CN111940229A - 涂布装置以及涂布方法 - Google Patents

Abstract

一种涂布装置，在涂布开始到涂布结束的整个期间确保适当的涂布间隙，抑制形成于基板的薄膜的膜厚变动。其具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对基板排出涂布液；移动装置，使基板载置部与狭缝喷嘴沿第一方向相对移动；升降装置，使狭缝喷嘴升降，涂布装置具有：开始侧检测部，设在基板载置部的涂布开始侧第二方向上分开的两处，检测狭缝喷嘴相对于载置面的开始侧高度；结束侧检测部，设在基板载置部的涂布结束侧第二方向上分开的两处，检测狭缝喷嘴相对于载置面的结束侧高度；控制部，根据开始侧高度以及结束侧高度，生成狭缝喷嘴相对于载置面的水平基准及高度基准的教导数据，基于教导数据控制移动装置及升降装置。

Description

涂布装置以及涂布方法

技术领域

本发明涉及一种涂布装置以及涂布方法。

背景技术

为了在半导体或者玻璃等基板形成薄膜，已知有将规定的液体从狭缝喷嘴等排出至基板上的涂布装置(例如，参照专利文献1)。在使用狭缝喷嘴的涂布装置中，在涂布时需要适当地调整基板表面与狭缝喷嘴下端的距离即涂布间隙。在专利文献1所记载的涂布装置中，在基板载置部中、利用狭缝喷嘴进行涂布的涂布开始侧设置有检测部，使用该检测部的结果来调整狭缝喷嘴相对于基板载置部的载置面的高度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4803714号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在近年来的涂布装置中，基板的大型化伴随有基板载置部大型化，进而狭缝喷嘴的宽度也增大，且移动范围也变宽。结果，难以确保载置面与狭缝喷嘴下端移动的面(移动面)之间的平行度。由于载置于载置面的基板以沿着载置面的方式配置，因此若载置面与狭缝喷嘴下端的移动面变得不再平行，则仅仅在涂布开始侧调整狭缝喷嘴的高度位置，有可能在涂布中无法确保适当的涂布间隙。涂布间隙的变动导致形成于基板的薄膜的膜厚变动，出现次品的产生等降低成品率的情况。

本发明的目的在于提供一种涂布装置以及涂布方法，能够在从涂布开始到涂布结束的整个期间确保适当的涂布间隙，抑制形成于基板的薄膜的膜厚变动。

用于解决上述技术问题的方案

本发明的第一方案的涂布装置具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，所述涂布装置的特征在于，具有：开始侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；结束侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布结束侧中所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；控制部，根据在所述开始侧检测部得到的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的所述结束侧高度，生成与所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的水平基准以及高度基准相关的教导数据，基于所述教导数据来控制所述移动装置以及所述升降装置。

本发明的第二方案的涂布方法使用涂布装置将涂布液涂布于基板，所述涂布装置具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，所述涂布方法的特征在于，包含以下步骤：在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；在所述基板载置部的涂布结束侧中在所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；根据在所述开始侧检测部得到的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的所述结束侧高度，生成与所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的水平基准以及高度基准相关的教导数据，基于所述教导数据来控制所述移动装置以及所述升降装置。

发明效果

根据本发明的方案，能够在从涂布开始到涂布结束的整个期间确保适当的涂布间隙。结果，能够抑制形成于基板的薄膜的膜厚变动，防止次品的产生，从而防止成品率的降低。

附图说明

图1是示意性地示出第一实施方式的涂布装置的一例的俯视图。

图2是示意性地示出涂布装置的一例的侧视图。

图3是示出涂布装置的控制系统的一例的功能框图。

图4是示出使用了第一实施方式的涂布装置100的涂布方法的一例的流程图。

图5的(A)以及(B)是从Y方向观察第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图6的(A)以及(B)是从X方向观察第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图7的(A)以及(B)是从Y方向观察第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图8的(A)以及(B)是从X方向观察第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图9的(A)以及(B)是示出第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图10是示出假想面的一例的示意图。

图11是示出假想面的另一例的示意图。

图12的(A)以及(B)是示出第一实施方式的涂布装置的动作的一例的图。

图13是示出开始侧检测部以及结束侧检测部的另一例的图。

图14是示出实施方式的涂布装置的控制方法的另一例的流程图。

图15是示意性地示出第二实施方式的涂布装置的一例的俯视图。

图16是示出假想面的另一例的示意图。

具体实施方式

以下参照附图对本发明的实施方式进行说明。在附图中，为了容易理解各构成而强调一部分或者简化一部分来表示，有时与实际的结构或者形状、比例尺等不同。

此外，在附图中，使用XYZ坐标系说明图中的方向。水平面上的一方向是X方向，与该X方向正交的方向是Y方向。此外，与XY平面(水平面)正交的方向是Z方向。Z方向有时也称为上下方向。在本实施方式中，将后述的基板载置部10与狭缝喷嘴20之间的相对移动方向标记为第一方向D1。第一方向D1与X方向平行。此外，将在俯视时与第一方向D1正交的方向标记为第二方向D2。第二方向D2与Y方向平行。另外，在XYZ坐标系中，X方向、Y方向以及Z方向分别将图中的箭头所指的方向作为+方向，与箭头的方向相反的方向作为-方向。在本实施方式中，有时将与X方向平行的方向标记为第一方向D1，将与Y方向平行的方向标记为第二方向D2。

