CN215390401U - 狭缝喷嘴以及基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，能够在吐出口的中央部与端部之间有效率地进行用于使吐出量均匀化的作业。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙地相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度，在一对唇部中的至少一个中，在与和另一个唇部相向的相向面为相反侧的面上与吐出口的长边方向平行地设置有槽，调整机构通过以增减喷嘴本体中的隔着槽而相向的部位的间隔的方式使喷嘴本体变形来调整开口宽度。槽在与吐出口在长边方向上的端部对应的位置处，比在与吐出口在长边方向上的中央部对应的位置处深。

Description

狭缝喷嘴以及基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、以及使用所述狭缝喷嘴将处理液涂布在基板上的基板处理装置。再者，所述基板包括：半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示用基板、等离子体显示用基板、场发射显示器(Field Emission Display，FED)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板等。

背景技术

在半导体装置或液晶显示装置等电子元件等的制造步骤中，使用对基板的表面供给处理液，并将所述处理液涂布在基板上的基板处理装置。某基板处理装置一面在使基板浮起的状态下搬送所述基板，一面将处理液输送至狭缝喷嘴并自狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出，而将处理液涂布在大致整个基板上。另外，另一种基板处理装置一面在平台上吸附保持基板，一面在自狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出处理液的状态下，使狭缝喷嘴相对于基板进行相对移动来将处理液涂布在大致整个基板上。

近年来，伴随对制品的高品质化的要求，提高通过基板处理装置来涂布的处理液的膜厚的均匀性变得重要。为了所述目的，提出有一种用于可在沿着狭缝的长边方向上的各位置处，个别地调整狭缝状的吐出口的开口尺寸的结构。

例如，在日本专利特开2008-246280号公报(专利文献1)中，作为将两个构件组合并将它们之间的间隙设为吐出口的结构中的调整机构，公开有将差动螺丝在长边方向上排列多个的现有的结构(图8)、以及与将其中一个构件在长边方向上分割，并能够在吐出口的中央部与端部进行独立的间隙调整的实用新型相关的结构(图2)。

另外，例如，在日本专利特开2015-066537号公报(专利文献2)、日本专利第4522726 号公报(专利文献3)中，两个喷嘴本体以彼此相向的方式组合，由此在两者的间隙中形成流体的流路及吐出口。在两者之间夹入有薄板状的垫片板(有时也简称为“垫片”)。两个喷嘴本体通过贯通垫片板地插通的螺丝(螺栓)而相互结合。螺栓沿着吐出口的长边方向呈列状配置，通过增减这些螺栓的紧固量，能够在长边方向上的各位置处各别地调整吐出口的开口宽度。

实用新型内容

[实用新型所要解决的问题]

就电子元件的微细化或材料的有效利用等观点而言，关于涂布的均匀性，要求比目前为止更高的水平。因此，在吐出口的横跨长边方向的整个区域中，需要极细致地调整吐出量。因此，对于所述现有技术，期望进一步改善。特别是，在吐出口在长边方向上的中央部附近与端部附近，即便使吐出口的开口宽度以相同的方式变化，吐出量的变化也未必相同。即，吐出量相对于开口宽度的调整的响应灵敏度在吐出口的中央部与端部不同。因此，使吐出量自吐出口的中央部到端部均匀地一致的微调整的作业容易变得繁杂。

[解决问题的技术手段]

本实用新型是鉴于所述问题而成，其目的在于提供一种在具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴并将处理液涂布在基板上的基板处理装置中，可在吐出口的中央部与端部之间有效率地进行用于使吐出量均匀化的作业的技术。

为了实现所述目的，本实用新型的狭缝喷嘴的一实施例包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度，且在所述一对唇部中的至少一个，在与和另一个所述唇部相向的相向面为相反侧的面上，设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向上的槽，所述调整机构通过以增减所述喷嘴本体中的隔着所述槽而相向的部位的间隔的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度，所述槽在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处深。

为了实现所述目的，本实用新型的狭缝喷嘴的另一实施例包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度，且在所述一对唇部中的至少一个，在与和另一个所述唇部相向的相向面为相反侧的面上，设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向上的槽，所述调整机构通过以增减所述喷嘴本体中的隔着所述槽而相向的部位的间隔的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度，所述槽的底部与所述相向面之间的所述唇部的壁厚在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处小。

在如此构成的实用新型中，唇部相对于为了使唇部变形而施加的力的变形量在端部比在长边方向上的中央部大。其理由如下那样，在第一实施例中，槽在端部比中央部深。另外，在第二实施例中，唇部的壁厚在端部比中央部小。因此，在任一实施例中，喷嘴本体相对于要变形的力的挠曲量均在端部比中央部大。因此，为了增减吐出口的开口宽度，在调整机构使用于使喷嘴本体变形的力作用于喷嘴本体时，与相同大小的力对应的吐出口的开口宽度的变形量在端部比中央部大。

另一方面，在自狭缝喷嘴吐出液体时，难以在吐出口的长边方向的整个区域实现均匀的吐出量，特别是在吐出口的中央部附近与端部附近，有时吐出量会产生差别。更具体而言，在吐出口的端部附近，因与吐出口周围的喷嘴内壁的摩擦的影响等，对流体流通的阻力变大，以此为原因之一，比中央部吐出量容易变小。换句话说，与吐出口的开口宽度的调整量对应的吐出量的变化量在端部附近比吐出口的中央部灵敏度低。因此，用于在吐出口在长边方向上的整个区域均匀地调整吐出量的作业容易变得繁杂。

因此，为了在吐出口的中央部与端部使吐出量相对于用于调整其开口宽度的机械输入的变动量同等，可以说优选使开口宽度相对于机械输入的变化量在端部比中央部大。本实用新型的结构可使开口宽度的变化相对于相同机械输入的灵敏度在端部比中央部高，从而适合于所述目的。

另外，本实用新型的狭缝喷嘴的另一实施例是具有呈狭缝状开口的吐出口及与所述吐出口连通的流体的流路，为了实现所述目的，所述狭缝喷嘴包括：第一本体部及第二本体部，分别具有隔着间隙而相互相向的平坦面，在所述间隙中形成所述流路及所述吐出口；薄板状的间隔件构件，通过夹入于所述第一本体部与所述第二本体部之间，规定所述间隙的大小并且堵塞所述吐出口以外的所述流路的周围的所述间隙；以及结合部，隔着所述间隔件构件而将所述第一本体部与所述第二本体部加以结合。此处，所述间隔件构件具有沿着所述吐出口的长边方向自与所述吐出口的其中一个端部对应的位置连续地延伸到与另一个端部对应的位置为止的带状部位，所述带状部位的主表面中与所述平坦面抵接的抵接面的宽度在与所述吐出口在所述长边方向上的两端部对应的端部区域，小于比所述端部区域更靠内侧的中央区域。

在如此构成的实用新型中，间隔件构件介隔于第一本体与第二本体部之间并与各自的平坦面抵接，由此规定两者的间隙。此处，抵接面的宽度在与吐出口的端部对应的端部区域，比中央区域小。再者，本实用新型中所说的抵接面的“宽度”是沿着作为其延伸设置方向的吐出口的长边方向观察带状部位时的宽度，因此是抵接面在与长边方向正交且与第一本体部的平坦面平行的方向上的长度。

此情况意味着基于间隔件构件的间隙规定作用在端部区域，比中央区域弱。因此，由间隙变化引起的吐出口的开口宽度在端部区域，与中央区域相比更容易大幅地产生。如此的理由如下那样。

如上所述，即便使吐出口的开口宽度遍及其长边方向的整个区域均匀，所吐出的流体的量也未必均匀。特别是在吐出口的端部，有吐出量容易降低的倾向。换句话说，使吐出量以相同量变化所需要的开口宽度的变更量并非一定，根据长边方向上的位置而不同。即，吐出量相对于开口宽度的变更的响应灵敏度根据位置而不同。这成为使用于获得均匀的吐出量的调整作业困难的一个原因。

另一方面，在本实用新型中，构成为吐出口的开口宽度在吐出量容易降低的端部区域，与中央区域相比大幅地变化。因此，可减少或者消除由如上所述的位置引起的响应灵敏度的不同。因此，能够更简单且效率良好地进行用于使吐出量在吐出口的中央部与端部之间均匀化的作业。

另外，为了实现所述目的，本实用新型的基板处理装置的一实施例包括：狭缝喷嘴，具有所述任一结构；相对移动机构，将基板与所述狭缝喷嘴的所述吐出口相向地配置，并且使所述狭缝喷嘴与所述基板在与所述长边方向相交的方向上相对移动；以及处理液供给部，向所述狭缝喷嘴供给处理液，且将自所述吐出口吐出的所述处理液涂布在所述基板的表面。

在如此构成的实用新型中，通过自使用如上所述的结构而调整了开口宽度的狭缝喷嘴向基板供给处理液，可在长边方向上稳定地形成膜厚均匀的膜。

[实用新型的效果]

如上所述，在本实用新型中，吐出口的开口宽度在与吐出口在长边方向上的端部对应的端部区域，与中央区域相比大幅地变化。由此，消除吐出量的变化在中央部与端部不同而难以调整的问题，从而能够效率良好地进行用于使吐出量均匀化的调整作业。

