TW425312B - Process and device for the surface treatment of a substrate by an electrical discharge between two electrodes in a gas mixture - Google Patents

Process and device for the surface treatment of a substrate by an electrical discharge between two electrodes in a gas mixture Download PDF

Info

Publication number
TW425312B
TW425312B TW087118032A TW87118032A TW425312B TW 425312 B TW425312 B TW 425312B TW 087118032 A TW087118032 A TW 087118032A TW 87118032 A TW87118032 A TW 87118032A TW 425312 B TW425312 B TW 425312B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
electrodes
roller
pair
gas mixture
Prior art date
Application number
TW087118032A
Other languages
English (en)
Inventor
Alain Villermet
Francois Coeuret
Panayotis Cocolios
Bernd Martens
Eckhard Prinz
Original Assignee
Air Liquide
Softal Elektronik Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Liquide, Softal Elektronik Gmbh filed Critical Air Liquide
Application granted granted Critical
Publication of TW425312B publication Critical patent/TW425312B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/14Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by electrical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62Plasma-deposition of organic layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/007Processes for applying liquids or other fluent materials using an electrostatic field
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/02Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
    • B05D7/04Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber to surfaces of films or sheets
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06BTREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B1/00Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating
    • D06B1/10Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating by contact with a member carrying the treating material
    • D06B1/14Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating by contact with a member carrying the treating material with a roller
    • D06B1/148Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating by contact with a member carrying the treating material with a roller the treating material being supplied to the roller by spraying or pouring
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M10/00Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
    • D06M10/02Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
    • D06M10/025Corona discharge or low temperature plasma
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00Sheets
    • B05D2252/02Sheets of indefinite length

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 2 5 3 1 2 A7 ___B7 五、發明説明(丨) 本發明係一種用於藉由在受控制之氣體氛圍中二電極 間放電來表面處理運行中之基板的製程及裝置,尤其,該 氣體氛圍含有一或多易於產生可累積及/或藏積在該等放 電電極上之副產物的化合物。 藉由說明,該等副產物可爲諸如粉狀物之固體(例如 就矽烷之情況而言),或其他之液體或糊狀物,例如某些 碳氫混合物(例如,使具有脂肪鏈之混合物澱積)◊ 應理解的是,該等澱積物可接著累積在該等電極上而 構成它們一種變化’且一般是對於系統操作之擾動。 根據所要之處理及基板,所思考的氣體混合物會大大 地變化’ 一般係含有惰性之載體氣體及一或多種來自還原 及氧化氣體中之混合物,因此,該混合物之諸成分之一係 易於產生可累積及/或澱積在該等放電電極上之副產物的 類型’例如,具有矽烷或碳氧混合物之情況。 例如’由本發明所要之基板可以是薄片或膜、或是泡 綿產品之形式,其可根據所言及之材料而爲連續性或不連 續性的。