TW202112537A - 光學積層體及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即使具有異形加工部、耐裂紋性仍優異的光學積層體。本發明的光學積層體具有異形加工部，且依次具備：黏著劑層、偏光件、接著層、亮度提高薄膜、以及厚度為2.5μm以下的表面處理層。

Description

光學積層體及影像顯示裝置
發明領域
本發明涉及光學積層體及影像顯示裝置。更詳細而言，涉及一種具有經過了異形加工的部分(例如切口、開口部)的光學積層體及包含該光學積層體的影像顯示裝置。
發明背景
偏光件等光學積層體被用於手機及筆記型個人電腦(PC)等各種影像顯示裝置。根據用途，可以對光學積層體實施切口、開口部等異形加工。例如，已知在搭載有相機的影像顯示裝置中，在與相機對應的部分形成開口部(專利文獻1)。但存在以下問題：通過對光學積層體實施異形加工，在異形加工部發生應力集中，變得容易產生裂紋。
光學積層體根據用途使用各種光學薄膜。例如，出於提高影像顯示裝置的亮度之目的而使用亮度提高薄膜。亮度提高薄膜由拉伸薄膜或液晶層構成，是力學上脆弱的薄膜。因此，在包含亮度提高薄膜的光學積層體，存在由異形加工導致的裂紋產生的問題變得更顯著的問題。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2014-112238號公報
發明概要 發明要解決的課題
本發明為了解決上述現有的課題而完成，其主要目的在於，提供一種即使具有異形加工部，耐裂紋性仍優異的光學積層體。 解決問題的方法
本發明的光學積層體具有異形加工部，並依次具備：黏著劑層、偏光件、接著層、亮度提高薄膜、以及厚度為2.5μm以下的表面處理層。 在一個實施方式中，上述接著層的厚度為20μm以下。 在一個實施方式中，上述表面處理層為硬塗層。 在一個實施方式中，上述偏光件的厚度為30μm以下。 在本發明的其它方面中，提供一種影像顯示裝置，該影像顯示裝置包含上述光學積層體。 發明效果
根據本發明，可以提供一種即使具有異形加工部，耐裂紋性仍優異的光學積層體。本發明的光學積層體具有異形加工部，並依次具備：黏著劑層、偏光件、接著層、亮度提高薄膜、以及厚度為2.5μm以下的表面處理層。對於經過了異形加工的光學積層體而言，會在異形加工部發生應力集中，局部產生薄膜彎曲應力。因此，特別是存在容易在亮度提高薄膜產生裂紋的傾向。通過減薄表面處理層的厚度(更詳細而言減薄至2.5μm以下)，彎曲力矩可獲減少，加諸亮度提高薄膜的彎曲應力可緩和。因此，可以提高光學積層體的耐裂紋性。
以下，對本發明的實施方式進行說明，但本發明不限定於這些實施方式。
A. 光學積層體 圖1是本發明一個實施方式的光學積層體的示意剖面圖。圖示例的光學積層體100依次具備：黏著劑層10、偏光件20、接著層30、亮度提高薄膜40、以及厚度為2.5μm以下的表面處理層50。通過使表面處理層50的厚度為2.5μm以下，加諸亮度提高薄膜的彎曲應力被緩和，可以提供即使在具有異形加工部的情況下，耐裂紋性仍優異的光學積層體。作為表面處理層，可列舉例如：硬塗層、防反射層、防眩層(antiglare layer)等。表面處理層優選為硬塗層。另外，雖未圖示，除上述黏著劑層10、偏光件20、接著層30、亮度提高薄膜40、及表面處理層50以外，還可以進一步具備任意適當的其它層。作為其它層，可列舉偏光件等保護層。另外，在實際使用中，在直至被使用的期間，為了適當地保護黏著劑層10，以可剝離的方式暫時黏貼分離件。
圖2是本發明一個實施方式的光學積層體的示意俯視圖。本發明的光學積層體與其用途等相對應而具有任意適當的異形加工部。可列舉例如：如圖示例那樣的圓形開口部(通孔)的異形加工部11(圖2(a))、切口部(缺口)的異形加工部11(圖2(b))等。在圖示例中，僅形成1個異形加工部，但根據需要，也可以形成2個以上的異形加工部。另外，如後面所述那樣，光學積層體的形狀本身可以是異形，即光學積層體的外緣整體可以是異形加工部。
可以根據要使用的用途等將光學積層體100設計為任意適當的形狀。在一個實施方式中，可以以光學積層體的形狀本身成為異形的方式進行加工。作為光學積層體100的形狀，可列舉例如：矩形、圓形、菱形、異形等。