[第一实施方式]

图1是示意性地示出第一实施方式的涂布装置100的一例的俯视图。图2是示意性地示出涂布装置100的一例的侧视图。图1以及图2所示的涂布装置100对在俯视时为矩形板状的基板S的表面涂布用于形成薄膜的液体。基板S例如是玻璃基板，也可以是半导体晶圆(硅晶圆)等其他的板状体。此外，基板S不限定于矩形，例如也可以是圆形。涂布装置100例如用于在扇出型PLP(Fan-out Panel Level Package：扇出面板级封装)技术中，对基板S的表面涂布用于形成由于吸光或者加热而变质的分离层的涂布液Q的情况。

此外,涂布液Q可以是用于形成上述分离层的液体以外的液体，也可以是用于在基板S的表面形成用于载置器件等的粘接层的液体，也可以是涂布于基板S的具有感光性的药液(抗蚀剂)等。

如图1以及图2所示，涂布装置100具备基板载置部10、狭缝喷嘴20、移动装置30、升降装置40、开始侧检测部50、结束侧检测部60与控制部70。基板载置部10设置为在俯视时呈矩形，被固定于基座12上。基板载置部10具有用于载置基板S的载置面11。载置面11被设定为可载置基板S的尺寸，在俯视时具有比基板S更大的面积。在基板载置部10的载置面11载置有例如通过基板输送装置从外部输送来的基板S。此外，例如通过基板输送装置从基板载置部10的载置面11运出基板S。另外，基板S相对于载置面11的载置以及运出的一方或者双方可以由操作员以手动操作进行。

基板载置部10可以具有吸附载置于载置面11的基板S的构成。作为这样的吸附机构，例如能够使用真空卡盘、夹紧机构等。真空卡盘例如具备如下构成：与设置在载置面11的槽部和抽吸装置连接，通过驱动该抽吸装置使槽部内成为负压，将载置于载置面11的基板S保持在载置面11上。此外，夹紧机构具备如下构成：通过夹持载置于载置面11的基板S的端部的多个部位，将基板S保持在载置面11。此外，基板载置部10可以具备用于将基板S定位在载置面11上的定位部件。

基座12载置于例如建筑物的地板等，相对于第一方向D1(X方向)以及第二方向D2(Y方向)，设置在比基板载置部10更广的范围。基座12在第二方向D2的两侧边缘部分别设置有引导部12a。各个引导部12a沿第一方向D1直线状地延伸设置。引导部12a支承后述的门型框架21，将门型框架21引导至第一方向D1。在基座12上设置有维护区域13。维护区域13配置在基板载置部10的+X侧。在维护区域13中，例如设置有用于对狭缝喷嘴20进行清洗、防止干燥、预备排出等的各种装置。

基板载置部10以定位于基座12的状态被固定。在本实施方式中，被定位为使基板载置部10的长度方向沿第一方向D1且宽度方向沿第二方向D2。另外，可以在基板载置部10与基座12之间设置用于将基板载置部10相对于基座12的位置调整为第一方向D1以及第二方向D2的调整机构。此外，可以在基板载置部10的下表面设置用于调整基板载置部10的上下方向(Z方向)的高度以及倾斜度(或者载置面11的高度以及倾斜度)的高度调整机构(倾斜度调整机构)。

狭缝喷嘴20对载置于载置面11的基板S的上表面排出涂布液Q。狭缝喷嘴20经由升降装置40被门型框架21支承。狭缝喷嘴20具有能够从下方侧的前端20a所具备的开口部排出涂布液Q的构成。在狭缝喷嘴20的内部设置有使涂布液Q流通至开口部的未图示的流路，在该流路上连接有供给装置22。供给装置22例如具有未图示的泵，通过利用该泵将涂布液Q向开口部推动从而使涂布液Q从开口部排出。另外，只要狭缝喷嘴20能够排出涂布液Q，就可以应用任意的构成。

