CN1216729A - 在混合气体中通过两个电极之间的放电对基体进行表面处理的方法和设备 - Google Patents

在混合气体中通过两个电极之间的放电对基体进行表面处理的方法和设备 Download PDF

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Abstract

一种这样的设备,该设备用于通过在可生成副产品(例如是粉末)的混合气体内的两个电极之间形成的放电来对一运动的基体进行表面处理,所说的副产品则会沉积在前述电极上,在所述设备中,所述电极中的一个是一辊子,基体可贴在该辊子上,提供了这样的装置,它用于使上述辊子和基体旋转并用于将混合气体注入所述电极之间,所述第二电极是一辊子,运动的基体也贴在该辊子上,该辊子按适当的间隙设置成与另一个辊子相平行。

Description

在混合气体中通过两个电极之间的放电 对基体进行表面处理的方法和设备
本发明涉及到在受控的气体环境中通过电极之间的放电对运动的基体进行表面处理的方法和设备，所说的气体环境具体包括一种或多种能形成副产品的复合物，所述副产品会积累和/或沉积在前述放电电极上。
举例来说，所述副产品可以是诸如粉末(例如就硅烷而言)之类的固体或者如就某些碳氢化合物而言是液体或是糊状的(例如形成具有脂肪族链的沉积化合物)。
应该认识到，所述沉积物会累积到电极上并导致电极的变化，更一般地说，会影响系统的操作。
按着所要进行的处理和预定的基体的不同，所述预定混合气体会有很大的不同，一般包括一种惰性运载气体和一种或多种来自还原和氧化气体的化合物，所以，上述混合气体的成份之一是这样类型的气体，它能形成副产品，这些副产品会在例如有硅烷或碳氢化合物的情况那样积累和/或沉积到放电电极上。
本发明的“基体”例如呈片状或薄膜状或者是泡沫产品，按所述材料的不同，该基体可以是或不是连续的。本文所述的基体具体是不导电的基体，它由聚合物材料、“经过编织或未经编织的”纺织材料、纸质材料等构成。
以聚合物薄膜为例，周知通常要对这些聚合物薄膜进行表面处理，以使它们的表面“活化”，也就是说，可以对该表面进行粘合、将信息印到该表面上等等。为了能够进行印刷，油墨必须要与聚合物薄膜的表面相兼容，尽管在开始时一般不是这样并且需要对所述表面进行预处理。
为了进行适当的处理，周知使聚合物薄膜的表面经历电灼处理或用适当化合物的处理或者电晕放电处理。通常，在空气中进行电晕放电处理，这种放电会改变空气中的氮和氧分子，从而形成新的分子(原子团、离子等)，这些分子会与聚合物的表面发生化学反应。
如美国专利US-5576076所述，业已提出了用含有硅烷的混合气体来代替空气。将这种活性的混合气体注入放电区能获得高的处理等级，从而能解决聚合物薄膜转化器所遇到的多种问题。所使用的电极系统不仅有助于(如标准电极那样)形成放电，而且会在放电区内对处理用气体的注入进行控制。
上述能获得适当处理等级的活性混合气体可具有多种成份，这些成份基本上取决于所处理的聚合物薄膜的预定应用。到目前为止，所述混合气体一般包括作为运载气体的氮气、氧化气体和几百ppm的硅烷。
本申请人所做的工作业已证明：当如以上美国专利所述那样执行所说的方法时，也就是说，将含有硅烷和氧化剂的活性混合气体注入放电区内时，就会获得硅石粉，该硅石粉会在整个处理过程中积累在电极上。处理过程中对电极不断增加的污染会阻止按适当的条件实施表面处理超过约一小时的时间，而工业上通常的操作模式是24小时持续式的。
粉未在电极上的积累源于多种现象：
-放电的物理化学性质：这是因为，所形成的硅石粉是因激发了放电而在气相中产生的化学反应的产物。通过改变操作条件(混合气体的成份、放电的电学特征等)，可以改变所形成的粉未数量；
