TW202339942A - 防眩膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種防眩性優異且能夠抑制反射散射光之防眩膜。 一種防眩膜，其具有防眩層，且上述防眩膜具有凹凸表面，於將上述凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm -1時之振幅定義為AM2時，AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。

Description

防眩膜及影像顯示裝置
本發明係關於一種防眩膜及影像顯示裝置。
有時在電視、筆記型PC、桌上型PC之顯示器等影像顯示裝置之表面設置防眩膜來抑制照明及人物等背景之映入。
防眩膜具備在透明基材上具有表面為凹凸形狀之防眩層的基本構成。作為此種防眩膜，例如提出了專利文獻1～4等。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2005-234554號公報 專利文獻2：日本特開2009-86410號公報 專利文獻3：日本特開2009-265500號公報 專利文獻4：國際公開號W02013/015039
[發明所欲解決之課題]
如專利文獻1～4般之以往之防眩膜賦予防眩性使反射影像達到模糊之程度，因此，難以充分抑制照明及人物等背景之映入。 另一方面，藉由增大防眩層之表面凹凸之粗糙度之程度，而充分抑制映入，因此，能夠提高防眩性。然而，若僅增大表面凹凸之粗糙度之程度，則反射散射光會變強，因此存在影像顯示裝置之對比度受損之問題。
本發明之課題在於提供一種防眩性優異且能夠抑制反射散射光之防眩膜。 [解決課題之技術手段]
本發明提供以下之[1]～[5]之防眩膜及顯示裝置。 [1]一種防眩膜，其具有防眩層，且上述防眩膜具有凹凸表面，於將上述凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm -1時之振幅定義為AM2時，AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。
[2]一種防眩膜，其具有防眩層，上述防眩膜具有凹凸表面，且於下述測定條件測得之平滑化反射光強度滿足下述條件1及2。 ＜測定條件＞ （1）於變角光度計之穿透測定模式，自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對。 （2）於上述防眩膜之與上述凹凸表面相反側之表面上，經由透明黏著劑層而貼合黑色板，從而製作積層上述防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成且具有上述凹凸表面之樣本α。 （3）將上述樣本α配置於變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度；平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向。反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度；又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度。 （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i） ＜條件1＞ 將n度之平滑化反射光強度定義為Rn，將n－1度之平滑化反射光強度定義為Rn－1時，Rn與Rn－1之差量之絕對值的最大值為2.00以下。 ＜條件2＞ －35度之平滑化反射光強度為4.0以下。
[3]一種防眩膜，其具有防眩層，且上述防眩膜具有凹凸表面，上述凹凸表面之三維算術平均粗糙度Sa為0.30 μm以上，三維平均峰間隔Smp為10.00 μm以下。
[4]一種防眩膜，其具有防眩層，上述防眩膜具有凹凸表面，且具有選自下述第1構成、第2構成及第3構成之任一構成。 《第1構成》 於將上述凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm - 1時之振幅定義為AM2時，AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。 《第2構成》 於下述測定條件測得之平滑化反射光強度滿足下述條件1及2。 ＜測定條件＞ （1）於變角光度計之穿透測定模式，自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對。 （2）於上述防眩膜之與上述凹凸表面相反側之表面上，經由透明黏著劑層而貼合黑色板，從而製作積層上述防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成且具有上述凹凸表面之樣本α。 （3）將上述樣本α配置於變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度；平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向；反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度；又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度。 （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i） ＜條件1＞ 將n度之平滑化反射光強度定義為Rn，將n－1度之平滑化反射光強度定義為Rn－1時，Rn與Rn－1之差量之絕對值的最大值為2.00以下。 ＜條件2＞ －35度之平滑化反射光強度為4.0以下。 《第3構成》 上述凹凸表面之三維算術平均粗糙度Sa為0.30 μm以上，三維平均峰間隔Smp為10.00 μm以下。
[5]一種影像顯示裝置，其係將上述[1]至[4]中任一項所記載之防眩膜以上述凹凸表面側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置於顯示元件上，且將上述防眩膜配置於最表面而成。 [發明之效果]
本發明之防眩膜及影像顯示裝置之防眩性優異，且能夠抑制反射散射光。
以下，對本發明之實施形態進行說明。
[第1實施形態之防眩膜] 本發明之第1實施形態之防眩膜具有防眩層，且上述防眩膜具有凹凸表面，於將上述凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm - 1時之振幅定義為AM2時，AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。
於本說明書中，AM1係3個空間頻率之振幅的合計，由下述式表示。當表述為「於本說明書中，''xxx''。」時，只要無特別說明，則''xxx''係第1實施形態、第2實施形態、及第3實施形態之防眩膜共通之描述。例如，只要無特別說明，則「於本說明書中，AM1由下述式表示。」這種表述與「於第1實施形態、第2實施形態、及第3實施形態之防眩膜中，AM1由下述式表示。」這種表述同義。 AM1＝空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm - 1時之振幅
空間頻率為取決於一邊長度之離散值，因此，存在無法獲得與0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1及0.300 μm - 1一致之空間頻率之情況。於本說明書中，當不存在與上述值一致之空間頻率時，選取最接近上述值之空間頻率之振幅。
圖1係本發明之第1實施形態之防眩膜100之剖面形狀之概略剖視圖。 圖1之防眩膜100具備防眩層20，且具有凹凸表面。於圖1中，防眩層20之表面係防眩膜之凹凸表面。圖1之防眩膜100於透明基材10上具有防眩層20。圖1之防眩層20具有黏合劑樹脂21及有機粒子22。 圖1係示意性剖視圖。即，為了便於圖示，構成防眩膜100之各層之比例、各材料之比例、及表面凹凸之比例以示意的方式表示，不同於實際之比例。圖2～圖4、圖19～21亦同樣如此。
本發明之第1實施形態之防眩膜並不限於圖1之積層構成，只要具備具有AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下、AM2為0.0050 μm以上且AM2＜AM1之凹凸表面的防眩層即可。例如，防眩膜可為防眩層之單層構造，亦可具有抗反射層及防污層等透明基材及防眩層以外之層。於防眩層上具有其他層之情形時，只要使其他層之表面為防眩膜之凹凸表面即可。 於第1實施形態中，防眩膜之較佳之實施形態係透明基材上具有防眩層，且防眩層之與透明基材相反側之表面為凹凸表面者。
＜透明基材＞ 從防眩膜之製造之容易性、及防眩膜之操作性的觀點考慮，第1實施形態之防眩膜、以及下述第2實施形態及第3實施形態之防眩膜較佳為具有透明基材。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為透明基材，較佳為具備透光性、平滑性、耐熱性且機械強度優異者。作為此種透明基材，可列舉：聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二醋酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚胺酯（polyurethane）及非晶質烯烴（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）等之塑膠膜。透明基材可為2片以上之塑膠膜貼合在一起而成者。 其中，為了改善機械強度及尺寸穩定性，較佳為經延伸加工、尤其是經雙軸延伸加工之聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯。為了便於改善透光性及光學各向同性，較佳為TAC、壓克力。就耐候性優異之方面而言，較佳為COP、聚酯。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，透明基材之厚度較佳為5 μm以上且300 μm以下，更佳為20 μm以上且200 μm以下，進而較佳為30 μm以上且120 μm以下。 於欲使防眩膜薄膜化之情形時，透明基材之厚度之較佳之上限為60 μm，更佳之上限為50 μm。於透明基材為聚酯、COP、壓克力等低透濕性基材之情形時，用以進行薄膜化之透明基材之厚度之較佳之上限為40 μm，更佳之上限為20 μm。即便於大畫面之情形時，只要透明基材之厚度之上限處於上述範圍內，則亦能夠使其不容易發生應變，就該方面而言，亦較佳。 透明基材之厚度可利用數顯標準外徑測微計（Mitutoyo公司，型號「MDC-25SX」）等來進行測定。關於透明基材之厚度，測定任意10點而得之平均值為上述數值即可。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為透明基材之厚度之較佳範圍之實施形態，可列舉：5 μm以上且300 μm以下、5 μm以上且200 μm以下、5 μm以上且120 μm以下、5 μm以上且60 μm以下、5 μm以上且50 μm以下、5 μm以上且40 μm以下、5 μm以上且20 μm以下、20 μm以上且300 μm以下、20 μm以上且200 μm以下、20 μm以上且120 μm以下、20 μm以上且60 μm以下、20 μm以上且50 μm以下、30 μm以上且300 μm以下、30 μm以上且200 μm以下、30 μm以上且120 μm以下、30 μm以上且60 μm以下、30 μm以上且50 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，為了提高接著性，可對透明基材之表面實施電暈放電處理等物理處理或化學處理，形成易接著層。
＜凹凸表面＞ 第1實施形態之防眩膜需要具有凹凸表面。 第1實施形態之防眩膜需要滿足下述條件：上述凹凸表面之標高的振幅譜中，AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。 於防眩層上不具有其他層之情形時，只要防眩層之表面滿足上述凹凸表面之上述條件即可。於防眩層上具有其他層之情形時，只要上述其他層之表面滿足上述凹凸表面之條件即可。
於本說明書中，所謂「凹凸表面之標高」，意指凹凸表面上之任意點P與具有凹凸表面之平均高度之假想平面M在防眩膜之法線V之方向上之直線距離（參照圖4）。假想平面M之標高之基準設為0 μm。上述法線V之方向設為上述假想平面M上之法線方向。於任意點P之標高高於平均高度之情形時，標高為正，於任意點P之標高低於平均高度之情形時，標高為負。 於本說明書中，只要無特別說明，則包括「標高」之用語意指以上述平均高度為基準之標高。
關於空間頻率及振幅，可對凹凸表面之三維座標資料進行傅立葉變換而獲得。本說明書中根據凹凸表面之三維座標資料來算出空間頻率及振幅之方法於下文中進行敍述。
《AM1、AM2》 關於凹凸表面之標高的振幅譜，可以說空間頻率與「凸部與凸部之間隔之倒數」大致相關，振幅與「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致相關。空間頻率0.005 μm -1表示間隔為200 μm左右，空間頻率0.010 μm -1表示間隔為100 μm左右，空間頻率0.015 μm -1表示間隔為67 μm左右，空間頻率0.300 μm -1表示間隔為3 μm左右。可以說「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致與具備特定間隔之凸部之各高度之絕對值成正比。 因此，可謂間接地特定了AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下、AM2為0.0050 μm以上且AM2＜AM1之凹凸表面具備下述i及ii之凸部群。 ＜i之凸部群＞ 複數個凸部i以67 μm以上且200 μm以下左右之間隔配置，凸部i之高度之絕對值處於特定範圍內者。 ＜ii之凸部群＞ 複數個凸部ii以3 μm左右之間隔配置，凸部ii之高度之絕對值為特定值以上且未達凸部i之高度之絕對值者。
認為具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面主要由於下述（x1）～（x5）之理由而表現出優異之防眩性並且能夠抑制反射散射光。以下，使用圖2進行說明。於圖2中，凹凸之間隔較大之凸部表示凸部i。於圖2中，凸部i與凸部i之間所存在之凹凸之間隔較小之凸部、及圖2之左右兩端所存在之凹凸之間隔較小之凸部表示凸部ii。於圖2中，用光滑的線繪出了高度絕對值較大之凸部之外緣，但上述外緣亦可具有微細之凹凸。認為例如實施例1-1～1-7之防眩膜於高度絕對值較大之凸部之外緣處具有微細之凹凸。
（x1）i之凸部群中，相鄰之凸部i之間隔不太長，且凸部i具有特定高度。因此，在任意凸部i之表面上反射之反射光大部分入射至相鄰之凸部i。然後，於相鄰之凸部i之內部反覆進行全反射，最終向與觀測者200相反之側前進（圖2之實線之圖像）。 （x2）入射至任意凸部i之陡峭斜面的光之反射光會向與觀測者200相反之側前進，而與相鄰之凸部i無關（圖2之虛線之圖像）。 （x3）通常，凸部i與凸部i之間之區域容易形成產生鏡面反射光之大致平坦部。然而，於第1實施形態中，在凸部i與凸部i之間之區域中形成有ii之凸部群，因此，能夠減少在上述區域中反射之反射光中所占之鏡面反射光之比率。 （x4）在凸部i與凸部i之間之區域中反射之反射光容易碰上相鄰之峰。因此，在上述區域中反射之反射光之角度分佈為大致均等之角度分佈，而不會偏向特定角度。 （x5）入射至凸部i之平緩斜面的光之反射光會向觀測者200側前進（圖2之單點鏈線之圖像）。凸部i之平緩斜面之角度分佈均等，因此，上述反射光之角度分佈亦均等，而不會偏向特定角度。
首先，認為由於上述（x1）～（x3）之理由，能夠抑制反射散射光，因此，能夠以一定水準改善防眩性。 進而，由於上述（x4）及（x5）之理由，即便產生微量之反射散射光，亦能夠使反射散射光之角度分佈均等。即便反射散射光為微量，當反射散射光之角度分佈偏向特定角度時，亦識別為反射光。因此，由於上述（x4）及（x5）之理由，能夠使防眩性變得極好。 又，由於上述（x1）～（x5）之理由，能夠使觀測者幾乎感受不到反射散射光，因此，能夠對防眩膜賦予漆黑感，進而，能夠對影像顯示裝置賦予高級感。
藉由使AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1，容易產生上述（x1）～（x5）之作用，因此，能夠改善防眩性，且能夠容易地藉由抑制反射散射光而賦予漆黑感。
為了便於產生上述（x1）～（x5）之作用，AM1較佳為0.090 μm以上且0.390 μm以下，更佳為0.130 μm以上且0.380 μm以下，進而較佳為0.150 μm以上且0.370 μm以下。 若AM過小，則防眩性尤其容易不足。 另一方面，若AM1過大，則影像之解析度趨於降低。又，若AM1過大，則在凹凸表面上全反射之光之比率增加，因此，自與凹凸表面相反之側入射之影像光等光之穿透率趨於降低。又，若AM1過大，則高度絕對值較大之凸部增加，由此，反射至觀測者側之光之比率增加，因而存在反射散射光容易變得明顯之情況。因此，為了抑制解析度及穿透率之降低，並且進一步抑制反射散射光，不要使AM1過大為宜。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.070 μm以上且0.400 μm以下、0.070 μm以上且0.390 μm以下、0.070 μm以上且0.380 μm以下、0.070 μm以上且0.370 μm以下、0.090 μm以上且0.400 μm以下、0.090 μm以上且0.390 μm以下、0.090 μm以上且0.380 μm以下、0.090 μm以上且0.370 μm以下、0.130 μm以上且0.400 μm以下、0.130 μm以上且0.390 μm以下、0.130 μm以上且0.380 μm以下、0.130 μm以上且0.370 μm以下、0.150 μm以上且0.400 μm以下、0.150 μm以上且0.390 μm以下、0.150 μm以上且0.380 μm以下、0.150 μm以上且0.370 μm以下。
為了便於產生上述（x1）～（x5）之作用，AM2較佳為0.0055 μm以上且0.0550 μm以下，更佳為0.0060 μm以上且0.0500 μm以下，進而較佳為0.0070 μm以上且0.0450 μm以下，進而更佳為0.0080 μm以上且0.0400 μm以下。 若AM2過大，則影像之解析度趨於降低。因此，為了抑制解析度之降低，亦不要使AM2過大為宜。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM2之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.0050 μm以上且0.0550 μm以下、0.0050 μm以上且0.0500 μm以下、0.0050 μm以上且0.0450 μm以下、0.0050 μm以上且0.0400 μm以下、0.0055 μm以上且0.0550 μm以下、0.0055 μm以上且0.0500 μm以下、0.0055 μm以上且0.0450 μm以下、0.0055 μm以上且0.0400 μm以下、0.0060 μm以上且0.0550 μm以下、0.0060 μm以上且0.0500 μm以下、0.0060 μm以上且0.0450 μm以下、0.0060 μm以上且0.0400 μm以下、0.0070 μm以上且0.0550 μm以下、0.0070 μm以上且0.0500 μm以下、0.0070 μm以上且0.0450 μm以下、0.0070 μm以上且0.0400 μm以下、0.0080 μm以上且0.0550 μm以下、0.0080 μm以上且0.0500 μm以下、0.0080 μm以上且0.0450 μm以下、0.0080 μm以上且0.0400 μm以下。
於本說明書中，AM1及AM2等之標高的振幅譜之相關數值、霧度及總光線穿透率等光學物性之相關數值、Sa及Smp等表面形狀之相關數值、實施形態2之平滑化反射光強度之數值意指16個部位之測定值之平均值。 於本說明書中，關於16個測定部位，較佳為將距測定樣本外緣1 cm之區域作為留白，針對較上述留白更靠內側之區域，劃出一條將縱向及橫向5等分之線，將此時之交點的16個部位作為測定中心。例如，於測定樣本為四邊形之情形時，較佳為將距四邊形外緣1 cm之區域作為留白，利用點線沿縱向及橫向將較上述留白更靠內側之區域5等分，將該點線之交點的16個部位作為中心進行測定，以其平均值算出參數。於測定樣本為圓形、橢圓形、三角形、五邊形等四邊形以外之形狀之情形時，較佳為繪製與該等形狀內接之四邊形，針對所繪製之四邊形，以上述方式進行16個部位之測定。
於本說明書中，只要無特別說明，則AM1及AM2等之標高的振幅譜、霧度及總光線穿透率等光學物性、Sa及Smp等表面形狀、實施形態2之平滑化反射光強度等各種參數係設為於溫度23±5℃、濕度40%以上且65%以下之條件測得者。又，各測定開始前，將對象樣本暴露在上述氣體環境中30分鐘以上之後再進行測定。
於本說明書中，將AM1作為3個空間頻率之振幅的合計。即，於本說明書中，AM1將3個間隔考慮在內作為凸部之間隔。如此，於本說明書中，由於AM1將複數個間隔考慮在內，故而藉由將AM1設為特定值，能夠容易地抑制因凸部之間隔一致所導致之反射光增加。
於第1實施形態中，將空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅之平均值定義為AM1ave時，AM1ave較佳為0.023 μm以上且0.133 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.130 μm以下，進而較佳為0.043 μm以上且0.127 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.123 μm以下。AM1ave可由下述式表示。 AM1ave＝（空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm -1時之振幅）/3
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1ave之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.023 μm以上且0.133 μm以下、0.023 μm以上且0.130 μm以下、0.023 μm以上且0.127 μm以下、0.023 μm以上且0.123 μm以下、0.030 μm以上且0.133 μm以下、0.030 μm以上且0.130 μm以下、0.030 μm以上且0.127 μm以下、0.030 μm以上且0.123 μm以下、0.043 μm以上且0.133 μm以下、0.043 μm以上且0.130 μm以下、0.043 μm以上且0.127 μm以下、0.043 μm以上且0.123 μm以下、0.050 μm以上且0.133 μm以下、0.050 μm以上且0.130 μm以下、0.050 μm以上且0.127 μm以下、0.050 μm以上且0.123 μm以下。
