CN214917627U - 狭缝喷嘴以及基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中,确实地固定经调整的螺丝而抑制吐出口的开口宽度的变动,从而稳定地吐出涂布液。本实用新型的狭缝喷嘴包括:喷嘴本体,通过一对唇部隔开间隙地相向而形成呈狭缝状开口的吐出口;以及调整机构,使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度。在至少一个唇部,在与另一个唇部为相反侧的面设有与吐出口的长边方向平行的槽,调整机构包括:调整螺丝,沿着长边方向排列多个,分别在与槽的深度方向相交的方向上跨越槽而螺合;以及施力构件,由弹性体形成,相对于喷嘴本体能够装卸地设置,对多个调整螺丝向喷嘴本体侧施力。

Description

狭缝喷嘴以及基板处理装置
技术领域
本实用新型涉及一种具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、以及使用所述狭缝喷嘴将处理液涂布在基板上的基板处理装置。再者,所述基板包括:半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机电致发光(Electroluminescence,EL)显示用基板、等离子体显示用基板、场发射显示器(Field Emission Display,FED)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板等。
背景技术
在半导体装置或液晶显示装置等电子元件等的制造步骤中,使用对基板的表面供给处理液,并将所述处理液涂布在基板上的基板处理装置。某基板处理装置一面在使基板浮起的状态下搬送所述基板,一面将处理液输送至狭缝喷嘴并从狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出,而将处理液涂布在大致整个基板上。另外,另一种基板处理装置一面在平台上吸附保持基板,一面在从狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出的状态下,使狭缝喷嘴相对于基板进行相对移动来将处理液涂布在大致整个基板上。
近年来,伴随制品的高品质化,提高通过基板处理装置来涂布的处理液的膜厚的均匀性变得重要。为了所述目的,提出有一种用于可在沿着狭缝的长边方向的各位置,各别地调整狭缝状的吐出口的开口尺寸的结构。
例如在专利文献1中,隔着规定成为处理液的流路及吐出口的间隙的垫片而相向配置的两个本体块通过沿着吐出口的长边方向排列多个的螺栓相互固定结合。通过增减配置成多列的螺栓的紧固量,垫片变形,从而调整吐出口的开口宽度。另外,在专利文献2所记载的技术中,在其中一个本体块形成槽,并且跨越所述槽配置调整螺丝,通过以槽的宽度变化的方式使本体块变形来调整吐出口的开口宽度。调整螺丝使用适于微调整的差动螺丝。另外,在专利文献3中公开了一种结构,其鉴于在吐出口的中央部与端部容易出现吐出量的差,可沿吐出口的长边方向分割开口宽度的调整机构,而在中央部与端部独立地进行调整。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利第4522726号公报
[专利文献2]日本专利特开平09-131561号公报
[专利文献3]日本专利特开2008-246280号公报
实用新型内容
[实用新型所要解决的问题]
若将以如上方式进行了开口调整的狭缝喷嘴供于涂布处理,则例如因动作时的振动或温度变化而松动等,因此调整螺丝的拧入量会发生变化,由此,开口宽度变动,而有涂膜的膜厚变得不均匀之虞。在所述现有技术中未实施针对此问题的对策。
作为调整用的螺丝的固定方法,一般的方法例如有如下结构:设置与供调整螺丝插通的螺丝孔正交的螺丝孔,通过将安装于此螺丝孔的固定用螺丝抵接至调整螺丝的螺纹牙,来限制调整螺丝的位移。但是,若损伤了调整螺丝的螺纹牙,则有对再调整带来障碍之虞。另外,由于螺丝彼此的滑擦而产生的微粉也可能成为涂膜的污染原因。如此,关于狭缝喷嘴中的用于固定开口调整用的调整螺丝的机构,至今为止尚未确立。
本实用新型是鉴于所述问题而成,且其目的在于提供如下技术,即,用于使得在具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴并将处理液涂布在基板上的基板处理装置中,可确实地固定经调整的螺丝而抑制吐出口的开口宽度的变动,从而稳定地吐出涂布液。
[解决问题的技术手段]