-所形成的粉未因之与电极相接触的方法：这是因为，当在气相中(即便是如上述段落那样以小的最佳数量)形成所述粉未时，如果粉未与电极相接触，就会出现积累。
所以，本发明的目的具体是提供通过阻止副产品(固体和/或液体和/或糊状副产品)积累到电极上而最佳地解决上述技术问题的方法和设备，上述副产品源于在处理环境中放电所引起的化学反应。
本发明适当操作所必需的条件之一是形成这样一种设备，该设备能确保在用于形成放电的电极的整个长度上均匀地注入混合气体。这是因为，对获得聚合薄膜的均匀处理来说，严格的均匀分布是很关键的。
依照本发明，所说的两个电极是辊子，运动的薄膜可贴在这两个辊子上，所述辊子可按适当的间隙设置成彼此平行，从而，可在两个辊式电极之间形成放电。
依照本发明，所述方法可用于在会生成沉积在电极上的副产品的混合气体中通过两个电极之间形成的放电来对运动的基体进行表面处理，其中，所述电极中的一个电极是一辊子，所述基体可贴在该辊子上，提供了这样的装置，它用于将混合气体注入所述电极之间，所说的方法是这样一种方法，在该方法中，使用了至少一个用于对基体进行处理的工作台，每一工作台均包括至少一对辊式电极以及一注入器，该注入器用于将混合气体注入到上述辊子之间，并且，按下述方式对基体进行处理：通过使所述基体贴到第一辊式电极上，使得该基体第一次连续地在两个辊式电极之间经过，在此，基体经历了第一次表面处理，然后，通过使所述基体贴到第二辊式电极上，使得该基体第二次在两个辊式电极之间经过，在此，基体经历了第二次表面处理。
而且，本发明的方法具有一个或多个下列特征：
-所述基体的宽度至少等于电极之间空间的长度，在上述电极之间空间处可以观察到放电和所述混合气体的存在。
-使用了转向辊，所使用的转向辊的数量至少足以按下述方式实现上述第一次和第二次表面处理：
ⅰ)所述基体贴在第一对转向辊的第一转向辊上，然后因贴在第一辊式电极上而在两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第一次表面处理；
j)所述基体在贴在第二对转向辊的第二转向辊上之前贴在该第二对转向辊的第一转向辊上；
k)所述基体在贴在第一对转向辊的第二转向辊上之前因贴在第二辊式电极上而再次在两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第二次表面处理；
-使用了两个用来对所述基体进行处理的工作台，在基体的第一次表面处理与基体的第二次表面处理之间，于第二工作台上按下列方式对所述基体进行两次额外的表面处理：
i)在经历了第一次表面处理之后且在经历第二次表面处理之前，通过使所述基体贴在第二工作台的第一辊式电极上而使该基体第一次在第二工作台的两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第一次额外的表面处理；
j)然后，通过使所述基体贴在第二工作台的第二辊式电极上而使该基体第二次在第二工作台的两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第二次额外的表面处理。
-所述至少一对电极中的至少一个电极的长度与要加以处理的基体的宽度相对应。
-在与要加以处理的基体的宽度基本上相等的注入长度上将混合气体注入到上述至少一对辊式电极的两个辊式电极之间。
正如根据阅读以上内容所理解到的那样，本发明涉及到用于对“运动”表面进行处理的方法这样的领域，从而涉及到称为开放式的因而存在有空气入口的成套设备，所说的表面处理还必须在大气压或接运于大气压的压力下进行。还是因为，应该认识到，在不脱离本发明范围的情况下，可在大气压的数十毫巴甚至在大气压的数百毫巴的压力下进行工作。