圖3是本發明另一實施方式的光學積層體的示意俯視圖。圖示例的光學積層體100可以適宜用於汽車的儀錶面板。光學積層體100是第一顯示部60和第二顯示部70連續設置而構成，在各顯示部的中心附近分別形成有用於固定各種儀錶針的通孔61、71。通孔的直徑例如為0.5mm~100mm。顯示部60、70的外緣形成為沿著儀錶針的旋轉方向的圓弧狀。
異形加工部可以通過任意適當的方法形成。可列舉例如：利用湯姆遜刀及尖刀(pinnacle knife)等沖裁刀、軸等的切削加工、利用切刀或雷射等的加工。異形加工部形成時的加工條件可以根據所使用的形成方法、各層的厚度等設定為任意適當的條件。
以下，對黏著劑層10、偏光件20、接著層30、亮度提高薄膜40及表面處理層50詳細地進行說明。
B. 黏著劑層 黏著劑層10的厚度可以設定為任意適當的厚度。例如為1μm~100μm左右，優選為2μm~50μm、更優選為2μm~40μm、進一步優選為5μm~35μm。
黏著劑層10可以使用任意適當的黏著劑而形成。作為黏著劑，可列舉例如：橡膠類黏著劑、丙烯酸類黏著劑、聚矽氧類黏著劑、胺基甲酸酯類黏著劑、乙烯基烷基醚類黏著劑、聚乙烯醇類黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮類黏著劑、聚丙烯醯胺類黏著劑、纖維素類黏著劑等。優選使用光學透明性優異、顯示出適度的潤濕性、凝聚性、接著性等黏著特性、且耐候性及耐熱性等優異的黏著劑。具體而言，優選使用丙烯酸類黏著劑。
黏著劑層可以通過任意適當的方法形成。可列舉例如：將上述黏著劑塗布於經過了剝離處理的分離件等並進行乾燥，從而將聚合溶劑等除去，形成黏著劑層後，進行轉印的方法；或者塗布上述黏著劑並進行乾燥，從而將聚合溶劑等除去，將黏著劑層形成於偏光件的方法等。作為經過了剝離處理的分離件，優選使用聚矽氧剝離襯。再者，塗布黏著劑時，根據需要，可以進一步添加除聚合溶劑以外的1種以上溶劑。
作為黏著劑層的形成方法(塗布方法)，可利用任意適當的方法。具體而言，可列舉例如：輥塗法、輥舐塗布法、凹版塗布法、反向塗布法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刮塗法、氣刀塗布法、淋塗法、模唇塗布法、利用模塗機等的擠出塗布法等方法。
作為使黏著劑乾燥的方法，可以根據目的使用任意適當的方法。優選使用進行加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度優選為40℃~200℃、更優選為50℃~180℃、進一步優選為70℃~170℃。通過將加熱溫度設為上述的範圍，可以形成具有優異黏著特性的黏著劑層。乾燥時間可以採用任意適當的時間。上述乾燥時間優選為5秒鐘~20分鐘、更優選為5秒鐘~10分鐘、進一步優選為10秒鐘~5分鐘。
黏著劑層10在供於實際使用之前可以用經過了剝離處理的片材(分離件)進行保護。作為分離件的構成材料，可以使用任意適當的材料，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網、發泡片材、金屬箔、及它們的層壓體等薄片物等。從表面平滑性優異方面考慮，優選塑膠薄膜。
作為塑膠薄膜，只要是可以保護黏著劑層的薄膜即可，可列舉例如：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚胺酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
可以將分離件的厚度設定為任意適當的厚度。分離件的厚度通常為5μm~200μm、優選為5μm~100μm。還可以根據需要採用聚矽氧類、氟類、長鏈烷基類或脂肪酸醯胺類的脫模劑、二氧化矽粉等對分離件進行脫模及防污處理，以及對分離件實施塗布型、混入型、蒸鍍型等的防靜電處理。通過對分離件的表面實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可以提高從黏著劑層的剝離性。
C. 偏光件 代表性地，偏光件由含有二色性物質的樹脂薄膜構成。樹脂薄膜可採用可作為偏光件使用的任意適當的樹脂薄膜。代表性地，樹脂薄膜為聚乙烯醇類樹脂(以下稱為「PVA類樹脂」)薄膜。
