TW420846B - Substrate drying method and device - Google Patents

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- '! %*. 經濟部智惡財產局员工消費合作社印製 A7 __B7____五、發明説明（1 ) (技術領域） 本發明有關於基板乾燥方法及其裝置。再詳細的說， 將使用洗淨液所洗淨之基板迅速的乾燥之方法及其裝置。 * · (背景技術） 從來使用洗淨液而洗淨基板（例如半導體晶片）之後 ，將洗淨液.之液面對於基板而相對的一面下降、一面供給 乾燥用流體蒸氣（例如異丙醇（下面稱I P A )蒸氣）以 供乾燥基板之裝置有例如曰本專利公報特公平6 - 103686號公報所揭示者。 採用此裝置時，以洗淨液而將收容於處理槽內之複數 片之基板予以洗淨後，一面使洗淨液之液面下降，一面對 於處理槽內導入乾燥用流體蒸氣，由而在洗淨液之液面上 製作很薄之乾燥用流體之液層，利用馬蘭戈尼效能（ marangonil effect )(即利用界面張力引起之界面運動）由 而迅速的可以使基板之表面乾燥也。 採用特公平6 - 1 0 3 6 8 6號公報所揭示之構成之 裝置時，爲了在處理槽內形成乾燥用蒸氣之流動起見，不 但需設置用於導入乾燥用蒸氣之導.入流路’也需要設備用 _» 於排出乾燥用蒸氣之放逸閥（排氣口）’因此不但構成會 趨向複雜化，同時具有乾燥用蒸氣之漏出於工場內之危險 性。 再者適用於半導體晶片之乾燥時’近年來半導體晶片 有大型化之趨勢’同時爲了使问時處理之半導體晶片之數 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210Χ297公釐^ (請先閱讀背面之注項再填寫本頁) ο二 _B7_ 五、發明説明（2 ) <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 目而被要求縮小晶片間之間隙|惟這種情形時，乾燥用蒸 氣不容易侵入於半導體晶片間之間隙，嚴重時會在半導體 晶片上發生乾燥之不均勻之不合宜之情形。 本發明乃鑑於上述各問題所開發，提供一種可以省略 排氣設備，或將排氣設備予以簡化，並且很順暢的可以實 施乾燥用流體之供給之基板乾燥方法，以及基板乾燥裝置 爲目的。. (發明之揭示） 申請專利範圍第1項之基板乾燥方法乃主要係在處理 槽內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基 板而相對的下降，一面對處理槽內供給乾燥甩流體，以資 使基板之表面乾燥時， 以液之狀態的將乾燥用流體導入於處理槽內，使用噴 咀噴霧於洗淨液面上之方法者。 申請專利範圍第2項之基板乾燥方法乃爲了使乾燥用 流體霧化起見•實施惰性氣體之吹噴之方法。 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 申請專利範圍第3項所述之基板乾燥方法乃以間歇的 實施該乾燥用流體之導入於處理槽之方法者。 •. 申請專利範圍第4項之基板乾燥裝置乃主要係在處理 槽內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基 板而相對的下降，一面對處理槽內供給乾燥用流體，以資 使基板之表面乾燥者。含有：以液之狀態的將乾燥用流體 導入於處理槽內，使用噴咀噴霧於洗淨液面上之乾燥用流 -5- 本紙浪尺度通用中國國家樣準（CNS > A4規格（210X297公釐） A7 _B7_ 五、發明説明（3 ) 體供給機構者。 申請專利範圍第5項之基板乾燥裝置乃再含有：接近 (請先閧讀背面之注意事項再填寫本頁) 於上述乾燥用流體供給機構，爲了使乾燥用流體霧化而實 施惰性氣體之噴吹之噴吹機構者。 * * 申請專利範圍第6項之基板乾燥裝置乃再含有，用於 控制間歇的實施乾燥用流體之導入於處理槽之乾燥用流體 供給機構之.控制機構者》 申請專利範圍第7項之基板乾燥方法乃主要係在處理 槽內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基 板而相對的下降，一面對於處理槽內供給乾燥用流體，以 資使基板（1)之表面乾燥時， 使用載體氣體而將液狀之乾燥用流體運送至噴咀之噴 出孔 '而從噴嘴之噴出孔朝向洗淨液面上面，同時的噴出 乾燥用流體及載體氣體之方法者。 申請專利範圍第8項之基板乾燥裝置乃主要係在處理 槽內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基 板而相對的下降，一面對於處理槽內供給乾燥用流體，以 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 資使基板之表面乾燥者，含有：使用載體氣體而將液狀之 乾燥用流體運送至噴咀之噴出孔，而從噴咀之噴出孔朝向 •» 洗淨液面上面，同時的噴出乾燥用流體及載體流體之乾燥 用流體供給機構者。 申請專利範圍第9項之基板乾燥裝置乃在於爲了將載 體氣體供給於噴咀之第1供給管路之中途部，連通了液狀 之乾燥用流體用之第2供給管路者。 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（4 ) 如申請專利範圍第1〇項之基板乾燥裝置乃該將載體 氣體供給於噴嘴用之第1供給管路，及將液狀之乾燥用流 體供給於噴嘴用之第2供給管路係互相獨立的予以設置者 0 ♦ · 依申請專利範圍第1項之基板乾燥方法時係在處理槽 內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基板 而相對的下.降，一面對處理槽內供給乾燥用流體，以資使 .基板之表面乾燥時以液之狀態的將乾燥用流體導入於處理 槽內，使用噴咀噴霧於洗淨液面上者。所以受液狀之乾燥 用流體之自重之影響，很順暢的可以將乾燥用流體導入於 基板與基板間之間隙，與以蒸氣的供給時相比較時可以供 給高濃度之乾燥用流體，因此馬蘭戈尼效應更大，在洗淨 液面上製作了乾燥用流體之液層，於是可達成利用了馬蘭 戈尼效應之迅速且斑紋（不均勻）之顯著的少之乾燥。同 時以液相之狀態的供給了乾燥用流體，所以乾燥用流體之 全部或幾乎全部均能與洗淨液一齊排出，幾乎可消除乾燥 用流體之漏出之虞。可省略排氣設備，或可以簡化排氣設 備，引而可以達成降低成本。 依申請專利範圍第2項之基板乾燥方法時，由於爲了 吏乾燥用流體霧化而實施了惰性氣體之吹噴，所以可防止 所噴霧之液狀之乾燥用流體之液滴之過於變大之不合宜之 情形之外，也可達成申請專利範圍第1項同樣之作用。 依申請專利範圍第3項之基板乾燥方法時，由於以間 歇的實施該乾燥用流體之導入於處理槽，所以除了可抑制 本紙張尺度速用中國國家揉準（CNS ) Α4规格（2丨0X297公釐） ---------------1T------岣.1 (請先Η讀背面之注意事項再填寫本瓦) ε Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消免合作社印製 五、發明説明（5 ) 以液狀的導入乾燥用流體所隨伴之消費量之增加，而且也 可以達成申請專利範圍第1項或第2項之同樣之作用》 依申請專利範圍第4項之基板乾燥裝置時•係在處理 槽內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對於基 * # 板而相對的下降，一面對處理槽（3 )內供給乾燥用流體 ，以資使基板之表面乾燥時|藉由乾燥用流體給機構，以 液之狀態的將乾燥用流體導入於處理槽內，使用噴咀噴霧 於洗淨液面者。 