附图说明

图1是示意性地表示本实用新型的基板处理装置的一实施方式的图。

图2是示意性地表示狭缝喷嘴的第一实施方式的分解组装图。

图3是第一实施方式的狭缝喷嘴的三面图。

图4的(a)～图4的(d)是例示槽的深度分布的图。

图5A及图5B是狭缝喷嘴的剖面图。

图6是表示第一实施方式的狭缝喷嘴的变形例的图。

图7是示意性地表示狭缝喷嘴的第二实施方式的分解组装图。

图8是示意性地表示狭缝喷嘴的第三实施方式的分解组装图。

图9是狭缝喷嘴的三面图。

图10A及图10B是表示第三实施方式的狭缝喷嘴的变形例的图。

图11A及图11B是表示狭缝喷嘴的第四实施方式的图。

图12A及图12B是表示狭缝喷嘴的第五实施方式的图。

图13A至图13C是表示狭缝喷嘴的剖面结构的图。

图14A至图14D是表示垫片板的结构的图。

图15A及图15B是表示垫片板的变形例的图。

图16是表示垫片板的另一变形例的图。

图17A及图17B是表示狭缝喷嘴的第六实施方式的图。

[符号的说明]

1：涂布装置(基板处理装置)

2：输入移载部(相对移动机构)

3：浮起平台部(相对移动机构)

4：输出移载部(相对移动机构)

5：基板搬送部(相对移动机构)

7：涂布机构

8：涂布液供给机构(处理液供给部)

9：控制单元

21、41、101、111：辊式输送机

22、42：旋转/升降驱动机构

31：入口浮起平台

32：涂布平台

33：出口浮起平台

34：顶销驱动机构

35：浮起控制机构

51：夹盘机构

52：吸附/前行控制机构

61：传感器(板厚测定用的传感器)

62：传感器(浮起高度检测传感器)

71、71A～71F、75、75D：狭缝喷嘴

72B、72F：垫片

79：喷嘴清洗待机单元

100：输入输送机(相对移动机构)

102、112：旋转驱动机构

110：输出输送机

710、710B、710C：喷嘴本体

710F：本体部

711、751：第一本体部(喷嘴本体、第一本体部)

711a、751a：第一平坦面(相向面)

711b：平坦面

711B、711C、711D、711E、711F：第一本体部

711c、751c：唇部(第一唇部)

711f、711k、712f、751d：槽

711d：槽一

711e、712e：主表面

711g：突出部(第一突出部)

711h、712h、751f：螺丝孔(调整机构)

712、752：第二本体部(喷嘴本体、第二本体部)

712a、752a：第二平坦面(相向面)

712B、712C、712D、712E、712F：第二本体部

712c、752c：唇部(第二唇部)

712g：突出部(第二突出部)

713、713C：第一侧板

714、714C：第二侧板

715、715a、715b、755、755a、755b：吐出口

716：调整螺丝(调整机构)

753、753A、753B、753C、753D：垫片板(间隔件构件)

753a、753c、753d1：带状部位

753b：延伸部位

752f、753f：贯通孔

756、756a、756b：固定螺丝(螺丝构件、结合部)

721F、753q：突出部位

753d、753k、753p、753r：切口部

791：辊

792：清洗部

793：辊棒

Dc、De：一定值(深度)

Dt：搬送方向

L1、L2、L3：直线

Pa：厚壁部

Pb：薄壁部

Rc：中央部(中央区域)

Re：端部(端部区域)

S：基板

Sb：背面

Sf：表面

Tc、Te：壁厚

Wa、Wb、Wc：开口宽度

ΔR：旋转输入量

ΔX：变化量

ΔZ：位移量

具体实施方式

＜涂布装置的整体结构＞

图1是示意性地表示作为本实用新型的基板处理装置的一实施方式的涂布装置的整体结构的图。所述涂布装置1是将作为流体的涂布液(处理液)涂布在以水平姿势自图1的左手侧朝右手侧搬送的基板S的表面Sf的狭缝涂布机。例如，出于在玻璃基板或半导体基板等各种基板S的表面Sf涂布包含抗蚀膜的材料的涂布液、包含电极材料的涂布液等各种处理液，并形成均匀的涂布膜的目的，可适合地利用所述涂布装置1。

再者，在以下的各图中，为了使装置各部的位置关系变得明确，如图1所示，设定右手系XYZ正交坐标。将基板S的搬送方向设为“X方向”，将自图1的左手侧朝向右手侧的水平方向称为“+X方向”，将相反方向称为“-X方向”。另外，将与X方向正交的水平方向Y之中，装置的正面侧(图中，跟前侧)称为“-Y方向”，并且将装置的背面侧称为“+Y方向”。进而，将铅垂方向Z中的上方向及下方向分别称为“+Z方向”及“-Z方向”。

首先，使用图1对所述涂布装置1的结构及动作的概要进行说明，其后，对包括本实用新型的技术特征的狭缝喷嘴的详细的结构及开口尺寸的调整动作进行说明。在涂布装置1中，输入输送机100、输入移载部2、浮起平台部3、输出移载部4、输出输送机110沿着基板S的搬送方向Dt，即(+X)方向，按此顺序接近地配置。如以下所详述那样，通过这些构件来形成在大致水平方向上延伸的基板S的搬送路径。

作为处理对象的基板S被自图1的左手侧搬入至输入输送机100。输入输送机100包括辊式输送机(roller conveyor)101、及对辊式输送机101进行旋转驱动的旋转驱动机构102。通过辊式输送机101的旋转来将基板S以水平姿势朝下游侧，即(+X)方向搬送。输入移载部 2包括辊式输送机21、以及具有对辊式输送机21进行旋转驱动的功能及使辊式输送机21升降的功能的旋转/升降驱动机构22。通过辊式输送机21进行旋转，而将基板S进一步朝(+X) 方向搬送。另外，通过辊式输送机21进行升降，而变更基板S的铅垂方向位置。通过如此构成的输入移载部2，而将基板S自输入输送机100朝浮起平台部3移载。

浮起平台部3包括沿着基板的搬送方向Dt一分为三的平板状的平台。即，浮起平台部3 包括入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33。所述各平台的表面相互形成同一平面的一部分。在入口浮起平台31及出口浮起平台33各自的表面，呈矩阵状地设置有多个喷出自浮起控制机构35供给的压缩空气的喷出孔。通过由被喷出的气流所赋予的浮力来使基板 S浮起。如此，基板S的背面Sb在自平台表面分离的状态下以水平姿势得到支撑。基板S的背面Sb与平台表面的距离、即基板S的浮起量例如可设为10微米～500微米。

另一方面，在涂布平台32的表面，交替地配置有喷出压缩空气的喷出孔、及抽吸基板S 的背面Sb与平台表面之间的空气的抽吸孔。浮起控制机构35控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量与来自抽吸孔的抽吸量，由此精密地控制基板S的背面Sb与涂布平台32的表面的距离。由此，将穿过涂布平台32的上方的基板S的表面Sf的铅垂方向位置控制成规定值。作为浮起平台部3的具体结构，例如可应用日本专利第5346643号中记载的结构。再者，关于涂布平台32上的浮起量，由控制单元9基于其后进行详述的传感器61、传感器62的检测结果来算出，另外，能够通过气流控制来高精度地调整。

再者，在入口浮起平台31，配设有图中未出现的顶销(lift pin)，在浮起平台部3设置有使所述顶销升降的顶销驱动机构34。

经由输入移载部2而搬入至浮起平台部3的基板S通过辊式输送机21的旋转而被赋予朝 (+X)方向的推进力，并被搬送至入口浮起平台31上。入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33将基板S支撑成浮起状态，但不具有使基板S在水平方向上移动的功能。浮起平台部3中的基板S的搬送通过配置在入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33的下方的基板搬送部5来进行。

基板搬送部5包括夹盘机构51以及吸附/前行控制机构52。通过夹盘机构51部分地与基板S的下表面周缘部抵接而自下方支撑基板S。吸附/前行控制机构52在夹盘机构51保持基板S的状态下，基板S的背面Sb位于比浮起平台部3的各平台的表面高的位置，所述夹盘机构51具有对设置于夹盘机构51上端的吸附构件的吸附垫(省略图示)给予负压来吸附保持基板S的功能、及使夹盘机构51在X方向上往返前行的功能。因此，基板S由夹盘机构51 吸附保持边缘部，并且通过由浮起平台部3所赋予的浮力，整体维持水平姿势。为了在由夹盘机构51部分地保持基板S的背面Sb的阶段检测基板S的表面的铅垂方向位置，而在辊式输送机21的附近配置板厚测定用的传感器61。未保持基板S的状态的夹盘(省略图示)位于所述传感器61的正下方位置，由此传感器61能够检测吸附构件的表面、即吸附面的铅垂方向位置。

夹盘机构51保持被自输入移载部2搬入至浮起平台部3的基板S，在此状态下夹盘机构 51朝(+X)方向移动。由此，将基板S自入口浮起平台31的上方经由涂布平台32的上方而朝出口浮起平台33的上方搬送。经搬送的基板S被交接至配置在出口浮起平台33的(+X)侧的输出移载部4。

输出移载部4包括辊式输送机41、以及具有对辊式输送机41进行旋转驱动的功能及使辊式输送机41升降的功能的旋转/升降驱动机构42。辊式输送机41进行旋转，由此对基板S赋予朝(+X)方向的推进力，而沿着搬送方向Dt进一步搬送基板S。另外，辊式输送机41进行升降，由此变更基板S的铅垂方向位置。通过输出移载部4来将基板S自出口浮起平台33的上方朝输出输送机110移载。