作為形成上述PVA類樹脂薄膜的PVA類樹脂，可採用任意適當的樹脂。例如，可列舉聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可通過將聚乙酸乙烯酯皂化而得到。乙烯-乙烯醇共聚物通過將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得到。PVA類樹脂的皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%、優選為95.0莫耳%~99.95莫耳%、進一步優選為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可以按照JIS K 6726-1994求出。通過使用這樣的皂化度的PVA類樹脂，可以得到耐久性優異的偏光件。若在皂化度過高的情況下，存在凝膠化之虞。
PVA類樹脂的平均聚合度可以根據目的適宜地選擇，其平均聚合度通常為1000~10000、優選為1200~4500、進一步優選為1500~4300。再者，平均聚合度可以按照JIS K 6726-1994求出。
作為樹脂薄膜中所含的二色性物質，可列舉例如：碘、有機染料等。它們可以單獨使用，或者組合兩種以上使用。優選使用碘。
樹脂薄膜可以為單層樹脂薄膜，也可以為兩層以上的積層體。
由單層樹脂薄膜構成的偏光件的具體例，可列舉對PVA類樹脂薄膜實施利用碘的染色處理及拉伸處理(代表性地為單向拉伸)而成的偏光件。上述利用碘的染色例如通過將PVA類樹脂薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單向拉伸的拉伸倍率優選為3~7倍。拉伸可以在染色處理後進行，也可以邊染色邊進行。另外，也可以在拉伸後進行染色。可根據需要對PVA類樹脂薄膜實施溶脹處理、交聯處理、清洗處理、乾燥處理等。例如，通過在染色前將PVA類樹脂薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可以洗去PVA類樹脂薄膜表面的汙垢及抗黏連劑，而且可以使PVA類樹脂薄膜溶脹而防止染色不均等。
作為使用積層體得到的偏光件的具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材的PVA類樹脂層(PVA類樹脂薄膜)的積層體、或者使用樹脂基材與塗布形成於該樹脂基材的PVA類樹脂層的積層體而得到的偏光件。使用樹脂基材與塗布形成於該樹脂基材的PVA類樹脂層的積層體而得到的偏光件可以通過下述方法製作：例如，將PVA類樹脂溶液塗布於樹脂基材，使其乾燥，在樹脂基材上形成PVA類樹脂層，得到樹脂基材與PVA類樹脂層的積層體；將該積層體拉伸及染色，將PVA類樹脂層製成偏光件。在本實施方式中，拉伸代表性地包括積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行拉伸。此外，拉伸根據需要可進一步包括在硼酸水溶液中的拉伸之前將積層體在高溫(例如，95℃以上)下進行空中拉伸。得到的樹脂基材/偏光件的積層體可以直接使用(即，可以將樹脂基材製成偏光件的保護薄膜)，也可以將樹脂基材從樹脂基材/偏光件的積層體剝離，在該剝離面上積層與目的相符的任意適當的保護薄膜而使用。這樣的偏光件的製造方法的詳細情況記載於例如日本特開2012-73580號公報中。可將該公報的全部記載作為參考引用至本說明書中。
偏光件優選在波長380nm~780nm中的任意波長下顯示出吸收二色性。偏光件的單體透射率優選為43.0%~46.0%、更優選為44.5%~46.0%。偏光件的偏光度優選為97.0%以上、更優選為99.0%以上、進一步優選為99.9%以上。
可以將偏光件的厚度設定為任意適當的值。代表性地，厚度為0.5μm以上且80μm以下、優選為30μm以下、更優選為25μm以下、進一步優選為18μm以下、特別優選為12μm以下、進一步特別優選小於8μm。偏光件的厚度優選為1μm以上。
D. 接著層 接著層由接著劑或黏著劑構成。作為接著劑或黏著劑，可以使用任意適當的接著劑或黏著劑。作為黏著劑，可列舉例如：橡膠類黏著劑、丙烯酸類黏著劑、聚矽氧類黏著劑、胺基甲酸酯類黏著劑、乙烯基烷基醚類黏著劑、聚乙烯醇類黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮類黏著劑、聚丙烯醯胺類黏著劑、纖維素類黏著劑等。優選使用光學透明性優異、顯示出適度的潤濕性、凝聚性、接著性等黏著特性、並且耐候性及耐熱性等優異的黏著劑。具體而言，優選使用丙烯酸類黏著劑。