本发明还涉及到这样的设备，该设备用于在可生成副产品的混合气体中通过两个电极之间形成的放电来对一运动的基体进行表面处理，所说的副产品会沉积在前述电极上，在上述设备中，所述电极中的一个电极是一辊子，所述基体可贴在该辊子上，提供了这样的装置，它用于将混合气体注入所述电极之间，其中，所述第二电极是一辊子，运动的基体也可贴在该电极上，所述辊子按适当的间隙设置成与另一个辊子相平行，所述设备包括这样的装置，它能通过使基体贴在第一辊式电极上而使得所述基体第一次在两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第一次表面处理，然后，通过使所述基体贴在第二辊式电极上而使得该基体第二次在两个辊式电极之间经过，在此，所述基体经历第二次表面处理。
本发明的设备还可具有一个或多个下列特征：
-所述设备包括一罩盖，该罩盖包括至少一个用于对基体进行处理的工作台，每个工作台均包括一对辊式电极和用于将混合气体注入到上述辊式电极之间的装置；
-所述设备包括至少两对转向辊，所述设备的成对转向辊的数量至少足以使得在各对辊式电极的两侧存在有一对转向辊；
-所述用于注入混合气体的装置包括一用于各对辊式电极的气体注入喷嘴，它从相关辊式电极的至少一个电极的一端连续地延伸至另一端；
-所述气体注入喷嘴配备有这样的装置，它用于遮挡住该喷嘴的部分长度，以便能够调节和限制注入混合气体的长度并例如使该长度与所述电极中的一个电极或另一个电极的长度相对应；
-各对电极中的至少一个电极的长度与要加以处理的基体的宽度相等；
-所述遮挡装置包括在侧面铰接于上述喷嘴的条片，每个条片均配备有一弯曲的端部，它适于盖住上述喷嘴的注入口，并且，每个条片均配备有诸如钩之类的操作装置；
-所述设备包括一抽吸装置，它用于抽出源于放电的废气并用于抽出所述基体因运动而携带的空气；
-所述抽吸装置设置在一对转向辊的下方，而这对转向辊设置在辊式电极的下方；
-所述抽吸装置包括与所述成对转向辊中的各个转向辊相关的系统，该系统包括一抽吸组件和一中间组件，此中间组件设置在上述抽吸组件与所述转向辊之间，并且，所述系统具有一凹面，它与转向辊的柱形表面相配对，这些表面之间存在有适当的间隙，而且，各个组件上均设置有一开口，它用于抽出所述转向辊与中间组件的表面之间的气流，所述开口出现在抽吸组件上。
正如根据阅读上述内容所理解到的那样，所述设备还可包括这样的装置，该装置使前述薄膜适当地经过所述设备，具体地说该装置使前述基体进入放电区并可从放电区中取出，或者，在所述设备具有若干个处理用工作台时在这些工作台之间传送所述基体。
上述传送基体的装置可如非常普通例如在用于对聚合物薄膜的表面进行处理的成套设备中的情况那样是转向辊。
如果所述设备包括两个处理用工作台，则可关闭或开启第二次放电，这就意味着可以处理上述基体两次或四次。这是因为，所述基体可首先经过第一放电工作台，在此，该基体由第一放电区加以处理，然后，在所述薄膜业已在一转向辊上经过之后，该薄膜可经过第二放电工作台，在此，该薄膜由第二放电区加以处理(如果该放电区是开启的话)。在因另一个转向辊而转向之后，所述薄膜第二次经过第二放电区，然后在一转向辊之后再次经过第一放电区。
正如根据阅读上述内容所理解到的那样，一方面，成对电极的两个电极的长度不一定要相等，另一方面，依照本发明，可以选定上述电极中的一个电极或另一个电极与基体之间的尺寸比例。依照本发明，还可以相对要加以处理的基体的尺寸来选择气体注入宽度。
因此，根据对所采用的结构选择，如果处理用混合气体含有在激发放电的情况下会导致副产品形成的气体(如硅烷的情况一样)，则在整个处理期间由基体本身来保护电极，因为，在每个放电区内，所述基体都会盖住电极的所有或部分表面即电极的工作表面，事实上，沉积在电极上的副产品的形成是因为存在有放电和存在有易成生副产品的混合气体。