所以受液狀之乾燥用流體之自重之影響，很順暢的可 以將乾燥用流體導入於基板與基板之間，所以與以蒸氣的 供給時相比較時，可以供給高濃度之乾燥用流體，因此馬 蘭戈尼效應更大|在洗淨液面上製作了乾燥用流體之液層 ，可以達成利用了馬蘭戈尼效應之迅速且斑紋（不均勻） 之顯著的少之乾燥。同時以液相之狀態的供給乾燥用流體 ，因此可以使乾燥用流體之幾乎全部或全部均能與洗淨液 一齊排出，幾乎可消除乾燥用流體之漏出之虞。可省略排 氣設備 > 或可以簡化排氣設備，進而可以達成降低成本。 依申請專利範圍第5項之基板乾燥裝置時再含有：接 近於上述乾燥用流體供給機構，爲了使乾燥用流體霧化而 • * 實施惰性氣體之噴吹之噴吹機構者。所以可以防止所噴霧 之液狀之乾燥用流體之液滴之過份的變大之不合宜之情形 ，可達成基板之良好之基板，又可以達成如申請專利範圍 第4項之同樣之效果。 依申請專利範圍第6項之基板乾燥裝置時再含有，用 (請先聞讀背面之注意^項再填寫本頁) -訂 本紙張尺度逋用中囷S家標準（CNS ) Α4現格（210X297公釐） -8 -

(V 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 n p z? . 6 1 ^ A7 __B7______五、發明説明（6 ) 於控制間歇的實施乾燥用流體之導入於處理槽之乾燥用流 體供給機構之控制機構者。所以除了可以抑制以液之狀態 地導入乾燥用流體時所隨伴之消費量之增加之外，同時可 達成與申請專利範圍第4項或第5項之同樣之作用。 * * 依申請專利範圍第7項之基板乾燥方法時係在處理槽 內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面_面對於基板 而相對的下.降，一面對於處理槽內供給乾燥用流體，以資 使基板之表面乾燥時使用載體氣體而將液狀之乾燥用流體 運送至噴咀之噴出孔，而從噴嘴之噴出孔朝向洗淨液面上 面，同時的噴出乾燥用流體及載體氣體者。所以受液狀之 乾燥用流體之自重之影響，將乾燥用流體順暢的導人於基 板與基板間之間隙。與以蒸氣的供給時相比較時，可以供 給高濃度之乾燥用流體，因此馬蘭戈尼效應更大，在洗淨 液面上製作了乾燥用流體之液層，於是可達成利用了馬蘭 戈尼效應之迅速且斑紋（不均勻）之顯著的少之乾燥》再 者以液相之狀態的供給乾燥用流體，所以乾燥用流體之全 部或幾乎全部均能與洗淨液一齊排出，幾乎可消除乾燥用 流體之漏出之虞，可省略排氣設備，或可以簡化排氣設備 ，引而可以達成降低成本。再者，可抑制從噴咀之噴出孔 之乾燥用流體之噴出量，可以將適當量之乾燥用流體供給 於基板之浸漬界面，於是可以減少乾燥用流體之使用量， 於是可以降低運轉成本也· ' 依申請專利範圍第8項之基板乾燥裝置時係在處理槽 (3 )內收容基板，且使處理槽內之洗淨液之液面一面對 ---------------訂------Ms (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -9 -

P 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 ^ A7 B7五、發明説明7() 於基板而相對的下降，一面對於處理槽內供給乾燥用流體 ，以資使基板（1 )之表面乾燥時，藉由乾燥用流體供給 機構，使用載體氣體而將液狀之乾燥用流體運送至噴咀之 噴出孔，而從噴咀之噴出孔朝向洗淨液面上面，同時的可 * * 以使乾燥用流體及載體流體噴出者。 所以受.液狀之乾燥用流體之自重的影響，使乾燥用流 體順暢的導入於基板與基板之間，可以供給較以蒸氣之供 給做比較時更能供給高濃度之乾燥用流體，因此馬蘭戈尼 效應更大，在洗淨液面上製作乾燥用流體之液層，利用馬 蘭戈尼效應，而可達成迅速且斑紋之顯著的少之乾燥。又 以液相之狀態來供給乾燥用流體，所以乾燥用流體之全部 或幾乎全部得與洗淨液一齊排出。所以幾乎可以消失乾燥 用流體之漏出之虞，而可以將排出設備簡化，引而降低成 本。 