此處所關注之基板最特別地係由聚合體材料、織 物或非織物之紡織材料、紙材料等所製成。 取聚合體膜作爲實例,已知經常需要在該等聚合體膜 上執行表面處理以便使該等表面活化,亦即,以便可使其 黏固、印製資訊於其上、等等。爲了能夠印刷,該墨水必 須與聚合體膜的表面相容,雖最初的情況一般並非如此, 且雖然接著該表面之預處理係必須的。 爲了執行適當的處理,已知使該聚合體膜之表面接受 ^ ^ 装 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X 297公# ) A7 4253 7 2 五、發明説明(上) 火焰吹拭處理、或以適合之化學物處理、或另外之電暈放 電處理。習知上,該等電暈放電處理係於空氣中執行,空 氣之氮及氧分子係藉放電來轉換,與該聚合體之表面化學 反應而產生新的分子(原子團,離子等)。 同時,如美國專利US-5,576,076之所述,已提出以含 矽烷之氣體混合物來取代空氣。注入此種活化氣體混合物 於放電區之內使得高處理水準爲可能的,且因而解決了許 多由聚合體膜轉換器所遭遇之問題。所利用之電極系統不 僅促成放電之產生(如標準電極一樣),而且管理該放電 區內處理氣體之注入。 容許獲得正確的處理水準之活化氣體混合物可具有種 種組合’此主要係根據所處理之聚合體膜之打算的應用而 定。到目前爲止’該氣體混合物通常含有作爲載.體氣體之 氮氣、氧化氣體以及數百ppm之砂院。 由本申請人所完成之工作已可證明,當此製程係執行 如上述美國專利中之所述時,亦即,含有矽烷及氧化劑之 氣體混合物係被注入於放電區之內時,氧化矽之粉狀物在 整個處理之期間會形成累積在該等電極之上。此增加在該 處理期間電極的污染會阻礙表面之處理於適當條件下被執 行超過約1小時之長時間,然而,在產業中一般之操作模 式係爲24小時之連續型式。 在該等電極上之粉狀物之累積係多種現象之結果: -放電之物理-化學性:此係因爲所形成之氧化矽粉 狀物爲氣相中由於該放電之激勵而發生之反應之產物。藉 ---;-------^------tT------0 (讀先聞讀背面之注意事項:填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作钍印製 本^:尺度適用中國國家榡準(CNS ) A4現格(210X2^7公釐)~ ----- 425 3 1 2 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(3 ) 由改變操作條件(氣體混合物之組合、放電之電氣特性等 等),可改變所形成之粉狀物之量; -因此所形成之粉狀物開始與該等電極接觸之製程: 此係因爲當詼粉狀物形成於氣相中之時(根據前文,即使 在小的最適量之時),累積僅會發生於是否該粉狀物係開 始與等電極接觸。 因此,本發明之目的特別地於提供一種製程及裝置, 使此一技術上之問題得以有效地藉防止副產物(固體及/ 或液體及/或其他糊狀之副產物)累積在該等電極上而解 決,其中該等副產物係由處理氛圍中之放電所造成之化學 反應之結果。 本發明之適當操作所需之條件中之一係在於產生一種 裝置,其具有確保氣體混合物均勻地注入於所使用之該等 電極之整個長度上而產生放電。此係因爲完全均勻之分佈 對於獲得聚合體膜之均勻處理係重要的。 根據本發明,該兩電極係運行中之膜所施加靠著之輥 ,該等輥係以一適當縫隙而相互平行配置,且因而放電會 發生在該兩輥電極之間。 根據本發明之用於藉氣體混合物中二電極間放電來表 面處理運行中之基板之製程,該氣體混合物係易於產生可 澱積在該等電極上之副產物,其中該等電極之一係爲該基 板可施加抵靠之輥,一機構被設置用以注入該氣體混合物 於該等電極間,且接著是一種製程,其中至少一用以處理 基板的階段係被採用,各階段包含至少一對之輥電極及一 (請先W讀背面之注意事項/填寫本頁) -a Γ 表紙張尺度適用中國國家標隼(CNS丨A4規格(210X297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 425 3 1 2 A7 B7 _ 五、發明説明(^ ) 注入器用以注入該氣體混合物於該等輕之間,並且其中該 基板之處理係以下列方式執行:使該基板第一次連續地通 過兩II電極之間,藉施加基板抵靠該第一輥電極而接受第 一表面處理”以及接著第二次通過兩輥電極之間’藉施加 該基板抵靠該第二輥電極而接受第二表面處理。 此外,根據本發明之製程可採用一或多種下列特徵: -該基板之寬度至少等於電極間空間之長度’而可觀 察到易於產生諸副產物之放電存在及該氣體混合物存在之 結合。 -使用導輥,導輥之數目至少足以使該第一及第二表 面之處理以下列方式來執行: 1)該基板係施加抵靠一第一對導輥之第一導輥且接著 藉施加抵靠著該第一輥電極而通過該兩輥電極之間,而接 受該第一表面處理; j) 接著,在施加抵靠一第二對導輥之第二導輥之前, 該基板係施加抵靠著該第二對導輥之第一導輥; k) 在施加抵靠該第一對導輥之第二導輥之前,該基板 藉施加抵靠該第二輥電極而再通過於該兩輥電極之間,g 受該第二表面處理; -兩個用於處理該基板的階段係被利用,並且兩個額 外之基板之表面處理係於該基板之第一表面處理與該 之二表面處理之間、在第二處理階段中以下列方式來執行 i)在已接受該第一表面處理之後而在接受該第二表面 ______2_ 本紙伕尺度適用中國國家橾隼() Λ4規格(210X297公釐) ^--- ---^-------装 ------ΐτ------線 (請先W讀背面之注意事項,%'寫本頁) 425312 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(j) 處理之前,藉施加該基板抵靠該第二階段之第一輥電極, 使該基板第一次通過該第二階段之兩輥電極之間而接受第 一額外之表面處理; / J)之後h藉施加該基板抵靠該第二階段之第二輥電極 ,使該基板第二次通過該第二階段之兩輥電極之間而接受 第二額外之表面處理。 -使該至少一對電極之至少之一電極的長度適合於所 欲處理之基板的寬度; -該氣體混合物係注入於至少一對之兩輥電極之間, 注入長度實質地等於所欲處理之基板的寬度。 當硏讀上文時將理解的是,本發明有關用以處理運轉 之表面的製程之領域,且因此有關稱爲開放之設備,所以 有若干空氣入口之存在,同時該表面之處理須執行於大氣 壓力處或一接近大氣壓力之壓力處。此係因爲,應理解的 是可工作於幾十毫巴或甚至幾百毫巴之大氣壓力之壓力處 而不會脫離本發明之範疇。 同時,本發明有關一種用於藉一易於產生可澱積在電 極上之副產物之氣體混合物中二電極間之放電來表面處理 運轉之基板的裝置,在該裝置中,該等電極之一係該基板 可施加來抵靠之輥,被配置用以注入該氣體混合物於該等 電極之間的機構,其中該第二電極係該運轉之基板亦可施 加來祗靠之輥,該輥係被配置以一合適之縫隙來平行於另 一輥,實際上該裝置包含具有藉施加一基板來抵靠一第一 輥電極,使該基板第一次通過該雨輥電極之間而可接受第 -----------神衣------ΪΤ------線- (請先閣讀背而之注意事項板寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公座) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 25 31 2 A7 B7 五、發明说明(6) 一表面處理,及接著藉施加該基板來抵靠第二輥電極,使 該基板第二次通過該兩輥電極之間而可接受第二表面處理 之能力的裝置。 ’ 同時,根據本發明之裝置可採用一或多種下列特徵: —含有一覆蓋,該覆蓋具有至少一階段用以處理該基 板,各階段含有一對之輥電極以及用以注入一氣體混合物 於該等輥電極間之機構; -含有至少兩對之導輥,該裝置之導輥對之數目至少 係足以容許在各對之輥電極之兩側均有一對導輥; 一用以注入該氣體混合物之機構係包含一用於各對輥 電極之注入噴嘴,該噴嘴自至少一相關之輥電極之一端連 續性地延伸至另一端; 一該氣體注入噴嘴配置有用以閉塞該噴嘴部分的長度 以便能夠調整及限制其上該氣體混合物注入之長度’及修 整例如,此長度至一或其他該等電極之長度; -該對或各對之該等電極之至少之一之長度係等於所 欲處理之基板之寬度; -該閉塞機構含有橫向地絞鏈於該噴嘴之板條’各板 條配置有一弧形端,適用於閉合該噴嘴之注入槽’以及配 置有諸如鉤之操作機構; 一該裝置含有一吸氣單元,用以吸出該放電所造成之 氣體流出物’並且用以吸出因基板運行之移動所引起的伴 隨該基板之空氣; -該吸氣單元係置於該等輥電極之下方所置放之一對 本纸乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X 297公釐) ----------裝------it------# (請先閱讀背面之注意事項-,¼寫本頁〕 4 25 A7 B7 經濟部智慧財產局負工消费合作社印製 五、發明説明(7 ) 導輥之下; 一該吸氣單元含有一與該對之導輥之各導輥相結合2 系統.,該系統含有一吸氣總成及一插置於此吸氣總成與所 述之導輥之間的中間總成,且此中間總成具有一與該導奉昆 之圓柱表面結合之凹狀表面,在該等表面之間具有一適當 之縫隙,以及在各總成之中配置有一槽,該槽係用以吸出 流動於該輥與該中間總成之表面之間,此槽顯現於吸氣總 成之中。 當硏讀上文時將理解的是,該裝置同時可含有使該膜 適當地運行通過該裝置之機構,且特別使該基板被帶進放 電區及自該處移開,或當該裝置確實地具有若干處理階段 時,使該基板傳送於該等階段之間。 該等運送基板的機構可爲導輥,係工廠用以處理聚合 體膜之非常普遍之例。 若該裝置含有兩個處理階段時,則可關閉或開啓第二 次放電,其意謂著該基板可處理兩次或四次。此係因爲該 基板可先通過第一放電階段,其中該基板係由第一放電區 來處理,而接著在該膜已通過一導輥之後,則可通過第二 放電區,其中該膜係由第二放電區再次予以處理(若後者 係開啓時)。在由其他輥導流之後,該膜第二次通過第二 放電區,且接著在一導輥之後,同時通過該第一放電區。 當硏讀上文時將理解的是,一方面該對之兩個電極之 長度不必相等,且另一方面,根據本發明,在該等電極之 一或另一與該基板間之尺寸的比例可加以選擇。同時,根 奸衣 __ 訂— n K ^ (請先閱讀背面之注意事項..填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準((:阳),\4規格(210/297公嫠) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 425 3 1 2 at B7 五、發明説明(s ) 據本發明,可選擇相對於所欲處理之該基板之尺寸的氣體 注入寬度。 所以,根據所採架構之®擇’若該處理之氣體混合物 含有一易於在放電之激勵下形成的副產物之氣體(例如具 有矽烷之情形),則該等電極在整個處理期間由該基板本 身所保護,因爲在各放電區之中該基板覆蓋該等電極之所 -有或部分之表面,亦即,它們所有或部分之工作表面,事 實上,在該等電極上之副產物澱積物之形成係放電之存在 與於產生諸副產物之氣體混合物之存在二者之結果。 爲了更淸楚簡單地描繪本發明,亦即,根據此特徵, 即,該運行之基板係施加抵靠著該對相互面對之輥電極之 兩電極,此處吾人考慮該運行基板之一給定之部分-X-,該 部分-X-係以一階段之裝置來處理:該部分-X-將第一次通 過該兩輥電極之間且接著施加抵靠一第一輥電極,在該處 其接受一第一表面處理(此時,面對其之第二電極係由該 運行之基板之下游部分,亦即,在運行中超前-X-之部分所 覆蓋),且接著-X-第二次通過該雨輥電極之間,施加抵靠 著該對之第二輥電極,在該處其受一第二表面處理(此時 ,先前所述之第一電極係由該運行之基板之上游部分,亦 即,在運行中跟隨-X-的部分所覆蓋)。 再次地,爲了使本發明更淸楚: _i)若該對之該等電極之至少之一電極的長度被修整爲 該基板之寬度,藉此,該電極將受到保護而免於副產物之 澱積’因爲會由該基板所覆蓋。至於所面對之第二電極, _____U__ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(21 Ox 297公釐) I I 1· H 訂 ~~ n 線 (讀先閒讀背面之注意事項. '填寫本頁)
* 4 25S I A7 五、發明説明(?) 則: -若該第二電極具有相同於第一電極之長度,將同時 受到保護, ’ -且若該第二電極之長度較大時’則當然地在由該基 板之整個寬度上所覆蓋之部分會受到保護,而關於其相對 於該第一電極之多餘之長度則因爲沒有放電於此多餘之長 度上,故不會受到副產物澱積所影響; j)如先前所示,亦可修整該氣體注入之長度爲所欲處 理之基板的寬度,則該等電極將同時受到保護而免於受到 副產物之澱積,不論在該等電極與該基板間之尺寸比例爲 何,因爲: -由該基板所覆蓋之該等電極之部分因此而受到保護 , -未由該基板所覆蓋之該等電極之部分(因爲選擇較 大的長度)同時會受到保護,因爲對於所述之該等部分, 並沒有易於導致副產物形成之氣體混合物。 在所有情況中,因而所形成之副產物係立即地由裝設 於該覆蓋及/或該運行基板之表面中之吸氣系統所抽取而 不會累積在該等電極之上。在該等條件下,實際上,該系 統可一天24小時連續地操作》 本發明之其他特性及優點將參照附圖呈現於下文中, 該等附圖係利用非限制性的實例來描繪其兩個實施例,其 中: 第1圖係根據本發明之用於表面處理聚合體膜之裝置 ------12______ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) I ^ ΐ衣 訂—c I 線 (請先閱讀背面之注意事項:%寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局負工消費合作社印敦 Α7 Β7 五、發明説明(/。) 之一實施例之簡略端視圖; 第2圖係以一平面垂直第1圖平面之該裝置之部分縱 向圖,爲簡化該圖式起見,該裝置之若千元件並未予以顯 不f μ 第3圖係第1及2圖之該裝置之下方部分之放大尺寸 上的部分視圖; 第4圖係第3圖之詳細放大尺寸上之部分截面圖;及 第5圖係該等輥電極之第二實施例之簡略頂視圖。 所顯之該裝置係打算用來藉氣體混合物中二電極間之 放電來表面處理例如聚合體膜之基板,該氣體混合物係易 於在該處理期間造成副產物之例如含單矽烷之氣體混合物
