TW202126133A - 狹縫噴嘴以及基板處理裝置 - Google Patents

Abstract

本發明的課題在於在狹縫噴嘴及包括所述狹縫噴嘴的基板處理裝置中，能夠在吐出口的中央部與端部之間有效率地進行用於使吐出量均勻化的作業。本發明的狹縫噴嘴包括：噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙地相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整吐出口的開口寬度，在一對唇部中的至少一個中，在與和另一個唇部相向的相向面為相反側的面上與吐出口的長邊方向平行地設置有槽，調整機構通過以增減噴嘴本體中的隔著槽而相向的部位的間隔的方式使噴嘴本體變形來調整開口寬度。槽在與吐出口在長邊方向上的端部對應的位置處，比在與吐出口在長邊方向上的中央部對應的位置處深。

Description

狹縫噴嘴以及基板處理裝置

本發明關於一種具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴、以及使用所述狹縫噴嘴將處理液塗布在基板上的基板處理裝置。再者，所述基板包括：半導體基板、光遮罩用基板、液晶顯示用基板、有機電致發光（Electroluminescence，EL）顯示用基板、電漿顯示用基板、場發射顯示器（Field Emission Display，FED）用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板等。

在半導體裝置或液晶顯示裝置等電子元件等的製造步驟中，使用對基板的表面供給處理液，並將所述處理液塗布在基板上的基板處理裝置。某基板處理裝置一面在使基板浮起的狀態下搬送所述基板，一面將處理液輸送至狹縫噴嘴並自狹縫噴嘴的吐出口朝基板的表面吐出，而將處理液塗布在大致整個基板上。另外，另一種基板處理裝置一面在平臺上吸附保持基板，一面在自狹縫噴嘴的吐出口朝基板的表面吐出處理液的狀態下，使狹縫噴嘴相對於基板進行相對移動來將處理液塗布在大致整個基板上。

近年來，伴隨對製品的高品質化的要求，提高通過基板處理裝置來塗布的處理液的膜厚的均勻性變得重要。為了所述目的，提出有一種用於可在沿著狹縫的長邊方向上的各位置處，個別地調整狹縫狀的吐出口的開口尺寸的結構。

例如，在日本專利特開2008-246280號公報（專利文獻1）中，作為將兩個構件組合並將它們之間的間隙設為吐出口的結構中的調整機構，公開有將差動螺絲在長邊方向上排列多個的現有的結構（圖8）、以及與將其中一個構件在長邊方向上分割，並能夠在吐出口的中央部與端部進行獨立的間隙調整的發明相關的結構（圖2）。

另外，例如，在日本專利特開2015-066537號公報（專利文獻2）、日本專利第4522726號公報（專利文獻3）中，兩個噴嘴本體以彼此相向的方式組合，由此在兩者的間隙中形成流體的流路及吐出口。在兩者之間夾入有薄板狀的墊片板（有時也簡稱為“墊片”）。兩個噴嘴本體通過貫通墊片板地插通的螺絲（螺栓）而相互結合。螺栓沿著吐出口的長邊方向呈列狀配置，通過增減這些螺栓的緊固量，能夠在長邊方向上的各位置處各別地調整吐出口的開口寬度。

[發明所欲解決之課題] 就電子元件的微細化或材料的有效利用等觀點而言，關於塗布的均勻性，要求比目前為止更高的水平。因此，在吐出口的橫跨長邊方向的整個區域中，需要極細緻地調整吐出量。因此，對於所述現有技術，期望進一步改善。特別是，在吐出口在長邊方向上的中央部附近與端部附近，即便使吐出口的開口寬度以相同的方式變化，吐出量的變化也未必相同。即，吐出量相對於開口寬度的調整的響應靈敏度在吐出口的中央部與端部不同。因此，使吐出量自吐出口的中央部到端部均勻地一致的微調整的作業容易變得繁雜。 [解決問題的技術手段]

本發明是鑒於所述問題而成，其目的在於提供一種在具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴及包括所述狹縫噴嘴並將處理液塗布在基板上的基板處理裝置中，可在吐出口的中央部與端部之間有效率地進行用於使吐出量均勻化的作業的技術。

為了實現所述目的，本發明的狹縫噴嘴的一形態包括：噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且在所述一對唇部中的至少一個，在與和另一個所述唇部相向的相向面為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向上的槽，所述調整機構通過以增減所述噴嘴本體中的隔著所述槽而相向的部位的間隔的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度，所述槽在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處深。

為了實現所述目的，本發明的狹縫噴嘴的另一形態包括：噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且在所述一對唇部中的至少一個，在與和另一個所述唇部相向的相向面為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向上的槽，所述調整機構通過以增減所述噴嘴本體中的隔著所述槽而相向的部位的間隔的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度，所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處小。

在如此構成的發明中，唇部相對於為了使唇部變形而施加的力的變形量在端部比在長邊方向上的中央部大。其理由如下那樣，在第一形態中，槽在端部比中央部深。另外，在第二形態中，唇部的壁厚在端部比中央部小。因此，在任一形態中，噴嘴本體相對於要變形的力的撓曲量均在端部比中央部大。因此，為了增減吐出口的開口寬度，在調整機構使用於使噴嘴本體變形的力作用於噴嘴本體時，與相同大小的力對應的吐出口的開口寬度的變形量在端部比中央部大。

另一方面，在自狹縫噴嘴吐出液體時，難以在吐出口的長邊方向的整個區域實現均勻的吐出量，特別是在吐出口的中央部附近與端部附近，有時吐出量會產生差別。更具體而言，在吐出口的端部附近，因與吐出口周圍的噴嘴內壁的摩擦的影響等，對流體流通的阻力變大，以此為原因之一，比中央部吐出量容易變小。換句話說，與吐出口的開口寬度的調整量對應的吐出量的變化量在端部附近比吐出口的中央部靈敏度低。因此，用於在吐出口在長邊方向上的整個區域均勻地調整吐出量的作業容易變得繁雜。

因此，為了在吐出口的中央部與端部使吐出量相對於用於調整其開口寬度的機械輸入的變動量同等，可以說優選使開口寬度相對於機械輸入的變化量在端部比中央部大。本發明的結構可使開口寬度的變化相對於相同機械輸入的靈敏度在端部比中央部高，從而適合於所述目的。

另外，本發明的狹縫噴嘴的另一形態是具有呈狹縫狀開口的吐出口及與所述吐出口連通的流體的流路，為了實現所述目的，所述狹縫噴嘴包括：第一本體部及第二本體部，分別具有隔著間隙而相互相向的平坦面，在所述間隙中形成所述流路及所述吐出口；薄板狀的間隔件構件，通過夾入於所述第一本體部與所述第二本體部之間，規定所述間隙的大小並且堵塞所述吐出口以外的所述流路的周圍的所述間隙；以及結合部，隔著所述間隔件構件而將所述第一本體部與所述第二本體部加以結合。此處，所述間隔件構件具有沿著所述吐出口的長邊方向自與所述吐出口的其中一個端部對應的位置連續地延伸到與另一個端部對應的位置為止的帶狀部位，所述帶狀部位的主表面中與所述第一平坦面抵接的抵接面的寬度在與所述吐出口在所述長邊方向上的兩端部對應的端部區域，小於比所述端部區域更靠內側的中央區域。

在如此構成的發明中，間隔件構件介隔於第一本體與第二本體部之間並與各自的平坦面抵接，由此規定兩者的間隙。此處，抵接面的寬度在與吐出口的端部對應的端部區域，比中央區域小。再者，本發明中所說的抵接面的“寬度”是沿著作為其延伸設置方向的吐出口的長邊方向觀察帶狀部位時的寬度，因此是抵接面在與長邊方向正交且與第一本體部的平坦面平行的方向上的長度。

此情況意味著基於間隔件構件的間隙規定作用在端部區域，比中央區域弱。因此，由間隙變化引起的吐出口的開口寬度在端部區域，與中央區域相比更容易大幅地產生。如此的理由如下那樣。

如上所述，即便使吐出口的開口寬度遍及其長邊方向的整個區域均勻，所吐出的流體的量也未必均勻。特別是在吐出口的端部，有吐出量容易降低的傾向。換句話說，使吐出量以相同量變化所需要的開口寬度的變更量並非一定，根據長邊方向上的位置而不同。即，吐出量相對於開口寬度的變更的響應靈敏度根據位置而不同。這成為使用於獲得均勻的吐出量的調整作業困難的一個原因。

另一方面，在本發明中，構成為吐出口的開口寬度在吐出量容易降低的端部區域，與中央區域相比大幅地變化。因此，可減少或者消除由如上所述的位置引起的響應靈敏度的不同。因此，能夠更簡單且效率良好地進行用於使吐出量在吐出口的中央部與端部之間均勻化的作業。

另外，為了實現所述目的，本發明的基板處理裝置的一形態包括：狹縫噴嘴，具有所述任一結構；相對移動機構，將基板與所述狹縫噴嘴的所述吐出口相向地配置，並且使所述狹縫噴嘴與所述基板在與所述長邊方向相交的方向上相對移動；以及處理液供給部，向所述狹縫噴嘴供給處理液，且將自所述吐出口吐出的所述處理液塗布在所述基板的表面。

在如此構成的發明中，通過自使用如上所述的結構而調整了開口寬度的狹縫噴嘴向基板供給處理液，可在長邊方向上穩定地形成膜厚均勻的膜。 [發明的效果]

如上所述，在本發明中，吐出口的開口寬度在與吐出口在長邊方向上的端部對應的端部區域，與中央區域相比大幅地變化。由此，消除吐出量的變化在中央部與端部不同而難以調整的問題，從而能夠效率良好地進行用於使吐出量均勻化的調整作業。