於第1實施形態中，將空間頻率為0.005 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-1，將空間頻率為0.010 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-2，將空間頻率為0.015 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-3時，AM1-1、AM1-2、AM1-3較佳為處於下述範圍內。藉由使AM1-1、AM1-2、AM1-3處於下述範圍內，容易抑制凸部之間隔一致，因此，能夠容易地抑制反射光之增加。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，AM1-1較佳為0.020 μm以上且0.150 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.140 μm以下，進而較佳為0.040 μm以上且0.130 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.120 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1-1之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.020 μm以上且0.150 μm以下、0.020 μm以上且0.140 μm以下、0.020 μm以上且0.130 μm以下、0.020 μm以上且0.120 μm以下、0.030 μm以上且0.150 μm以下、0.030 μm以上且0.140 μm以下、0.030 μm以上且0.130 μm以下、0.030 μm以上且0.120 μm以下、0.040 μm以上且0.150 μm以下、0.040 μm以上且0.140 μm以下、0.040 μm以上且0.130 μm以下、0.040 μm以上且0.120 μm以下、0.050 μm以上且0.150 μm以下、0.050 μm以上且0.140 μm以下、0.050 μm以上且0.130 μm以下、0.050 μm以上且0.120 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，AM1-2較佳為0.020 μm以上且0.145 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.135 μm以下，進而較佳為0.040 μm以上且0.125 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.120 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1-2之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.020 μm以上且0.145 μm以下、0.020 μm以上且0.135 μm以下、0.020 μm以上且0.125 μm以下、0.020 μm以上且0.120 μm以下、0.030 μm以上且0.145 μm以下、0.030 μm以上且0.135 μm以下、0.030 μm以上且0.125 μm以下、0.030 μm以上且0.120 μm以下、0.040 μm以上且0.145 μm以下、0.040 μm以上且0.135 μm以下、0.040 μm以上且0.125 μm以下、0.040 μm以上且0.120 μm以下、0.050 μm以上且0.145 μm以下、0.050 μm以上且0.135 μm以下、0.050 μm以上且0.125 μm以下、0.050 μm以上且0.120 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，AM1-3較佳為0.020 μm以上且0.145 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.135 μm以下，進而較佳為0.040 μm以上且0.125 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.120 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1-3之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.020 μm以上且0.145 μm以下、0.020 μm以上且0.135 μm以下、0.020 μm以上且0.125 μm以下、0.020 μm以上且0.120 μm以下、0.030 μm以上且0.145 μm以下、0.030 μm以上且0.135 μm以下、0.030 μm以上且0.125 μm以下、0.030 μm以上且0.120 μm以下、0.040 μm以上且0.145 μm以下、0.040 μm以上且0.135 μm以下、0.040 μm以上且0.125 μm以下、0.040 μm以上且0.120 μm以下、0.050 μm以上且0.145 μm以下、0.050 μm以上且0.135 μm以下、0.050 μm以上且0.125 μm以下、0.050 μm以上且0.120 μm以下。
關於第1實施形態之防眩膜，為了改善週期不同之凸部之平衡，便於產生上述（x1）～（x5）之作用，AM1/AM2較佳為1.0以上且60.0以下，更佳為2.0以上且50.0以下，進而較佳為3.0以上且40.0以下，進而更佳為4.0以上且30.0以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為AM1/AM2之較佳範圍之實施形態，可列舉：1.0以上且60.0以下、1.0以上且50.0以下、1.0以上且40.0以下、1.0以上且30.0以下、2.0以上且60.0以下、2.0以上且50.0以下、2.0以上且40.0以下、2.0以上且30.0以下、3.0以上且60.0以下、3.0以上且50.0以下、3.0以上且40.0以下、3.0以上且30.0以下、4.0以上且60.0以下、4.0以上且50.0以下、4.0以上且40.0以下、4.0以上且30.0以下。
-AM1及AM2之算出方法- 於本說明書中，AM1意指於凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計。又，於本說明書中，AM2意指於上述振幅譜中之空間頻率為0.300 μm -1時之振幅。以下，對本說明書中之AM1及AM2之算出方法進行說明。
首先，如上所述，於本說明書中，所謂「凹凸表面之標高」，意指凹凸表面上之任意點P與具有凹凸表面之平均高度的假想平面M在防眩膜之法線V之方向上之直線距離（參照圖4）。假想平面M之標高之基準設為0 μm。上述法線V之方向係設為上述假想平面M上之法線方向。
當用（x,y）表示防眩膜之凹凸表面內之正交座標時，防眩膜之凹凸表面之標高可表示為座標（x,y）之二維函數h（x,y）。
凹凸表面之標高較佳為使用干涉顯微鏡來進行測定。作為干涉顯微鏡，可列舉Zygo公司之「New View」系列等。 測定機所需之水平解析度至少為5 μm以下，較佳為1 μm以下，垂直解析度至少為0.01 μm以下，較佳為0.001 μm以下。 考慮到空間頻率之解析度為0.0050 μm -1，標高之測定面積較佳為設為至少200 μm×200 μm之區域以上之面積。
其次，對根據二維函數h（x,y）來求出標高的振幅譜之方法進行說明。首先，根據二維函數h（x,y），藉由下述式（1a）及（1b）所定義之傅立葉變換來求出x方向的振幅譜Hx（fx）、及y方向的振幅譜Hy（fy）。
其中，fx及fy分別為x方向及y方向之頻率，具有長度之倒數之維度。式（1a）及（1b）中之π係圓周率，i係虛數單位。可藉由對所獲得之x方向的振幅譜Hx（fx）、及y方向的振幅譜Hy（fy）求平均，而求出振幅譜H（f）。該振幅譜H（f）表示防眩膜之凹凸表面之空間頻率分佈。
以下，進一步對防眩膜之凹凸表面之標高的振幅譜H（f）的求出方法具體地進行說明。由上述干涉顯微鏡實際測得之表面形狀之三維資訊一般作為離散值獲得。即，由上述干涉顯微鏡實際測得之表面形狀之三維資訊作為與許多個測定點對應之標高而獲得。 圖5係示出離散地獲得表示標高之函數h（x,y）之狀態的示意圖。如圖5所示，當用（x,y）表示防眩層之面內之正交座標，用虛線表示在投影面Sp上沿x軸方向每隔∆x進行分割之線及沿y軸方向每隔∆y進行分割之線時，在實際之測定中，凹凸表面之標高作為投影面Sp上之各虛線之每個交點之離散標高值而獲得。
所獲得之標高值之數由測定範圍、以及∆x及∆y決定。如圖5所示，當將x軸方向之測定範圍設為X＝（M－1）∆x，將y軸方向之測定範圍設為Y＝（N－1）∆y時，所獲得之標高值之數為M×N個。
如圖5所示，當將投影面Sp上之焦點A之座標設為（j∆x,k∆y）時，與焦點A對應之凹凸表面上之點P之標高可表示為h（j∆x,k∆y）。其中，j為0以上且M－1以下，k為0以上且N－1以下。
此處，測定間隔∆x及∆y取決於測定機器之水平解析度，為了精度良好地評價微細凹凸表面，如上所述，較佳為∆x及∆y皆為5 μm以下，更佳為2 μm以下。如上所述，測定範圍X及Y較佳為皆為200 μm以上。
如此，於實際之測定中，表示凹凸表面之標高之函數作為具有M×N個值之離散函數h（x,y）而獲得。藉由分別在x方向、y方向上對測得之離散函數h（x,y）進行下述式（2a）、（2b）所定義之離散傅立葉變換，而求出N個離散函數Hx（fx）、M個離散函數Hy（fy），根據下述式（2c），在求出其等之絕對值（＝振幅）之後對所有值求平均，藉此求出振幅譜H（f）。於本說明書中，M＝N且∆x＝∆y。於下述式（2a）～（2c）中，「I」係－M/2以上且M/2以下之整數，「m」係－N/2以上且N/2以下之整數。∆fx及∆fy分別為x方向及y方向之頻率間隔，由下述式（3）及式（4）所定義。
以上述方式算出的振幅譜之離散函數H（f）表示防眩膜之凹凸表面之空間頻率分佈。圖6～18中示出了實施例1-1～1-7及比較例1-1～1-6之凹凸表面之標高的振幅譜之離散函數H（f）。圖中，橫軸表示空間頻率（單位為「μm -1」），縱軸表示振幅（單位為「μm」）。
《Sa、Smp》 第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維算術平均粗糙度Sa較佳為0.30 μm以上。又，第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維平均峰間隔Smp較佳為10.00 μm以下。 藉由使Sa及Smp處於上述範圍內，容易獲得標高較高之峰以小間隔存在之凹凸表面，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，Sa較佳為0.40 μm以上，更佳為0.50 μm以上，進而較佳為0.55 μm以上。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，Sa較佳為1.00 μm以下，更佳為0.80 μm以下，進而較佳為0.70 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為Sa之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.30 μm以上且1.00 μm以下、0.30 μm以上且0.80 μm以下、0.30 μm以上且0.70 μm以下、0.40 μm以上且1.00 μm以下、0.40 μm以上且0.80 μm以下、0.40 μm以上且0.70 μm以下、0.50 μm以上且1.00 μm以下、0.50 μm以上且0.80 μm以下、0.50 μm以上且0.70 μm以下、0.55 μm以上且1.00 μm以下、0.55 μm以上且0.80 μm以下、0.55 μm以上且0.70 μm以下。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，Smp較佳為8.00 μm以下，更佳為6.00 μm以下，進而較佳為4.50 μm以下，進而更佳為3.50 μm以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，Smp較佳為1.00 μm以上，更佳為1.50 μm以上，進而較佳為2.00 μm以上。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為Smp之較佳範圍之實施形態，可列舉：1.00 μm以上且10.00 μm以下、1.00 μm以上且8.00 μm以下、1.00 μm以上且6.00 μm以下、1.00 μm以上且4.50 μm以下、1.00 μm以上且3.50 μm以下、1.50 μm以上且10.00 μm以下、1.50 μm以上且8.00 μm以下、1.50 μm以上且6.00 μm以下、1.50 μm以上且4.50 μm以下、1.50 μm以上且3.50 μm以下、2.00 μm以上且10.00 μm以下、2.00 μm以上且8.00 μm以下、2.00 μm以上且6.00 μm以下、2.00 μm以上且4.50 μm以下、2.00 μm以上且3.50 μm以下。
第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之Sa/Smp較佳為0.05以上，更佳為0.10以上，進而較佳為0.13以上。藉由使Sa/Smp為0.05以上，能夠進一步提昇標高較高之峰以小間隔存在於防眩層之凹凸表面之傾向，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。 Sa/Smp較佳為0.50以下，更佳為0.40以下，進而較佳為0.25以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為Sa/Smp之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.05以上且0.50以下、0.05以上且0.40以下、0.05以上且0.25以下、0.10以上且0.50以下、0.10以上且0.40以下、0.10以上且0.25以下、0.13以上且0.50以下、0.13以上且0.40以下、0.13以上且0.25以下。
《Sz/Sa》 第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維十點平均粗糙度Sz與Sa之比即Sz/Sa較佳為5.0以上，更佳為5.5以上，進而較佳為6.0以上。藉由使Sz/Sa為5.0以上，而對凹凸表面賦予一定之隨機性，在凹凸表面產生劃傷等缺陷時能夠使其不容易變得明顯。 若Sz/Sa過大，則有可能因為凹凸表面存在特異性部位而產生眩光，或者漆黑感局部降低。於本說明書中，所謂眩光，係指影像光中可觀察到微小亮度不均之現象。因此，Sz/Sa較佳為10.0以下，更佳為8.0以下，進而較佳為7.5以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為Sz/Sa之較佳範圍之實施形態，可列舉：5.0以上且10.0以下、5.0以上且8.0以下、5.0以上且7.5以下、5.5以上且10.0以下、5.5以上且8.0以下、5.5以上且7.5以下、6.0以上且10.0以下、6.0以上且8.0以下、6.0以上且7.5以下。
《Ssk》 第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維偏斜度Ssk較佳為0.60以下，更佳為0.20以下，進而較佳為0以下。Ssk較小意味著凹凸表面上可產生鏡面反射光之標高較低之部位之比率較少。因此，藉由使Ssk為0.60以下，能夠更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果。 若Ssk過小，則由於上述（x5）之作用，反射散射光趨於增加。又，若Ssk過小，則有可能導致相鄰峰之下部重疊，角度較大之斜面消失，上述（x2）之作用降低。因此，Ssk較佳為－1.00以上，更佳為－0.80以上，進而較佳為－0.70以上。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為Ssk之較佳範圍之實施形態，可列舉：－1.00以上且0.60以下、－1.00以上且0.20以下、－1.00以上且0以下、－0.80以上且0.60以下、－0.80以上且0.20以下、－0.80以上且0以下、－0.70以上且0.60以下、－0.70以上且0.20以下、－0.70以上且0以下。
Ssk係表示將測定面整體之標高之平均值作為基準時標高分佈偏向正方向及負方向之程度的指標。於標高分佈為常態分佈之情形時，Ssk顯示為0。若標高分佈偏向負方向，則Ssk顯示為正值，偏向負方向之程度越大，Ssk之值在正方向上越大。另一方面，若標高分佈偏向正方向，則Ssk顯示為負值，偏向正方向之程度越大，Ssk之值在負方向上越大。
《傾斜角》 第1實施形態之防眩膜之凹凸表面較佳為具有特定之傾斜角分佈。 具體而言，關於第1實施形態之防眩膜之凹凸表面之傾斜角，將超過0度且未達1度之傾斜角定義為θ1，將1度以上且未達3度之傾斜角定義為θ2，將3度以上且未達10度之傾斜角定義為θ3，將10度以上且未達90度之傾斜角定義為θ4。並且，將θ1、θ2、θ3及θ4之合計設為100%時，θ1、θ2、θ3及θ4之比率較佳為處於下述範圍內。藉由使θ1、θ2、θ3及θ4處於下述範圍內，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。 θ1≦3.0% 0.5%≦θ2≦15.0% 7.0%≦θ3≦40.0% 50.0%≦θ4≦90.0%
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ1之比率更佳為2.0%以下，進而較佳為1.5%以下，進而更佳為1.2%以下。於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ1之比率之下限並無特別限定，通常為0.1%以上。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為θ1之比率之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.1%以上且2.0%以下、0.1%以上且1.5%以下、0.1%以上且1.2%以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ2之比率更佳為12.0%以下，進而較佳為10.0%以下，進而更佳為8.0%以下。於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ2之比率之下限更佳為1.0%以上，進而較佳為1.5%以上，進而更佳為2.0%以上。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為θ2之比率之較佳範圍之實施形態，可列舉：1.0%以上且12.0%以下、1.0%以上且10.0%以下、1.0%以上且8.0%以下、1.5%以上且12.0%以下、1.5%以上且10.0%以下、1.5%以上且8.0%以下、2.0%以上且12.0%以下、2.0%以上且10.0%以下、2.0%以上且8.0%以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ3之比率更佳為8.5%以上，進而較佳為10.0%以上，進而更佳為12.0%以上。又，於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ3之比率更佳為35.0%以下，進而較佳為32.0%以下，進而更佳為30.0%以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為θ3之比率之較佳範圍之實施形態，可列舉：8.5%以上且35.0%以下、8.5%以上且32.0%以下、8.5%以上且30.0%以下、10.0%以上且35.0%以下、10.0%以上且32.0%以下、10.0%以上且30.0%以下、12.0%以上且35.0%以下、12.0%以上且32.0%以下、12.0%以上且30.0%以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ4之比率更佳為55.0%以上，進而較佳為57.5%以上，進而更佳為60.0%以上。又，於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，θ4之比率更佳為88.0%以下，進而較佳為86.5%以下，進而更佳為85.0%以下。
於第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中，作為θ4之比率之較佳範圍之實施形態，可列舉：55.0%以上且88.0%以下、55.0%以上且86.5%以下、55.0%以上且85.0%以下、57.5%以上且88.0%以下、57.5%以上且86.5%以下、57.5%以上且85.0%以下、60.0%以上且88.0%以下、60.0%以上且86.5%以下、60.0%以上且85.0%以下。
於本說明書中，三維算術平均粗糙度Sa係將JIS B0601：1994中記載之二維粗糙度參數即Ra三維擴展而成者。當將正交座標軸X、Y軸置於基準面，將粗糙度曲面設為Z（x,y），將基準面之大小設為Lx、Ly時，根據下述式（i）算出Sa。式（i）中，A＝Lx×Ly。
於本說明書中，以下述方式求出三維平均峰間隔Smp。將三維粗糙度曲面上的比基準面高且被一個區域包圍之部分作為一個峰，將此時之峰之個數設為Ps，將測定區域整體（基準面）之面積設為A時，根據下述式（ii）算出Smp。
於本說明書中，三維十點平均粗糙度Sz係將JlS B0601：1994中記載之二維粗糙度參數即十點平均粗糙度Rz三維擴展而成者。 將基準面上通過基準面中心之直線，以覆蓋全區域之方式360度放射狀地設置許多條，基於各直線自三維粗糙度曲面切斷而獲得剖面曲線，求出上述剖面曲線上之十點平均粗糙度。此處，十點平均粗糙度係自最高峰頂由高到低至第五個峰頂之峰高度之平均值與自最深谷底由深到淺至第五個谷底之谷深度之平均值的和。對以此方式獲得之許多個十點平均粗糙度中之上位50%求平均，藉此算出Sz。
於本說明書中，三維偏斜度Ssk係將JlS B0601：1994中記載之二維粗糙度參數之粗糙度曲線之偏斜度Rsk三維擴展而成者。當將正交座標軸X、Y軸置於基準面，將測得之表面形狀曲線設為z＝f（x,y），將基準面之大小設為Lx、Ly時，根據下述式（iii）算出Ssk。式（iii）中，「Sq」係由下述式（iv）所定義之表面高度分佈之均方根偏差。
於本說明書中，凹凸表面之傾斜角度分佈可根據三維粗糙度曲面而算出。三維粗糙度曲面之資料係由橫向作為x軸且縱向作為y軸之基準面上以間隔d格子狀地配置之點及該點之位置上之高度表示。當將x軸方向上第i個、y軸方向上第j個點之位置上之高度設為Z i,j時，以下述方式算出任意位置（i,j）上相對於x軸之x軸方向之斜率Sx、相對於y軸之y軸方向之斜率Sy。於本說明書中，有時將x軸方向上第i個、y軸方向上第j個點之位置記為（i,j）。 Sx＝（Z i ＋ 1,j－Z i － 1,j）/2d Sy＝（Z i,j ＋ 1－Z i,j － 1）/2d 進而，以下述式（v）算出（i,j）時相對於基準面之斜率St。
並且，以tan -1（St）來算出（i,j）時之傾斜角度。藉由針對各點進行上述計算，能夠算出三維粗糙度曲面之傾斜角度分佈。
上述Sa、Smp及傾斜角分佈較佳為使用干涉顯微鏡來進行測定。作為此種干涉顯微鏡，可列舉Zygo公司之「New View」系列等。藉由使用上述干涉顯微鏡「New View」系列所配套之測定解析應用軟體「MetroPro」，能夠簡單地算出Sa、Smp及傾斜角分佈。
＜防眩層＞ 於第1實施形態中，防眩層係負責抑制反射散射光、及防眩性之核心的層。
《防眩層之形成方法》 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層例如可利用下述等方法來形成：（A）使用壓紋輥之方法、（B）蝕刻處理、（C）模具成型、（D）藉由塗佈形成塗膜。該等方法之中，為了容易地獲得穩定之表面形狀，較佳為（C）模具成型，出於生產性及應對多個品種之考慮，較佳為（D）藉由塗佈形成塗膜。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於藉由塗佈形成防眩層之情形時，例如可列舉：手段（d1），塗佈含有黏合劑樹脂及粒子之塗佈液，由粒子形成凹凸；手段（d2），塗佈含有任意樹脂、及與上述樹脂相容性較差之樹脂的塗佈液，使樹脂相分離而形成凹凸。
於第1實施形態中，（d1）為佳，因為相比於（d2），（d1）更容易改善AM1與AM2之平衡。又，於第1實施形態中，（d1）為佳，因為相比於（d2），（d1）更容易抑制Sa及Smp之偏差。
《厚度》 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，為了抑制捲曲，改善機械強度、硬度及韌性之平衡，防眩層之厚度T較佳為2 μm以上且10 μm以下，更佳為4 μm以上且8 μm以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為防眩層之厚度T之較佳範圍之實施形態，可列舉：2 μm以上且10 μm以下、2 μm以上且8 μm以下、4 μm以上且10 μm以下、4 μm以上且8 μm以下。 於本說明書中，關於防眩層之厚度，例如可利用掃描式穿透電子顯微鏡（STEM）拍攝防眩膜之剖面照片，選取其中任意20個部位，根據其平均值來算出。STEM之加速電壓較佳為設為10 kv以上且30 kV以下，STEM之倍率較佳為設為1000倍以上且7000倍以下。