为了实现所述目的,本实用新型的狭缝喷嘴的一实施例包括:喷嘴本体,其中分别具有平坦的相向面的一对唇部以所述相向面彼此隔开间隙地相向的方式配置,而形成呈狭缝状开口的吐出口;以及调整机构,使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度,且在所述一对唇部中的至少一个中,在从所述相向面观看时与另一个所述唇部为相反侧的面,设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向的槽,所述调整机构包括:调整螺丝,沿着所述长边方向排列多个,分别在与所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而与所述喷嘴本体螺合,通过以增减所述槽的宽度的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度;以及施力构件,由弹性体形成,相对于所述喷嘴本体能够装卸地设置,对所述多个调整螺丝向所述喷嘴本体侧施力。
在如此构成的实用新型中,相对于各调整螺丝,设置将所述调整螺丝向喷嘴本体侧按压的方向施力那样的施力构件。施力构件由弹性体形成,且不会损伤调整螺丝的螺纹牙。因此,能够抑制调整螺丝的无用的旋转而防止吐出口的开口宽度的变动,从而稳定地吐出涂布液。另外,若根据需要将施力构件从喷嘴本体取下,则也容易进行开口宽度的再调整。再调整后,通过再次安装施力构件,可固定调整螺丝而维持调整后的状态。
另外,为了实现所述目的,本实用新型的基板处理装置的一实施例包括:狭缝喷嘴,具有所述结构;相对移动机构,使基板与所述狭缝喷嘴的所述吐出口相向地配置,并且使所述狭缝喷嘴与所述基板在与所述长边方向相交的方向上相对移动;以及液体供给部,向所述狭缝喷嘴供给处理液,且将从所述吐出口吐出的所述处理液涂布在所述基板的表面。
在如此构成的实用新型中,通过从使用如上所述的结构而调整了开口宽度的狭缝喷嘴向基板供给处理液,可在长边方向上稳定地形成膜厚均匀的膜。
[实用新型的效果]
如上所述,在本实用新型的狭缝喷嘴中,沿吐出口的长边方向排列多个并规定其开口宽度的调整螺丝通过由具有弹性的施力构件施力,而位置得到固定。因此,能够防止吐出口的开口宽度的变动,而稳定地吐出涂布液。
附图说明
图1是示意性地表示作为本实用新型一实施方式的涂布装置的整体结构的图。
图2是示意性地表示狭缝喷嘴的主要结构的分解装配图。
图3的(a)、图3的(b)是表示装配后的狭缝喷嘴的外观的图。
图4是表示调整螺丝的结构的外观图及剖面图。
图5是安装有调整螺丝的喷嘴本体的局部剖面图。
图6的(a)、图6的(b)是表示调整螺丝的固定机构的图。
图7是表示本实施方式中的开口调整作业的内容的流程图。
图8的(a)~图8的(c)是施力构件的另一实施方式的图。
[符号的说明]
1:涂布装置(基板处理装置)
2:输入移载部(相对移动机构)
3:浮起平台部(相对移动机构)
4:输出移载部(相对移动机构)
5:基板搬送部(相对移动机构)
7:涂布机构
8:涂布液供给机构(液体供给部)
9:控制单元
21、41、101、111:辊式输送机
22、42:旋转/升降驱动机构
31:入口浮起平台
32:涂布平台
33:出口浮起平台
34:顶销驱动机构
35:浮起控制机构
51:夹盘机构
52:吸附/前行控制机构
61:传感器(板厚测定用的传感器)
62:传感器(浮起高度检测传感器)
71:狭缝喷嘴
75:调整螺丝(差动螺丝、调整机构)
77:固定机构(调整机构)
79:喷嘴清洗待机单元
100:输入输送机(相对移动机构)
102、112:旋转驱动机构
110:输出输送机
710:喷嘴本体
711:第一本体部(喷嘴本体)
711a:第一平坦面(相向面)
711b:平坦面
711c:唇部(第一唇部)
711d、712f:槽
712:第二本体部(喷嘴本体)
712a:第二平坦面(相向面)
712c:唇部(第二唇部)
712e:主表面
712g:突出部(第二突出部)
712h:螺丝孔
712j、712k、712m、751b:阴螺纹
713:第一侧板
714:第二侧板
715:吐出口
751:外螺丝
751a、752a:阳螺纹
751c、752b:六角孔
752:内螺丝
771、775:施力构件
771a、775a:大径部
771b、775b:小径部
772:罩构件(固定构件)
772a:水平部
772b:铅垂部
772c:贯通孔
773:固定螺丝
791:辊
792:清洗部
793:辊棒
CW:顺时针方向
Dt:搬送方向
H:六角扳手(内六角扳手)
P1、P2:间距
S:基板
S101~S106:步骤
Sb:背面
Sf:表面
具体实施方式
<涂布装置的整体结构>
图1是示意性地表示作为本实用新型的基板处理装置的一实施方式的涂布装置的整体结构的图。所述涂布装置1是将涂布液涂布在以水平姿势从图1的左手侧朝右手侧搬送的基板S的表面Sf的狭缝涂布机。例如,出于在玻璃基板或半导体基板等各种基板S的表面Sf涂布包含抗蚀膜的材料的涂布液、包含电极材料的涂布液等各种处理液,并形成均匀的涂布膜的目的,可适合地利用所述涂布装置1。
再者,在以下的各图中,为了使装置各部的配置关系变得明确,如图1所示,设定右手系XYZ正交坐标。将基板S的搬送方向设为“X方向”,将从图1的左手侧朝向右手侧的水平方向称为“+X方向”,将相反方向称为“-X方向”。另外,将与X方向正交的水平方向Y之中,装置的正面侧(图中,跟前侧)称为“-Y方向”,并且将装置的背面侧称为“+Y方向”。进而,将铅垂方向Z中的上方向及下方向分别称为“+Z方向”及“-Z方向”。