＜塗布裝置的整體結構＞

圖1是示意性地表示作為本發明的基板處理裝置的一實施方式的塗布裝置的整體結構的圖。所述塗布裝置1是將作為流體的塗布液（處理液）塗布在以水平姿勢自圖1的左手側朝右手側搬送的基板S的表面Sf的狹縫塗布機。例如，出於在玻璃基板或半導體基板等各種基板S的表面Sf塗布包含抗蝕膜的材料的塗布液、包含電極材料的塗布液等各種處理液，並形成均勻的塗布膜的目的，可適合地利用所述塗布裝置1。

再者，在以下的各圖中，為了使裝置各部的位置關係變得明確，如圖1所示，設定右手系XYZ正交坐標。將基板S的搬送方向設為“X方向”，將自圖1的左手側朝向右手側的水平方向稱為“+X方向”，將相反方向稱為“-X方向”。另外，將與X方向正交的水平方向Y之中，裝置的正面側（圖中，跟前側）稱為“-Y方向”，並且將裝置的背面側稱為“+Y方向”。進而，將鉛垂方向Z中的上方向及下方向分別稱為“+Z方向”及“-Z方向”。

首先，使用圖1對所述塗布裝置1的結構及動作的概要進行說明，其後，對包括本發明的技術特徵的狹縫噴嘴的詳細的結構及開口尺寸的調整動作進行說明。在塗布裝置1中，輸入輸送機100、輸入移載部2、浮起平臺部3、輸出移載部4、輸出輸送機110沿著基板S的搬送方向Dt，即（+X）方向，按此順序接近地配置。如以下所詳述那樣，通過這些構件來形成在大致水平方向上延伸的基板S的搬送路徑。

作為處理對象的基板S被自圖1的左手側搬入至輸入輸送機100。輸入輸送機100包括輥式輸送機（roller conveyor）101、及對輥式輸送機101進行旋轉驅動的旋轉驅動機構102。通過輥式輸送機101的旋轉來將基板S以水平姿勢朝下游側，即（+X）方向搬送。輸入移載部2包括輥式輸送機21、以及具有對輥式輸送機21進行旋轉驅動的功能及使輥式輸送機21升降的功能的旋轉/升降驅動機構22。通過輥式輸送機21進行旋轉，而將基板S進一步朝（+X）方向搬送。另外，通過輥式輸送機21進行升降，而變更基板S的鉛垂方向位置。通過如此構成的輸入移載部2，而將基板S自輸入輸送機100朝浮起平臺部3移載。

浮起平臺部3包括沿著基板的搬送方向Dt一分為三的平板狀的平臺。即，浮起平臺部3包括入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33。所述各平臺的表面相互形成同一平面的一部分。在入口浮起平臺31及出口浮起平臺33各自的表面，呈矩陣狀地設置有多個噴出自浮起控制機構35供給的壓縮空氣的噴出孔。通過由被噴出的氣流所賦予的浮力來使基板S浮起。如此，基板S的背面Sb在自平臺表面分離的狀態下以水平姿勢得到支撐。基板S的背面Sb與平臺表面的距離、即基板S的浮起量例如可設為10微米～500微米。

另一方面，在塗布平臺32的表面，交替地配置有噴出壓縮空氣的噴出孔、及抽吸基板S的背面Sb與平臺表面之間的空氣的抽吸孔。浮起控制機構35控制來自噴出孔的壓縮空氣的噴出量與來自抽吸孔的抽吸量，由此精密地控制基板S的背面Sb與塗布平臺32的表面的距離。由此，將穿過塗布平臺32的上方的基板S的表面Sf的鉛垂方向位置控制成規定值。作為浮起平臺部3的具體結構，例如可應用日本專利第5346643號中記載的結構。再者，關於塗布平臺32上的浮起量，由控制單元9基於其後進行詳述的感測器61、感測器62的檢測結果來算出，另外，能夠通過氣流控制來高精度地調整。

再者，在入口浮起平臺31，配設有圖中未出現的頂銷（lift pin），在浮起平臺部3設置有使所述頂銷升降的頂銷驅動機構34。

經由輸入移載部2而搬入至浮起平臺部3的基板S通過輥式輸送機21的旋轉而被賦予朝（+X）方向的推進力，並被搬送至入口浮起平臺31上。入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33將基板S支撐成浮起狀態，但不具有使基板S在水平方向上移動的功能。浮起平臺部3中的基板S的搬送通過配置在入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33的下方的基板搬送部5來進行。

基板搬送部5包括夾盤機構51以及吸附/前行控制機構52。通過夾盤機構51部分地與基板S的下表面周緣部抵接而自下方支撐基板S。吸附/前行控制機構52在夾盤機構51保持基板S的狀態下，基板S的背面Sb位於比浮起平臺部3的各平臺的表面高的位置，所述夾盤機構51具有對設置於夾盤機構51上端的吸附構件的吸附墊（省略圖示）給予負壓來吸附保持基板S的功能、及使夾盤機構51在X方向上往返前行的功能。因此，基板S由夾盤機構51吸附保持邊緣部，並且通過由浮起平臺部3所賦予的浮力，整體維持水平姿勢。為了在由夾盤機構51部分地保持基板S的背面Sb的階段檢測基板S的表面的鉛垂方向位置，而在輥式輸送機21的附近配置板厚測定用的感測器61。未保持基板S的狀態的夾盤（省略圖示）位於所述感測器61的正下方位置，由此感測器61能夠檢測吸附構件的表面、即吸附面的鉛垂方向位置。

夾盤機構51保持被自輸入移載部2搬入至浮起平臺部3的基板S，在此狀態下夾盤機構51朝（+X）方向移動。由此，將基板S自入口浮起平臺31的上方經由塗布平臺32的上方而朝出口浮起平臺33的上方搬送。經搬送的基板S被交接至配置在出口浮起平臺33的（+X）側的輸出移載部4。

輸出移載部4包括輥式輸送機41、以及具有對輥式輸送機41進行旋轉驅動的功能及使輥式輸送機41升降的功能的旋轉/升降驅動機構42。輥式輸送機41進行旋轉，由此對基板S賦予朝（+X）方向的推進力，而沿著搬送方向Dt進一步搬送基板S。另外，輥式輸送機41進行升降，由此變更基板S的鉛垂方向位置。通過輸出移載部4來將基板S自出口浮起平臺33的上方朝輸出輸送機110移載。

輸出輸送機110包括輥式輸送機111、及對輥式輸送機111進行旋轉驅動的旋轉驅動機構112。通過輥式輸送機111的旋轉來進一步朝（+X）方向搬送基板S，最終朝塗布裝置1外排出。再者，輸入輸送機100及輸出輸送機110可作為塗布裝置1的結構的一部分來設置，但也可與塗布裝置1分體。另外，例如也可將設置於塗布裝置1的上游側的另一單元的基板排出機構用作輸入輸送機100。另外，也可將設置於塗布裝置1的下游側的另一單元的基板接收機構用作輸出輸送機110。

在以所述方式搬送的基板S的搬送路徑上，配置用於將塗布液塗布在基板S的表面Sf的塗布機構7。塗布機構7具有狹縫噴嘴71。另外，雖然省略圖示，但在狹縫噴嘴71連接有定位機構。通過定位機構來將狹縫噴嘴71定位在塗布平臺32的上方的塗布位置（圖1中由實線表示的位置）或適宜的保養位置。進而，在狹縫噴嘴71連接有塗布液供給機構8，自塗布液供給機構8供給塗布液，自在噴嘴下部向下開口的吐出口吐出塗布液。再者，關於狹縫噴嘴71，其後進行詳述。

如圖1所示，在狹縫噴嘴71設置有用於以非接觸方式探測基板S的浮起高度的浮起高度檢測感測器62。通過所述浮起高度檢測感測器62，能夠測定已浮起的基板S與塗布平臺32的平檯面的表面的分離距離，可經由控制單元9，根據浮起高度檢測感測器62的檢測值來調整狹縫噴嘴71下降的位置。再者，作為浮起高度檢測感測器62，可使用光學式感測器、或超聲波式感測器等。

為了對狹縫噴嘴71進行規定的保養，如圖1所示，在塗布機構7設置有噴嘴清洗待機單元79。噴嘴清洗待機單元79主要具有輥791、清洗部792、輥棒793等。而且，在狹縫噴嘴71已被定位在保養位置的狀態下，通過這些構件來進行噴嘴清洗及積液形成，將狹縫噴嘴71的吐出口調整成適於下一次塗布處理的狀態。

除此以外，在塗布裝置1設置有用於控制裝置各部的動作的控制單元9。控制單元9具有：存儲規定的程序或各種方法等的存儲部、通過執行所述程序來使裝置各部執行規定的動作的中央處理器（Central Processing Unit，CPU）等運算處理部、液晶面板等顯示部、以及鍵盤等輸入部。

以下，對狹縫噴嘴71的具體結構例及吐出口的開口尺寸的調整方法等進行詳述。再者，此處所述的開口尺寸的調整並非以開口尺寸成為固定或事先決定的規定值為目標的調整，而是以作為吐出的結果使形成在基板S的表面的塗布膜的厚度變得均勻為目標的調整。

＜第一實施方式＞

圖2是示意性地表示圖1的塗布裝置中所使用的狹縫噴嘴的第一實施方式的主要結構的分解組裝圖。另外，圖3是所述狹縫噴嘴的三面圖。狹縫噴嘴71具有第一本體部711、第二本體部712、第一側板713及第二側板714。如由點劃線箭頭所示，第一本體部711與第二本體部712以在X方向上相向的狀態結合。在其結合體的（-Y）側端面結合第一側板713、且在（+Y）側端面結合第二側板714來構成噴嘴本體710。