《成分》 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層主要含有樹脂成分，視需要含有有機粒子及無機微粒子等粒子、折射率調整劑、抗靜電劑、防污劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、黏度調整劑及熱聚合起始劑等添加劑。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層較佳為含有黏合劑樹脂及粒子。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，粒子可列舉有機粒子及無機粒子，較佳為有機粒子。即，於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層更佳為含有黏合劑樹脂及有機粒子。
-粒子- 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為有機粒子，可列舉：由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等所構成之粒子。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為無機粒子，可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等，較佳為二氧化矽。
有機粒子之比重較輕，故而藉由與下述無機微粒子併用而容易使有機粒子浮起至防眩層之表面附近。因此，於第1實施形態中，藉由將有機粒子與無機微粒子併用，有機粒子容易形成週期較長之凹凸，並且無機微粒子容易形成週期較短之凹凸，故而能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近，因而能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。 於第1實施形態中，於僅使用有機粒子作為粒子之情形時，為了容易地使AM1及AM2處於上述範圍內，較佳為提高防眩層中之有機粒子之含有比率。藉由提高防眩層中之有機粒子之含有比率，能夠成為一面上鋪滿有機粒子之形狀而形成週期較短之凹凸即AM2，進而，藉由在一面上鋪滿有機粒子之形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，而形成週期較長之凹凸即AM1。又，藉由一面上鋪滿有機粒子之形狀，能夠容易地減小Smp。進而，藉由在一面上鋪滿有機粒子之形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，能夠容易地增大Sa。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，有機粒子及無機粒子等粒子之平均粒徑D較佳為1.0 μm以上且5.0 μm以下，更佳為1.5 μm以上且3.5 μm以下，進而較佳為1.7 μm以上且2.5 μm以下。
於第1實施形態中，藉由使平均粒徑D為1.0 μm以上，能夠容易地抑制AM1過小，並且能夠容易地使Sa為0.30 μm以上。又，於第1實施形態中，藉由使平均粒徑D為5.0 μm以下，能夠容易地抑制AM1過大，並且能夠容易地使Smp為10.00 μm以下。
於本說明書中，可利用以下之（A1）～（A3）之操作來算出有機粒子及無機粒子等粒子之平均粒徑。 （A1）針對防眩膜，利用光學顯微鏡來拍攝其穿透觀察影像。倍率較佳為500倍以上且2000倍以下。 （A2）自觀察影像中選取任意10個粒子，算出各粒子之粒徑。測定用任意2條平行之直線夾住粒子之剖面時上述2條直線間距離最大之2條直線之組合中的直線間距離作為粒徑。 （A3）針對同一樣本之不同畫面之觀察影像進行相同操作5次，將由合計50個粒徑之數量平均所獲得之值作為粒子之平均粒徑。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，粒子之平均粒徑D與防眩層之厚度T之比即D/T較佳為0.20以上且0.96以下，更佳為0.25以上且0.90以下，進而較佳為0.30以上且0.80以下，進而更佳為0.35以上且0.70以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為D/T之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.20以上且0.96以下、0.20以上且0.90以下、0.20以上且0.80以下、0.20以上且0.70以下、0.25以上且0.96以下、0.25以上且0.90以下、0.25以上且0.80以下、0.25以上且0.70以下、0.30以上且0.96以下、0.30以上且0.90以下、0.30以上且0.80以下、0.30以上且0.70以下、0.35以上且0.96以下、0.35以上且0.90以下、0.35以上且0.80以下、0.35以上且0.70以下。
於第1實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，於第1實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，有機粒子及無機粒子等粒子之含量相對於黏合劑樹脂100質量份，較佳為40質量份以上且200質量份以下，更佳為55質量份以上且170質量份以下，進而較佳為60質量份以上且150質量份以下。 作為相對於黏合劑樹脂100質量份的粒子含量之較佳範圍之實施形態，可列舉：40質量份以上且200質量份以下、40質量份以上且170質量份以下、40質量份以上且150質量份以下、55質量份以上且200質量份以下、55質量份以上且170質量份以下、55質量份以上且150質量份以下、60質量份以上且200質量份以下、60質量份以上且170質量份以下、60質量份以上且150質量份以下。
於第1實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地抑制AM1過小。又，於第1實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地使Sa為0.30 μm以上，使Smp為10.00 μm以下。又，於第1實施形態中，藉由使粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制AM1過大，並且能夠容易地抑制粒子自防眩層脫落。 於第1實施形態中，於不使用下述無機微粒子之情形時，為了表現出上述「堆疊」狀態，粒子之含量較佳為設為上述範圍內之相對較多之量。
-無機微粒子- 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層較佳為除了黏合劑樹脂及粒子以外，進而含有無機微粒子。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層尤佳為除了黏合劑樹脂及有機粒子以外，進而含有無機微粒子。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，有機粒子之折射率與防眩層之有機粒子以外之組成物之折射率之差變小，能夠容易地減小內部霧度。
於第1實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，比重相對較輕之有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近。進而，於第1實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，容易在基於有機粒子之凸部之間形成基於無機微粒子之微細凹凸。由於該等原因，而能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近，因而能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為無機微粒子，可列舉：由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等所構成之微粒子。其中，較佳為容易抑制內部霧度產生之二氧化矽。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，無機微粒子之平均粒徑較佳為1 nm以上且200 nm以下，更佳為2 nm以上且100 nm以下，進而較佳為5 nm以上且50 nm以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為無機微粒子之平均粒徑之較佳範圍之實施形態，可列舉：1 nm以上且200 nm以下、1 nm以上且100 nm以下、1 nm以上且50 nm以下、2 nm以上且200 nm以下、2 nm以上且100 nm以下、2 nm以上且50 nm以下、5 nm以上且200 nm以下、5 nm以上且100 nm以下、5 nm以上且50 nm以下。
於本說明書中，可利用以下之（B1）～（B3）之操作來算出無機微粒子之平均粒徑。 （B1）利用TEM或STEM拍攝防眩膜之剖面。TEM或STEM之加速電壓較佳為設為10 kv以上且30 kV以下，倍率較佳為設為5萬倍以上且30萬倍以下。 （B2）自觀察影像中選取任意10個無機微粒子，算出各個無機微粒子之粒徑。測定用任意2條平行之直線夾住無機微粒子之剖面時上述2條直線間距離最大之2條直線之組合中的直線間距離作為粒徑。 （B3）針對同一樣本之不同畫面之觀察影像進行相同操作5次，將由合計50個粒徑之數量平均所獲得之值作為無機微粒子之平均粒徑。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，無機微粒子之含量相對於黏合劑樹脂100質量份，較佳為40質量份以上且200質量份以下，更佳為50質量份以上且150質量份以下，進而較佳為60質量份以上且100質量份以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為相對於黏合劑樹脂100質量份之無機微粒子含量之較佳範圍之實施形態，可列舉：40質量份以上且200質量份以下，40質量份以上且150質量份以下，40質量份以上且100質量份以下，50質量份以上且200質量份以下，50質量份以上且150質量份以下，50質量份以上且100質量份以下，60質量份以上且200質量份以下，60質量份以上且150質量份以下，40質量份以上且100質量份以下。
於第1實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地獲得上述基於無機微粒子之效果。又，於第1實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制防眩層之塗膜強度之降低。
-黏合劑樹脂- 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，為了進一步改善機械強度，黏合劑樹脂較佳為含有熱硬化性樹脂組成物之硬化物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物等硬化性樹脂之硬化物，更佳為含有游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，熱硬化性樹脂組成物係至少含有熱硬化性樹脂之組成物，係藉由加熱而硬化之樹脂組成物。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為熱硬化性樹脂，可列舉：丙烯酸樹脂、胺酯樹脂、酚系樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。於熱硬化性樹脂組成物中，視需要向該等硬化性樹脂中添加硬化劑。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，游離輻射硬化性樹脂組成物係含有具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下，亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）的組成物。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為游離輻射硬化性官能基，可列舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵基、及環氧基、氧雜環丁基（oxetanyl）等。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基之化合物，更佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵基之化合物，其中，進而較佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵基之多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，單體及低聚物均可使用。 於本說明書中，所謂游離輻射，意指電磁波或帶電粒子束中具有能使分子聚合或交聯之能量量子者，通常使用紫外線（UV）或電子束（EB），除此以外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子射線等帶電粒子束。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物中之2官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙氧基雙酚A二丙烯酸酯、四丙氧基雙酚A二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，上述(甲基)丙烯酸酯系單體可為分子骨架之一部分經改質者，亦可使用經環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等改質者。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可列舉：(甲基)丙烯酸胺酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，(甲基)丙烯酸胺酯例如可藉由多元醇及有機二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸羥基酯之反應而獲得。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，較佳之環氧(甲基)丙烯酸酯係使3官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與多元酸及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；以及使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與酚類及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯。
出於防眩層塗佈液之黏度調整等目的，於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為游離輻射硬化性化合物，亦可併用單官能(甲基)丙烯酸酯。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為單官能(甲基)丙烯酸酯，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等。 上述游離輻射硬化性化合物可單獨使用1種，或者將2種以上組合使用。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，游離輻射硬化性組成物較佳為含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為光聚合起始劑，可列舉：選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥基烷基苯酮、米其勒酮、安息香、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫𠮿類等之1種以上。 光聚合促進劑係能夠減輕硬化時空氣對聚合的抑制作用而加快硬化速度者。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為光聚合促進劑，可列舉：選自對二甲胺基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等之1種以上。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於黏合劑樹脂含有游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物之情形時，較佳為下述（C1）或（C2）之構成。
（C1）除了游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物以外，亦含有熱塑性樹脂作為黏合劑樹脂。 （C2）實質上僅含有游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物作為黏合劑樹脂，且實質上僅含有單體成分作為游離輻射硬化性樹脂組成物中含有之游離輻射硬化性化合物。
於上述C1之構成之情形時，防眩層塗佈液之黏度因熱塑性樹脂而上升，因此，有機粒子不容易沈降，進而，黏合劑樹脂不容易流下至基於有機粒子之凸部之間。因此，於第1實施形態中，於上述C1之構成之情形時，能夠容易地抑制AM1及AM2過小，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為熱塑性樹脂，可列舉：聚苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、ABS樹脂（包括耐熱ABS樹脂）、AS樹脂、AN樹脂、聚苯醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚縮醛系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚碸系樹脂、及聚苯硫醚系樹脂等，從透明性之觀點考慮，較佳為丙烯酸系樹脂。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，熱塑性樹脂之重量平均分子量較佳為2萬以上且20萬以下，更佳為3萬以上且15萬以下，進而較佳為5萬以上且10萬以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為熱塑性樹脂之重量平均分子量之較佳範圍之實施形態，可列舉：2萬以上且20萬以下、2萬以上且15萬以下、2萬以上且10萬以下、3萬以上且20萬以下、3萬以上且15萬以下、3萬以上且10萬以下、5萬以上且20萬以下、5萬以上且15萬以下、5萬以上且10萬以下。 於本說明書中，重量平均分子量係由GPC分析測得且以標準聚苯乙烯換算之平均分子量。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，上述C1之構成中之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物與熱塑性樹脂之質量比較佳為60：40～90：10，更佳為70：30～80：20。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為上述質量比之較佳範圍之實施形態，可列舉：60：40～90：10、60：40～80：20、70：30～90：10、70：30～80：20。
於第1實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物90使熱塑性樹脂為10以上，藉此能夠容易地發揮上述防眩層塗佈液之黏度上升所帶來之效果。又，於第1實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物60使熱塑性樹脂為40以下，藉此能夠容易地抑制防眩層之機械強度降低。
於第1實施形態中，於上述C2之構成之情形時，趨向於成為防眩層之底部鋪滿有機粒子且在一部分區域中堆疊有機粒子之狀態，成為薄皮狀黏合劑樹脂覆蓋該等有機粒子之形狀。於C2之構成中，由堆疊之有機粒子形成週期較長之凹凸即AM1，由未堆疊之有機粒子形成週期較短之凹凸即AM2於週期較長之凹凸之間。因此，於第1實施形態中，於上述C2之構成之情形時，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，於第1實施形態中，於上述C2之構成之情形時，藉由堆疊之有機粒子，能夠容易地使Sa處於上述範圍內，藉由鋪滿之有機粒子，能夠容易地使Smp處於上述範圍內。於第1實施形態中，於上述C2之構成之情形時，為了容易地使有機粒子為上述配置，較佳為使相對於黏合劑樹脂之有機粒子之含量較上述C1之構成多一些。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物相對於黏合劑樹脂總量的比率較佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上，進而較佳為100質量%。 又，於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，單體成分相對於游離輻射硬化性化合物總量之比率較佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上，進而較佳為100質量%。單體成分較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於防眩層塗佈液中，通常為了調節黏度，或者使各成分可溶解或分散而使用溶劑。根據溶劑之種類，塗佈、乾燥後之防眩層之表面形狀不同，因此，較佳為考慮溶劑之飽和蒸氣壓、溶劑對透明基材之滲透性等來選定溶劑。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為溶劑，可列舉：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；二烷、四氫呋喃等醚類；己烷等脂肪族烴類；環己烷等脂環式烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二氯甲烷、二氯乙烷等鹵化碳類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；異丙醇、丁醇、環己醇等醇類；甲基賽珞蘇、乙基賽珞蘇等賽珞蘇類；丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚類；乙酸賽珞蘇類；二甲基亞碸等亞碸類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺類等，亦可為其等之混合物。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑較佳為將蒸發速度較快之溶劑作為主成分。 於本說明書中，所謂主成分，意指占溶劑總量之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為80質量%以上。
於第1實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，而抑制有機粒子沈降至防眩層之下部，進而，黏合劑樹脂不容易流下至基於有機粒子之凸部間。因此，於第1實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於本說明書中，蒸發速度較快之溶劑意指將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時蒸發速度為100以上之溶劑。蒸發速度較快之溶劑之蒸發速度更佳為120以上且300以下，進而較佳為150以上且220以下。作為蒸發速度較快之溶劑，例如可列舉：蒸發速度160之甲基異丁基酮、蒸發速度200之甲苯、蒸發速度370之甲基乙基酮。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑亦較佳為除了含有蒸發速度較快之溶劑以外，亦含有少量之蒸發速度較慢之溶劑。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，蒸發速度較快之溶劑與蒸發速度較慢之溶劑的質量比較佳為99：1～80：20，更佳為98：2～85：15。