输出输送机110包括辊式输送机111、及对辊式输送机111进行旋转驱动的旋转驱动机构 112。通过辊式输送机111的旋转来进一步朝(+X)方向搬送基板S，最终朝涂布装置1外排出。再者，输入输送机100及输出输送机110可作为涂布装置1的结构的一部分来设置，但也可与涂布装置1分体。另外，例如也可将设置于涂布装置1的上游侧的另一单元的基板排出机构用作输入输送机100。另外，也可将设置于涂布装置1的下游侧的另一单元的基板接收机构用作输出输送机110。

在以所述方式搬送的基板S的搬送路径上，配置用于将涂布液涂布在基板S的表面Sf的涂布机构7。涂布机构7具有狭缝喷嘴71。另外，虽然省略图示，但在狭缝喷嘴71连接有定位机构。通过定位机构来将狭缝喷嘴71定位在涂布平台32的上方的涂布位置(图1中由实线表示的位置)或适宜的保养位置。进而，在狭缝喷嘴71连接有涂布液供给机构8，自涂布液供给机构8供给涂布液，自在喷嘴下部向下开口的吐出口吐出涂布液。再者，关于狭缝喷嘴71，其后进行详述。

如图1所示，在狭缝喷嘴71设置有用于以非接触方式探测基板S的浮起高度的浮起高度检测传感器62。通过所述浮起高度检测传感器62，能够测定已浮起的基板S与涂布平台32 的平台面的表面的分离距离，可经由控制单元9，根据浮起高度检测传感器62的检测值来调整狭缝喷嘴71下降的位置。再者，作为浮起高度检测传感器62，可使用光学式传感器、或超声波式传感器等。

为了对狭缝喷嘴71进行规定的保养，如图1所示，在涂布机构7设置有喷嘴清洗待机单元79。喷嘴清洗待机单元79主要具有辊791、清洗部792、辊棒793等。而且，在狭缝喷嘴71已被定位在保养位置的状态下，通过这些构件来进行喷嘴清洗及积液形成，将狭缝喷嘴71 的吐出口调整成适于下一次涂布处理的状态。

除此以外，在涂布装置1设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具有：存储规定的程序或各种方法等的存储部、通过执行所述程序来使装置各部执行规定的动作的中央处理器(Central Processing Unit，CPU)等运算处理部、液晶面板等显示部、以及键盘等输入部。

以下，对狭缝喷嘴71的具体结构例及吐出口的开口尺寸的调整方法等进行详述。再者，此处所述的开口尺寸的调整并非以开口尺寸成为固定或事先决定的规定值为目标的调整，而是以作为吐出的结果使形成在基板S的表面的涂布膜的厚度变得均匀为目标的调整。

＜第一实施方式＞

图2是示意性地表示图1的涂布装置中所使用的狭缝喷嘴的第一实施方式的主要结构的分解组装图。另外，图3是所述狭缝喷嘴的三面图。狭缝喷嘴71具有第一本体部711、第二本体部712、第一侧板713及第二侧板714。如由点划线箭头所示，第一本体部711与第二本体部712以在X方向上相向的状态结合。在其结合体的(-Y)侧端面结合第一侧板713、且在(+Y)侧端面结合第二侧板714来构成喷嘴本体710。

所述各构件例如为自不锈钢或铝等的金属块削出的构件。再者，构成喷嘴本体710的各构件例如通过如螺栓那样的适宜的固定结合构件来固定结合，由此相互结合，此种结合结构是公知的。因此，为了容易观察附图，此处省略固定螺栓或用于插通其的螺丝孔等与固定结合相关的结构的记载。关于所述方面，在后述的其他实施方式中有时也设为同样。

第一本体部711的与第二本体部712相向之侧的主表面、即(+X)侧的主表面中的下半部分以成为与YZ平面平行的平坦面711a的方式得到精加工。以下，将所述平坦面711a称为“第一平坦面”。第一本体部711的与第二本体部712相向之侧的主表面中的上半部分也是以成为与YZ平面平行的平坦面711b的方式得到精加工。另外，第一本体部711的下部向下突出而形成第一唇部711c。平坦面711a、平坦面711b由将Y方向作为长边方向、将X方向作为深度方向的大致半圆柱形状的槽一711d来隔开。所述槽一711d作为涂布液的流路中的歧管发挥功能。

另一方面，第二本体部712的与第一本体部711相向之侧的主表面、即(-X)侧的主表面成为与YZ平面平行的单一的平坦面712a。以下，将所述平坦面712a称为“第二平坦面”。另外，第二本体部712的下部向下突出而形成第二唇部712c。以平坦面711b与第二平坦面712a中的上半部分密接的方式，将第一本体部711与第二本体部712结合。

第一平坦面711a与平坦面711b相比略微朝(-X)侧后退。因此，在第一本体部711与第二本体部712结合的状态下，第一平坦面711a与第二平坦面712a隔开微小的间隙平行地相向。如此相互相向的相向面(第一平坦面711a、第二平坦面712a)之间的间隙部分成为来自歧管的涂布液的流路，其下端作为朝向基板S的表面Sf并向下开口的吐出口715(图3)发挥功能。吐出口715是将Y方向作为长边方向且X方向上的开口尺寸微小的狭缝状的开口。

在第二本体部712的主表面中的与第二平坦面712a为相反侧的主表面712e上，设置有沿着Y方向延伸的槽712f。关于槽712f的深度将在后面叙述。槽712f是在Y方向上横跨第二本体部712的整个区域而连续地设置。因此，第二本体部712中的比槽712f更靠下的部分成为在Y方向上具有大致一致的剖面形状并向(+X)方向突出的突出部712g。

在突出部712g的下表面上设置有沿上下方向贯通突出部712g的螺丝孔712h。螺丝孔712h 在突出部712g的下表面沿着Y方向呈一列且以均等的间距设置有多个。如后所述，在各螺丝孔712h安装有用于调整吐出口715在X方向上的开口尺寸的调整螺丝716。调整螺丝716跨越槽712f，其上端到达槽712f的上表面。

相对于螺丝孔712h，跨越槽712f地设置有调整螺丝716，因此当使其拧入量变化时，第二本体部712绕槽712f的延伸方向(Y方向)的轴略微变形，隔着槽712f相互相向的两侧部位的间隔增减。具体而言，相对于第二本体部712中的比槽712f更靠上侧的部位，比槽712f 更靠下侧的第二突出部712g相对地向接近或分离的方向位移，由此两者的间隔变化。

随着此种位移，与第二突出部712g连接的第二唇部712c向X方向、即向相对于相向的第一唇部711c接近、分离的方向位移。如此，相互相向的第一唇部711c与第二唇部712c相对地向接近方向及分离方向位移，由此，两者的间隔、即吐出口715的开口宽度变化。因此，可通过调整螺丝716的拧入量来调整吐出口715的开口宽度。通过沿着吐出口715的长边方向排列多个调整螺丝716，能够在所述方向上的各位置进行开口宽度的调整。

调整螺丝716例如是差动螺丝。关于使用差动螺丝作为调整螺丝时的调整吐出口的开口尺寸的方法的原理，例如记载在日本专利特开平09-131561号公报中，在本实施方式中也可使用同样的原理，因此此处省略详细的说明。

再者，为了容易理解附图，在图2及图3中记载了比实际少的调整螺丝716的配置数量。即，在实际的装置中，以比这些图更细微的排列间距配置更多的调整螺丝716。

图4的(a)～图4的(d)是例示槽的深度分布的图。更具体而言，图4的(a)至图4 的(d)是相当于图3的A-A线剖面的喷嘴本体710的剖面图，分别表示不同形状的深度分布的例子。如这些图所示，槽712f的深度在Y方向上并非一致，在吐出口715在长边方向(Y 方向)上的中央部相对较浅，在两端部变深。

更具体而言，在图4的(a)所示的例子中，槽712f的深度在长边方向上的中央部Rc为一定值Dc，在与中央部Rc邻接的两侧的端部Re为比其大的一定值De。即，槽712f具有呈阶梯状变化的深度分布。槽712f在长边方向上的中央部Rc为大致一定的深度Dc，另一方面，两端部Re是比其大的深度De。再换句话说，在设置有槽712f的部位，第二本体部712的壁厚在中央部Rc大且在两端部Re小。即，中央部Rc处的第二本体部712的壁厚Tc比两端部 Re处的壁厚Te大。

在图4的(b)所示的例子中，中央部Rc及两端部Re处的槽712f的深度与图4的(a)的例子同等。但是，其边界部分的深度变化连续且平缓。另外，在图4的(c)所示的例子中，槽712f在中央部Rc为大致一定的深度，另一方面，在两端部Re具有深度逐渐增加那样的深度分布。进而，在图4的(d)所示的例子中，成为如在槽712f在长边方向上的中央最浅且朝向外侧而深度渐增那样的深度分布。另外，例如也可设为如下的分布：将如图4的(b)、图 4的(c)所示那样的连续变化近似为多阶段的阶梯状。

狭缝喷嘴71的槽712f具有的深度分布可为它们中的任一个。关于如此那样使槽712f的深度分布成为“在中央部浅，在两端部深”的理由，接下来进行说明。再者，此处代表性地设为槽712f具有图4的(a)所例示的深度分布。