Q 此處所示之實施例含有:兩個重疊之階段(或區)1, 2,用以處理一聚合體膜3之表面;一吸氣總成4,置於該 上方處理階段2之下;以及一第二總成5,用以吸出及用 以移去由該處理所造成之該氣體之流出物,該第二總成係 置於該第一處理階段1之下。 該整個系統係包含於一覆蓋6之內部,該膜經由留在 該吸氣總成5分別與個別之導輥21及導輥19間之該等空 間而進入及離開該系統。 在所示實施例的實例中,各處理或放電階段1,2含有 兩輥電極9,丨1,係以其縱軸爲水平的置放而彼此平行接 近。因此,該等輥9,11形成兩個由一種適合的金屬材料 所作成之電極。至少在它們之一之實例中,它們可覆蓋以 _________〇________ 本紙張尺度適用中國國家標牟(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) -----------1------,玎------線 (請先閱讀背面之注意事項孑%寫本頁) 4253 1 2 Α7 Β7 經濟部智慧財產局_工消費合作杜印製 五、發明説明(〖I ) 一適當之電介質材料。未圖示而本質上已知之機構係配置 以施加一高電壓(數千伏特)於該等電極9,11以便造成一 放電於它們之間。在此實例中,動力缸12,13係置於各輥 9,11之末端處,使相關連之輥9,11向前或向後移動。 此實施例係僅描述操作該系統之可行方式之一’事實上, 亦可利用固定式輥來操作。 在各對之輥電極9, 1丨上方以一通過它們之平面來定 位的係爲一用以注入一來自氣體室15之氣體混合物之注入 器丨4 ’其中該氣體室15係置於該注入器14(第2圖中參考 數字32)上方,較佳地,注入器及相結合之氣體室15係延 伸在個別之輥9,11之整個長度上。 該等輥9,11係藉該覆蓋6之相對之諸側壁16,17而 支撐在它們的末端處,且可由該膜3來轉動,後者本身係 由一馬達驅動系統(未圖示)予以驅動。 藉由描繪,應指出的是,該系統係一致地,良好地以 藉馬達來驅動之諸輥電極或僅由膜本身來操作(根據上述之 膜及其機械強度之性質)。 在此實例中,兩導輥19,21係置於該第一處理階段1 之下方。一第二對之導輥22,23係置於該第一放電區1上 方,及最後地,兩導輥24,25係安裝於該第二放電區2之 該等輥電極9,11上方" 此處,各導輥(19,21 ’ 22,23等)係由一馬達(未圖示) 來驅動,使得該膜3更易於運行。而且在若干實例中,此 處之該等導輥亦可藉該膜本身來驅動。 ^ 訂—— 線 (請先閱讀背面之注意事項歹4寫本頁) 本紙張尺度適坷中國國家標芈(CNS ) A4規格(2!〇Χ297公釐) 425312 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 五、發明説明() 例如在第1圖中可見到,該膜3經由形成在該輥21與 總成44間之槽(其將於稍後描述)而進入該覆蓋6,然後施 加抵靠著該第一導輥21,然後通過該第一放電階段1之兩 電極9,11之間且從該處起該膜3運行於位在該放電階段 1上方之導輥23,然後施加抵靠著上方階段2之導輥9且 接著抵靠上方之導輥25。其次,該膜藉導輥24送回至導 輥11且接著施加抵靠導輥22,從該處送回該膜至第一階 段之導輥11。在此之後,該膜經由形成在該下方導輥19 與吸氣總成44間之出口槽而移開。 所以,在此含有兩放電區或階段1,2之實施例中,該 膜3接受了藉例如在該兩階段之該等電極9,11間之電暈 放電之放電四次連續狀態之處理。 然而,將理解的是,明顯地對於該裝置含有兩放電階 段1 ’ 2並非絕對地重要,可爲一單一階段1即足以供許多 應用來用。在此一簡化之單一階段型式中,該膜3在送回 至電極間之空間之前,直接通過導輥23到導輥22,其中 在該等電極間之空間,該膜在經由該導輥19而脫出該覆蓋 之前接受第二表面處理。 各室15至少在其諸端之一供應有經由穿過該覆蓋6之 壁之管的氣體混合物。從該室,該氣體混合物進到注入噴 嘴14,此處該注入噴嘴Η —端自該氣體室15連續地延伸 另一端至該等輥電極。該噴嘴14可藉任何對於熟知本項技 術者爲已知的裝置來固定於該室15下方。 此外,極有利的是,此處該氣體注入噴嘴係配置有使 (請先閲讀背面之注意事項‘寫本頁) - -56
I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -· 4 25 3 1 2 at _ B7 五、發明説明(G ) 此噴嘴之部分長度閉塞之機構,以便限制其上氣體混合物 注入之長度。此係因爲當該膜3之寬度小於該輥電極9之 長度時,可接著修整此氣體注入長度爲將處理之該膜3之 寬度。所以,'第2及5圖顯示一形成由一縱向桿34所保持 之輥電極之輥1U,該縱向桿34之兩端係由該覆蓋6之側 壁16,17所支撐’該輥11a之長度則等於將處理之該膜3 的寬度。 爲修整有效之氣體注入長度爲該膜3之寬度,例如在 本實例中,上述機構可包含絞鏈於該噴嘴32之諸板條36 ,各板條配置有一弧形以便閉合該噴嘴32之注入槽,以及 配置有諸操作鉤38。後者之上端可鉤於一保持構件之上。 所以,若干板條36可沿著該注入器32而隔開以便調 整其有效之注入長度。 最後,該處理裝置在其於該等導輥19,21之下的下方 部分配置有一單元42(第1及3圖),用以吸出該放電所發 生之氣體流出物及用以吸出由於該膜移動而伴隨於該膜3 之表面處之空氣。該吸氣單元42含有:一總成43,與各 輥19/21結合;以及一中間總成44,插置於該總成43與輥 (19,21)之間。各中間總成44均具有:一下側面45,該下 側面45承載於該總成43之末端且可爲平面式:以及一凹 狀上側面46,該上側面46形成一與相關輥(19,21)之圓柱 表面結合之圓柱部分。一適當之縫隙e(第3圖)配置於該輥 19,21之表面與圓柱表面46之間,被保持施加來抵靠個 別輥19,21之表面之該膜3則通過此縫隙。 ----^-------^------ir------線 (請先閱讀背面之注意事項.r‘寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標芈(CNS ) A4规格(210X297公釐) 425 3 1 2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_ 五、發明説明(瓜) 一用以吸出該處理所發生之氣體流出物及用以吸出由 於該膜運行移動所伴隨之空氣之各槽47,48係作成於各總 成44之中,此槽47,48出現於該總成43之中。該兩槽47 ,48分別地置放相對於該等輥21及19。 因此,可吸出該空氣及氣體流出物進入該總成43,該 總成43係連接於吸氣及抽取風扇(未圖示)。 關於用以注入該氣體混合物之機構,較佳地,將是獲 得一均勻之氣體混合物之擴散於該注入器之整個長度上, 例如,藉產生一頭部之漏失於該室與該噴嘴之間,例如, 藉使用多孔體或一適當之紡織物。 雖然本發明已就有關諸特殊之實施例予以描述,但並 非因而受限於任何方式中,而是相反地,易於接受對於該 等熟習於本項技術者而言爲明顯的修飾及變化。 所以,例如爲求圖式及本文之淸晰起見,最特別地, 雖然第1圖描述一垂直安排之放電區且因此該膜透過該空 間而移動,但可想像的是,任何其他之放電區之安排(垂 直,水平或混合安排)係可想像到的,整個安排係在於提 供該等導輥須用以將欲處理之基板帶進放電區或諸區之內 ,且因而特別地,當該裝置含有若干放電區時,會傳送該 基板於各放電區之間。 同樣地,雖然將執行兩處理間之操作並未詳細地描述 於上文中,但可視爲例如在開啓上述之覆蓋及在根據使用 於該處理之氛圍之種類之前,係有利於執行一利用惰性氣 體之淸淨,如習知之情況,該淸淨/吸氣組合確保符合於 _______17 __ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) I ! . I 私衣 訂"~ ^ (請先閱讀背面之注意事項-"4·寫本頁)