於第1實施形態中，藉由含有蒸發速度較慢之溶劑，而使有機粒子適度凝聚，凹凸表面內之基於有機粒子之凸部之面積比率成為適當範圍，因此，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於本說明書中，蒸發速度較慢之溶劑意指將乙酸丁酯之蒸發速度設為100時蒸發速度未達100之溶劑。蒸發速度較慢之溶劑之蒸發速度更佳為20以上且60以下，進而較佳為25以上且40以下。 作為蒸發速度較慢之溶劑，例如可列舉：蒸發速度32之環己酮、蒸發速度44之丙二醇單甲醚乙酸酯。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，由防眩層塗佈液形成防眩層時，較佳為控制乾燥條件。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，乾燥條件可根據乾燥溫度及乾燥機內之風速來控制。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，乾燥溫度較佳為30℃以上且120℃以下，乾燥風速較佳為0.2 m/s以上且50 m/s以下。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，為了藉由乾燥來控制防眩層之表面形狀，較佳為在塗佈液乾燥後再進行游離輻射之照射。
＜光學特性＞ 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩膜之JIS K7361-1：1997之總光線穿透率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，測定總光線穿透率、及下述霧度時之光入射面係設為與凹凸表面相反之側。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩膜之JIS K7136：2000之霧度較佳為60%以上且98%以下，更佳為66%以上且86%以下，進而較佳為70%以上且80%以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為霧度之較佳範圍之實施形態，可列舉：60%以上且98%以下、60%以上且86%以下、60%以上且80%以下、66%以上且98%以下、66%以上且86%以下、66%以上且80%以下、70%以上且98%以下、70%以上且86%以下、70%以上且80%以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，藉由使霧度為60%以上，能夠容易地改善防眩性。又，於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，藉由使霧度為98%以下，能夠容易地抑制影像之解析度之降低。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，為了便於改善影像之解析度及對比度，防眩膜之內部霧度較佳為20%以下，更佳為15%以下，進而較佳為10%以下。 內部霧度可利用一般之方法來進行測定。例如，可藉由在凹凸表面上經由透明黏著劑層而貼合透明片材等，並弄碎凹凸表面之凹凸，而測定內部霧度。
＜其他層＞ 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩膜亦可具有上述防眩層及透明基材以外之層即其他層。作為其他層，可列舉：抗反射層、防污層及抗靜電層等。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為具有其他層之較佳實施形態，可列舉：防眩層之凹凸表面上具有抗反射層且抗反射層之表面為上述凹凸表面的實施形態。於上述較佳之實施形態中，更佳為上述抗反射層具備防污性。即，於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，更佳為防眩層上具有防污性抗反射層且防污性抗反射層之表面為上述凹凸表面的實施形態。
《抗反射層》 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，抗反射層例如可列舉：低折射率層之單層構造；高折射率層與低折射率層之2層構造；3層構造以上之多層構造。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，低折射率層及高折射率層可藉由一般之濕式法或乾式法等來形成。於濕式法之情形時，較佳為單層構造或2層構造，於乾式法之情形時，較佳為多層構造。
-單層構造或2層構造之情形- 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，單層構造或2層構造之抗反射層較佳為藉由濕式法來形成。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，低折射率層較佳為配置於防眩膜之最表面。於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於對抗反射層賦予防污性之情形時，較佳為使低折射率層中含有聚矽氧系化合物及氟系化合物等防污劑。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，關於低折射率層之折射率之下限，較佳為1.10以上，更佳為1.20以上，更佳為1.26以上，更佳為1.28以上，更佳為1.30以上，關於其上限，較佳為1.48以下，更佳為1.45以下，更佳為1.40以下，更佳為1.38以下，更佳為1.32以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為低折射率層之折射率之較佳範圍之實施形態，可列舉：1.10以上且1.48以下、1.10以上且1.45以下、1.10以上且1.40以下、1.10以上且1.38以下、1.10以上且1.32以下、1.20以上且1.48以下、1.20以上且1.45以下、1.20以上且1.40以下、1.20以上且1.38以下、1.20以上且1.32以下、1.26以上且1.48以下、1.26以上且1.45以下、1.26以上且1.40以下、1.26以上且1.38以下、1.26以上且1.32以下、1.28以上且1.48以下、1.28以上且1.45以下、1.28以上且1.40以下、1.28以上且1.38以下、1.28以上且1.32以下、1.30以上且1.48以下、1.30以上且1.45以下、1.30以上且1.40以下、1.30以上且1.38以下、1.30以上且1.32以下。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，關於低折射率層之厚度之下限，較佳為80 nm以上，更佳為85 nm以上，更佳為90 nm以上，關於其上限，較佳為150 nm以下，更佳為110 nm以下，更佳為105 nm以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為低折射率層之厚度之較佳範圍之實施形態，可列舉：80 nm以上且150 nm以下、80 nm以上且110 nm以下、80 nm以上且105 nm以下、85 nm以上且150 nm以下、85 nm以上且110 nm以下、85 nm以上且105 nm以下、90 nm以上且150 nm以下、90 nm以上且110 nm以下、90 nm以上且105 nm以下。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，高折射率層較佳為配置於較低折射率層更靠防眩層側。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，關於高折射率層之折射率之下限，較佳為1.53以上，更佳為1.54以上，更佳為1.55以上，更佳為1.56以上，關於其上限，較佳為1.85以下，更佳為1.80以下，更佳為1.75以下，更佳為1.70以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為高折射率層之折射率之較佳範圍之實施形態，可列舉：1.53以上且1.85以下、1.53以上且1.80以下、1.53以上且1.75以下、1.53以上且1.70以下、1.54以上且1.85以下、1.54以上且1.80以下、1.54以上且1.75以下、1.54以上且1.70以下、1.55以上且1.85以下、1.55以上且1.80以下、1.55以上且1.75以下、1.55以上且1.70以下、1.56以上且1.85以下、1.56以上且1.80以下、1.56以上且1.75以下、1.56以上且1.70以下。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，關於高折射率層之厚度之上限，較佳為200 nm以下，更佳為180 nm以下，進而較佳為150 nm以下，關於其下限，較佳為50 nm以上，更佳為70 nm以上。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，作為高折射率層之厚度之較佳範圍之實施形態，可列舉：50 nm以上且200 nm以下、50 nm以上且180 nm以下、50 nm以上且150 nm以下、70 nm以上且200 nm以下、70 nm以上且180 nm以下、70 nm以上且150 nm以下。
-3層構造以上之多層構造之情形- 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，較佳為藉由乾式法而形成之多層構造係交替積層高折射率層與低折射率層合計3層以上之構成。於多層構造中，亦較佳為將低折射率層配置於防眩膜之最表面。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於抗反射層為多層構造之情形時，高折射率層之厚度較佳為10 nm以上且200 nm以下，折射率較佳為2.1以上且2.4以下。高折射率層之厚度更佳為20 nm以上且70 nm以下。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，於抗反射層為多層構造之情形時，低折射率層之厚度較佳為5 nm以上且200 nm以下，折射率較佳為1.33以上且1.53以下。低折射率層之厚度更佳為20 nm以上且120 nm以下。
＜大小、形狀等＞ 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩膜可為切成特定大小之片狀形態，亦可為將長條片材捲取為捲筒狀的捲筒狀形態。片之大小並無特別限定，最大直徑為2英吋以上且500英吋以下左右。所謂「最大直徑」，係指連結防眩膜之任意2點時之最大長度。例如，於防眩膜為長方形之情形時，長方形之對角線為最大直徑。於防眩膜為圓形之情形時，圓之直徑為最大直徑。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，捲筒狀之寬度及長度並無特別限定，一般而言，寬度為500 mm以上且3000 mm以下，長度為500 m以上且5000 m以下左右。捲筒狀形態之防眩膜可根據影像顯示裝置等之大小切成片狀來使用。切斷時，較佳為將物性不穩定之捲筒端部排除在外。 於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，片之形狀亦並無特別限定，例如可列舉：三角形、四邊形、五邊形等多邊形、圓形、隨機不定形等形狀。於防眩膜為四邊形狀之情形時，縱橫比並無特別限定，只要作為顯示畫面沒有問題即可。例如可列舉橫：縱＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等，在設計性強之車載用途或數位標牌中，並不限定於此種縱橫比。
於第1實施形態、第2實施形態、第3實施形態中，防眩膜之與凹凸表面相反側之表面形狀並無特別限定，較佳為大致平滑。 於本說明書中，所謂大致平滑，意指臨界值0.8 mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra未達0.03 μm，Ra較佳為0.02 μm以下。
[第2實施形態之防眩膜] 本發明之第2實施形態之防眩膜係具備防眩層且具有凹凸表面而成，於下述測定條件測得之平滑化反射光強度滿足下述條件1及2。
＜測定條件＞ （1）於變角光度計之穿透測定模式，自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對。 （2）於上述防眩膜之與上述凹凸表面相反側之表面上，經由透明黏著劑層而貼合黑色板，從而製作積層上述防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成且具有上述凹凸表面之樣本α。 （3）將上述樣本α配置於變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度。平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向。反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度。又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度。 （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i）
＜條件1＞ 將n度之平滑化反射光強度定義為Rn，將n－1度之平滑化反射光強度定義為Rn－1時，Rn與Rn－1之差量之絕對值的最大值為2.00以下。 ＜條件2＞ －35度之平滑化反射光強度為4.0以下。
圖19係本發明之第2實施形態之防眩膜100之剖面形狀的概略剖視圖。 圖19之防眩膜100具備防眩層20，具有凹凸表面。於圖19中，防眩層20之表面為防眩膜之凹凸表面。圖19之防眩膜100於透明基材10上具有防眩層20。圖19之防眩層20具有黏合劑樹脂21及有機粒子22。
本發明之第2實施形態之防眩膜並不限於圖19之積層構成，只要滿足條件1及2即可。例如，防眩膜可為防眩層之單層構造，亦可具有抗反射層及防污層等透明基材及防眩層以外之層。於防眩層上具有其他層之情形時，只要使其他層之表面為防眩膜之凹凸表面即可。 於第2實施形態中，防眩膜之較佳之實施形態係透明基材上具有防眩層，且防眩層之與透明基材相反側之表面為防眩膜之凹凸表面者。
＜透明基材＞ 從防眩膜之製造之容易性、及防眩膜之操作性的觀點考慮，第2實施形態之防眩膜較佳為具有透明基材。第2實施形態之透明基材之實施形態如上所述。
＜凹凸表面＞ 本發明之第2實施形態之防眩膜具有凹凸表面。 於防眩層上不具有其他層之情形時，防眩層之表面為防眩膜之凹凸表面。於防眩層上具有其他層之情形時，上述其他層之表面為防眩膜之凹凸表面。
＜條件1、條件2＞ 本發明之第2實施形態之防眩膜具有凹凸表面，且於下述測定條件測得之平滑化反射光強度滿足條件1及2。
《測定條件》 （1）於變角光度計之穿透測定模式，自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對。 （2）於上述防眩膜之與上述凹凸表面相反側之表面上，經由透明黏著劑層而貼合黑色板，從而製作積層上述防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成且具有上述凹凸表面之樣本α。 （3）將上述樣本α配置於變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度。平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向。反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度。又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度。 （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i）
測定條件之步驟（1）係標準核對步驟。藉由實施步驟（1），即便於變角光度計之光源之明度不同之情形時，亦可基於下述步驟（3）之反射光強度之絕對值、及步驟（4）之平滑化反射光強度之絕對值來評價防眩膜之反射特性。於針對複數個樣本測定下述步驟（3）之反射光強度之情形時，針對每個樣本實施步驟（1）之標準核對。 於步驟（1）中，使平行光線之方向與受光器之法線方向一致，而實施標準核對。
作為變角光度計，例如可列舉日本電色工業股份有限公司製造之商品名「GC5000L」。於下述實施例中，作為變角光度計，使用日本電色工業公司製造之商品名GC5000L（光束直徑：約3 mm，光束內傾斜角：0.8度以內，受光器之開口角：1度）。
測定條件之步驟（2）係製作測定用樣本即樣本α之步驟。針對樣本α，於下述步驟（3）之反射光強度之測定中，於防眩膜之與凹凸表面相反側之面上貼合黑色板，以消除防眩膜之與凹凸表面相反側之面和空氣之界面之反射。 防眩膜之與透明黏著劑層相接之側之構件與透明黏著劑層之折射率差較佳為設為0.15以內，更佳為設為0.10以內，進而較佳為設為0.05以內，進而更佳為設為0.02以內，進而更佳為設為0.01以內。作為防眩膜之與透明黏著劑層相接之側之構件，可列舉透明基材等。 黑色板較佳為JIS K7361-1：1997之總光線穿透率為1%以下者，更佳為JIS K7361-1：1997之總光線穿透率為0%者。構成黑色板之樹脂之折射率與透明黏著劑層之折射率差較佳為設為0.15以內，更佳為設為0.10以內，進而較佳為設為0.05以內，進而更佳為設為0.02以內，進而更佳為設為0.01以內。
測定條件之步驟（3）係對樣本α之凹凸表面以平行光線之形式照射可見光線，測定反射光強度之步驟。為了維持步驟（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式實施步驟（3）之反射光強度之測定。 於步驟（3）中，可見光線之入射角度係設為自樣本α之法線方向傾斜+45度的方向。於圖20中，虛線表示樣本α之法線方向即0度，實線之箭頭表示自光源照射之平行光線。 於步驟（3）中，反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度。於圖20中，虛線之方向表示0度，單點鏈線之方向表示－85度。
步驟（3）之反射光強度測定時，將利用受光器光圈進行檢測之受光器之開口角設為1度。例如，於0度之測定中，在－0.5度～+0.5度之範圍內進行測定，於－35度之測定中，在－34.5度～－35.5度之範圍內進行測定，於－85度之測定中，在－85.5～－84.5度之範圍內進行測定。
測定條件之步驟（4）係進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度的步驟。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i）
關於式（i），存在反射光強度之實測值在短週期內反覆增減的情況。人之視野中能夠看得清楚之區域即「中心視野」為「約5度」，因此，於式（i）中，以5點之資料進行平滑處理。
由於測定範圍為0度至－85度，故而於式（i）中，0度及－85度時，為3點平均，－1度及－84度時，為4點平均，而非5點平均。然而，0度、－1度、－84度及－85度時，與入射光之鏡面反射方向即－45度相距較遠，反射光強度之絕對值較小，因此可以說不會對條件1產生影響。
《條件1、條件2》 本發明之第2實施形態之防眩膜於上述測定條件測得之平滑化反射光強度需要滿足條件1及2。
-條件1- 將n度之平滑化反射光強度定義為Rn，將n－1度之平滑化反射光強度定義為Rn－1時，Rn與Rn－1之差量之絕對值的最大值為2.00以下。
滿足條件1意味著每個角度之平滑化反射光強度之變化較小。即，入射至滿足條件1之防眩膜之凹凸表面並反射之光不會偏向鏡面反射方向附近，而是以各種角度漫反射。因此，藉由滿足條件1，能夠改善防眩性。
於條件1中，上述差量之絕對值的最大值較佳為1.00以下，更佳為0.50以下，更佳為0.20以下，更佳為0.10以下，更佳為0.05以下。 若條件1之差量之絕對值過小，則影像之解析度趨於降低。因此，上述差量之絕對值的最大值較佳為0.01以上，更佳為0.02以上。
作為上述差量之絕對值的最大值之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.01以上且2.00以下、0.01以上且1.00以下、0.01以上且0.50以下、0.01以上且0.20以下、0.01以上且0.10以下、0.01以上且0.05以下、0.02以上且2.00以下、0.02以上且1.00以下、0.02以上且0.50以下、0.02以上且0.20以下、0.02以上且0.10以下、0.02以上且0.05以下。
-條件2- －35度之平滑化反射光強度為4.0以下。
滿足條件2意味著與鏡面反射方向即－45度相距10度的方向即－35度之平滑化反射光強度較小。通常，人觀察物體時，係自不存在鏡面反射光之角度來觀察。因此，反射散射光之強度（≒白度）可藉由以鏡面反射方向即－45度除外之角度進行評價，而與人看到的一致。 因此，藉由滿足條件2，能夠抑制反射散射光，而改善影像顯示裝置之對比度。 －35度之平滑化反射光強度與－55度之平滑化反射光強度通常為相同程度。因此，－55度之平滑化反射光強度亦較佳為4.0以下。
滿足條件2且滿足條件1意味著即便產生微量之反射散射光，反射散射光之角度分佈亦均等，不存在偏倚。因此，藉由滿足條件1及2，能夠使觀測者幾乎感受不到反射散射光，能夠對防眩膜賦予漆黑感，能夠對影像顯示裝置賦予高級感。
於條件2中，－35度之平滑化反射光強度較佳為2.0以下，更佳為1.5以下，更佳為1.0以下，更佳為0.5以下，更佳為0.3以下。－55度之平滑化反射光強度亦較佳為上述值。 若條件2之－35度之平滑化反射光強度過小，則影像之解析度趨於降低。因此，－35度之平滑化反射光強度較佳為0.1以上。－55度之平滑化反射光強度亦較佳為上述值。 作為－35度之平滑化反射光強度之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.1以上且4.0以下、0.1以上且2.0以下、0.1以上且1.5以下、0.1以上且1.0以下、0.1以上且0.5以下、0.1以上且0.3以下。
《條件3》 本發明之第2實施形態之防眩膜於上述測定條件測得之平滑化反射光強度較佳為滿足下述條件3。
-條件3- －45度之平滑化反射光強度為8.0以下。
滿足條件3意味著鏡面反射方向即－45度之平滑化反射光強度較小。因此，藉由滿足條件3，能夠在所有方向上抑制反射散射光，進一步改善防眩膜之防眩性、影像顯示裝置之對比度、及防眩膜之漆黑感。
於條件3中，－45度之平滑化反射光強度更佳為4.0以下，進而較佳為2.0以下，進而更佳為1.5以下。 若條件3之－45度之平滑化反射光強度過小，則影像之解析度趨於降低。因此，－45度之平滑化反射光強度較佳為0.1以上。 作為－45度之平滑化反射光強度之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.1以上且8.0以下、0.1以上且4.0以下、0.1以上且2.0以下、0.1以上且1.5以下。
為了便於滿足條件1～3，較佳為具有標高較高之峰以小間隔存在於防眩膜之凹凸表面的構成。認為於上述構成之情形時，主要由於下述（y1）～（y5）之理由而容易滿足條件1～3。
（y1）相鄰之峰之距離較近，因此，在任意峰之表面上反射之反射光大部分入射至相鄰之峰。然後，於相鄰之峰之內部反覆進行全反射，最終向與觀測者200相反之側前進（圖21之實線之圖像）。 （y2）入射至任意峰之陡峭斜面的光之反射光向與觀測者200相反之側前進，而與相鄰之峰無關（圖21之虛線之圖像）。 （y3）相鄰之峰之距離較近，因此，產生鏡面反射光之大致平坦區域較少。 （y4）在以較少比率存在之大致平坦區域中反射之反射光容易碰上相鄰之峰。因此，在大致平坦區域中反射之反射光之角度分佈為大致均等之角度分佈，而不會偏向特定角度。 （y5）入射至任意峰之平緩斜面的光之反射光向觀測者200側前進（圖21之單點鏈線之圖像）。峰之平緩斜面之角度分佈均等，因此，上述反射光之角度分佈亦均等，而不會偏向特定角度。