门型框架21具有支柱部21a与梁部21b，以沿第二方向D2横跨基板载置部10的方式设置。支柱部21a在夹着基板载置部10的第二方向D2的两侧各设置有1个，分别被支承在基座12的引导部12a上。各个支柱部21a由引导部12a所引导并能够在第一方向D1上移动。各支柱部21a以上端部的高度位置对齐的方式设置。梁部21b联接在各支柱部21a的上端部之间，连结两个支柱部21a。通过这些支柱部21a以及梁部21b形成门型框架21。

门型框架21与移动装置30连接，可以沿着基座12的引导部12a在第一方向D1上移动。因此，门型框架21可以相对于固定配置在基座12的基板载置部10在第一方向D1上移动。另外，移动装置30可以应用使门型框架21移动的任意的构成，例如，可以应用通过电动电机驱动车轮(滚轮)的构成，也可以应用滚珠丝杠机构或者线性电机等。

移动装置30使基板载置部10与狭缝喷嘴20在沿着载置面11的第一方向D1(X方向)上相对地移动。在本实施方式中，通过移动装置30使门型框架21(狭缝喷嘴20)相对于基板载置部10在第一方向D1上移动，但不限定于该构成。例如，移动装置30可以是使基板载置部10相对于门型框架21(狭缝喷嘴20)在第一方向D1上移动的构成，也可以是使门型框架21(狭缝喷嘴20)以及基板载置部10双方都在第一方向D1上移动的构成。

狭缝喷嘴20由门型框架21的梁部21b所支承，可与门型框架21一体地在第一方向D1上移动。此外，狭缝喷嘴20可通过升降装置40在门型框架21的梁部21b沿上下方向(Z方向)移动。升降装置40具有例如电动电机、气缸等未图示的驱动源与将该驱动源的驱动力传递至门型框架21的未图示的传递机构。升降装置40可通过驱动源的驱动力使狭缝喷嘴20相对于门型框架21的梁部21b升降。

狭缝喷嘴20为以第二方向D2(Y方向)为长边的长条状，配置为经由升降装置40被支承在门型框架21的梁部21b的-X侧的面上，前端20a与基板载置部10对置。升降装置40设置于在第二方向D2上分开的两处位置，分别能够使狭缝喷嘴20升降。通过该构成，狭缝喷嘴20可从前端20a与Y方向平行的状态起绕第一方向D1的轴(绕X轴)旋转。

在门型框架21的梁部21b安装有用于测量基板S的上表面与狭缝喷嘴20的前端20a的距离的距离传感器23。距离传感器23例如可以使用光学式的传感器，相对于基板S以非接触的方式测量距离。距离传感器23安装在梁部21b的+X侧的面。即，在通过狭缝喷嘴20进行涂布动作时(向+X方向移动时)，距离传感器23被配置在狭缝喷嘴20的前方。距离传感器23设置于在第二方向D2上分开的多处位置，例如设置于在第二方向D2上分开的两处位置。距离传感器23将测量结果发送至控制部70。

开始侧检测部50检测狭缝喷嘴20相对于载置面11的涂布开始侧(-X侧)的开始侧高度。开始侧检测部50设置在基板载置部10的涂布开始侧的侧面中、在第二方向D2(Y方向)上分开的两处位置。各个开始侧检测部50能够使用具有测长器51的构成。测长器51以通过例如弹簧等弹性部件朝向上方被赋予弹力的状态而设置。测长器51能够从位于最上方位置的状态克服弹力而移动至下方。

结束侧检测部60检测狭缝喷嘴20相对于载置面11的涂布结束侧(+X侧)的结束侧高度。结束侧检测部60设置在基板载置部10的涂布结束侧的侧面中、在第二方向D2(Y方向)上分开的两处位置。各个结束侧检测部60与开始侧检测部50同样地，能够使用具有测长器61的构成。测长器61以通过例如弹簧等弹性部件朝向上方被赋予弹力的状态而设置。测长器61能够从位于最上方位置的状态克服弹力而移动至下方。另外，开始侧检测部50与结束侧检测部60可以使用相同的构成，也可以使用彼此不同的构成。

开始侧检测部50在载置面11的-X侧，与载置于载置面11的基板S的第二方向D2的两端的位置相对应地配置。同样地，结束侧检测部60在载置面11的+X侧，与载置于载置面11的基板S的第二方向D2的两端的位置相对应地配置。开始侧检测部50以及结束侧检测部60是测长器51、61相对于狭缝喷嘴20接触的接触式检测部，开始侧检测部50以及结束侧检测部60的一方或者双方也可以应用以相对于狭缝喷嘴20为非接触的方式检测狭缝喷嘴20的高度的构成。另外，对于以非接触的方式检测狭缝喷嘴20的高度的构成将在后文叙述。

控制部70总体控制供给装置22、移动装置30以及升降装置40的各部的动作。控制部70具有CPU(Central Processing Unit：中央处理器)等未图示的运算处理装置与主存储装置、辅助存储装置等未图示的存储装置。在存储装置中储存有各种程序、各种信息。另外，控制部70可以作为涂布装置100的一部分设置，也可以独立于涂布装置100设置在远离涂布装置100的位置。

