TW202041496A - 親水化處理劑組合物 - Google Patents

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Abstract

本發明之親水化處理劑組合物係含有(A)分支型陰離子界面活性劑、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、及水者，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。

Description

親水化處理劑組合物
本發明係關於一種親水化處理劑組合物、及固體表面之親水化方法。
先前，作為對固體表面賦予防污性或脫污性之方法，已知有撥水化處理與親水化處理不同之方法。 撥水化處理係進行使玻璃、金屬、纖維等之固體表面具有撥水性之表面處理，不使水中所含之污垢附著之技術。例如，業界廣泛地進行有於洗滌衣物後，利用柔順劑進行處理，或向滑雪服等噴霧撥水劑而使之具有防水效果，或對汽車之塗裝面進行打蠟之操作。 然而，於撥水化處理中，難以使表面完全撥水化，因屢次與水接觸，水中所含之污垢累積於固體表面，故而難以發揮出充分之防污效果，亦有可能產生所附著之污垢不易脫落之脫污效果的降低。
另一方面，若進行固體表面之親水化處理、即，降低固體表面對於水之接觸角，使固體表面容易對水潤濕之處理，則於該處理後附著於固體表面之污垢於洗淨時容易脫落，或可期待防止污垢之再污染之效果，此外可期待賦予玻璃、鏡子等之防霧效果、防靜電、防止熱交換器之鋁鰭片之結霜、浴缸及盥洗室表面等之防污性、脫污性等。
作為固體表面之親水化處理劑及方法，已提出有若干。 例如，於日本專利特開2001-181601號公報中揭示有一種水性防污組合物，其含有兩性高分子電解質。於日本專利特表2006-514150號公報中揭示有一種洗淨用或沖洗用之組合物，其含有界面活性劑及特定之聚甜菜鹼。於日本專利特開2012-25820號公報中揭示有一種親水化處理劑組合物，其含有使具有特定之甜菜鹼結構之聚合性不飽和單體與特定之聚合性不飽和單體進行共聚而獲得之丙烯酸系樹脂、親水性交聯聚合物粒子及交聯劑。於日本專利特表2009-545642號公報中揭示有一種方法，其包括將包含兩親媒性嵌段共聚物之組合物應用於支持體之階段，且兩親媒性嵌段共聚物對含有特定結構之親水性嵌段與由乙烯性不飽和疏水性單體形成之疏水性嵌段的疏水性支持體之濕潤性/親水性進行改良。於日本專利特開2015-105313號公報中揭示有一種包含如下嵌段聚合物A之親水化處理劑，該嵌段聚合物A具有源自包含源自疏水性不飽和單體之重複單元之不飽和單體的聚合物片段A-1、及源自包含源自具有磺基甜菜鹼基之不飽和單體之重複單元之不飽和單體的聚合物片段A-2，且聚合物片段A-1之含量為0.05質量%以上且75質量%以下。於日本專利特開2017-190381號公報中揭示有一種包含如下共聚物之表面處理劑，該共聚物包含具有甜菜鹼基之特定之結構單元(A)及具有陽離子基之特定之結構單元(B)。於日本專利特開2018-66102號公報中揭示有一種包含碳數17以上且24以下之內部烯烴磺酸鹽之纖維用改質劑及含有其之纖維製品用加工劑組合物。
另一方面，業界進行於包含可用於洗髮精、身體、衣料等之洗淨之界面活性劑之組合物中，組合陰離子界面活性劑與陽離子界面活性劑而進行調配之操作。於日本專利特開平3-184908號公報中揭示有一種洗髮精組合物，其含有特定之1-羥基-2-吡啶酮化合物、陰離子界面活性劑、含四級氮之陽離子性化合物及水難溶性油分。於日本專利特表2005-508400號公報中揭示有一種界面活性劑系統，其包含陰離子性界面活性劑、特定之陽離子性化合物、及非離子性界面活性劑。於日本專利特表2005-518389號公報中揭示有一種水性自由流動性組合物，其係包含(a)包含烷基硫酸鹽或烷基醚硫酸鹽而成之至少1種陰離子界面活性劑；(b)包含具有選自由烴及氫所組成之群中之4個取代基，且該等取代基之至少1個為烴之四級銨化合物而成之至少1種陽離子界面活性劑；以及(c)水而成者，且上述至少1種陰離子界面活性劑與上述至少1種陽離子界面活性劑以如上述組合物於至少1次之冷凍/解凍循環中具有非牛頓剪切減黏性及穩定之黏度之合計量存在。
於固體表面之親水化處理中，期待可獲得優異之親水化能力，並且處理後之固體表面之加工性良好。例如，包含玻璃等透明之材質之固體表面期待可不損害透明性而進行親水化處理。
本發明提供一種對硬質表面等各種固體表面，發揮優異之親水化能力，且不損及親水化處理後之固體表面之狀態之親水化處理劑組合物及固體表面之親水化方法。
本發明係關於一種親水化處理劑組合物，其係含有(A)分支型陰離子界面活性劑、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、及水者，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
又，本發明係關於一種固體表面之親水化方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)分支型陰離子界面活性劑、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、及水，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
以下，將(A)分支型陰離子界面活性劑設為(A)成分，將(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑設為(B)成分而進行說明。
根據本發明，提供一種對硬質表面等各種固體表面，發揮優異之親水化能力，且不損及親水化處理後之固體表面之狀態之親水化處理劑組合物及固體表面之親水化方法。
[親水化處理劑組合物] (A)成分為分支型陰離子界面活性劑。分支型陰離子界面活性劑係作為疏水性部分之烴基具有分支結構之陰離子界面活性劑。再者，於本發明中，可設為陰離子性界面活性劑係於具有鍵結於作為親水性部分之陰離子基之碳原子為二級或三級碳原子之烴基之情形時亦具有分支結構的陰離子界面活性劑。
作為(A)成分，可列舉具有碳數10以上且30以下之支鏈烴基之陰離子界面活性劑。 作為(A)成分，可列舉具有碳數10以上且30以下之支鏈烴基與硫酸酯基或磺酸基之陰離子界面活性劑。 上述支鏈烴基可包含羥基等取代基或COO基等連結基。取代基或連結基之碳數未算入至上述支鏈烴基之碳數中。 硫酸酯基及磺酸基亦可成為鹽例如鹼金屬鹽、鹼土金屬鹽、銨鹽、胺鹽。
關於(A)成分之支鏈烴基之碳數，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為10以上，更佳為16以上，進而較佳為18以上，並且較佳為30以下，更佳為28以下，進而較佳為24以下，更佳為22以下。 作為(A)成分之支鏈烴基，可列舉：支鏈烷基、支鏈烯基、具有支鏈烷基之芳基。
作為(A)成分，可列舉下述通式(A)所表示之陰離子界面活性劑。
[化1]
Figure 02_image001
[式中，R1a 、R2a 分別獨立地表示可包含取代基或連結基之碳數1以上且28以下之烴基；X表示選自SO3 M、COOM、及OSO3 M中之基；M表示抗衡離子]
式(A)中，R1a 、R2a 之烴基可列舉：烷基、烯基、芳基。就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為烷基或烯基。 R1a 、R2a 之烴基可包含羥基等取代基或COO基等連結基。 關於R1a 與R2a 之碳數之合計，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為9以上，更佳為15以上，進而較佳為17以上，並且較佳為29以下，更佳為27以下，進而較佳為23以下，更佳為21以下。再者，取代基或連結基之碳數未算入至R1a 、R2a 之烴基之碳數中。 式(A)中，X較佳為SO3 M。 式(A)中，M可列舉：鹼金屬離子、鹼土金屬(1/2原子)離子、銨離子或有機銨離子。M較佳為鹼金屬離子，更佳為鈉離子、鉀離子，進而較佳為鉀離子。
作為(A)成分，可列舉選自內部烯烴磺酸鹽(IOS)、二級烷烴磺酸鹽(SAS)、及二烷基磺基琥珀酸鹽(DASS)中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。
就固體表面例如硬質表面之親水化之觀點而言，(A)成分較佳為IOS。IOS之碳數較佳為10以上，進而較佳為16以上，進而較佳為18以上，並且較佳為30以下，進而較佳為28以下，進而較佳為24以下，進而較佳為22以下。該碳數為酸型化合物換算之碳數。作為IOS之鹽，就固體表面之親水化之觀點而言，可列舉：鹼金屬鹽、鹼土金屬(1/2原子)鹽、銨鹽或有機銨鹽。作為鹼金屬鹽，可列舉鈉鹽、鉀鹽。作為鹼土金屬鹽，可列舉鈣鹽、鎂鹽。作為有機銨鹽，可列舉碳數2以上且6以下之烷醇銨鹽。IOS之鹽較佳為鹼金屬鹽，更佳為鉀鹽。
本發明之IOS可藉由使雙鍵位於烯烴鏈之內部(2位以上之位置)之內部烯烴磺化、中和、及水解等而獲得。若使內部烯烴磺化，則定量地生成β-磺內酯，β-磺內酯之一部分變為γ-磺內酯、烯烴磺酸，進而該等於中和、水解步驟中轉換為羥基烷烴磺酸鹽(H體)與烯烴磺酸鹽(O體)(例如J. Am. Oil Chem. Soc. 69, 39 (1992))。IOS為該等之混合物，其主體為磺酸基存在於碳鏈(H體中之羥基烷烴鏈、或O體中之烯烴鏈)之內部(2位以上之位置)之磺酸鹽。IOS之碳鏈中之磺酸基之取代位置分佈可藉由氣相層析法、核磁共振光譜等方法進行定量。