Ir^ 425 A7 B7 五、發明説明(i5 ) 一般所建議之安全條件。 主要元件之對照表 經濟部智慧財產局員工消脅合作社印製 1 處理階段 2 處理階段 3 聚合體膜' 5 吸氣總成 6 覆蓋 9 輥電極 11 輥電極 12 動力缸 13 動力缸 14 注入器噴嘴 15 氣體室 16 側壁 17 側壁 19 導輥 21 導輥 22 導輥 23 導輥 24 導輥 25 導輥 32 噴嘴 34 縱向桿 ' 36 板條 38 操作鉤 42 吸氣單元 43 總成 44 中間總成 45 下側面 46 上側面 47 槽 48 槽 ---------装------II------0 (請先閲讀背面之注意事項 嚷寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. 425312
    、申請專利範圍 _種用於藉氣體混合物中二電極間所產生放電之 二:盔觀(i)表面處理的製程’該氣體混合物係易於在-等 雷極7:^ ^或接近於大氣壓力之壓力處產生可澱積於該等 來產物’其中該魏極之―⑼顯該基板可施加 〜機構係被配置用以注入該氣體混合物於該 'ί睡Ϊ其中使用至少—階段⑴以用於處理該基板⑶ 注二含有至少〜對之輥電極(9,⑴,及-用以 板之‘理二口物於該等輥間之注入器(32),且其中該基 一…一银、下列方式來執行:藉施加該基板抵靠該對之 極使該基板第—次連續地通過該雨輥電極之間 &該難料—第〜麵_,以及接著藉施加該 —反③該對;第:輕電極使該基板第二過該兩輥 電極之間’在該賴基板接受—第二麵處理。 2‘如申請__第1項之製程,其中將處理之該基 板之寬度至少_贿等電極間之賴之長度,在該處會 觀察到放電之存在及^於產生副產物之該氣體混合物之存 在的組合。 3.如申請翻細第1或2項之麵,其顿使用諸 導輥(19,21,22 , 23),所使用之諸導輥之數目係至少足以 使該第一及第二表面處理以下列之方式來執行; 一該基板係施加抵靠於一第一對之導輥(19,21)之一 第一導輥(21),且接著藉施加基板抵靠一對之一第一輥電 極(9)而通過於該兩輥電極(9,丨1)之間,在該處該基板接受 該第一表面處理; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (諝先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·-------訂---------線I I _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 領 C3 D8六、申請專利範圍 -接著’該基板在施加抵靠一第二對導輕(22,23)之 —第二導輥(22)之前’施加該基板抵靠該第二對導輥(22, 23)之一第一導輥(23); -然後,在施加該基板抵靠該第一對之導輥(19,21) 之該第二導輥(19)之前,藉施加該基板抵靠該對之兩輥電 極(9,11)之該第二輕電極(1丨)而再次通過該兩親電極(9, 11)之間,在該處該基板接受該第二表面處理。 4.如申請專利範圍第1或2項之製程,其中係使用供 處理該基板(3)用之兩階段(1,2),且其中兩額外之基板表 面處理係在該第二處理階段(2)以下列方式執行於該基板之 該第一表面處理與該基板之該第二表面處理之間: -在已進行該第一表面處理之後及進行該第二表面處 理之前,藉施加該基板抵靠該第二階段之一第一輥電極(9) ’使該基板第一次通過該第二階段之該兩輥電極(9,11)之 間’在該處該基板接受一第一額外之表面處理;以及 -之後,藉施加該基板抵靠該第二階段之該第二輥電 極(11),使該基板第二次通過該第二階段之該兩輥電極(9, 11)之間,在該處該基板接受一第二額外之表面處理。 5·如申請專利範圍第1或2項之製程,其中該至少一 對之該等電極之至少之一電極的長度係修整爲將處理之該 基板之寬度。 6,如申請專利範圍第1或2項之製程,其中該氣體混 合物係注入於該至少一對之該兩輥電極之間,遍及於大致 地相等於將處理之基板之寬度的注入長度之上。 2 425312 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --- -----訂·ι 丨 -----· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 425312 § D8 六、申請專利範圍 7. —種用於藉氣體混合物中二電極間所產生放電t胃 行基板(3)表面處理的裝置,該氣體混合物係易於產生可灘 積於該等電極上之副產物,在此裝置中該等電極之一(9)係' 爲該基板可施加來抵靠之輥,一機構係被配置用以注 氣體混合物於該等電極之間,其中該第二電極係該運行 板可同時施加來抵靠之一輥(11),該輥(11)係安排以—胃 之縫隙來平行於另一輥(9),藉此,該裝置包含具有胃 該基板抵靠一第一輥電極(9)第一次通過該兩輥電極(9 ^ U) 之間而在該處接受一第一表面處理,以及接著藉施力 板抵靠該第二輥電極(11),使該基板第二次通過該兩 極(9,11)之間,在該處該基板可接受一第二表面處理之# 力的機構。 8. 如申請專利範圍第7項之裝置,尙含有一凄藎(6^ r\ \ 具有至少一用以處理該基板(3)之一階段(1),各階段(1 ’ 含有一對之輥電極(9,11),以及用以注入一氣體混合物於 該等輥電極之間的裝置(32)。 9. 如申請專利範圍第7或8項之裝置,尙含有至少® 對之導輥(19,21,22,23),該裝置之導輥對之數目係至少 足以使各對之輥電極之有一對導輥。 10. 如申請專利範圍貝之裝置,其中用以注入 該氣體混合物之裝置含各對輥電極(9,11)之氣體 注入噴嘴(32),連續地自ϋ相關之輥電極(9,U)之至少 之一電極(9)之一端延伸至另一端。 11. 如申請專利範圍第10項之裝置,其中該氣體注入 — IIIIJIH ~ · — 111 11111' — — — — —丨 II " (請先閱讀背面之注意事頊再填寫本貢) 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(2〖〇 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Afi - 4 25 3 1 2 bs D8 —- -—- — - 一 六、申請專利範圍 噴嘴(32)係配置有用以閉塞該噴嘴之部分長度之機構,以 限制該氣體混合物於其上之注入長度,且若需要時,允許 該長度可修整爲一或其他該等電極之長度。 12. 如申請專利範圍第丨1項之裝置,其中該閉塞機構 含有諸板條(36),橫向地絞鏈於該噴嘴(32),各板條配置有 一弧形末端,適合用以封合該噴嘴之注入槽,以及配置有 諸如鉤之操作機構。 13. 