图3是示出涂布装置100的控制系统的一例的功能框图。如图3所示，向控制部70输入有与由开始侧检测部50检测到的开始侧高度相关的信息以及与由结束侧检测部60检测到的结束侧高度相关的信息。此外，向控制部70输入有距离传感器23的检测结果。控制部70具备生成后述的教导数据的教导数据生成部71。

教导数据生成部71基于从开始侧检测部50获取的开始侧高度以及从结束侧检测部60获取的结束侧高度，生成与狭缝喷嘴20相对于载置面11的水平基准以及高度基准相关的教导数据。狭缝喷嘴20的水平基准以及高度基准分别以载置面11为基准。在生成教导数据的情况下，教导数据生成部71根据在开始侧检测部50得到的两处位置的开始侧高度以及在结束侧检测部60得到的两处位置的结束侧高度设定假想面。即，根据两处位置的开始侧高度以及两处位置的结束侧高度(共计四处位置的高度)，计算出包含这些高度的面作为假想面。

在本实施方式中，假想面是平面，但假想面也可以是曲面。该假想面相当于狭缝喷嘴20在第一方向D1移动时，狭缝喷嘴20的前端20a所沿着的面。教导数据生成部71计算出假想面相对于载置面11的上下方向(Z方向)的偏差，生成用于校正狭缝喷嘴20的前端20a的高度的教导数据，以使狭缝喷嘴20在从涂布开始到涂布结束的整个期间在第一方向D1移动时，狭缝喷嘴20的前端20a沿着与载置面11平行的面。

该教导数据与例如狭缝喷嘴20在第一方向D1上的位置(X位置)、在该位置处的狭缝喷嘴20的前端20a的高度(Z位置)、在该位置处的狭缝喷嘴20绕第一方向D1的轴的旋转位置(前端20a相对于作为水平基准的载置面11的倾斜度)相关联。教导数据包含用于根据通过移动装置30移动的狭缝喷嘴20的第一方向D1的位置来设定两个升降装置40的升降量的信息。

控制部70使用教导数据生成部71生成的教导数据，同时控制上述供给装置22、移动装置30以及升降装置40。控制部70通过利用移动装置30使狭缝喷嘴20在第一方向D1移动，同时利用供给装置22将涂布液Q供给至狭缝喷嘴20，从而将涂布液Q从该狭缝喷嘴20涂布至基板S。在这种情况下，控制部70基于教导数据，通过两个升降装置40控制狭缝喷嘴20相对于基板S的高度以及旋转位置，以使在狭缝喷嘴20将涂布液Q向基板S排出开始到排出结束为止的整个期间，狭缝喷嘴20的前端20a沿着与载置面11(基板S)平行的面。

此外，控制部70基于距离传感器23的测量结果，通过升降装置40控制狭缝喷嘴20相对于基板S的高度，以使基板S的上表面与狭缝喷嘴20的前端20a的间隔恒定或几乎恒定。通过使用距离传感器23的测量结果，例如，即使在对厚度不同的基板S涂布涂布液Q的情况下，也能够分别使基板S的上表面与狭缝喷嘴20的前端20a的间隔恒定或几乎恒定。此外，即使在基板S的上表面中一部分的高度不同的情况下，也能够使基板S的上表面与狭缝喷嘴20的前端20a的间隔恒定或几乎恒定。

接下来，说明如上所述地构成的涂布装置100的动作。图4是示出第一实施方式的涂布装置100的控制方法的一例的流程图。图5至图12是示出实施方式的涂布装置100的动作的一例的图。在实施方式的涂布装置100的控制方法中，通过控制部70的控制使涂布装置100的各部进行动作。

首先，如图4所示，控制部70检测开始侧高度(步骤S01)。在步骤S01中，开始侧检测部50的测长器51通过未图示的弹性体的弹力呈向上方突出的状态。如图5(A)以及图6(A)所示，控制部70通过移动装置30使门型框架21在第一方向D1上移动，将狭缝喷嘴20配置在开始侧检测部50的上方。另外，图5(A)以及图5(B)示出从第二方向D2(Y方向)观察到的涂布装置100，图6(A)以及图6(B)示出从第一方向D1(X方向)观察到的涂布装置100。

接着，控制部70通过升降装置40使狭缝喷嘴20下降，使狭缝喷嘴20的前端20a与测长器51的上表面51a接触。如图5(B)以及图6(B)所示，控制部70通过升降装置40使狭缝喷嘴20下降，直到从该状态变为测长器51的上表面51a到达基板载置部10的载置面11的高度为止。控制部70在测长器51的上表面51a到达载置面11的高度的状态中，以距离传感器23的检测结果为0的方式设定高度基准H1(参照图5(B))。或者，根据两个开始侧检测部50的检测结果设定水平基准L1(参照图6(B))。另外，在图5以及图6所示的例子中，水平基准L1为水平或几乎水平。

