KR20190055455A - 레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템에 관한 것으로, 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨 조절 장치는, 피대상물의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임과, 지지프레임을 매개로 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨조절부를 포함하는 것에 의하여, 피대상물의 레벨 조절 구조를 간소화하고 레벨 조절 공정을 단순화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

Description

레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템{LEVEL CONTROL DEVICE AND SUBSTRATE TREATING SYSTEM HAVING THE SAME}
본 발명은 레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 구조를 간소화할 수 있으며 레벨 조절 공정을 단순화할 수 있는 레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템에 관한 것이다.
LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 기판을 회전시키는 것에 의하여 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다.
그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다.
최근에는 정해진 시간에 보다 많은 수의 기판의 표면에 약액을 코팅하는 방법의 일환으로서, 일본 공개특허공보 제2005-243670호에는 기판이 반입되고 도포되며 반출되는 방향을 따라 에어를 분출하여 기판을 부상시키는 부상 스테이지가 설치되고, 그 양측에 흡착 패드 등으로 형성된 기판 배출 기구가 구비되어, 정지된 상태의 슬릿 노즐에 의해 연속적으로 공급되는 기판의 표면에 약액을 공급하여 코팅하는 기술이 개시되어 있다.
한편, 부상식 기판 코터 장치에서는, 기판이 이송되는 동안에 기판의 부상 높이가 불균일하면, 기판의 표면에 약액이 균일한 두께로 도포되기 어렵고, 약액의 불균일한 도포로 인하여 얼룩이 발생하는 문제점이 있기 때문에, 기판이 이송되는 동안에 기판의 부상 높이가 균일하고 안정적으로 유지될 수 있어야 한다.
또한, 부상식 기판 코터 장치에서는, 기판을 부상시키는 부상 유닛의 자세 및 높이에 변화(이하, '레벨 변화'라 함)가 발생하면, 부상 유닛에 의해 부상되는 기판의 부상 높이가 불균일해지기 때문에, 부상 유닛의 레벨 변화에 따라 부상 유닛의 레벨을 정확하게 보정할 수 있어야 한다.
그러나, 기존 부상식 기판 코터 장치에서는, 부상 유닛의 레벨 변화를 신속하고 정확하게 보정하기 어렵고, 기판의 부상 높이 및 부상 자세를 일정하게 유지시키기 어려운 문제점이 있다.
이에 따라, 최근에는 부상 유닛의 레벨 조절 공정을 간소화하고, 기판의 부상높이를 균일하게 유지하기 위한 다양한 검토가 이루어지고 있으나, 아직 미흡하여 이에 대한 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 피대상물의 레벨 조절 구조 및 공정을 간소화할 수 있는 레벨 조절 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
특히, 본 발명은 피대상물의 레벨 변화를 신속하고 정확하게 조절할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 피대상물의 레벨 변화를 최소화할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 수율 및 공정 효율을 향상시킬 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 약액 도포층의 두께를 균일하게 형성할 수 있으며, 얼룩의 발생을 억제할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 단일체로 이루어진 지지프레임을 매개로 피대상물의 레벨을 조절하는 것에 의하여, 피대상물의레벨 조절 구조 및 공정을 간소화할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 피대상물의 레벨 조절 구조 및 공정을 간소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
특히, 본 발명에 따르면 기판을 부상시키는 진동플레이트의 레벨 조절 구조를 간소화하고 레벨 조절 공정을 간소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 진동플레이트의 레벨 변화를 최소화할 수 있으며, 진동플레이트의 레벨 변화를 신속하고 정확하게 조절하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 약액 도포층의 두께를 균일하게 형성할 수 있으며, 얼룩의 발생을 억제하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 수율 및 공정 효율을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 도면,
도 2는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 기판에 약액이 도포되는 공정을 설명하기 위한 도면,
도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 도시한 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 도시한 평면도,
도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 설명하기 위한 단면도,
도 7 및 도 8은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛의 작동 구조를 설명하기 위한 도면,
도 9는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 체결홈과 체결부재의 체결 구조를 설명하기 위한 도면이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 기판에 약액이 도포되는 공정을 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 도시한 평면도이며, 도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛을 설명하기 위한 단면도이다. 또한, 도 7 및 도 8은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 레벨 조절 유닛의 작동 구조를 설명하기 위한 도면이고, 도 9는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템으로서, 체결홈과 체결부재의 체결 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 9를 참조하면, 본 발명에 따른 레벨 조절 장치는, 피대상물의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임(210)과, 지지프레임(210)을 매개로 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨조절부(220)를 포함한다.