如申請專利範圍第7或項之裝置,其中該等電極 或各對之電極之至少之一電極的長度係等於將處理之該基 板之寬度。 14. 如申請專利範圍第7或L項之裝置,尙含有一吸氣 單元(42),用以吸出該放電所發生之氣體流出物及用以吸 出由於該基板之運行移動由該基板所夾帶之空氣。 15. 如申請專利範圍第14項之裝置,其中該吸氣單元 係置於該等輥電極(9,11)下方所配置之一對導輥(丨9,21) 之下。 16. 如申請專利範圍第15項之裝置,其中該吸氣單元 (42)含有一與該對之各導輥(19,21)相結合之系統,該系統 含有一吸氣總成(43)及一中間總成(44),該中間總成(44)插 置於該吸氣總成與上述該導輥之間且該系統具有一凹狀表 面(46),該凹狀表面(46),該凹狀表面(46)與該導輥(19,21) 之該圓柱表面結合,在該等表面之間具有一適當之縫隙(e) ,且其中具有一槽(47,48)配置於各總成(44)之中,用以吸 出流動於該輥與該中間總成之表面之間的氣體氛圍,此槽 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21ϋ X 297公爱) ------------n--裝--- (請先閲讀背面之注意事項再填窵本黃> . 425312 § DS 六、申請專利範圍 露出於該吸氣總成(43)之中。 (請先閱讀背面之注t事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公S )
TW087118032A 1997-11-05 1998-10-30 Process and device for the surface treatment of a substrate by an electrical discharge between two electrodes in a gas mixture TW425312B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9713910A FR2770425B1 (fr) 1997-11-05 1997-11-05 Procede et dispositif pour le traitement de surface d'un substrat par decharge electrique entre deux electrodes dans un melange gazeux

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW425312B true TW425312B (en) 2001-03-11

Family

ID=9513060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087118032A TW425312B (en) 1997-11-05 1998-10-30 Process and device for the surface treatment of a substrate by an electrical discharge between two electrodes in a gas mixture

Country Status (15)

Country Link
US (1) US6312767B2 (zh)
EP (1) EP0914876B1 (zh)
JP (1) JPH11221519A (zh)
KR (1) KR19990044989A (zh)
CN (1) CN1216729A (zh)
AR (1) AR017567A1 (zh)
AT (1) ATE206642T1 (zh)
AU (1) AU730583B2 (zh)
BR (1) BR9804566A (zh)
CA (1) CA2253082A1 (zh)
DE (1) DE69801972T2 (zh)
FR (1) FR2770425B1 (zh)
NZ (1) NZ332508A (zh)
TW (1) TW425312B (zh)
ZA (1) ZA9810064B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010088089A (ko) * 2000-03-10 2001-09-26 구자홍 플라즈마 중합처리 시스템의 친수성 향상 방법
US8948059B2 (en) 2000-12-26 2015-02-03 Polycom, Inc. Conference endpoint controlling audio volume of a remote device
US7864938B2 (en) * 2000-12-26 2011-01-04 Polycom, Inc. Speakerphone transmitting URL information to a remote device
US9001702B2 (en) * 2000-12-26 2015-04-07 Polycom, Inc. Speakerphone using a secure audio connection to initiate a second secure connection
US8976712B2 (en) * 2001-05-10 2015-03-10 Polycom, Inc. Speakerphone and conference bridge which request and perform polling operations
US7787605B2 (en) 2001-12-31 2010-08-31 Polycom, Inc. Conference bridge which decodes and responds to control information embedded in audio information
US8705719B2 (en) 2001-12-31 2014-04-22 Polycom, Inc. Speakerphone and conference bridge which receive and provide participant monitoring information
US8126029B2 (en) * 2005-06-08 2012-02-28 Polycom, Inc. Voice interference correction for mixed voice and spread spectrum data signaling
DE102005029360B4 (de) * 2005-06-24 2011-11-10 Softal Corona & Plasma Gmbh Zwei Verfahren zur kontinuierlichen Atmosphärendruck Plasmabehandlung von Werkstücken, insbesondere Materialplatten oder -bahnen
