TW446815B - Particle monitoring instrument - Google Patents

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446815 經濟部智慧財產局霣工消t合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1 ) 發明背景： 1. 發明領域： 本發明乃有關一運用光散射可即時即地測量自一運 轉中之反應器剝離之顆粒及運轉間出現、發光及衰退之顆 粒監視裝置。 2. 相關技術描述： 在大型積艘電路（以下稱為LSI，large scale.integrated circuit)製造階段出現於製造儀器中之顆粒是導致降低該 LSI產量及製造儀器工作壽命之主要原因。為了改善產量 及工作時間就產生的監視產生顆粒的儀器。 這儀器是由雷射光源及光偵測器組成。有兩類儀器： 其一是裝在反應器排氣管上》另一個是自反應器吸出氣 體。兩種均將樣本流體流過一有雷射光之空間，然後測量 散射光之強度。這種儀器的傳統例子，如曰本發明專利公 開公報 4-297852/1992，3-116944/1991，63-11838/1988， 5-206235/1993，5-206236/1993，7-12707/1995 及 5-288669/1"3還有日本新型專利公報（Utility Model

Publication)第 62-37160/1987。

測量樣本流體内的顆粒意味著偵測到的顆粒數與LSI 產量間，還有偵測到的顆粒與製造儀器工作時間間的關係 並不存在。為了解決這個問題，就試著即時即地的測量反 應器中的懸浮顆粒P 這種測量是以下面的方式進行。在反應器上安裝可使 雷射光通過及測量散射光之窗戶，顆粒散射之雷射光則以 4 本纸張尺度適用中國B家棵準（CNS)A4現格（210 X 297公釐） — —— — — — — lull — · I 1 I Γ I 1— ^ ·1111111 I <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 446815 B7_ 五、發明說明（2 > CCD相機記錄在錄影帶上。再放出來看散射光發生的時間 及強度變化，最後就可以測量顆粒的蹤跡。 有一些文獻上有這種傳統方法的例子：Gary S. Selwyn，Journal of Vacuum Science and Technology，Vol· B9, 1991，ρρ· 3487-3492 及 Vol. A14，1996，pp. 649-654。還 有，也有文獻 Watanabe et al.，Applied Physics Letters， Vol.61，1992，pp. 1510-1512 及 Shiratani et al.，Journal of Vacuum Science and Technology * Vol. A14，1996 * pp. 603-607。 前述之傳統技術有下述之問題： 日本發明專利公開公報 4-297852/1992，3-116944/1991 ， 63-11838/1988 » 5-206235/1993 ^ 5- 206236/1993，7-12707/1995 及 5-288669/1993 還有日本新 型專利公報(Utility Model Publication)第 62-37160/1987 中 所提及的技術為傳統技術測量樣品流體中之顆粒的方法。 由於這些方法測量樣品流體散射之光線，要想因此得知顆 粒的位置相當困難。因此要得到儀器工作時間與產生的顆 粒，還有生產量與產生的顆粒間之關係是相當困難。 在 Gary S. Selwyn » Journal of Vacuum Science and Technology，Vol. B9, 1991，pp. 3487-3492 及 Vol. A14， 1996’ pp. 649-654。還有’也有文獻 Watanabe et al·’ Applied Physics Letters，Vol.61，1992’ ρρ· 1510-1512 及 Shiratani et al. * Journal of Vacuum Science and Technology 5 Vol. A14, 1996，pp. 603-607中在反應器中懸浮的顆粒，還有他的空 本紙張尺度適用中國Η家標準（CNS>A4规格（210 297公釐） - ---------裝 i — r ---訂！ ！！·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 經濟部智慧財產局wΗ消费合作社印製 4 4 6 8 ί 5 ° Α7 ----Β7_____ 五、發明說明（3 > 間分布及隨時間的變化，是用雷射光散射法偵測。但是要 知道觀測到的顆粒是否造成晶圓缺陷，顆粒來源及顆粒經 由什麼途徑達到晶圓卻很困難。因此，晶圓產品上之缺陷 到底是來自何顆粒就無法確定β因此就不知道是反應器的 哪一部份需要修改’還有不知道設備是否乾淨。尤其，沒 有方法可以阻止顆粒出現，因此無法因反應器及準備過程 乾淨而改進操作時間。 當偵測顆粒改採雷射光空間掃描或者雷射光空間擴 張法來測量顆粒空間分布時，偵測器對不同散射光處的距 離就不一樣’偵測器上散射光的強度反比於散射點與偵測 器間的距離的平方。尤其當用散射光強度來估計顆粒大小 時’必須根據距離來修正散射光的強度》但是前面這些方 法都沒有做這個修正。 尤有甚者，要藉由散射光強度來估計顆粒大小必須假 設顆粒形狀為完美的球形。但是人們早就知道LSI製造過 程中出現的許多顆粒是燒瓶或者針形的。這種形狀的顆粒 散射光的強度與入射光束與顆粒間之方向極有關係。因此 若用球形來估計顆粒的大小，大小誤差 '大小分布及顆粒 的數值密度都變大了。 目前光散設法中乃以下法測量顆粒的空間分布。反應 器中射入往某方向偏極化的光，然後測量散射光偏極化方 向受浮游顆粒的改變。只用光源中的某一波長的光。當觀 測到的顆粒大小比照射光波長小時*散射光強度以萊禮散 射公式（Rayleigh scattering formula)估計。當觀測到的顆粒 本紙張尺度適用中Β Β家標準（CNS>A4親格（210297公* > n n n n 1 I « It I 一石，« ϋ I I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ί 4 4β8 ί 5 Α7 經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 ___Β7__ 五、發明說明（4 ) 大小比照射光波長大時，散射光強度以瞇散射公式（Mie scattering formula)估計。雖然瞇散射公式給出的是嚴格 解，其方程式複雜，因此數值計算所需的時間較長。因此 由散射光強度測量仍然無法即時得知顆粒大小及密度的有 力資訊。 發明概要 本發明之目的在提供一可輕易估計原點、目標點、顆 粒質量、修正散射光強度因散射點與偵測器之距離改變而 改變量、擴大可適用萊禮散射公式範圍之顆粒大小以做簡 單之數值計算及藉由估計顆粒形狀以精確估計顆粒大小之 顆粒監視裝置。 首先，本發明之顆粒監視裝置包括：讓雷射光進入反 應器之裝置及測量顆粒散射光的裝置；還有藉由提高雷射 光重複發生率或者當某一光偵測散射光之偵測器所得到的 訊號強度超過某一預定值時，增加雷射光脈衝寬度，使偵 測器長時間曝光以散射光軌跡顯示顆粒運動；還有顯示一 連接轨跡之始點與終點連接線及將之疊加於軌跡之上並延 伸致始點以外以估計顆粒出現點、延伸至終點以外以估計 顆粒之目標點、將直線於垂直方向之投影長度除以散射光 曝光時間以估計顆粒質量的裝置。 其次，本發明之顆粒監視裝置包括：讓雷射光進入反 應器之裝置及測量顆粒散射光的裝置；本顆粒監視裝置更 有一可在一雷射光源前預設之旋轉角度範圍内旋轉交換一 鏡子使雷射光做水平或者垂直扇形掃招一晶囷表面，在鏡 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS>A4规格（210 * 297公* ) ------------•裝---- ---訂---------線 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 A7 B7_ 五、發明說明（5 ) 子旋轉控制器之旋轉角度到資料處理器之鏡子旋轉角度及 光偵測器之散射光訊號間之一對一對映裝置；將所有散射 光強度藉由一鏡子旋轉角度、資料線到光偵測器間之距 離、散射點到偵測器間之連線以直角交資料線間之距離、 及鏡子反射點到資料線上之散射點與資料線間之距離間之 相關公式轉換為雷射光之中線且垂直於光偵測器之資料線 強度之裝置。 