JPH05288669A - パーティクル検出システム - Google Patents

パーティクル検出システム

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JPH05288669A
JPH05288669A JP4118469A JP11846992A JPH05288669A JP H05288669 A JPH05288669 A JP H05288669A JP 4118469 A JP4118469 A JP 4118469A JP 11846992 A JP11846992 A JP 11846992A JP H05288669 A JPH05288669 A JP H05288669A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
pipe member
photomultiplier
particles
optical fiber
Prior art date
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Pending
Application number
JP4118469A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigenori Nakada
重範 仲田
Yoshimitsu Morita
芳充 森田
Masanori Yamaguchi
真典 山口
Seisaku Kamiya
誠作 神谷
Shintaro Sato
信太郎 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP4118469A priority Critical patent/JPH05288669A/ja
Publication of JPH05288669A publication Critical patent/JPH05288669A/ja
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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】センサーヘッドが小さくて真空装置に簡単に取
り付けることができ、粒径サイズの小さなパーティクル
も精度良く測定できるパーティクル検出システムを提供
する。 【構成】真空装置の排気ラインに接続されてパーティク
ルが導かれるパイプ部材1と、このパイプ部材に取り付
けられてビーム光Lをパイプ部材内の径方向に放射する
レーザ光源2およびコリメータ光学系3、およびビーム
光を受け止めるビームストッパー4と、パーティクルに
よる散乱光を受光する光ファイバーケーブル5と、この
光ファイバーケーブル5に接続されたフォトマルチプラ
イャー6と、フォトマルチプライャー6の出力信号を処
理する信号処理装置7とで構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空装置の排気ライン
でガスにより運び出されて来るミクロン、サブミクロン
オーダーのパーティクル(微粒子)を検出するシステム
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造装置をはじめとして、LC
Dやディスク製造における薄膜形成装置、エッチング装
置、CVD装置などの真空装置は、その内部がきわめて
清浄であることが要求され、ミクロン、サブミクロンオ
ーダーの「ごみ」などの異物であるパーティクルがウエ
ハーやディスクなどに付着すると歩留りが大きく低下す
る。ことに最近では、半導体産業において、半導体の集
積度が非常に高いDRAMが量産されており、パーティ
クルが生産歩留りに与える影響はきわめて大きい。この
ため、パーティクルを測定するパーティクルモニターが
実用化されており、その測定値に基づいてプロセス条件
を最適化し、更には突発的なパーティクルの発生を検知
して歩留りの向上を図っている。
【0003】光散乱方式のパーティクルモニターのセン
サーヘッドとしては、例えば特開平2−55937号公
報に開示されたものが知られている。これを図4に基づ
いて説明すると、ケーシング 11 は、筒状体であり、そ
の側部にケーシング 11 の軸線方向に長い長孔である開
口 19 が形成されている。そして、このケーシング 11
を真空装置の排気ラインに取り付けると、真空装置内で
浮遊または降下しているパーティクルが開口 19 からケ
ーシング 11 内に侵入する。ケーシング 11 内の一端側
には、光源として、波長が780nmの光を放射する半導
体レーザ2が配置されている。半導体レーザ2の前方に
は光学系3が配置され、半導体レーザ2からの光を光学
系3でビーム光Lにするが、ビーム光Lはケーシング 1
1 の軸線に沿って進行する。
【0004】また、開口 19 に対応して一対のフィルタ
ー9と、フィルター9の裏面に光検出センサーとしてS
iフォトダイオード8が配置されているが、ビーム光L
の進む方向とパーティクルが侵入する方向で形成される
仮想面と対面するようにフィルター9およびSiフォト
ダイオード8が配置されており、このフィルター9,9
の間が検出領域である。また、フィルター9およびSi
フォトダイオード8の下流側に検出領域を通過したビー
ム光Lを受け止めるビームストッパー4が配置されてい
る。そして、この検出領域においてビーム光Lがパーテ
ィクルに衝突して散乱し、この散乱光がフィルター9を
透過してSiフォトダイオード8で検出されるようにな