首先，認為由於上述（y1）～（y3）之理由，能夠抑制反射散射光，因此，能夠一定水準地改善防眩性。 進而，由於上述（y4）及（y5）之理由，即便產生微量之反射散射光，亦能夠使反射散射光之角度分佈均等，能夠容易地滿足條件1～3。即便反射散射光為微量，當反射散射光之角度分佈偏向特定角度時，亦識別為反射光。因此，由於上述（y4）及（y5）之理由，能夠使防眩性變得極好。 又，由於上述（y1）～（y5）之理由，能夠使觀測者幾乎感受不到反射散射光，因此，能夠對防眩膜賦予漆黑感，進而，能夠對影像顯示裝置賦予高級感。
《Sa、Smp》 第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維算術平均粗糙度Sa較佳為0.30 μm以上。又，第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維平均峰間隔Smp較佳為10.00 μm以下。藉由使Sa及Smp處於上述範圍內，容易獲得標高較高之峰以小間隔存在之凹凸表面，能夠容易地滿足條件1～3。
第2實施形態之Sa及Smp之較佳範圍之實施形態如上所述。
第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之Sa/Smp較佳為0.05以上，更佳為0.10以上，進而較佳為0.13以上。藉由使Sa/Smp為0.05以上，能夠進一步提昇標高較高之峰以小間隔存在於防眩層之凹凸表面之傾向，能夠容易地滿足條件1～3。 又，Sa/Smp較佳為0.50以下，更佳為0.40以下，進而較佳為0.25以下。
第2實施形態之Sa/Smp之較佳範圍之實施形態如上所述。
《Sz/Sa》 第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維十點平均粗糙度Sz與Sa之比即Sz/Sa較佳為5.0以上，更佳為5.5以上，進而較佳為6.0以上。藉由使Sz/Sa為5.0以上，而對凹凸表面賦予一定之隨機性，在凹凸表面產生劃傷等缺陷時能夠使其不容易變得明顯。 若Sz/Sa過大，則有可能因為凹凸表面存在特異性部位而產生眩光，或者漆黑感局部降低。因此，Sz/Sa較佳為10.0以下，更佳為8.0以下，進而較佳為7.5以下。
第2實施形態之Sz/Sa之較佳範圍之實施形態如上所述。
《Ssk》 第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維偏斜度Ssk較佳為0.60以下，更佳為0.20以下，進而較佳為0以下。Ssk較小意味著凹凸表面上標高較低之部位之比率較少。因此，藉由使Ssk為0.60以下，容易產生上述（y3）及（y4）之作用，能夠更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果。 若Ssk過小，則由於上述（y5）之作用，反射散射光趨於增加。又，若Ssk過小，則有可能導致相鄰峰之下部重疊，角度較大之斜面消失，上述（y2）之作用降低。因此，Ssk較佳為－1.00以上，更佳為－0.80以上，進而較佳為－0.70以上。
第2實施形態之Ssk之較佳範圍之實施形態如上所述。
《傾斜角》 第2實施形態之防眩膜之凹凸表面較佳為具有特定之傾斜角分佈。 具體而言，關於第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之傾斜角，將超過0度且未達1度之傾斜角定義為θ1，將1度以上且未達3度之傾斜角定義為θ2，將3度以上且未達10度之傾斜角定義為θ3，將10度以上且未達90度之傾斜角定義為θ4。並且，將θ1、θ2、θ3及θ4之合計設為100%時，θ1、θ2、θ3及θ4之比率較佳為處於下述範圍內。藉由使θ1、θ2、θ3及θ4處於下述範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。 θ1≦3.0% 0.5%≦θ2≦15.0% 7.0%≦θ3≦40.0% 50.0%≦θ4≦90.0%
第2實施形態之θ1之較佳範圍之實施形態如上所述。 第2實施形態之θ2之較佳範圍之實施形態如上所述。 第2實施形態之θ3之較佳範圍之實施形態如上所述。 第2實施形態之θ4之較佳範圍之實施形態如上所述。
《標高之振幅譜》 第2實施形態之防眩膜之凹凸表面之標高的振幅譜較佳為滿足特定之條件。 將凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm -1時之振幅定義為AM2。 於上述前提下，第2實施形態之防眩膜之AM1較佳為0.070 μm以上且0.400 μm以下。又，第2實施形態之防眩膜之AM2較佳為0.0050 μm以上。又，第2實施形態之防眩膜較佳為AM2＜AM1。 又，於上述前提下，第2實施形態之防眩膜更佳為AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。
如上所述，AM1係3個空間頻率之振幅的合計，由下述式表示。 AM1＝空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm -1時之振幅 空間頻率為取決於一邊長度之離散值，因此，存在無法獲得與0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1及0.300 μm -1一致之空間頻率之情況。當不存在與上述值一致之空間頻率時，選取最接近上述值之空間頻率之振幅即可。
關於空間頻率及振幅，可對凹凸表面之三維座標資料進行傅立葉變換而獲得。根據凹凸表面之三維座標資料來算出空間頻率及振幅之方法如第1實施形態所敍述。
《AM1、AM2》 關於凹凸表面之標高的振幅譜，可以說空間頻率與「凸部與凸部之間隔之倒數」大致相關，振幅與「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致相關。再者，空間頻率0.005 μm -1表示間隔為200 μm左右，空間頻率0.010 μm -1表示間隔為100 μm左右，空間頻率0.015 μm -1表示間隔為67 μm左右，空間頻率0.300 μm -1表示間隔為3 μm左右。又，可以說「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致與具備特定間隔之凸部之各高度之絕對值成正比。 因此，可以說，間接地特定了AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下、AM2為0.0050 μm以上且AM2＜AM1之凹凸表面具備下述i及ii之凸部群。 ＜i之凸部群＞ 複數個凸部i以67 μm以上且200 μm以下左右之間隔配置，凸部i之高度之絕對值處於特定範圍內者。 ＜ii之凸部群＞ 複數個凸部ii以3 μm左右之間隔配置，凸部ii之高度之絕對值為特定值以上且未達凸部i之高度之絕對值者。
認為具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面首先藉由上述i之凸部群而取得上述（y1）～（y5）之作用。進而，具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面可在相鄰峰之間之大致平坦區域中形成上述ii之凸部群之凸部，因此，能夠減少在大致平坦區域中反射之反射光中所占之鏡面反射光之比率。因此認為，具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面容易改善防眩性、反射散射光之抑制、漆黑感之效果。
為了便於發揮上述效果，AM1較佳為0.090 μm以上且0.390 μm以下，更佳為0.130 μm以上且0.380 μm以下，進而較佳為0.150 μm以上且0.370 μm以下。 若AM過小，則防眩性尤其容易不足。 另一方面，若AM1過大，則影像之解析度趨於降低。又，若AM1過大，則在凹凸表面上全反射之光之比率增加，因此，自與凹凸表面相反之側入射之影像光等光之穿透率趨於降低。又，若AM1過大，則高度絕對值較大之凸部增加，由此，反射至觀測者側之光之比率增加，因而存在反射散射光容易變得明顯之情況。因此，為了抑制解析度及穿透率之降低，並且進一步抑制反射散射光，亦不要使AM1過大為宜。
第2實施形態之AM1之較佳範圍之實施形態如上所述。
為了便於發揮上述效果，AM2較佳為0.0055 μm以上且0.0550 μm以下，更佳為0.0060 μm以上且0.0500 μm以下，進而較佳為0.0070 μm以上且0.0450 μm以下，進而更佳為0.0080 μm以上且0.0400 μm以下。 再者，若AM2過大，則影像之解析度趨於降低。因此，為了抑制解析度之降低，亦不要使AM2過大為宜。
第2實施形態之AM2之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第2實施形態中，將空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅之平均值定義為AM1ave時，AM1ave較佳為0.023 μm以上且0.133 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.130 μm以下，進而較佳為0.043 μm以上且0.127 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.123 μm以下。AM1ave可由下述式表示。 AM1ave＝（空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm -1時之振幅）/3
於第2實施形態中，將空間頻率為0.005 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-1，將空間頻率為0.010 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-2，將空間頻率為0.015 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-3時，AM1-1、AM1-2、AM1-3較佳為處於上述範圍內。藉由使AM1-1、AM1-2、AM1-3處於上述範圍內，容易抑制凸部之間隔一致，因此，能夠容易地抑制反射光之增加。
第2實施形態之AM1-1之較佳範圍之實施形態如上所述。 第2實施形態之AM1-2之較佳範圍之實施形態如上所述。 第2實施形態之AM1-3之較佳範圍之實施形態如上所述。
為了改善週期不同之凸部之平衡，便於產生上述（y1）～（y5）之作用，第2實施形態之防眩膜之AM1/AM2較佳為1.0以上且60.0以下，更佳為2.0以上且50.0以下，進而較佳為3.0以上且40.0以下，進而更佳為4.0以上且30.0以下。
第2實施形態之AM1/AM2之較佳範圍之實施形態如上所述。
＜防眩層＞ 於第2實施形態中，防眩層係負責抑制反射散射光、及防眩性之核心的層。
《防眩層之形成方法》 第2實施形態之防眩層之形成方法如上所述。
於第2實施形態中，上述（d1）為佳，因為相比於上述（d2），（d1）更容易抑制Sa及Smp等表面形狀之偏差。又，於第2實施形態中，上述（d1）為佳，因為相比於上述（d2），（d1）更容易改善AM1與AM2之平衡。
《厚度》 於第2實施形態中，防眩層之厚度T之較佳範圍之實施形態如上所述。
《成分》 於第2實施形態中，防眩層之成分之實施形態如上所述。即，於第2實施形態中，防眩層主要含有樹脂成分，視需要含有有機粒子及無機微粒子等粒子、折射率調整劑、抗靜電劑、防污劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、黏度調整劑及熱聚合起始劑等添加劑。
-粒子- 第2實施形態中之粒子之種類之實施形態如上所述。
有機粒子之比重較輕，故而藉由與下述無機微粒子併用而容易使有機粒子浮起至防眩層之表面附近。因此，於第2實施形態中，藉由將有機粒子與無機微粒子併用，能夠容易地滿足條件1～3，就該方面而言較佳。又，於第2實施形態中，藉由將有機粒子與無機微粒子併用，有機粒子容易形成週期較長之凹凸，無機微粒子容易形成週期較短之凹凸，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近，因而能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。 於第2實施形態中，於僅使用有機粒子作為粒子之情形時，為了容易地滿足條件1～3，較佳為提高防眩層中之有機粒子之含有比率。藉由提高防眩層中之有機粒子之含有比率，容易形成一面上鋪滿有機粒子之形狀，進而，容易在上述形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀。藉由設為該形狀，能夠容易地獲得上述（y1）～（y5）之作用。又，藉由提高有機粒子之含有比率，能夠成為一面上鋪滿有機粒子之形狀而形成週期較短之凹凸即AM2，進而，藉由在一面上鋪滿有機粒子之形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，而形成週期較長之凹凸即AM1。又，藉由一面上鋪滿有機粒子之形狀，能夠容易地減小Smp。進而，藉由在一面上鋪滿有機粒子之形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，能夠容易地增大Sa。
第2實施形態中之粒子之平均粒徑D之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第2實施形態中，藉由使平均粒徑D處於上述範圍內，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。 又，於第2實施形態中，藉由使平均粒徑D為1.0 μm以上，能夠容易地抑制AM1過小，並且能夠容易地使Sa為0.30 μm以上。又，於第2實施形態中，藉由使平均粒徑D為5.0 μm以下，能夠容易地抑制AM1過大，並且能夠容易地使Smp為10.00 μm以下。
於第2實施形態中，粒子之平均粒徑D與防眩層之厚度T之比即D/T之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第2實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。又，於第2實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，於第2實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
於第2實施形態中，粒子之含量之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第2實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。又，於第2實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地抑制AM1過小。又，於第2實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地使Sa為0.30 μm以上，使Smp為10.00 μm以下。 於第2實施形態中，藉由使粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制粒子自防眩層脫落。 於第2實施形態中，於不使用下述無機微粒子之情形時，為了便於表現出上述「鋪滿」及「堆疊」狀態，粒子之含量較佳為設為上述範圍內之相對較多之量。
-無機微粒子- 如上所述，於第2實施形態中，防眩層較佳為除了黏合劑樹脂及粒子以外，進而含有無機微粒子。防眩層尤佳為除了黏合劑樹脂及有機粒子以外，進而含有無機微粒子。
於第2實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，比重相對較輕之有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近，因此，容易使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內，進而，能夠容易地滿足條件1～3。進而，於第2實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，容易在凹凸表面之峰與峰之間形成微細之凹凸，故而鏡面反射光減少，因此，能夠容易地滿足條件1～3。進而，於第2實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，容易在凹凸表面之峰與峰之間形成微細之凹凸，因此能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
第2實施形態中之無機微粒子之種類之實施形態如上所述。 第2實施形態中之無機微粒子之平均粒徑之較佳範圍之實施形態如上所述。
第2實施形態中之無機微粒子之含量之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第2實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地獲得上述基於無機微粒子之效果。又，於第2實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制防眩層之塗膜強度之降低。
-黏合劑樹脂- 第2實施形態中之黏合劑樹脂之種類之實施形態如上所述。
於上述C1之構成之情形時，防眩層塗佈液之黏度因熱塑性樹脂而上升，因此，有機粒子不容易沈降，進而，黏合劑樹脂不容易流下至峰與峰之間。因此，於第2實施形態中，於上述C1之構成之情形時，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。進而，於第2實施形態中，於上述C1之構成之情形時，能夠容易地抑制AM1及AM2過小，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
第2實施形態中之熱塑性樹脂之重量平均分子量之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第2實施形態中，上述C1之構成中之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物與熱塑性樹脂之質量比之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第2實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物90使熱塑性樹脂為10以上，藉此能夠容易地發揮上述防眩層塗佈液之黏度上升所帶來之效果。又，於第2實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物60使熱塑性樹脂為40以下，藉此能夠容易地抑制防眩層之機械強度降低。
於第2實施形態中，於上述C2之構成之情形時，趨向於成為防眩層之底部鋪滿有機粒子且在一部分區域中堆疊有機粒子之狀態，成為薄皮狀黏合劑樹脂覆蓋該等有機粒子之形狀。藉由設為該形狀，容易獲得上述（y1）～（y5）之作用，能夠容易地滿足條件1～3。又，於C2之構成中，由堆疊之有機粒子形成週期較長之凹凸即AM1，由未堆疊之有機粒子形成週期較短之凹凸即AM2於週期較長之凹凸之間。因此，於第2實施形態中，於上述C2之構成之情形時，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。又，於第2實施形態中，於上述C2之構成之情形時，藉由堆疊之有機粒子，能夠容易地使Sa處於上述範圍內，藉由鋪滿之有機粒子，能夠容易地使Smp處於上述範圍內。 再者，於第2實施形態中，於上述C2之構成之情形時，為了便於使黏合劑樹脂為薄皮狀，較佳為相對於有機粒子之黏合劑樹脂之量較上述C1之構成少一些。
如上所述，於第2實施形態中，於防眩層塗佈液中，通常為了調節黏度，或者使各成分可溶解或分散而使用溶劑。 第2實施形態中之溶劑之種類、溶劑之乾燥速度之實施形態如上所述。
如上所述，於第2實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑較佳為將蒸發速度較快之溶劑作為主成分。 於第2實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，而抑制有機粒子沈降至防眩層之下部，進而，黏合劑樹脂不容易流下至峰與峰之間。因此，於第2實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。又，藉由加快溶劑之蒸發速度，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
如上所述，於第2實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑亦較佳為除了含有蒸發速度較快之溶劑以外，亦含有少量之蒸發速度較慢之溶劑。 第2實施形態中之蒸發速度較快之溶劑與蒸發速度較慢之溶劑之質量比之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第2實施形態中，藉由含有蒸發速度較慢之溶劑，而使有機粒子凝聚，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地滿足條件1～3。又，於第2實施形態中，藉由包含蒸發速度較慢之溶劑使有機粒子適度凝聚，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內，並且能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。
＜光學特性＞ 第2實施形態之防眩膜之總光線穿透率、霧度及內部霧度之較佳範圍之實施形態如上所述。
＜其他層＞ 如上所述，第2實施形態之防眩膜亦可具有防眩層及透明基材以外之層即其他層。 第2實施形態中之其他層之實施形態如上所述。
＜大小、形狀等＞ 第2實施形態之防眩膜之大小及形狀之實施形態如上所述。
[第3實施形態之防眩膜] 本發明之第3實施形態之防眩膜具有防眩層，且上述防眩膜具有凹凸表面，上述凹凸表面之三維算術平均粗糙度Sa為0.30 μm以上，三維平均峰間隔Smp為10.00 μm以下。
圖19係本發明之第3實施形態之防眩膜100之剖面形狀的概略剖視圖。 圖19之防眩膜100具備防眩層20，具有凹凸表面。於圖19中，防眩層20之表面為防眩膜之凹凸表面。圖19之防眩膜100於透明基材10上具有防眩層20。圖19之防眩層20具有黏合劑樹脂21及有機粒子22。
本發明之第3實施形態之防眩膜並不限於圖19之積層構成，只要具有Sa為0.30 μm以上且Smp為10.00 μm以下之凹凸表面即可。例如，防眩膜可為防眩層之單層構造，亦可具有抗反射層及防污層等透明基材及防眩層以外之層。於防眩層上具有其他層之情形時，只要使其他層之表面為防眩膜之凹凸表面即可。 於第3實施形態中，防眩膜之較佳之實施形態係透明基材上具有防眩層，且防眩層之與透明基材相反側之表面為防眩膜之凹凸表面者。
＜透明基材＞ 從防眩膜之製造之容易性、及防眩膜之操作性的觀點考慮，第3實施形態之防眩膜較佳為具有透明基材。第3實施形態之透明基材之實施形態如上所述。
＜凹凸表面＞ 第3實施形態之防眩膜需要具有凹凸表面，且上述凹凸表面之Sa為0.30 μm以上，Smp為10.00 μm以下。 於防眩層上不具有其他層之情形時，只要防眩層之表面滿足上述凹凸表面之條件即可。於防眩層上具有其他層之情形時，只要上述其他層之表面滿足上述凹凸表面之條件即可。
《Sa、Smp》 Sa為0.30 μm以上且Smp為10.00 μm以下之凹凸表面表示標高較高之峰以小間隔存在。如此，認為於標高較高之峰以小間隔存在之情形時，主要由於下述（z1）～（z5）之理由，而能夠表現出優異之防眩性，並且抑制反射散射光。
（z1）相鄰之峰之距離較近，因此，在任意峰之表面上反射之反射光大部分入射至相鄰之峰。然後，於相鄰之峰之內部反覆進行全反射，最終向與觀測者200相反之側前進（圖21之實線之圖像）。 （z2）入射至任意峰之陡峭斜面的光之反射光向與觀測者200相反之側前進，而與相鄰之峰無關（圖21之虛線之圖像）。 （z3）相鄰之峰之距離較近，因此，產生鏡面反射光之大致平坦區域較少。 （z4）在以較少比率存在之大致平坦區域中反射之反射光容易碰上相鄰之峰。因此，在大致平坦區域中反射之反射光之角度分佈為大致均等之角度分佈，而不會偏向特定角度。 （z5）入射至任意峰之平緩斜面的光之反射光向觀測者200側前進（圖21之單點鏈線之圖像）。峰之平緩斜面之角度分佈均等，因此，上述反射光之角度分佈亦均等，而不會偏向特定角度。
