TW202035123A - 偏光板 - Google Patents

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TW202035123A
TW202035123A TW109100325A TW109100325A TW202035123A TW 202035123 A TW202035123 A TW 202035123A TW 109100325 A TW109100325 A TW 109100325A TW 109100325 A TW109100325 A TW 109100325A TW 202035123 A TW202035123 A TW 202035123A
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Abstract

本發明之課題係提供於濕熱環境下具有良好的光學耐久性之偏光板。

本發明解決課題之手段為一種偏光板，該偏光板係依順序積層有偏光片、接著劑層、易接著層以及保護膜，其中，

易接著層係含有鹼成分，且與接著劑層相接之表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)為0.05以上未達1.0；

接著劑層為含有光陽離子硬化性化合物(A)以及光陽離子聚合起始劑(B)之組成物之光硬化物層，

光陽離子硬化性化合物(A)的總質量中，含有脂環式環氧化合物30至80質量%，

相對於光陽離子硬化性化合物(A)100質量份，係含有光陽離子聚合起始劑(B)2.5至15質量份。

Description

偏光板
本發明有關於偏光板。
偏光板通常具有偏光片、與在偏光片的至少一面的保護膜所積層之構造。偏光片與保護膜通常為隔著接著劑層而貼合，但已知有視保護膜的種類(例如，由降莰烯樹脂膜所形成之透濕度低的保護膜等)而在保護膜的表面設置易接著層之情形。例如，專利文獻1中記載一種偏光板，係依順序積層有偏光片、由含有聚乙烯醇系樹脂之水系接著劑所形成之接著劑層、由含有胺酯樹脂之組成物所形成之易接著層、以及保護膜者。
此外，專利文獻2中記載一種偏光板，係不使用易接著層，而隔著接著劑層將偏光片與透濕度低的保護膜予以貼合者，該接著劑層係由以不含芳香環之環氧化合物作為主成分之接著劑組成物所形成。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2013-10853號公報
[專利文獻2] 日本特開2004-245925號公報
然而，專利文獻1以及專利文獻2所記載之偏光板，係有於濕熱環境下之光學耐久性並不充分的情形。
本發明包含以下的發明。
〔1〕一種偏光板，該偏光板係依順序積層有偏光片、接著劑層、易接著層及保護膜，其中，
易接著層係含有鹼成分，且與接著劑層相接之表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)為0.05以上未達1.0；
接著劑層為含有光陽離子硬化性化合物(A)以及光陽離子聚合起始劑(B)之組成物之光硬化物層；
光陽離子硬化性化合物(A)的總質量中，含有脂環式環氧化合物30至80質量%；
相對於光陽離子硬化性化合物(A)100質量份，係含有光陽離子聚合起始劑(B)2.5至15質量份。
〔2〕如〔1〕所述之偏光板，其中，易接著層之厚度為1至200nm。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之偏光板，其中，接著劑層之厚度為0.5至5μm。
本發明之目的在於提供於濕熱環境下具有良好的光學耐久性之偏光板。
依序說明本發明之偏光板中的偏光片、接著劑層、易接著層以及保護膜。
(偏光片)
偏光片係由吸附定向有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜所構成。構成偏光片之聚乙烯醇系樹脂係藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了可為屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，亦可為乙酸乙烯酯以及能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之共聚物。與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體可舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%，較佳為98至100莫耳%之範圍。聚乙烯醇系樹脂亦可進一步經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯基甲醛和聚乙烯基縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1,000至10,000，較佳為1,500至5,000之範圍。
偏光片係經由下述步驟而製造：將如此之聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色，使該二色性色素吸附之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液進行處理之步驟。