US7666766B2 (en) * 2005-09-27 2010-02-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film formation apparatus, method for forming film, and method for manufacturing photoelectric conversion device
DE102009006484A1 (de) 2009-01-28 2010-07-29 Ahlbrandt System Gmbh Vorrichtung zum Modifizieren der Oberflächen von Bahn-, Platten- und Bogenware mit einer Einrichtung zur Erzeugung eines Plasmas
DE102009048824A1 (de) 2009-10-09 2011-04-28 Linde Ag Vorrichtung zur Strahlungshärtung von Werkstücken
JP5649510B2 (ja) * 2010-08-19 2015-01-07 キヤノンアネルバ株式会社 プラズマ処理装置,成膜方法,dlc皮膜を有する金属板の製造方法,セパレータの製造方法
WO2014100586A1 (en) * 2012-12-20 2014-06-26 Teijin Aramid B.V. Vibrational spreader bar for spreading unidirectional yarns
CN104210227B (zh) * 2013-06-05 2017-12-08 广东隆兴包装实业有限公司 平面印盖机的电晕装置
JP6183870B1 (ja) * 2016-05-31 2017-08-23 春日電機株式会社 表面改質装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1100939B (de) * 1956-11-02 1961-03-02 Siemens Ag Einrichtung zum Oberflaechenbehandeln von thermoplastischen Stoffbahnen
US3068510A (en) * 1959-12-14 1962-12-18 Radiation Res Corp Polymerizing method and apparatus
DE1571132A1 (de) * 1962-11-07 1970-04-02 Radiation Res Corp Verfahren und Einrichtung zur Herstellung eines polymerisierten UEberzugs
GB1100414A (en) * 1964-05-19 1968-01-24 Ici Ltd Treatment of plastics surfaces with an electrical discharge to improve their bonding properties
US3443980A (en) * 1966-04-15 1969-05-13 Du Pont Process of producing laminar film structures
US3482092A (en) * 1967-04-27 1969-12-02 Du Pont Rotating turret electrode holder
DE1753895A1 (de) * 1968-06-07 1976-09-23 Klaus Kalwar Verfahren und geraet zum elektrischen behandeln der aussenflaeche einer schlauchfolie
DE1779400C3 (de) * 1968-08-07 1978-04-13 Klaus 4803 Steinhagen Kalwar Elektrodenanordnung zur mehrseitigen elektrischen Vorbehandlung von Folienbahnen
US3674667A (en) * 1969-07-23 1972-07-04 Allis Chalmers Mfg Co Process for increasing water repellency of cotton cloth
US3730753A (en) * 1971-07-30 1973-05-01 Eastman Kodak Co Method for treating a web
US3959104A (en) * 1974-09-30 1976-05-25 Surface Activation Corporation Electrode structure for generating electrical discharge plasma
DE3115958C2 (de) * 1981-04-22 1983-12-29 Hahne, Ernst August, 4123 Allschwill "Verfahren zum Anfeuchten eines flexiblen bahnförmigen und mit einer durch Trocknung verfestigten Beschichtung versehenen Trägermaterials
JPS57187328A (en) * 1981-05-13 1982-11-18 Toray Ind Inc Surface treatment of plastic film
US4466258A (en) * 1982-01-06 1984-08-21 Sando Iron Works Co., Ltd. Apparatus for low-temperature plasma treatment of a textile product
US4457145A (en) * 1983-03-29 1984-07-03 Sando Iron Works Co., Ltd. Apparatus for treating a textile product continuously with the use of low-temperature plasma
US4529664A (en) * 1983-09-20 1985-07-16 Bethlehem Steel Corporation Method of producing improved metal-filled organic coatings and product thereof
DE8327709U1 (de) * 1983-09-27 1984-01-05 Kroos, Liselotte, 8135 Söcking Vorrichtung zum Bearbeiten von folienartigen Schichten mittels einer Funkenentladung
US4678681A (en) * 1984-10-05 1987-07-07 Hiraoka & Co. Ltd. Process for preparation of water-proof sheets
