TW202440895A - 藥液、圖案形成方法 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023057642 | 2023-03-31 | ||
| JP2023-057642 | 2023-03-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202440895A true TW202440895A (zh) | 2024-10-16 |
Family
ID=92904402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW113110029A TW202440895A (zh) | 2023-03-31 | 2024-03-19 | 藥液、圖案形成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20250390021A1 (https=) |
| EP (1) | EP4692947A1 (https=) |
| JP (1) | JPWO2024203080A1 (https=) |
| TW (1) | TW202440895A (https=) |
| WO (1) | WO2024203080A1 (https=) |
Family Cites Families (59)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06273940A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-09-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | リソグラフィー用リンス液 |
| US5977041A (en) * | 1997-09-23 | 1999-11-02 | Olin Microelectronic Chemicals | Aqueous rinsing composition |
| SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
| DK199901098A (da) | 1998-08-18 | 2000-02-19 | Ciba Sc Holding Ag | Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse |
| US7129199B2 (en) * | 2002-08-12 | 2006-10-31 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process solutions containing surfactants |
| NL1016815C2 (nl) | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
| EP1395615B1 (en) | 2001-06-11 | 2009-10-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a combined structure |
| KR101474900B1 (ko) | 2006-09-27 | 2014-12-19 | 후지필름 가부시키가이샤 | 화합물 또는 이것의 토토머, 금속착체 화합물, 착색 감광성경화 조성물, 컬러필터, 및 제조 |
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| JP5136139B2 (ja) | 2007-03-20 | 2013-02-06 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス用黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス、カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
| JP5535065B2 (ja) | 2007-05-11 | 2014-07-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光重合開始剤 |
| CN102112497B (zh) | 2008-06-06 | 2013-04-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 光引发剂混合物 |
| JP5371313B2 (ja) | 2008-07-28 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示素子 |
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| JP2010164965A (ja) | 2008-12-19 | 2010-07-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | カラーフィルタ画素形成用組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
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| JP2010262028A (ja) | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物 |
| TWI605063B (zh) | 2009-11-25 | 2017-11-11 | 住友化學股份有限公司 | Resin composition and display device |
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| JP6026757B2 (ja) | 2012-03-12 | 2016-11-16 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置、光重合開始剤、及び化合物 |
| KR101968462B1 (ko) | 2012-05-09 | 2019-04-11 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| JP5946389B2 (ja) | 2012-07-27 | 2016-07-06 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
| JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
| JP6065596B2 (ja) | 2013-01-16 | 2017-01-25 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 |
| JP5923557B2 (ja) | 2013-06-24 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体用塗料組成物 |
| JP6469669B2 (ja) | 2013-07-08 | 2019-02-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | オキシムエステル光開始剤 |
| JP6530410B2 (ja) | 2013-09-10 | 2019-06-12 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | オキシムエステル光開始剤 |
| JP2015068893A (ja) | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス基板 |
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| KR102047079B1 (ko) | 2015-03-11 | 2019-12-02 | 동우 화인켐 주식회사 | 청색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
| JP6628072B2 (ja) | 2015-05-20 | 2020-01-08 | Dic株式会社 | フッ素系界面活性剤およびこれを含有する組成物 |
| WO2017033680A1 (ja) | 2015-08-26 | 2017-03-02 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 超低温フリーザ |
| WO2017051680A1 (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤 |
| JP6750249B2 (ja) | 2016-02-26 | 2020-09-02 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性着色組成物およびカラーフィルタ |
| JP6762739B2 (ja) | 2016-03-17 | 2020-09-30 | 株式会社Dnpファインケミカル | カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置 |
| JP7006267B2 (ja) | 2016-03-25 | 2022-01-24 | 東レ株式会社 | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ基板、および液晶表示装置 |
| JP6860978B2 (ja) | 2016-04-27 | 2021-04-21 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
| WO2018110179A1 (ja) | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 日油株式会社 | ペルオキシシンナメート誘導体、該化合物を含有する重合性組成物 |
| WO2018221177A1 (ja) | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 日油株式会社 | トリアジンペルオキシド誘導体、該化合物を含有する重合性組成物 |
| JP6923130B2 (ja) | 2017-08-31 | 2021-08-18 | 学校法人東京理科大学 | ペルオキシエステル基を有するベンゾフェノン誘導体、該化合物を含有する重合性組成物およびその硬化物、当該硬化物の製造方法 |
| JP6995309B2 (ja) | 2017-08-31 | 2022-01-14 | 学校法人東京理科大学 | ペルオキシエステル基を有するチオキサントン誘導体を含有する重合性組成物およびその硬化物、当該硬化物の製造方法 |
| JPWO2019088055A1 (ja) | 2017-10-30 | 2020-12-10 | 株式会社Adeka | 化合物、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
| JP6970922B2 (ja) | 2018-03-26 | 2021-11-24 | 日油株式会社 | ペルオキシシンナメート誘導体、該化合物を含有する重合性組成物およびその硬化物、並びに当該硬化物の製造方法 |
| JP6636081B2 (ja) | 2018-05-14 | 2020-01-29 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン、及び光硬化パターンを含む画像表示装置 |
| JP7205089B2 (ja) | 2018-07-04 | 2023-01-17 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 |
| TWI677492B (zh) | 2018-07-17 | 2019-11-21 | 奇鈦科技股份有限公司 | 液態光引發化合物及其應用 |
| WO2020084854A1 (ja) | 2018-10-24 | 2020-04-30 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 含フッ素イミド塩化合物及び界面活性剤 |
| EP4220859A4 (en) | 2020-09-28 | 2024-03-27 | FUJIFILM Corporation | LAMINATE PRODUCTION PROCESS, ANTENNA-IN-PACKAGE PRODUCTION PROCESS, LAMINATE AND COMPOSITION |
-
2024
- 2024-03-06 WO PCT/JP2024/008537 patent/WO2024203080A1/ja not_active Ceased
- 2024-03-06 JP JP2025510149A patent/JPWO2024203080A1/ja active Pending
- 2024-03-06 EP EP24779215.3A patent/EP4692947A1/en active Pending
- 2024-03-19 TW TW113110029A patent/TW202440895A/zh unknown
-
2025
- 2025-08-29 US US19/315,042 patent/US20250390021A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4692947A1 (en) | 2026-02-11 |
| JPWO2024203080A1 (https=) | 2024-10-03 |
| WO2024203080A1 (ja) | 2024-10-03 |
| US20250390021A1 (en) | 2025-12-25 |
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