單軸延伸可以是在藉由二色性色素染色之前進行，也可以是與藉由二色性色素的染色同時地進行，亦可以是在藉由二色性色素染色之後進行。單軸延伸係在藉由二色性色素的染色之後進行時，此單軸延伸可在硼酸處理之前進行，亦可在硼酸處理中進行。此外，當然也可以在此等的複數個階段進行 單軸延伸。在單軸延伸時，可以是在轉速相異的輥之間於單軸進行延伸，也可以是使用熱輥而於單軸進行延伸。此外，可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為在藉由溶劑而呈膨潤的狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為4至8倍左右。
在以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色時，係例如將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素的水溶液中即可。就二色性色素而言，具體上係能夠使用碘或二色性有機染料。
使用碘作為二色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘以及碘化鉀的水溶液中，而進行染色的方法。
於該水溶液中，碘的含量通常係每100質量份的水為0.01至0.5質量份，碘化鉀的含量通常係每100質量份的水為0.5至10質量份。該水溶液的溫度通常為20至40℃，此外，對該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為30至300秒。
另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水溶性的二色性有機染料之水溶液中而染色的方法。於此水溶液中之二色性有機染料的含量，通常係每100質量份的水為1×10-3至1×10-2質量份。此水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽。此水溶液的溫度通常為20至80℃，此外，對此水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為30至300秒。
在藉由二色性色素染色後的硼酸處理係藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液中來進行。於硼酸水溶液中，硼酸的含量通常係每100質量份的水為2至15質量份，較佳為5至12質量份左右。使用碘作為二色性色素時，此硼酸水溶液較佳為含有碘化鉀。於硼酸水溶液中之碘化鉀的含 量通常此每100質量份的水為2至20質量份，較佳為5至15質量份。對硼酸水溶液的浸漬時間通常為100至1,200秒，較佳為150至600秒，更佳為200至400秒。硼酸水溶液的溫度通常為50℃以上，較佳為50至85℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜通常經水洗處理。水洗處理係例如藉由將經硼酸處理的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水來進行。水洗後實施乾燥處理，獲得偏光片。於水洗處理中之水的溫度通常為5至40℃左右，浸漬時間通常為2至120秒左右。之後進行之乾燥處理通常係使用熱風乾燥機和遠紅外線加熱器來進行。
乾燥溫度通常為40至100℃。此外，乾燥處理的時間通常為120至600秒左右。
由聚乙烯醇系樹脂膜所成的偏光片的厚度可設為10至50μm左右。
(接著劑層)
本發明之接著劑層係含有光陽離子硬化性化合物(A)以及光陽離子聚合起始劑(B)之組成物(以下，有時稱為光硬化性接著劑組成物(1))的硬化物。
(光陽離子硬化性化合物(A))
光陽離子硬化性成分(A)係包含脂環式環氧化合物，以光陽離子硬化性化合物(A)的總質量為基準，該脂環式環氧化合物係含有30至80質量%。
以光陽離子硬化性化合物(A)的總質量為基準，藉由使脂環式環氧化合物係含有30質量%以上，可提高接著劑層之儲藏彈性模數。若是接著劑層之儲藏彈性模數提高，則即使在反覆於高溫下與低溫下的環境中，亦可防止偏光膜的破裂。另一方面，以光陽離子硬化性化合物(A)的總質量為基準，脂環式環氧化合 物係多於80質量%時，於濕熱環境下易產生偏光膜的脫色，而有偏光板的光學耐久性劣化的傾向。
以光陽離子硬化性化合物(A)的總質量為基準，脂環式環氧化合物的含量較佳為30至75質量%，更佳為50至70質量%。
脂環式環氧化合物係於分子內具有至少一個與脂環式環鍵結的環氧基(以下，有時稱為脂環式環氧基)之化合物。脂環式環氧基可舉例如：氧雜雙環己基、氧雜雙環庚基等。
脂環式環氧化合物可為含有1個脂環式環氧基之化合物，亦可含有2個以上的脂環式環氧基。
脂環式環氧化合物較佳為含有2個脂環式環氧基之脂環式二環氧化合物，更佳為下述式(I)所表示之化合物。
Figure 109100325-A0202-12-0006-1
〔式(I)中，R1以及R2係分別獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或碳數3至6之環烷基。
X表示-O-、碳數1至6之烷二基、或下述式(Ia)至(Id)所表示之二價基。
Figure 109100325-A0202-12-0006-2