US5296170A (en) * 1988-11-17 1994-03-22 Gunze Ltd. Method for improving the internal surface of seamless tube of multi-layer plastics film laminate
US5053246A (en) * 1990-03-30 1991-10-01 The Goodyear Tire & Rubber Company Process for the surface treatment of polymers for reinforcement-to-rubber adhesion
US5629054A (en) * 1990-11-20 1997-05-13 Canon Kabushiki Kaisha Method for continuously forming a functional deposit film of large area by micro-wave plasma CVD method
DE4117332C2 (de) * 1991-05-31 1995-11-23 Ivanovskij Ni Skij Eksperiment Verfahren zur Behandlung von laufendem Substrat mit Hilfe eines elektrischen Entladungsplasmas und Vorrichtung zu dessen Durchführung
FR2703073B1 (fr) * 1993-03-26 1995-05-05 Lorraine Laminage Procédé et dispositif pour le revêtement en continu d'un matériau métallique en défilement par un dépôt de polymère à gradient de composition, et produit obtenu par ce procédé.
FR2704558B1 (fr) 1993-04-29 1995-06-23 Air Liquide Procede et dispositif pour creer un depot d'oxyde de silicium sur un substrat solide en defilement.
US5792517A (en) * 1996-04-25 1998-08-11 Japan Vilene Company Process for treating the outer-inner surfaces of a porous non-conductor

Also Published As

Publication number Publication date
FR2770425B1 (fr) 1999-12-17
EP0914876A1 (fr) 1999-05-12
JPH11221519A (ja) 1999-08-17
BR9804566A (pt) 1999-12-14
DE69801972D1 (de) 2001-11-15
CN1216729A (zh) 1999-05-19
AU8956398A (en) 2000-06-08
AU730583B2 (en) 2001-03-08
DE69801972T2 (de) 2002-04-11
US20010002288A1 (en) 2001-05-31
US6312767B2 (en) 2001-11-06
ATE206642T1 (de) 2001-10-15
FR2770425A1 (fr) 1999-05-07
EP0914876B1 (fr) 2001-10-10
KR19990044989A (ko) 1999-06-25
AR017567A1 (es) 2001-09-12
ZA9810064B (en) 1999-05-04
CA2253082A1 (fr) 1999-05-05
NZ332508A (en) 2000-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW425312B (en) Process and device for the surface treatment of a substrate by an electrical discharge between two electrodes in a gas mixture
JP3405808B2 (ja) 酸化珪素の沈着物の形成方法及びこれに使用する装置
US9255330B2 (en) Method and device for atmospheric pressure plasma treatment
US9567670B2 (en) Method for high-velocity and atmospheric-pressure atomic layer deposition with substrate and coating head separation distance in the millimeter range
US6806211B2 (en) Device and method for processing substrate
TW541595B (en) Treatment method and apparatus of substrate
US20080026162A1 (en) Radical-enhanced atomic layer deposition system and method
TW418116B (en) Water-repellent coating and coating device
TW347416B (en) Post treatment method for in-situ cleaning
KR101099191B1 (ko) 기상 증착 반응기 및 이를 이용한 박막 형성 방법
JP2011058069A (ja) 成膜方法
CN106795629B (zh) 原子层沉积装置及使用装置处理基板的方法
US20110268891A1 (en) Gas delivery device
US20220270860A1 (en) Spatially controlled plasma
KR20100020919A (ko) 기상 증착 반응기
JP2010141248A (ja) 成膜装置及び成膜方法
CN116648537A (zh) 基材处理系统
CN100523290C (zh) 表面处理方法及装置
JP2009200112A (ja) Iii族元素添加酸化亜鉛の生成方法及び基板
JP4288696B2 (ja) 表面処理装置および表面処理方法
TW260637B (zh)
KR970063393A (ko) 기판처리장치
TW201534747A (zh) 延伸的前驅物氣體注入方法
JPH02119223A (ja) 半導体製造装置
JP2006249470A (ja) プラズマ放電処理装置