IOS中，關於磺酸基存在於上述碳鏈之2位之IOS之比率，以莫耳基準或質量基準計，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為5%以上，更佳為10%以上，並且較佳為45%以下，更佳為30%以下。
IOS中，關於磺酸基存在於上述碳鏈之1位之IOS之比率，以莫耳基準或質量基準計，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為0.2%以上，更佳為0.5%以上，進而較佳為1.0%以上，並且較佳為20%以下，更佳為10%以下，進而較佳為5%以下，更佳為3%以下。
本發明之親水化處理劑組合物更佳為含有碳數18以上且22以下之IOS作為(A)成分。
IOS中，關於碳數16以上且24以下之IOS之比率，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上，進而較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上，更佳為97質量%以上，並且較佳為100質量%以下，亦可為100質量%。
IOS中，關於H體與O體之莫耳比(H體/O體)，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為超過50/50，更佳為超過70/30，並且較佳為95/5以下，更佳為90/10以下。
SAS具有鍵結於作為親水性部分之磺酸基之碳原子為二級碳原子之烴基。關於SAS之該烴基之碳數，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為10以上，更佳為12以上，並且較佳為22以下，更佳為20以下。
DASS之烷基較佳為支鏈烷基。DASS包含2個烷基，關於各烷基之碳數，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為6以上，更佳為8以上，並且較佳為18以下，更佳為16以下。DASS包含2個COO基，其碳數未算入至DASS所具有之分支結構之碳數中。
作為(A)成分，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為選自碳數10以上且30以下之內部烯烴磺酸鹽、碳數10以上且22以下之二級烷烴磺酸鹽及烷基之碳數分別為6以上且18以下之二烷基磺基琥珀酸鹽中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑，更佳為選自碳數10以上且30以下之內部烯烴磺酸鹽中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。
本發明之親水化處理劑組合物中，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為含有(A)成分0.001質量%以上，更佳為含有0.005質量%以上，進而較佳為含有0.01質量%以上，並且較佳為含有60質量%以下，更佳為含有40質量%以下，進而較佳為含有25質量%以下，更佳為含有10質量%以下，更佳為含有5質量%以下。再者，(A)成分之質量%係設為基於陰離子基換算成未中和之化合物、即酸型化合物所得之量者(以下同樣)。
(B)成分為二長鏈烴型陽離子界面活性劑。二長鏈烴型陽離子界面活性劑可為於1分子中，具有2個長鏈烴基之陽離子界面活性劑。(B)成分較佳為具有包含2個長鏈烴基之疏水基與1個親水基之陽離子界面活性劑。(B)成分之長鏈烴基之碳數較佳為6以上且14以下。
作為(B)成分，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，可列舉具有2個碳數6以上且14以下之烴基之陽離子界面活性劑。 作為(B)成分，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，可列舉具有2個碳數6以上且14以下之烴基[以下，亦稱為長鏈烴基(B)]之四級銨鹽型陽離子界面活性劑。 作為上述長鏈烴基 (B)，可列舉：碳數6以上且14以下之脂肪族烴基[以下，亦稱為脂肪族烴基(B1)]、碳數6以上且14以下之芳香族烴基[以下，亦稱為芳香族烴基(B2)]。
脂肪族烴基(B1)較佳為直鏈。作為脂肪族烴基(B1)，可列舉烷基、烯基。烷基、烯基較佳為直鏈。就固體表面之加工性之觀點而言，脂肪族烴基(B1)之碳數之上限值較佳為12以下，更佳為10以下，進而較佳為8以下。脂肪族烴基(B1)之碳數較佳為8。
作為芳香族烴基(B2)，可列舉芳烷基、芳基。作為芳烷基，可列舉苄基、苯乙基，較佳為苄基。芳基可為取代芳基。於取代芳基之取代基為烴基之情形時，其碳數算入至芳基之碳數中。作為芳基，可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基。就固體表面之加工性之觀點而言，芳香族烴基(B2)之碳數之上限值較佳為12以下，更佳為10以下，進而較佳為8以下。芳香族烴基(B2)之碳數較佳為7或8，更佳為7。
作為長鏈烴基(B)，較佳係選自烷基、烯基、及芳烷基中之基。
作為(B)成分，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為具有2個選自碳數6以上且14以下之烷基、碳數6以上且14以下之烯基、及碳數6以上且14以下之芳烷基中之基之四級銨鹽。 作為(B)成分，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，更佳為具有2個選自碳數6以上且14以下之烷基、碳數6以上且14以下之烯基、及碳數6以上且14以下之芳烷基中之基，且具有至少1個碳數6以上且14以下之烷基、進而直鏈烷基之四級銨鹽。
作為(B)，較佳為下述通式(B)所表示之陽離子界面活性劑。
[化2]
Figure 02_image003
[式中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，2個為碳數6以上且14以下之烴基，剩餘之2個為碳數1以上且3以下之烴基；X- 為抗衡離子]
通式(B)中，作為R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 中之2個之碳數6以上且14以下之烴基為長鏈烴基(B)，具體之基或較佳之態樣如上所述。通式(B)中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，較佳為至少1個為碳數6以上且14以下之烷基、進而直鏈烷基。 通式(B)中，作為R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 中之剩餘之2個之碳數1以上且3以下之烴基可列舉烷基，較佳為甲基。 通式(B)中，X- 為抗衡離子，具體而言，可列舉選自碳數1以上且3以下之烷基硫酸根離子、硫酸根離子、磷酸根離子、碳數1以上且3以下之脂肪酸根離子、及鹵化物離子中之1種以上之抗衡離子。該等之中，就製造之容易性及原料獲取容易性之觀點而言，較佳為選自碳數1以上且3以下之烷基硫酸根離子、硫酸根離子、及鹵化物離子中之1種以上，更佳為鹵化物離子。作為鹵化物離子，可列舉：氟化物離子、氯化物離子、溴化物離子、及碘化物離子。
關於本發明之親水化處理劑組合物，就固體表面之親水化之觀點而言，(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上，較佳為0.2以上，更佳為0.3以上，並且就同樣之觀點而言，為0.8以下，較佳為0.7以下，更佳為0.6以下，進而較佳為0.5以下，更佳為0.4以下。再者，於(B)/[(A)＋(B)]之莫耳比中，(A)成分之莫耳數係設為基於陰離子基換算成未中和之化合物、即酸型化合物所得之量者。
就固體表面之親水化之觀點而言，本發明之親水化處理劑組合物較佳為含有(C)多價金屬離子[以下，稱為(C)成分]。 (C)成分之多價金屬離子可列舉二價以上且三價以下之金屬離子，較佳為二價金屬離子。 就與(A)成分之共存下之固體表面之親水化之觀點而言，(C)成分較佳為2族元素之離子，更佳為選自鈣(Ca)離子及鎂(Mg)離子中之1種以上。(C)成分較佳為包含Ca離子。(C)成分更佳為包含Ca離子與Mg離子。於(C)成分包含Ca離子與Mg離子之情形時，Ca離子/Mg離子之莫耳比較佳為5/5以上，更佳為7/3以上，並且較佳為9/1以下。
本發明包含一種親水化處理劑組合物，其係含有(A)分支型陰離子界面活性劑[(A)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、(C1)選自Ca離子及Mg離子中之1種以上之離子[以下，稱為(C1)成分]、以及水者，就固體表面之親水化之觀點而言，(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，(A)成分與(C1)成分之莫耳比以(C1)/(A)計為0.2以上且10以下。本說明書之記載可將(C)成分置換成(C1)成分，亦全部應用於該親水化處理劑組合物。 本發明包含一種親水化處理劑組合物，其係含有(A1)IOS[以下，稱為(A1)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、(C1)選自Ca離子及Mg離子中之1種以上之離子[以下，稱為(C1)成分]、以及水者，就固體表面之親水化之觀點而言，(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，(A1)成分與(C1)成分之莫耳比以(C1)/(A1)計為0.2以上且10以下。 本說明書之記載可將(A)成分置換成(A1)成分，又，將(C)成分置換成(C1)成分，亦全部應用於該等親水化處理劑組合物。