首先，認為由於上述（z1）～（z3）之理由，能夠抑制反射散射光，因此，能夠以一定水準改善防眩性。 進而，由於上述（z4）及（z5）之理由，即便產生微量之反射散射光，亦能夠使反射散射光之角度分佈均等。即便反射散射光為微量，當反射散射光之角度分佈偏向特定角度時，亦識別為反射光。因此，由於上述（z4）及（z5）之理由，能夠使防眩性變得極好。 又，由於上述（z1）～（z5）之理由，能夠使觀測者幾乎感受不到反射散射光，因此，能夠對防眩膜賦予漆黑感，進而，能夠對影像顯示裝置賦予高級感。
為了更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果，Sa較佳為0.40 μm以上，更佳為0.50 μm以上，進而較佳為0.55 μm以上。 若Sa過大，則影像之解析度趨於降低。又，若Sa過大，則在凹凸表面上全反射之光的比率增加，因此，自與凹凸表面相反之側入射之影像光等光之穿透率趨於降低。因此，Sa較佳為1.00 μm以下，更佳為0.80 μm以下，進而較佳為0.70 μm以下。
第3實施形態之Sa之較佳範圍之實施形態如上所述。
從防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果在面內之均等性的觀點考慮，Sa之偏差較佳為0.090 μm以下，更佳為0.070 μm以下，進而較佳為0.050 μm以下。 Sa之偏差之下限並無特別限定，通常為0.010 μm以上，較佳為0.020 μm以上。 於本說明書中，偏差意指標準偏差σ。於本說明書中，各種參數之偏差意指上述16個部位之測定值之偏差。
作為Sa之偏差之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.010 μm以上且0.090 μm以下、0.010 μm以上且0.070 μm以下、0.010 μm以上且0.050 μm以下、0.020 μm以上且0.090 μm以下、0.020 μm以上且0.070 μm以下、0.020 μm以上且0.050 μm以下。
為了更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果，Smp較佳為8.00 μm以下，更佳為6.00 μm以下，進而較佳為4.50 μm以下，進而更佳為3.50 μm以下。 若Smp過小，則有可能導致相鄰峰之下部重疊，角度較大之斜面消失，上述（z2）之作用降低。因此，Smp較佳為1.00 μm以上，更佳為1.50 μm以上，進而較佳為2.00 μm以上。
第3實施形態之Smp之較佳範圍之實施形態如上所述。
從防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果在面內之均等性的觀點考慮，Smp之偏差較佳為3.00 μm以下，更佳為2.00 μm以下，進而較佳為1.00 μm以下，進而更佳為0.50 μm以下。 若Smp之偏差過小，則有可能因為與顯示元件之像素組合而產生波紋。因此，Smp之偏差較佳為0.05 μm以上，更佳為0.10 μm以上，進而較佳為0.15 μm以上。
作為Smp之偏差之較佳範圍之實施形態，可列舉：0.05 μm以上且3.00 μm以下、0.05 μm以上且2.00 μm以下、0.05 μm以上且1.00 μm以下、0.05 μm以上且0.50 μm以下、0.10 μm以上且3.00 μm以下、0.10 μm以上且2.00 μm以下、0.10 μm以上且1.00 μm以下、0.10 μm以上且0.50 μm以下、0.15 μm以上且3.00 μm以下、0.15 μm以上且2.00 μm以下、0.15 μm以上且1.00 μm以下、0.15 μm以上且0.50 μm以下。
第3實施形態之防眩膜之Sa/Smp較佳為0.05以上，更佳為0.10以上，進而較佳為0.13以上。藉由使Sa/Smp為0.05以上，能夠進一步提昇標高較高之峰以小間隔存在於防眩膜之凹凸表面之傾向，能夠更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果。 若Sa/Smp過大，則有可能產生上述Sa過大時之作用、及上述Smp過小時之作用。因此，Sa/Smp較佳為0.50以下，更佳為0.40以下，進而較佳為0.25以下。
第3實施形態之Sa/Smp之較佳範圍之實施形態如上所述。
《Sz/Sa》 第3實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維十點平均粗糙度Sz與Sa之比即Sz/Sa較佳為5.0以上，更佳為5.5以上，進而較佳為6.0以上。藉由使Sz/Sa為5.0以上，而對凹凸表面賦予一定之隨機性，在凹凸表面產生劃傷等缺陷時能夠使其不容易變得明顯。 若Sz/Sa過大，則有可能因為凹凸表面存在特異部位而產生眩光，或者漆黑感局部降低。因此，Sz/Sa較佳為10.0以下，更佳為8.0以下，進而較佳為7.5以下。
第3實施形態之Sz/Sa之較佳範圍之實施形態如上所述。
《Ssk》 第3實施形態之防眩膜之凹凸表面之三維偏斜度Ssk較佳為0.60以下，更佳為0.20以下，進而較佳為0以下。Ssk較小意味著凹凸表面上標高較低之部位之比率較少。因此，藉由使Ssk為0.60以下，容易產生上述（z3）及（z4）之作用，能夠更容易地發揮防眩性、反射散射光之抑制及漆黑感之效果。 若Ssk過小，則由於上述（z5）之作用，反射散射光趨於增加。又，若Ssk過小，則有可能導致相鄰峰之下部重疊，角度較大之斜面消失，上述（z2）之作用降低。因此，Ssk較佳為－1.00以上，更佳為－0.80以上，進而較佳為－0.70以上。
第3實施形態之Ssk之較佳範圍之實施形態如上所述。
《傾斜角》 第3實施形態之防眩膜之凹凸表面較佳為具有特定之傾斜角分佈。 具體而言，關於防眩膜之凹凸表面之傾斜角，將超過0度且未達1度之傾斜角定義為θ1，將1度以上且未達3度之傾斜角定義為θ2，將3度以上且未達10度之傾斜角定義為θ3，將10度以上且未達90度之傾斜角定義為θ4。並且，將θ1、θ2、θ3及θ4之合計設為100%時，θ1、θ2、θ3及θ4之比率較佳為處於下述範圍內。藉由使θ1、θ2、θ3及θ4處於下述範圍內，能夠容易地產生上述（z1）～（z5）之作用，並且能夠容易地抑制解析度之降低。 θ1≦3.0% 0.5%≦θ2≦15.0% 7.0%≦θ3≦40.0% 50.0%≦θ4≦90.0%
第3實施形態之θ1之較佳範圍之實施形態如上所述。 第3實施形態之θ2之較佳範圍之實施形態如上所述。 第3實施形態之θ3之較佳範圍之實施形態如上所述。 第3實施形態之θ4之較佳範圍之實施形態如上所述。
《標高的振幅譜》 第3實施形態之防眩膜之凹凸表面之標高的振幅譜較佳為滿足特定之條件。 將凹凸表面之標高的振幅譜中之空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅的合計定義為AM1，將空間頻率為0.300 μm -1時之振幅定義為AM2。 於上述前提下，第3實施形態之防眩膜之AM1較佳為0.070 μm以上且0.400 μm以下。又，第3實施形態之防眩膜之AM2較佳為0.0050 μm以上。又，第3實施形態之防眩膜較佳為AM2＜AM1。 又，於上述前提下，第3實施形態之防眩膜更佳為AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下，AM2為0.0050 μm以上，且AM2＜AM1。
如上所述，AM1係3個空間頻率之振幅的合計，由下述式表示。 AM1＝空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm -1時之振幅 空間頻率為取決於一邊長度之離散值，因此，存在無法獲得與0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1及0.300 μm -1一致之空間頻率之情況。當不存在與上述值一致之空間頻率時，選取最接近上述值之空間頻率之振幅即可。
關於空間頻率及振幅，可對凹凸表面之三維座標資料進行傅立葉變換而獲得。根據凹凸表面之三維座標資料來算出空間頻率及振幅之方法如第1實施形態所敍述。
《AM1、AM2》 關於凹凸表面之標高的振幅譜，可以說空間頻率與「凸部與凸部之間隔之倒數」大致相關，振幅與「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致相關。再者，空間頻率0.005 μm -1表示間隔為200 μm左右，空間頻率0.010 μm -1表示間隔為100 μm左右，空間頻率0.015 μm -1表示間隔為67 μm左右，空間頻率0.300 μm -1表示間隔為3 μm左右。又，可以說「具備特定間隔之凸部之標高之變化量」大致與具備特定間隔之凸部之各高度之絕對值成正比。 因此，可以說，間接地特定了AM1為0.070 μm以上且0.400 μm以下、AM2為0.0050 μm以上且AM2＜AM1之凹凸表面具備下述i及ii之凸部群。 ＜i之凸部群＞ 複數個凸部i以67 μm以上且200 μm以下左右之間隔配置，凸部i之高度之絕對值處於特定範圍內者。 ＜ii之凸部群＞ 複數個凸部ii以3 μm左右之間隔配置，凸部ii之高度之絕對值為特定值以上且未達凸部i之高度之絕對值者。
認為具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面首先藉由上述i之凸部群而取得上述（z1）～（z5）之作用。進而，具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面可在相鄰峰之間之大致平坦區域中形成上述ii之凸部群之凸部，因此，能夠減少在大致平坦區域中反射之反射光中所占之鏡面反射光之比率。因此認為，具備上述i及ii之凸部群之凹凸表面容易改善防眩性、反射散射光之抑制、漆黑感之效果。
為了便於發揮上述效果，AM1較佳為0.090 μm以上且0.390 μm以下，更佳為0.130 μm以上且0.380 μm以下，進而較佳為0.150 μm以上且0.370 μm以下。 若AM過小，則防眩性尤其容易不足。 另一方面，若AM1過大，則影像之解析度趨於降低。又，若AM1過大，則在凹凸表面上全反射之光之比率增加，因此，自與凹凸表面相反之側入射之影像光等光之穿透率趨於降低。又，若AM1過大，則高度絕對值較大之凸部增加，由此，反射至觀測者側之光之比率增加，因而存在反射散射光容易變得明顯之情況。因此，為了抑制解析度及穿透率之降低，並且進一步抑制反射散射光，亦不要使AM1過大為宜。
第3實施形態之AM1之較佳範圍之實施形態如上所述。
為了便於發揮上述效果，AM2較佳為0.0055 μm以上且0.0550 μm以下，更佳為0.0060 μm以上且0.0500 μm以下，進而較佳為0.0070 μm以上且0.0450 μm以下，進而更佳為0.0080 μm以上且0.0400 μm以下。 再者，若AM2過大，則影像之解析度趨於降低。因此，為了抑制解析度之降低，亦不要使AM2過大為宜。
第3實施形態之AM2之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第3實施形態中，將空間頻率分別為0.005 μm -1、0.010 μm -1、0.015 μm -1時所對應之振幅之平均值定義為AM1ave時，AM1ave較佳為0.023 μm以上且0.133 μm以下，更佳為0.030 μm以上且0.130 μm以下，進而較佳為0.043 μm以上且0.127 μm以下，進而更佳為0.050 μm以上且0.123 μm以下。AM1ave可由下述式表示。 AM1ave＝（空間頻率為0.005 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.010 μm -1時之振幅＋空間頻率為0.015 μm -1時之振幅）/3
於第3實施形態中，將空間頻率為0.005 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-1，將空間頻率為0.010 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-2，將空間頻率為0.015 μm -1時所對應之振幅定義為AM1-3時，AM1-1、AM1-2、AM1-3較佳為處於上述範圍內。藉由使AM1-1、AM1-2、AM1-3處於上述範圍內，容易抑制凸部之間隔一致，因此，能夠容易地抑制反射光之增加。
第3實施形態之AM1-1之較佳範圍之實施形態如上所述。 第3實施形態之AM1-2之較佳範圍之實施形態如上所述。 第3實施形態之AM1-3之較佳範圍之實施形態如上所述。
為了改善週期不同之凸部之平衡，便於產生上述（z1）～（z5）之作用，第3實施形態之防眩膜之AM1/AM2較佳為1.0以上且60.0以下，更佳為2.0以上且50.0以下，進而較佳為3.0以上且40.0以下，進而更佳為4.0以上且30.0以下。
第3實施形態之AM1/AM2之較佳範圍之實施形態如上所述。
＜防眩層＞ 於第3實施形態中，防眩層係負責抑制反射散射光、及防眩性之核心的層。
《防眩層之形成方法》 第3實施形態之防眩層之形成方法如上所述。
於第3實施形態中，上述（d1）為佳，因為相比於上述（d2），（d1）更容易抑制Sa及Smp等表面形狀之偏差。又，於第3實施形態中，上述（d1）為佳，因為相比於上述（d2），（d1）更容易改善AM1與AM2之平衡。
《厚度》 於第3實施形態中，防眩層之厚度T之較佳範圍之實施形態如上所述。
《成分》 於第3實施形態中，防眩層之成分之實施形態如上所述。即，於第3實施形態中，防眩層主要含有樹脂成分，視需要含有有機粒子及無機微粒子等粒子、折射率調整劑、抗靜電劑、防污劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、黏度調整劑及熱聚合起始劑等添加劑。
-粒子- 第3實施形態中之粒子之種類之實施形態如上所述。
有機粒子之比重較輕，故而藉由與下述無機微粒子併用而容易使有機粒子浮起至防眩層之表面附近。因此，於第3實施形態中，藉由將有機粒子與無機微粒子併用，能夠容易地使Sa、Smp及Ssk等表面形狀處於上述範圍內，就該方面而言較佳。又，於第3實施形態中，藉由將有機粒子與無機微粒子併用，有機粒子容易形成週期較長之凹凸，無機微粒子容易形成週期較短之凹凸，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。 於第3實施形態中，於僅使用有機粒子作為粒子之情形時，為了容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內，較佳為提高防眩層中之有機粒子之含有比率。藉由提高防眩層中之有機粒子之含有比率，而成為一面上鋪滿有機粒子之形狀而容易減小Smp，進而，藉由在上述形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，能夠容易地增大Sa。又，藉由提高有機粒子之含有比率，能夠成為一面上鋪滿有機粒子之形狀而形成週期較短之凹凸即AM2，進而，藉由在一面上鋪滿有機粒子之形狀之中部分地形成堆疊有機粒子之形狀，而形成週期較長之凹凸即AM1。
第3實施形態中之粒子之平均粒徑D之較佳範圍之實施形態如上所述。 藉由使平均粒徑D為1.0 μm以上，能夠容易地使Sa為0.30 μm以上，並且能夠容易地抑制AM1過小。又，藉由使平均粒徑D為5.0 μm以下，能夠容易地使Smp為10.00 μm以下，並且能夠容易地抑制AM1過大。
於第3實施形態中，粒子之平均粒徑D與防眩層之厚度T之比即D/T之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第3實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，容易使凹凸表面之峰之高度及峰之間隔處於適當範圍內，能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。又，於第3實施形態中，藉由使D/T處於上述範圍內，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
於第3實施形態中，粒子之含量之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第3實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地使Sa為0.30 μm以上，使Smp為10.00 μm以下，使Ssk為0.40以下。又，於第3實施形態中，藉由使粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地抑制AM1過小。 於第3實施形態中，藉由使粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制粒子自防眩層脫落。 於第3實施形態中，於不使用下述無機微粒子之情形時，為了便於表現出上述「堆疊」狀態，粒子之含量較佳為設為上述範圍內之相對較多之量。
-無機微粒子- 如上所述，於第3實施形態中，防眩層較佳為除了黏合劑樹脂及粒子以外，進而含有無機微粒子。防眩層尤佳為除了黏合劑樹脂及有機粒子以外，進而含有無機微粒子。
於第3實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，比重相對較輕之有機粒子容易浮起至防眩層之表面附近，因此，能夠容易地使Sa、Smp及Ssk等表面形狀處於上述範圍內。進而，於第3實施形態中，藉由使防眩層含有無機微粒子，容易在凹凸表面之峰與峰之間形成微細之凹凸，因此，能夠容易地減少鏡面反射光。進而，藉由使防眩層含有無機微粒子，容易在凹凸表面之峰與峰之間形成微細之凹凸，因此，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
第3實施形態中之無機微粒子之種類之實施形態如上所述。 第3實施形態中之無機微粒子之平均粒徑之較佳範圍之實施形態如上所述。
第3實施形態中之無機微粒子之含量之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第3實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為40質量份以上，能夠容易地獲得上述基於無機微粒子之效果。又，於第3實施形態中，藉由使無機微粒子之含量為200質量份以下，能夠容易地抑制防眩層之塗膜強度之降低。
-黏合劑樹脂- 第3實施形態中之黏合劑樹脂之種類之實施形態如上所述。
於上述C1之構成之情形時，防眩層塗佈液之黏度因熱塑性樹脂而上升，因此，有機粒子不容易沈降，進而，黏合劑樹脂不容易流下至峰與峰之間。因此，於第3實施形態中，於上述C1之構成之情形時，能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。進而，於第3實施形態中，於上述C1之構成之情形時，能夠容易地抑制AM1及AM2過小。
第3實施形態中之熱塑性樹脂之重量平均分子量之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第3實施形態中，上述C1之構成中之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物與熱塑性樹脂之質量比之較佳範圍之實施形態如上所述。 於第3實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物90為使熱塑性樹脂10以上，藉此能夠容易地發揮上述防眩層塗佈液之黏度上升所帶來之效果。又，於第3實施形態中，相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物60使熱塑性樹脂為40以下，藉此能夠容易地抑制防眩層之機械強度降低。
於第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，趨向於成為防眩層之底部鋪滿有機粒子且在一部分區域中堆疊有機粒子之狀態，成為薄皮狀黏合劑樹脂覆蓋該等有機粒子之形狀。因此，於第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，藉由堆疊之有機粒子，能夠容易地使Sa處於上述範圍內，藉由鋪滿之有機粒子，能夠容易地使Smp處於上述範圍內。又，於第3實施形態中，上述C2之構成時，由堆疊之有機粒子形成週期較長之凹凸即AM1，由未堆疊之有機粒子形成週期較短之凹凸即AM2於週期較長之凹凸之間。因此，於第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。 再者，於第3實施形態中，於上述C2之構成之情形時，為了便於使黏合劑樹脂為薄皮狀，較佳為相對於有機粒子之黏合劑樹脂之量較上述C1之構成少一些。
如上所述，於第3實施形態中，於防眩層塗佈液中，通常為了調節黏度，或者使各成分可溶解或分散而使用溶劑。 第3實施形態中之溶劑之種類、溶劑之乾燥速度之實施形態如上所述。
如上所述，於第3實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑較佳為將蒸發速度較快之溶劑作為主成分。 於第3實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，而抑制有機粒子沈降至防眩層之下部，進而，黏合劑樹脂不容易流下至峰與峰之間。因此，於第3實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，能夠容易地使Sa及Smp等表面形狀處於上述範圍內。又，於第3實施形態中，藉由加快溶劑之蒸發速度，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
如上所述，於第3實施形態中，防眩層塗佈液中之溶劑亦較佳為除了含有蒸發速度較快之溶劑以外，亦含有少量之蒸發速度較慢之溶劑。 第3實施形態中之蒸發速度較快之溶劑與蒸發速度較慢之溶劑之質量比之較佳範圍之實施形態如上所述。
於第3實施形態中，藉由包含蒸發速度較慢之溶劑，而使有機粒子凝聚，能夠容易地使Sa及Smp等處於上述範圍內。又，於第3實施形態中，藉由包含蒸發速度較慢之溶劑使有機粒子適度凝聚，能夠容易地使AM1及AM2處於上述範圍內。
＜光學特性＞ 第3實施形態之防眩膜之總光線穿透率、霧度及內部霧度之較佳範圍之實施形態如上所述。
＜其他層＞ 如上所述，第3實施形態之防眩膜亦可具有防眩層及透明基材以外之層即其他層。 第3實施形態中之其他層之實施形態如上所述。
＜大小、形狀等＞ 第3實施形態之防眩膜之大小及形狀之實施形態如上所述。
[影像顯示裝置] 本發明之影像顯示裝置係將第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態中任一防眩膜以上述凹凸表面側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置於顯示元件上，且將上述防眩膜配置於最表面而成（參照圖3）。
作為顯示元件，可列舉：液晶顯示元件、有機EL顯示元件及無機EL顯示元件等EL顯示元件、電漿顯示元件等，進而可列舉微LED顯示元件等LED顯示元件。該等顯示元件可於顯示元件之內部具有觸控面板功能。 作為液晶顯示元件之液晶之顯示方式，可列舉：IPS方式、VA方式、多疇方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。於顯示元件為液晶顯示元件之情形時，需要背光。背光配置在液晶顯示元件之配置有防眩膜之側的相反側。
本發明之影像顯示裝置可為顯示元件與防眩膜之間具有觸控面板之帶觸控面板之影像顯示裝置。於此情形時，只要在帶觸控面板之影像顯示裝置之最表面配置防眩膜，且配置為防眩膜之凹凸表面側之面朝向與顯示元件相反之側即可。
影像顯示裝置之大小並無特別限定，有效顯示區域之最大直徑為2英吋以上且500英吋以下左右。 所謂影像顯示裝置之有效顯示區域，係指可顯示影像之區域。例如，於影像顯示裝置具有包圍顯示元件之殼體之情形時，殼體之內側之區域為有效影像區域。 所謂有效影像區域之最大直徑，係指連結有效影像區域內之任意2點時之最大長度。例如，於有效影像區域為長方形之情形時，長方形之對角線為最大直徑。於有效影像區域為圓形之情形時，圓之直徑為最大直徑。 [實施例]
其次，藉由實施例對本發明更詳細地進行說明，但本發明並不受到該等例任何限定。只要無特別說明，則「份」及「%」係設為質量基準。