第三，本發明之顆粒監視裝置包括：讓雷射光進入反 應器之裝置及測量顆粒散射光的裝置；本顆粒監視裝置更 有一可在雷射光前平行移動鏡子組以將雷射光以窄頻掃描 於水平或垂直之晶圓表面；在鏡子旋轉控制器之旋轉角度 到資料處理器之鏡子位置及光偵測器之散射光訊號間之一 對一對映裝置；將所有散射光強度藉由一鏡子速度、由雷 射光在資料線時起經過的時間、資料線到光偵測器間的距 離、散射點到偵測器間之連線以直角交資料線間之距離間 之相關公式轉換為資料線強度之裝置。 第四’本發明之顆粒監視裝置包括：讓雷射光進入反 應器之裝置及測量顆粒散射光的裝置： 本顆粒監視裝置更有估計顆粒大小，或者顆粒之數值 密度或者散射光之折射係數，視顆粒大小及雷射光波長計 鼻參數，及 當顆粒大小超過某預定值時，藉由增長雷射光波長擴 大可適用萊禮散射公式範圍之顆粒大小的裝置。 第五，本發明之顆粒監視裝置包括：讓雷射光進入反 本紙張尺度適用中B國家標準（CNS>A4規格<210 X 297公；* > -------------裝i!i! —訂----線 (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 A7 --------B7____ 五、發明說明（6 ) 應器之裝置及測量顆粒散射光的裝置： 本顆粒監視裝置更有藉由一串脈衝方式雷射照射一 下落顆粒轨跡及以測量偵測器所受散射光束或數十脈衝顯 示散射光之裝置及藉由在預定時間内追蹤散射光軌跡估計 顆粒形狀之裝置；還有視時間或散射光最大最小值之比分 析散射光強度之改變。 更完整的描述，當散射光強度改變或散射光最大最小 值之比小於某預定值時假設球形顆粒形狀之裝置，及當顆 粒形狀估計為盤形時當散射光強度改變或散射光最大最小 值之比大於某預定值時假設盤狀顆粒形狀之裝置，及由散 射光最大強度估計盤形面積還有最小強度估計盤厚。 總和如下’本發明之顆粒監視裝置可輕易估計顆粒的 出現及目的還有其質量，為了估計顆粒大小視距離修正散 射光強度，擴大萊禮公式適用之顆粒大小範圍及藉由估計 顆粒形狀精確估計顆粒大小。 附圖描述’· 為了更瞭解本發明及其長處請參考下列敘述及附 圖，其中； 第1圖是本發明第一實施例獲取散射光之儀器之概 团 · 園， 第2圖是修正散射光強度的儀器概圖，為本發明之第 二實施例； 第3圖是修正散射光強度的儀器概圖，為本發明之第 三實施例； 本紙張尺度適用中B a家櫟準（CNS>A4規格<2Ϊ9 X 297公# ) -----------裝 illtil 訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4/4468 1 5 A7 B7 經濟部智慧財產局貝工消費合作杜印製 五、發明說明（7) 第4圖是在某一顆粒大小範圍内測量散射光強度的 儀器概圖，為本發明之第四實施例：以及 第5圖是在來禮散射公式適用範圍内以數值方法修 正資料處理方法之流程圖，為本發明之第五實施例。 實施例細述： 其次參照附圖描述本發明之實施例β 第一實施例 為了估計飆落的顆粒及顆粒到晶圓的目的地，只是暫 時測量顆粒散射光還不夠，還必須追蹤特定時間的散射 光。因此’當一個顆粒的散射光強度超過預定值時散射光 偵測器的曝光時間將延長，且增加脈衝雷射的反復頻率或 者CW雷射（連續波雷射）的截斷頻率變得低一點以得到一 個散射光的二維影像》 用這些方法，可以顯示下落顆粒散射光之軌跡，還有 原點及目的可由軌跡之始點及終點估計。顆粒質量可由軌 跡長度除以測量時間估計。 下面，參考第1囷，描述估計顆粒原點及晶圓上的目 的點的方法β 一雷射光源11由YAG雷射及一個二次谐頻光波產生 器。雷射震盪器的頻率為ΙΟΗζ»雷射光13的波長為532nm 還有雷射光束的形狀弄成垂直面上的片狀。然後，雷射光 被引入處理反應器19。雷射光13由在處理反應器19中懸 浮或者掉落的顆粒20散射。散射光21經過過濾介面22 還有每5秒鐘用一個以二維光偵測器14偵測閘打開時間為 10 本纸張尺度適用中國a家標準<CNS>A4遣格（210 X 297公釐） ί—i* 裝---If! — 訂• — 丨 II I -線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4“8 1 5 Α7 Β7 五、發明說明（8 ) 100ns的閘測量一次。