接下来，如图4所示，控制部70检测结束侧高度(步骤S02)。在步骤S02中，结束侧检测部60的测长器61与开始侧检测部50同样地，通过未图示的弹性体的弹力呈向上方突出的状态。如图7(A)以及图8(A)所示，控制部70通过移动装置30使门型框架21在第一方向D1上移动，将狭缝喷嘴20配置在结束侧检测部60的上方。另外，图7(A)以及图7(B)示出从第二方向D2(Y方向)观察到的涂布装置100，图8(A)以及图8(B)示出从第一方向D1(X方向)观察到的涂布装置100。

接着，控制部70与步骤S01同样地，通过升降装置40使狭缝喷嘴20下降，使前端20a与测长器61的上表面61a接触。如图7(B)以及图8(B)所示，控制部70通过升降装置40使狭缝喷嘴20下降，直到从该状态变化为测长器61的上表面61a到达基板载置部10的载置面11的高度为止。控制部70在测长器61的上表面61a到达载置面11的高度的状态中，以距离传感器23的检测结果为0的方式设定高度基准H2(参照图7(B))。或者，根据两个结束侧检测部60的检测结果设定水平基准L2(参照图8(B))。另外，在图7以及图8所示的例子中，水平基准L2为水平或几乎水平，与上述水平基准L1相同。此外，在上述例子中，在步骤S02中设定了水平基准L2，但也可以不设定水平基准L2。该情况下，可以使用载置面11的开始侧的水平基准L1作为载置面11的结束侧的水平基准。

接下来，如图4所示，控制部70(教导数据生成部71)生成教导数据(步骤S03)。如图9(A)所示，若基板载置部10大型化，则狭缝喷嘴20在第一方向D1上的移动范围变长，有时在涂布开始侧的高度基准H1与在涂布结束侧的高度基准H2变得不同。此外，如图9(B)所示，若基板载置部10大型化，则狭缝喷嘴20在第二方向D2上的移动范围也变长，有时狭缝喷嘴20的前端20a相对于载置面11(水平基准L1)成为倾斜状态。另外，在图9中示出将基座12的引导部12a作为水平方向，基板载置部10(载置面11)相对于基座12从第一方向D1倾斜角度θ1，从第二方向D2倾斜角度θ2的状态，但即使是将基板载置部10(载置面11)作为水平方向，引导部12a从第一方向D1倾斜角度θ1，从第二方向D2倾斜角度θ2的情况也同样如此。

此外，虽然未图示，但若狭缝喷嘴20在第一方向D1上的移动范围变长，则有在涂布开始侧狭缝喷嘴20相对于水平基准L1的倾斜度(角度θ1)与在涂布结束侧狭缝喷嘴20相对于水平基准L2的倾斜度不同的情况。

如上所述，在图9(A)中示出载置面11相对于狭缝喷嘴20的前端20a的移动面以角度θ1倾斜的状态。具体来说，示出载置面11的第一方向D1(X方向)的一端侧(-X侧)相对于另一端侧(+X侧)向上方倾斜的状态。该情况下，狭缝喷嘴20在开始侧的高度基准H1与在结束侧的高度基准H2不同。另外，高度基准H1例如能够使用从两个开始侧检测部50得到的检测结果的平均值(参照图9(B))。同样地，高度基准H2例如能够使用从两个结束侧检测部60得到的检测结果的平均值(参照图9(B))。

如上所述，图9(B)中示出在涂布开始侧，载置面11相对于狭缝喷嘴20的前端20a以角度θ2倾斜的状态。具体来说，示出载置面11的第二方向D2(Y方向)的一端侧(-Y侧)相对于另一端侧(+Y侧)向上方倾斜的状态。该情况下，狭缝喷嘴20的+Y侧的开始侧高度H3与-Y侧的开始侧高度H4不同。以下，以狭缝喷嘴20的-Y侧的开始侧高度H4高于+Y侧的开始侧高度H3的情况为例进行说明。此外，虽然省略了图示，但在涂布结束侧也同样地，存在载置面11相对于狭缝喷嘴20的前端20a以角度θ2倾斜，狭缝喷嘴20的+Y侧的结束侧高度(参照图10的结束侧高度H5)与-Y侧的结束侧高度(参照图10的结束侧高度H6)不同的情况。以下，以狭缝喷嘴20的-Y侧的结束侧高度高于+Y侧的结束侧高度的情况为例进行说明。