《第1實施形態之實施例及比較例》 1.測定及評價 如上所述，進行實施例及比較例之防眩膜之測定及評價。進行各測定及評價時之氣體環境係設為溫度23±5℃、濕度40%以上且65%以下。又，開始各測定及評價之前，將對象樣本暴露於上述氣體環境中30分鐘以上之後再進行測定及評價。將結果示於表1或表2中。
1-1.AM1及AM2之測定 將實施例及比較例之防眩膜切斷成10 cm×10 cm。藉由目視確認無污物或劃傷等異常點之後，自隨機部位選擇切斷部位。經由Panac公司之光學透明黏著片材（商品名：PANACLEAN PD-S1，厚度25 μm），將被切斷之防眩膜之透明基材側貼合於縱10 cm×橫10 cm大小之玻璃板（厚度2.0 mm），而製作樣本1。 使用白色干涉顯微鏡（New View7300，Zygo公司），於測量台放置樣本1使其為固定且密接於測量台之狀態後，於以下之測定條件1及解析條件1，對防眩膜之凹凸表面之標高進行測定及解析，由此算出AM1及AM2。測定解析軟體係使用MetroPro ver9.0.10之Microscope Application。
（測定條件1） 物鏡：50倍 圖像縮放（Image Zoom）：1倍 測定區域：218 μm×218 μm 解析度（每1點之間隔）：0.22 μm ・儀器（Instrument）：NewView7000 Id 0 SN 073395 ・擷取模式（Acquisition Mode）：掃描（Scan） ・掃描類型（Scan Type）：雙極（Bipolar） ・相機模式（Camera Mode）：992×992 48 Hz ・消除系統誤差（Subtract Sys Err）：關（Off） ・系統誤差檔案（Sys Err File）：SysErr.dat ・AGC：關（Off） ・相位解析度（Phase Res）：高（High） ・連接順序（Connection Order）：位置（Location） ・斷開操作（Discon Action）：濾波器（Filter） ・最小模式（Min Mod）（%）：0.01 ・最小區域尺寸（Min Area Size）：7 ・去除邊緣（Remove Fringes）：關（Off） ・平均次數（Number of Averages）：0 ・FDA雜訊閾值（FDA Noise Threshold）：10 ・掃描長度（Scan Length）：15 μm雙極（bipolar）（6 sec） ・擴展掃描長度（Extended Scan Length）：1000 μm ・FDA解析度（FDA Res）：高（High） 2G
（解析條件1） ・去除（Removed）：無（None） ・資料填充（Data Fill）：開（On） ・最大資料填充（Data Fill Max）：10000 ・濾波器（Filter）：高通（HighPass） ・濾波器類型（FilterType）：高斯樣條（GaussSpline） ・濾波器窗口尺寸（Filter Window Size）：3 ・濾波器調整（Filter Trim）：關（Off） ・濾波器低波長（Filter Low wavelength）：800 μm ・最小區域尺寸（Min Area Size）：0 ・去除尖峰（Remove spikes）：開（On） ・尖峰高度（Spike Height）（xRMS）：2.5 低波長（Low wavelength）相當於粗糙度參數中之臨界值λc。
（AM1及AM2之算出步序） 於Surface Map畫面上顯示「保存資料（Save Data）」按鈕，將解析後之三維曲面粗糙度資料以「XYZ File（*.xyz）」之格式保存。其次，將其導出至Microsoft公司之Excel（註冊商標），而獲得標高之二維函數h（x,y）。所獲得之原始資料之數量係縱992列×橫992行＝984064個點，一邊之長度（MΔx或NΔy）為218 μm，但藉由重複實施41次外周資料之刪除，而獲得縱910列×橫910行＝828100個點且上述一邊之長度為200 μm之資料。其次，使用統計解析軟體R（ver3.6.3），分別計算標高之二維函數（縱910列×橫910行）中之各列及各行之標高之一維振幅譜Hx'（fx）、Hy'（fy），對與各個空間頻率值對應之振幅之值求平均，由此獲得標高之一維振幅譜H"（f）。針對各樣本，對16個部位之表面測定標高之一維函數H"（f），對與各個空間頻率值對應之振幅之值求平均，將其結果作為標高之一維振幅譜H（f）。 繼而，自所獲得之資料選取AM2，並且計算AM1。又，將空間頻率為0.005 μm -1時所對應之振幅AM1-1、空間頻率為0.010 μm -1時所對應之振幅AM1-2、空間頻率為0.015 μm -1時所對應之振幅AM1-3之值示於表1中。 圖6～18示出了實施例1-1～1-7及比較例1-1～1-6之防眩膜之凹凸表面之標高的振幅譜之離散函數H（f）。圖中，橫軸表示空間頻率（單位為「μm -1」），縱軸表示振幅（單位為「μm」）。
1-2.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz） 將實施例及比較例之防眩膜切斷成10 cm見方。藉由目視確認無污物或劃傷等異常點之後，自隨機部位選擇切斷部位。使用霧度計（HM-150，村上色彩技術研究所製造），測定各樣本之JIS K7361-1：1997之總光線穿透率、及JIS K7136：2000之霧度。 提前打開裝置之電源開關之後等待15分鐘以上以使光源穩定，於入口開口處不設置任何東西之情況進行校正，其後，於入口開口處設置測定樣本進行測定。光入射面係設為透明基材側。
1-3.防眩性1（鏡面反射方向之防眩性） 將實施例及比較例之防眩膜切斷成10 cm×10 cm。藉由目視確認無污物或劃傷等異常點之後，自隨機部位選擇切斷部位。經由Panac公司之光學透明黏著片材（商品名：PANACLEAN PD-S1，厚度25 μm），將被切斷之防眩膜之透明基材側貼合於縱10 cm×橫10 cm大小之黑色板（可樂麗公司，商品名：COMOGLAS DFA2CG 502K（黑）系，厚度2 mm），而製作樣本2。 將樣本2以凹凸表面為上之方式設置於高度70 cm之水平台，於明室環境，自照明光之鏡面反射方向之角度，按照下述評價基準評價照明光向凹凸表面之映入。評價時，以自照明中央射出之光對於樣本2之入射角為10度之方式，調整樣本2相對於照明之位置。照明係使用Hf32型之直管三波長型日光色螢光燈，照明之位置係設為鉛垂方向上距水平台2 m上方之高度。又，評價係於樣本之凹凸表面上之照度為500 lux以上且1000 lux以下之範圍內實施。觀測者之眼睛之位置係設為距離地板160 cm前後。觀測者係視力為0.7以上之30多歲之健康的人。 ＜評價基準＞ A：無照明輪廓，位置亦未知 B：無照明之輪廓，但模糊地知曉位置 C：模糊地知曉照明輪廓及位置 D：照明輪廓不怎麼模糊，位置亦清晰可知
1-4.防眩性2（各種角度之防眩性） 兩手拿著1-3中製作之樣本2，一面變更樣本2之高度及角度，一面進行評價，除了變更上述方面以外，以與1-3相同之方式評價照明光向凹凸表面之映入。上述角度之變更係於自照明中央射出之光對於樣本2之入射角為10度以上且70度以下之範圍內實施。
1-5.反射散射光（≒漆黑感） 將1-3中製作之樣本2以凹凸表面為上之方式設置於高度70 cm之水平台。調整樣本2相對於照明之位置，以使來自照明之射出光中射出角最強之光勉強不會入射至樣本2。藉由上述調整，以觀測者為基準之樣本之位置配置於較1-3之樣本之位置更遠離觀測者之側。 於上述位置配置樣本2，按照下述評價基準評價反射散射光之程度。觀測者之視線係設為距離地板160 cm前後。觀測者係視力為0.7以上之30多歲之健康的人。 ＜評價基準＞ A：感覺不到散射光之白度，足夠黑 B：感覺到少許散射光之白度，但不明顯 C：明顯地感覺到散射光之白度
1-6.表面形狀之測定 使用白色干涉顯微鏡（New View7300，Zygo公司），於測量台放置1-1中製作之樣本1使其為固定且密接於測量台之狀態後，進行防眩膜之表面形狀之測定及解析。測定條件及解析條件係與1-1中之測定條件1及解析條件1相同。測定解析軟體係使用MetroPro ver9.0.10（64-bit）之Microscope Application。實施例1-6及1-7、以及比較例1-3及1-6被排除在表面形狀之測定對象之外。
於Surface Map畫面上顯示「Ra」、「SRz」、「Rsk」，將各個數值作為各測定區域之Sa、Sz、Ssk。 其次，於上述Surface Map畫面中顯示「保存資料（Save Data）」按鈕，保存解析後之三維曲面粗糙度資料。然後，利用Advanced Texture Application，讀入上述保存資料，並應用以下之解析條件2。 （解析條件2） ・高FFT濾波器（High FFT Filter）：關（off） ・低FFT濾波器（Low FFT Filter）：關（off） ・計算高頻（Calc High Frequency）：開（On） ・計算低頻（Calc Low Frequency）：開（On） ・濾波器調整（Filter Trim）：開（On） ・去除尖峰（Remove spikes）：關（Off） ・尖峰高度（Spike Height）（xRMS）：5.00 ・雜訊濾波器尺寸（Noise Filter Size）：0 ・雜訊濾波器類型（Noise Filter Type）：2 Sigma ・填充資料（Fill Data）：關（Off） ・最大資料填充（Data Fill Max）：25 ・調整（Trim）：0 ・調整模式（Trim Mode）：All ・去除（Remove）：平面（Plane） ・參考頻帶（Reference Band）：0 μm ・最小峰/谷區域（Min Peaks/Valleys Area）：0 μm 2・最大峰/谷區域（Max Peaks/Valleys Area）：0 μm 2
繼而，顯示「峰/谷（Peaks/Valleys）」畫面，於「參考頻帶（Reference Band）：0 μm」「最小峰/谷區域（Min Peaks/Valleys Area）：0 μm 2」「最大峰/谷區域（Max Peaks/Valleys Area）：0 μm 2」之條件實施解析，將「峰間隔（Peak Spacing）」上所顯示之數值作為各測定區域之Smp。
其次，利用上述解析軟體（MetroPro ver9.0.10（64-bit）之Microscope Application）顯示Slope Mag Map畫面，於上述畫面中，以橫軸為值（Value）（μm/mm），將縱軸設為計數（Counts）來顯示柱狀圖，利用反正切函數將橫軸換算成角度，藉此獲得三維表面傾斜角度分佈之柱狀圖資料。針對各個測定樣本，改變nBins之數值進行調整，以便各個測定樣本都能獲得換算後之傾斜角度每次變化1度以下之角度分佈柱狀圖。基於所獲得之柱狀圖資料，算出超過0度且未達1度之傾斜角（θ1）、1度以上且未達3度之傾斜角（θ2）、3度以上且未達10度之傾斜角（θ3）、10度以上且未達90度之傾斜角（θ4）。
2.防眩膜之製作 [實施例1-1] 於透明基材（厚度80 μm之三乙醯纖維素樹脂膜（TAC），FUJIFILM公司，TD80UL）上塗佈下述配方之防眩層塗佈液1，以70℃、風速5 m/s乾燥30秒鐘後，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為100 mJ/cm 2之方式照射紫外線，而形成防眩層，從而獲得實施例1-1之防眩膜。防眩層之厚度係5.0 μm。防眩膜之與防眩層相反之側之Ra為0.012 μm。
＜防眩層塗佈液1＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 58.2份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・丙烯酸胺酯低聚物    18.2份 （DIC公司，商品名：V-4000BA） ・熱塑性樹脂   23.6份 （丙烯酸聚合物，三菱麗陽公司，分子量75,000） ・有機粒子      63.6份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑2.0 μm，折射率1.515） （粒徑1.8 μm以上且2.2 μm以下之粒子之比率為90%以上） ・無機微粒子分散液    230份 （日產化學公司，表面導入反應性官能基之二氧化矽，溶劑：MIBK，固形物成分：35.5%） （平均粒徑12 nm） （無機微粒子之有效成分：81.9份） ・光聚合起始劑     5.5份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑     1.8份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑  0.2份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     346.8份 ・溶劑（環己酮）  17.9份
[實施例1-2～1-7]、[比較例1-1～1-6] 除了將防眩層塗佈液1變更為表1所記載之序號之防眩層塗佈液以外，以與實施例1-1相同之方式獲得實施例1-2～1-7、及比較例1-1～1-6之防眩膜。防眩層塗佈液2～13之組成如下所示。 防眩層塗佈液1～13有時亦於第2實施形態及第3實施形態之實施例中使用。
＜防眩層塗佈液2＞ 除了將防眩層塗佈液1之有機粒子變更為「平均粒徑4.0 μm，折射率1.515（積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物，粒徑3.8 μm以上且4.2 μm以下之粒子之比率為90%以上）」之有機粒子以外，由與防眩層塗佈液1相同之組成所構成的塗佈液。
＜防眩層塗佈液3＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 100份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・有機粒子      129.8份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑2.0 μm，折射率1.515） （粒徑1.8 μm以上且2.2 μm以下之粒子之比率為90%以上） ・光聚合起始劑     6.4份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑     1.0份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑  0.1份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     498.4份 ・溶劑（環己酮）  55.4份
＜防眩層塗佈液4＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 100份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・有機粒子      99.6份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑2.0 μm，折射率1.515） （粒徑1.8 μm以上且2.2 μm以下之粒子之比率為90%以上） ・二氧化矽粒子     10份 （平均粒徑：4.1 μm） （Fuji Silysia Chemical公司製造，凝膠法不定形二氧化矽） ・光聚合起始劑     6.1份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑     1.1份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・溶劑（甲苯）     452.9份 ・溶劑（環己酮）  50.3份 ・溶劑（乙酸乙酯）    2.6份
＜防眩層塗佈液5＞ 除了將防眩層塗佈液1中之有機粒子之添加量自63.6份變更為50.0份，將無機微粒子分散液之添加量自230份變更為187份以外，由與防眩層塗佈液1相同之組成所構成的塗佈液。
＜防眩層塗佈液6＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 100份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・二氧化矽粒子     14份 （平均粒徑：4.1 μm） （Fuji Silysia Chemical公司製造，凝膠法不定形二氧化矽） ・光聚合起始劑     5份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・聚矽氧系調平劑  0.2份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     150份 ・溶劑（MIBK）   35份 ・溶劑（乙酸乙酯）    5.2份
＜防眩層塗佈液7＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 65份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・丙烯酸胺酯低聚物    35份 （DIC公司，商品名：V-4000BA） ・有機粒子      14份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑3.5 μm，折射率1.550） ・二氧化矽粒子     6份 （平均粒徑：12 nm） （NIPPON AEROSIL公司製造，發煙二氧化矽（fumed silica）） ・光聚合起始劑     5份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・聚矽氧系調平劑  0.025份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     100份 ・溶劑（環己酮）  20份 ・溶劑（異丙醇）  55份
＜防眩層塗佈液8＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 33份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・異三聚氰酸EO改質三丙烯酸酯    52份 （東亞合成公司，商品名：M-313） ・熱塑性樹脂   15份 （丙烯酸聚合物，三菱麗陽公司，分子量75,000） ・有機粒子      16份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑3.5 μm，折射率1.555） （粒徑3.2 μm以上且3.8 μm以下之粒子之比率為90%以上） ・無機微粒子分散液    158份 （日產化學公司，表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑：MIBK，固形物成分：40%） （平均粒徑：12 nm） ・光聚合起始劑     5份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・聚矽氧系調平劑  0.20份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     211份 ・溶劑（丙二醇單甲醚乙酸酯）     165份
＜防眩層塗佈液9＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 91.5份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・丙烯酸胺酯低聚物    8.5份 （DIC公司，商品名：V-4000BA） ・有機粒子      2份 （積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑5.0 μm，折射率1.550） ・二氧化矽粒子     15份 （平均粒徑：4.1 μm） （Fuji Silysia Chemical公司製造，凝膠法不定形二氧化矽） ・光聚合起始劑     1.9份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑     7份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・聚矽氧系調平劑  0.1份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     161.1份 ・溶劑（環己酮）  69份 ・溶劑（乙酸乙酯）    3.9份
＜防眩層塗佈液10＞ ・新戊四醇三丙烯酸酯 50.6份 （日本化藥公司，商品名：KAYARAD-PET-30） ・丙烯酸胺酯低聚物    49.4份 （DIC公司，商品名：V-4000BA） ・有機粒子      3份 （積水化成品公司，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物） （平均粒徑2.0 μm，折射率1.545 μm） ・二氧化矽粒子     1份 （平均粒徑：12 nm） （NIPPON AEROSIL公司製造，發煙二氧化矽） ・光聚合起始劑     1份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad184） ・光聚合起始劑     0.2份 （IGM Resins B.V.公司，商品名：Omnirad907） ・光聚合起始劑     1.5份 （Lamberti公司，ESACUREONE） ・聚矽氧系調平劑  0.1份 （邁圖高新材料公司，商品名：TSF4460） ・溶劑（甲苯）     98.6份 ・溶劑（環己酮）  38.7份 ・溶劑（異丙醇）  44.1份 ・溶劑（MIBK）   2.4份
＜防眩層塗佈液11＞ 除了將防眩層塗佈液3之有機粒子之添加量變更為300份以外，由與防眩層塗佈液3相同之組成所構成的塗佈液。
＜防眩層塗佈液12＞ 除了將防眩層塗佈液3之有機粒子之平均粒徑變更為3.5 μm以外，由與防眩層塗佈液3相同之組成所構成的塗佈液。
＜防眩層塗佈液13＞ 除了將防眩層塗佈液3中之有機粒子之平均粒徑變更為1.5 μm，進而，將有機粒子之添加量變更為160份以外，由與防眩層塗佈液3相同之組成所構成的塗佈液。
[表1]
  
   防眩層塗佈液之序號 AM1-1 [μm] AM1-2 [μm] AM1-3 [μm] AM1 [μm] AM2 [μm] AM1/AM2 Tt（%） Hz（%） 防眩性1 防眩性2 反射散射光
實施例1-1 1 0.0666 0.0657 0.0668 0.1991 0.01435 13.87 91.0 84.0 A A B
實施例1-2 2 0.1150 0.1198 0.1182 0.3530 0.01016 34.74 89.2 74.5 B B B
實施例1-3 3 0.0635 0.0573 0.0637 0.1845 0.02454 7.52 80.7 91.3 B B A
實施例1-4 4 0.0639 0.0629 00602 0.1870 0.03436 5.44 72.0 96.3 A A A
實施例1-5 5 0.0556 0.0672 0.0621 0.1849 0.01210 15.29 91.4 69.7 B B B
實施例1-6 12 0.1354 0.1329 0.1173 0.3856 0.00660 58.42 70.1 97.1 A A B
實施例1-7 13 0.0515 0.0444 0.0474 0.1434 0.01646 8.71 91.1 72.5 B B B
比較例1-1 6 0.1505 0.1259 0.1364 0.4128 0.00284 145.14 90.7 22.5 B B C
比較例1-2 7 0.0524 0.0460 0.0489 0.1474 0.00099 148.86 90.7 24.7 C C B
比較例1-3 8 0.0464 0.0525 0.0471 0.1460 0.00202 72.43 91.2 24.7 C C B
比較例1-4 9 0.1491 0.1416 0.1166 0.4073 0.00422 96.56 90.5 42.1 B B C
比較例1-5 10 0.0277 0.0185 0.0148 0.0610 0.00031 195.22 91.8 3.5 D D A
比較例1-6 11 0.1296 0.1442 0.1357 0.4096 0.05829 7.03 69.1 98.0 A A C