为了更清楚地简要说明本发明，也就是说，为了更清楚地简要说明运动的基体贴在成对电极的两个彼此相对向的电极上的特征，我们考虑运动基体的给定部分-X-，该部分在单工作台设备中经受处理：所述部分-X-第一次在两个辊式电极之间经过，然后贴在第一辊式电极上，在此，该部分经历第一次表面处理(这时，运动基体的下游部分即沿运动方向位于-X-之前的部分盖住了朝向所述部分的第二电极)，然后，所述部分-X-第二次在两个辊式电极之间经过，从而贴在成对电极的第二辊式电极上，在此，该部分经历第二次表面处理(这时，运动基体的上游部分即沿运动方向位于-X-之后的部分盖住了上述第一电极)。
为了更清楚地说明本发明：
i)如果成对电极中的至少一个电极的长度与所述基体的宽度相对应，就会阻止该电极上有副产品沉积物，因为，该电极被上述基体所盖住，就与所述电极相对向的第二电极而言：
-如果它与第一电极有同样的长度，则该第二电极也会受到保护；
-如果第二电极的长度较长，则该电极当然会在基体的整个宽度上因被盖住而得以保护，相对第一电极而言的额外长度不会受到副产品沉积物的影响，因为，在所说的额外长度上不存在放电；
j)如前所述，还可以使气体注入长度与要加以处理的基体的宽度相对应-不管电极与基体之间的尺寸比例为何，都能阻止所述电极上有副产品的沉积，这是因为：
-可以保护电极被上述基体所盖住的那部分；
-也可以保护电极未被上述基体所盖住(因为选定了较长的长度)的那部分，这是因为，就所说的那部分而言，不存在能导致副产品形成的混合气体。
在任何情况下，按上述方式形成的副产品都会在不积累到电极的情况下被抽吸系统立刻抽出，而所述抽吸系统则罩在前述罩盖和/或运动基体的表面内。在上述条件下，所述系统会一天2 4小时连续地实际进行操作。
根据参照附图所给出的说明可以看出本发明的其它特征和优点，所述附图则以非限制性实例的方式说明了本发明的两个实施例。
图1是本发明用于对聚合物薄膜进行表面处理的设备的一个实施例的简化侧视图；
图2是位于与图1相重直的平面内的上述设备的局部纵剖图，为简化附图，未示出该设备的某件部件；
图3是图1和2的设备的下部部分的局部放大剖面图；
图4是图3细节的局部放大剖面；
图5是辊式电极的第二实施例的简化俯视图。
所述设备可用于在能导致形成副产品的混合气体例如含有单硅烷的混合合体中通过电极之间的放电而对例如聚合物薄膜等基体进行表面处理。
这里示出的实施例包括：两个叠置的工作台(或工作区)1、2，它们用于对聚合物薄膜的表面进行处理；一抽吸组件4，它设置在上部处理用工作台2的下方；以及，一第二组件5，它用于抽出并用于除去源于处理的废气，所述第二组件设置在第一处理用工作台1的下方。
上述整个系统包含在罩盖6内，所述薄膜经由抽吸组件4分别与转向辊21和转向辊19之间的空间进入和离开上述系统。
就所示的实施例而言，各处理或放电工作台1、2均包括两个辊式电极9、11，它们按纵轴水平线设置成彼此平行并且彼此相靠近。所以，这两个辊子9、11会形成两个由适当金属材料构成的电极。就至少其中的一个而言，所述电极上覆盖有适当的绝缘材料。配备有未示出且本身是周知的装置以便向电极9、11加载高电压(数千伏)，从而导致电极间的放电。目前，动力缸12、13设置在各辊子9、11的端部，以便使相关的辊子9、11向前或向后运动。这一实施例仅说明了使上述系统进行操作的可能方式中的一种-事实上也可以用固定辊来使上述系统进行操作。
一注入器14在穿过辊式电极9、11的垂直平面内定位于各对辊式电极的上方，所述注入器用于注入来自气室15混合气体，所述气室设置在注入器14的上方(图2中的标号32)，上述注入器和相关气室15最好在相应辊子9、11的整个长度上延伸。
