JPS6370148A - 微細粒度分布測定装置 - Google Patents

微細粒度分布測定装置

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JPS6370148A
JPS6370148A JP61214847A JP21484786A JPS6370148A JP S6370148 A JPS6370148 A JP S6370148A JP 61214847 A JP61214847 A JP 61214847A JP 21484786 A JP21484786 A JP 21484786A JP S6370148 A JPS6370148 A JP S6370148A
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JP
Japan
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slit
scattered light
average intensity
slits
size distribution
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JP61214847A
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English (en)
Inventor
Takeshi Niwa
丹羽 猛
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、動的光散乱法を用いた微細粒度分布測定装置
に関する。
〈従来の技術〉 動的光散乱法による粒度分布測定装置においては、一般
に、供試粒子群を測定セル内の液体中に浮遊させ、レー
ザ光をレンズを用いてこの測定セル内に集光し、集光点
で供試粒子によって散乱される光を、照射レーザ光軸に
対して所定の角度をなす位置に配設さた2個のスリット
を介して光電子増倍管等の光検出器に導いて検出する。
そして、供試粒子群のブラウン運動による散乱光の強度
変化を測定して、その自己相関関数を用いて供試粒子群
の粒度分布解析を行う。この方法によれば、数μm〜m
十数の粒子の大きさを測定することができ、例えばビー
ルス等のような微細粒子についても測定が可能である。
〈発明が解決しようとする問題点〉 ところで、このような粒度分布測定装置においては、集
光点でレーザ光スポットの直径は、通常、数十乃至せい
ぜい100μm程度であるため、スリットの位置、特に
測定セル側のスリットの位置の調整には高精度が要求さ
れる。
従来の装置においては、製造時等においてこのスリット
の位置を調整した後、固定していた。しかし、供試粒子
群を浮遊させるための液体、つまり媒液の種類により屈
折率が異なるため、レーザ光の光軸上での集光位置は媒
液が異なれば変化する。また、測定セルの壁体厚さに差
があったり、あるいはその傾きに差があっても、集光点
とスリットとの位置関係にずれが生じる。更に、この動
的光散乱法は温度と密接な関係のあるブラウン運動を利
用しているので、測定セルは通常、恒温槽内に浸される
。この恒温槽の温度を変化させると、測定光学系を保持
している部材の熱膨張の影響で、レーザ光の集光点とス
リット位置との間にずれが生じる。
従来、上述した屈折率差によるもの、測定セルの厚みの
差および傾き等によるものは無視されてきた。また、熱
膨張によるものについては、これを考慮した設定を行う
ことにより、その影響をできるだけ小さくしていた。
本発明の目的は、媒液の屈折率差、測定セルの厚さの差
、傾き、および熱膨張等により、レーザ光集光点と測定
セル側のスリットとの位置関係にずれを生じても、適宜
にこれを矯正することができ、常に正確な測定を行うこ
とのできる、動的光散乱法を用いた微細粒度分布測定装
置を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉 上記の目的を達成するための構成を、第1図に示す基本
概念図を参照しつつ説明すると、本発明は、測定セル1
内の液体中に浮遊する供試粒子群にレーザ光を照射し、
この供試粒子群によって散乱される光を、照射レーザ光
軸に対して所定の角度をなして配設された2個のスリッ
ト2および3を介して光検出器(例えば光電子増倍管)
4に専いて検出し、供試粒子群のブラウン運動による散
乱光の強度変化から、供試粒子群の粒度分布を求める装
置において、2個のスリット2,3のうち測定セル1例