图5A及图5B是狭缝喷嘴的剖面图。更详细地说，图5A是图3的B-B线剖面图，图5B是图3的C-C线剖面图。再者，图4的(a)的B-B线与图3的B-B线对应，图4的(a)的 C-C线与图3的C-C线对应。如图5A所示，在与吐出口715的Y方向上的中央部对应的B-B 线剖面中，槽712f的深度相对较浅。换句话说，槽712f的底部与第二平坦面712a之间的距离、即与槽712f的底部对应的位置处的第二本体部712的壁厚相对较大。另一方面，如图5B 所示，在与吐出口715的Y方向上的接近端部的位置对应的C-C线剖面中，槽712f的深度更深。换句话说，槽712f的底部与第二平坦面712a之间的距离、即与槽712f的底部对应的位置处的第二本体部712的壁厚更小。

因此，第二本体部712在比槽712f浅的位置更深的位置更容易挠曲。因此，第二本体部 712相对于为了调整开口宽度而给予至调整螺丝716的旋转输入量ΔR的变形量、更具体而言，突出部712g向上下方向(Z方向)的位移量ΔZ在槽712f的深的端部附近比槽712f的更浅的中央部大。其结果，关于吐出口715的开口宽度向X方向的变化量ΔX，相对于相同的旋转输入量ΔR，在端部也比中央部大。

此处所说的“旋转输入”是为了增减开口宽度而例如由操作员给予的机械输入的一例，例如可通过对调整螺丝716操作输入的旋转量或者旋转角度来定量地表示旋转输入量ΔR。

在本申请实用新型创作人们的见解中，吐出量相对于开口宽度的增减的变化、即吐出量相对于开口宽度的调整的响应灵敏度在吐出口的中央部高，在端部低。因此，若开口宽度的变化量相同，则在中央部吐出量相对较大地变化，与此相对，在端部吐出量的变化小。

在中央部与端部之间，若开口宽度相对于旋转输入量ΔR的变化量ΔX为相同程度，则即便给予相同的旋转输入，由此产生的吐出量的变化量也在中央部与端部不同。于是，导致用于在吐出口的整体使吐出量一致而获得厚度均匀的涂布膜的调整作业变得非常繁杂。为了防止此种情况，吐出量的响应灵敏度，即吐出量相对于相同的旋转输入量ΔR的变化量优选为横跨吐出口的长边方向上的整个区域同等。因此，特别要求提高端部的响应灵敏度。

在本实施方式的狭缝喷嘴71中，使槽712f在端部比中央部深，由此，吐出口开口宽度相对于相同的旋转输入量ΔR的变化量ΔX在端部比中央部大。因此，吐出量相对于相同的旋转输入量ΔR的变化的不同在中央部与端部之间难以产生。由此，在吐出口的中央部及端部的任一个中，与向调整螺丝716的旋转输入量对应的吐出量的变化均同等。对操作员来说，能够效率良好地进行用于使吐出量均匀化的调整作业。

通过适宜地设定槽712f的深度分布，可认为能够将中央部与端部之间的响应灵敏度的不同抑制到实用上没有问题的水平。关于具体的深度分布，例如可基于吐出口715的开口宽度的大小或所使用的涂布液的粘度等通过实验求出。

再者，在所述第一实施方式的狭缝喷嘴71中，在第二本体部712以一定的排列间距配置有调整螺丝716。但是，如以下作为变形例所示，也可使调节螺丝的排列间距不均等。另外，作为基于同样的技术思想而构成的狭缝喷嘴，除了所述以外，还可考虑其他的实施方式。以下，依序对此种其他结构例进行说明。在以下的说明中，为了容易理解与其他实施方式的对比，对与现有的结构相同、或虽有轻微的差异但具有相当的功能的结构标注相同的符号。

图6是表示第一实施方式的狭缝喷嘴的变形例的图。在图6所示的变形例的狭缝喷嘴71A 中，在吐出口715的Y方向上的中央部Rc以相对较粗的排列间距配置调整螺丝716。另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部Re以更细微的排列间距配置调整螺丝716。在使用狭缝喷嘴的涂布中，在所形成的涂布膜的中央部容易获得相对较一致的膜，但在端部附近，容易产生由高粘度的涂布液的隆起或低粘度的涂布液向外侧流出等引起的涂布膜的紊乱。为了抑制此种紊乱，理想的是在吐出口715在长边方向上的端部附近可以比中央部更精细的分辨率进行调整。本变形例的狭缝喷嘴71A可满足此种要求。

换句话说，通过在容易获得相对较均匀性的中央部Rc增大调整螺丝716的排列间距。由此，可实现零件数及调整工时的削减，从而能够还有助于装置成本及运行成本的降低。

＜第二实施方式＞

图7是示意性地表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第二实施方式的主要结构的分解组装图。对于此种狭缝喷嘴，成为在由高刚性的材料形成的两个本体构件之间夹入薄板状的垫片的结构。图7所示的第二实施方式的狭缝喷嘴71B具有此种结构。

在狭缝喷嘴71B中，具有相互相向的平坦面的第一本体部711B与第二本体部712B夹着垫片72B而结合。由此，构成喷嘴本体710B。在第一本体部711B中，在与第二本体部712B相向之侧的平坦的主表面711a上，设置有作为涂布液的歧管发挥功能的大致半圆柱形状的槽 711k。垫片72B是将成为涂布液的流路的部分切开的例如金属制的薄板。垫片72B通过夹入在第一本体部711B与第二本体部712B之间，规定两者之间的间隙并且形成涂布液的流路。

除了这些方面以外，第一本体部711B及第二本体部712B的形状与第一实施方式的对应的结构711、结构712相同。即，在第二本体部712B的主表面中的与和第一本体部711B相向的面712a为相反侧的面712e上设置有槽712f。而且，多个调整螺丝716以跨越所述槽712f的方式沿Y方向排列。槽712f的形状及调整螺丝716的功能与所述实施方式相同，由此带来的作用效果也相同。

如此，基于本实用新型的技术思想的吐出口开口宽度的调整机构也能够应用于使用垫片来规定间隙的喷嘴、不使用垫片的喷嘴中的任一个。

＜第三实施方式＞

图8是示意性地表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第三实施方式的主要结构的分解组装图。另外，图9是所述狭缝喷嘴的三面图。本实施方式的狭缝喷嘴71C具有第一本体部711C、第二本体部712C、第一侧板713C及第二侧板714C。其中，第二本体部712C的结构与所述第一实施方式的第二本体部712相同。与第一实施方式同样地，将它们结合而构成喷嘴本体710C。

在第一实施方式中，仅在第二本体部712上设置有用于调整吐出口的开口宽度的机构(具体而言是槽712f及调整螺丝716)。另一方面，在所述实施方式中，在第一本体部711C、第二本体部712C的双方设置有同样的调整机构。更具体而言，在第一本体部711C的主表面中的与第一平坦面711a为相反侧的主表面711e上，设置有沿着Y方向延伸的槽711f。槽711f 在Y方向上横跨第一本体部711的整个区域以一致的剖面形状设置。因此，第一本体部711C 中的比槽711f更靠下的部分成为在Y方向上具有大致一致的剖面形状并向(-X)方向突出的突出部711g。以下，在需要区分分别设置于两个本体部711C、712C的突出部的情况下，有时分别将其称为“第一突出部”、“第二突出部”。

在第一突出部711g及第二突出部712g的下表面，设置有沿上下方向贯穿它们的螺丝孔 711h、螺丝孔712h。螺丝孔711h在第一突出部711g的下表面，沿着Y方向设置有多个。另外，螺丝孔712h在第二突出部712g的下表面，沿着Y方向设置有多个。在各螺丝孔711h、螺丝孔712h，安装用于如后述那样调整吐出口715的X方向上的开口尺寸的调整螺丝716。调整螺丝716跨越槽711f、槽712f，其上端到达槽711f、槽712f的上表面为止。

如图9下部的仰视图所示，在第一本体部711与第二本体部712之间，调整螺丝716的配设位置在Y方向上不同。具体而言，在Y方向上，以第一本体部711侧的调整螺丝716位于在第二本体部712侧相邻的两个调整螺丝716、716之间的方式，配置各螺丝孔711h、螺丝孔712h。因此，在自下表面侧观察狭缝喷嘴71时，各调整螺丝716沿着Y方向成为所谓的交错配置。

通过将调整螺丝716设为此种配置，获得如下所述的效果。即，在沿着Y方向延伸的吐出口715中，于在第一本体部711设置有调整螺丝716的位置附近，通过第一唇部711c的位移来调整开口尺寸。另一方面，于在第二本体部712设置有调整螺丝716的位置附近，通过第二唇部712c的位移来调整开口尺寸。

因此，与仅在第一本体部711或第二本体部712的一个配置调整螺丝的结构相比，能够更细致地进行开口尺寸的调整。即，通过在第一本体部711及第二本体部712分别排列调整螺丝716，且将这些调整螺丝716设为交错配置的结构，与仅在任一个配置调整螺丝的情况相比，能够将调整的“分辨率”提高至2倍。另外，若为了获得同等的分辨率，则可将必要的调整螺丝的排列间距扩大至2倍，因此各构件的机械强度的确保也容易。

在所述实施方式中，设置于第一本体部711C的槽711f、设置于第二本体部712C的槽712f 中的一个或双方具有如图4的(a)～图4的(d)所例示那样的“在中央部浅，在两端部深”深度分布。由此，与所述实施方式同样地，使吐出量相对于向用于调整的调整螺丝716的旋转输入的响应灵敏度在中央部与端部一致，而可实现调整作业的效率化。