(C)成分例如可為藉由使用水溶性之多價金屬鹽作為調配成分而導入至本發明之親水化處理劑組合物中者。又，作為組合物之原料，亦可為藉由使用包含相當於(C)成分之硬度成分之水，而導入至本發明之親水化處理劑組合物中者。
於本發明之親水化處理劑組合物含有(C)成分之情形時，關於(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比，以(C)/[(A)＋(B)]計，就固體表面之親水化之觀點而言，較佳為0.2以上，更佳為0.3以上，進而較佳為0.4以上，並且就固體表面之加工性之觀點而言，較佳為4以下，更佳為3以下，進而較佳為2以下。再者，於(C)/[(A)＋(B)]之莫耳比中，(A)成分之莫耳數係設為基於陰離子基換算成未中和之化合物、即酸型化合物所得之量者。
本發明之親水化處理劑組合物除(A)成分、(B)成分以外，可含有(A)成分以外之陰離子界面活性劑、非離子界面活性劑、兩性界面活性劑、溶劑、油劑等作為(C)成分以外之進一步之任意成分。作為上述溶劑，可列舉：丁二醇、二丙二醇、乙醇等。作為上述油劑，可列舉苯二醇、苄醇等。
本發明之親水化處理劑組合物含有水。水通常為組合物之剩餘部分，係以如將整體設為100質量%之量含有。本發明之親水化處理劑組合物較佳為液體組合物。
關於本發明之親水化處理劑組合物於20℃下之pH值，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為3以上，更佳為4以上，進而較佳為5以上，並且較佳為12以下，更佳為10以下，進而較佳為9以下。
關於本發明之親水化處理劑組合物於20℃下之黏度，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為1 mPa・s以上，更佳為2 mPa・s以上，並且較佳為10000 mPa・s以下，更佳為5000 mPa・s以下。該黏度可使用B型黏度計(東機產業股份有限公司製造、「TVB-10M」)，以與黏度相應之轉子及轉速進行測定。關於黏度較低，無法利用B型黏度計進行測定之組合物，可使用流變儀(Anton Paar公司製造、「Physica MCR301」，利用與黏度相應之錐板進行測定。
本發明之親水化處理劑組合物可將硬質表面、布表面、皮膚表面、毛髮表面等各種固體表面作為對象。本發明之親水化處理劑組合物較佳為硬質表面用途。作為硬質表面，可列舉包含塑膠、陶瓷、金屬、木頭、玻璃、橡膠、碳材料等材質之硬質表面。硬質表面可為硬質物品之表面，例如包含上述材質之硬質物品之表面。作為塑膠，可列舉：丙烯酸系樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯、三聚氰胺、聚氯乙烯、聚酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、ABS(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)、FRP(纖維強化塑膠)等。作為金屬，可列舉：不鏽鋼等合金、鋁、汽車用鋼鐵等鐵等。作為橡膠，可列舉天然橡膠、二烯系合成橡膠等。作為木頭，可列舉地板等中所使用之木材等。地板等中所使用之木材可為經表面處理者。布可為織布、不織布之任一種，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為織布。布較佳為合成纖維製。布較佳為疏水性纖維製。作為一例，布成為纖維製品之製造材料。
藉由本發明之親水化處理劑組合物及本發明之親水化方法進行了親水化之固體表面可為提高了防霧性、防污性、脫污性、吸水性等者。又，藉由本發明之親水化處理劑組合物及本發明之親水化方法進行了親水化之固體表面成為維持透明性、平滑性等該材質本來所具有之表面狀態者。例如，若為無色透明之玻璃，則成為維持透過性者。
本發明之親水化處理劑組合物可為防霧劑組合物。即，本發明提供一種防霧劑組合物，其係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之親水化處理劑組合物可為防污處理劑組合物。即，本發明提供一種防污處理劑組合物，其係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之親水化處理劑組合物可為脫污處理劑組合物。即，本發明提供一種脫污處理劑組合物，其係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之親水化處理劑組合物可為吸水性賦予劑組合物。即，本發明提供一種吸水性賦予劑組合物，其係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 於該等組合物中可適宜地應用於本發明之親水化處理劑組合物中所闡述之事項。該等組合物較佳為含有(C)成分。又，該等組合物之較佳之態樣例如(A)成分、(B)成分、(C)成分及該等之含量等亦與本發明之親水化處理劑組合物相同。
本發明提供一種親水化處理劑組合物之製造方法，其以(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計成為0.1以上且0.8以下之方式混合(A)成分、(B)成分、及水。 於本發明之親水化處理劑組合物含有(C)成分之情形時，提供一種親水化處理劑組合物之製造方法，其較佳為以(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計成為0.2以上且4以下之方式，混合含有(A)成分、(B)成分及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之組合物；及含有(C)成分及水之組合物。 於本發明之親水化處理劑組合物含有(C)成分之情形時，提供一種親水化處理劑組合物之製造方法，其較佳為以(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計成為0.2以上且4以下之方式，混合含有(A)成分、(B)成分及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之組合物；及包含(C)成分且硬度為4°dH以上且100°dH以下之水。 該等製造方法適宜作為本發明之親水化處理劑組合物之製造方法。 於該等製造方法中可適宜地應用於本發明之親水化處理劑組合物中所闡述之事項。
此處，本說明書中之所謂硬度(°dH)係指以CaCO3 換算濃度計以1 mg/L(ppm)＝約0.056°dH(1°dH＝17.8 ppm)表示水中之鈣及鎂之濃度者。 用於該硬度之鈣及鎂之濃度係藉由使用乙二胺四乙酸二鈉鹽之螯合滴定法求出。 將本說明書中之水之硬度之具體測定方法示於以下。
＜水之硬度之測定方法＞ [試劑] ・0.01 mol/l EDTA・2Na溶液：乙二胺四乙酸二鈉之0.01 mol/l水溶液(滴定用溶液、0.01 M EDTΑ-Na2、SIGMΑ-ALDRICH公司製造) ・Universal BT指示劑(製品名：Universal BT、同仁化學研究所股份有限公司製造) ・硬度測定用氨緩衝液(使氯化銨67.5 g溶解於28 w/v%氨水570 ml中，利用去離子水將總量設為1000 ml之溶液) [硬度之測定] (1)利用全移液管將成為試樣之水20 ml採集至錐形燒杯中。 (2)添加硬度測定用氨緩衝液2 ml。 (3)添加Universal BT指示劑0.5 ml。確認到添加後之溶液為紫紅色。 (4)一面充分搖晃混合錐形燒杯，一面自滴定管滴加0.01 mol/l EDTA・2Na溶液，將成為試樣之水變色為藍色之時刻設為滴定之終點。 (5)總硬度係藉由下述算出式求出。 硬度(°dH)＝T×0.01×F×56.0774×100/A T：0.01 mol/l EDTA・2Na溶液之滴定量(mL) A：樣品容量(20 mL、成為試樣之水之容量) F：0.01 mol/l EDTA・2Na溶液之因子
本發明包含一種組合物之作為親水化處理劑之用途，該組合物係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。又，本發明包含一種組合物對固體表面之親水化之用途，該組合物係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。於該等用途中可適宜地應用於本發明之親水化處理劑組合物中所闡述之事項。該等用途之組合物較佳為含有(C)成分。例如，該等用途中之(A)成分、(B)成分、(C)成分之具體例或組合物中之含量等之較佳之態樣與本發明之親水化處理劑組合物相同。
[固體表面之親水化方法] 本發明提供一種固體表面之親水化方法，其使含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之處理液(以下，亦存在稱為本發明之處理液之情形)與固體表面接觸。(A)成分、(B)成分、固體表面與於本發明之親水化處理劑組合物中所闡述者相同。本發明之處理液較佳為含有(C)成分。於本發明之固體表面之親水化方法中，可適宜地應用於本發明之親水化處理劑組合物中所闡述之事項。例如，本發明之固體表面之親水化方法中之(A)成分、(B)成分之具體例或處理液中之含量等之較佳之態樣與本發明之親水化處理劑組合物(其中，視需要將親水化處理劑組合物置換為處理液)相同。 本發明之處理液可為本發明之親水化處理劑組合物，又，亦可為將本發明之親水化處理劑組合物與水混合而獲得者。 本發明之固體表面之親水化方法較佳為固體表面為硬質物品之固體表面。