作為接著劑，只要呈光學性透明即可，可以使用任意適當的接著劑。可以使用例如：溶劑類、熱熔類、活性能量射線硬化型等各種形態的接著劑。優選使用活性能量射線硬化型接著劑。
接著層的厚度優選為20μm以下、更優選為18μm以下、進一步優選為12μm以下。接著層的厚度優選為2μm以上。通過使接著層的厚度為這樣的範圍，可以良好地保持偏光件與亮度提高薄膜的積層狀態。另外，可以進一步緩和對亮度提高薄膜施加的彎曲應力。
構成這樣的接著層的黏著劑的詳細情況公開於例如日本特開2008-46147號公報。將該公報的整體記載作為參考援用於本說明書。
E. 亮度提高薄膜 亮度提高薄膜是將偏光分離而實現亮度提高的薄膜，可以是直線偏光分離型，也可以是圓偏光分離型。作為亮度提高薄膜，可列舉由拉伸薄膜構成的薄膜、由液晶層構成的薄膜等。亮度提高薄膜具有下述功能：在自然光(例如來自影像顯示裝置的背光源的光)入射時，將該光分離成2個偏光成分，使預定偏光軸的直線偏光或預定方向的圓偏光透過，並使不透過的偏光反射的功能。藉由使不透過的偏光經由反射板等，使消除了偏光後的光再入射至亮度提高薄膜，從而可以提高預定的偏光的利用效率。以下，作為一例，對直線偏光分離型亮度提高薄膜(反射型偏光件)進行說明。
直線偏光分離型亮度提高薄膜具有下述功能：將入射的光分離成正交的二個偏光成分，使一個偏光成分透射，並使另一個偏光成分反射。圖4是直線偏光分離型亮度提高薄膜的一例的示意立體圖。圖示例的直線偏光分離型亮度提高薄膜是具有雙折射性的層A與實質上不具有雙折射性的層B交替積層而成的多層積層體。這樣的多層積層體的總層數例如可以是50~1000。在圖示例中，A層的x軸方向的折射率nx大於y軸方向的折射率ny，B層的x軸方向的折射率nx與y軸方向的折射率ny實質上相同。因此，A層與B層的折射率差在x軸方向上大，在y軸方向上實質上為零。其結果，x軸方向成為反射軸，y軸方向成為透射軸。A層與B層在x軸方向上的折射率差優選為0.2~0.3。再者，x軸方向與亮度提高薄膜的拉伸方向對應。
上述A層優選由通過拉伸而表現出雙折射性的材料構成。作為這樣的材料的代表例，可列舉聚萘二甲酸酯(例如聚萘二甲酸乙二醇酯)、聚碳酸酯及丙烯酸類樹脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯)，優選聚萘二甲酸乙二醇酯。上述B層優選由即使拉伸也實質上不表現出雙折射性的材料構成。作為這樣的材料的代表例，可列舉萘二甲酸與對苯二甲酸的共聚酯。
直線偏光分離型亮度提高薄膜在A層與B層的界面使具有第一偏光方向的光(例如p波)透過，並使具有與第一偏光方向正交的第二偏光方向的光(例如s波)反射。對於反射後的光而言，在A層與B層的界面，一部分以具有第一偏光方向的光的形式透過，一部分以具有第二偏光方向的光的形式反射。在亮度提高薄膜的內部多次重複這樣的反射及透射，從而可以提高光的利用效率。
在一個實施方式中，直線偏光分離型亮度提高薄膜如圖4所示那樣，可以包含反射層R作為與偏光件相反側的最外層。通過設置反射層R，最終可以進一步利用未被利用而返回至亮度提高薄膜最外部的光，因此，可以進一步提高光的利用效率。代表性地，反射層R通過聚酯樹脂層的多層結構表現反射功能。
代表性地，直線偏光分離型亮度提高薄膜可以將共擠出與橫向拉伸組合而製作。共擠出可以以任意適當的方式進行。例如，可以是進料塊方式，也可以是多歧管方式。例如，在進料塊中，將構成A層的材料與構成B層的材料擠出，接下來，使用倍增器進行多層化。再者，這樣的多層化裝置對於本技術領域中具備通常知識者而言是公知的。接下來，代表性地，將得到的長條狀多層積層體在與運送方向正交的方向(TD)拉伸。對於構成A層的材料(例如聚萘二甲酸乙二醇酯)而言，通過該橫向拉伸，僅在拉伸方向上的折射率增大，結果表現出雙折射性。對於構成B層的材料(例如萘二甲酸與對苯二甲酸的共聚酯)而言，通過該橫向拉伸，折射率在任意方向上均不增大。結果可以得到在拉伸方向(TD)上具有反射軸、在運送方向(MD)上具有透射軸的亮度提高薄膜(反射型偏光件)(TD與圖4的x軸方向對應，MD與y軸方向對應)。再者，拉伸操作可以使用任意適當的裝置來進行。