首先,使用图1对所述涂布装置1的结构及动作的概要进行说明,其后,对包括本实用新型的技术特征的狭缝喷嘴的详细的结构及开口尺寸的调整作业进行说明。在涂布装置1中,输入输送机100、输入移载部2、浮起平台部3、输出移载部4、输出输送机110沿着基板S的搬送方向Dt,即(+X)方向,按此顺序接近地配置。如以下所详述那样,通过这些构件来形成在大致水平方向上延长的基板S的搬送路径。
作为处理对象的基板S被从图1的左手侧搬入至输入输送机100。输入输送机100包括辊式输送机(roller conveyor)101、及对辊式输送机101进行旋转驱动的旋转驱动机构102,通过辊式输送机101的旋转来将基板S以水平姿势朝下游侧,即(+X)方向搬送。输入移载部2包括辊式输送机21、以及具有对辊式输送机21进行旋转驱动的功能及使辊式输送机21升降的功能的旋转/升降驱动机构22。通过辊式输送机21进行旋转,而将基板S进一步朝(+X)方向搬送。另外,通过辊式输送机21进行升降,而变更基板S的铅垂方向位置。通过如此构成的输入移载部2,而将基板S从输入输送机100朝浮起平台部3移载。
浮起平台部3包括沿着基板的搬送方向Dt一分为三的平板状的平台。即,浮起平台部3包括入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33,所述各平台的表面相互形成同一平面的一部分。在入口浮起平台31及出口浮起平台33各自的表面,呈矩阵状地设置有多个喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气的喷出孔,通过由被喷出的气流所赋予的浮力来使基板S浮起。如此,基板S的背面Sb在从平台表面分离的状态下以水平姿势得到支撑。基板S的背面Sb与平台表面的距离即浮起量例如可设为10微米~500微米。
另一方面,在涂布平台32的表面,交替地配置有喷出压缩空气的喷出孔、及抽吸基板S的背面Sb与平台表面之间的空气的抽吸孔。浮起控制机构35控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量与来自抽吸孔的抽吸量,由此精密地控制基板S的背面Sb与涂布平台32的表面的距离。由此,将穿过涂布平台32的上方的基板S的表面Sf的铅垂方向位置控制成规定值。作为浮起平台部3的具体结构,例如可应用日本专利第5346643号中记载的结构。再者,关于涂布平台32上的浮起量,由控制单元9基于后述的传感器61、传感器62的检测结果来算出,另外,能够通过气流控制来高精度地调整。
另外,在入口浮起平台31,配设有图中未出现的顶销(lift pin),在浮起平台部3设置有使所述顶销升降的顶销驱动机构34。
经由输入移载部2而搬入至浮起平台部3的基板S通过辊式输送机21的旋转而被赋予朝(+X)方向的推进力,并被搬送至入口浮起平台31上。入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33将基板S支撑成浮起状态,但不具有使基板S在水平方向上移动的功能。浮起平台部3中的基板S的搬送通过配置在入口浮起平台31、涂布平台32及出口浮起平台33的下方的基板搬送部5来进行。
基板搬送部5包括:夹盘机构51,部分地抵接在基板S的下表面边缘部,由此从下方支撑基板S;以及吸附/前行控制机构52,具有对设置于夹盘机构51上端的吸附构件的吸附垫(省略图示)给予负压来吸附保持基板S的功能、及使夹盘机构51在X方向上往返前行的功能。在夹盘机构51保持基板S的状态下,基板S的背面Sb位于比浮起平台部3的各平台的表面高的位置。因此,基板S由夹盘机构51吸附保持边缘部,并通过由浮起平台部3所赋予的浮力,整体维持水平姿势。为了在由夹盘机构51部分地保持基板S的背面Sb的阶段检测基板S的表面的铅垂方向位置,而在辊式输送机21的附近配置板厚测定用的传感器61。未保持基板S的状态的夹盘(省略图示)位于所述传感器61的正下方位置,由此传感器61能够检测吸附构件的表面,即吸附面的铅垂方向位置。
夹盘机构51保持被从输入移载部2搬入至浮起平台部3的基板S,在此状态下夹盘机构51朝(+X)方向移动,由此将基板S从入口浮起平台31的上方经由涂布平台32的上方而朝出口浮起平台33的上方搬送。经搬送的基板S被交接至配置在出口浮起平台33的(+X)侧的输出移载部4。
输出移载部4包括辊式输送机41、以及具有对辊式输送机41进行旋转驱动的功能及使辊式输送机41升降的功能的旋转/升降驱动机构42。辊式输送机41进行旋转,由此对基板S赋予朝(+X)方向的推进力,而沿着搬送方向Dt进一步搬送基板S。另外,辊式输送机41进行升降,由此变更基板S的铅垂方向位置。通过输出移载部4来将基板S从出口浮起平台33的上方朝输出输送机110移载。