っている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、光検出セ
ンサーとしてSiフォトダイオードを使用しているが、
Siフォトダイオードは感度があまり高くないので、例
えば粒径が0.2μm 以下の非常に粒径サイズの小さな
パーティクルを精度良く測定するのに限界があった。こ
れは、小さな粒径サイズからの散乱光が非常に微弱であ
るためである。このため、Siフォトダイオードに代え
て感度の高いフォトマルチプライヤー(光電子増倍管)
を使用することが試みられている。
【0006】しかしながら、フォトマルチプライヤーを
センサーヘッド内に組付けると、センサーヘッド自体が
大型化し、真空装置に取り付けるのが困難である。ま
た、フォトマルチプライヤーは、振動や熱に対して敏感
であるので、真空ポンプやモータなどの振動が伝った
り、少し高温になるとミスカウントすることがあり、精
度良く測定できない不具合がある。
【0007】そこで本発明は、センサーヘッドが小さく
て真空装置に簡単に取り付けることができ、粒径サイズ
の小さなパーティクルも精度良く測定できるパーティク
ル検出システムを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明のパーティクル検出システムは、真空装置
の排気ラインに接続されて当該真空装置内のパーティク
ルが導かれるパイプ部材と、このパイプ部材に取り付け
られて所定断面のビーム光をパイプ部材内の径方向に放
射するレーザ光源およびコリメータ光学系、およびビー
ム光を受け止めるビームストッパーと、ビーム光の直射
を受けない位置であって、パーティクルによる散乱光を
受容する位置に取り付けられた光ファイバーケーブル
と、この光ファイバーケーブルに接続されたフォトマル
チプライャーと、フォトマルチプライャーの出力信号を
処理する信号処理装置とで構成する。
【0009】
【作用】すなわち、光検出センサーとして感度の高いフ
ォトマルチプライャーを使用するが、これをセンサーヘ
ッドのケーシングであるパイプ部材内に組み込まず、パ
イプ部材内の散乱光を光ファイバーケーブルによってフ
ォトマルチプライャーに導くので、センサーヘッドが大
型化せず、真空装置に簡単に取り付けることができる。
そして、センサーヘッドと分離されたフォトマルチプラ
イャーは、振動や熱の影響を受けず、粒径サイズの小さ
なパーティクルも精度良く測定できる。また、フォトマ
ルチプライャーを冷却した状態で使用することも可能で
あり、これによってS/N比は大幅に向上し、更に小さ
な粒径サイズのパーティクルも測定することができる。
【0010】
【実施例】以下に図面に示す実施例に基づいて本発明を
具体的に説明する。図1および図2において、パイプ部
材1には、有底筒状の光源ケース 11 とケーブルケース
12 およびストッパーケース 13 が同一レベルで放射状
に取り付けられている。なお、光源ケース 11 とストッ
パーケース 13 が対向し、ケーブルケース 12 は光源ケ
ース 11 と交わっている。そして、パイプ部材1の端部
にフランジ 14, 15が形成されている。このように、こ
のパイプ部材1およびこれに付属する光源ケース 11 な
どで図4に示す従来のセンサーヘッドのケーシング 11
を構成している。
【0011】光源ケース 11 内には、光源として、波長
が780nmの光を放射する半導体レーザ2が配置され、
半導体レーザ2の前方にはレンズ 31 と絞り 32 からな
るコリメータ光学系3が配置されている。また、ストッ
パーケース 13 内には、表面に反射防止膜が形成された
ビームストッパー4が配置されている。そして、半導体
レーザ2からの光をコリメータ光学系3で所定の断面形
状をしたビーム光Lにするが、ビーム光Lはパイプ部材
1内の検出領域 16 を横切って進行し、ビームストッパ
ー4で受け止められる。
【0012】ケーブルケース 12 内には、集光レンズ 5
1 が配置されるとともに、所定長さの光ファイバーケー
ブル5の一方の端面が集光レンズ 51 と対面している。
ここで、ケーブルケース 12 が光源ケース 11 と直交し
ているので、光ファイバーケーブル5は、ビーム光Lの
進行方向を横切る方向から、つまりビーム光Lの直射を
受けない位置に取り付けられている。
【0013】フォトマルチプライャーインターフェース
ユニット 66 内には、フォトマルチプライャーケース 6
1 、フォトマルチ用高圧電源 63 、プリアンプ 64 など
が配置されている。そして、フォトマルチプライヤーケ
ース 61 内には、集光レンズ52 とともに光検出センサ
ーのフォトマルチプライャー6が配置され、光ファイバ
ーケーブル5の他方の端面が集光レンズ 52 と対面して
いる。つまり、フォトマルチプライャー6とセンサーヘ
ッドのケーシングであるパイプ部材1と分離され、光フ
ァイバーケーブル5を介して接続されている。なお、集
光レンズ 51, 52 は必ずしも必要ではないが、集光レン
ズ 51, 52 を使用すると検出領域 16 とフォトマルチプ
ライャー6の結合効率を上げることができる。そして、
フォトマルチプライャー6はプリアンプ 64 を介してリ
ード線 62 で信号処理装置(コントローラー)7に接続
されている。また、半導体レーザ2はレーザ駆動電力供
給線 65 で信号処理装置7に接続されている。
【0014】しかして、パイプ部材1の一方のフランジ
14 を真空装置(図示略)の排気ラインに接続するとと
もに、他方のフランジ 15 を真空ポンプ(図示略)に接