再者，出于仅获得与第一实施方式同等的效果的目的，当在第一本体部711及第二本体部712的双方排列调整螺丝716时，也可考虑使其配设位置在Y方向上相同。但是，在此情况下，无法获得通过如上所述那样将调整螺丝设为交错配置而获得的分辨率的提高效果。另外，由于两个调整机构相对于吐出口中的长边方向上的一个位置独立地发挥作用，因此有时调整作业反而会变得麻烦。

图10A及图10B是表示第三实施方式的狭缝喷嘴的变形例的图。在图10A所示的变形例的狭缝喷嘴71D及图10B所示的变形例的狭缝喷嘴71E中，与图6所示的第一实施方式的变形例的狭缝喷嘴71A同样地，调整螺丝716的排列间距变得不均等。具体而言，在图10A所示的变形例的狭缝喷嘴71D中，在第一本体部711D及第二本体部712D的各者中，在吐出口715的Y方向上的中央部Rc以相对较粗的排列间距配置调整螺丝716。另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部Re以更细微的排列间距配置调整螺丝716。

另外，在图10B中所示的变形例的狭缝喷嘴71E中，自同样的观点而言，在中央部Rc中，仅在第二本体部712E配置调整螺丝716，在第一本体部711E中省略调整螺丝716。由此，实用上能够保持涂布膜的均匀性，并进一步削减零件数及调整工时。再者，与此相对，即便省略第二本体部712E侧的调整螺丝，当然也无妨。

＜第四实施方式＞

接着，对可应用于涂布装置1的狭缝喷嘴的第四实施方式进行说明。在所述各实施方式中，在狭缝喷嘴的长边方向(Y方向)上设置有单一的吐出口。但是，在此种涂布装置中，也存在如将吐出口在长边方向上分割成多个，同时形成多个涂布膜那样的利用实施例。接下来所示的第四实施方式的狭缝喷嘴71F对应于此种需求。

图11A及图11B是表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第四实施方式的图。更具体而言，图11A是示意性地表示本实施方式的狭缝喷嘴71F的主要结构的分解组装图。另外，图11B是狭缝喷嘴71F的仰视图及以包含与槽712f对应的位置的水平面为切断面的狭缝喷嘴 71F的剖面图。其中，剖面图是相当于第一实施方式中图3所示的A-A线剖面图的图。

在所述实施方式中，通过在第一本体部711F与第二本体部712F之间夹入垫片72F而构成本体部710F。在垫片72F的中央部设置有作为流路的间隔壁发挥作用的突出部位721F，由此，涂布液的流路被划分为两个。突出部位721F延伸到第一唇部711c及第二唇部712c的下端为止。在这些下端分别形成有将Y方向作为长边方向且沿Y方向排列的两个吐出口715a、 715b。

在此情况下，为了在两个吐出口715a、715b的各者实现“使响应灵敏度在中央部与端部一致”的目的，如图11B所示，采用在与各个吐出口的中央部Rc对应的区域浅且在与端部Re 对应的区域深那样的槽712f的深度分布。在所述图中，与各吐出口对应的深度分布与图4的 (a)对应，但当然也可为图4的(b)～图4的(d)所示的形状。

再者，由于同样的概念在图2、图6、图8等中已经示出，因此省略图示，但在第四实施方式中，作为其变形例也可考虑如下结构。即，所述第四实施方式的狭缝喷嘴71F由被第一本体部711F及第二本体部712F夹着的垫片72F形成两个流路及两个吐出口。但是，如图2所示的例子那样，通过变更第一本体部及第二本体部中的至少一个的形状，在不使用垫片且形成流路及吐出口的喷嘴中也能够应用与所述同样的想法。

另外，如图6所示的例子那样，也可使调整螺丝716的排列间距在与各吐出口的中央部对应的区域宽，在与端部相当的区域窄。进而，如图8所示的例子那样，也可在两个本体部分别设置调整机构(槽及调整螺丝)。

如此，在所述各实施方式中，根据目的，而且根据装置或涂布液的特性，适宜设定增减设置于喷嘴本体的槽的深度及其宽度的调整螺丝716的排列间距，进行开口尺寸的调整。由此，能够进一步效率良好地实现可获得均匀的涂布膜的涂布条件。

接着，对本实用新型的狭缝喷嘴的第五实施方式及第六实施方式进行说明。至此说明的第一实施方式至第四实施方式通过使构成喷嘴本体的第一本体部及第二本体部中的至少一个变形来调整吐出口的开口宽度。与此相对，以下说明的第五实施方式及第六实施方式通过增减隔着垫片板将第一本体部与第二本体部加以结合的固定螺丝的紧固量来调整吐出口的开口宽度。接下来说明的第五实施方式的狭缝喷嘴75及第六实施方式的狭缝喷嘴75D均可用作图 1所示的涂布装置1的狭缝喷嘴71。

＜第五实施方式＞

图12A及图12B是表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第五实施方式的图。更具体而言，图12A是本实施方式的狭缝喷嘴75的外观立体图，图12B是示意性地表示狭缝喷嘴 75的主要结构的分解组装图。狭缝喷嘴75具有第一本体部751、第二本体部752及垫片板753 通过多个固定螺丝756而相互结合的结构。如图12B中由点划线箭头所示，第一本体部751 与第二本体部752以夹持垫片板753在X方向上相向的状态结合，而构成狭缝喷嘴75。

第一本体部751及第二本体部752例如是自不锈钢或铝等的金属块削出而成。另外，垫片板753是由同样的金属材料形成的薄板状构件。

第一本体部751中与第二本体部752相向之侧的主表面、即(+X)侧的主表面以成为与 YZ平面平行的平坦面751a的方式得到精加工。以下，将所述平坦面751a称为“第一平坦面”。另外，第一本体部751的下部向下突出而形成第一唇部751c。在平坦面751a的Z方向上的中央部，设置有将Y方向作为长边方向、将X方向作为深度方向的大致半圆柱形状的槽751d。所述槽751d作为涂布液的流路中的歧管发挥功能，并经由未图示的涂布液供给口而与涂布液供给机构8连接。

另一方面，第二本体部752的与第一本体部751相向之侧的主表面、即(-X)侧的主表面成为与YZ平面平行的平坦面752a。以下，将所述平坦面752a称为“第二平坦面”。另外，第二本体部752的下部向下突出而形成第二唇部752c。以平坦面751b与第二平坦面752a隔着地相向的方式，第一本体部751与第二本体部752隔着垫片板753而结合。

在将第一本体部751与第二本体部752结合的状态下，第一平坦面751a与第二平坦面752a 隔着相当于垫片板753的厚度的微小的间隙平行地相向。如此相互相向的相向面(第一平坦面751a、第二平坦面752a)之间的间隙部分成为来自歧管的涂布液的流路，其下端作为朝向基板S的表面Sf并向下开口的吐出口755发挥功能。吐出口755是将Y方向作为长边方向且 X方向上的开口尺寸为微小的狭缝状的开口。

垫片板753形成为向下开口的倒U字形。通过在第一本体部751与第二本体部752之间的间隙夹入垫片板753，间隙空间中比槽751d更靠上方的上端部及Y方向上的两侧端部被垫片板753堵塞。由此，间隙空间中未被垫片板753堵塞的空间规定将作为歧管的槽751d与吐出口755加以连接的涂布液的流路。换句话说，垫片板753设为如下形状：作为涂布液的流路的部分被切开，包围吐出口以外的涂布液的流路的周围。

为了容易观察图，在图12A中省略了记载，另外，在图12B中仅记载了一部分，但在第一本体部751、第二本体部752及垫片板753，设置有用于供将它们加以结合的固定螺丝(例如螺栓)756插通的孔。具体而言，在第一本体部751的平坦面751a中比槽751d更靠上方设置有螺丝孔751f，所述螺丝孔751f形成有与作为外螺纹的固定螺丝756螺合的内螺纹。另一方面，在第二本体部752，在与螺丝孔751f对应的位置设置有沿X方向贯通的贯通孔752f。另外，也在垫片板753，在与螺丝孔751f对应的位置设置有贯通孔753f。

而且，插通至第二本体部752的贯通孔752f的固定螺丝756经由垫片板753的贯通孔753f 而螺合于第一本体部751的螺丝孔751f。由此，将第一本体部751、第二本体部752及垫片板753相互一体地结合。在图12B中仅示出了两个固定螺丝756及用于供所述固定螺丝756插通的孔。但是实际上，在图中带有点的区域呈列状配置有多个孔，固定螺丝756分别插通至这些孔。即，以包围涂布液的流路的方式配置有固定螺丝756。由此，构成将第一本体部751、第二本体部752及垫片板753牢固地固定结合而成的结合体即狭缝喷嘴75。关于孔的配置，在后面说明。

图13A至图13C是表示狭缝喷嘴的剖面结构的图，且更具体而言是以狭缝喷嘴75的XZ 平面为切断面的剖面图。如图13A所示，第一本体部751与第二本体部752在比槽751d更靠上方隔着垫片板753而由固定螺丝756固定。如后所述，固定螺丝756(756a、756b)是使位置在上下方向(Z方向)上不同地配置多个。由此，在比槽751d更靠下方，第一平坦面751a 与第二平坦面752a隔开间隙地相向，所述间隙空间成为涂布液的流路，并且其下端形成向下开口的吐出口755。吐出口755在与长边方向(Y方向)正交的宽度方向(X方向)上的开口宽度Wa由垫片板753的厚度规定。