所述各構件例如為自不銹鋼或鋁等的金屬塊削出的構件。再者，構成噴嘴本體710的各構件例如通過如螺栓那樣的適宜的固定結合構件來固定結合，由此相互結合，此種結合結構是公知的。因此，為了容易觀察附圖，此處省略固定螺栓或用於插通其的螺絲孔等與固定結合相關的結構的記載。關於所述方面，在後述的其他實施方式中有時也設為同樣。

第一本體部711的與第二本體部712相向之側的主表面、即（+X）側的主表面中的下半部分以成為與YZ平面平行的平坦面711a的方式得到精加工。以下，將所述平坦面711a稱為“第一平坦面”。第一本體部711的與第二本體部712相向之側的主表面中的上半部分也是以成為與YZ平面平行的平坦面711b的方式得到精加工。另外，第一本體部711的下部向下突出而形成第一唇部711c。平坦面711a、平坦面711b由將Y方向作為長邊方向、將X方向作為深度方向的大致半圓柱形狀的槽711d來隔開。所述槽711d作為塗布液的流路中的歧管發揮功能。

另一方面，第二本體部712的與第一本體部711相向之側的主表面、即（-X）側的主表面成為與YZ平面平行的單一的平坦面712a。以下，將所述平坦面712a稱為“第二平坦面”。另外，第二本體部712的下部向下突出而形成第二唇部712c。以平坦面711b與第二平坦面712a中的上半部分密接的方式，將第一本體部711與第二本體部712結合。

第一平坦面711a與平坦面711b相比略微朝（-X）側後退。因此，在第一本體部711與第二本體部712結合的狀態下，第一平坦面711a與第二平坦面712a隔開微小的間隙平行地相向。如此相互相向的相向面（第一平坦面711a、第二平坦面712a）之間的間隙部分成為來自歧管的塗布液的流路，其下端作為朝向基板S的表面Sf並向下開口的吐出口715（圖3）發揮功能。吐出口715是將Y方向作為長邊方向且X方向上的開口尺寸微小的狹縫狀的開口。

在第二本體部712的主表面中的與第二平坦面712a為相反側的主表面712e上，設置有沿著Y方向延伸的槽712f。關於槽712f的深度將在後面敘述。槽712f是在Y方向上橫跨第二本體部712的整個區域而連續地設置。因此，第二本體部712中的比槽712f更靠下的部分成為在Y方向上具有大致一致的剖面形狀並向（+X）方向突出的突出部712g。

在突出部712g的下表面上設置有沿上下方向貫通突出部712g的螺絲孔712h。螺絲孔712h在突出部712g的下表面沿著Y方向呈一列且以均等的間距設置有多個。如後所述，在各螺絲孔712h安裝有用於調整吐出口715在X方向上的開口尺寸的調整螺絲716。調整螺絲716跨越槽712f，其上端到達槽712f的上表面。

相對於螺絲孔712h，跨越槽712f地設置有調整螺絲716，因此當使其擰入量變化時，第二本體部712繞槽712f的延伸方向（Y方向）的軸略微變形，隔著槽712f相互相向的兩側部位的間隔增減。具體而言，相對於第二本體部712中的比槽712f更靠上側的部位，比槽712f更靠下側的第二突出部712g相對地向接近或分離的方向位移，由此兩者的間隔變化。

隨著此種位移，與第二突出部712g連接的第二唇部712c向X方向、即向相對於相向的第一唇部711c接近、分離的方向位移。如此，相互相向的第一唇部711c與第二唇部712c相對地向接近方向及分離方向位移，由此，兩者的間隔、即吐出口715的開口寬度變化。因此，可通過調整螺絲716的擰入量來調整吐出口715的開口寬度。通過沿著吐出口715的長邊方向排列多個調整螺絲716，能夠在所述方向上的各位置進行開口寬度的調整。

調整螺絲716例如是差動螺絲。關於使用差動螺絲作為調整螺絲時的調整吐出口的開口尺寸的方法的原理，例如記載在日本專利特開平09-131561號公報中，在本實施方式中也可使用同樣的原理，因此此處省略詳細的說明。

再者，為了容易理解附圖，在圖2及圖3中記載了比實際少的調整螺絲716的配置數量。即，在實際的裝置中，以比這些圖更細微的排列間距配置更多的調整螺絲716。

圖4的（a）～（d）是例示槽的深度分佈的圖。更具體而言，圖4的（a）至圖4的（d）是相當於圖3的A-A線剖面的噴嘴本體710的剖面圖，分別表示不同形狀的深度分佈的例子。如這些圖所示，槽712f的深度在Y方向上並非一致，在吐出口715在長邊方向（Y方向）上的中央部相對較淺，在兩端部變深。

更具體而言，在圖4的（a）所示的例子中，槽712f的深度在長邊方向上的中央部Rc為一定值Dc，在與中央部Rc鄰接的兩側的端部Re為比其大的一定值De。即，槽712f具有呈階梯狀變化的深度分佈。槽712f在長邊方向上的中央部Rc為大致一定的深度Dc，另一方面，兩端部Re是比其大的深度De。再換句話說，在設置有槽712f的部位，第二本體部712的壁厚在中央部Rc大且在兩端部Re小。即，中央部Rc處的第二本體部712的壁厚Tc比兩端部Re處的壁厚Te大。

在圖4的（b）所示的例子中，中央部Rc及兩端部Re處的槽712f的深度與圖4的（a）的例子同等。但是，其邊界部分的深度變化連續且平緩。另外，在圖4的（c）所示的例子中，槽712f在中央部Rc為大致一定的深度，另一方面，在兩端部Re具有深度逐漸增加那樣的深度分佈。進而，在圖4的（d）所示的例子中，成為如在槽712f在長邊方向上的中央最淺且朝向外側而深度漸增那樣的深度分佈。另外，例如也可設為如下的分佈：將如圖4的（b）、圖4的（c）所示那樣的連續變化近似為多階段的階梯狀。

狹縫噴嘴71的槽712f具有的深度分佈可為它們中的任一個。關於如此那樣使槽712f的深度分佈成為“在中央部淺，在兩端部深”的理由，接下來進行說明。再者，此處代表性地設為槽712f具有圖4的（a）所例示的深度分佈。

圖5A及圖5B是狹縫噴嘴的剖面圖。更詳細地說，圖5A是圖3的B-B線剖面圖，圖5B是圖3的C-C線剖面圖。再者，圖4的（a）的B-B線與圖3的B-B線對應，圖4的（a）的C-C線與圖3的C-C線對應。如圖5A所示，在與吐出口715的Y方向上的中央部對應的B-B線剖面中，槽712f的深度相對較淺。換句話說，槽712f的底部與第二平坦面712a之間的距離、即與槽712f的底部對應的位置處的第二本體部712的壁厚相對較大。另一方面，如圖5B所示，在與吐出口715的Y方向上的接近端部的位置對應的C-C線剖面中，槽712f的深度更深。換句話說，槽712f的底部與第二平坦面712a之間的距離、即與槽712f的底部對應的位置處的第二本體部712的壁厚更小。

因此，第二本體部712在比槽712f淺的位置更深的位置更容易撓曲。因此，第二本體部712相對於為了調整開口寬度而給予至調整螺絲716的旋轉輸入量ΔR的變形量、更具體而言，突出部712g向上下方向（Z方向）的位移量ΔZ在槽712f的深的端部附近比槽712f的更淺的中央部大。其結果，關於吐出口715的開口寬度向X方向的變化量ΔX，相對於相同的旋轉輸入量ΔR，在端部也比中央部大。

此處所說的“旋轉輸入”是為了增減開口寬度而例如由操作員給予的機械輸入的一例，例如可通過對調整螺絲716操作輸入的旋轉量或者旋轉角度來定量地表示旋轉輸入量ΔR。

在本申請發明人們的見解中，吐出量相對於開口寬度的增減的變化、即吐出量相對於開口寬度的調整的響應靈敏度在吐出口的中央部高，在端部低。因此，若開口寬度的變化量相同，則在中央部吐出量相對較大地變化，與此相對，在端部吐出量的變化小。

在中央部與端部之間，若開口寬度相對於旋轉輸入量ΔR的變化量ΔX為相同程度，則即便給予相同的旋轉輸入，由此產生的吐出量的變化量也在中央部與端部不同。於是，導致用於在吐出口的整體使吐出量一致而獲得厚度均勻的塗布膜的調整作業變得非常繁雜。為了防止此種情況，吐出量的響應靈敏度，即吐出量相對於相同的旋轉輸入量ΔR的變化量優選為橫跨吐出口的長邊方向上的整個區域同等。因此，特別要求提高端部的響應靈敏度。

在本實施方式的狹縫噴嘴71中，使槽712f在端部比中央部深，由此，吐出口開口寬度相對於相同的旋轉輸入量ΔR的變化量ΔX在端部比中央部大。因此，吐出量相對於相同的旋轉輸入量ΔR的變化的不同在中央部與端部之間難以產生。由此，在吐出口的中央部及端部的任一個中，與向調整螺絲716的旋轉輸入量對應的吐出量的變化均同等。對操作員來說，能夠效率良好地進行用於使吐出量均勻化的調整作業。

通過適宜地設定槽712f的深度分佈，可認為能夠將中央部與端部之間的響應靈敏度的不同抑制到實用上沒有問題的水平。關於具體的深度分佈，例如可基於吐出口715的開口寬度的大小或所使用的塗布液的黏度等通過實驗求出。

再者，在所述第一實施方式的狹縫噴嘴71中，在第二本體部712以一定的排列間距配置有調整螺絲716。但是，如以下作為變形例所示，也可使調節螺絲的排列間距不均等。另外，作為基於同樣的技術思想而構成的狹縫噴嘴，除了所述以外，還可考慮其他的實施方式。以下，依序對此種其他結構例進行說明。在以下的說明中，為了容易理解與其他實施方式的對比，對與現有的結構相同、或雖有輕微的差異但具有相當的功能的結構標注相同的符號。