続する。これによって、真空装置内のパーティクルがパ
イプ部材1の検出領域 16 に導かれる。従って、ビーム
光Lがパーティクルに衝突して散乱し、点線で示す散乱
光L´が光ファイバーケーブル5を介してフォトマルチ
プライャー6に入射する。そして、フォトマルチプライ
ャー6で電気信号に変換され、その電気信号が信号処理
装置7で処理され、信号処理装置7の液晶パネル 71 に
パーティクル数がカウントされる。
【0015】他の実施例として、図3に示すように、ビ
ームストッパー4の後方に、つまりビーム光Lが直射し
ない位置にやや大きな集光レンズ 51 を配置し、この集
光レンズ 51 を介して光ファイバーケーブル5で点線で
示す散乱光L´を受容するようにしてもよい。これは、
ビーム光Lと同じ方向に進む強度の大きな散乱光L´を
受容できるので有効な方法である。
【0016】このように、検出領域 16 の散乱光を光フ
ァイバーケーブル5によって感度の高いフォトマルチプ
ライャーに導くので、センサーヘッドのケーシングであ
るパイプ部材1が大型化せず、真空装置に簡単に取り付
けることができる。そして、パイプ部材1と分離された
フォトマルチプライャー6は、振動や熱の影響を受けな
い場所に設置できるのでこれらの悪影響を受けず、粒径
サイズの小さなパーティクルも精度良く測定できる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
センサーヘッドが小さくて真空装置に簡単に取り付ける
ことができ、粒径サイズの小さなパーティクルも精度良
く測定できるパーティクル検出システムとすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の断面図である。
【図2】本発明実施例の斜視図である。
【図3】他の実施例の説明図である。
【図4】従来例の説明図である。
【符号の説明】
1 パイプ部材 11 光源ケース 12 ケーブルケース 16 検出領域 2 半導体レーザ 3 コリメータ光学系 4 ビームストッパー 5 光ファイバーケーブル 6 フォトマルチプライャー 61 フォトマルチプライヤーケース 63 フォトマルチ高圧電源 64 プリアンプ 65 レーザ駆動電力供給線 66 フォトマルチプライヤーインターフェースユニ
ット 7 信号処理装置 8 Siフォトダイオード L ビーム光 L´ 散乱光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 真典 静岡県御殿場市駒門1−90 ウシオ電機株 式会社内 (72)発明者 神谷 誠作 静岡県御殿場市駒門1−90 ウシオ電機株 式会社内 (72)発明者 佐藤 信太郎 静岡県御殿場市駒門1−90 ウシオ電機株 式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空装置の排気ラインに接続されて当該
    真空装置内のパーティクルが導かれるパイプ部材と、 このパイプ部材に取り付けられて所定断面のビーム光を
    パイプ部材内の径方向に放射するレーザ光源およびコリ
    メータ光学系、およびビーム光を受け止めるビームスト
    ッパーと、 該ビーム光の直射を受けない位置であって、パーティク
    ルによる散乱光を受容する位置に取り付けられた光ファ
    イバーケーブルと、 この光ファイバーケーブルに接続されたフォトマルチプ
    ライャーと、 フォトマルチプライャーの出力信号を処理する信号処理
    装置とからなることを特徴とするパーティクル検出シス
    テム。
JP4118469A 1992-04-13 1992-04-13 パーティクル検出システム Pending JPH05288669A (ja)

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JP4118469A JPH05288669A (ja) 1992-04-13 1992-04-13 パーティクル検出システム

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JPH05288669A true JPH05288669A (ja) 1993-11-02

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5861951A (en) * 1996-12-16 1999-01-19 Nec Corporation Particle monitoring instrument
JP2010175498A (ja) * 2009-02-02 2010-08-12 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 大気散乱光スペクトル強度計測器
JP2013015427A (ja) * 2011-07-05 2013-01-24 Fuji Electric Co Ltd 微粒子検出装置
CN104833620A (zh) * 2015-04-20 2015-08-12 江苏苏净集团有限公司 一种大气颗粒物浓度的监测装置
CN110567997A (zh) * 2019-10-11 2019-12-13 中国科学院上海应用物理研究所 一种用于散射实验站的真空腔体组件
CN114486691A (zh) * 2022-02-16 2022-05-13 上海纬冉科技有限公司 一种便携式能量探测设备及其调试装置

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