發現若本發明之(A)成分與(B)成分以特定之莫耳比共存而應用於硬質表面等固體表面，則可無損該固體表面之狀態而賦予優異之親水性。 於本發明中，只要於對固體表面進行處理之步驟中之任一者中產生(A)成分與(B)成分以特定之莫耳比共存而應用於固體表面之狀況即可。例如，可於使含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)/[(A)＋(B)]之莫耳比未達0.1之組合物與固體表面接觸後，於(A)成分殘留於固體表面之狀態或包含(A)成分之上述組合物與固體表面接觸之狀態下，以(B)/[(A)＋(B)]成為0.1以上且0.8以下之方式供給包含(B)成分之水而形成本發明之處理液，並使該處理液與固體表面接觸。
本發明之處理液係包含水之液體組合物，就處理穩定性之觀點而言，較佳為水溶液或水分散液。
關於與固體表面接觸之本發明之處理液，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，較佳為含有本發明之(A)成分0.001質量%以上，更佳為含有0.005質量%以上，進而較佳為含有0.01質量%以上，並且較佳為含有10質量%以下，更佳為含有5質量%以下，進而較佳為含有3質量%以下。於本發明之親水化處理劑組合物於該範圍內含有(A)成分之情形時，可直接用作本發明之處理液。
於本發明之親水化方法中，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，使本發明之處理液與固體表面較佳為接觸0.1秒以上，更佳為接觸0.5秒以上，進而較佳為接觸1秒以上，並且較佳為接觸90分鐘以下，更佳為接觸60分鐘以下，進而較佳為接觸30分鐘以下。
關於與固體表面接觸之本發明之處理液之溫度，就提高處理液之親水化性能之觀點、及處理方法之容易性之觀點而言，較佳為5℃以上，更佳為10℃以上，更佳為15℃以上，並且較佳為95℃以下，更佳為90℃以下，更佳為80℃以下。
又，於本發明之親水化方法中，就固體表面之親水化及固體表面之加工性之觀點而言，可於使本發明之處理液與固體表面接觸後，較佳為放置10秒以上，更佳為放置1分鐘以上，進而較佳為放置2分鐘以上，並且較佳為放置30分鐘以下，更佳為放置15分鐘以下，進而較佳為放置10分鐘以下。放置之溫度較佳為0℃以上且80℃以下。
本發明之親水化方法可於使本發明之處理液與固體表面接觸後，較佳為如上所述般放置後，利用水沖洗該固體表面。若使用本發明之處理液，則即便沖洗處理後之固體表面亦維持親水化效果。因此，於較理想為進行沖洗之對象物中，帶來更有利之效果。可於清洗後，使固體表面乾燥。沖洗較佳為使用與於本發明之製備處理液時所使用之水相同程度之硬度的水。例如，沖洗可使用硬度為4°dH以上且100°dH以下之水。
固體表面與本發明之處理液之接觸方法並無特別限定。例如可列舉以下之(i)～(iii)之方法等。 (i)將固體浸漬於本發明之處理液中之方法 (ii)對固體表面噴霧或塗佈本發明之處理液之方法 (iii)利用本發明之處理液依據常法洗淨固體表面之方法 於上述(i)之方法中，關於進行浸漬之時間，就提高本發明之處理液之親水化性能之觀點及經濟性之觀點而言，較佳為0.5分鐘以上，更佳為1分鐘以上，並且較佳為60分鐘以下，更佳為50分鐘以下。 於上述(ii)之方法中，對固體表面噴霧或塗佈本發明之處理液之方法可根據固體表面之大小(面積)等而適當加以選擇。較佳為於藉由噴霧等對固體表面噴霧本發明之處理液後，進行乾燥之方法。視需要亦可於噴霧後，利用水進行沖洗。又，亦可於噴霧後，使用海綿等較薄地塗抹開。 關於對固體表面噴霧或塗佈之本發明之處理液之量，例如於本發明之(A)成分之含量為0.1質量%之本發明之處理液之情形時，較佳為每10 cm2 為0.01 mL以上且1 mL以下。 於上述(iii)之方法中，本發明之處理液較佳為以含有本發明之(A)成分及(B)成分之洗淨劑組合物之形態使用，並與固體表面接觸。於設為該洗淨劑組合物之形態之情形時，就處理安全性、及防止固體表面之損傷之觀點而言，其pH值較佳為4以上，並且較佳為10以下，更佳為8以下。 作為界面活性劑，可使用上述者。
本發明之固體表面之親水化方法例如可包括如下操作： 以(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計成為0.1以上且0.8以下之方式混合(A)成分、(B)成分、及水而製備處理液；以及 使上述處理液與固體表面接觸。
又，本發明之固體表面之親水化方法例如可包括如下操作： 以(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計成為0.1以上且0.8以下之方式，較佳為以(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計成為0.2以上且4以下之方式，混合含有(A)成分及(B)成分之組合物、含有(C)成分之組合物、及水而製備處理液；以及使上述處理液與固體表面接觸。處理液之製備中所使用之水可含有於含有(A)成分及(B)成分之組合物以及含有(C)成分之組合物之一者或兩者中。較佳為，混合含有(A)成分、(B)成分及水之組合物與含有(C)成分及水之組合物而製備處理液。
該等方法可任意地包括利用水沖洗接觸上述處理液之上述固體表面之操作。
本發明之固體表面之親水化方法可為對固體表面賦予防霧性者。即，本發明提供一種固體表面之防霧處理方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之固體表面之親水化方法可為對固體表面賦予防污性者。即，本發明提供一種固體表面之防污處理方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之固體表面之親水化方法可為對固體表面賦予脫污性者。即，本發明提供一種固體表面之脫污處理方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 本發明之固體表面之親水化方法可為對固體表面賦予吸水性者。即，本發明提供一種對固體表面賦予吸水性之方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)成分、(B)成分、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 於該等方法中可適宜地應用於本發明之親水化處理劑組合物及固體表面之親水化方法中所記述之事項。於該等方法中，上述處理液較佳為含有(C)成分。又，該等組合物之較佳之態樣例如(A)成分、(B)成分、(C)成分及該等之含量以及處理液之較佳之態樣等亦與本發明之親水化處理劑組合物及固體表面之親水化方法相同。
關於上述實施形態，本發明進而揭示以下之親水化處理劑組合物、親水化處理劑組合物之製造方法、用途、及固體表面之親水化方法。
＜1＞ 一種親水化處理劑組合物，其係含有(A)分支型陰離子界面活性劑[以下，亦稱為(A)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑[以下，亦稱為(B)成分]、及水者，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
＜2＞ 如＜1＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分為具有碳數10以上且30以下之支鏈烴基之陰離子界面活性劑。 ＜3＞ 如＜1＞或＜2＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分為具有碳數10以上且30以下之支鏈烴基與硫酸酯基或磺酸基之陰離子界面活性劑。 ＜4＞ 如＜2＞或＜3＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為16以上。 ＜5＞ 如＜2＞至＜4＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為18以上。 ＜6＞ 如＜2＞至＜5＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為30以下。 ＜7＞ 如＜2＞至＜6＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為28以下。 ＜8＞ 如＜2＞至＜7＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為24以下。 ＜9＞ 如＜2＞至＜8＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基之碳數為22以下。 ＜10＞ 如＜2＞至＜9＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述支鏈烴基為支鏈烷基、支鏈烯基、或具有支鏈烷基之芳基。
＜11＞ 如＜1＞至＜10＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分為下述通式(A)所表示之陰離子界面活性劑。