圖6是表示第一實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。在圖6所示的變形例的狹縫噴嘴71A中，在吐出口715的Y方向上的中央部Rc以相對較粗的排列間距配置調整螺絲716。另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部Re以更細微的排列間距配置調整螺絲716。在使用狹縫噴嘴的塗布中，在所形成的塗布膜的中央部容易獲得相對較一致的膜，但在端部附近，容易產生由高黏度的塗布液的隆起或低黏度的塗布液向外側流出等引起的塗布膜的紊亂。為了抑制此種紊亂，理想的是在吐出口715在長邊方向上的端部附近可以比中央部更精細的分辨率進行調整。本變形例的狹縫噴嘴71A可滿足此種要求。

換句話說，通過在容易獲得相對較均勻性的中央部Rc增大調整螺絲716的排列間距。由此，可實現零件數及調整工時的削減，從而能夠還有助於裝置成本及運行成本的降低。

＜第二實施方式＞

圖7是示意性地表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第二實施方式的主要結構的分解組裝圖。對於此種狹縫噴嘴，成為在由高剛性的材料形成的兩個本體構件之間夾入薄板狀的墊片的結構。圖7所示的第二實施方式的狹縫噴嘴71B具有此種結構。

在狹縫噴嘴71B中，具有相互相向的平坦面的第一本體部711B與第二本體部712B夾著墊片72B而結合。由此，構成噴嘴本體710B。在第一本體部711B中，在與第二本體部712B相向之側的平坦的主表面711a上，設置有作為塗布液的歧管發揮功能的大致半圓柱形狀的槽711k。墊片72B是將成為塗布液的流路的部分切開的例如金屬制的薄板。墊片72B通過夾入在第一本體部711B與第二本體部712B之間，規定兩者之間的間隙並且形成塗布液的流路。

除了這些方面以外，第一本體部711B及第二本體部712B的形狀與第一實施方式的對應的結構711、結構712相同。即，在第二本體部712B的主表面中的與和第一本體部711B相向的面712a為相反側的面712e上設置有槽712f。而且，多個調整螺絲716以跨越所述槽712f的方式沿Y方向排列。槽712f的形狀及調整螺絲716的功能與所述實施方式相同，由此帶來的作用效果也相同。

如此，基於本發明的技術思想的吐出口開口寬度的調整機構也能夠應用於使用墊片來規定間隙的噴嘴、不使用墊片的噴嘴中的任一個。

＜第三實施方式＞

圖8是示意性地表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第三實施方式的主要結構的分解組裝圖。另外，圖9是所述狹縫噴嘴的三面圖。本實施方式的狹縫噴嘴71C具有第一本體部711C、第二本體部712C、第一側板713C及第二側板714C。其中，第二本體部712C的結構與所述第一實施方式的第二本體部712相同。與第一實施方式同樣地，將它們結合而構成噴嘴本體710C。

在第一實施方式中，僅在第二本體部712上設置有用於調整吐出口的開口寬度的機構（具體而言是槽712f及調整螺絲716）。另一方面，在所述實施方式中，在第一本體部711C、第二本體部712C的雙方設置有同樣的調整機構。更具體而言，在第一本體部711C的主表面中的與第一平坦面711a為相反側的主表面711e上，設置有沿著Y方向延伸的槽711f。槽711f在Y方向上橫跨第一本體部711的整個區域以一致的剖面形狀設置。因此，第一本體部711C中的比槽711f更靠下的部分成為在Y方向上具有大致一致的剖面形狀並向（-X）方向突出的突出部711g。以下，在需要區分分別設置於兩個本體部711C、712C的突出部的情況下，有時分別將其稱為“第一突出部”、“第二突出部”。

在第一突出部711g及第二突出部712g的下表面，設置有沿上下方向貫穿它們的螺絲孔711h、螺絲孔712h。螺絲孔711h在第一突出部711g的下表面，沿著Y方向設置有多個。另外，螺絲孔712h在第二突出部712g的下表面，沿著Y方向設置有多個。在各螺絲孔711h、螺絲孔712h，安裝用於如後述那樣調整吐出口715的X方向上的開口尺寸的調整螺絲716。調整螺絲716跨越槽711f、槽712f，其上端到達槽711f、槽712f的上表面為止。

如圖9下部的仰視圖所示，在第一本體部711與第二本體部712之間，調整螺絲716的配設位置在Y方向上不同。具體而言，在Y方向上，以第一本體部711側的調整螺絲716位於在第二本體部712側相鄰的兩個調整螺絲716、716之間的方式，配置各螺絲孔711h、螺絲孔712h。因此，在自下表面側觀察狹縫噴嘴71時，各調整螺絲716沿著Y方向成為所謂的交錯配置。

通過將調整螺絲716設為此種配置，獲得如下所述的效果。即，在沿著Y方向延伸的吐出口715中，於在第一本體部711設置有調整螺絲716的位置附近，通過第一唇部711c的位移來調整開口尺寸。另一方面，於在第二本體部712設置有調整螺絲716的位置附近，通過第二唇部712c的位移來調整開口尺寸。

因此，與僅在第一本體部711或第二本體部712的一個配置調整螺絲的結構相比，能夠更細緻地進行開口尺寸的調整。即，通過在第一本體部711及第二本體部712分別排列調整螺絲716，且將這些調整螺絲716設為交錯配置的結構，與僅在任一個配置調整螺絲的情況相比，能夠將調整的“分辨率”提高至2倍。另外，若為了獲得同等的分辨率，則可將必要的調整螺絲的排列間距擴大至2倍，因此各構件的機械強度的確保也容易。

在所述實施方式中，設置於第一本體部711C的槽711f、設置於第二本體部712C的槽712f中的一個或雙方具有如圖4的（a）～（d）所例示那樣的“在中央部淺，在兩端部深”深度分佈。由此，與所述實施方式同樣地，使吐出量相對於向用於調整的調整螺絲716的旋轉輸入的響應靈敏度在中央部與端部一致，而可實現調整作業的效率化。

再者，出於僅獲得與第一實施方式同等的效果的目的，當在第一本體部711及第二本體部712的雙方排列調整螺絲716時，也可考慮使其配設位置在Y方向上相同。但是，在此情況下，無法獲得通過如上所述那樣將調整螺絲設為交錯配置而獲得的分辨率的提高效果。另外，由於兩個調整機構相對於吐出口中的長邊方向上的一個位置獨立地發揮作用，因此有時調整作業反而會變得麻煩。

圖10A及圖10B是表示第三實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。在圖10A所示的變形例的狹縫噴嘴71D及圖10B所示的變形例的狹縫噴嘴71E中，與圖6所示的第一實施方式的變形例的狹縫噴嘴71A同樣地，調整螺絲716的排列間距變得不均等。具體而言，在圖10A所示的變形例的狹縫噴嘴71D中，在第一本體部711D及第二本體部712D的各者中，在吐出口715的Y方向上的中央部Rc以相對較粗的排列間距配置調整螺絲716。另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部Re以更細微的排列間距配置調整螺絲716。

另外，在圖10B中所示的變形例的狹縫噴嘴71E中，自同樣的觀點而言，在中央部Rc中，僅在第二本體部712E配置調整螺絲716，在第一本體部711E中省略調整螺絲716。由此，實用上能夠保持塗布膜的均勻性，並進一步削減零件數及調整工時。再者，與此相對，即便省略第二本體部712E側的調整螺絲，當然也無妨。

＜第四實施方式＞

接著，對可應用於塗布裝置1的狹縫噴嘴的第四實施方式進行說明。在所述各實施方式中，在狹縫噴嘴的長邊方向（Y方向）上設置有單一的吐出口。但是，在此種塗布裝置中，也存在如將吐出口在長邊方向上分割成多個，同時形成多個塗布膜那樣的利用形態。接下來所示的第四實施方式的狹縫噴嘴71F對應於此種需求。

圖11A及圖11B是表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第四實施方式的圖。更具體而言，圖11A是示意性地表示本實施方式的狹縫噴嘴71F的主要結構的分解組裝圖。另外，圖11B是狹縫噴嘴71F的仰視圖及以包含與槽712f對應的位置的水平面為切斷面的狹縫噴嘴71F的剖面圖。其中，剖面圖是相當於第一實施方式中圖3所示的A-A線剖面圖的圖。

在所述實施方式中，通過在第一本體部711F與第二本體部712F之間夾入墊片72F而構成本體部710F。在墊片72F的中央部設置有作為流路的間隔壁發揮作用的突出部位721F，由此，塗布液的流路被劃分為兩個。突出部位721F延伸到第一唇部711c及第二唇部712c的下端為止。在這些下端分別形成有將Y方向作為長邊方向且沿Y方向排列的兩個吐出口715a、715b。

在此情況下，為了在兩個吐出口715a、715b的各者實現“使響應靈敏度在中央部與端部一致”的目的，如圖11B所示，採用在與各個吐出口的中央部Rc對應的區域淺且在與端部Re對應的區域深那樣的槽712f的深度分佈。在所述圖中，與各吐出口對應的深度分佈與圖4的（a）對應，但當然也可為圖4的（b）～（d）所示的形狀。

再者，由於同樣的概念在圖2、圖6、圖8等中已經示出，因此省略圖示，但在第四實施方式中，作為其變形例也可考慮如下結構。即，所述第四實施方式的狹縫噴嘴71F由被第一本體部711F及第二本體部712F夾著的墊片72F形成兩個流路及兩個吐出口。但是，如圖2所示的例子那樣，通過變更第一本體部及第二本體部中的至少一個的形狀，在不使用墊片且形成流路及吐出口的噴嘴中也能夠應用與所述同樣的想法。

另外，如圖6所示的例子那樣，也可使調整螺絲716的排列間距在與各吐出口的中央部對應的區域寬，在與端部相當的區域窄。進而，如圖8所示的例子那樣，也可在兩個本體部分別設置調整機構（槽及調整螺絲）。