再者也可以抑制從噴咀噴出孔之乾燥用流體之噴出量 ，對於基扳之浸漬界面可以供給適宜量之乾燥用流體，引 而可減少乾燥用流體之使用量、減低運轉成本也。 依申請專利範圍第9項之基板乾燥裝置時在於爲了將 載體氣體供給於噴咀之第1供給管路之中途部，連薄了液 狀之乾燥用流體用之第2供給管路者。所以可以使由各噴 出孔噴出之乾燥用流體之噴出量適宜化減低消費量而達成 降低成本，同時也可達成申請專利範圍第8項同樣之作用 〇 依申請專利範圍第10項之基板乾燥裝置時該將載體 111 - 11 n I n It n I ^ I n *1 n n n . (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐> -10- 經 濟 4ft. 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 最佳之形態） 圖，說明本發明之基板乾燥方法及其裝置 示本發明之基板乾燥裝置之一實施態樣之 裝置乃具有， 板1之洗淨液 狀之乾燥用流 有用於噴霧乾 配設於較基板 基板乾燥裝置 板1之處理槽 之基板1，同時 )2之處理槽3 P A )之供給管 噴霧噴咀5。當 收容複數片 (例如純水 體（例如I 燥用流體之 1之上方。 之作用如下 3內收容洗 面使洗淨液 用流體，以 用流體之液 片之基板1 尼效應而迅 淨液2、洗淨基 2之液面下降， 噴霧噴咀5實施 •. 層會形成於洗淨 中之由洗淨液2 速且均勻的使之 Α7 ______Β7_ 五、發明说明8() 氣體供給於噴嘴用之第1供給管路，及將液狀之乾燥用流 體供給於噴嘴用之第2供給管路係互相獨立的予以設置。 所以在噴咀內得以載體氣體而將液狀之乾燥用流體引導至 導出孔之外也可達成申請專利範圍第8項同樣之作用也。 (爲實施發明之 下面參照附 之實施之態樣。 第1圖係表 槪略斜視圖 此基板乾燥 排出洗淨這些基 。並且在供給液 路4之終端部備 然噴霧噴咀5係 上述構成之 在收容了基 板1之後，排出洗淨液2而一 一面經過供給管路4供給乾燥 噴霧。由此結果所噴霧之乾燥 液2之表面，所以可以令複數 之液面露出之部份藉由馬蘭戈 乾燥 又複數片之基板1之某一程度之部份之據位於洗淨液 ---------^------ΐτ------ {请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） .-J | , A7 B7 五、發明説明9() (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2之液面之上方之位置之情形時，由噴霧噴咀5所噴霧之 霧狀之乾燥用流體乃，藉其自重之作用順暢的侵入於基板 1與基板1之間隙，在這些部份也有被噴霧之乾燥用流體 之液層形成於洗淨液2之表面，在這些部份上’也是將所 噴霧之乾燥用流體之液層形成於洗淨液2之表面，以資繼 續實施由馬蘭戈尼效應所致之迅速且均勻之乾燥也。 在實施上述之一連串之乾燥處理之間，以液相狀態所 供給之乾燥用流體之大部份乃與洗淨液一齊排出於處理槽 3之外部，所以幾乎沒有乾燥用流體之漏出於處理槽3之 周緣部之虞，因此可以省略爲了排出乾燥用流體用之排氣 設備，或可以簡化排氣設備，由而可達成降低成本。 第2圖係表示噴霧噴咀之構成之其他例之槪略縱斷面 圖。 本噴霧噴咀5乃由吐出惰性氣體（例如氮氣）之情性 氣體吐出噴咀6所包圍者。 經濟部智慧財產局員工消骨合作社印製 採用此構成之噴霧噴咀5時，對於被噴霧之洗淨用流 體而實性惰性氣體之噴吹（氮氣之噴吹），而可以防止所 噴霧之乾燥用流體之尺寸之變大，而可達成基板1之良好 的乾燥。 本例中，氮氣乃例如可採用常溫者，惟使用昇溫至 1 00 t程度者時更能提高效果。 第3圖係表示噴霧噴咀之構成之又一其他例之槪略縱 斷面圖。 ‘ 此噴霧噴咀5係包圍了吐出惰性氣體之惰性氣體吐出 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） _ 12 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明均 ) 噴咀6者。採用此種構成之噴霧咀5也可以達成採用第2 圖之噴霧噴咀5同樣之作用》 第4圖係表示噴霧噴咀之構成之又一其他例之槪略縱 斷面圖〜 啤 此噴霧噴咀5.乃將乾燥用流體吐出於水平方向，同時 對於所吐出之乾燥用流體而設置由上方吐出做爲惰性氣體 的常溫或高溫氮氣之惰性氣體吐出噴嘴6。 採用此構成之噴霧噴咀也可以達成第2圖之噴霧噴咀 時同樣之作用。 第5圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 之槪略斜視圖。 此基板乾燥裝置之與第1圖之實施態樣所不同之點爲 ，採用第2圖乃至第4圖中之其中之一之構成之噴霧噴咀 5，同時在處理槽3之蓋體3 a之規定之位置設置有排氣 用細縫孔之處而已。 採用此構成之基板處理裝置時，可以經由排氣用細縫 孔3 b排氣出1經由惰性氣體吹噴而導入於處理槽3內之 惰性氣體，由而形成惰性氣體之經常流動，由而可防止所 噴霧之乾燥用流體之尺寸之過份的變大之情形，該結果可 以達成基板1之迅速且均勻之乾燥。 再者採用此構成時，雖有乾燥用流體之經由此排氣用 細縫孔3 b之可能，惟實際上由於乾燥用流體之大部份係 朝向洗淨液2之液面所噴霧，而在洗淨液2之液面而形成 液層，所以乾燥用流體之經由排氣用細縫孔3 b之量可以 ---------^------_、玎------Ψ {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210 X 297公釐） -13- 經濟部智慧財產局員工消黄合作社印製 〇Μ. S 1 ' A7 __B7五、發明説明4 ) 說非常非常的少，不致於構成不合宜之情形。· 第6圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 之槪略斜視圖= 此基板乾燥裝置之與第5圖之實施態樣不同之點係， 在處理槽3之側壁之上部設置了排氣用細縫孔3 b之點而 已。所以採用此構成時亦可達成與第5圖之基板乾燥裝置 之同樣之作用。 第7圖係本發明之基板乾燥裝置之又一其他實施態樣 之槪略斜視圖。 此基板乾燥裝置之與第5圖之實施態樣不同之點係， 在處理槽3之蓋體3 a之規定位置設置了排氣用配管3 c 之點而已。所以採用此構成時，除了可以完全阻止乾燥用 流體之漏出之外，亦可以達成與第5圖之基板乾燥裝置之 同樣之作用。 第8圖係表示本發明之基板乾燥裝置之又一其他實施 態樣之槪略斜視圖。 本基板乾燥裝置與第5圖之實施態樣所不同之點係， 對於噴霧噴咀5之供給管路4之規定位置設置開閉閥4 a 之點及對於氮氣吐出噴咀6之供給管路4之規定位置設置 •. 了開閉閥4 a之點，及對於氮氣氣體吐出噴咀6之供給管 路7之規定位置設置開閉閥7 a之點•以及設置了用於控 制兩開閉閥4 a ，7 a之閥控制部8之點》 採用此構成之基板乾燥裝置時乃藉由週期的開閉開閉 閥4a ，由而將乾燥用流體間歇的導入於處理槽3內，與 {請先閲讀背面之注意ί項再填寫本頁) 本紙張尺度通用中國國家揉準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） _ 14 - /s 2 0 3^· 6 A7 B7 經濟部智慧財產局R工消費合作社印製 五、發明説明沧 ) 連續的將乾燥用流體導入時做比較時可以減少乾燥用流體 之消費量也。 具體的說明之，即例如第9圖所示，只做0 . 5秒實 施乾燥用流體之噴霧之後，只實施2秒之高溫氮氣之吹噴 ，以後只做乾燥用流體之噴霧及高溫氮氣之吹噴地，以閥 控制部8而控制兩開閉閥4 a ，7 a，由而與連續的導入 乾燥用流體.