[化3]
Figure 02_image005
[式中，R1a 、R2a 分別獨立地表示可包含取代基或連結基之碳數1以上且28以下之烴基；X表示選自SO3 M、COOM、及OSO3 M中之基；M表示抗衡離子] ＜12＞ 如＜11＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 、R2a 為烷基、烯基、或芳基。 ＜13＞ 如＜11＞或＜12＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 、R2a 為烷基、或烯基。 ＜14＞ 如＜11＞至＜13＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為9以上。 ＜15＞ 如＜11＞至＜14＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為15以上。 ＜16＞ 如＜11＞至＜15＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為17以上。 ＜17＞ 如＜11＞至＜16＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為29以下。 ＜18＞ 如＜11＞至＜17＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為27以下。 ＜19＞ 如＜11＞至＜18＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為23以下。 ＜20＞ 如＜11＞至＜19＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，R1a 與R2a 之碳數之合計為21以下。 ＜21＞ 如＜11＞至＜20＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中式(A)中，X為SO3 M。
＜22＞ 如＜1＞至＜21＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分係選自內部烯烴磺酸鹽(以下亦稱為IOS)、二級烷烴磺酸鹽、及二烷基磺基琥珀酸鹽中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。 ＜23＞ 如＜1＞至＜22＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分係選自碳數10以上且30以下之IOS、碳數10以上且22以下之二級烷烴磺酸鹽及烷基之碳數為分別6以上且18以下之二烷基磺基琥珀酸鹽中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。
＜24＞ 如＜1＞至＜23＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分係選自IOS中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。 ＜25＞ 如＜1＞至＜24＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(A)成分係選自碳數10以上且30以下之IOS中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。 ＜26＞ 如＜22＞至＜25＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為10以上。 ＜27＞ 如＜22＞至＜26＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為16以上。 ＜28＞ 如＜22＞至＜27＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為18以上。 ＜29＞ 如＜22＞至＜28＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為30以下。 ＜30＞ 如＜22＞至＜29＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為28以下。 ＜31＞ 如＜22＞至＜30＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為24以下。 ＜32＞ 如＜22＞至＜31＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之碳數為22以下。
＜33＞ 如＜22＞至＜32＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之2位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為5%以上。 ＜34＞ 如＜22＞至＜33＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之2位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為10%以上。 ＜35＞ 如＜22＞至＜34＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之2位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為45%以下。 ＜36＞ 如＜22＞至＜35＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之2位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為30%以下。
＜37＞ 如＜22＞至＜36＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為0.2%以上。 ＜38＞ 如＜22＞至＜37＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為0.5%以上。 ＜39＞ 如＜22＞至＜38＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為1.0%以上。 ＜40＞ 如＜22＞至＜39＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為20%以下。 ＜41＞ 如＜22＞至＜40＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為10%以下。 ＜42＞ 如＜22＞至＜41＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為5%以下。 ＜43＞ 如＜22＞至＜42＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，磺酸基存在於IOS之碳鏈之1位之IOS之比率以莫耳基準或質量基準計為3%以下。
＜44＞ 如＜22＞至＜43＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為50質量%以上。 ＜45＞ 如＜22＞至＜44＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為70質量%以上。 ＜46＞ 如＜22＞至＜45＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為80質量%以上。 ＜47＞ 如＜22＞至＜46＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為90質量%以上。 ＜48＞ 如＜22＞至＜47＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為95質量%以上。 ＜49＞ 如＜22＞至＜48＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為97質量%以上。 ＜50＞ 如＜22＞至＜49＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為100質量%以下。 ＜51＞ 如＜22＞至＜50＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS中，碳數16以上且24以下之IOS之比率為100質量%。
＜52＞ 如＜22＞至＜51＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS包含羥基烷烴磺酸鹽(以下亦稱為H體)與烯烴磺酸鹽(以下亦稱為O體)，且H體與O體之莫耳比(H體/O體)超過50/50。 ＜53＞ 如＜52＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之H體與O體之莫耳比(H體/O體)超過70/30。 ＜54＞ 如＜52＞或＜53＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之H體與O體之莫耳比(H體/O體)為95/5以下。 ＜55＞ 如＜52＞至＜54＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中IOS之H體與O體之莫耳比(H體/O體)為90/10以下。