辊子9、11在端部处由罩盖6的相反的侧壁16、17所支承并且会因薄膜3而旋转，而薄膜3本身则由电机驱动系绕(未示出)所驱动。
举例来说，应该指出，使用由电机驱动或仅由薄膜本身来驱动(取决于所述薄膜及其机械强度性质)的辊式电极，所述系统均能同样良好地进行操作。
目前，第一处理用工作台1的下方设置有两个转向辊19、21。第一放电区1的上方设置有第二对转向辊22、23，最后，有两个转向辊24、25安装在第二放电区2的辊式电极9、11的上方。
每个转向辊(19、21、22、23)等均由一电机(未示出)所驱动，因此，薄膜3会更容易地运动。这里，在某些情况下，也可以用薄膜本身来驱动转向辊。
正如在图1中所看到的那样，薄膜3可经由形成在辊21和组件44之间的开口进入罩盖6，这将在以下予以说明，然后，薄膜3贴到第一转向辊21上，再在第一放电工作台1的两个电极9、11之间经过，薄膜3从这里在位于放电区1上方的转向辊23上经过，此后贴在上部工作台2的辊式电极9上然后贴在上部转向辊25上。然后，所述薄膜被转向辊24送回至辊式电极11随后贴在转向辊22上，所述薄膜从这里被送回至第一工作台的辊式电极11。此后，从形成在下部转向辊19与抽吸组件44之间的出口中取出所说的薄膜。
因此，在包括两个放电区或工作台1、2的实施例中，两个工作台的电极9、11之间的放电例如电晕放电会使薄膜3经历四个连续的处理阶段。
但是，应该认识到，很明显，包括两个放电工作台1、2对所述设备来说并不是绝对关键的，对多数应用来说，有一个工作台1就足够了。在这种简化的单工作台形式中，薄膜3在被送回至电极间的空间之前会直接从转向辊23转移至转向辊22，所述薄膜在经由转向辊19从罩盖中出现之前会于上述电极间的空间内经历第二次表面处理。
经由穿过罩盖6的壁面的导管在各气室15的至少一个端部处把混合气体供给各气室。混合气体会从这一气室进入注入喷嘴14，而喷嘴14则从气室15和辊式电极的一端连续地延伸至另一端。可用本技术的专家所周知任何适当的装置来将喷嘴14固定在气室15的下方。
此外，气体注入喷嘴最好配备有这样的装置，它能遮挡住该喷嘴的一部分长度以便限制注入混合气体的长度。这是因为，当要加以处理的薄膜3的宽度小于辊式电极的9的长度时，可以使气体注入长度与要加以处理的薄膜3的宽度相对应。因此，图2和5示出了辊子11a，它构成了由一纵轴34所支承的辊式电极，而所述纵轴的端部则由罩盖6的侧壁16、17所支承，辊子11a的长度与要加以处理的薄膜3的宽度相同。
为了使有效的气体注入长度与薄膜3的宽度相对应，上述装置可如目前那样例如包括绞接于喷嘴32的条片36，每个条片均配备有弯曲的端部以便封住喷嘴32的注入开口并且配备有操作钩38。该操作钩的上端可钩在一固定件上。
因此，多个条片36可沿注入器32相间隔，以便调节该注入器的有效注入长度。
最后，所述处理设备在其位于转向辊19、21下方的下部部分处配备有这样的装置42(图1和3)，它用于抽出源于放电的废气并用于抽出因薄膜3的位移而存在于该薄膜表面处的空气。抽吸装置42包括与各辊19/21相关的组件43以及中间组件44，它设置在组件43与所述转向辊(19,21)之间。各中间组件44均具有：一下部表面45，此表面支承在组件43的端部并且可以是平面的；一凹进的上部表面46，它构成了与相关辊(19、21)的柱形表面相配对的柱形部分。在辊19、21的表面与柱形表面46之间设置有适当的间隙e(图5)，贴在相应转向辊19、21表面上的薄膜3会经过这个间隙。
在各组件44上形成有相应的开口47、48，它们用于抽出源于所述处理的废气并且用于抽出薄膜因运动而携带的空气，所述开口47、48出现在组件43上。所说的两个开口47、48分别设置在与辊21和19相对向的位置处。