이하에서는 본 발명에 따른 레벨 조절 장치(이하, '레벨 조절 유닛'이라 함)가, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 시스템에서 기판(10)을 부상시키는 진동플레이트(100)의 레벨을 조절하는데 사용된 예를 들어 설명하기로 한다. 경우에 따라서는 레벨 조절 장치가 진동플레이트가 아닌 여타 다른 피대상물의 레벨을 조절하도록 구성될 수 있으며, 피대상물의 종류에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
여기서, 피대상물의 레벨을 조절한다 함은, 피대상물의 자세(배치 각도)와 배치 높이 중 적어도 어느 하나 이상을 조절하는 것으로 정의된다.
보다 구체적으로, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 시스템(1)은, 초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 기판(10)을 부상시키는 진동플레이트(100)와; 진동플레이트(100)의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임(210)과, 지지프레임(210)을 매개로 진동플레이트(100)의 레벨을 조절하는 레벨조절부(220)를 구비하는 레벨 조절 유닛(200)을; 포함한다.
진동플레이트(100)는 초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 기판(10)을 부상시킨 상태로 이송시키기 위해 마련된다.
일 예로, 진동플레이트(100)는 기판(10)의 이송 방향을 따라 독립적으로 분할되게 복수개가 마련될 수 있으며, 각 진동플레이트(100)에는 개별적으로 가진기가 연결된다. 각 진동플레이트(100)는 초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 상호 협조적으로 기판(10)을 부상시킨다. 경우에 따라서는 단 하나의 진동플레이트에 의해 기판이 부상되도록 구성하는 것도 가능하다.
진동플레이트(100)는 기판(10)을 부상시킬 수 있는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 일 예로, 진동플레이트(100)는 사각 플레이트 형태로 형성될 수 있다. 경우에 따라서는 진동플레이트가 여타 다른 형태로 형성될 수 있으며, 진동플레이트의 형상 및 구조에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
여기서, 기판(10)이 부상된다 함은, 기판(10)이 소정 간격을 두고 공중에 띄워진 상태로 정의되며, 진동플레이트(100)의 상부에 부상된 기판(10)은 이송 레일(102a)을 따라 직선 이동하는 이송부재(102)에 흡착 또는 지지된 상태로 이송된다.
일 예로, 이송 레일(102a)은 N극과 S극의 영구 자석이 교대로 배열되고, 이송부재(102)는 이송부재(102)의 코일에 인가되는 전류 제어에 의하여 정교한 위치 제어가 가능한 리니어 모터의 원리로 구동될 수 있다.
이와 같이, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)이 부상되도록 하는 것에 의하여, 기판(10)의 부상력을 정밀하게 제어할 수 있고, 기판(10)이 반송되는 동안 외부 접촉에 의한 손상 및 변형을 최소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
특히, 초음파에 의한 진동 에너지를 이용한 부상 방식에서는, 기판(10)의 전 걸쳐 균일한 부상력을 형성할 수 있기 때문에, 약액 도포 유닛(300)로부터 약액이 도포되는 도포 영역에서 약액 도포 유닛(300)에 대한 기판(10)의 배치 높이를 보다 정교하게 제어 및 유지하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
약액 도포 유닛(300)은, 기판(10)이 부상 유닛(200)의 상부에 부상된 상태로 이동하는 동안, 기판(10)의 표면에 약액(PR)을 도포하도록 구비되며, 선택적으로 상하 방향을 따라 이동 가능하게 마련된다.
여기서, 약액 도포 유닛(300)에 의해 약액이 도포되는 영역은 기판(10)의 전체 표면일 수도 있고, 다수의 셀 영역으로 분할된 부분일 수도 있다.