散射光的空間分布顯示在資料處理 器15上。 資料處理器15判斷二維光偵測器14收到的光強度是 否超過預定值。如果光偵測器收到的散射光筆預定值 強，則二維光偵測器14的曝光時間藉增長閘開放的時間增 長致200ns，還有顆粒的運動以散射光軌跡23取得。同樣 的效應可以一秒長的時間測量而不延長打開閘的時間。 同樣的目的，可以藉由震動控制器24增加雷射頻率 由10Hz到丨OKHz增加雷射散射光頻率，而不藉由增加閘 打開的時間或者測量時間來增加散射光之曝光時間^ CW 雷射時，則改用一個雷射脈衝頻率截斷器13 »藉由增寬脈 衝寬度及截斷器之慢旋轉速度可達到同樣的效應》 用這個方法，可顯示散射光的轨跡23於資料處理器 15的顯示器上》還有一個連接執跡23的始點與終點的叠 加直線。還有，經由自始點延長該直線，可估計顆粒的始 點。還有，字终點延長該直線可估計顆粒的終點。由直線 在垂直方向的投影大小除以直線的曝光時間可以估計顆粒 的質量。 如上面描述，測量散射光線的轨跡可估計顆粒的原點 及終點還有質量也可以估計因此可用來指導選取反應器材 料還有設計反應器的形狀，以減低顆粒出現。 .第一實施例 一個與顆粒大小相關的散射光強度6另方面，散射光 的強度與散射點及測量點間的距離平方成反比。由其，相 η 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4洗格（210 X 297公釐） I I I I--!-裝·--If —--訂！！線 (請先閲讀背面之a.意事項再填寫本頁> 經濟部智慧財產局貝工消费合作杜印製 31、發明說明（9 ) 同大小的顆粒的散射光強度相同。雖然測量點與散射點間 的距離不同，量得的相同大小的顆粒散射光的強度不同。 因此為了要由散射光強度的二維影像估計顆粒大小，散射 光強度必須在相同距離下蒐集。達成這個目標的方法之一 的描述參見附第1圖。 一雷射光源>11包括一 Y AG及一個二次譜頻光波產生 器。震盪頻率為10Hz。雷射光束13的波長為5.32ηηι。雷 射光束13由鏡子12反射引入處理反應器19内部。鏡子 12在中線之左右做轉動反轉》最大轉角為1〇度。還有雷 射光13由活動鏡子12在晶圓之水平及垂直面方向扇型掃 描。當顆粒存在於二維光偵測器14的視覺範圍内時，可得 到顆粒散射光的空間分布。當顆粒散射光之空間分布顯示 於資料處理器15上時，以下面的方法修正散射光之強度。 旋轉角度&由鏡子轉動控制器16傳入資料處理器15。每個 散射光均由二維光偵測器14在對映於光散射的位置偵 測β 光偵測器元件14偵測到的散射光的強度視距離而 定。散射光強度I在萊禮散射或者瞇散射時成下面公式的 形式。 I = F/r2 其中F是顆粒大小的函數’是顆粒與折射係數的數值 密度。中線17應該是雷射光束13的一個資料點。r為距 離中線17的距離作為到二維光偵測器14的資料位置，還 有r作為中線丨7上的散射位置18到二維光偵測器14的垂 12 本紙張尺度適用t國困家楳準（CNS)A4婕格<210 X 297公釐> ----------裝 illj---訂 - - ----線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^468 1 5 五 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 A7 B7 發明說明（1()) 直距離eL是作為鏡子12散射點及由散射點18到中線η 的垂直線的父點間的距離。在距離與角度間有如下 係。 r=r〇+L tan Θ 無論是萊禮或者喊公式’如果用1*0做為公式中的距離來計 算散射光強度’所有的散射光強度都轉換為中線π上的強 度。結果’顆粒大小及顆粒的數值密度可藉由比較散射光 強度與其他比較。 第三實施例 本實施例中另一個修正散射光強度的方法描述請參 見附第3圖。鏡子12平行移動，以掃描雷射光13成帶狀 水平面。雷射光源之波長及震動頻率與第二實施例相同。 當散射光的空間分布顯示在資料處理器15上時，散 射光強度以下面的方法修正。鏡子12的位置資料由鏡子直 線運動控制器25傳入資料處理器15。每個散射光都以二 維光偵測器14元件在對映於光散射的位置上偵測。每個元 件偵測到的散射光的強度視距離而定。