此处，考虑使上下地配置的固定螺丝756中下侧的固定螺丝756b的拧入量(紧固量)大于上侧的固定螺丝756a的拧入量的情况。于是，如图13B所示，因紧固力的增加而垫片板753 稍微弹性变形，由此间隙下端的吐出口755的开口宽度Wb稍小于原来的开口宽度Wa。另外，与此相反，使上侧的固定螺丝756a的拧入量大于下侧的固定螺丝756b的拧入量。于是，如图13C所示，间隙下端的吐出口755的开口宽度Wc稍大于原来的开口宽度Wa。

如此，通过增减固定螺丝756的拧入量，可调整吐出口755的开口宽度。固定螺丝756 沿着吐出口755的长边方向即Y方向排列有多个。通过各别地调整这些固定螺丝756，可在长边方向上的各位置处调整吐出口755的开口宽度。

图14A至图14D是表示垫片板的结构的图。图14A表示垫片板753的平面形状。金属制的薄板状构件即垫片板753的包络外形与第一本体部751的第一平坦面751a及第二本体部752 的第二平坦面752a的外形大致相同。但是，在作为吐出口755的下端部侧设置有切口部753d。通过所述切口部753d在第一平坦面751a与第二平坦面752a之间所形成的空间成为涂布液的流路。

可如下那样换句话说。垫片板753具有带状部位753a以及延伸部位753b、延伸部位753b。带状部位753a具有至少包含在与吐出口755在长边方向(Y方向)上的两端部对应的位置且沿Y方向延伸的大致一致的宽度。延伸部位753b、延伸部位753b自带状部位753a的两端部向下、即-Z方向延伸。带状部位753a作为流路中与吐出口755为相反侧的背面上的间隔壁发挥功能。另一方面，延伸部位753b、延伸部位753b作为规定流路中的Y方向上的两端部的侧面的间隔壁发挥功能。

在垫片板753设置有多个用于供固定螺丝756插通的贯通孔753f。在垫片板753中比切口部753d更靠上方的带状部位753a，遍及垫片板753的Y方向(吐出口755的长边方向)上的整个区域地设置有沿Y方向呈列状排列的多个贯通孔753f。更具体而言，沿着使Z方向上的位置互不相同的假想的三条直线L1、L2、L3的各者，沿Y方向以一定间距排列有多个贯通孔753f。即，在所述例子中，包含多个贯通孔753f的Y方向上的列沿Z方向排列有三列。第一本体部751中的螺丝孔751f、第二本体部752中的贯通孔752f也成为与其相同的排列。

如上所述，通过使位置在Z方向上不同地设置多个固定螺丝756，能够通过其拧入量的增减来调整吐出口755的开口宽度。而且，通过沿着吐出口755的长边方向即Y方向，且遍及吐出口755的两端间的整个区域地分散配置固定螺丝756，可在长边方向上的各位置处分别进行开口宽度的调整。

原理上，若固定螺丝756的列为上下两列，则可进行增减开口宽度的调整。在如所述例子那样设为三列的情况下，可进行如下应用。例如，首先，通过利用上下方向上的中央的列 (沿着直线L2的列)的固定螺丝756使第一本体部751与第二本体部752结合，可使吐出口 755的开口宽度与垫片板753的厚度相同。而且，对于上侧的列及下侧的列，也将固定螺丝 756暂时固定，通过根据需要而拧紧属于上下任一列的固定螺丝756，可增减开口宽度。

如上所述，在本申请实用新型创作人们的见解中，吐出量相对于开口宽度的增减的变化、即吐出量相对于开口宽度的调整的响应灵敏度在吐出口的中央部高，在端部低。因此，若开口宽度的变化量相同，则在中央部吐出量相对较大地变化，与此相对，在端部吐出量的变化小。另外，在涂布膜中宽度方向上的中央部分膜厚相对较稳定，与此相对，在端部附近，例如因与流路的侧壁面的摩擦等，而处于容易产生膜厚的变动的倾向。进而，如图12B及图14A 所示，在狭缝喷嘴75的两端部附近，除了沿着三条直线L1、L2、L3配置以外，在更接近吐出口755的位置，以自其宽度方向上的两侧夹持涂布液的流路的方式配置固定螺丝756。此种固定螺丝756抑制开口宽度相对于沿着直线L1、直线L2、直线L3配置的固定螺丝756的调整的变化。

因此，即便使固定螺丝756在吐出口755在长边方向上的中央部与端部之间以相同的旋转角度旋转，由此引起的吐出量的变化量、进而涂布膜的膜厚的变化量在中央部与端部也不同。换句话说，使吐出量同等地变化所需要的固定螺丝756的调整量(旋转角度)根据固定螺丝756的位置而不同。于是，用于获得在吐出口的整体使吐出量一致且厚度均匀的涂布膜的调整作业变得非常繁杂。为了防止此情况，吐出量的响应灵敏度、即吐出量相对于相同调整量的变化量优选为遍及吐出口的长边方向上的整个区域同等。因此，特别要求提高端部的响应灵敏度。另外，也为了应对在端部附近容易产生膜厚变动的现象，理想的是相对于中央部而言，端部的开口宽度的调整范围宽。因此，在本实施方式的狭缝喷嘴75中，如下所说明那样，通过根据位置使垫片板753的剖面形状不同来应对所述要求。

图14B是图14A的A-A线剖面图。在与吐出口755中除了接近两端部的端部区域Re以外的中央区域Rc对应的位置，垫片板753的带状部位753a具有一定的厚度。即，如图14B 所示，其剖面形状大致为矩形。此时的厚度可设为构成垫片板753的薄板材料自身的厚度。在此情况下，带状部位753a的Y方向上的两主表面成为分别与第一平坦面751a、第二平坦面752a抵接的状态。即，在将带状部位753a中与第一平坦面751a及第二平坦面752a抵接的面称为“抵接面”时，抵接面的宽度、即上下方向上的长度与带状部位753a的宽度相同。

另一方面，图14C是图14A的B-B线剖面图，但C-C线剖面的形状也相同。这些表示吐出口755的接近端部的端部区域Re中的带状部位753a的剖面形状。在图14C的左端所示的剖面形状中，带状部位753a在上下端部逐渐变薄。另外，在中央所示的剖面形状中，带状部位753a的X方向上的两主表面中的其中一个平坦，仅另一侧的厚度变化。另外，在右端所示的剖面形状中，在其下部厚度减少，但在上部侧厚度一定。

图14C所示的剖面形状为上下端部成为前端变细的实施例。但是，也可代替其，例如，如图14D所示，为在上下方向上的两端部比中央部薄的阶梯状的厚度变化。即便在此情况下，在左端所示的剖面形状中，在带状部位753a的两主表面双方设置有阶差，在中央的剖面形状中，仅在其中一个主表面设置有阶差。另外，在右端所示的剖面形状中，仅在下部侧设置有阶差。

将由这些剖面形状所示的带状部位753a中具有与中央区域Rc中的厚度相同厚度的部分称为“厚壁部Pa”。另外，将比其薄的部分称为“薄壁部Pb”。于是，端部区域Re中的带状部位753a的剖面形状可为相对于厚壁部Pa邻接于其上下方向中的至少一个地设置薄壁部Pb的形状。

通过将垫片板753的带状部位753a设为此种剖面形状，带状部位753a的(-X)侧主表面与第一平坦面751a的抵接状态如下那样。即，带状部位753a的(-X)侧主表面仅在厚壁部Pa与第一平坦面751a抵接，在薄壁部Pb不与第一平坦面751a抵接。因此，之前定义的抵接面的宽度为厚壁部Pa的宽度，这比带状部位753a自身的宽度小。即，在所述部分，垫片板753的有效宽度变窄。

薄壁部Pb并不完全堵塞第一平坦面751a与第二平坦面752a之间的空间，因此不发挥规定间隙的作用。由此，介隔于第一本体部751与第二本体部752之间来规定两者的间隙的垫片板753的作用在吐出口755的端部区域Re比中央区域Rc弱。即，由固定螺丝756的拧入量的变化引起的垫片板753的变形在端部区域Re，与中央区域Rc相比更容易产生。其结果，对固定螺丝756给予相同角度的旋转输入时的开口宽度的变化在端部比吐出口755的中央部大。

如此，通过使开口宽度相对于相同旋转输入的变化量在端部比中央部大，可减轻或者消除在所述中央部与端部之间的响应灵敏度的差。即，可使吐出量相对于相同旋转输入的变化量在吐出口755的中央部与端部同等。由此，在吐出口的中央部及端部的任一者中，与向固定螺丝756的旋转输入对应的吐出量的变化均同等。对操作员来说，可效率良好地进行用于使吐出量均匀化的调整作业。

通过适宜地设定端部区域Re中的垫片板753的厚度分布，可认为能够将中央部与端部之间的响应灵敏度的不同抑制到实用上没有问题的水平。关于具体的厚度分布，例如可基于吐出口755的开口宽度的大小或所使用的涂布液的粘度等例如通过实验求出。

再者，在垫片板753中，设置有多个用于使固定螺丝756插通的贯通孔753f。关于这些贯通孔753f中设置在带状部位753a的贯通孔，理想的是均以贯通厚壁部Pa的方式穿设。其理由在于，通过仅在厚壁部Pa设置贯通孔753f，防止经由贯通孔的液体泄漏。在薄壁部Pb中，在与第一平坦面751a或第二平坦面752a之间产生一些间隙。因此，若在所述部分设置贯通孔，则有供给至流路内的涂布液经由所述间隙漏出到贯通孔之虞。