输出输送机110包括辊式输送机111、及对辊式输送机111进行旋转驱动的旋转驱动机构112,通过辊式输送机111的旋转来进一步朝(+X)方向搬送基板S,最终朝涂布装置1外排出。再者,输入输送机100及输出输送机110可作为涂布装置1的结构的一部分来设置,但也可与涂布装置1分体。另外,例如也可将设置于涂布装置1的上游侧的另一单元的基板排出机构用作输入输送机100。另外,也可将设置于涂布装置1的下游侧的另一单元的基板接收机构用作输出输送机110。
在以所述方式搬送的基板S的搬送路径上,配置用于将涂布液涂布在基板S的表面Sf的涂布机构7。涂布机构7具有狭缝喷嘴71。另外,虽然省略图示,但在狭缝喷嘴71连接有定位机构,通过定位机构来将狭缝喷嘴71定位在涂布平台32的上方的涂布位置(图1中由实线表示的位置)或维护位置。进而,在狭缝喷嘴71连接有涂布液供给机构8,从涂布液供给机构8供给涂布液,从在喷嘴下部向下开口的吐出口吐出涂布液。再者,关于狭缝喷嘴71,其后进行详述。
如图1所示,在狭缝喷嘴71设置有用于以非接触方式探测基板S的浮起高度的浮起高度检测传感器62。通过所述浮起高度检测传感器62,能够测定已浮起的基板S与涂布平台32的平台面的表面的分离距离,可经由控制单元9,根据浮起高度检测传感器62的检测值来调整狭缝喷嘴71下降的位置。再者,作为浮起高度检测传感器62,可使用光学式传感器、或超声波式传感器等。
为了对狭缝喷嘴71进行规定的维护,在涂布机构7设置有喷嘴清洗待机单元79。喷嘴清洗待机单元79主要具有辊791、清洗部792、辊棒793等。而且,在狭缝喷嘴71已被定位在维护位置的状态下,通过这些构件来进行喷嘴清洗及积液形成,将狭缝喷嘴71的吐出口调整成适于下一次涂布处理的状态。
除此以外,在涂布装置1设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具有:存储规定的程序或各种方法等的存储部、通过执行所述程序来使装置各部执行规定的动作的中央处理器(Central Processing Unit,CPU)等运算处理部、液晶面板等显示部、以及键盘等输入部。
以下,对狭缝喷嘴71的具体结构例及吐出口的开口尺寸的调整方法等进行详述。再者,此处所述的开口尺寸的调整并非以开口尺寸成为固定或事先决定的规定值为目标的调整,而是以作为吐出的结果使形成于基板S的表面的涂布膜的厚度变得均匀为目标而操作员增减开口的大小的调整。以下,将所述调整称为“开口调整”。
图2是示意性地表示图1的涂布装置中所使用的狭缝喷嘴的主要结构的分解组装图。狭缝喷嘴71具有第一本体部711、第二本体部712、第一侧板713及第二侧板714。如图2中由点划线箭头所示,第一本体部711与第二本体部712以在X方向上相向的状态结合,在其结合体的(-Y)侧端面结合第一侧板713、且在(+Y)侧端面结合第二侧板714来构成喷嘴本体710。
这些各构件例如为从不锈钢或铝等的金属块削出的构件。再者,构成喷嘴本体710的各构件例如通过如螺栓那样的适宜的固定结合构件来固定结合,由此相互结合,此种结合结构是公知的。因此,为了容易观察附图,此处省略固定螺栓或用于插通其的螺丝孔等与固定结合相关的结构的记载。
第一本体部711的与第二本体部712相向之侧的主表面、即(+X)侧的主表面中的下半部分以成为与YZ平面平行的平坦面711a的方式得到精加工。以下,将所述平坦面711a称为“第一平坦面”。第一本体部711的与第二本体部712相向之侧的主表面中的上半部分也是以成为与YZ平面平行的平坦面711b的方式得到精加工。另外,第一本体部711的下部以向下的锥形形状突出而形成第一唇部711c。平坦面711a、平坦面711b由将Y方向作为长边方向、将X方向作为深度方向的大致半圆柱形状的槽711d来隔开。所述槽711d作为涂布液的流路中的歧管发挥功能。
另一方面,第二本体部712的与第一本体部711相向之侧的主表面、即(-X)侧的主表面成为与YZ平面平行的单一的平坦面712a。以下,将所述平坦面712a称为“第二平坦面”。另外,第二本体部712的下部以向下的锥形形状突出而形成第二唇部712c。以平坦面711b与第二平坦面712a中的上半部分密接的方式,将第一本体部711与第二本体部712结合。
第一平坦面711a与平坦面711b相比略微朝(-X)侧后退。因此,在第一本体部711与第二本体部712结合的状态下,第一平坦面711a与第二平坦面712a隔开微小的间隙平行地相向。如此相互相向的相向面(第一平坦面711a、第二平坦面712a)之间的间隙部分成为来自歧管的涂布液的流路,其下端作为朝向基板S的表面Sf并向下开口的吐出口715(图3的(a)、图3的(b))发挥功能。吐出口715是将Y方向作为长边方向且X方向上的开口尺寸微小的狭缝状的开口。
在第二本体部712的主表面中的与第二平坦面712a为相反侧的主表面712e上,设置有沿着Y方向延长的槽712f。槽712f是在Y方向上横跨第二本体部712的整个区域并以一定的深度而连续地设置。因此,第二本体部712中的比槽712f更靠下的部分成为在Y方向上具有大致一致的剖面形状并向(+X)方向突出的突出部712g。