のスリット2を、散乱光軸に直交する面内で互いに直交
する方向に駆動する第1および第2の駆動手段aおよび
bと、光検出器4の出力から散乱光の平均強度を求める
入力散乱光平均強度測定手段Cと、第1および第2のス
リット駆動手段aおよびbそれぞれによるスリット2の
位置について、散乱光平均強度が最大となる位置を探し
出す入力散乱光平均強度最大値位置検出手段dを備えた
ことによって、特徴づけられる。
く作用〉 スリット2の配設位置における散乱光の光軸直角断面は
、例えば第4図(b)に示すような形状となるが、この
図において散乱光軸の通る点をOとし、その点0で互い
に直交するxt  y軸を想定したとき、散乱光強度分
布は点0において最も強く、この点OからXty軸に沿
って遠去かるほど弱くなる。
スリット2を例えばまずX方向に変位させて、その各位
置において、光検出器4に入射する散乱光の平均強度を
測定し、最大値を示す位置にスリット2を位置決めする
。これにより、スリット2のピンホール2aがX軸上に
位置したことになる。
次に、その状態でスリット2をX方向に変位させて、同
様に平均強度が最大値を示す位置を探し出すと、ピンホ
ール2aがX軸、y軸の交点、つまり散乱光軸上の点O
に位置したことになる。
粒度分布の測定前に以上の調整を行うことにより、なん
らかの理由でスリット2の位置が散乱光軸に対して、換
言すればレーザ照射光の集光点に対してずれたとしても
容易に矯正される。
〈実施例〉 本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。
第2図は本発明実施例の要部構成を示すブロック図であ
る。
測定セル1内には媒液中に供試粒子群を分散させてなる
懸濁液が収容され、レーザ光源11がら照射されたレー
ザ光は集光レンズ12によってこの測定セル1内で集光
される。ここで、レーザ光′tA11からの光束の拡が
りをα(ラジアン)とし、集光レンズ12の焦点距離を
fとすると、集光点でのレーザ光スポットの直径はfα
となる。
集光点において供試粒子によって散乱された光は、照射
レーザ光の光軸Aと所定の角度をなして配置された、測
定セル1に近接するスリット2と、このスリット2から
所定距離を隔てて配設されたスリット3を介して、光電
子増倍管4に入射する。
この光電子増倍管4の出力信号は、アンプ5を経由して
自己相関器に導かれ、粒度分布測定に供されるとともに
、積分器6に導入されている。この積分器6は、光電子
増倍管4からのパルス状出力信号を所定時間に亘って積
分するもので、例えば単純なCR積分回路等によって構
成することができ、その出力信号は光電子増倍管4への
散乱光の入射平均強度を表わすことになる。
積分器6の出力信号はA−D変換器7によってデジタル
化された後、マイクロコンピュータ已に採り込まれてい
る。
測定セル1に近接する側のスリット2には、散乱光軸に
直交する面内で互いに直交する方向に当該スリット2を
変位させるための第1および第2のスリット駆動装置9
および10が装着されている。この各駆動指iZ9,1
0への駆動指令はマイクロコンピュータ8から供給され
る。
第3図はスリット2近傍の散乱光軸方向から見た正面図
である。スリット2にはその中央部にピンホール2aが
穿たれており、このピンホール2aを通過した散乱光が
次段のスリット3を介して光電子増倍管4に入射するわ
けである。前述した第1および第2のスリット駆動装置
9および10は、それぞれ互いに直交する送りねじ9a
、10aと、それぞれを回転駆動するパルスモータ9b
、10b。
およびそのドライバ9c、10c等からなり、各送りね
じ9a、10aはスリット2に固着された送りナツト(
図示せず)にねじ込まれ、その回動によってスリット2
をそれぞれ水平方向(X方向)および鉛直方向(X方向
)に微小変位させることができる。前述したマイクロコ
ンピュータ8からの駆動指令は、X方向駆動指令および
X方向駆動指令としてそれぞれドライバ9cおよび10
cに供給される。
次に、第4図および第5図を参照しつつ本発明実施例の
動作と作用を述べる。第4図fa)は散乱光軸を含む鉛
直面で切断して示す測定系の説明図で、同図(blはそ
のB−B断面で示す説明図である。
測定セル1内に集光されたレーザ光は、その集光点でレ
ーザ光スポットPを形成し、ここで懸濁液中の粒子によ
って散乱され、スリット2を通過する。このスリット2
の配設位置における散乱光の鉛直断面形状は、例えば第
4図(b)に示す通りとなる。この図において、散乱光
の光軸が通過する点を0とし、点Oを通る水平方向の軸