＜56＞ 如＜1＞至＜55＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分0.001質量%以上且60質量%以下。 ＜57＞ 如＜1＞至＜56＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分0.005質量%以上。 ＜58＞ 如＜1＞至＜57＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分0.01質量%以上。 ＜59＞ 如＜1＞至＜58＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分40質量%以下。 ＜60＞ 如＜1＞至＜59＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分25質量%以下。 ＜61＞ 如＜1＞至＜60＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分10質量%以下。 ＜62＞ 如＜1＞至＜61＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(A)成分5質量%以下。
＜63＞ 如＜1＞至＜62＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分係1分子中具有2個長鏈烴基之陽離子界面活性劑。 ＜64＞ 如＜1＞至＜63＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分係具有包含2個長鏈烴基之疏水基與1個親水基之陽離子界面活性劑。 ＜65＞ 如＜63＞或＜64＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述長鏈烴基之碳數為6以上且14以下。 ＜66＞ 如＜1＞至＜65＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分係具有2個碳數6以上且14以下之烴基[以下，亦稱為長鏈烴基(B)]之四級銨鹽型陽離子界面活性劑。
＜67＞ 如＜1＞至＜66＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述長鏈烴基(B)係選自碳數6以上且14以下之脂肪族烴基[以下，亦稱為脂肪族烴基(B1)]、及碳數6以上且14以下之芳香族烴基[以下，亦稱為芳香族烴基(B2)]中之烴基。 ＜68＞ 如＜67＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)為直鏈。 ＜69＞ 如＜67＞或＜68＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)係選自烷基、及烯基中之烴基。 ＜70＞ 如＜69＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中選自烷基、及烯基中之烴基為直鏈。 ＜71＞ 如＜67＞至＜70＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)之碳數為12以下。 ＜72＞ 如＜67＞至＜71＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)之碳數為10以下。 ＜73＞ 如＜67＞至＜72＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)之碳數為8以下。 ＜74＞ 如＜67＞至＜73＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中脂肪族烴基(B1)之碳數為8。
＜75＞ 如＜67＞至＜74＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)係選自芳烷基、及芳基中之烴基。 ＜76＞ 如＜75＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中芳烷基係選自苄基、及苯乙基中之烴基。 ＜77＞ 如＜75＞或＜76＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中芳烷基為苄基。 ＜78＞ 如＜75＞至＜77＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳基係選自苯基、甲苯基、及二甲苯基中之烴基。 ＜79＞ 如＜75＞至＜78＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)之碳數為12以下。 ＜80＞ 如＜75＞至＜79＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)之碳數為10以下。 ＜81＞ 如＜75＞至＜80＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)之碳數為8以下。 ＜82＞ 如＜75＞至＜81＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)之碳數為7或8。 ＜83＞ 如＜75＞至＜82＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中芳香族烴基(B2)之碳數為8。
＜84＞ 如＜66＞至＜83＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中長鏈烴基(B)係選自烷基、烯基、及芳烷基中之烴基。 ＜85＞ 如＜1＞至＜84＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分係具有2個選自碳數6以上且14以下之烷基、碳數6以上且14以下之烯基、及碳數6以上且14以下之芳烷基中之基，且具有至少1個碳數6以上且14以下之直鏈烷基之四級銨鹽。
＜86＞ 如＜1＞至＜85＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分為下述通式(B)所表示之陽離子界面活性劑。
[化4]
Figure 02_image007
[式中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，2個為碳數6以上且14以下之烴基，剩餘之2個為碳數1以上且3以下之烴基；X- 為抗衡離子] ＜87＞ 如＜86＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中通式(B)中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，至少1個為碳數6以上且14以下之烷基。 ＜88＞ 如＜86＞或＜87中所記載之親水化處理劑組合物，其中通式(B)中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，至少1個為碳數6以上且14以下之直鏈烷基。 ＜89＞ 如＜86＞至＜88＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中通式(B)中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，2個為甲基。
＜90＞ 如＜1＞至＜89＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.2以上。 ＜91＞ 如＜90＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(B)/[(A)＋(B)]為0.3以上。 ＜92＞ 如＜90＞或＜91＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(B)/[(A)＋(B)]為0.7以下。 ＜93＞ 如＜90＞至＜92＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(B)/[(A)＋(B)]為0.6以下。 ＜94＞ 如＜90＞至＜93＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(B)/[(A)＋(B)]為0.5以下。 ＜95＞ 如＜90＞至＜94＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(B)/[(A)＋(B)]為0.4以下。