教导数据生成部71根据在开始侧检测部50得到的两处位置的开始侧高度H3、H4与在结束侧检测部60得到的两处位置的结束侧高度H5、H6设定假想面。图10是示出由教导数据生成部71所设定的假想面的一例的图。如图10所示，教导数据生成部71将以两处位置的开始侧高度H3、H4与两处位置的结束侧高度H5、H6的四个高度为顶点的矩形的平面设定为假想面V。另外，根据四处位置的高度生成假想面V的方法可以应用任意的方法。如图10所示，假想面V相对于基准面L呈倾斜状态。该基准面L例如是与基板载置部10的载置面11平行的面或者一致的面。另外，在图10中示出基准面L与水平面平行。

图11是示出由教导数据生成部71所设定的假想面的另一例的图。图11是在涂布结束侧，狭缝喷嘴20的+Y侧的结束侧高度H7高于-Y侧的结束侧高度H8的情况的例子。在该情况下，控制部70将以两处位置的开始侧高度H3、H4与两处位置的结束侧高度H7、H8的四个高度为顶点的矩形的面设定为假想面VA。另外，根据四处位置的高度生成假想面VA的方法可以应用任意的方法。假想面VA在开始侧其-Y侧高于+Y侧，而在结束侧其+Y侧高于-Y侧。即，假想面VA是相对于基准面L扭曲的面。如图10所示，假想面VA不是平面而是曲面，但在第一方向D1(X方向)的任意位置处，第二方向D2(Y方向)呈直线。

在步骤S03中，教导数据生成部71以使设定的假想面V、VA与基准面L(即载置面11)平行的方式进行校正，将此时的校正量作为教导数据生成。该教导数据包含在狭缝喷嘴20的第一方向D1上各位置中，与由两个升降装置40得到的各自的升降量相关的信息。即，教导数据包含：在缝隙喷嘴20的第一方向D1上的各位置中，与使基板S与缝隙喷嘴20的间隙G成为恒定的升降装置40的升降量相关的信息；与以使狭缝喷嘴20的前端20a相对于水平基准L1、L2的角度θ1、θ2为0或几乎为0的方式、由两个升降装置40得到的各自的升降量相关的信息。

接下来，如图4所示，控制部70基于教导数据来控制移动装置30以及升降装置40(步骤S04)。如图12(A)所示，在步骤S04中，控制部70首先通过移动装置30以及升降装置40将狭缝喷嘴20配置在涂布开始位置。此时，通过距离传感器23测量基板S的上表面与狭缝喷嘴20之间的距离，将狭缝喷嘴20配置于将基板S的厚度考虑在内而得到的高度，由此能够将基板S与狭缝喷嘴20的间隙G设定为预先决定的值。

接着，如图12(B)所示，控制部70通过移动装置30使狭缝喷嘴20在第一方向D1上移动，同时通过供给装置22将涂布液Q供给至狭缝喷嘴20。此时，控制部70基于上述教导数据，根据狭缝喷嘴20的第一方向D1的位置控制升降装置40的升降量。结果，狭缝喷嘴20的前端20a沿着基准面L(即与载置面11平行的面)移动。

通过这样的控制部70的控制，以在狭缝喷嘴20的前端20a与基板S之间确保适当的间隙G的状态，使涂布液Q从前端20a的开口部对基板S排出。另外，控制部70在使狭缝喷嘴20沿第一方向D1移动的期间，基于距离传感器23的测量结果控制升降装置40，以使间隙G成为恒定。

此外，如图11所示的假想面VA这样，狭缝喷嘴20的前端20a相对于基准面L的角度在第一方向D1上的各位置处变化的情况下(即，狭缝喷嘴20的前端20a的高度在+Y侧与-Y侧不同的情况下)，控制部70根据狭缝喷嘴20的第一方向D1的位置将不同的升降量的控制信号发送至两个升降装置40(-Y侧的升降装置40与+Y侧的升降装置)。通过像这样地独立地单独控制-Y侧的升降装置40与+Y侧的升降装置，能够在狭缝喷嘴20的第一方向D1的位置处将狭缝喷嘴20设为与水平基准L1、L2平行这样的姿势(即，与载置面11平行这样的姿势)。

图13是示出开始侧检测部以及结束侧检测部的另一例的图。如图13所示，开始侧检测部50A以及结束侧检测部60A可以是能够使用非接触的传感器测量开始侧高度以及结束侧高度的构成。开始侧检测部50A以及结束侧检测部60A例如可以使用具有射出激光等测量光的未图示的发光部、以及接受由对象物(狭缝喷嘴20的前端20a)反射的测量光的受光部的光学传感器等。开始侧检测部50A以及结束侧检测部60A将检测结果发送至控制部70。通过像这样地设置开始侧检测部50A以及结束侧检测部60A，能够避免对狭缝喷嘴20的前端20a的接触。