をX、同じく鉛直方向の軸をyとすると、散乱光の強度
分布は点0において最も強く、点Oからx、  y軸方
向に遠去かるほど弱くなる。スリット2のピンホール2
aの最適位置は、その中心が点Oと一致する位置である
さて、マイクロコンピュータ8は、まず、第2のスリッ
ト駆動装置10に徐々にX方向駆動指令を与えつつ、A
−D変換器7からの散乱光平均強度測定データを採り込
む。このとき、その測定データは、第5図に示すように
スリット2の各X方向位置によって変化する。スリット
2のピンホール2aの中心がX軸上に到来したときに、
その値が最大となる。マイクロコンピュータ8ではy方
向各位置におけるデータをRAM等に格納し、これらを
互いに比較することによってその最大値を探し出し、そ
の最大値となるデータを得たX方向位置にスリット2を
位置決めする。
次に、第1のスリット駆動装置9に同様に徐々にX方向
駆動指令を与えつつ、散乱光平均強度測定データを採り
込み、その値が最大となるX方向位置にスリット2を位
置決めする。これにより、スリット2のピンホール2a
の中心は点0と一敗することになる。
以上の動作を、測定条件の変更や測定セル1の交換ごと
に実行することにより、スリット2は常に最適位置に位
置決めされることになる。なお、レーザ光スポットPの
大きさは、通常その直径が数十μm程度で、集光点から
光電子増倍管4までの距離を大きくすれば、光電子増倍
管4の直近に置かれるスリット3の位置精度はさほど必
要ではなく、測定セル1例のスリット2のみを高精度に
位置決めすることにより、正確な粒度分布測定結果が得
られる。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明によれば動的光散乱法によ
る微細粒度分布測定装置において、測定セルの直近に配
置されるスリットを散乱光軸に直交する面内で互いに直
交する方向に駆動する第1および第2のスリット駆動手
段を設けるとともに、このスリットを経由して光検出器
に入射する散乱光の平均強度を測定し、第1および第2
のスリット駆動手段それぞれによるスリット位置につい
て、平均強度測定値が最大となる位置を検出し、その位
置でスリットを位置決めするよう構成したから、測定セ
ル側のスリットを適宜に散乱光軸上に自動的に位置決め
することができ、熱膨張、測定セルの壁面厚さや傾き、
およびQfB液の屈折率等による、スリットとレーザ光
集光点との相対的なずれを矯正することができ、常に最
適なスリット位置での測定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の構成を示す基本概念図、第2図は本発
明実施例の要部構成を示すブロック図、 第3図はそのスリット2近傍の散乱光軸方向から見た正
面図、 第4図および第5図は本発明実施例の作用説明図である
。 1−測定セル 2−・−・スリット 2a−ピンホール 3−スリット 4−光電子増倍管 6−禎分器 8−・マイクロコンピュータ 9−・第1のスリット駆動装置 10−・−第2のスリット駆動装置 9a、10a−送りねし 9 b、  10 b−パルスモータ 9c、10cm−ドライバ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 測定セル内の液体中に浮遊する供試粒子群にレーザ光を
    照射し、この供試粒子群によって散乱される光を、照射
    レーザ光軸に対して所定の角度をなして配設された2個
    のスリットを介して光検出器に導いて検出し、供試粒子
    群のブラウン運動による散乱光の強度変化から、供試粒
    子群の粒度分布を求める装置において、上記2個のスリ
    ットのうち上記測定セル側のスリットを、上記散乱光軸
    に直交する面内で互いに直交する方向に駆動する第1お
    よび第2のスリット駆動手段と、上記光検出器の出力か
    ら散乱光の平均強度を求める入力散乱光平均強度測定手
    段と、上記第1および第2のスリット駆動手段それぞれ
    による上記測定セル側のスリット位置について、上記平
    均強度が最大となる位置を探し出す入力散乱光平均強度
    最大値位置検出手段を備えたことを特徴とする、微細粒
    度分布測定装置。
JP61214847A 1986-09-11 1986-09-11 微細粒度分布測定装置 Pending JPS6370148A (ja)

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