Figure 109100325-A0202-12-0006-3
Figure 109100325-A0202-12-0006-4
Figure 109100325-A0202-12-0006-5
Y1、Y2、Y3以及Y4係分別獨立地表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之2價的脂環式烴基。〕
將於式(I)中之與X鍵結之環己烷環的位置設為1-位(因此，二個環己烷環中之環氧基的位置均為3,4-位)，則R1以及R2係可分別鍵結在1-位至6-位的位置。
R1以及R2所表示之烷基可舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基以及己基。R1以及R2所表示之環烷基可舉：環戊基、環己基等。
若是具體地說明式(I)所示之脂環式二環氧化合物，則式(I)中之X係前述式(Ia)所示之二價基，該式中的a為0之化合物係3,4-環氧基環己基甲醇(可於該環己烷環鍵結碳數1至6之烷基)與3,4-環氧基環己烷羧酸(可於該環己烷環鍵結碳數1至6之烷基)的酯化物。若要舉出其具體例，則可列舉：3,4-環氧基環己烷羧酸3,4-環氧基環己基甲酯〔於式(I)(惟，X係a=0的式(Ia)所示之二價基)中，R1=R2=H之化合物〕、3,4-環氧基-6-甲基環己烷羧酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯〔於與上述同樣具有X之式(I)中，R1=6-甲基，R2=6-甲基之化合物〕、3,4-環氧基-1-甲基環己烷羧酸3,4-環氧基-1-甲基環己基甲酯〔於與上述同樣具有X之式(I)中，R1=1-甲基，R2=1-甲基之化合物〕、3,4-環氧基-3-甲基環己烷羧酸3,4-環氧基-3-甲基環己基甲酯〔於與上述同樣具有X之式(I)中，R1=3-甲基，R2=3-甲基之化合物〕等。
於式(I)中之X為式(Ib)所示之二價基之化合物，係伸烷二醇(alkylene glycol)類與3,4-環氧基環己烷羧酸(於該環己烷環可鍵結有碳數1至6之烷基)之酯化物。於式(I)中之X係式(Ic)所示之二價基的化合物，為脂肪族二羧酸類與3,4-環氧基環己基甲醇(於其環己烷環可鍵結碳數1至6之烷基)之酯化 物。此外，式(I)中之X係式(Id)所示之二價基之化合物，係3,4-環氧基環己基甲醇(其環己烷環可鍵結碳數1至6之烷基)之醚體(b=0之情況)，或者是，伸烷二醇類或聚伸烷二醇類與3,4-環氧基環己基甲醇(其環己烷環可鍵結碳數1至6之烷基)之醚化物(b>0之情況)。
光陽離子硬化性成分(A)可含有脂環式環氧化合物以外的硬化性成分，可舉例如：單官能脂肪族環氧化合物、氧雜環丁烷(oxetane)化合物、乙烯基醚化合物以及下述式(II)所表示之二縮水甘油基化合物。
Figure 109100325-A0202-12-0008-6
(式(II)中，Z2為碳數3至8之直鏈或分枝鏈之伸烷基、碳數3或4的亞烷基、2價的脂環式烴基、或式-CmH2m-Z1-CnH2n-所示之二價基。-Z1-為-O-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-SO-或-CO-，m以及n係分別獨立地為1以上的整數，但兩者的合計為9以下。)
於式(II)中之Z2為伸烷基之化合物，係伸烷二醇的二縮水甘油基醚。若要列舉其具體例，則有：乙二醇二縮水甘油基醚、丙二醇二縮水甘油基醚、1,3-丙二醇二縮水甘油基醚(1,3-propanediol diglycidyl ether)、1,4-丁二醇二縮水甘油基醚(1,4-butanediol diglycidyl ether)、1,6-己二醇二縮水甘油基醚、新戊二醇二縮水甘油基醚等。
此外，於式(II)中之Z2為式-CmH2m-Z1-CnH2n-所示之二價基的情況下，相當於Z2為碳數2以上的伸烷基，而該伸烷基的C-C鍵係以-O-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-SO-或-CO-中斷者。
單官能脂肪族環氧化合物可舉：脂肪族醇的縮水甘油基醚化物、烷基羧酸的縮水甘油基酯等。其具體例可舉：烯丙基縮水甘油基醚、丁基縮水甘油基醚、第二丁基苯基縮水甘油基醚、2-乙基己基縮水甘油基醚、碳數12以及13混合之烷基縮水甘油基醚、醇的縮水甘油基醚、脂肪族高級醇的單縮水甘油基醚、高級脂肪酸的縮水甘油基酯等。
氧雜環丁烷化合物係具有氧雜環丁烷基之化合物，其具體例可舉：3,7-雙(3-氧雜環丁烷基)-5-氧雜-壬烷、1,4-雙〔(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基〕苯、1,2-雙〔(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基〕乙烷、1,3-雙〔(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基〕丙烷、乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲基)醚、三乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲基)醚、四乙二醇雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲基)醚、1,4-雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)丁烷、1,6-雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)己烷、3-乙基-3-〔(苯氧基)甲基〕氧雜環丁烷、3-乙基-3-(己氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(羥基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(氯甲基)氧雜環丁烷等。