，而爲了霧化而連續的責施高溫氮氣之吹噴時 做比較時，可以減低乾燥用流體之消費量及高溫氮氣之消 費量。 乾燥用流體之消費量之減低之程度乃爲約8 0 %，高 溫氮氣之消費量之減低之程度即約2 0 %。 本具體例係以2 . 5秒只導入一次0 . 5秒間乾燥用 流體爲例。惟乾燥用流體之導入間隔，一次中之乾燥用流 體之導入量係配合於洗淨液2之液面之下降速度而能夠達 成以馬蘭戈尼效應來乾燥地設定就可以。 再者上述之實施態樣乃，藉由排出洗淨液2而使洗淨 液之液面下降，惟替代於排出洗淨液2而令複數片之基板 1 一面上昇一面實施乾燥也可以。 第1 0圖係表示本發明之基板乾燥裝置之又一其他實 *, 施態樣之要部之槪略圖。再者，不圖示之部份之構成乃與 上述之實施態樣同樣者，因此省略其詳細的說明。 本基板乾燥裝置係具有對於噴霧噴咀5而供給載體氣 體（例如氮氣）之第1供給管路5 a ，同時，具有連通於 第1供給管路5 a之中途部之液狀之乾燥用流體用之第2 {請先閲T#背面之注意事項再填寫本頁) 本紙乐尺度通用中國國家樣率（CNS > A4規格（210X297公釐） · 15 - 4.2〇以.6 ^ Α7 Β7 經濟部智慧財產局貞工消費合作社印製 五、發明説明ife ) 供給管路5 b。再者噴霧噴咀5之噴出孔5 c乃以對應於 基板1與基板1之間隙地設定這些之位置。 所以採用此實施態樣之基板乾燥裝置時，藉由經過第 1供給管路5 a而將載體氣體供給於噴霧噴咀5，由而在 對應於第2供給管路5 b之開口部之位置發生負壓，而將 液狀之乾燥用流體吸入於第1供給管5 a ，與載體氣體一 齊地可供給於噴霧噴咀5|並且從噴霧噴咀5之噴出孔 5 c噴出乾燥用流體之霧，藉由此霧而與上述實施態樣同 樣的可以達成基板1之乾燥也。 再者，採用此實施態樣時，可以抑制從噴霧噴咀5之 乾燥用流體之噴出量，可以將適宜量之乾燥用流體供給於 基板1之浸漬界面，該結果，可以減少乾燥用流體之使用 量、減低運轉成本。 第11圖係本發明之基板乾燥裝置之又一其他實施態 樣之要部之槪略圖。又沒有圖示之部份之構成乃與上述之 各實施態樣同樣者，省略其說明。 本基板乾燥裝置係具有，藉由連通於噴霧噴咀5之長 軸方向之一方之端面由而供給載體氣體之第1供給管路 5 a，同時具有連通於與此端面之.相鄰之面之液狀之乾燥 • · 用流體用之第2供給管路5 b。又噴霧噴咀5之噴出孔 5 c乃能對應於基板1與基板1之間隙地分別設定有其位 置。 所以採用此實施態樣之基板乾燥裝置時，可以經過第 1供給管路5 a而將載體氣體供給於噴霧噴咀5，由於噴 本紙伕尺度通用中國國家揲準（CNS ) A4规格（210X297公釐） _彳6 - ---------^------^------味 <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明坤 ) 出孔小所以內部成爲高壓*而經過第2供給管路5 b，而 以上述（內部之高壓）以上之高壓供給乾燥用流體，由而 可以將液狀之乾燥用流體供給於噴霧噴咀5內也。於是從 噴霧噴咀5之噴出孔5 c噴出乾燥用流體之霧，藉由此霧 ，而與上述實施態樣同樣地可達成基板1之乾燥。 再者，採用此實施態樣時可抑制從噴霧噴咀5之乾燥 用流體之噴出量，可以將適宜量之乾燥用流體供給於基板 1之浸漬界面，該結果可以減少乾燥用流體之使用量，可 減低運轉成本也。 第1 2圖係表示本發明之基板乾燥裝置之又一其他實 施態樣之要部之槪略圖。又沒有圖示之部份之構成係與上 面所述之實施態樣者相同，省略其詳細說明。 本基板乾燥裝置之與第11圖之基板乾燥裝置不同之 點爲，設置了由連通於噴霧噴咀5之長軸方向之另一方之 端面，以資排出載體氣體用之排出管路5 d之點。在排出 管路5 d之規定位置介置了閥5 e之點。將第2供給管路 5 b只在於噴霧噴咀5之最上游側而與噴霧噴咀5相連通 之點而已。 採用此實施態樣時，藉由控制閥5 e之開度由而可以 •. 