＜96＞ 如＜1＞至＜95＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其含有(C)多價金屬離子[以下，稱為(C)成分]。 ＜97＞ 如＜96＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分為二價以上且三價以下之金屬離子。 ＜98＞ 如＜96＞或＜97＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分為二價金屬離子。 ＜99＞ 如＜96＞至＜98＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分為2族元素之離子。
＜100＞ 如＜96＞至＜99＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分係選自鈣(Ca)離子及鎂(Mg)離子中之1種以上。 ＜101＞ 如＜96＞至＜100＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分包含Ca離子。 ＜102＞ 如＜96＞至＜101＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分包含Ca離子與Mg離子。 ＜103＞ 如＜102＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中Ca離子/Mg離子之莫耳比為5/5以上。 ＜104＞ 如＜102＞或＜103＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中Ca離子/Mg離子之莫耳比為7/3以上。 ＜105＞ 如＜102＞至＜104＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中Ca離子/Mg離子之莫耳比為9/1以下。
＜106＞ 如＜96＞至＜105＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計為0.2以上且4以下。 ＜107＞ 如＜106＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(C)/[(A)＋(B)]為0.3以上。 ＜108＞ 如＜106＞或＜107＞中所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(C)/[(A)＋(B)]為0.4以上。 ＜109＞ 如＜106＞至＜108＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(C)/[(A)＋(B)]為3以下。 ＜110＞ 如＜106＞至＜109＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其中上述莫耳比(C)/[(A)＋(B)]為2以下。
＜111＞ 如＜1＞至＜110＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其為硬質表面用。 ＜112＞ 如＜1＞至＜111＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物，其為防霧劑組合物、或吸水性賦予劑組合物。
＜113＞ 一種親水化處理劑組合物之製造方法，其以(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計成為0.1以上且0.8以下之方式混合(A)分支型陰離子界面活性劑[以下，亦稱為(A)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑[以下，亦稱為(B)成分]、及水。 ＜114＞ 一種親水化處理劑組合物之製造方法，其混合含有(A)成分、(B)成分及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之組合物；及含有(C)多價金屬離子[以下，亦稱為(C)成分]及水之組合物。 ＜115＞ 如＜114＞中所記載之親水化處理劑組合物之製造方法，其中(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計為0.2以上且4以下。 ＜116＞ 如＜115＞中所記載之親水化處理劑組合物之製造方法，其中水之硬度為4°dH以上且100°dH以下。 ＜117＞ 一種親水化處理劑組合物之製造方法，其以(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計成為0.2以上且4以下之方式，混合含有(A)成分、(B)成分及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之組合物；及包含(C)成分且硬度為4°dH以上且100°dH以下之水。
＜118＞ 一種組合物作為親水化處理劑之用途，該組合物係含有(A)分支型陰離子界面活性劑[以下，亦稱為(A)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑[以下，亦稱為(B)成分]、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。 ＜119＞ 一種組合物對固體表面之親水化之用途，該組合物係含有(A)成分、(B)成分、及水者，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
＜120＞ 一種固體表面之親水化方法，其使含有(A)分支型陰離子界面活性劑[以下，亦稱為(A)成分]、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑[以下，亦稱為(B)成分]、及水，且(B)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下之處理液[以下，亦稱為處理液(I)]與固體表面接觸。 ＜121＞ 如＜120＞所記載之固體表面之親水化方法，其中固體表面為硬質物品之固體表面。 ＜122＞ 如＜120＞或＜121＞所記載之固體表面之親水化方法，其中於使處理液(I)與固體表面接觸後，利用水沖洗該固體表面。 ＜123＞ 一種如＜120＞至＜122＞中任一項所記載之固體表面之親水化方法，其中處理液(I)係將如＜1＞至＜112＞中任一項所記載之親水化處理劑組合物與水混合而獲得者。 ＜124＞ 如＜120＞至＜123＞中任一項所記載之固體表面之親水化方法，其中處理液(I)含有(C)多價金屬離子[以下，亦稱為(C)成分]。 ＜125＞ 如＜124＞所記載之固體表面之親水化方法，其中(C)成分為二價金屬離子。 ＜126＞ 如＜124＞或＜125＞所記載之固體表面之親水化方法，其中(C)成分相對於(A)成分與(B)成分之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計為0.2以上且4以下。 ＜127＞ 如＜124＞至＜126＞中任一項所記載之固體表面之親水化方法，其中處理液(I)係將含有(A)成分、(B)成分及水之組合物與含有(C)成分及水之組合物混合而獲得者。
實施例 [製造例1](C18 -IOS-K之製造) 向附有攪拌裝置之燒瓶中，添加1-十八醇(花王公司製造、「Kalcol 8098」)7000 g、及作為觸媒之γ-氧化鋁(Strem Chemicals Inc.製造)700 g，於攪拌下，於280℃下，一面使氮(7000 mL/min.)於系統內流通，一面進行反應，獲得粗內部烯烴。藉由將上述粗內部烯烴於148-158℃、0.5 mmHg下蒸餾，獲得烯烴純度100%之碳數18之內部烯烴。將上述內部烯烴加入至薄膜式磺化反應器(內徑14 mmϕ、長度4 m)中，於向反應器外部套管中通入20℃之冷卻水之條件下，使用SO3 濃度為2.8體積%之三氧化硫氣體進行磺化反應。反應莫耳比(SO3 /內部烯烴)係設定為1.09。 將所獲得之磺化物添加至相對於理論酸值相當於1.2莫耳倍之氫氧化鉀水溶液中，一面攪拌，一面於30℃下中和1小時。藉由將中和物於高壓釜中於160℃下加熱1小時而進行水解，獲得內部烯烴磺酸鉀鹽之粗產物。 向分液漏斗中添加上述粗產物300 g、及乙醇300 mL，每次添加石油醚300 mL而將油溶性之雜質萃取去除。此時，藉由添加乙醇而析出至油水界面之芒硝等成分亦藉由油水分離操作自水相中分離去除，進行該操作3次。將水相側蒸乾，獲得碳數18之內部烯烴磺酸鉀鹽(C18 -IOS-K)。 上述C18 -IOS-K之磺酸基之存在位置之莫耳及質量分佈為1位：1.6%、2位：25.1%、3位～9位：73.3%。H體與O體之莫耳比(H體/O體)為80/20。
[製造例2](C16 -IOS-K之製造) 於製造例1中，使用1-十六醇代替1-十八醇，除此以外，以同樣之方式獲得碳數16之內部烯烴磺酸鉀鹽(C16 -IOS-K)。上述C16 -IOS-K之磺酸基之存在位置之莫耳及質量分佈為1位：0.5%、2位：19.9%、3位～9位：79.6%。H體與O體之莫耳比(H體/O體)為80/20。
[製造例3](硬水原液之製備) 以溶液量成為1 L之方式混合氯化鈣(CaCl2 、FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製造、和光一級)83.32 g、氯化鎂六水合物(MgCl2 ・6H2 O、FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製造、和光一級)36.99 g、及離子交換水而獲得5000°dH硬水。Ca與Mg之莫耳比(Ca/Mg)為8/2。各試驗之硬水係將該5000°dH硬水作為原液，適當利用離子交換水進行稀釋而使用。