如此，在所述各實施方式中，根據目的，而且根據裝置或塗布液的特性，適宜設定增減設置於噴嘴本體的槽的深度及其寬度的調整螺絲716的排列間距，進行開口尺寸的調整。由此，能夠進一步效率良好地實現可獲得均勻的塗布膜的塗布條件。

接著，對本發明的狹縫噴嘴的第五實施方式及第六實施方式進行說明。至此說明的第一實施方式至第四實施方式通過使構成噴嘴本體的第一本體部及第二本體部中的至少一個變形來調整吐出口的開口寬度。與此相對，以下說明的第五實施方式及第六實施方式通過增減隔著墊片板將第一本體部與第二本體部加以結合的固定螺絲的緊固量來調整吐出口的開口寬度。接下來說明的第五實施方式的狹縫噴嘴75及第六實施方式的狹縫噴嘴75D均可用作圖1所示的塗布裝置1的狹縫噴嘴71。

＜第五實施方式＞

圖12是表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第五實施方式的圖。更具體而言，圖12A是本實施方式的狹縫噴嘴75的外觀立體圖，圖12B是示意性地表示狹縫噴嘴75的主要結構的分解組裝圖。狹縫噴嘴75具有第一本體部751、第二本體部752及墊片板753通過多個固定螺絲756而相互結合的結構。如圖12B中由點劃線箭頭所示，第一本體部751與第二本體部752以夾持墊片板753在X方向上相向的狀態結合，而構成狹縫噴嘴75。

第一本體部751及第二本體部752例如是自不銹鋼或鋁等的金屬塊削出而成。另外，墊片板753是由同樣的金屬材料形成的薄板狀構件。

第一本體部751中與第二本體部752相向之側的主表面、即（+X）側的主表面以成為與YZ平面平行的平坦面751a的方式得到精加工。以下，將所述平坦面751a稱為“第一平坦面”。另外，第一本體部751的下部向下突出而形成第一唇部751c。在平坦面751a的Z方向上的中央部，設置有將Y方向作為長邊方向、將X方向作為深度方向的大致半圓柱形狀的槽751d。所述槽751d作為塗布液的流路中的歧管發揮功能，並經由未圖示的塗布液供給口而與塗布液供給機構8連接。

另一方面，第二本體部752的與第一本體部751相向之側的主表面、即（-X）側的主表面成為與YZ平面平行的平坦面752a。以下，將所述平坦面752a稱為“第二平坦面”。另外，第二本體部752的下部向下突出而形成第二唇部752c。以平坦面751b與第二平坦面752a隔著地相向的方式，第一本體部751與第二本體部752隔著墊片板753而結合。

在將第一本體部751與第二本體部752結合的狀態下，第一平坦面751a與第二平坦面752a隔著相當於墊片板753的厚度的微小的間隙平行地相向。如此相互相向的相向面（第一平坦面751a、第二平坦面752a）之間的間隙部分成為來自歧管的塗布液的流路，其下端作為朝向基板S的表面Sf並向下開口的吐出口755發揮功能。吐出口755是將Y方向作為長邊方向且X方向上的開口尺寸為微小的狹縫狀的開口。

墊片板753形成為向下開口的倒U字形。通過在第一本體部751與第二本體部752之間的間隙夾入墊片板753，間隙空間中比槽751d更靠上方的上端部及Y方向上的兩側端部被墊片板753堵塞。由此，間隙空間中未被墊片板753堵塞的空間規定將作為歧管的槽751d與吐出口755加以連接的塗布液的流路。換句話說，墊片板753設為如下形狀：作為塗布液的流路的部分被切開，包圍吐出口以外的塗布液的流路的周圍。

為了容易觀察圖，在圖12A中省略了記載，另外，在圖12B中僅記載了一部分，但在第一本體部751、第二本體部752及墊片板753，設置有用於供將它們加以結合的固定螺絲（例如螺栓）756插通的孔。具體而言，在第一本體部751的平坦面751a中比槽751d更靠上方設置有螺絲孔751f，所述螺絲孔751f形成有與作為外螺紋的固定螺絲756螺合的內螺紋。另一方面，在第二本體部752，在與螺絲孔751f對應的位置設置有沿X方向貫通的貫通孔752f。另外，也在墊片板753，在與螺絲孔751f對應的位置設置有貫通孔753f。

而且，插通至第二本體部752的貫通孔752f的固定螺絲756經由墊片板753的貫通孔753f而螺合於第一本體部751的螺絲孔751f。由此，將第一本體部751、第二本體部752及墊片板753相互一體地結合。在圖12B中僅示出了兩個固定螺絲756及用於供所述固定螺絲756插通的孔。但是實際上，在圖中帶有點的區域呈列狀配置有多個孔，固定螺絲756分別插通至這些孔。即，以包圍塗布液的流路的方式配置有固定螺絲756。由此，構成將第一本體部751、第二本體部752及墊片板753牢固地固定結合而成的結合體即狹縫噴嘴75。關於孔的配置，在後面說明。

圖13A至圖13C是表示狹縫噴嘴的剖面結構的圖，且更具體而言是以狹縫噴嘴75的XZ平面為切斷面的剖面圖。如圖13A所示，第一本體部751與第二本體部752在比槽751d更靠上方隔著墊片板753而由固定螺絲756固定。如後所述，固定螺絲756（756a、756b）是使位置在上下方向（Z方向）上不同地配置多個。由此，在比槽751d更靠下方，第一平坦面751a與第二平坦面752a隔開間隙地相向，所述間隙空間成為塗布液的流路，並且其下端形成向下開口的吐出口755。吐出口755在與長邊方向（Y方向）正交的寬度方向（X方向）上的開口寬度Wa由墊片板753的厚度規定。

此處，考慮使上下地配置的固定螺絲756中下側的固定螺絲756b的擰入量（緊固量）大於上側的固定螺絲756a的擰入量的情況。於是，如圖13B所示，因緊固力的增加而墊片板753稍微彈性變形，由此間隙下端的吐出口755的開口寬度Wb稍小於原來的開口寬度Wa。另外，與此相反，使上側的固定螺絲756a的擰入量大於下側的固定螺絲756b的擰入量。於是，如圖13C所示，間隙下端的吐出口755的開口寬度Wc稍大於原來的開口寬度Wa。

如此，通過增減固定螺絲756的擰入量，可調整吐出口755的開口寬度。固定螺絲756沿著吐出口755的長邊方向即Y方向排列有多個。通過各別地調整這些固定螺絲756，可在長邊方向上的各位置處調整吐出口755的開口寬度。

圖14A至圖14D是表示墊片板的結構的圖。圖14A表示墊片板753的平面形狀。金屬制的薄板狀構件即墊片板753的包絡外形與第一本體部751的第一平坦面751a及第二本體部752的第二平坦面752a的外形大致相同。但是，在作為吐出口755的下端部側設置有切口部753d。通過所述切口部753d在第一平坦面751a與第二平坦面752a之間所形成的空間成為塗布液的流路。

可如下那樣換句話說。墊片板753具有帶狀部位753a以及延伸部位753b、延伸部位753b。帶狀部位753a具有至少包含在與吐出口755在長邊方向（Y方向）上的兩端部對應的位置且沿Y方向延伸的大致一致的寬度。延伸部位753b、延伸部位753b自帶狀部位753a的兩端部向下、即-Z方向延伸。帶狀部位753a作為流路中與吐出口755為相反側的背面上的間隔壁發揮功能。另一方面，延伸部位753b、延伸部位753b作為規定流路中的Y方向上的兩端部的側面的間隔壁發揮功能。

在墊片板753設置有多個用於供固定螺絲756插通的貫通孔753f。在墊片板753中比切口部753d更靠上方的帶狀部位753a，遍及墊片板753的Y方向（吐出口755的長邊方向）上的整個區域地設置有沿Y方向呈列狀排列的多個貫通孔753f。更具體而言，沿著使Z方向上的位置互不相同的假想的三條直線L1、L2、L3的各者，沿Y方向以一定間距排列有多個貫通孔753f。即，在所述例子中，包含多個貫通孔753f的Y方向上的列沿Z方向排列有三列。第一本體部751中的螺絲孔751f、第二本體部752中的貫通孔752f也成為與其相同的排列。

如上所述，通過使位置在Z方向上不同地設置多個固定螺絲756，能夠通過其擰入量的增減來調整吐出口755的開口寬度。而且，通過沿著吐出口755的長邊方向即Y方向，且遍及吐出口755的兩端間的整個區域地分散配置固定螺絲756，可在長邊方向上的各位置處分別進行開口寬度的調整。

原理上，若固定螺絲756的列為上下兩列，則可進行增減開口寬度的調整。在如所述例子那樣設為三列的情況下，可進行如下應用。例如，首先，通過利用上下方向上的中央的列（沿著直線L2的列）的固定螺絲756使第一本體部751與第二本體部752結合，可使吐出口755的開口寬度與墊片板753的厚度相同。而且，對於上側的列及下側的列，也將固定螺絲756暫時固定，通過根據需要而擰緊屬於上下任一列的固定螺絲756，可增減開口寬度。

如上所述，在本申請發明人們的見解中，吐出量相對於開口寬度的增減的變化、即吐出量相對於開口寬度的調整的響應靈敏度在吐出口的中央部高，在端部低。因此，若開口寬度的變化量相同，則在中央部吐出量相對較大地變化，與此相對，在端部吐出量的變化小。另外，在塗布膜中寬度方向上的中央部分膜厚相對較穩定，與此相對，在端部附近，例如因與流路的側壁面的摩擦等，而處於容易產生膜厚的變動的傾向。進而，如圖12B及圖14A所示，在狹縫噴嘴75的兩端部附近，除了沿著三條直線L1、L2、L3配置以外，在更接近吐出口755的位置，以自其寬度方向上的兩側夾持塗布液的流路的方式配置固定螺絲756。此種固定螺絲756抑制開口寬度相對於沿著直線L1、直線L2、直線L3配置的固定螺絲756的調整的變化。