在突出部712g的下表面设置有沿上下方向贯通突出部712g的螺丝孔712h。螺丝孔712h在突出部712g的下表面沿着Y方向且以均等的间距设置有多个。在各螺丝孔712h形成有阴螺纹,且如后所述,安装有用于吐出口715在X方向上的开口调整的调整螺丝75。调整螺丝75在与槽712f的深度方向(X方向)相交的Z方向上跨越所述槽712f而设置,其上端到达槽712f的上表面。
相对于螺丝孔712h的调整螺丝75跨越槽712f而设置,因此当使其拧入量变化时,第二本体部712绕槽712f的延伸方向(Y方向)的轴略微变形,隔着槽712f相互相向的两侧部位的间隔、即槽712f的宽度增减。具体而言,相对于第二本体部712中的比槽712f更靠上侧的部位,比槽712f更靠下侧的突出部712g相对地向接近或分离的方向位移,由此两者的间隔发生变化。
随着此种位移,与突出部712g连接的第二唇部712c向X方向、即向相对于相向的第一唇部711c接近、分离的方向位移。如此,相互相向的第一唇部711c与第二唇部712c相对地向接近方向及分离方向位移,由此,两者的间隔、即吐出口715的开口宽度发生变化。因此,可通过调整螺丝75的拧入量来调整吐出口715的开口宽度。通过沿着吐出口715的长边方向排列多个调整螺丝75,能够在所述方向上的各位置进行开口宽度的调整。调整螺丝75例如是差动螺丝。关于作为差动螺丝的调整螺丝75的更具体的结构及利用其进行的开口调整的原理将在后面叙述。
图3的(a)、图3的(b)是表示装配后的狭缝喷嘴的外观的图。更具体而言,图3的(a)是组合图2的各构件而成的狭缝喷嘴71的外观立体图,图3的(b)是表示进一步安装有固定机构77的状态的外观立体图。如上文所述,第一本体部711、第二本体部712、第一侧板713及第二侧板714通过未图示的固定螺丝而相互固定结合,从而构成图3的(a)所示的喷嘴本体710。而且,在第二本体部712的各螺丝孔712h安装有调整螺丝75。进而,如图3的(b)所示,为了防止调整螺丝75的松动及脱落,将后述的固定机构77(图6的(a)、图6的(b))安装于喷嘴本体710。
图4是表示调整螺丝的结构的外观图及剖面图。作为差动螺丝的调整螺丝75具有外螺丝751及内螺丝752。外螺丝751是轴心为中空结构的筒状构件,且在其外表面形成有阳螺纹751a,在内表面形成有阴螺纹751b。阳螺纹751a的间距P1稍大于阴螺纹751b的间距P2。在外螺丝751的上端部设置有六角孔751c。六角孔751c的对面宽度稍大于阴螺纹751b的公称直径。即,外螺丝751可看作以内六角止动螺丝的轴心为贯通孔构造的构件。
另一方面,在内螺丝752的外表面,形成有与外螺丝751的阴螺纹751b螺合的,即间距P2的阳螺纹752a。而且,在内螺丝752的上端部设置有六角孔752b。即,内螺丝752是一种内六角止动螺丝。通过内螺丝752与外螺丝751螺合,而构成差动螺丝。以如上方式构成的差动螺丝作为调整螺丝75安装于喷嘴本体710,更具体而言安装于第二本体部712。
图5是安装有调整螺丝的喷嘴本体的局部剖面图。调整螺丝75安装于螺丝孔712h,所述螺丝孔712h相对于设置在第二本体部712的下部的突出部712g沿上下方向形成。在螺丝孔712h中形成有间距P1的阴螺纹712j,外螺丝751的阳螺纹751a与所述阴螺纹712j螺合。
另一方面,在第二本体部712中隔着槽712f触碰突出部712g的上方的部位,形成有与内螺丝752的阳螺纹752a螺合的阴螺纹712k,内螺丝752的阳螺纹752a的前端部分与所述阴螺纹712k螺合。即,内螺丝752与形成于外螺丝751的内表面的阴螺纹751b及形成于喷嘴本体710(第二本体部712)的阴螺纹712k此两者螺合。
考虑以下情况:从所述状态起,如虚线所示,使六角扳手(内六角扳手)H卡合于外螺丝751的六角孔751c,使外螺丝751向顺时针方向CW旋转了一周。于是,外螺丝751相对于第二本体部712向上方行进与间距P1相当的距离。此时,内螺丝752螺合并固定于第二本体部712的阴螺纹712k,因此不从动于外螺丝751,而相对于外螺丝751相对地逆时针旋转一周。即,内螺丝752相对于外螺丝751相对地向下行进与间距P2相当的距离。
此处,P1>P2,另外,内螺丝752固定于喷嘴本体710(第二本体部712)而不旋转、移动,因此外螺丝751被向下方按下与内螺丝752的移动量的差(P1-P2)。即,产生将外螺丝751所螺合的突出部712g向下方按下那样的力,由此槽712f的宽度被扩大。于是,第二本体部712向第二唇部712c接近第一唇部711c侧的方向变形,结果,吐出口715的宽度变小。
定量地说,若将槽712f最初的宽度设为W1,将外螺丝751顺时针旋转一周时的宽度设为W2,则下式:
W2=W1+k·(P1-P2)
的关系成立。此处,符号k是大于由第二本体部712的各部的尺寸决定的0的系数。