乙烯基醚化合物可舉脂肪族或脂環式的乙烯基醚化合物，其具體例可舉：正戊基乙烯基醚、異戊基乙烯基醚、正己基乙烯基醚、正辛基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正十二基乙烯基醚、硬脂基乙烯基醚、油基乙烯基醚等碳數5至20的烷基或烯醇的乙烯基醚類；2-羥基乙基乙烯基醚、3-羥基丙基乙烯基醚、4-羥基丁基乙烯基醚等含羥基之乙烯基醚類；環己基乙烯基醚、2-甲基環己基乙烯基醚、環己基甲基乙烯基醚、苯甲基乙烯基醚等具有脂肪族環或芳香族環之單醇的乙烯基醚類；甘油單乙烯基醚、1,4-丁二醇二乙烯基醚、1,6-己二醇二乙烯基醚、新戊二醇二乙烯基醚、新戊四醇二乙烯基醚、新 戊四醇四乙烯基醚、三羥甲基丙烷二乙烯基醚、三羥甲基丙烷三乙烯基醚、1,4-二羥基環己烷單乙烯基醚、1,4-二羥基環己烷二乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷單乙烯基醚、1,4-二羥基甲基環己烷二乙烯基醚等多元醇的單乙烯基醚類或聚乙烯基醚類；二乙二醇二乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、二乙二醇單丁基單乙烯基醚等聚伸烷二醇單乙烯基醚類或聚伸烷二醇二乙烯基醚類；縮水甘油基乙烯基醚、乙二醇乙烯基醚甲基丙烯酸酯等其它的乙烯基醚類等。
光陽離子硬化性成分(A)除了含有脂環式環氧化合物之外，較佳為還含有選自由式(II)所表示之二縮水甘油基化合物以及單官能脂肪族環氧化合物所組成群組之至少一者。
相對於光陽離子硬化性成分(A)的總質量，式(II)所表示之二縮水甘油基化合物的含量通常為15至70質量%。藉由相對於光陽離子硬化性成分(A)總質量係含有二縮水甘油基化合物15質量%以上，可使光硬化性接著劑組成物(1)在硬化後之儲藏彈性模數保持於高的值，同時提高偏光片與保護膜之間的密著力。另一方面，該二縮水甘油基化合物的含量超過70質量%時，則有使光硬化性接著劑組成物(1)硬化後的儲藏彈性模數也變低的傾向。以光陽離子硬化性化合物(A)的總質量為基準，二縮水甘油基化合物的含量較佳為20至70質量%，更佳為20至60質量%，再更佳為20至50質量%。
相對於光陽離子硬化性成分(A)的總質量，單官能脂肪族環氧化合物的含量通常為1至30質量%，較佳為5至20質量%，再更佳為7至15質量%。單官能脂肪族環氧化合物的含量超過30質量%時，則光硬化性接著劑組成物(1)的硬化物層之玻璃轉移溫度會下降，有耐熱性惡化的傾向。此外，未達1質量%時，則光硬化性接著劑組成物(1)的黏度會上昇，就塗佈性之點而言係屬不佳。
(光陽離子聚合起始劑(B))
本發明中，係藉由活性能量射線的照射之陽離子聚合使如上述的光陽離子硬化性成分硬化而形成接著劑層，故在光硬化性接著劑組成物中係調配光陽離子聚合起始劑(B)。光陽離子聚合起始劑(B)係藉由如可見光線、紫外線、X射線或電子射線之活性能量射線的照射而產生陽離子物種或路易士酸(Lewis acid)，而起始光陽離子硬化性成分(A)的聚合反應者。光陽離子聚合起始劑由於係藉由光而發揮觸媒方面的作用，故即便與光陽離子硬化性成分(A)混合，在保存穩定性和作業性仍為優異。就藉由活性能量射線的照射而產生之陽離子物種或路易士酸的化合物而言，例如可列舉：芳香族重氮鹽；如芳香族錪鎓鹽或芳香族鋶鎓鹽的鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。
芳香族重氮鹽係例如可列舉下列的化合物。
重氮苯 六氟銻酸鹽，
重氮苯 六氟磷酸鹽，
重氮苯 六氟硼酸鹽等。
芳香族錪鎓鹽例如可列舉下列的化合物。
二苯基錪 肆(五氟苯基)硼酸鹽，
二苯基錪 六氟磷酸鹽，
二苯基錪 六氟銻酸鹽，
二(4-壬基苯基)錪 六氟磷酸鹽等。
芳香族鋶鎓鹽例如可列舉下列的化合物。
三苯基鋶 六氟磷酸鹽，
三苯基鋶 六氟銻酸鹽，
三苯基鋶 肆(五氟苯基)硼酸鹽，
4,4’-雙〔二苯基鋶基〕二苯硫醚 雙六氟磷酸鹽，
4,4’-雙〔二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基〕二苯硫醚 雙六氟銻酸鹽，
4,4’-雙〔二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基〕二苯硫醚 雙六氟磷酸鹽，
7-〔二(對甲苯甲醯基)鋶基〕-2-異丙基硫雜蒽酮 六氟銻酸鹽，
7-〔二(對甲苯甲醯基)鋶基〕-2-異丙基硫雜蒽酮 肆(五氟苯基)硼酸鹽，
4-苯基羰基-4’-二苯基鋶基-二苯硫醚 六氟磷酸鹽，
4-(對第三丁基苯基羰基)-4’-二苯基鋶基-二苯硫醚 六氟銻酸鹽，