보다 구체적으로, 약액 도포 유닛(300)의 저단부에는 기판(10)의 너비에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 노즐부(미도시)가 형성되며, 슬릿 노즐부의 노즐 립(lip)(310)은 부상 유닛(200)에 형성된 개구부(201) 상에 배치되어, 기판(10)의 표면에 약액을 도포한다.
아울러, 약액 도포 유닛(300)에는 예비토출장치(미도시)가 구비될 수 있다. 예비토출장치는 슬릿 노즐을 통해 기판(10)상에 약액을 도포하기 직전에 슬릿 노즐 토출구 측에 잔류되어 있는 도포액을 탈락시킴과 아울러 차후 양호한 도포를 위해 토출구를 따라 약액 비드층을 미리 형성할 수 있다.
레벨 조절 유닛(200)은, 진동플레이트(100)의 레벨을 선택적으로 조절하기 위해 마련된다.
즉, 외부 충격 등에 의하여 진동플레이트(100)의 자세 및 높이가 변경되면, 약액 도포 유닛과 기판의 사이 간격이 불균일해져 약액이 균일한 두께로 도포되기 어렵다. 레벨 조절 유닛(200)은 진동플레이트(100)의 자세 및 높이를 보정하는 것에 의하여 약액 도포 유닛과 기판의 사이 간격을 균일하게 조절하여, 약액이 균일한 두께로 도포될 수 있게 한다.
보다 구체적으로, 레벨 조절 유닛(200)은, 단일체(Single Body)로 형성되며 진동플레이트(100)의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임(210)과, 지지프레임(210)을 매개로 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨조절부(220)를 포함한다.
여기서, 지지프레임(210)이 단일체로 형성된다 함은, 지지프레임(210)이 독립적으로 분리된 복수개의 부품이 아닌 일체로 연결된 단 하나의 부품으로 형성된 것으로 정의된다.
아울러, 지지프레임(210)이 진동플레이트(100)의 저면을 연속적으로 지지한다 함은, 지지프레임(210)의 상면을 따라 진동플레이트(100)의 저면이 연속적으로 지지(접촉)되는 것으로 정의된다.
바람직하게, 지지프레임(210)은 폐루프 형태의 단일체로 형성된다. 일 예로, 지지프레임(210)은 진동플레이트(100)의 형상에 대응하는 중공의 사각링 형태로 형성될 수 있다.
아울러, 도 9를 참조하면, 진동플레이트(100)의 저면에는 체결홈(110)이 함몰 형성되고, 지지프레임(210)은 체결홈(110)에 체결되는 체결부재(120)에 의해 진동플레이트(100)에 고정된다. 이때, 체결부재(120)는 오로지 지지프레임(210)을 진동플레이트(100)에 고정시키는 역할을 수행하고, 진동플레이트(100)의 레벨 조절은 체결부재(120)가 아닌 레벨조절부(220)에 의해 행해진다.
레벨조절부(220)는 지지프레임(210)을 매개로 진동플레이트(100)의 레벨을 조절할 수 있는 다양한 구조로 형성될 수 있다. 여기서, 레벨조절부(220)가 지지프레임(210)을 매개로 진동플레이트(100)의 레벨을 조절한다 함은, 레벨조절부(220)는 지지프레임(210)의 레벨을 조절하여 진동플레이트(100)의 레벨을 조절하는 것으로 정의된다.
이와 같이, 진동플레이트(100)가 단 하나의 지지프레임(210)에 의해 지지되도록 하고, 지지프레임(210)의 레벨을 조절하여 진동플레이트(100)의 레벨이 간접적으로 조절되도록 하는 것에 의하여, 진동플레이트(100)의 레벨 조절 구조 및 공정을 간소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
즉, 진동플레이트(100)에 복수개의 조절볼트를 직접 장착하고, 조절볼트를 조작하여 진동플레이트(100)의 레벨을 직접 조절하는 것도 가능하다. 그러나, 조절볼트의 배치 간격이 일정 이상 커지면 진동플레이트(100)의 처짐이 발생하므로, 조절볼트의 배치 간격을 일정 이상 증가시키기 어렵고, 조절볼트가 좁은 간격으로 배치되어야 함에 따라 불가피하게 조절볼트의 장착 개수가 늘어나는 문제점이 있다. 또한, 진동플레이트(100)의 레벨을 조절하기 위해서는 각 조절볼트를 모두 조작해야 하는데, 많은 개수의 조절볼트를 개별적으로 조작하여 레벨 조절 공정을 수행하는 것이 매우 번거로울 뿐만 레벨 정확도를 높이기 어려운 문제점이 있다.
