睛之選擇性(%RY ACN),已 轉化AdN對於己二胺之選擇性(%RY HMD),Ni之化學消耗量 (已被取代之完全去活化之Ni量:已轉化AdN之Ni kg/t之 C s ),已被沖洗之N i之殘留活性(N i之活性:以初活性之% 表示)在下表1中有對照。 就各實例而言,潷析器(1 8 )中該觸媒之平均滯留時間為 5分鐘。 氫循環速率為9000毫微米V小時,且氫壓力為25巴。
第15頁 v 月丨 五、發明說明(12) 7ϋΤ^Ε> 供應物 反應器 AdN Μ 新Ni公 50%之 T°C %DC %RY %RY 已轉化 Ni%之作 小時 斤/小時 KOH公 AdN ACN HMD AdN 之 Ni/ 用 斤/小時 公斤/t之Cs 3.66 11 2.2 59 88.9 25.S 73 3.1 9 5.0 14 2.8 50 70.8 42.7 55.3 3.4 14 6.2 15 2.1 48 69.0 58.2 39.9 3.2 9 表1 使用本發明方法獲得之結果顯示雷尼Ni之化學消耗量不 高於在試驗C中所進行者,同時在氫存在下,可保持該Ni 恒定。因此,本發明之方法可以使二腈連續氫化成胺基 腈,且除了觸媒正常磨耗外,並不會使該觸媒去活化。 圖式簡單說明 圖1顯示一適合本發明方法使用的裝置。 圖2顯示用於本發明之特定潷析方法。
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Claims (1)

  1. 4 G 7 S8 ^ 案號 87119263 ----------90. 6. 29 幻年办月 曰 ^六^申請專利範圍 1. 一種於不會溶解在反應介質中之氫化觸媒存在下使脂 肪族二腈至少部份氫化成對應胺基腈之連續方法,其特徵 在於本方法能夠在包括氣體-液體轉移受到限制或無轉移 之區域中,連續分離氫化物與觸媒之裝置中進行,該觸媒 之分離作用與再循環係以低於或等於3 0分鐘之時間進行, 該裝置包括3個主要區之裝置中進行:反應區,氣體-液體 分離區及使該觸媒再循環並移除液體(氫化物)之觸媒-液 體分離區。 2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於該方法 係在具有反應區之裝置中進行,該反應區包括一或多個U 形管,其支管直立或稍為傾向直立,各u形管之支管之一 可以使該氣體/液體/固體觸媒分散液上升,其它支管可以 使至少部份脫氣之液體返回,該區亦包括在沖洗支管之底 部有4個入口:氫之入口 ,二腈之入口 ,新或再生的觸媒 (其具或未具辅觸媒)之入口,及再循環觸媒之入口。 3. 根據申請專利範圍第1與2項中任一項之方法,其特徵 在於該方法係在具有氣體-液體分離區之裝置中進行,該 區由直立圓筒組成,其包括一或多個切線入口(其来自該 反應器之沖洗支管),一或多個切線出口(面向該反應器之 下行支管),氣體出口及反應混合物至該液體-固體分離區 之出口。 4. 根據申請專利範圍第1與2項中任一項之方法,其特徵 在於該方法係在具有液體-固體分離區之裝置中進行,該 區由潷析器及/或可分離該氫化物與觸媒,並使該觸媒再
    O:\55\55775.ptc 第1頁 2001.06. 29. 018 _索號 87119^¾ 六、申請專利範圍 循環之濾器組成。 年月曰 修正
    5.,據:請專利範圍第4項之方法,其特徵在於 除該士化物,同時使在該潷析器及/或濾器中所分離=移 媒懸浮液返回反應區,且當認為需要觸 觸媒時,則進行沖洗。 w八邵份該 6.根據申請專利範圍第1至2項中任一項之方法,其 在於所使用之脂肪旗二腈係選自通式之二腈 Μ ' ' NC-R-cn ( I ) 其中R表示含有1至12個碳原子之伸烷基或伸烯基。 *7 ·根據申請專利範圍第1至2項中任一項之方法,其特徵 在於所使用之脂肪族二腈係選自己二腈,曱基戊二腈,乙( 基丁二腈’丙二腈’丁二腈與戊二腈及其混合物。 8. 根據申請專利範圍第7項之方法,其特徵在於所使用 之脂肪族二腈係可以自合成己二腈之相同方法所獲得之己 一腈及/或曱基戊二臆及/或乙基丁二猜之混合物》 9. 根據申請專利範圍第1至2項中任一項之方法,其特徵 在於所使用之脂肪族二腈為己二腈。 1 0 ·根據申請專利範圍第1至2項中任一項之方法,其特 徵在於所使用之觸媒由以雷尼鎳及/或雷尼鈷為主之觸媒 组成。 1 1.根據申請專利範圍第1 〇項之方法,其特徵在於所使 用觸媒包括一種如化學與物理手冊(the Handbook of Chemistry and Physics) ,51 版(1970-1971)中公佈之元 素週期表Ib, IVb, VIb,Vllb及VIII族元素之摻雜元素。
    O:\55\55775.ptc 第2頁 2001.06. 29. 019 467 884 案號 87119263 Λ_η 曰 修正 六、申請專利範圍 1 2.根據申請專利範圍第1 0項之方法,其特徵在於該以 雷尼鎳及/或雷尼鈷為主之觸媒除了鎳或鈷外,尚包括一 或多種選自鉻,鈦,鉬,鎢,鐵,鋅及銅之其它摻雜元 素。 1 3.根據申請專利範圍第1至2項中任一項之方法,其特 徵在於所使用之觸媒由一種選自元素週期表VIII族之金屬 所組成,該金屬係選自包括釕,铑,鎳或鈷之組群,該金 屬係沉積在載體(其為氧化物,係選自包括礬土,矽石, 鋁矽酸鹽,二氧化鈦,氧化锆或氧化鎂之組群)上。
    O:\55\55775.ptc 第3頁 2001.06. 29. 020
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