因此，可以抽出进入组件43的空气和废气，组件43与抽吸风扇(未示出)相连。
就用于注入混合气体的装置而言，最好能例如通过如使用有孔的主体或适当的纤维而在所述气室与喷嘴之间形成压力损失，从而使得混合气体均匀地分布在前述注入器的整个长度上。
尽管业已根据特定的实施例说明了本发明，但是，本发明并不受到限制，相反，本发明存在有本技术专家可以看出的改进形式和变化形式。
例如，尽管图1为了附图及正文的清晰性而具体地说明了放电区的垂直结构以及经由所述空间的薄膜的垂直运动，但是，可以想像得出，所述放电区可以有任何其它类型的结构(垂直的、水平的或混合结构)，整个结构应提供使要加以处理的基体进入放电区从而特别是在所述设备包括有若干个放电区时在各放电区之间传送前述基体所必需的转向辊。
与此相似，尽管以上未详细说明两次处理之间所进行的操作，但是，应该认识到，例如，最好在开启上述罩盖结构之前并且根据用于进行处理的环境特征而用惰性气体进行清洗，所述清洗/抽吸的组合能如一般情况那样确保满足通常推荐的安全条件。

Claims (16)

1．一种在混合气体中通过两个电极之间形成的放电来对运动的基体(3)进行表面处理的方法，其处于等于大气压力或接近大气压力下，混合气体可产生能沉积在所述电极上的副产品，其中，所述电极中的一个电极(9)是一辊子，所述基体可贴在该辊子上，提供了用于将混合气体注入所述电极之间的装置，其特征在于：使用了至少一个用于对基体(3)进行处理的工作台(1)，每一工作台(1、2)均包括至少一对辊式电极(9、11)以及一注入器(32)，该注入器用于将混合气体注入上述辊子之间，并且，按下述方式对基体进行处理：通过使所述基体贴到第一辊式电极上，使得该基体第一次连续地在两个辊式电极之间经过，在此，基体经历了第一次表面处理，然后，通过使所述基体贴到第二辊式电极上，使得该基体第二次在两个辊式电极之间经过，在此，基体经历了第二次表面处理。
2．如权利要求1的方法，其特征在于，所述要加以处理的基体的宽度至少等于电极之间空间的长度，在上述电极之间空间处可以观察到放电和所述会生成副产品的混合气体的存在的结合。
3．如权利要求1或2的方法，其特征在于，使用了转向辊(19、21、22、23)，所使用的转向辊的数量至少足以按下述方式实现上述第一次和第二次表面处理：
-所述基体贴在第一对转向辊(19、21)的第一转向辊(21)上，然后因贴在成对辊式电极的第一辊式电极(9)上而在两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历.第一次表面处理；
-然后，所述基体在贴在第二对转向辊(22、23)的第二转向辊(22)上之前贴在该第二对转向辊(22、23)的第一转向辊(23)上；
-所述基体此后在贴在第一对转向辊(19、21)的第二转向辊(19)上之前因贴在成对辊式电极的第二辊式电极(11)上而再次在两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历.第二次表面处理。
4．如前述权利要求之一的方法，其特征在于，使用了两个用来对所述基体(3)进行处理的工作台(1、2)，并且，在基体的第一次表面处理与基体的第二次表面处理之间，于第二工作台(2)上按下列方式对所述基体进行两次额外的表面处理：
-在经历了第一次表面处理之后且在经历第二次表面处理之前，通过使所述基体贴在第二工作台的第一辊式电极(9)上而使该基体第一次在第二工作台的两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历第一次额外的表面处理；