作為亮度提高薄膜，可以使用例如日本特表平9-507308號公報中記載的亮度提高薄膜。亮度提高薄膜可以直接使用市售品，也可以對市售品進行2次加工(例如拉伸)後使用。作為市售品，可列舉例如：日東電工(股)製造的商品名APCF、3M公司製造的商品名DBEF、3M公司製造的商品名APF。
F. 表面處理層 表面處理層50，可根據光學積層體的用途形成任意適當的表面處理層。表面處理層的厚度為2.5μm以下、優選為2μm以下、更優選為1.5μm以下，另外，表面處理層的厚度優選為0.5μm以上。藉由將表面處理層的厚度設為上述範圍，即使在進行了異形加工的情況下，仍可以減少對光學積層體的彎曲力矩。因此，可以緩和對光學積層體中所包含的亮度提高薄膜的彎曲應力，提高光學積層體的耐裂紋性(更詳細而言是亮度提高薄膜的耐裂紋性)。
作為表面處理層，可列舉例如：硬塗層、防反射層、防眩層(antiglare layer)等。優選表面處理層為硬塗層。硬塗層為硬度高的層，因此，可以產生更大的彎曲應力。通過使表面處理層的厚度為2.5μm以下，即使在將表面處理層設為硬塗層的情況下，光學積層體的耐裂紋性仍可獲提高。此外，還可以提高表面處理層本身的耐裂紋性。
硬塗層優選為任意適當的紫外線硬化樹脂的硬化層。作為紫外線硬化樹脂，可列舉例如：丙烯酸類樹脂、聚矽氧類樹脂、聚酯類樹脂、胺基甲酸酯類樹脂、醯胺類樹脂、環氧類樹脂等。根據需要，硬塗層可以含有任意適當的添加劑。作為該添加劑的代表例，可列舉無機類微粒及/或有機類微粒。通過含有微粒，例如可以具備適當的折射率。
代表性地，硬塗層可在預先對基材施行硬塗處理而製成積層體的狀態下供於光學積層體。基材可以採用任意適當的樹脂薄膜。作為構成樹脂薄膜的樹脂，代表性地可列舉聚酯類樹脂、纖維素類樹脂、聚碳酸酯類樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂等。再者，在本說明書中，「(甲基)丙烯酸類樹脂」是指丙烯酸類樹脂及/或甲基丙烯酸類樹脂。
G. 其它層 光學積層體除上述黏著劑層、偏光件、接著層、亮度提高薄膜及表面處理層以外，可以包含任意適當的其它層。可舉出例如保護層。作為保護層的形成材料，可列舉例如：二乙酸纖維素、三乙酸纖維素等纖維素類樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂、環烯烴類樹脂、聚丙烯等烯烴類樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯類樹脂等酯類樹脂、聚醯胺類樹脂、聚碳酸酯類樹脂、它們的共聚物樹脂等。
保護層的厚度優選為10μm~100μm。代表性地，保護薄膜通過任意的接著層(具體為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光件。接著劑層代表性地由PVA類接著劑、活性化能量線硬化型接著劑形成。黏著劑層代表性地由丙烯酸類黏著劑形成。
H. 影像顯示裝置 本發明的影像顯示裝置具備上述光學積層體。作為影像顯示裝置，可列舉例如：液晶顯示裝置、有機EL元件。在影像顯示裝置中，優選將上述光學積層體配置於背光源側。如上所述，本發明的光學積層體即使在進行了異形加工的情況下，耐裂紋性仍優異。因此，還可以適宜用於以汽車的儀錶面板及智慧手錶為代表的具有異形影像顯示部的影像顯示裝置。 實施例
以下，通過實施例對本發明具體地進行說明，但本發明不受這些實施例的限定。
[製造例1]偏光件的製作 作為基材，使用了長條狀、且吸水率為0.75%、Tg為75℃的非晶性間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)。對基材的單面實施電暈處理，並對該電暈處理面於25℃下塗布以9:1的比例包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙酸改性PVA(聚合度1200、乙醯乙酸改性度4.6%、皂化度99.0莫耳%以上、日本合成化學工業(股)製、商品名「 GOHSEFIMER Z200」)的水溶液並進行乾燥，形成了厚度11μm的PVA類樹脂層，製作了積層體。 