4-(對第三丁基苯基羰基)-4’-二(對甲苯甲醯基)鋶基-二苯硫醚 肆(五氟苯基)硼酸鹽等。
鐵-芳烴錯合物係例如可列舉下列的化合物。
二甲苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟銻酸鹽，
異丙苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟磷酸鹽，
二甲苯-環戊二烯基鐵(II) 參(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。
此等光陽離子聚合起始劑(B)係可分別單獨地使用，亦可混合2種以上而使用。此等之中，特佳係使用芳香族鋶鹽，因為芳香族鋶鹽在300nm附近的波長區域也有紫外線吸收特性之故，而可提供硬化性優異、具有良好的機械強度和接著強度的光硬化性接著劑組成物(1)的硬化物。
相對於光陽離子硬化性成分(A)整體100質量份，光陽離子聚合起始劑(B)的調配量通常為2.5至15質量份，較佳為2.5至10質量份，更佳為2.5至4質量份。藉由在每100質量份的光陽離子硬化性成分(A)調配2.5質量份以上的光陽離子聚合起始劑(B)，即便在與接著劑層相接之易接著層之表面的氮原 子與碳原子比(N/C)為0.05以上，仍可使光陽離子硬化性成分(A)充分地硬化，所獲得之偏光板保管在濕熱環境下保管之後的偏光片的脫色係受到抑制，同時可賦予高的機械強度與接著強度。另一方面，光陽離子聚合起始劑(B)的量變多時，可能會因為光硬化性接著劑組成物(1)的硬化物中的離子性物質增加使硬化物的吸濕性變高，而使得偏光板的耐久性能減低之情形，故較佳係為設為15質量份以下。
(光硬化性接著劑的反應促進劑)
本發明之光硬化性接著劑組成物(1)除了含有光陽離子硬化性成分(A)以及光陽離子聚合起始劑(B)，亦可含有一般已知調配在光硬化性樹脂組成物或接著劑的其它成分。其它成分的合適例子可列舉光敏劑以及光敏助劑。光敏劑是在較光陽離子聚合起始劑(B)所顯示的最大吸收波長更長之波長處顯示最大吸收，促進藉由光陽離子聚合起始劑(B)的聚合起始反應的化合物。此外，光敏助劑係更進一步促進光敏劑的作用之化合物。視保護膜的種類，亦有以調配如此之光敏劑及進一步調配光敏助劑為較佳之情形。
光敏劑較佳為在比380nm更長的波長的光顯示最大吸收之化合物。前述的光陽離子聚合起始劑(B)係在300nm附近或比300nm更短的波長處顯示最大吸收，感應在300nm附近的波長之光而產生陽離子物種或路易士酸，並起始光陽離子硬化性成分(A)的陽離子聚合，但若是調配如上述的光敏劑，則會變得可以感應比300nm更長的波長，特別是會變得可以感應比380nm更長的波長的光。該光敏劑係能夠有利地使用蒽系化合物。若要舉出蒽系光敏劑的具體例，則有下列的化合物。
9,10-二甲氧基蒽，
9,10-二乙氧基蒽，
9,10-二丙氧基蒽，
9,10-二異丙氧基蒽，
9,10-二丁氧基蒽，
9,10-二戊基氧基蒽，
9,10-二己基氧基蒽，
9,10-雙(2-甲氧基乙氧基)蒽，
9,10-雙(2-乙氧基乙氧基)蒽，
9,10-雙(2-丁氧基乙氧基)蒽，
9,10-雙(3-丁氧基丙氧基)蒽，
2-甲基-9,10-二甲氧基蒽或2-乙基-9,10-二甲氧基蒽，
2-甲基-9,10-二乙氧基蒽或2-乙基-9,10-二乙氧基蒽，
2-甲基-9,10-二丙氧基蒽或2-乙基-9,10-二丙氧基蒽，
2-甲基-9,10-二異丙氧基蒽或2-乙基-9,10-二異丙氧基蒽，
2-甲基-9,10-二丁氧基蒽或2-乙基-9,10-二丁氧基蒽，
2-甲基-9,10-二戊氧基蒽或2-乙基-9,10-二戊氧基蒽，
2-甲基--9,10-二己氧基蒽或2-乙基-9,10-二己氧基蒽等。
藉由在光硬化性接著劑組成物中調配如上述的光敏劑，相較於未調配光敏劑之情形，光硬化性接著劑組成物(1)的硬化性係有所提升。藉由相對於光陽離子硬化性成分(A)的100質量份調配0.1質量份以上的光敏劑，會呈現這樣的效果。另一方面，光敏劑的調配量變多時，因為在低溫保管時會產生析出等問題，故相對於光陽離子硬化性成分(A)100質量份，光敏劑的調配量較佳 係2質量份以下。從維持偏光板的中性灰(neutral gray)的觀點來看，係以在適度保有偏光片與保護膜的接著力的範圍內減少光敏劑的調配量較為有利，例如：相對於光陽離子硬化性成分(A)100質量份，光敏劑的量係設為0.1至0.5質量份，進一步較佳係設為0.1至0.3質量份之範圍。
其次說明光敏助劑。就光敏助劑而言，亦有各種的光敏助劑，但以使用萘系化合物為有利。萘系光敏助劑的具體例係可舉下列的化合物。
4-甲氧基-1-萘酚，
4-乙氧基-1-萘酚，
4-丙氧基-1-萘酚，
4-丁氧基-1-萘酚，
4-己基氧基-1-萘酚，
1,4-二甲氧基萘，
1-乙氧基-4-甲氧基萘，
1,4-二乙氧基萘，
1,4-二丙氧基萘，
1,4-二丁氧基萘等。
藉由在光硬化性接著劑組成物(1)中調配萘系光敏助劑，相較於未調配萘系光敏助劑的情況相比，接著劑的硬化性係有所提升。藉由相對於光陽離子硬化性成分(A)的100質量份調配0.1質量份以上的萘系光敏助劑，會呈現這樣的效果。另一方面，萘系光敏助劑的調配量變多時，因為在低溫保管時會產生析出等問題，故相對於光陽離子硬化性成分(A)100質量份，萘系光敏助劑的調配量較佳係設為5質量份以下，進一步較佳係設為3質量份以下。
(調平劑)