若调整螺丝75是并非差动螺丝的一般螺栓,则使其旋转一周时的槽宽的变化量与螺栓的间距P1成比例。另一方面,差动螺丝中的变化量与(P1-P2)成比例。如上所述那样槽712f的宽度相对于调整螺丝的旋转量的变化量小是指可将调整螺丝的旋转量转换为上下方向的微小变化量,即可容易地进行吐出口715的开口宽度的微调整。
在外螺丝751沿逆时针方向旋转时,与所述相反,槽712f的宽度根据旋转量而变窄,结果,吐出口715的开口宽度增大。如此,通过使用差动螺丝作为调整螺丝75,可容易地进行吐出口715的开口尺寸的微调整。
通过在Y方向的各位置进行使用调整螺丝75的开口调整,涂布装置1能够相对于基板S形成膜厚一定且一致的涂膜。在重复对多个基板S的涂布动作时,由于对喷嘴71持续施加机械振动或温度变化,因此调整螺丝75逐渐松动,由此,有吐出口715的开口尺寸变动之虞。因此,在所述实施方式中,利用接下来说明的固定机构来固定调整螺丝75,从而由吐出口715的开口尺寸的变化引起的涂膜的膜厚变动得到抑制。
图6的(a)、图6的(b)是表示调整螺丝的固定机构的图。更具体而言,图6的(a)是表示固定机构77安装于第二本体部712的状态的局部剖面图,图6的(b)是表示经取下的状态的固定机构77的外观的立体图。固定机构77包括:施力构件771,嵌入至第二本体部712的螺丝孔712h;以及罩构件772及固定螺丝773,用于将所述施力构件771固定于第二本体部712。
施力构件771由弹性材料,例如橡胶或发泡氨基甲酸酯树脂等弹性树脂材料一体地形成,且包括具有直径比较大的圆筒形状的大径部771a以及突出到大径部771a的上部且具有相比而言直径小的圆筒形状的小径部771b。大径部771a的直径与螺丝孔712h的内径相等或比其稍小,且比外螺丝751的六角孔751c大。另一方面,小径部771b的直径与外螺丝751内表面的阴螺纹751b的内径相等或比其稍小,且比内螺丝752的六角孔752b大。
大径部771a的高度比从突出部712g的下表面到外螺丝751的下端的距离大。另外,从大径部771a的上表面开始计算的小径部771b的高度比从外螺丝751的下端到内螺丝752的下端的距离大。因此,大径部771a相对于外螺丝751的下端弹性抵接,且小径部771b相对于内螺丝752的下端弹性抵接。因此,大径部771a对外螺丝751向第二本体部712侧施力,同时小径部771b对内螺丝752向第二本体部712侧施力。由此,可防止因狭缝喷嘴71的振动等而导致外螺丝751及内螺丝752松动从而吐出口715的开口尺寸变动。
再者,严格地说,外螺丝751及内螺丝752的下端位置根据开口调整的结果而变化。但是,实际的开口调整中的外螺丝751从基准位置起的上下方向上的最大位移量例如为1毫米左右。因此,若施力构件771的弹性变形带来的伸缩行程例如为几毫米,则能够充分追随外螺丝751及内螺丝752的位置变动而将这些固定。
如图6的(b)所示,施力构件771安装于罩构件772。罩构件772是将水平的平板状的水平部772a与铅垂的平板状的铅垂部772b组合且剖面具有大致L字型的金属角。在水平部772a的上表面安装有施力构件771。可对一个施力构件771设置一个罩构件772,但如图6的(b)所示,通过在一个罩构件772成批地安装多个施力构件771,可提高将固定机构77安装于喷嘴本体710时的作业效率。
在罩构件772的铅垂部772b设置有用于供固定螺丝773穿过的贯通孔772c。如图6的(a)所示,在第二本体部712的突出部712g的侧面形成有阴螺纹712m。在施力构件771插入至螺丝孔712h的状态下,罩构件772通过固定螺丝773固定结合于第二本体部712。如此,固定机构77固定于第二本体部712。此时,施力构件771维持将外螺丝751及内螺丝752分别向上施力的状态。
也可为罩构件772固定于第二本体部712的下表面的结构,但如所述那样能从侧面进行固定螺丝773的装卸的情况在作业性方面有利。
图7是表示本实施方式中的开口调整作业的内容的流程图。所述作业由操作员在装置的初始调整时或定期的维护作业时等适宜的时机实施。在各调整螺丝75设定为适宜的初始状态的状态下(步骤S101),从喷嘴71吐出涂布液,进行涂布在测试用基板的试涂布(步骤S102)。在膜内的各位置测量如此形成的涂布膜的膜厚(步骤S103),若获得适当的膜厚(在步骤S104中为是(YES)),则在所述状态下为了固定调整螺丝75而安装固定机构77,调整作业结束(步骤S105)。
另一方面,在存在膜厚不适当的部位的情况下(步骤S104中为否(NO)),通过操作与所述位置对应的调整螺丝75来调整吐出口715的开口尺寸(步骤S106)。然后,再次进行试涂布,而进行膜厚测定(步骤S102、步骤S103),确认调整结果,若需要,则进行开口尺寸的再调整(步骤S106)。通过重复这一操作,用于最终形成具有均匀的膜厚的一致的涂布膜的开口调整结束。