將所得到的積層體於120℃的烘箱內、在圓周速度不同的輥間進行了朝縱向(長度方向)拉伸至2.0倍的自由端單向拉伸(空中輔助拉伸)。 接著，將積層體在液溫30℃的不溶化浴(相對於水100重量份配合硼酸4重量份而得到的硼酸水溶液)中浸漬了30秒鐘(不溶化處理)。 接著，使其浸漬在液溫30℃的染色浴中並同時調整碘濃度、浸漬時間，以使偏光板達到預定透射率。在本實施例中，使其在相對於水100重量份摻混碘0.2重量份、並摻混碘化鉀1.5重量份而得到的碘水溶液中浸漬了60秒鐘(染色處理)。 接著，在液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀3重量份、並摻混硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸漬了30秒鐘(交聯處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於水100重量份摻混硼酸4重量份、並摻混碘化鉀5重量份而得到的水溶液)中，同時在圓周速度不同的輥間朝著縱向(長度方向)以使總拉伸倍率達到5.5倍的方式進行了單向拉伸(水溶液中拉伸)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的清洗浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀4重量份而得到的水溶液)中(清洗處理)。 接著，在上述積層體的PVA類樹脂層的表面以使硬化後的接著劑層的厚度達到0.5μm的方式塗布紫外線硬化型接著劑，並貼合保護薄膜(厚度20μm、TAC薄膜)。接下來，照射作為活性能量射線的紫外線，使接著劑硬化，得到了總厚25.5μm的偏光板(偏光件(透射率42.3%、厚度5μm)/保護薄膜)。
[製造例2]接著層形成組成物的製備 在具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷凝器的4頸燒瓶中，加入丙烯酸丁酯91份、N-丙烯醯基嗎啉6份、丙烯酸2.7份、丙烯酸2-羥基丁酯0.3份、作為聚合引發劑的2,2’-偶氮二異丁腈0.1重量份、乙酸乙酯200重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，進行了氮氣取代。接下來，邊將燒瓶內的液溫保持為55℃附近，邊進行8小時的聚合反應，製備了丙烯酸類聚合物溶液，丙烯酸類聚合物的重量平均分子量為220萬。
[製造例3]硬塗層形成組成物的製備 在丙烯酸類樹脂原料(大日本印墨(股)製、商品名：GRANDIC PC1071)中添加流平劑0.5重量%，進一步以使固體成分濃度成為50重量%的方式用乙酸乙酯進行稀釋，製備了硬塗層形成用的塗敷溶液。再者，流平劑是以二甲基矽氧烷：羥基丙基矽氧烷：6-異氰酸己基異氰脲酸酯：脂肪族聚酯＝6.3:1.0:2.2:1.0的莫耳比共聚而成的共聚物。
[製造例4]黏著劑組成物的製備 在具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷凝器的4頸燒瓶中，加入丙烯酸丁酯100重量份、丙烯酸5重量份、丙烯酸2-羥基丁酯0.1重量份、作為聚合引發劑的2,2’-偶氮二異丁腈0.1重量份、乙酸乙酯200重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，進行了氮氣取代。接下來，將燒瓶內的液溫保持為55℃附近，進行8小時的聚合反應，製備了丙烯酸類聚合物溶液，丙烯酸類聚合物的重量平均分子量為192萬。相對於得到的丙烯酸類聚合物溶液的固體成分100份，摻混作為交聯劑的由甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物構成的聚異氰酸酯類交聯劑(日本聚胺基甲酸酯工業(股)製、Coronate L)0.6重量份，製備了丙烯酸類黏著劑溶液。