散射光強度在萊禮 或者瞇散射中以下列公式表示， I = F/r2 其中F為顆粒大小的函數’一個顆粒還有折射係數的 數值密度。為了修正雷射光束散射點18與二維光偵測器 14間的距離，顆粒與偵測器間的距離用r=r〇± vt，其中v 為鏡子12的運動速度還有t為銳子由中線17運動起所經 過的時間。藉由以r計算，散射光的強度轉換成中線17的 13 本紙張尺度ϋ用中困目家標準（CNS>A4规格（210* 297公嫠） ----I----- 裝---------訂--------線 (請先閲讀背面之注意ί項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作杜印製 Α7 Β7 五、發明說明（n) 值。結果，可以比較顆粒大小及顆粒的數值密度。 在第二及第三實施例中，描述了雷射光以水平平面掃 描的例子。但是也可以改成雷射光以垂直面掃描。 第四實施例 其次，當顆粒半徑及顆粒之數值密度由散射光強度估 計時，數值計算在萊禮公式適用範圍内可以套用。但是在 必須使用瞇理論的較大顆粒大小範圍，必須使用大量時間 來作數值計算。為了解決這樣一個問題，當顆粒散射光的 強度大於預定值時，就把雷射光束的波長弄長到顆粒大小 的範圍使得萊禮散射公式可以使用。當顆粒大小參數（x=2 Tia/λ，其中a是半徑，λ是光波長）大約是0.7以上，用萊禮 公式算出的強度會變得比用瞇理論估計的實際值大出約 5°/〇。當參數X在資料處理來計算顆粒大小的過程中變成大 於某一預定值或等於0.7時，雷射光波長改為較長的波長 以使參數X變得小一點，這樣就可以一直使用萊禮公式。 當顆粒大小，顆粒的數值密度還有折射係數用散射光 的二維影像來估計，儀器可用相對說來較簡單的萊禮散射 公式來計算。儀器的組成可以參看第4圖。 一個由YAG雷射震盪器26來的1 ·064μιη的雷射照入 光學元件27以產生二次諧振然後產生一個532nm的光。 波長轉換器28附屬於光學元件28的輸出方以產生二次譜 振。波長轉換器28可轉至基頻光1.064μηι或者532nm由 YAG雷射震盪器26訊號來自資料處理器15。波長轉換器 28引導雷射入處理反應器19。起初，532nm光引入反應器 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS>A4规格（210 X 297公* > -----------I i I t -----訂---------線 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局貝工消費合作社印M 4 4 6 8;: A7 ___ B7 五、發明說明（12) 19。顆粒21散射的光經過一些光學元件，然後達到二維光 價測器14。偵測器14來的訊號經過資料處理器1 5數值計 算，然後就可以得到顆粒大小的資料還有顆粒的數值密 度。 關於資料處理器15處理資料的方法，插入一個比較 參數X及預設值f之步驟（S1)如第5圖所示》如果滿足X ^芒’波長轉換器28截斷二次諧振光532nm而用基頻光 1.064pm(S2)。另方面，如果滿足X < f，則保持用532nm 二次諧波測量（S3)。確立f為0.7，可用萊禮公式進行數值 計算精度達到10%以下。 引入這些步驟，可在實驗條件下達到總是用萊禮公式 使得資料處理不要加太多負荷於資料處理器15上。 在本實施例，描述了一個交換光的基頻與二次諧波的 例子。另一個例子，用汞離子雷射，可發出數個波長的光， 每當發現xgf時就用光柵改用較長的波長。還有另一個 例子’用數個可發出不同波長的雷射光源，每當發現X2 f則雷射光源以較長的波長振盪。還有，不必將f固定於 0.7 ’可依所要求的精度改變。 第五實施例 當顆粒為盤狀或者針狀時，散射光強度與顆粒軸與入 射光方向間的角度有關。藉由追蹤起始期間散射光執跡， 然後分析強度隨時間的變化，可以估計顆粒的形狀。還有， 顆粒的大小可以更精確的由散射光強度的最大最小值估 計。 15 本紙張尺度適用中國國家標攀（CNSJA4规格（210 X 297公* ) ------------裝 i!rl —丨訂---I II ---線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^4β8 t 5 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 五、發明說明（13) 在本實施例，描述了可估計顆粒形狀以修正顆粒大小 的儀器的組成’顆粒的數值密度，還有基於散射光的二維 影像的折射係數。 