调整结束后,通过固定机构77固定各调整螺丝75,因此,防止涂布动作中的振动、温度引起的松动或清扫作业时操作员接触等引起的调整螺丝75的位移,从而维持调整结果。其结果,在本实施方式的涂布装置1中,能够稳定地形成膜厚均匀且一致的涂布膜。通过在所有的调整螺丝75的调整完成后安装固定机构77,可将多个施力构件771安装于一个罩构件772,并将它们成批地安装于喷嘴本体710。由此,可使固定机构77的安装作业效率化。
再者,在从固定机构77安装于喷嘴本体710的状态进行开口调整的情况下,需要在步骤S101之前取下固定机构77。在此情况下,关于多个固定机构77,可只取下其中需要再调整的部位的固定机构,另外也可全部取下。
图8的(a)~图8的(c)是表示施力构件的另一实施方式的图。所述实施方式的施力构件771由弹性树脂形成,但也可使用其他弹性体。图8的(a)~图8的(c)所示的实施方式是使用螺旋弹簧作为弹性体。如图8的(a)所示,所述实施方式的施力构件775是具有直径比较大的大径部775a及相比而言直径小的小径部775b的螺旋弹簧。
如图8的(b)中示出其剖面结构那样,大径部775a及小径部775b可由直径不同的两个弹簧实现,另外,也可如图8的(c)所示,由直径在中途发生变化的单个螺旋弹簧实现。通过此种结构,也与所述实施方式同样地,大径部775a对调整螺丝75的外螺丝751向上施力,小径部775b对内螺丝752向上施力,从而能够将这些固定。
如以上说明那样,在所述实施方式中,第一唇部711c与第二唇部712c构成本实用新型的“一对唇部”。另外,相互相向的第一本体部的第一平坦面711a与第二本体部的第二平坦面712a相当于本实用新型的“相向面”。另外,设置于第二本体部712的槽712f相当于本实用新型的“槽”。
而且,调整螺丝75与固定机构77一体地作为本实用新型的“调整机构”发挥功能。另外,罩构件772作为本实用新型的“固定构件”发挥功能。另外,施力构件771、施力构件775的大径部771a、大径部775a相当于本实用新型的“外侧抵接部位”,小径部771b、小径部775b相当于本实用新型的“内侧抵接部位”。
另外,所述实施方式的涂布装置1相当于本实用新型的“基板处理装置”,输入输送机100、输入移载部2、浮起平台部3、输出移载部4、输出输送机110、基板搬送部5等一体地构成本实用新型的“相对移动机构”。另外,涂布液供给机构8作为本实用新型的“液体供给部”发挥功能。
再者,本实用新型并不限定于所述实施方式,只要不脱离其主旨,则除所述实施方式以外,能够进行各种变更。例如所述实施方式的施力构件771中,大径部771a与小径部771b由弹性树脂一体地形成。也可代替其,与图8的(b)所示的螺旋弹簧的构成例同样地,大径部771a与小径部771b形成为分立的构件。
另外,例如,所述实施方式的施力构件771为对应于一个调整螺丝75而逐个独立的结构,但也可形成为多个施力构件771以一定间隔相互连结的结构。另外,所述实施方式的罩构件772在Y方向上排列有多个与多个(在所述例子中为四个)施力构件771的排列对应的长度的构件,但也可为一个固定构件成批地按压所有施力构件的结构。
另外,所述实施方式的施力构件由弹性树脂或螺旋弹簧形成,但只要对调整螺丝75弹性施力即可,并不限定于此。例如也可使用板弹簧、空气弹簧等作为弹性体。
另外,例如,在所述实施方式中,在第二本体部712的侧面设置槽712f,利用从下方安装的调整螺丝716来调整吐出口715的开口尺寸。但是,并不限定于此,也可为利用其他方式来调整开口尺寸的结构。例如,也可在喷嘴的下面设置槽,利用沿水平方向设置的调整螺丝使喷嘴弹性变形来增减开口尺寸。在此情况下,作为固定施力构件的固定构件,可使用更简单的构造,例如平板状的构件。
另外,例如,在所述实施方式中,作为调整螺丝,使用对于使开口尺寸扩大的方向及缩小的方向的任一方向均主动地发挥作用的差动螺丝,但例如通过如将事先设定得大的开口尺寸缩小、或相反地将事先设定得小的开口尺寸扩大那样仅具有单方向的调整功能的调整螺丝,也可进行恰当的开口尺寸的调整。在此情况下,也有因机械振动等产生调整螺丝的松动之虞,因此有效的是设置如上所述那样的固定机构。
另外,所述实施方式的狭缝喷嘴71在相互相向的第一唇部711c与第二唇部712c中的设有第二唇部712c的第二本体部712设置有槽712f。除此之外,也可设为如下结构:在第一本体部711也设置槽,在第一唇部711c与第二唇部712c此两者进行开口调整。
另外,在所述实施方式中,通过在狭缝喷嘴71的下方搬送基板S来实现狭缝喷嘴71与基板S的相对移动。然而,两者的相对移动的实现方法并不限定于所述方法。例如在狭缝喷嘴相对于保持在平台上的基板进行扫描移动的结构中,本实用新型也有效地发挥功能。另外,基板的搬送形式并不限定于如上所述那样的浮起式的搬送形式,例如可应用辊式搬送、带式搬送、利用移动平台的搬送等各种搬送形式。
进而,在所述实施方式中,对将涂布液供给至基板S的表面Sf的涂布装置1应用本实用新型,但本实用新型的应用对象并不限定于此,可应用于一面通过对狭缝喷嘴输送处理液来自所述狭缝喷嘴朝基板的表面供给处理液,一面相对于狭缝喷嘴进行相对移动来实施规定的处理的所有基板处理技术。