图14是示出实施方式的涂布方法的另一例的流程图。如图14所示，在控制部70基于教导数据进行移动装置30以及升降装置40的控制的情况下，判定从教导数据生成起是否经过了规定时间(步骤S05)。在步骤S05中，规定时间例如可以是数小时，也可以是一天，或者可以是一个月。在步骤S05中判定为未经过规定时间的情况下(步骤S05为“否”)，控制部70重复进行步骤S05的处理。另一方面，在步骤S05中判定为经过了规定时间的情况下(步骤S05为“是”)，控制部70重复进行步骤S01以后的处理。

即，控制部70再次检测开始侧高度以及结束侧高度，生成教导数据。控制部70将先前的教导数据更新为新的教导数据。通过该构成，在载置面11与狭缝喷嘴20的前端20a的移动面的关系随时间的经过而变化的情况下，能够追随该变化进行控制，因此能够长时间地持续确保适当的涂布间隙。

如上所述，根据第一实施方式的涂布装置100以及涂布方法，能够在从涂布开始到涂布结束的整个期间确保基板S与狭缝喷嘴20之间的适当的间隙G。结果，能够抑制形成于基板S的薄膜的膜厚变动，防止次品的产生，防止成品率的降低。

[第二实施方式]

接下来说明本发明的第二实施方式。图15是示出第二实施方式的涂布装置200的一例的图。如图15所示，除第一实施方式的涂布装置100的构成以外，涂布装置200在基板载置部10中的第一方向D1(X方向)的中央部还具有中央侧检测部80。中央侧检测部80在基板载置部10的+Y侧以及-Y侧各配置有一个，从而沿第二方向D2(Y方向)夹着基板载置部10。另外，对于中央侧检测部80的构成，与上述的开始侧检测部以及结束侧检测部60同样地，可以是接触式或者非接触式的任一种。另外，使用涂布装置200的涂布方法与第一实施方式同样地按照图4的流程图执行。

在涂布装置200中，控制部70设定假想面时，通过开始侧检测部50检测开始侧高度(图4的步骤S01)，通过结束侧检测部60检测结束侧高度(图4的步骤S02)，并通过中央侧检测部80检测中央侧高度。控制部70获取针对涂布开始侧的检测结果即狭缝喷嘴20的+Y侧的开始侧高度H3、-Y侧的开始侧高度H4、针对涂布结束侧的检测结果即狭缝喷嘴20的+Y侧的结束侧高度H5、-Y侧的结束侧高度H6与针对涂布中央侧的检测结果即狭缝喷嘴20的+Y侧的中央侧高度H9、-Y侧的中央侧高度H10。

控制部70的教导数据生成部71基于开始侧高度H3、H4、结束侧高度H5、H6以及中央侧高度H9、H10的六处位置的高度生成假想面VB。另外，根据六处位置的高度生成假想面VB的方法可以应用任意的方法。

图16是示出第二实施方式的假想面的一例的图。如图16所示，假想面VB在-Y侧具有向下侧(-Z侧)弯曲的形状，在+Y侧具有向上侧(+Z侧)弯曲的形状。如图16所示，假想面VB为曲面，但也可以是在中央侧高度H9、H10弯曲的面。教导数据生成部71以使设定的假想面VB与基准面L(即载置面11)平行的方式进行校正，将此时的校正量作为教导数据生成(图4的步骤S03)。

控制部70基于教导数据生成部71生成的教导数据来控制移动装置30以及升降装置40。控制部70的控制与上述第一实施方式同样地，执行如图4的流程图所示的步骤S04。控制部70首先通过移动装置30以及升降装置40使狭缝喷嘴20配置在涂布开始位置。接着，控制部70以沿如图16所示的假想面VB的方式控制升降装置40，同时通过供给装置22将涂布液Q供给至狭缝喷嘴20。通过该控制，以在狭缝喷嘴20的前端20a与基板S之间确保适当的涂布间隙的状态，使涂布液Q从前端20a的开口部对基板S排出。

如上所述，根据第二实施方式的涂布装置200，能够与第一实施方式同样地在从涂布开始到涂布结束的整个期间确保适当的涂布间隙，从而抑制形成于基板S的薄膜的膜厚变动，防止次品的产生。此外，由于基于根据六处位置的高度的假想面VB来生成教导数据，因此能够高精度地校正在第二方向D2的各位置处的狭缝喷嘴20的高度以及倾斜度。

以上对实施方式进行了说明，但本发明的技术范围不限定于上述记载。此外，可在上述实施方式施加各种变更或改良对于本领域技术人员而言是显而易见的。施加了这样的变更或改良的方式也包含在本发明的技术范围内。例如，在上述第二实施方式的涂布装置200中，以在第二方向D2上的中央部分的一处位置具备中央侧检测部80的构成为例进行了说明，但并不限定于该构成。例如，也可以是在第二方向D2上的中央部分的两处位置以上具备中央侧检测部80的构成。在该构成的情况下，可以基于根据八处位置以上的高度的假想面来生成教导数据。