因此，即便使固定螺絲756在吐出口755在長邊方向上的中央部與端部之間以相同的旋轉角度旋轉，由此引起的吐出量的變化量、進而塗布膜的膜厚的變化量在中央部與端部也不同。換句話說，使吐出量同等地變化所需要的固定螺絲756的調整量（旋轉角度）根據固定螺絲756的位置而不同。於是，用於獲得在吐出口的整體使吐出量一致且厚度均勻的塗布膜的調整作業變得非常繁雜。為了防止此情況，吐出量的響應靈敏度、即吐出量相對於相同調整量的變化量優選為遍及吐出口的長邊方向上的整個區域同等。因此，特別要求提高端部的響應靈敏度。另外，也為了應對在端部附近容易產生膜厚變動的現象，理想的是相對於中央部而言，端部的開口寬度的調整範圍寬。因此，在本實施方式的狹縫噴嘴75中，如下所說明那樣，通過根據位置使墊片板753的剖面形狀不同來應對所述要求。

圖14B是圖14A的A-A線剖面圖。在與吐出口755中除了接近兩端部的端部區域Re以外的中央區域Rc對應的位置，墊片板753的帶狀部位753a具有一定的厚度。即，如圖14B所示，其剖面形狀大致為矩形。此時的厚度可設為構成墊片板753的薄板材料自身的厚度。在此情況下，帶狀部位753a的Y方向上的兩主表面成為分別與第一平坦面751a、第二平坦面752a抵接的狀態。即，在將帶狀部位753a中與第一平坦面751a及第二平坦面752a抵接的面稱為“抵接面”時，抵接面的寬度、即上下方向上的長度與帶狀部位753a的寬度相同。

另一方面，圖14C是圖14A的B-B線剖面圖，但C-C線剖面的形狀也相同。這些表示吐出口755的接近端部的端部區域Re中的帶狀部位753a的剖面形狀。在圖14C的左端所示的剖面形狀中，帶狀部位753a在上下端部逐漸變薄。另外，在中央所示的剖面形狀中，帶狀部位753a的X方向上的兩主表面中的其中一個平坦，僅另一側的厚度變化。另外，在右端所示的剖面形狀中，在其下部厚度減少，但在上部側厚度一定。

圖14C所示的剖面形狀為上下端部成為前端變細的形態。但是，也可代替其，例如，如圖14D所示，為在上下方向上的兩端部比中央部薄的階梯狀的厚度變化。即便在此情況下，在左端所示的剖面形狀中，在帶狀部位753a的兩主表面雙方設置有階差，在中央的剖面形狀中，僅在其中一個主表面設置有階差。另外，在右端所示的剖面形狀中，僅在下部側設置有階差。

將由這些剖面形狀所示的帶狀部位753a中具有與中央區域Rc中的厚度相同厚度的部分稱為“厚壁部Pa”。另外，將比其薄的部分稱為“薄壁部Pb”。於是，端部區域Re中的帶狀部位753a的剖面形狀可為相對於厚壁部Pa鄰接於其上下方向中的至少一個地設置薄壁部Pb的形狀。

通過將墊片板753的帶狀部位753a設為此種剖面形狀，帶狀部位753a的（-X）側主表面與第一平坦面751a的抵接狀態如下那樣。即，帶狀部位753a的（-X）側主表面僅在厚壁部Pa與第一平坦面751a抵接，在薄壁部Pb不與第一平坦面751a抵接。因此，之前定義的抵接面的寬度為厚壁部Pa的寬度，這比帶狀部位753a自身的寬度小。即，在所述部分，墊片板753的有效寬度變窄。

薄壁部Pb並不完全堵塞第一平坦面751a與第二平坦面752a之間的空間，因此不發揮規定間隙的作用。由此，介隔於第一本體部751與第二本體部752之間來規定兩者的間隙的墊片板753的作用在吐出口755的端部區域Re比中央區域Rc弱。即，由固定螺絲756的擰入量的變化引起的墊片板753的變形在端部區域Re，與中央區域Rc相比更容易產生。其結果，對固定螺絲756給予相同角度的旋轉輸入時的開口寬度的變化在端部比吐出口755的中央部大。

如此，通過使開口寬度相對於相同旋轉輸入的變化量在端部比中央部大，可減輕或者消除在所述中央部與端部之間的響應靈敏度的差。即，可使吐出量相對於相同旋轉輸入的變化量在吐出口755的中央部與端部同等。由此，在吐出口的中央部及端部的任一者中，與向固定螺絲756的旋轉輸入對應的吐出量的變化均同等。對操作員來說，可效率良好地進行用於使吐出量均勻化的調整作業。

通過適宜地設定端部區域Re中的墊片板753的厚度分佈，可認為能夠將中央部與端部之間的響應靈敏度的不同抑制到實用上沒有問題的水平。關於具體的厚度分佈，例如可基於吐出口755的開口寬度的大小或所使用的塗布液的黏度等例如通過實驗求出。

再者，在墊片板753中，設置有多個用於使固定螺絲756插通的貫通孔753f。關於這些貫通孔753f中設置在帶狀部位753a的貫通孔，理想的是均以貫通厚壁部Pa的方式穿設。其理由在於，通過僅在厚壁部Pa設置貫通孔753f，防止經由貫通孔的液體洩漏。在薄壁部Pb中，在與第一平坦面751a或第二平坦面752a之間產生一些間隙。因此，若在所述部分設置貫通孔，則有供給至流路內的塗布液經由所述間隙漏出到貫通孔之虞。

圖15A及圖15B是表示墊片板的變形例的圖。如上所述，關於設置在墊片板的貫通孔753f的配置（即固定螺絲756的配置），只要使位置在Z方向上不同且為兩處以上即可。即，固定螺絲756的列至少為兩列即可。在此情況下，如圖15A所示的變形例的墊片753A那樣，用於供固定螺絲756插通的上下兩個貫通孔753f可在Y方向上處於相同位置。另外，也可如圖15B所示的變形例的墊片753B那樣，設為用於供固定螺絲756插通的上下兩個貫通孔753f在Y方向上的位置互不相同的、所謂的交錯配置。再者，在這些變形例中，第一本體部751、第二本體部752基本上不需要變更。但是，根據墊片板上的貫通孔753f的配置變更，螺絲孔等的位置需要變更。

也考慮在上下方向上設置四個以上的固定螺絲。但是，在此情況下，在逐個調整固定螺絲時，開口寬度的變化可能會被其他固定螺絲限制。因此，難以使開口寬度在必要的範圍內變化，而且有用於調整的作業量變得龐大之虞。根據以上內容，對於固定螺絲756的配置，可以說優選為沿上下方向排列成兩列或三列。

圖16是表示墊片板的另一變形例的圖。圖14A所示墊片板753在帶狀部位753a中與端部區域Re對應的部分，具有厚度在上下兩端部變薄那樣的剖面形狀。另一方面，圖16所示的變形例的墊片板753C具有在與端部區域Re對應的位置處在帶狀部位753c的上下端部設置有切口部753k的構造。即，在此情況下使寬度而非帶狀部位753c的厚度變化。根據此種結構，基於墊片板753C的間隙規定作用也在與端部區域Re對應的位置處，比中央區域Rc弱。因此，與所述第五實施方式同樣地，吐出口755的開口寬度相對於固定螺絲756的調整量的變化在端部比中央部大，可減少中央部與端部之間的吐出量的變化量的差異。

＜第六實施方式＞

接著，對可應用於塗布裝置1的狹縫噴嘴的第六實施方式進行說明。在所述實施方式中，在狹縫噴嘴75的長邊方向（Y方向）上設置有單一的吐出口。但是，在此種塗布裝置中，也存在將吐出口在長邊方向上分割為多個且同時形成多個塗布膜那樣的利用形態。接下來所示的第六實施方式的狹縫噴嘴75D對應於此種需求。

圖17A及圖17B是表示在圖1的塗布裝置中所使用的狹縫噴嘴的第六實施方式的圖。更具體而言，圖17A是示意性地表示本實施方式的狹縫噴嘴75D的主要結構的分解組裝圖。另外，圖17B是表示所述實施方式中的墊片板753A的形狀的圖。再者，在圖17A、圖17B及以下的說明中，對與第五實施方式中的結構相同的結構標注相同的符號，並省略詳細的說明。

如圖17A所示，在本實施方式的狹縫噴嘴75D中，在噴嘴下端沿Y方向排列形成有兩個吐出口755a、755b。通過使用此種噴嘴，可同時形成沿Y方向遠離的兩個塗布膜。

所述實施方式的狹縫噴嘴75D的夾入於第一本體部751與第二本體部752之間的墊片板753D的形狀與第五實施方式不同。在墊片板753D的中央部設置有突出部位753q，因此，形成有在Y方向上被分割為兩部分的切口部753p、切口部753r。由此，突出部位753q作為流路的間隔壁發揮作用，塗布液的流路被劃分為兩個。突出部位753q延伸到與第一唇部751c及第二唇部752c的下端對應的位置為止。在這些下端分別形成有將Y方向作為長邊方向且沿Y方向排列的兩個吐出口755a、755b。在此情況下，在第一本體部751、第二本體部752中，也需要根據墊片板中的貫通孔753f的變更來變更螺絲孔等的位置。

在此情況下，為了在兩個吐出口755a、755b的各者實現“使響應靈敏度在中央部與端部一致”的目的，墊片板753D的厚度分佈以如下方式設定。即，如圖17B所示，與兩個吐出口755a、755b各自的中央部對應的中央區域Rc中的墊片板753D的帶狀部位753d1的剖面、即A-A線剖面及B-B線剖面的形狀如圖14B所示那樣具有一致的厚度。