當光硬化性接著劑組成物(1)含有調平劑，係可提升光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈性，防止塗佈後產生條痕。
調平劑可舉出有機矽氧烷聚合物化合物等。調平劑可使用市售品，可舉例如：KF-640、642、643、KP341、X-70-092、X-70-093、KBM303、KBM403、KBM803(以上為商品名稱，信越化學工業公司製)；SH-28PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8428、DC-57、DC-190(以上為商品名稱，Dow Corning Toray Silicone公司製)；SILWET L-77、L-7001、FZ-2105、FZ-2120、FZ-2154、FZ-2164、FZ-2166、L-7604(以上為商品名稱，Nippon Unicar公司製)；DBE-814、DBE-224、DBE-621、CMS-626、CMS-222、KF-352A、KF-354L、KF-355A、KF-6020、DBE-821、DBE-712(Gelest)、BYK-307、BYK-310、BYK-378、BYK-333(以上為商品名稱，BYK‧JAPAN製)；GLANOL(商品名，共榮社化學公司製)；KRM-230(ADEKA股份有限公司，商品名)等。
光硬化接著劑組成物(1)含有調平劑時，相對於光陽離子硬化性成分(A)100質量份，調平劑的含量通常為0.001至5質量份，較佳為0.01至3質量份。
〔易接著層〕
易接著層係藉由將含有聚胺酯樹脂、水溶性環氧以及鹼成分等的組成物(以下，有時稱為易接著劑組成物(1))硬化而形成。
聚胺酯樹脂係使用醚系聚胺酯或酯/醚系聚胺酯。醚系聚胺酯係在分子主鏈具有醚鍵的聚胺酯，酯/醚系聚胺酯係在分子主鏈具有酯鍵以及醚鍵的 聚胺酯。聚胺酯樹脂可在分子內具有酸構造。酸構造係可存在於聚胺酯中的側鏈，亦可存在於末端。酸構造可舉例如羧基(-COOH)、磺酸基(-SO3H)等酸基。
聚胺酯樹脂亦可使用市售的水系胺酯樹脂。水系胺酯樹脂係含有聚胺酯與水的組成物，通常為在水中分散有聚胺酯以及視需要而含有的其它成分者。水系胺酯樹脂的市售品可舉例如：旭電化工業公司製的「ADEKA BONTIGHTER」系列；三井東壓化學公司製的「OLESTER」系列；大日本印墨化學工業公司製的「BONDIC」系列、「HYDRAN」系列；BAYER公司製的「Impranil」系列；Soflan Japan公司製的「Sofranate」系列；花王公司製的「Poise」系列；三洋化成工業公司製的「Samprene」系列；保土谷化學工業公司製的「IZELUX」系列；第一工業製藥公司製的「Superflex」系列；Zeneca公司製的「Neolet」系列；Lubrizol公司製的「Sancure」系列等。
環氧化合物係可列舉：藉由將乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇(1,6-hexane glycol)、新戊二醇等醇類1莫耳與表氯醇2莫耳予以醚化所獲得之二環氧化合物；藉由將甘油、聚甘油、三羥甲基丙烷、新戊四醇、山梨糖醇等多元醇類1莫耳與表氯醇2莫耳以上予以醚化所獲得之聚環氧化合物；藉由將鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、草酸、己二酸等二羧酸1莫耳與表氯醇2莫予以酯化所獲得之二環氧化合物等環氧化合物；等。環氧化合物可單獨使用1種，亦可將2種以上以任意的比率組合使用。
相對於聚胺酯100質質量份，環氧化合物的含量通常為2質量份以上，較佳為5質量份以上，更佳為8質量份以上，通常為20質量份以下，較佳為15質量份以下。藉由將環氧化合物的量設為前述範圍的下限值以上，則 環氧化合物與聚胺酯的反應可充分地進行，故可適當地提升易接著層之機械強度；藉由設在上限值以下，可減少未反應之環氧化合物的殘留，而可適當地提升易接著層之機械強度。
鹼成分可列舉氫氧化鈉和氫氧化鉀等無機鹼；2-胺基-2-甲基-1-丙醇(AMP)、單乙醇胺、2-胺基-2-甲基-1,3-丙二醇(AMPD)、2-胺基-2-羥基甲基-1,3-丙烷氫氧化鉀、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β(胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β(胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲基二甲氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基-參(2-甲氧基-乙氧基-乙氧基)矽烷、環己基胺、六亞甲基二胺、伸乙基二胺、二伸乙基三胺、四伸乙基五胺、五伸乙基五胺、胺基乙基乙醇胺、1,2-丙二胺(1,2-propanediamine)、異佛酮二胺、4,4’-二環己基甲烷二胺、3,3’-二甲基-二環己基甲烷二胺、1,2-環己烷二胺、1,4-環己烷二胺、胺基乙基乙醇胺、胺基丙基乙醇胺、胺基己基乙醇胺、胺基乙基丙醇胺、胺基丙基丙醇胺、胺基己基丙醇胺、5-胺基吡唑、1-甲基-5-胺基吡唑、1-異丙基-5-胺基吡唑、1-苯甲基-5-胺基吡唑、1,3-二甲基-5-胺基吡唑、1-異丙基-3-甲基-5-胺基吡唑、1-苯甲基-3-甲基-5-胺基吡唑、1-甲基-4-氯-5-胺基吡唑、1-甲基-4-氰基-5-胺基吡唑、1-異丙基-4-氯-5-胺基吡唑、3-甲基-4-氯-5-胺基吡唑、1-苯甲基-4-氯-5-胺基吡唑等一級胺；