此外，权利要求书、说明书以及附图中示出的系统、方法、装置、程序以及记录介质中的动作、步骤等各处理的执行顺序只要不是将先前的处理的输出在之后的处理中使用，就能够以任意的顺序实现。此外，关于上述实施方式中的动作，即使为了方便使用“首先”、“接下来”、“接着”等进行了说明，但并非必须按照该顺序实施。

附图标记说明

θ1、θ2 角度

D1 第一方向

D2 第二方向

H1、H2 高度基准

L1、L2 水平基准

H3、H4 开始侧高度

H5、H6、H7、H8 结束侧高度

L 基准面

S 基板

Sa 上表面

V、VA、VB 假想面

10 基板载置部

11 载置面

12 基座

12a 引导部

13 维护区域

20 狭缝喷嘴

20a 前端

21 门型框架

21a 支柱部

21b 梁部

22 供给装置

23 距离传感器

30 移动装置

40 升降装置

50、50A 开始侧检测部

51、61 测长器

51a、61a 上表面

60、60A 结束侧检测部

70 控制部

80 中央侧检测部

100、200 涂布装置。

Claims (12)

1.一种涂布装置，具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿着所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，其特征在于，具有：

开始侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；

结束侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布结束侧中在所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；

控制部，根据在所述开始侧检测部得到的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的所述结束侧高度，生成与所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的水平基准以及高度基准相关的教导数据，基于所述教导数据来控制所述移动装置以及所述升降装置。

2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，

所述控制部根据在所述开始侧检测部得到的两处位置的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的两处位置的所述结束侧高度来设定假想面，生成所述教导数据，从而校正所述假想面相对于所述载置面的偏差，使所述狭缝喷嘴的前端在从涂布开始到涂布结束的整个期间沿着所述载置面。

3.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，

所述假想面为平面或者扭曲的面。

4.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，

在所述基板载置部的涂布开始侧与涂布结束侧之间的、在所述第二方向上分开的两处位置，设置有分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的中间位置高度的中间位置检测部，

所述控制部根据两处位置的所述开始侧高度、两处位置的所述结束侧高度以及两处位置的所述中间位置高度设定所述假想面。

5.如权利要求1～4的任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述控制部通过所述移动装置使所述基板与所述狭缝喷嘴相对地移动，在对所述基板排出涂布液的排出开始到排出结束的期间，基于所述教导数据，通过所述升降装置控制所述狭缝喷嘴相对于所述基板的高度。

6.如权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，

所述控制部通过所述升降装置控制所述狭缝喷嘴相对于所述基板的高度，以使在通过所述狭缝喷嘴向所述基板排出涂布液的排出开始到排出结束的整个期间，所述基板与所述狭缝喷嘴的前端的间隔成为恒定或几乎恒定。

7.如权利要求1～6的任一项所述的涂布装置，其特征在于，

在所述狭缝喷嘴的涂布结束侧设置有距离传感器，测量所述基板与所述狭缝喷嘴的距离，

所述控制部基于所述教导数据与来自所述距离传感器的测量结果而控制所述升降装置。

8.如权利要求1～7的任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述基板载置部设置为在俯视时呈矩形，

所述开始侧检测部以及所述结束侧检测部的一方或者双方与载置于所述载置部的所述基板的所述第二方向的两侧相对应地配置。

9.如权利要求1～8的任一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述开始侧检测部以及所述结束侧检测部的一方或者双方以相对于所述狭缝喷嘴为非接触或者接触的方式检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的高度。

10.一种涂布方法，使用涂布装置将涂布液涂布于基板，所述涂布装置具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿着所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，其特征在于，包含如下步骤：

在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；

在所述基板载置部的涂布结束侧中所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；

根据在所述开始侧检测部得到的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的所述结束侧高度，生成与所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的水平基准以及高度基准相关的教导数据，基于所述教导数据来控制所述移动装置以及所述升降装置。

11.如权利要求10所述的涂布方法，其特征在于，包含如下步骤：

在向基板涂布涂布液前，进行所述开始侧高度的检测、所述结束侧高度的检测以及所述教导数据的生成。

12.如权利要求11所述的涂布方法，其特征在于，包含如下步骤：

在从生成所述教导数据时起经过了规定时间时、或者已使用所述教导数据对规定片数的基板涂布了涂布液时，重新进行所述开始侧高度的检测、所述结束侧高度的检测以及所述教导数据的生成，将先前的所述教导数据更新为新的所述教导数据。

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