控制由噴出孔5 c所噴出之載體氣體與通過排出管路5 d 所排出之載體氣體之比例。並且由第2供給管路5 b而供 給於噴霧噴咀5內之液狀之乾燥用流體乃由載體氣體所加 速，供給於從最上游側之噴出孔5 c到最下游側之噴出孔 5 c爲止之全範圍，所以得從全部之噴出孔5 c噴出乾燥 I 1 I I I I---- 1 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本莧) 訂 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) A4规格（2丨OX297公釐） _ 17 _ η ρ. Α7 Β7 經濟部智慧財產局MK工消费合作社印製 五、發明説明诈) 用流體之霧也。當然所噴出之乾燥用流體係由載體氣體而 被微細霧粒化，所以可以達成良好之乾燥。 (產業上之利用可能性） * « 本發明乃可以適用於半導體晶片等之基板之乾燥，而 可達成基板之良好的乾燥。 圖面之簡單說明 第1圖係表示本發明之基板乾燥裝置之一實施態樣之 槪略斜視圖 第2圖係表示噴霧噴咀之構成之其他例之槪略縱斷面 圖。 第3圖係表示噴霧噴咀之構成之又一其他例之槪略縱 斷面圖。 第4圖係表示噴霧噴咀之構成之又一其他例之槪略縱 斷面圖。 第5圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 之槪略斜視圖。 第6圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 •. 之槪略斜視圖。 第7圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 之槪略斜視圖。 第8圖係表示本發明之基板乾燥裝置之其他實施態樣 之槪略斜視圖。 ---------装-- {諳先閲讀背面之注意事項再填寫本瓦) 訂 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4规格（210X297公羡） _ ΐβ- A7 B7 42 0 84 6 五、發明説明1(6 ) 第9圖係說明乾燥用流體之間歇導入高溫氮氣之間歇 噴吹之定序表。 第1 0圖係表示本發明之基板乾燥裝置之又一實施態 樣之要部之槪略圖。 * * 第1 1圖係表.示本發明之基板乾燥裝置之又一實施態 樣之要部之槪略圖。 第1 2.圖係表示本發明之基板乾燥裝置之又一實施態 樣之要部之槪略圖。 主要元件對照表 1 基板 2 洗淨液_ 3 處理槽 3 a 蓋體 3 b 排氣用細縫孔 3 c 排氣用配管 4 供給管路 4 a 開閉閥 5 噴霧噴咀 •. 5 a 第1供給管路 5 b 第2供給管路 5 c 噴出孔 _ 5 d 排出管路 6 惰性氣體吐出噴咀 ---------^------1T------埭. (請先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智葸財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家樑準（CNS ) A姑L格（210X297公釐） -19 -

2034 S A7 B7 五、發明説明你 7 供給管路 7 a 開閉閥 8 閥控制部 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙伕尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X：297公釐） -20 -

Claims (1)