二乙醇胺、嗎啉、哌
Figure 109100325-A0202-12-0018-11
、2-甲基哌
Figure 109100325-A0202-12-0018-12
、2,5-二甲基哌
Figure 109100325-A0202-12-0018-13
、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等二級胺；
N-甲基-3-胺基丙基三甲氧基羧酸二醯肼、碳二醯肼(carbodihydrazide)、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、己二酸二醯肼、癸二酸二醯肼、十二 烷二酸二醯肼、間苯二甲酸二醯肼、對苯二甲酸二醯肼、乙醇酸二醯肼、聚丙烯酸二醯肼等醯肼化合物；
三乙醇胺、三異丙醇胺、三〔(2-羥基)-1-丙基〕胺、N,N-二乙基甲醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N,N’,N’-四甲基伸乙基二胺、N,N-二甲基苯甲基胺、二乙基胺基丙基胺、N-(2-胺基乙基)哌
Figure 109100325-A0202-12-0019-10
、2,4,6-參(二甲基胺基甲基)酚、N,N-雙(三甲基矽基)尿素等三級胺；
咪唑、2-甲基咪唑、1-(2-胺基乙基)-2-甲基咪唑、1-(2-胺基乙基)-2-乙基咪唑、2-胺基咪唑硫酸鹽、2-(2-胺基乙基)-苯并咪唑等咪唑化合物；
咪唑啉、2-甲基-2-咪唑啉等咪唑啉化合物；等。
其中，較佳為具有醯肼基(-NHNH2基)的醯肼化合物。此外，鹼成分可單獨使用1種，亦可組合2種以上。
相對於聚胺酯樹脂100質量份，鹼成分的含量通常為3至25質量份，較佳為3至10質量份，更佳為5至10質量份。
藉由適宜設定鹼成分的含量，可將由易接著劑組成物(1)形成之易接著層中之與接著劑層相接的表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)調整為0.05至未達1.0之範圍。另外，易接著層中之接著劑層相接的表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)係可藉由實施例所記載之方法測定。
易接著劑組成物(1)通常為於溶劑中溶解或分散有聚胺酯樹脂、環氧化合物、鹼、以及視需要而使用的其它的成分的組成物。
溶劑係可列舉水或水溶性的溶劑。
水溶性的溶劑可舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、四氫呋喃、N-甲基吡咯啶酮、二甲基亞碸、乙二醇單甲基醚、乙二醇單丁基醚等。其中，溶劑較 佳為使用水。另外，溶劑可單獨使用1種，亦可將2種以上以任意的比率組合使用。
易接著劑組成物(1)較佳為更含有微粒子。由易接著劑組成物(1)所形成的易接著層係含有微粒子，而可在易接著層之表面形成凹凸。若於易接著層之表面形成凹凸，則在捲繞之際，易接著層與其它層接觸的面積會變小，而可對應地使易接著層之表面的光滑性提升，抑制捲繞本發明之複層膜之際的皺摺產生。
微粒子的平均粒徑通常為1nm以上，較佳為5nm以上，更佳為10nm以上，通常為500nm以下，較佳為300nm以下，更佳為200nm以下。藉由將平均粒徑設在前述範圍的下限值以上，可有效地提高胺酯樹脂層之光滑性；藉由設在前述範圍的上限值以下，則可將霧度抑制為低。又，微粒子的平均粒徑係藉由雷射繞射法來測定粒徑分布，並於經測定的粒徑分布中從小徑側開始計算，而採用累積體積成為50%的粒徑(50%體積累積粒徑D50)。
微粒子係可使用無機微粒子、有機微粒子的任一種，但較佳係使用水分散性的微粒子。無機微粒子可舉例如：二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯等無機氧化物；碳酸鈣、滑石、黏土、煅燒高嶺土、煅燒矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等。此外，有機微粒子可舉例如：聚矽氧樹脂、氟樹脂、丙烯酸樹脂等。此等之中，尤以二氧化矽為較佳。這是因為二氧化矽的微粒子在抑制皺摺產生的能力以及透明性為優異、不易產生霧度、不會著色，從而對本發明之偏光板的光學特性造成的影響更小之故。二氧化矽的微粒子中，尤以非晶質膠體二氧化矽粒子為特佳。
又，微粒子可單獨使用1種，亦可將2種以上以任意的比率組合使用。
易接著劑組成物(1)可含有其它的成分，例如可含有界面活性劑等。
藉由將易接著劑組成物(1)塗佈於後述的保護膜之後，使其硬化，而可形成易接著劑層。本發明中之易接著劑層，其與接著劑層相接之表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)為0.05至未達1.0。原子濃度比(N/C)較佳為0.05至0.2。易接著層中所含有之鹼成分的含量較佳為1.0×10-14mol/m2至1.0×10-7mol/m2。易接著層中所含有之鹼成分的含量，可藉由適宜地設定易接著劑組成物(1)中所含有之鹼成分的含量、易接著層之厚度而調整至所期望之範圍。易接著層之厚度較佳為1至200nm，更佳為10至200nm。