以上,如例示具体的实施方式并进行了说明那样,在本实用新型的狭缝喷嘴中,调整机构也可为包括安装于喷嘴本体并固定施力构件的固定构件的结构。根据此种结构,可防止施力构件因喷嘴本体的振动等而脱落,从而确实地固定调整螺丝。
在此情况下,一个固定构件也可成批地固定与多个调整螺丝分别对应的多个施力构件。根据此种结构,与针对每一个调整螺丝安装施力构件及固定构件相比,能够以更高的作业效率进行安装。
另外,例如,调整螺丝也可为具有外螺丝及内螺丝的差动螺丝,所述外螺丝具有轴心为中空的筒状结构,在外表面形成有阳螺纹,另一方面,在内表面形成有与阳螺纹同轴且间距比阳螺纹小的阴螺纹,所述内螺丝在外表面形成有与阴螺纹螺合的阳螺纹,并插通于外螺丝的中空部分。根据此种结构,可基于差动螺丝的原理,容易地进行开口尺寸的微调整。
在此情况下,施力构件也可具有与外螺丝弹性抵接的外侧抵接部位及从外侧抵接部位突出并与内螺丝弹性抵接的内侧抵接部位。根据此种结构,通过对外螺丝与内螺丝此两者赋予施加力,可确实地防止其位移。
另外,例如,施力构件可由弹性树脂材料形成,另外也可由螺旋弹簧形成。能够使用这些弹性体,来构成产生适度的施加力的施力构件。
另外,本实用新型的基板处理装置也可利用处理液在基板的表面形成一致的涂布膜。在使用狭缝喷嘴形成一致的涂布膜的情况下,在吐出口的长边方向上的各位置处吐出量不同,由此有时涂布膜的厚度会产生偏差。通过将本实用新型应用于此种装置,能够抑制吐出口的开口尺寸的变动,从而在吐出口的整个区域稳定地维持用于形成一致的涂布膜的条件。
[产业上的可利用性]
本实用新型可应用于具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、以及使用所述狭缝喷嘴将涂布液涂布在基板上的所有基板处理装置。

Claims (9)

1.一种狭缝喷嘴,其特征在于,包括:
喷嘴本体,其中分别具有平坦的相向面的一对唇部以所述相向面彼此隔开间隙地相向的方式配置,而形成呈狭缝状开口的吐出口;以及
调整机构,使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度,且
在所述一对唇部中的至少一个中,在从所述相向面观看时与另一个所述唇部为相反侧的面,设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向的槽,
所述调整机构包括:
调整螺丝,沿着所述长边方向排列多个,分别在与所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而与所述喷嘴本体螺合,通过以增减所述槽的宽度的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度;以及
施力构件,由弹性体形成,相对于所述喷嘴本体能够装卸地设置,对所述多个调整螺丝向所述喷嘴本体侧施力。
2.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴,其特征在于,所述调整机构包括固定构件,所述固定构件安装于所述喷嘴本体并固定所述施力构件。
3.根据权利要求2所述的狭缝喷嘴,其特征在于,一个所述固定构件成批地固定与多个所述调整螺丝分别对应的多个所述施力构件。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的狭缝喷嘴,其特征在于,
所述调整螺丝是具有外螺丝及内螺丝的差动螺丝,
所述外螺丝具有轴心为中空的筒状结构,在外表面形成有阳螺纹,另一方面,在内表面形成有与所述阳螺纹同轴且间距比所述阳螺纹小的阴螺纹,
所述内螺丝在外表面形成有与所述阴螺纹螺合的阳螺纹,并插通于所述外螺丝的中空部分。
5.根据权利要求4所述的狭缝喷嘴,其特征在于,所述施力构件具有与所述外螺丝弹性抵接的外侧抵接部位以及从所述外侧抵接部位突出并与所述内螺丝弹性抵接的内侧抵接部位。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的狭缝喷嘴,其特征在于,所述施力构件由弹性树脂材料形成。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的狭缝喷嘴,其特征在于,所述施力构件由螺旋弹簧形成。
8.一种基板处理装置,其特征在于,包括:
如权利要求1至7中任一项所述的狭缝喷嘴;
相对移动机构,使基板与所述狭缝喷嘴的所述吐出口相向地配置,并且使所述狭缝喷嘴与所述基板在与所述长边方向相交的方向上相对移动;以及
液体供给部,向所述狭缝喷嘴供给处理液,且
将从所述吐出口吐出的所述处理液涂布在所述基板的表面。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置,其特征在于,利用所述处理液在所述基板的表面形成一致的涂布膜。
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