하지만, 본 발명은 진동플레이트(100)가 단일 지지프레임(210)에 지지되고, 지지프레임(210)의 레벨 조절을 통해 간접적으로 진동플레이트(100)의 레벨이 조절되도록 하는 것에 의하여, 진동플레이트(100)의 처짐없이 조절볼트와 같은 조절수단의 배치 간격을 증가시키는 것이 가능하고, 결과적으로 조절수단(레벨조절부(220))의 장착 개수를 줄이는 유리한 효과를 얻을 수 있다. 따라서, 진동플레이트(100)의 레벨 공정에서는 기존 보다 작은 개수의 조절수단을 조절하면 되므로, 레벨 조절 공정을 간소화하고, 레벨 조절 시간을 단축하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 본 발명에서는 진동플레이트(100)를 직접 조작하지 않고, 지지프레임(210)의 레벨을 조작하여 진동플레이트(100)의 레벨을 조절할 수 있으므로, 레벨 조작 공정에 의한 진동플레이트(100)의 변형 및 파손을 미연에 방지하는 유리한 효과를 얻을 수 있다. 즉, 진동플레이트(100)에 직접 조절볼트가 체결되는 방식에서는, 조절볼트에 과도한 힘이 가해지면, 조절볼트에 가해지는 힘에 의하여 진동플레이트(100)가 휘어지는 변형이 발생하는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 지지프레임(210)을 통해 진동플레이트(100)의 레벨이 조절되므로, 지지프레임(210)에 과도한 조작력이 인가되더라도 조작력에 의한 진동플레이트(100)의 변형 및 파손이 발생하지 않는다.
일 예로, 레벨조절부(220)는, 진동플레이트(100)의 중앙부의 레벨을 조절하는 중앙부 레벨조절부(220a)와, 진동플레이트(100)의 사이드의 레벨을 조절하는 사이드 레벨조절부(220b)를 포함한다.
바람직하게, 중앙부 레벨조절부(220a)는 진동플레이트(100)의 중앙부의 배치 높이를 조절하도록 구성되고, 사이드 레벨조절부(220b)는 진동플레이트(100)의 사이드의 배치 높이와 배치 각도를 함께 조절하도록 구성될 수 있다. 일 예로, 사이드 레벨조절부(220b)는, 진동플레이트(100)의 사이드에서 진동플레이트(100)의 일변의 레벨을 조절하는 제1사이드 레벨조절부(220b')와, 진동플레이트(100)의 사이드에서 상기 일변을 마주하는 진동플레이트(100)의 다른 일변의 레벨을 조절하는 제2사이드 레벨조절부(220b")를 포함한다. 제1사이드 레벨조절부(220b')와 제2사이드 레벨조절부(220b")를 개별적으로 작동(서로 다른 레벨로 조절하거나, 어느 하나만을 조절)시키는 것에 의하여, 진동플레이트(100)의 사이드의 배치 높이와 배치 각도 중 어느 하나 이상을 조절할 수 있다.
경우에 따라서는 중앙부 레벨조절부가 진동플레이트의 중앙부의 배치 각도까지 조절하도록 구성되거나, 사이드 레벨조절부가 진동플레이트의 사이드의 배치 높이와 배치 각도 중 어느 하나만을 조절하도록 구성하는 것도 가능하다.
레벨조절부(220)(중앙부 레벨조절부, 사이드 레벨조절부)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 진동플레이트(100)의 레벨을 조절 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 레벨조절부(220)는, 지지프레임(210)에 장착되는 베이스블럭(230)과, 베이스블럭(230)에 대해 이동하며 베이스블럭(230)의 레벨을 조절하는 가동블럭(240)을 포함한다.