另一方面，如圖14C或圖14D所示，與兩個吐出口755a、755b各自的端部附近對應的端部區域Re中的墊片板753D的剖面、即C-C線剖面、D-D線剖面、E-E線剖面及F-F線剖面的形狀成為厚度在上下兩端部中比靠近中央減少的形狀。

通過設為此種結構，可在吐出口755a、吐出口755b的各者獲得與所述第五實施方式相同的作用效果。即，使吐出量相對於針對固定螺絲的調整輸入的響應靈敏度在自吐出口的中央部到端部之間一致，能夠效率良好地進行調整作業。對於所述實施方式，也可應用圖15A至圖16所示的變形例的技術思想而適宜變形。

如此，在所述第五實施方式、第六實施方式中，部分地變更夾入於構成狹縫噴嘴的兩個構件的墊片的形狀、更具體而言使墊片在與吐出口的端部對應的位置，與中央部對應的位置相比部分地薄或者使寬度窄。由此，可使開口寬度的變化在吐出口的端部附近，比中央部顯著。因此，可抑制吐出量相對於調整輸入的響應靈敏度在中央部與端部不同、更具體而言響應靈敏度在端部比中央部低的問題，而使響應靈敏度在吐出口在長邊方向上的整個區域中一致。其結果，在所述實施方式中，能夠更效率良好地實現可獲得均勻的塗布膜的塗布條件。

＜其他＞

如以上說明那樣，在所述第一實施方式至第四實施方式中，第一唇部711c與第二唇部712c構成“一對唇部”，第一本體部711及第二本體部712分別作為本發明的“第一本體部”及“第二本體部”發揮功能。另外，相互相向的第一本體部的第一平坦面711a及第二本體部的第二平坦面712a相當於本發明的“相向面”。另外，設置於第一本體部711的螺絲孔711h、調整螺絲716等一體地作為本發明的“調整機構”發揮功能。另外，關於設置於第二本體部712的螺絲孔712h、調整螺絲716等，它們也一體地作為本發明的“調整機構”發揮功能。另外，槽711f、槽712f相當於本發明的“槽”。

＜其他＞

另外，在所述第五實施方式及第六實施方式中，塗布裝置1相當於本發明的“基板處理裝置”。另外，第一本體部751的第一平坦面751a、第二本體部752的第二平坦面752a相當於本發明的“平坦面”。另外，墊片板753作為本發明的“間隔件構件”發揮功能，另一方面，固定螺絲756作為本發明的“螺絲構件”發揮功能。而且，呈列狀配置的多個固定螺絲756一體地作為本發明的“結合部”發揮功能。

另外，所述實施方式的塗布裝置1相當於本發明的“基板處理裝置”，輸入輸送機100、輸入移載部2、浮起平臺部3、輸出移載部4、輸出輸送機110、基板搬送部5等一體地構成本發明的“相對移動機構”。另外，塗布液供給機構8作為本發明的“處理液供給部”發揮功能。

再者，本發明並不限定於所述實施方式，只要不脫離其主旨，則除所述實施方式以外，可進行各種變更。例如在所述第一實施方式至第四實施方式中，在第二本體部712的側面設置槽712f，通過自下方安裝的調整螺絲716來調整吐出口715的開口尺寸。但是，並不限定於此，也可為利用其他方式來調整開口尺寸的結構。例如，也可在噴嘴的下表面設置槽，利用設置於水平方向上的調整螺絲使噴嘴進行彈性變形來增減開口尺寸。

另外，例如在所述第一實施方式至第四實施方式中，作為調整螺絲，使用對於使開口尺寸擴大的方向及縮小的方向的任一方向均主動地發揮作用的差動螺絲，但例如通過如將事先設定得大的開口尺寸縮小、或相反地將事先設定得小的開口尺寸擴大那樣僅具有單方向的調整功能的調整螺絲，也可進行適當的開口尺寸的調整。

另外，在所述說明中未特別提及，但在如第三實施方式那樣在構成噴嘴本體的兩個本體構件上分別設置調整機構的情況下，設置於各本體構件的槽的深度分佈也可互不相同。另外，任一個槽也可具有一定的深度。

另外，例如，在所述第五實施方式、第六實施方式的墊片板753等中，帶狀部位753a的厚度及寬度中的一者在端部區域Re中減少。也可代替其，使帶狀部位753a的厚度及寬度兩者變化。

另外，在所述實施方式中，通過在狹縫噴嘴71、狹縫噴嘴75的下方搬送基板S來實現狹縫噴嘴71、狹縫噴嘴75與基板S的相對移動。但是，它們的相對移動的實現方法並不限定於所述方法。例如在狹縫噴嘴相對於保持在平臺上的基板進行掃描移動的結構中，本發明也有效地發揮功能。另外，基板的搬送形式並不限定於如上所述那樣的浮起式的搬送形式。例如可應用輥式搬送、帶式搬送、利用移動平臺的搬送等各種搬送形式。

進而，在所述實施方式中，對將塗布液供給至基板S的表面Sf的塗布裝置1應用本發明，但本發明的應用對象並不限定於此。可應用於一面通過對狹縫噴嘴輸送處理液來自所述狹縫噴嘴朝基板的表面供給處理液，一面相對於狹縫噴嘴使基板相對移動來實施規定的處理的所有基板處理技術。

以上，如例示具體的實施方式並進行了說明那樣，本發明的狹縫噴嘴例如可設為如下結構：在自與吐出口在長邊方向上的其中一個端部對應的位置到與另一個端部對應的位置之間，槽的深度呈多階段地變化。或者，例如也可設為如下結構：在自與吐出口在長邊方向上的其中一個端部對應的位置到與另一個端部對應的位置之間，槽的深度連續地變化。在所述任一結構中，均能夠在吐出口的中央部與端部之間抑制吐出量相對於用於開口寬度調整的機械輸入的變化的差別。

另外，例如，調整機構也可為如下結構：包括以跨越槽的方式設置於噴嘴本體，通過擰入量的增減來使槽的寬度變化的調整螺絲，多個調整螺絲沿著長邊方向排列。根據此種結構，通過操作各個調整螺絲，能夠調整吐出口在各位置上的開口寬度。

在此情況下，多個調節螺絲的排列間距例如可在與吐出口在長邊方向上的端部對應的位置處，比在與吐出口在長邊方向上的中央部對應的位置處小。根據此種結構，能夠在容易產生吐出量的偏差的吐出口的端部極細緻地調整開口寬度，從而能夠效率良好地進行使吐出量均勻化的作業。

另外，例如，槽及調整機構也可與一對唇部分別對應地設置。根據此種結構，可在構成吐出口的一對唇部的各者進行開口寬度的調整。因此，與僅調整其中一個唇部的結構相比，能夠更細緻地進行調整作業。

另外，在調整機構具有調整螺絲的結構中，也可為槽及調整螺絲與一對唇部分別對應地設置。在此情況下，在設置於一對唇部中的其中一個唇部的調整螺絲與設置於另一個唇部的調整螺絲之間，長邊方向上的配設位置互不相同。根據此種結構，其中一個唇部的調整位置與另一個唇部的調整位置在長邊方向上不同，因此可以更細微的調整間距調整開口寬度。

另外，例如，噴嘴本體也可為通過將分別具有唇部的第一本體部與第二本體部結合而形成的結構。根據所述結構，可使設置於第一本體構件與第二本體構件之間的間隙作為液體的流路及吐出口發揮功能。在此情況下，第一本體部與第二本體部也可隔著規定間隙的墊片而結合。

另外，本發明的狹縫噴嘴也可為：帶狀構件的寬度及厚度在中央區域大致一定，另一方面，在端部區域中，與長邊方向垂直的切斷面上的帶狀部位的剖面包含與中央區域中的厚度為相同厚度的厚壁部、以及比所述厚壁部薄的薄壁部。根據此種結構，通過使帶狀構件的厚度部分地不同而使抵接面的寬度變化。

在此情況下，可設為：在剖面中，薄壁部鄰接於厚壁部的兩端部中的至少一個。在此種結構中，可通過厚壁部堵塞間隙而防止流體的洩漏，並且獲得由設置薄壁部帶來的響應靈敏度的改善效果。

另外，例如，也可設為以下結構：在中央區域中帶狀構件的寬度及厚度大致一定，另一方面，帶狀構件的寬度在端部區域中，比中央區域小。在此種結構中，使帶狀構件的寬度變化。如此，通過使帶狀構件的厚度及寬度中的至少一者變化，可使基於帶狀部位的間隙規定作用產生由位置引起的差。

另外，例如，結合部也可為以下結構：具有多個貫通間隔件構件並將第一本體部與第二本體部的螺絲構件加以締結，包含沿著吐出口的長邊方向排列成一列的多個螺絲構件的列在與長邊方向正交的方向上設置有多列。根據此種結構，通過各別地調整各螺絲構件的擰入量（系緊量），可在吐出口的各位置使開口寬度變化。在此情況下，包含多個螺絲構件的列優選為兩列或三列。

另外，例如，也可在帶狀部位設置用於使螺絲構件插通的貫通孔，與多個螺絲構件對應的多個貫通孔具有相同的深度。根據此種結構，可防止在貫通孔的周圍在第一本體部與間隔件構件之間、或者在第二本體部與間隔件構件之間產生間隙。由此，可將流體經由所述間隙及貫通孔向外部漏出防患於未然。

另外，本發明的基板處理裝置也可利用處理液在基板的表面形成一致的塗布膜。在使用狹縫噴嘴形成一致的塗布膜的情況下，在噴嘴的吐出口的中央部與端部吐出量不同，由此有時塗布膜的厚度會產生偏差。通過將本發明應用於此種裝置，能夠在吐出口的整個區域有效率地進行用於形成一致的塗布膜的調整作業。 [產業上的可利用性]