[實施例1～14及比較例1～2] (1)親水化處理劑組合物之製備 以成為特定濃度及特定莫耳比之方式使下述(A)成分或(A')成分與(B)成分或(B')成分溶解於離子交換水中。以作為(C)成分之Ca離子與Mg離子成為特定莫耳比之方式向該混合物中添加製造例3之硬水原液。於液溫25℃、70 rpm之條件下將混合物攪拌15分鐘而獲得表1之親水化處理劑組合物。所獲得之親水化處理劑組合物中，(A)成分或(A')成分與(B)成分或(B')成分之合計濃度均為1000 ppm。再者，表1中，將(A')成分作為(A)成分，將(B')成分作為(B)成分而表示莫耳比。
＜(A)成分＞ ・C18 -IOS-K：製造例1中所製造之碳數18之內部烯烴磺酸鉀鹽 ・C16 -IOS-K：製造例2中所製造之碳數16之內部烯烴磺酸鉀鹽 ・SAS：烷烴(碳數15)磺酸鈉鹽(花王公司製造、「Latemul PS」) ・DASS：二-2-乙基己基磺基琥珀酸鈉鹽(東京化成工業公司製造、「雙(2-乙基己基)磺基琥珀酸鈉鹽、Bis(2-ethylhexyl)Sulfosuccinate Sodiumu salt」)
＜(A')成分＞ ・ES：聚氧乙烯(平均加成莫耳數2)直鏈烷基(碳數12)醚硫酸鈉鹽(花王公司製造、「Emal 270J」)
＜(B)成分＞ ・DC8DMAB：二辛基二甲基溴化銨(東京化成工業公司製造、「二甲基二辛基溴化銨、Dimethyldioctyla mmonium Bromide」) ・C8BAC：辛基二甲基苄烷氯化銨
(2)評價 (2-1)親水表面化之評價 將整個試樣浸漬於親水化處理劑組合物500 ml中，於液溫25℃、70 rpm之條件下攪拌15分鐘而進行親水化處理。利用硬水原液與離子交換水，以與親水化處理劑組合物相同之濃度製備包含(C)成分之沖洗用硬水。將整個試樣浸漬於沖洗用硬水500 ml中，以液溫25℃、70 rpm清洗1分鐘。該沖洗進行2次。使清洗後之試樣於室溫下乾燥1晩。 使用自動接觸角計「DM-501」(協和界面科學公司製造)，於離子交換添加水量1 μL、添加30秒後之條件下測定乾燥後之試樣之處理部分表面對於離子交換水的靜止接觸角。測定係使用1片試樣進行，使用任意之3～5部位之測定值之平均值。接觸角越小，則親水化性能越優異。將結果示於表1。
試樣使用以下者。 ・MODELSKIN：Beaulax公司製造 Bioskin Plate♯白色 ・聚丙烯：Engineering Test Service公司製造 PP ・聚酯：Engineering Test Service公司製造 PETP(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯) ・不鏽鋼：Engineering Test Service公司製造 SUS430 ・玻璃：Akebonotsusho公司製造 玻璃板(四邊角切削加工)
(2-2)試樣(玻璃及聚酯)之加工性之評價 對在上述(2-1)中進行了親水表面化之評價之試樣之玻璃及聚酯，使用自動分光光度計U-2910(Hitachi High-Tech Science公司製造)，測定600 nm下之透過率。透過率之測定係對任意之5部位進行，並採用其平均值。將透過率(平均值)設為將無處理之試樣之透過率設為100%(基準)之相對值而示於表1。表中之透過率之數字越大，係指玻璃及聚酯本來之透明度不受損而加工性越良好。
(2-3)配方穩定性 於上述(1)中製備親水化處理劑組合物時，目測觀察以成為特定濃度之方式使(A)成分或(A')成分與(B)成分或(B')成分溶解於離子交換水中之時之狀態，並藉由以下之基準評價配方穩定性。將結果示於表1。 ○：存在流動性，且無顯著之析出物。 ×：缺乏流動性，且產生析出物而難以供於親水化處理。
[表1]
   親水化處理劑組合物 評價
(A) (B) (C) 莫耳比 接觸角(°) 透過率(%) 配方
種類 莫耳% 種類 莫耳% (B)/[(A)＋(B)] (C)/[(A)＋(B)] MODELSKIN 聚丙烯 聚酯 不鏽鋼 玻璃 玻璃 聚酯 穩定性
實施例 1 C18-IOS-K 50 DC8DMAB 50 Ca離子及Mg離子： 成為(C)/[(A)＋(B)]欄之莫耳比之量 0.5 1 30 28 18 23 23 99.6 99.8 ○
2 C18-IOS-K 60 DC8DMAB 40 0.4 1 32 17 11 24 14 99.5 99.4 ○
3 C18-IOS-K 60 C8BAC 40 0.4 1 86 31 6 18 24 99.6 99.6 ○
4 C18-IOS-K 70 DC8DMAB 30 0.3 1 89 25 14 67 23 99.5 99.1 ○
5 C18-IOS-K 90 DC8DMAB 10 0.1 1 89 84 15 61 24 99.0 98.9 ○
6 C16-IOS-K 50 C8BAC 50 0.5 1 21 19 9 7 29 99.7 99.4 ○
7 SAS 60 DC8DMAB 40 0.4 1 73 41 12 33 25 98.0 97.8 ○
8 DASS 60 DC8DMAB 40 0.4 1 81 77 18 29 28 99.1 99.1 ○
9 C18-IOS-K 60 DC8DMAB 40 0.4 0 89 96 76 74 37 99.3 99.0 ○
10 C18-IOS-K 60 DC8DMAB 40 0.4 0.05 87 93 70 70 31 99.3 99.0 ○
11 C18-IOS-K 60 DC8DMAB 40 0.4 0.25 63 65 18 20 24 99.8 99.6 ○
12 C18-IOS-K 60 DC8DMAB 40 0.4 2 30 16 10 28 14 98.1 98.1 ○
13 C18-IOS-K 60 C8BAC 40 0.4 4 30 18 11 25 14 88.0 84.0 ○
14 C18-IOS-K 40 DC8DMAB 60 0.6 1 89 89 66 62 20 96.0 95.9 ○
比較例 1 ES 60 DC8DMAB 40 0.4 1 106 98 77 75 34 99.7 99.0 ○
2       DC8DMAB 100 1.0 0 108 100 90 77 38 99.8 99.9 ○
無處理 108 104 87 78 39 - - -

Claims (17)

  1. 一種親水化處理劑組合物，其係含有(A)分支型陰離子界面活性劑、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、及水者，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
  2. 如請求項1之親水化處理劑組合物，其含有(C)多價金屬離子。
  3. 如請求項2之親水化處理劑組合物，其中(C)為二價金屬離子。
  4. 如請求項2或3之親水化處理劑組合物，其中(C)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計為0.2以上且4以下。
  5. 如請求項1至3中任一項之親水化處理劑組合物，其中(A)係選自內部烯烴磺酸鹽、二級烷烴磺酸鹽、及二烷基磺基琥珀酸鹽中之1種以上之分支型陰離子界面活性劑。
  6. 如請求項1至5中任一項之親水化處理劑組合物，其含有0.001質量%以上且60質量%以下之(A)。
  7. 如請求項1至6中任一項之親水化處理劑組合物，其為硬質表面用。
  8. 如請求項1至7中任一項之親水化處理劑組合物，其中(B)係具有2個碳數6以上且14以下之烴基之陽離子界面活性劑。
  9. 如請求項1至8中任一項之親水化處理劑組合物，其中(B)為下述通式(B)所表示之陽離子界面活性劑， [化1]
    Figure 03_image009
    [式中，R1b 、R2b 、R3b 、及R4b 之中，2個為碳數6以上且14以下之烴基，剩餘之2個為碳數1以上且3以下之烴基；X- 為抗衡離子]。
  10. 一種固體表面之親水化方法，其使如下之處理液與固體表面接觸，上述處理液含有(A)分支型陰離子界面活性劑、(B)二長鏈烴型陽離子界面活性劑、及水，且(B)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(B)/[(A)＋(B)]計為0.1以上且0.8以下。
  11. 如請求項10之親水化方法，其中處理液含有(C)多價金屬離子。
  12. 如請求項11之親水化方法，其中(C)為二價金屬離子。
  13. 如請求項11或12之親水化方法，其中(C)相對於(A)與(B)之合計之莫耳比以(C)/[(A)＋(B)]計為0.2以上且4以下。
  14. 如請求項11至13中任一項之親水化方法，其中處理液係將含有(A)成分、(B)成分及水之組合物與含有(C)成分及水之組合物混合而獲得者。
  15. 如請求項10至14中任一項之固體表面之親水化方法，其中固體表面為硬質物品之固體表面。
  16. 如請求項10至15中任一項之固體表面之親水化方法，其中於使處理液與固體表面接觸後，利用水沖洗該固體表面。
  17. 如請求項10至16中任一項之親水化方法，其中處理液係將如請求項1至9中任一項之親水化處理劑組合物與水混合而獲得者。
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