바람직하게, 가동블럭(240)에는 제1경사안내면(242)이 형성되고, 베이스블럭(230)에 대해 가동블럭(240)이 이동하면 베이스블럭(230)이 제1경사안내면(242)을 따라 이동하며 베이스블럭(230)의 레벨이 조절된다. 더욱 바람직하게, 베이스블럭(230)에는 제1경사안내면(242)에 접촉되는 제2경사안내면(232)이 형성된다.
이와 같이, 가동블럭(240)의 제1경사안내면(242)과 베이스블럭(230)의 제2경사안내면(232)이 면접촉되게 배치된 상태에서, 베이스블럭(230)에 대해 가동블럭(240)이 직선 이동함에 따라, 베이스블럭(230)이 제1경사안내면(242)을 따라 이동하며 베이스블럭(230)의 상하 레벨이 조절되도록 하는 것에 의하여, 지지프레임(210)의 레벨 조절 정확도 및 안정성을 높이는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
가동블럭(240)의 이동은 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 구조로 이루어질 수 있다. 일 예로, 가동블럭(240)에는 베이스블럭(230)에 대해 가동블럭(240)을 직선 이동시키는 조절부재(250)가 장착될 수 있으며, 조절부재(250)를 시계 또는 반시계 방향으로 회전 조작하는 것에 의하여, 가동블럭(240)이 베이스블럭(230)에 대해 직선 이동할 수 있다.
또한, 지지프레임(210)의 하부에는 수용부가 형성될 수 있으며, 레벨조절부(220)는 수용부에 수용 장착될 수 있다. 이와 같이, 지지프레임(210)의 하부에 수용부를 형성하고, 레벨조절부(220)가 수용되도록 하는 것에 의하여, 레벨조절부(220)의 배치 안정성을 높이고 레벨조절부(220)의 장착에 의한 두께 증가를 최소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
한편, 도 9를 참조하면, 지지프레임(210)에는 진동플레이트(100)가 안착되는 안착부(212)가 형성될 수 있다.
바람직하게, 안착부(212)는 지지프레임(210)의 상면보다 축소된 단면적을 갖도록 지지프레임(210)의 상면에 돌출 형성된다. 일 예로, 안착부(212)는 지지프레임(210)의 상면을 따라 연속적으로 형성된다.
이와 같이, 지지프레임(210)에 상대적으로 얇은 폭을 갖는 안착부(212)를 형성하고, 진동플레이트(100)가 안착부(212)에 안착되도록 하는 것에 의하여, 지지프레임(210)과 진동플레이트(100) 간의 접촉 면적을 최소화할 수 있으므로, 지지프레임(210)과 진동플레이트(100)의 접촉에 의한 진동플레이트(100)의 진동 손실 및 진동 왜곡을 최소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
1 : 기판 처리 시스템 100 : 진동플레이트
110 : 체결홈 200 : 레벨 조절 유닛
210 : 지지프레임 212 : 안착부
220 : 레벨조절부 220a: 중앙부 레벨조절부
220b : 사이드 레벨조절부 220b' : 제1사이드 레벨조절부
220b" : 제2사이드 레벨조절부 230 : 베이스블럭
232 : 제2경사안내면 240 : 가동블럭
242 : 제1경사안내면 250 : 조절부재
300 : 약액 도포 유닛

Claims (25)

  1. 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨 조절 장치로서,
    피대상물의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임과;
    상기 지지프레임을 매개로 상기 피대상물의 레벨을 조절하는 레벨조절부를;
    포함하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지지프레임은 폐루프 형태의 단일체(Single Body)로 형성되고,
    상기 레벨조절부는 상기 지지프레임의 레벨을 조절하여 상기 피대상물의 레벨을 조절하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 지지프레임에는 상기 피대상물이 안착되는 안착부가 형성된 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 안착부는 상기 지지프레임의 상면보다 축소된 단면적을 갖도록 상기 지지프레임의 상면에 돌출 형성된 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 안착부는 상기 지지프레임의 상면을 따라 연속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레벨조절부는,
    상기 피대상물의 중앙부의 레벨을 조절하는 중앙부 레벨조절부와;
    상기 피대상물의 사이드의 레벨을 조절하는 사이드 레벨조절부를;
    포함하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 중앙부 레벨조절부는 상기 피대상물의 중앙부의 배치 높이를 조절하고,
    상기 사이드 레벨조절부는 상기 피대상물의 사이드의 배치 높이와 배치 각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 사이드 레벨조절부는,
    상기 피대상물의 사이드에서 상기 피대상물의 일변의 레벨을 조절하는 제1사이드 레벨조절부와;
    상기 피대상물의 사이드에서 상기 일변을 마주하는 상기 피대상물의 다른 일변의 레벨을 조절하는 제2사이드 레벨조절부를; 포함하며,