-然后，通过使所述基体贴在第二工作台的第二辊式电极(11)上而使该基体第二次在第二工作台的两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历第二次额外的表面处理。
5．如前述权利要求之一的方法，其特征在于，所述至少一对电极中的至少一个电极的长度与要加以处理的基体的宽度相对应。
6．如前述权利要求之一的方法，其特征在于，在与要加以处理的基体的宽度基本上相等的注入长度上将混合气体注入到上述至少一对辊式电极的两个辊式电极之间。
7．一种这样的设备，该设备用于在可生成副产品的混合气体中通过两个电极之间形成的放电来对一运动的基体(3)进行表面处理，所说的副产品则会沉积在前述电极上，在上述设备中，所述电极中的一个电极(9)是一辊子，所述基体可贴在该辊子上，提供了这样的装置，它用于将混合气体注入所述电极之间，其中，所述第二电极是一辊子(11)，运动的基体也可贴在该电极上，辊子(11)按适当的间隙设置成与另一个辊子(9)相平行，所述设备包括这样的装置(19、21、22、23)，它能通过使所述基体贴在第一辊式电极(9)上而使得该基体第一次在两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历第一次表面处理，然后，通过使所述基体贴在第二辊式电极(11)上而使得该基体第二次在两个辊式电极(9、11)之间经过，在此，所述基体经历第二次表面处理。
8．如权利要求7的设备，其特征在于，所述设备包括一罩盖(6)，该罩盖包括至少一个用于对基体(3)进行处理的工作台(1)，每个工作台(1、2)均包括一对辊式电极(9、11)和用于将混合气体注入到上述辊式电极之间的装置(32)。
9．如权利要求7或8的设备，其特征在于，所述设备包括至少两对转向辊(19、21、22、23)，所述设备的成对转向辊的数量至少足以使得在各对辊式电极的两侧存在有一对转向辊。
10．如权利要求7至9中的一个的设备，其特征在于，所述用于注入混合气体的装置包括一用于各对辊式电极(9、11)的气体注入喷嘴(32)，它从相关辊式电极(9、11)的至少一个电极(9)的一端连续地延伸至另一端。
11．如权利要求10的设备，其特征在于，所述气体注入喷嘴(32)配备有这样的装置，它用于遮挡住该喷嘴的部分长度，以便能够限制注入混合气体的长度从而在需要的情况下使该长度与所述电极中的一个电极或另一个电极的长度相对应。
12．如权利要求11的设备，其特征在于，所述遮挡装置包括在侧面铰接于上述喷嘴(32)的条片(36)，每个条片均配备有一弯曲的端部，它适于盖住上述喷嘴的注入口，并且，每个条片均配备有诸如钩之类的操作装置。
13．如权利要求7至12中任何一个的设备，其特征在于，各对电极中的至少一个电极的长度与要加以处理的基体的宽度相等。
14．如权利要求7至13中的任何一个的设备，其特征在于，所述设备包括一抽吸装置(42)，它用于抽出源于放电的废气并用于抽出所述基体因运动而携带的空气。
15．如权利要求14的设备，其特征在于，所述抽吸装置设置在一对转向辊(19、21)的下方，而这对转向辊(19、21)则设置在辊式电极(9、11)的下方。
16．如权利要求15的设备，其特征在于，所述抽吸装置(42)包括与所述成对转向辊中的各个转向辊(19、21)相关的系统，该系统包括一抽吸组件(43)和一中间组件(44)，此中间组件设置在上述抽吸组件与所述转向辊之间，并且，所述系统具有一凹面(46)，它与转向辊(19、21)的柱形表面相配对，这些表面之间存在有适当的间隙(e)，而且，各个组件(44)上均设置有一开口(47、48)，它用于抽出所述转向辊与中间组件的表面之间的气流，所述开口出现在抽吸组件(43)上。
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