1. M:.· •1.― S d a c A8B8C8S 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 .—種基板乾燥方法，主要係在處理槽（3 )內收 容基板（1)，且使處理槽（3)內之洗淨液（2)之液 面一面對於基板而相對的下降，一面對處理槽（3 )內供 給乾燥用流體，以資使基板（1 )之表面乾燥之方法，其 特徵爲， 以被之狀態的將乾燥用流體導入於處理槽（3)內， 使用噴咀噴.霧於洗淨液（2 )面上者。 2 .如申請專利範圍第1項所述之基扳乾燥方法，其 中爲了使乾燥用流體霧化起見，實施情性氣體之吹噴者。 3 .如申請專利範圍第1項或第2項所述之基板乾燥 方法，其中以間歇的實施該乾燥用流體之導入於處理槽（ 3 )者。 4 ·—種基板乾燥裝置，主要係在處理槽（3 )內收 容基板（1)，且使處理槽（3)內之洗淨液（2)之液 面一面對於基板而相對的下降，一面對處理槽（3 )內供 給乾燥用流體，以資使基板（1 )之表面乾燥之裝置，其 特徵爲含有： 以液之狀態的將乾燥用流體導入於處理槽（3 )內， 使用噴咀噴霧於洗淨液（2 )面上之乾燥用流體供給機構 ·» (4 ) (4a) ( 5 )者。 5 .如申請專利範圍第4項所述之基板乾燥裝置，其 中再含有：接近於上述乾燥用流體供給機構（5)，爲了 使乾燥用流體霧化而實施惰性氣體之噴吹之噴吹機構（6 )者。 C請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2J0*297公龙） Ά--------^---------------------------------- I I 震08 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 6 ·如申請專利範圍第4項或第5項所述之基板乾燥 裝置，其中再含有，用於控制間歇的實施乾燥用流體之導 入於處理槽（3 )之乾燥用流體供給機構（4 a )之控制 機構（8 )者。 * · 7 ·—種基板乾燥方法，主要係在處理槽（3 )內收 容基板（1)，且使處理槽（3)內之洗淨液（2)之液 面一面對於.基板而相對的下降，一面對於處理槽（3 )內 供給乾燥用流體，以資使基板（1 )之表面乾燥之方法， 其特徵爲： 使用載體氣體而將液狀之乾燥用流體運送至噴咀（5 )之噴出孔（5c)，而從噴嘴（5)之噴出孔（5c) 朝向洗淨液面上面，同時的噴出乾燥用流體及載體氣體者 〇 8 . —種基板乾燥裝置，主要係在處理槽（3 )內收 容基板（1)，且使處理槽（3)內之洗淨液（2)之液 面一面對於基板而相對的下降，一面對於處理槽（3 )內 供給乾燥用流體，以資使基板（1 )之表面乾燥之裝置， 其特徵爲，含有： 使用載體氣體而將液狀之乾燥用流體運送至噴咀（5 •. )之噴出孔（5c)，而從噴咀（5)之噴出孔（5c) 朝向洗淨液面上面，同時的噴出乾燥用流體及載體流體之 乾燥用流體供給機構（5 )( 5 a ) ( 5 b ) ( 5 c )者 〇 9 .如申請專利範圍第8項所述之基板乾燥裝置，其 本紙張又度適用中國國家楳準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) .^2- ' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 机！1訂.！ 線 6 " 觔明0808 六、申請專利範圍 中 在於爲了將載體氣體供給於噴咀（5 )之第1供給管 路（5 a )之中途部，連通了液狀之乾燥用流體用之第2 供給管路（5 b )者。 1 〇 .如申請專利範圍第8項所述之基板乾燥裝R , 其中 該將載.體氣體供給於噴嘴（5 )用之第1供給管路（ 5a)，及將液狀之乾燥用流體供給於噴嘴（5)用 2供給管路（5 b )係互相獨立的予以設置者。 — — — — — — — —--- 訂·！ !線 (請先閱讀背面之沒意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公t) -23-