[表2]
  
   Sa [μm] Smp [μm] Sa/Smp Sz [μm] Sz/Sa Ssk 傾斜角分佈（%）
θ1 θ2 θ3 θ4
實施例1-1 0.399 3.263 0.122 2.490 6.24 0.343 0.5 3.7 27.0 68.8
實施例1-2 0.612 8.228 0.071 3.560 5.82 －0.296 1.0 6.7 27.4 64.9
實施例1-3 0.497 3.447 0.144 3.110 6.26 －0.601 0.6 4.1 16.4 78.9
實施例1-4 0.569 2.524 0.225 3.930 6.91 －0.375 0.4 2.8 13.5 83.3
實施例1-5 0.352 2.963 0.119 2.440 6.93 0.542 0.8 5.6 31.6 62.0
比較例1-1 0.374 16.973 0.022 1.620 4.33 0.991 6.4 31.5 49.1 13.0
比較例1-2 0.149 17.672 0.008 0.670 4.50 1.402 16.2 46.4 36.1 1.3
比較例1-4 0.457 10.551 0.043 2.270 4.97 1.158 2.8 17.4 51.6 28.2
比較例1-5 0.059 23.511 0.003 0.180 3.05 0.904 74.5 24.6 0.9 0
根據表1之結果可確認，第1實施形態之防眩膜之防眩性優異，且抑制了反射散射光，漆黑感優異。
《第2實施形態之實施例及比較例》 3.測定及評價 如下所述，進行實施例及比較例之防眩膜之測定及評價。各測定及評價時之氣體環境係設為溫度23±5℃、濕度40%以上且65%以下。又，於各測定及評價之開始前，將對象樣本暴露於上述氣體環境中30分鐘以上之後再進行測定及評價。將結果示於表3～5中。
3-1.反射光強度之測定 藉由以下之步驟來測定實施例及比較例之防眩膜之反射光強度，算出平滑化反射光強度。表3中示出了條件1之差量之絕對值的最大值、以及條件2及3之值。又，圖22～30中示出了實施例及比較例之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度。橫軸係受光角度（度），縱軸係平滑化反射光強度（對數尺標）。
（0）針對變角光度計（日本電色工業股份有限公司製造之商品名「GC5000L」，光束直徑：約3 mm，光束內傾斜角：0.8度以內，受光器之開口角：1度），提前打開裝置之電源開關之後等待20分鐘以上以使光源穩定後，實施零點校正。零點校正係藉由在變角光度計之試樣台上設置零點用蓋子（zero cap），於45度之光照射按下配套軟體上之「零點校正」按鈕而實施。 （1）於上述變角光度計之穿透測定模式（受光感度1000倍），自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對。 （2）繼而，經由厚度25 μm之透明黏著劑層（Panac公司，商品名：PANACLEAN PD-S1）而將黑色板（可樂麗公司，商品名：COMOGLAS DFA2CG 502K（黑）系，厚度2 mm）貼合於實施例及比較例之防眩膜之與凹凸表面相反側之表面，而製作10 cm×10 cm之樣本α。樣本α依序具有防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成，且具有凹凸表面。樣本α之凹凸表面係防眩膜之凹凸表面。 （3）將上述樣本α配置於上述變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度。平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向。反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度。又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度。 （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，算出平滑處理後之反射光強度作為各角度之平滑化反射光強度。 n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i）
3-2.表面形狀之測定 藉由與上述1-6相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之表面形狀，算出Sa、Sz、Ssk、Smp、θ1～θ4。
3-3.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz） 藉由與上述1-2相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之總光線穿透率及霧度。
3-4.防眩性1（鏡面反射方向之防眩性） 藉由與上述1-3相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之鏡面反射方向之防眩性。
3-5.防眩性2（各種角度之防眩性） 藉由與上述1-4相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之各種角度之防眩性。
3-6.反射散射光（≒漆黑感） 藉由與上述1-5相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之反射散射光。
3-7.AM1及AM2之測定 藉由與上述1-1相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之AM1及AM2。
4.防眩膜之製作 [實施例2-1] 於透明基材（厚度80 μm之三乙醯纖維素樹脂膜（TAC），FUJIFILM公司，TD80UL）上塗佈上述配方之防眩層塗佈液1，以70℃、風速5 m/s乾燥30秒鐘後，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為100 mJ/cm 2之方式照射紫外線，而形成防眩層，從而獲得實施例2-1之防眩膜。防眩層之厚度為5.0 μm。防眩膜之與防眩層相反之側之Ra為0.012 μm。
[實施例2-2～2-5]、[比較例2-1～2-4] 除了將防眩層塗佈液1變更為表3所記載之序號之防眩層塗佈液以外，以與實施例2-1相同之方式獲得實施例2-2～2-5、及比較例2-1～2-4之防眩膜。
[表3]
  
      平滑化反射光強度 防眩性1 防眩性2 反射散射光
防眩層塗佈液之序號 條件1：差量之絕對值的最大值 條件2：－35度之值 條件3：－45度之值
實施例2-1 1 0.077 0.954 1.200 A A B
實施例2-2 2 0.165 1.705 3.069 B B B
實施例2-3 3 0.514 0.287 1.123 B B A
實施例2-4 4 0.026 0.147 0.164 A A A
實施例2-5 5 0.098 1.666 2.262 B B B
比較例2-1 6 4.423 4.660 33.070 B B C
比較例2-2 9 1.100 4.378 12.733 B B C
比較例2-3 10 209.014 0.211 308.023 D D A
比較例2-4 7 21.897 3.078 91.338 C C B
[表4]
  
   Sa [μm] Smp [μm] Sa/Smp Sz [μm] Sz/Sa Ssk 傾斜角分佈（%）
θ1 θ2 θ3 θ4
實施例2-1 0.399 3.263 0.122 2.490 6.24 0.343 0.5 3.7 27.0 68.8
實施例2-2 0.612 8.228 0.071 3.560 5.82 －0.296 1.0 6.7 27.4 64.9
實施例2-3 0.497 3.447 0.144 3.110 6.26 －0.601 0.6 4.1 16.4 78.9
實施例2-4 0.569 2.524 0.225 3.930 6.91 －0.375 0.4 2.8 13.5 83.3
實施例2-5 0.352 2.963 0.119 2.440 6.93 0.542 0.8 5.6 31.6 62.0
比較例2-1 0.374 16.973 0.022 1.620 4.33 0.991 6.4 31.5 49.1 13.0
比較例2-2 0.457 10.551 0.043 2.270 4.97 1.158 2.8 17.4 51.6 28.2
比較例2-3 0.059 23.511 0.003 0.180 3.05 0.904 74.5 24.6 0.9 0
比較例2-4 0.149 17.672 0.008 0.670 4.50 1.402 16.2 46.4 36.1 1
[表5]
  
   AM1-1 [μm] AM1-2 [μm] AM1-3 [μm] AM1 [μm] AM2 [μm] AM1/AM2 Tt （%） Hz （%）
實施例2-1 0.0666 0.0657 0.0668 0.1991 0.0143 13.87 91.0 84.0
實施例2-2 0.1150 0.1198 0.1182 0.3530 0.0102 34.74 89.2 74.5
實施例2-3 0.0635 0.0573 0.0637 0.1845 0.0245 7.52 80.7 91.3
實施例2-4 0.0639 0.0629 0.0602 0.1870 0.0344 5.44 72.0 96.3
實施例2-5 0.0556 0.0672 0.0621 0.1849 0.0121 15.29 91.4 69.7
比較例2-1 0.1505 0.1259 0.1364 0.4128 0.0028 145.14 90.7 22.5
比較例2-2 0.1491 0.1416 0.1166 0.4073 0.0042 96.56 90.5 42.1
比較例2-3 0.0277 0.0185 0.0148 0.0610 0.0003 195.22 91.8 3.5
比較例2-4 0.0524 0.0460 0.0489 0.1474 0.0010 148.86 90.7 24.7
根據表3之結果可確認，第2實施形態之防眩膜之防眩性優異，且抑制了反射散射光，漆黑感優異。
《第3實施形態之實施例及比較例》 5.測定及評價 如下所述，進行實施例及比較例之防眩膜之測定及評價。各測定及評價時之氣體環境係設為溫度23±5℃、濕度40%以上且65%以下。又，開始各測定及評價之前，將對象樣本暴露於上述氣體環境中30分鐘以上之後再進行測定及評價。將結果示於表6～7中。
5-1.表面形狀之測定 藉由與上述1-6相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之表面形狀，算出Sa、Sz、Ssk、Smp、θ1～θ4。
5-2.總光線穿透率（Tt）及霧度（Hz） 藉由與上述1-2相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之總光線穿透率及霧度。
5-3.防眩性1（鏡面反射方向之防眩性） 藉由與上述1-3相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之鏡面反射方向之防眩性。
5-4.防眩性2（各種角度之防眩性） 藉由與上述1-4相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之各種角度之防眩性。
5-5.反射散射光（≒漆黑感） 藉由與上述1-5相同之方法，評價實施例及比較例之防眩膜之反射散射光。
5-6.AM1及AM2之測定 藉由與上述1-1相同之方法，測定實施例及比較例之防眩膜之AM1及AM2。再者，比較例3-5及3-6被排除在AM1及AM2之測定對象之外。
6.防眩膜之製作 [實施例3-1] 於透明基材（厚度80 μm之三乙醯纖維素樹脂膜（TAC），FUJIFILM公司，TD80UL）上塗佈上述配方之防眩層塗佈液1，以70℃、風速5 m/s乾燥30秒鐘後，於氧濃度200 ppm以下之氮氣環境下，以累計光量成為100 mJ/cm 2之方式照射紫外線，而形成防眩層，從而獲得實施例3-1之防眩膜。防眩層之厚度為5.0 μm。防眩膜之與防眩層相反之側之Ra為0.012 μm。
[實施例3-2～3-7]、[比較例3-1～3-6] 除了將防眩層塗佈液1變更為表6所記載之序號之防眩層塗佈液以外，以與實施例3-1相同之方式獲得實施例3-2～3-7、及比較例3-1～3-6之防眩膜。防眩層塗佈液14～15之組成如下所示。
＜防眩層塗佈液14＞ 除了將上述防眩層塗佈液3中之有機粒子之平均粒徑變更為3.5 μm，進而，將有機粒子之添加量變更為160份以外，由與防眩層塗佈液3相同之組成所構成的塗佈液。
＜防眩層塗佈液15＞ 除了將上述防眩層塗佈液3中之有機粒子之平均粒徑變更為1.0 μm，進而，將有機粒子之添加量變更為160份以外，由與防眩層塗佈液3相同之組成所構成的塗佈液。
[表6]
  
   防眩層塗佈液之序號 Sa [μm] Smp [μm] Sa/Smp Sz [μm] Sz/Sa Ssk 傾斜角分佈（%） Tt （%） Hz （%） 防眩性1 防眩性2 反射散射光
θ1 θ2 θ3 θ4
實施例3-1 1 0.399 3.263 0.122 2.490 6.24 0.343 0.5 3.7 27.0 68.8 91.0 84.0 A A B
實施例3-2 2 0.612 8.228 0.071 3.560 5.82 －0.296 1.0 6.7 27.4 64.9 89.2 74.5 B B B
實施例3-3 3 0.497 3.447 0.144 3.110 6.26 －0.601 0.6 4.1 16.4 78.9 80.7 91.3 B B A
實施例3-4 4 0.569 2.524 0.225 3.930 6.91 －0.375 0.4 2.8 13.5 83.3 72.0 96.3 A A A
實施例3-5 5 0.352 2.963 0.119 2.440 6.93 0.542 0.8 5.6 31.6 62.0 91.4 69.7 B B B
實施例3-6 12 0.9724 3.521 0.276 5.176 5.32 0.048 0.6 3.1 14.1 82.2 70.1 97.1 A A B
實施例3-7 13 0.315 1.034 0.305 2.102 6.67 0.265 0.4 2.6 13.0 84.0 91.1 72.5 B B B
比較例3-1 6 0.374 16.973 0.022 1.620 4.33 0.991 6.4 31.5 49.1 13.0 90.7 22.5 B B C
比較例3-2 9 0.457 10.551 0.043 2.270 4.97 1.158 2.8 17.4 51.6 28.2 90.5 42.1 B B C
比較例3-3 10 0.059 23.511 0.003 0.180 3.05 0.904 74.5 24.6 0.9 0 91.8 3.5 D D A
比較例3-4 7 0.149 17.672 0.008 0.670 4.50 1.402 16.2 46.4 36.1 1 90.7 24.7 C C B
比較例3-5 14 1.04133 2.536 0.411 5.480 5.26 －0.007 0.2 2.4 10.3 87 68.5 98.2 A A C
比較例3-6 15 0.13 0.952 0.137 0.644 4.95 0.816 6.5 22.5 38.2 32.8 91.5 15.8 C C B
[表7]
  
   AM1-1 [μm] AM1-2 [μm] AM1-3 [μm] AM1 [μm] AM2 [μm] AM1/AM2
實施例3-1 0.0666 0.0657 0.0668 0.1991 0.0143 13.87
實施例3-2 0.1150 0.1198 0.1182 0.3530 0.0102 34.74
實施例3-3 0.0635 0.0573 0.0637 0.1845 0.0245 7.52
實施例3-4 0.0639 0.0629 0.0602 0.1870 0.0344 5.44
實施例3-5 0.0556 0.0672 0.0621 0.1849 0.0121 15.29
實施例3-6 0.1354 0.1329 0.1173 0.3856 0.0066 58.42
實施例3-7 0.0515 0.0444 0.0474 0.1434 0.0165 8.71
比較例3-1 0.1505 0.1259 0.1364 0.4128 0.0028 145.14
比較例3-2 0.1491 0.1416 0.1166 0.4073 0.0042 96.56
比較例3-3 0.0277 0.0185 0.0148 0.0610 0.0003 195.22
比較例3-4 0.0524 0.0460 0.0489 0.1474 0.0010 148.86
根據表6之結果可確認，第3實施形態之防眩膜之防眩性優異，且抑制了反射散射光，漆黑感優異。
10:透明基材 20:防眩層 21:黏合劑樹脂 22:有機粒子 100:防眩膜 110:顯示元件 120:影像顯示裝置 200:觀測者
[圖1]係表示本發明之防眩膜之一實施形態之概略剖視圖。 [圖2]係用以說明入射至防眩層之光之行為之示意圖。 [圖3]係表示本發明之影像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。 [圖4]係用以說明凹凸表面之標高的振幅譜之算出方法的圖。 [圖5]係用以說明凹凸表面之標高的振幅譜之算出方法的圖。 [圖6]係表示實施例1-1之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖7]係表示實施例1-2之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖8]係表示實施例1-3之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖9]係表示實施例1-4之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖10]係表示實施例1-5之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖11]係表示比較例1-1之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖12]係表示比較例1-2之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖13]係表示比較例1-3之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖14]係表示比較例1-4之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖15]係表示比較例1-5之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖16]係表示比較例1-6之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖17]係表示實施例1-6之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖18]係表示實施例1-7之防眩膜之空間頻率與振幅之關係的圖。 [圖19]係表示本發明之防眩膜之一實施形態之概略剖視圖。 [圖20]係用以說明反射光強度之測定方法之示意圖。 [圖21]係用以說明入射至防眩層之光之行為之示意圖。 [圖22]係表示實施例2-1之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖23]係表示實施例2-2之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖24]係表示實施例2-3之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖25]係表示實施例2-4之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖26]係表示實施例2-5之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖27]係表示比較例2-1之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖28]係表示比較例2-2之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖29]係表示比較例2-3之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。 [圖30]係表示比較例2-4之防眩膜之每個角度之平滑化反射光強度的圖。
10:透明基材
20:防眩層
21:黏合劑樹脂
22:有機粒子
100:防眩膜

Claims (14)

  1. 一種防眩膜，其具有防眩層， 上述防眩膜具有凹凸表面，且於下述測定條件測得之平滑化反射光強度滿足下述條件1及2， 上述凹凸表面之三維平均峰間隔Smp為2.524μm以上且8.228μm以下： ＜測定條件＞ （1）於變角光度計之穿透測定模式，自變角光度計之光源以平行光線之形式射出可見光線，在不經過樣本之狀態以開口角1度測定射出之光之強度，以最大強度為10萬之方式進行標準核對； （2）於上述防眩膜之與上述凹凸表面相反側之表面上，經由透明黏著劑層而貼合黑色板，從而製作積層上述防眩膜、透明黏著劑層及黑色板而成且具有上述凹凸表面之樣本α； （3）將上述樣本α配置於變角光度計，針對上述樣本α之上述凹凸表面，自變角光度計之光源以平行光線之形式照射可見光線，以開口角1度測定反射光強度；平行光線之照射角度設為自上述樣本α之法線方向傾斜+45度的方向；反射光強度係以1度之間隔自上述樣本α之法線方向即0度測定至－85度；又，為了維持（1）之標準核對之效果，以保持穿透測定模式之方式測定反射光強度； （4）於0度至－85度之各角度進行下述式（i）所示之平滑處理，將平滑處理後之反射光強度設為各角度之平滑化反射光強度； n度之平滑化反射光強度＝（[n－2度之反射光強度]＋[n－1度之反射光強度]＋[n度之反射光強度]＋[n＋1度之反射光強度]＋[n＋2度之反射光強度]）/5          （i） ＜條件1＞ 將n度之平滑化反射光強度定義為Rn，將n－1度之平滑化反射光強度定義為Rn－1時，Rn與Rn－1之差量之絕對值的最大值為2.00以下； ＜條件2＞ －35度之平滑化反射光強度為0.1以上4.0以下。
  2. 如請求項1之防眩膜，其中，於條件1，上述差量之絕對值的最大值為1.00以下。
  3. 如請求項1之防眩膜，其進而滿足下述條件3： ＜條件3＞ －45度之平滑化反射光強度為8.0以下。
  4. 如請求項1之防眩膜，其JIS K7136：2000之霧度為60～98%。
  5. 如請求項1之防眩膜，其中，上述防眩層含有黏合劑樹脂及粒子。
  6. 如請求項5之防眩膜，其中，將上述防眩層之厚度定義為T，將上述粒子之平均粒徑定義為D時，D/T為0.20～0.96。
  7. 如請求項5之防眩膜，其中，上述粒子之平均粒徑D為1.0～5.0 μm。
  8. 如請求項5之防眩膜，其中，相對於上述黏合劑樹脂100質量份，含有40～200質量份之上述粒子。
  9. 如請求項5之防眩膜，其中，上述粒子係有機粒子。
  10. 如請求項5之防眩膜，其中，上述防眩層進而含有無機微粒子。
  11. 如請求項10之防眩膜，其中，相對於上述黏合劑樹脂100質量份，含有40～200質量份之上述無機微粒子。
  12. 如請求項5之防眩膜，其中，上述黏合劑樹脂含有游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物及熱塑性樹脂。
  13. 如請求項1之防眩膜，其中，於上述防眩層上進而具有抗反射層，上述抗反射層之表面係上述凹凸表面。
  14. 一種影像顯示裝置，其係將請求項1之防眩膜以上述凹凸表面側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置於顯示元件上，且將上述防眩膜配置於最表面而成。
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