图15A及图15B是表示垫片板的变形例的图。如上所述，关于设置在垫片板的贯通孔753f 的配置(即固定螺丝756的配置)，只要使位置在Z方向上不同且为两处以上即可。即，固定螺丝756的列至少为两列即可。在此情况下，如图15A所示的变形例的垫片753A那样，用于供固定螺丝756插通的上下两个贯通孔753f可在Y方向上处于相同位置。另外，也可如图15B所示的变形例的垫片753B那样，设为用于供固定螺丝756插通的上下两个贯通孔753f 在Y方向上的位置互不相同的、所谓的交错配置。再者，在这些变形例中，第一本体部751、第二本体部752基本上不需要变更。但是，根据垫片板上的贯通孔753f的配置变更，螺丝孔等的位置需要变更。

也考虑在上下方向上设置四个以上的固定螺丝。但是，在此情况下，在逐个调整固定螺丝时，开口宽度的变化可能会被其他固定螺丝限制。因此，难以使开口宽度在必要的范围内变化，而且有用于调整的作业量变得庞大之虞。根据以上内容，对于固定螺丝756的配置，可以说优选为沿上下方向排列成两列或三列。

图16是表示垫片板的另一变形例的图。图14A所示垫片板753在带状部位753a中与端部区域Re对应的部分，具有厚度在上下两端部变薄那样的剖面形状。另一方面，图16所示的变形例的垫片板753C具有在与端部区域Re对应的位置处在带状部位753c的上下端部设置有切口部753k的构造。即，在此情况下使宽度而非带状部位753c的厚度变化。根据此种结构，基于垫片板753C的间隙规定作用也在与端部区域Re对应的位置处，比中央区域Rc弱。因此，与所述第五实施方式同样地，吐出口755的开口宽度相对于固定螺丝756的调整量的变化在端部比中央部大，可减少中央部与端部之间的吐出量的变化量的差异。

＜第六实施方式＞

接着，对可应用于涂布装置1的狭缝喷嘴的第六实施方式进行说明。在所述实施方式中，在狭缝喷嘴75的长边方向(Y方向)上设置有单一的吐出口。但是，在此种涂布装置中，也存在将吐出口在长边方向上分割为多个且同时形成多个涂布膜那样的利用实施例。接下来所示的第六实施方式的狭缝喷嘴75D对应于此种需求。

图17A及图17B是表示在图1的涂布装置中所使用的狭缝喷嘴的第六实施方式的图。更具体而言，图17A是示意性地表示本实施方式的狭缝喷嘴75D的主要结构的分解组装图。另外，图17B是表示所述实施方式中的垫片板753A的形状的图。再者，在图17A、图17B及以下的说明中，对与第五实施方式中的结构相同的结构标注相同的符号，并省略详细的说明。

如图17A所示，在本实施方式的狭缝喷嘴75D中，在喷嘴下端沿Y方向排列形成有两个吐出口755a、755b。通过使用此种喷嘴，可同时形成沿Y方向远离的两个涂布膜。

所述实施方式的狭缝喷嘴75D的夹入于第一本体部751与第二本体部752之间的垫片板 753D的形状与第五实施方式不同。在垫片板753D的中央部设置有突出部位753q，因此，形成有在Y方向上被分割为两部分的切口部753p、切口部753r。由此，突出部位753q作为流路的间隔壁发挥作用，涂布液的流路被划分为两个。突出部位753q延伸到与第一唇部751c 及第二唇部752c的下端对应的位置为止。在这些下端分别形成有将Y方向作为长边方向且沿 Y方向排列的两个吐出口755a、755b。在此情况下，在第一本体部751、第二本体部752中，也需要根据垫片板中的贯通孔753f的变更来变更螺丝孔等的位置。

在此情况下，为了在两个吐出口755a、755b的各者实现“使响应灵敏度在中央部与端部一致”的目的，垫片板753D的厚度分布以如下方式设定。即，如图17B所示，与两个吐出口755a、 755b各自的中央部对应的中央区域Rc中的垫片板753D的带状部位753d1的剖面、即A-A线剖面及B-B线剖面的形状如图14B所示那样具有一致的厚度。

另一方面，如图14C或图14D所示，与两个吐出口755a、755b各自的端部附近对应的端部区域Re中的垫片板753D的剖面、即C-C线剖面、D-D线剖面、E-E线剖面及F-F线剖面的形状成为厚度在上下两端部中比靠近中央减少的形状。

通过设为此种结构，可在吐出口755a、吐出口755b的各者获得与所述第五实施方式相同的作用效果。即，使吐出量相对于针对固定螺丝的调整输入的响应灵敏度在自吐出口的中央部到端部之间一致，能够效率良好地进行调整作业。对于所述实施方式，也可应用图15A至图16所示的变形例的技术思想而适宜变形。

如此，在所述第五实施方式、第六实施方式中，部分地变更夹入于构成狭缝喷嘴的两个构件的垫片的形状、更具体而言使垫片在与吐出口的端部对应的位置，与中央部对应的位置相比部分地薄或者使宽度窄。由此，可使开口宽度的变化在吐出口的端部附近，比中央部显著。因此，可抑制吐出量相对于调整输入的响应灵敏度在中央部与端部不同、更具体而言响应灵敏度在端部比中央部低的问题，而使响应灵敏度在吐出口在长边方向上的整个区域中一致。其结果，在所述实施方式中，能够更效率良好地实现可获得均匀的涂布膜的涂布条件。

＜其他＞

如以上说明那样，在所述第一实施方式至第四实施方式中，第一唇部711c与第二唇部712c 构成“一对唇部”，第一本体部711及第二本体部712分别作为本实用新型的“第一本体部”及“第二本体部”发挥功能。另外，相互相向的第一本体部的第一平坦面711a及第二本体部的第二平坦面712a相当于本实用新型的“相向面”。另外，设置于第一本体部711的螺丝孔711h、调整螺丝716等一体地作为本实用新型的“调整机构”发挥功能。另外，关于设置于第二本体部712 的螺丝孔712h、调整螺丝716等，它们也一体地作为本实用新型的“调整机构”发挥功能。另外，槽711f、槽712f相当于本实用新型的“槽”。

＜其他＞

另外，在所述第五实施方式及第六实施方式中，涂布装置1相当于本实用新型的“基板处理装置”。另外，第一本体部751的第一平坦面751a、第二本体部752的第二平坦面752a相当于本实用新型的“平坦面”。另外，垫片板753作为本实用新型的“间隔件构件”发挥功能，另一方面，固定螺丝756作为本实用新型的“螺丝构件”发挥功能。而且，呈列状配置的多个固定螺丝756一体地作为本实用新型的“结合部”发挥功能。

另外，所述实施方式的涂布装置1相当于本实用新型的“基板处理装置”，输入输送机100、输入移载部2、浮起平台部3、输出移载部4、输出输送机110、基板搬送部5等一体地构成本实用新型的“相对移动机构”。另外，涂布液供给机构8作为本实用新型的“处理液供给部”发挥功能。

再者，本实用新型并不限定于所述实施方式，只要不脱离其主旨，则除所述实施方式以外，可进行各种变更。例如在所述第一实施方式至第四实施方式中，在第二本体部712的侧面设置槽712f，通过自下方安装的调整螺丝716来调整吐出口715的开口尺寸。但是，并不限定于此，也可为利用其他方式来调整开口尺寸的结构。例如，也可在喷嘴的下表面设置槽，利用设置于水平方向上的调整螺丝使喷嘴进行弹性变形来增减开口尺寸。

另外，例如在所述第一实施方式至第四实施方式中，作为调整螺丝，使用对于使开口尺寸扩大的方向及缩小的方向的任一方向均主动地发挥作用的差动螺丝，但例如通过如将事先设定得大的开口尺寸缩小、或相反地将事先设定得小的开口尺寸扩大那样仅具有单方向的调整功能的调整螺丝，也可进行适当的开口尺寸的调整。

另外，在所述说明中未特别提及，但在如第三实施方式那样在构成喷嘴本体的两个本体构件上分别设置调整机构的情况下，设置于各本体构件的槽的深度分布也可互不相同。另外，任一个槽也可具有一定的深度。

另外，例如，在所述第五实施方式、第六实施方式的垫片板753等中，带状部位753a的厚度及宽度中的一者在端部区域Re中减少。也可代替其，使带状部位753a的厚度及宽度两者变化。

另外，在所述实施方式中，通过在狭缝喷嘴71、狭缝喷嘴75的下方搬送基板S来实现狭缝喷嘴71、狭缝喷嘴75与基板S的相对移动。但是，它们的相对移动的实现方法并不限定于所述方法。例如在狭缝喷嘴相对于保持在平台上的基板进行扫描移动的结构中，本实用新型也有效地发挥功能。另外，基板的搬送形式并不限定于如上所述那样的浮起式的搬送形式。例如可应用辊式搬送、带式搬送、利用移动平台的搬送等各种搬送形式。

进而，在所述实施方式中，对将涂布液供给至基板S的表面Sf的涂布装置1应用本实用新型，但本实用新型的应用对象并不限定于此。可应用于一面通过对狭缝喷嘴输送处理液来自所述狭缝喷嘴朝基板的表面供给处理液，一面相对于狭缝喷嘴使基板相对移动来实施规定的处理的所有基板处理技术。