和第1圖所示的第一實施例相似，一包括YAG雷射 的雷射光源11還有雷射振盪控制器24。雷射震盪器的頻 率為10Hz。雷射光13的波長為532nm還有雷射光束的形 狀弄成垂直面上的片狀，然後’雷射光被引入處理反應器 19。雷射光束13由在處理反應器19中懸浮或者掉落的顆 粒20散射。散射光21經過干涉過濾介面22，用一個以二 維光偵測器14偵測閘打開時間為1〇〇ns的閘測量一次。散 射光的空間分布顯示在資料處理器15上。用上面描述的方 法，得到散射光顆粒運動的執跡23，軌跡23有連續亮點。 如果垂直掉落的顆粒為球形，散射光的強度〖，無論 顆粒與入射雷射光間採取何種角度，從不改變。另方面， 如果顆粒為盤狀散射光的強度j就會因顆粒與入射光間的 角度而有極大的改變。因此，當轨跡亮點的強度改變比值 Γ小於50%，就認為顆粒為球形，用萊禮散射公式或者瞇 理論估計顆粒大小。另方面，當軌跡亮點的強度改變比值 Γ大於或4於50%，就認為顆粒為盤狀，顆粒的盤面積由 散射光的最大強度估計還有厚度由散射光的最小強度估 計。 判斷顆粒形狀的標準不只是基於連續亮點執跡23的 強度變化比Γ，也可由最大強度與最小強度比δ決定。還 有’強度變化比Γ不一定要固定為50%，可一索要求的精 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格<210 X 297公釐） --------!!裝-------訂---------線 (靖先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

Ss I 5 A7 B7 五、發明說明（14) 度改變。 如上所描述，本發明使用光散射的顆粒監測儀器，顆 粒的出現及目標點還有質量都可以輕易估計，散射光因距 離改變導致之強度改變可以修正來估計顆粒大小，可適用 莱禮公式之顆粒大小的範圍以簡易數值方法擴張，還有顆 粒大小可以估計顆粒形狀來精確估計。 因此本發明可指導改進選擇反應器材料還有反應器 形狀以減低顆粒出現。 雖然本發明之實施例已詳細描述，須知一些改變，取 代及替用都可以無須離開本發明於下面申請專利範圍之精 神與範圍。 * — — — I — —- — !| - I — I · I — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· .線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 4 4 A8B8C8D8 經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1. 一種顆粒監視裝置，包括： 引導雷射進入處理反應器的裝置； 測量顆粒散射光的裝置； 在一預定之旋轉角度範圍内反轉旋轉鏡子的裝置，該 鏡子位於雷射光原前，以及在晶圓面的水平或者垂直方向 扇形掃瞄該雷射；以及 由鏡子旋轉控制器到資料處理器轉換該鏡子旋轉角 度的裝置，以及對應每一個偵測散射光之光偵測器之位置 到旋轉角度；以及由該鏡子旋轉角度間的關係公式轉換所 有該散射光之強度成在中心線上的強度的裝置，一自該中 心線到該光偵測器的距離，雷射光束散射點到該光偵測 器，以及從該鏡子之反射點到中心線及散射點到中心線之 垂直線的交點。 2. —種顆粒監視裝置，包括： 引導雷射進入處理反應器的裝置； 測量顆粒散射光的裝置； 平行移動鏡子的裝置，該鏡子位於雷射光原前，以及 在晶圓面的水平或者垂直方向帶狀掃瞄該雷射； 由鏡子直線運動控制器到資料處理器轉換該鏡子位 置的裝置，以及對應每一個偵測散射光之光偵測器之位置 到鏡子位置；以及 由該鏡子在中心線時算起的時間間的關係公式轉換 所有該散射光之強度成在中心線上的強度的裝置，一自該 中心線到該光偵測器的距離，雷射光束散射點到該光偵測 器，以及該鏡子之運動速度。 18 本紙張尺度適用中® S家標準（CNS>A4规格（210 X 297公釐） — — — — —I! — ·— —· * I ! I 丨 I 訂—丨 I! — — * (靖先W讀背面之注意事項再填寫本頁)