[實施例1] 將製造例4中得到的黏著劑組成物以厚度達到20μm的方式塗布於施行了聚矽氧處理後的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(三菱化學聚酯薄膜(股)製、厚度：38μm)的一面，在130℃下乾燥3分鐘，形成了黏著劑層。將形成的黏著劑層轉印至製造例1中得到的偏光板的偏光件側表面。 在亮度提高薄膜(3M公司製、產品名「APF V4」、厚度：16μm)上，以乾燥後的厚度達到0.5μm的方式塗布製造例3中得到的硬塗層形成組成物，形成了硬塗層。 將形成了黏著劑層後的偏光板的保護薄膜側表面、和形成了硬塗層後的亮度提高薄膜的亮度提高薄膜側表面通過塗布了表1所記載的各厚度的製造例2中得到的接著層形成組成物而進行貼合，得到了積層體。 對於得到的積層體進行立銑(Endmill)加工，在積層體上形成如圖5的下部(倒U字部)所示的曲率半徑R1 為2.5mm、長度W1 為5mm、及最大深度D為6.5mm的缺口部，得到了具有異形加工部光學積層體。再者，使偏光件的吸收軸與光學積層體的長邊L平行。
[實施例2~8] 以硬塗層的厚度達到表1中記載的厚度的方式塗布硬塗層形成組成物，除此以外，與實施例1同樣地得到了具有異形加工部光學積層體。
(比較例1~2) 以硬塗層的厚度達到表1中記載的厚度的方式塗布硬塗層形成組成物，除此以外，與實施例1同樣地得到了具有異形加工部光學積層體。
使用實施例1~8及比較例1~2中得到的光學積層體，進行了以下的評價，將結果示於表1。 (耐裂紋性評價) 使用實施例及比較例中得到的光學積層體，在冷熱衝擊裝置(Espec(股)製、產品名：TSA-303EL-W)內進行了100次加熱循環試驗。加熱循環將從-40℃用30分鐘升溫至85℃、並在庫內達到85℃的時刻用30分鐘冷卻至-40℃的循環作為1個循環。通過肉眼確認100個循環的加熱循環試驗後異形加工部中的裂紋的有無，在可確認到裂紋的情況下，使用光學顯微鏡測定裂紋的長度。在可確認到多條裂紋的情況下，將最大的裂紋的長度作為裂紋長度。 按照以下的基準對各光學積層體進行了評價。 5：光學積層體中的各層均沒有裂紋 4：光學積層體中的任意層有小於100μm的裂紋 3：光學積層體中的任意層有100μm以上且小於200μm的裂紋 2：光學積層體中的任意層有200μm以上且小於300μm的裂紋 1：光學積層體中的任意層有超過300μm的裂紋
[表1]
Figure 02_image001
在實施例1~8的光學積層體中，確認到即使在100個循環的加熱循環試驗後，光學積層體也沒有裂紋，耐裂紋性優異。 產業上可利用性
本發明的光學積層體可以適宜用於液晶顯示裝置、有機EL元件等影像顯示裝置。本發明的光學積層體也可以適宜用於以汽車的儀錶面板及智慧手錶為代表的具有異形影像顯示部的影像顯示裝置。
10:黏著劑層 11:異形加工部 20:偏光件 30:接著層 40:亮度提高薄膜 50:表面處理層 60、70:顯示部 61、71:通孔 100:光學積層體
圖1是本發明一個實施方式的光學積層體的示意剖面圖。 圖2是本發明一個實施方式的光學積層體的示意俯視圖，圖2(a)是具有圓形開口部作為異形加工部的光學積層體的示意俯視圖，圖2(b)是具有切口部作為異形加工部的光學積層體的示意俯視圖。 圖3是本發明其它實施方式的光學積層體的示意俯視圖。 圖4是可用於本發明光學積層體的直線偏光分離型亮度提高薄膜的一例的示意立體圖。 圖5是對實施例中製作的具有異形加工部的光學積層體的異形加工部進行說明的示意俯視圖。
10:黏著劑層
20:偏光件
30:接著層
40:亮度提高薄膜
50:表面處理層
100:光學積層體

Claims (5)

  1. 一種光學積層體，具有異形加工部， 且依次具備：黏著劑層、偏光件、接著層、亮度提高薄膜、以及厚度為2.5μm以下的表面處理層。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中前述接著層的厚度為20μm以下。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中前述表面處理層為硬塗層。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學積層體，其中前述偏光件的厚度為30μm以下。
  5. 一種影像顯示裝置，包含如請求項1至4中任一項之光學積層體。
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