    상기 제1사이드 레벨조절부와 상기 제2사이드 레벨조절부는 개별적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  9. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레벨조절부는,
    상기 지지프레임에 장착되는 베이스블럭과;
    상기 베이스블럭에 대해 이동하며 상기 베이스블럭의 레벨을 조절하는 가동블럭을;
    포함하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 가동블럭에는 제1경사안내면이 형성되고,
    상기 베이스블럭에 대해 상기 가동블럭이 이동하면, 상기 베이스블럭이 상기 제1경사안내면을 따라 이동하며 상기 베이스블럭의 레벨이 조절되는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 베이스블럭에는 상기 제1경사안내면에 접촉되는 제2경사안내면이 형성된 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 베이스블럭에 대해 상기 가동블럭을 직선 이동시키는 조절부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 지지프레임의 하부에는 상기 레벨조절부가 수용되는 수용부가 형성된 것을 특징으로 하는 레벨 조절 장치.
  14. 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 시스템으로서,
    초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 기판을 부상시키는 진동플레이트와;
    상기 진동플레이트의 저면을 연속적으로 지지하는 지지프레임과, 상기 지지프레임을 매개로 상기 진동플레이트의 레벨을 조절하는 레벨조절부를 구비하는 레벨 조절 유닛을;
    포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 지지프레임은 폐루프 형태의 단일체(Single Body)로 형성되고,
    상기 레벨조절부는 상기 지지프레임의 레벨을 조절하여 상기 진동플레이트의 레벨을 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 지지프레임의 상면보다 축소된 단면적을 갖도록 상기 지지프레임의 상면에 돌출 형성되며, 상기 진동플레이트가 안착되는 안착부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 안착부는 상기 지지프레임의 상면을 따라 연속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  18. 제14항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레벨조절부는,
    상기 지지프레임에 장착되는 베이스블럭과;
    상기 베이스블럭에 대해 이동하며 상기 베이스블럭의 레벨을 조절하는 가동블럭을;
    포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 가동블럭에는 제1경사안내면이 형성되고,
    상기 베이스블럭에 대해 상기 가동블럭이 이동하면, 상기 베이스블럭이 상기 제1경사안내면을 따라 이동하며 상기 베이스블럭의 레벨이 조절되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 베이스블럭에는 상기 제1경사안내면에 접촉되는 제2경사안내면이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  21. 제18항에 있어서,
    상기 베이스블럭에 대해 상기 가동블럭을 직선 이동시키는 조절부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  22. 제14항에 있어서,
    상기 지지프레임의 하부에는 상기 레벨조절부가 수용되는 수용부가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  23. 제14항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레벨조절부는,
    상기 진동플레이트의 중앙부의 배치 높이를 조절하는 중앙부 레벨조절부와;
    상기 진동플레이트의 사이드의 배치 높이와 배치 각도를 조절하는 사이드 레벨조절부를;
    포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 사이드 레벨조절부는,
    상기 진동플레이트의 사이드에서 상기 진동플레이트의 일변의 레벨을 조절하는 제1사이드 레벨조절부와;
    상기 진동플레이트의 사이드에서 상기 일변을 마주하는 상기 진동플레이트의 다른 일변의 레벨을 조절하는 제2사이드 레벨조절부를; 포함하며,
    상기 제1사이드 레벨조절부와 상기 제2사이드 레벨조절부는 개별적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  25. 제14항에 있어서,
    상기 진동플레이트의 저면에는 체결홈이 함몰 형성되고,
    상기 지지프레임은 상기 체결홈에 체결되는 체결부재에 의해 상기 진동플레이트에 고정되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
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KR20020049834A (ko) * 2000-12-20 2002-06-26 윤종용 반도체 제조설비의 리테이너링 높이조절장치
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