本發明可應用於具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴、以及使用所述狹縫噴嘴將處理液塗布在基板上的所有基板處理裝置。

1:塗布裝置（基板處理裝置） 2:輸入移載部（相對移動機構） 3:浮起平臺部（相對移動機構） 4:輸出移載部（相對移動機構） 5:基板搬送部（相對移動機構） 7:塗布機構 8:塗布液供給機構（處理液供給部） 9:控制單元 21、41、101、111:輥式輸送機 22、42:旋轉/升降驅動機構 31:入口浮起平臺 32:塗布平臺 33:出口浮起平臺 34:頂銷驅動機構 35:浮起控制機構 51:夾盤機構 52:吸附/前行控制機構 61:感測器（板厚測定用的感測器） 62:感測器（浮起高度檢測感測器） 71、71A～71F、75、75D:狹縫噴嘴 72B、72F:墊片 79:噴嘴清洗待機單元 100:輸入輸送機（相對移動機構） 102、112:旋轉驅動機構 110:輸出輸送機 710、710B、710C:噴嘴本體 710F:本體部 711、751:第一本體部（噴嘴本體、第一本體部） 711a、751a:第一平坦面（相向面） 711b:平坦面 711B、711C、711D、711E、711F:第一本體部 711c、751c:唇部（第一唇部） 711d、711f、711k、712f、751d:槽 711e、712e:主表面 711g:突出部（第一突出部） 711h、712h、751f:螺絲孔（調整機構） 712、752:第二本體部（噴嘴本體、第二本體部） 712a、752a:第二平坦面（相向面） 712B、712C、712D、712E、712F:第二本體部 712c、752c:唇部（第二唇部） 712g:突出部（第二突出部） 713、713C:第一側板 714、714C:第二側板 715、715a、715b、755、755a、755b:吐出口 716:調整螺絲（調整機構） 753、753A、753B、753C、753D:墊片板（間隔件構件） 753a、753c、753d1:帶狀部位 753b:延伸部位 752f、753f:貫通孔 756、756a、756b:固定螺絲（螺絲構件、結合部） 721F、753q:突出部位 753d、753k、753p、753r:切口部 791:輥 792:清洗部 793:輥棒 Dc、De:一定值（深度） Dt:搬送方向 L1、L2、L3:直線 Pa:厚壁部 Pb:薄壁部 Rc:中央部（中央區域） Re:端部（端部區域） S:基板 Sb:背面 Sf:表面 Tc、Te:壁厚 Wa、Wb、Wc:開口寬度 ΔR:旋轉輸入量 ΔX:變化量 ΔZ:位移量

圖1是示意性地表示本發明的基板處理裝置的一實施方式的圖。 圖2是示意性地表示狹縫噴嘴的第一實施方式的分解組裝圖。 圖3是第一實施方式的狹縫噴嘴的三面圖。 圖4的（a）～（d）是例示槽的深度分佈的圖。 圖5A及圖5B是狹縫噴嘴的剖面圖。 圖6是表示第一實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。 圖7是示意性地表示狹縫噴嘴的第二實施方式的分解組裝圖。 圖8是示意性地表示狹縫噴嘴的第三實施方式的分解組裝圖。 圖9是狹縫噴嘴的三面圖。 圖10A及圖10B是表示第三實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。 圖11A及圖11B是表示狹縫噴嘴的第四實施方式的圖。 圖12A及圖12B是表示狹縫噴嘴的第五實施方式的圖。 圖13A至圖13C是表示狹縫噴嘴的剖面結構的圖。 圖14A至圖14D是表示墊片板的結構的圖。 圖15A及圖15B是表示墊片板的變形例的圖。 圖16是表示墊片板的另一變形例的圖。 圖17A及圖17B是表示狹縫噴嘴的第六實施方式的圖。

71:狹縫噴嘴

711:第一本體部(噴嘴本體、第一本體部)

712:第二本體部(噴嘴本體、第二本體部)

712f:槽

713:第一側板

714:第二側板

716:調整螺絲(調整機構)

Dc、De:一定值(深度)

Rc:中央部(中央區域)

Re:端部(端部區域)

Tc、Te:壁厚

Claims (20)

1. 一種狹縫噴嘴，其特徵在於包括： 噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及 調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且 在所述一對唇部中的至少一個，在與和另一個所述唇部相向的相向面為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向上的槽， 所述調整機構通過以增減所述噴嘴本體中的隔著所述槽而相向的部位的間隔的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度， 所述槽在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處深。
2. 一種狹縫噴嘴，其特徵在於包括： 噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及 調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且 在所述一對唇部中的至少一個，在與和另一個所述唇部相向的相向面為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向上的槽， 所述調整機構通過以增減所述噴嘴本體中的隔著所述槽而相向的部位的間隔的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度， 所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處小。
3. 如請求項1或2所述的狹縫噴嘴，其中，在自與所述吐出口在所述長邊方向上的其中一個端部對應的位置到與另一個端部對應的位置之間，所述槽的深度呈多階段地變化。
4. 如請求項1或2所述的狹縫噴嘴，其中，在自與所述吐出口在所述長邊方向上的其中一個端部對應的位置到與另一個端部對應的位置之間，所述槽的深度連續地變化。
5. 如請求項1或2所述的狹縫噴嘴，其中，所述調整機構包括調整螺絲，所述調整螺絲跨越所述槽而設置於所述噴嘴本體，通過擰入量的增減來使所述槽的寬度變化，多個所述調整螺絲沿著所述長邊方向排列。
6. 如請求項5所述的狹縫噴嘴，其中，所述多個調整螺絲的排列間距在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處小。
7. 如請求項5所述的狹縫噴嘴，其中，所述槽及所述調整螺絲與所述一對唇部分別對應地設置，在設置於所述一對唇部中的其中一個所述唇部的所述調整螺絲與設置於另一個所述唇部的所述調整螺絲之間，所述長邊方向上的配設位置互不相同。
8. 如請求項6所述的狹縫噴嘴，其中，所述槽及所述調整螺絲與所述一對唇部分別對應地設置，在設置於所述一對唇部中的其中一個所述唇部的所述調整螺絲與設置於另一個所述唇部的所述調整螺絲之間，所述長邊方向上的配設位置互不相同。
9. 如請求項1或2所述的狹縫噴嘴，其中，所述槽及所述調整機構與所述一對唇部分別對應地設置。
10. 如請求項1或2所述的狹縫噴嘴，其中，所述噴嘴本體是通過將分別具有所述唇部的第一本體部與第二本體部結合而形成。
11. 如請求項10所述的狹縫噴嘴，其中，所述第一本體部與所述第二本體部隔著規定所述間隙的墊片而結合。
12. 一種狹縫噴嘴，具有呈狹縫狀開口的吐出口及與所述吐出口連通的流體的流路，且所述狹縫噴嘴的特徵在於，包括： 第一本體部及第二本體部，分別具有隔著間隙而相互相向的平坦面，在所述間隙中形成所述流路及所述吐出口； 薄板狀的間隔件構件，通過夾入於所述第一本體部與所述第二本體部之間，規定所述間隙的大小並且堵塞所述吐出口以外的所述流路的周圍的所述間隙；以及 結合部，隔著所述間隔件構件而將所述第一本體部與所述第二本體部加以結合， 所述間隔件構件具有沿著所述吐出口的長邊方向自與所述吐出口的其中一個端部對應的位置連續地延伸到與另一個端部對應的位置為止的帶狀部位， 所述帶狀部位的主表面中與所述第一平坦面抵接的抵接面的寬度在與所述吐出口在所述長邊方向上的兩端部對應的端部區域，小於比所述端部區域更靠內側的中央區域。
13. 如請求項12所述的狹縫噴嘴，其中，在所述中央區域所述帶狀構件的寬度及厚度大致一定，另一方面， 在所述端部區域中，與所述長邊方向垂直的切斷面上的所述帶狀部位的剖面包含與所述中央區域中的厚度為相同厚度的厚壁部、以及比所述厚壁部薄的薄壁部。
14. 如請求項13所述的狹縫噴嘴，其中，在所述剖面中，所述薄壁部鄰接於所述厚壁部的兩端部中的至少一個。
15. 如請求項12所述的狹縫噴嘴，其中，在所述中央區域中，所述帶狀構件的寬度及厚度大致一定，另一方面，所述帶狀構件的寬度在所述端部區域中，比所述中央區域小。
16. 如請求項12至15中任一項所述的狹縫噴嘴，其中，所述結合部具有多個貫通所述間隔件構件並將所述第一本體部與所述第二本體部加以緊固的螺絲構件，包含沿著所述吐出口的長邊方向排列成一列的多個所述螺絲構件的列在與所述長邊方向正交的方向上設置有多列。
17. 如請求項16所述的狹縫噴嘴，其中，包含多個所述螺絲構件的所述列設置有兩列或三列。
18. 如請求項16所述的狹縫噴嘴，其中，在所述帶狀部位設置有用於使所述螺絲構件插通的貫通孔，與多個所述螺絲構件對應的多個所述貫通孔具有相同的深度。
19. 一種基板處理裝置，其特徵在於，包括： 如請求項1、2、12至15中任一項所述的狹縫噴嘴； 相對移動機構，將基板與所述狹縫噴嘴的所述吐出口相向地配置，並且使所述狹縫噴嘴與所述基板在與所述長邊方向相交的方向上相對移動；以及 處理液供給部，向所述狹縫噴嘴供給處理液，且 將自所述吐出口吐出的所述處理液塗布在所述基板的表面。
20. 如請求項19所述的基板處理裝置，其中，利用所述處理液在所述基板的表面形成一致的塗布膜。

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