以上，如例示具体的实施方式并进行了说明那样，本实用新型的狭缝喷嘴例如可设为如下结构：在自与吐出口在长边方向上的其中一个端部对应的位置到与另一个端部对应的位置之间，槽的深度呈多阶段地变化。或者，例如也可设为如下结构：在自与吐出口在长边方向上的其中一个端部对应的位置到与另一个端部对应的位置之间，槽的深度连续地变化。在所述任一结构中，均能够在吐出口的中央部与端部之间抑制吐出量相对于用于开口宽度调整的机械输入的变化的差别。

另外，例如，调整机构也可为如下结构：包括以跨越槽的方式设置于喷嘴本体，通过拧入量的增减来使槽的宽度变化的调整螺丝，多个调整螺丝沿着长边方向排列。根据此种结构，通过操作各个调整螺丝，能够调整吐出口在各位置上的开口宽度。

在此情况下，多个调节螺丝的排列间距例如可在与吐出口在长边方向上的端部对应的位置处，比在与吐出口在长边方向上的中央部对应的位置处小。根据此种结构，能够在容易产生吐出量的偏差的吐出口的端部极细致地调整开口宽度，从而能够效率良好地进行使吐出量均匀化的作业。

另外，例如，槽及调整机构也可与一对唇部分别对应地设置。根据此种结构，可在构成吐出口的一对唇部的各者进行开口宽度的调整。因此，与仅调整其中一个唇部的结构相比，能够更细致地进行调整作业。

另外，在调整机构具有调整螺丝的结构中，也可为槽及调整螺丝与一对唇部分别对应地设置。在此情况下，在设置于一对唇部中的其中一个唇部的调整螺丝与设置于另一个唇部的调整螺丝之间，长边方向上的配设位置互不相同。根据此种结构，其中一个唇部的调整位置与另一个唇部的调整位置在长边方向上不同，因此可以更细微的调整间距调整开口宽度。

另外，例如，喷嘴本体也可为通过将分别具有唇部的第一本体部与第二本体部结合而形成的结构。根据所述结构，可使设置于第一本体构件与第二本体构件之间的间隙作为液体的流路及吐出口发挥功能。在此情况下，第一本体部与第二本体部也可隔着规定间隙的垫片而结合。

另外，本实用新型的狭缝喷嘴也可为：带状部位的宽度及厚度在中央区域大致一定，另一方面，在端部区域中，与长边方向垂直的切断面上的带状部位的剖面包含与中央区域中的厚度为相同厚度的厚壁部、以及比所述厚壁部薄的薄壁部。根据此种结构，通过使带状部位的厚度部分地不同而使抵接面的宽度变化。

在此情况下，可设为：在剖面中，薄壁部邻接于厚壁部的两端部中的至少一个。在此种结构中，可通过厚壁部堵塞间隙而防止流体的泄漏，并且获得由设置薄壁部带来的响应灵敏度的改善效果。

另外，例如，也可设为以下结构：在中央区域中带状部位的宽度及厚度大致一定，另一方面，带状部位的宽度在端部区域中，比中央区域小。在此种结构中，使带状部位的宽度变化。如此，通过使带状部位的厚度及宽度中的至少一者变化，可使基于带状部位的间隙规定作用产生由位置引起的差。

另外，例如，结合部也可为以下结构：具有多个贯通间隔件构件并将第一本体部与第二本体部的螺丝构件加以缔结，包含沿着吐出口的长边方向排列成一列的多个螺丝构件的列在与长边方向正交的方向上设置有多列。根据此种结构，通过各别地调整各螺丝构件的拧入量 (系紧量)，可在吐出口的各位置使开口宽度变化。在此情况下，包含多个螺丝构件的列优选为两列或三列。

另外，例如，也可在带状部位设置用于使螺丝构件插通的贯通孔，与多个螺丝构件对应的多个贯通孔具有相同的深度。根据此种结构，可防止在贯通孔的周围在第一本体部与间隔件构件之间、或者在第二本体部与间隔件构件之间产生间隙。由此，可将流体经由所述间隙及贯通孔向外部漏出防患于未然。

另外，本实用新型的基板处理装置也可利用处理液在基板的表面形成一致的涂布膜。在使用狭缝喷嘴形成一致的涂布膜的情况下，在喷嘴的吐出口的中央部与端部吐出量不同，由此有时涂布膜的厚度会产生偏差。通过将本实用新型应用于此种装置，能够在吐出口的整个区域有效率地进行用于形成一致的涂布膜的调整作业。

[产业上的可利用性]

本实用新型可应用于具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、以及使用所述狭缝喷嘴将处理液涂布在基板上的所有基板处理装置。

Claims (19)

1.一种狭缝喷嘴，其特征在于，包括：

喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及

调整机构，使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度，且

在所述一对唇部中的至少一个，在与和另一个所述唇部相向的相向面为相反侧的面上，设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向上的槽，

所述调整机构通过以增减所述喷嘴本体中的隔着所述槽而相向的部位的间隔的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度，

所述槽在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处深。

2.一种狭缝喷嘴，其特征在于，包括：

喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及

调整机构，使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度，且

在所述一对唇部中的至少一个，在与和另一个所述唇部相向的相向面为相反侧的面上，设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向上的槽，

所述调整机构通过以增减所述喷嘴本体中的隔着所述槽而相向的部位的间隔的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度，

所述槽的底部与所述相向面之间的所述唇部的壁厚在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处小。

3.根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在自与所述吐出口在所述长边方向上的其中一个端部对应的位置到与另一个端部对应的位置之间，所述槽的深度呈多阶段地变化。

4.根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在自与所述吐出口在所述长边方向上的其中一个端部对应的位置到与另一个端部对应的位置之间，所述槽的深度连续地变化。

5.根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述调整机构包括调整螺丝，所述调整螺丝跨越所述槽而设置于所述喷嘴本体，通过拧入量的增减来使所述槽的宽度变化，多个所述调整螺丝沿着所述长边方向排列。

6.根据权利要求5所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述多个调整螺丝的排列间距在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处小。

7.根据权利要求5所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述槽及所述调整螺丝与所述一对唇部分别对应地设置，在设置于所述一对唇部中的其中一个所述唇部的所述调整螺丝与设置于另一个所述唇部的所述调整螺丝之间，所述长边方向上的配设位置互不相同。

8.根据权利要求6所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述槽及所述调整螺丝与所述一对唇部分别对应地设置，在设置于所述一对唇部中的其中一个所述唇部的所述调整螺丝与设置于另一个所述唇部的所述调整螺丝之间，所述长边方向上的配设位置互不相同。

9.根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述槽及所述调整机构与所述一对唇部分别对应地设置。

10.根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述喷嘴本体是通过将分别具有所述唇部的第一本体部与第二本体部结合而形成。

11.根据权利要求10所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述第一本体部与所述第二本体部隔着规定所述间隙的垫片而结合。

12.一种狭缝喷嘴，其特征在于，具有呈狭缝状开口的吐出口及与所述吐出口连通的流体的流路，且所述狭缝喷嘴包括：

第一本体部及第二本体部，分别具有隔着间隙而相互相向的平坦面，在所述间隙中形成所述流路及所述吐出口；

薄板状的间隔件构件，通过夹入于所述第一本体部与所述第二本体部之间，规定所述间隙的大小并且堵塞所述吐出口以外的所述流路的周围的所述间隙；以及

结合部，隔着所述间隔件构件而将所述第一本体部与所述第二本体部加以结合，

所述间隔件构件具有沿着所述吐出口的长边方向自与所述吐出口的其中一个端部对应的位置连续地延伸到与另一个端部对应的位置为止的带状部位，

所述带状部位的主表面中与所述平坦面抵接的抵接面的宽度在与所述吐出口在所述长边方向上的两端部对应的端部区域，小于比所述端部区域更靠内侧的中央区域。

13.根据权利要求12所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在所述中央区域所述带状部位的宽度及厚度一定，另一方面，

在所述端部区域中，与所述长边方向垂直的切断面上的所述带状部位的剖面包含与所述中央区域中的厚度为相同厚度的厚壁部、以及比所述厚壁部薄的薄壁部。

14.根据权利要求13所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在所述剖面中，所述薄壁部邻接于所述厚壁部的两端部中的至少一个。

15.根据权利要求12所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在所述中央区域中，所述带状部位的宽度及厚度一定，另一方面，所述带状部位的宽度在所述端部区域中，比所述中央区域小。

16.根据权利要求12至15中任一项所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述结合部具有多个贯通所述间隔件构件并将所述第一本体部与所述第二本体部加以紧固的螺丝构件，包含沿着所述吐出口的长边方向排列成一列的多个所述螺丝构件的列在与所述长边方向正交的方向上设置有多列。

17.根据权利要求16所述的狭缝喷嘴，其特征在于，包含多个所述螺丝构件的所述列设置有两列或三列。

18.根据权利要求16所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在所述带状部位设置有用于使所述螺丝构件插通的贯通孔，与多个所述螺丝构件对应的多个所述贯通孔具有相同的深度。

19.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

如权利要求1、2、12至15中任一项所述的狭缝喷嘴；

相对移动机构，将基板与所述狭缝喷嘴的所述吐出口相向地配置，并且使所述狭缝喷嘴与所述基板在与所述长边方向相交的方向上相对移动；以及

处理液供给部，向所述狭缝喷嘴供给处理液，且

将自所述吐出口吐出的所述处理液涂布在所述基板的表面。

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