(保護膜)
保護膜係可列舉以三乙醯纖維素為首之乙醯纖維素系樹脂膜；非晶性聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂等透濕度較三乙醯纖維素更低的樹脂膜。三乙醯纖維素的透濕度大致為400g/m2/24小時左右。
乙醯纖維素系樹脂係於纖維素中的羥基之至少一部分經乙酸酯化的樹脂，亦可為一部分經乙酸酯化，一部分為其它的酸所酯化的混合酯。乙醯纖維素系樹脂的具體例可舉：三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、纖維素乙酸丙酸酯(cellulose acetate propionate)、纖維素乙酸丁酸酯等。
非晶性聚烯烴系樹脂係如降莰烯、四環十二烯(別名二甲橋八氫萘)、或如於該等鍵結有取代基之化合物般，具有環狀烯烴的聚合單元之聚合物，亦可為使環狀烯烴與鏈狀烯烴及/或芳香族乙烯基化合物共聚合後之共聚物。當為環狀烯烴之均聚物、或是2種以上之環狀烯烴的共聚物的情況下，由 於會因為開環聚合而殘留雙鍵，故一般係使用經氫化者來作為非晶性聚烯烴系樹脂。其中，代表性者為熱塑性降莰烯系樹脂。
聚酯系樹脂係藉由二元酸與二元醇的聚縮合所獲得之聚合物，代表性者為聚對苯二甲酸乙二酯。丙烯酸系樹脂係以甲基丙烯酸甲酯為主要單體的聚合物，除了可為甲基丙烯酸甲酯的均聚物之外，亦可為甲基丙烯酸甲酯與如丙烯酸甲酯之丙烯酸酯和芳香族乙烯基化合物等的共聚物。聚碳酸酯系樹脂為於主鏈具有碳酸酯鍵(-O-CO-O-)的聚合物，代表性者為藉由雙酚A與光氣(phosgene)之聚縮合所獲得。鏈狀聚烯烴系樹脂係以如乙烯和丙烯的鏈狀烯烴作為主要單體之聚合物，可為均聚物或共聚物。其中，代表性者為丙烯的均聚物、於丙烯共聚合有少量的乙烯之共聚物。
保護膜可具有相位差。
保護膜在與易接著層為相反側的面，可具有如硬塗層、抗反射層、防眩層或抗靜電層之各種表面處理層。包括形成有如此之表面處理層的情況在內，保護膜的厚度通常為5至150μm，較佳為10μm以上，更佳為120μm以下，再更佳為100μm以下。
(偏光板的製造方法)
本發明之偏光板可藉由下列方式製造：首先，製作附易接著層之保護膜，然後隔著接著劑層將所獲得之附易接著層之保護膜與偏光片予以貼合。
附易接著層之保護膜係藉由於保護膜形成易接著劑組成物(1)的塗佈層，並對該塗佈層施加熱以使該塗佈層硬化，於保護膜形成易接著層而獲得。易接著劑組成物(1)的塗佈層之形成係可利用刮刀塗佈機、線棒塗佈機、模具塗佈機、 點式(comma)塗佈機、凹版塗佈機等各種塗佈方式。此外，在保護膜的表面係可進行電暈處理等表面處理。
藉由在偏光片與附易接著層之保護膜的貼合面的一面或兩面形成光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈層，隔著該塗佈層將偏光片與附易接著層之保護膜予以貼合，並藉由活性能量射線的照射而使光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈層硬化，係可製造偏光板。光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈層可形成在偏光片的貼合面，亦可形成在附易接著層之保護膜的貼合面。光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈層之形成，係可利用與易接著劑組成物(1)的塗佈層之形成相同的方法。此外，亦可採用使偏光片與附易接著層之保護膜這兩者的貼合面成為內側之方式，將光硬化性接著劑組成物(1)連續的供給，同時流佈在其間。各種塗佈方式係各有其最適當的黏度範圍，故可使用溶劑進行黏度調整。用於此黏度調整之溶劑，係使用不會使偏光片的光學性能降低，且良好地溶解光硬化性接著劑組成物(1)者，但其種類並無特別限定。例如可使用以甲苯為代表的烴類、以乙酸乙酯為代表的酯類等有機溶劑。接著劑層之厚度通常為20μm以下，較佳為10μm以下，更佳為5μm以下。接著劑層變厚時，會有接著劑的反應率降低、偏光板的耐濕熱性惡化的傾向。
就用以對光硬化性接著劑組成物(1)的塗佈層照射活性能量射線所使用的光源而言，只要是產生紫外線、電子射線、X射線等者即可。特別是適合使用在波長400nm以下具有發光分布的低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵素燈等。對光硬化性接著劑的活性能量射線照射強度係依目標的各組成物而決定，並無特別限定，但較 佳係以對光陽離子聚合起始劑的活性化為有效的波長區域之照射強度成為5至3000mW/cm2的方式來設定。
對光硬化性接著劑組成物(1)的光照射強度過小時，反應時間會變得太長，另一方面，當該光照射強度過大時，則會因為從燈輻射出的熱以及光硬化性接著劑組成物(1)在聚合時的發熱，而有可能產生光硬化性接著劑組成物(1)的黃化和偏光片的劣化。對光硬化性接著劑組成物(1)的光照射時間係依進行硬化的各組成物來調控，而且雖無特別限定，但較佳係以照射強度與照射時間的積來表示之累積光量成為10至5,000mJ/cm2的方式來設定。
對光硬化性接著劑組成物(1)的累積光量過小時，則源自光陽離子聚合起始劑的活性物種的產生並不充分，所獲得之接著劑層之硬化可能會變得不充分，另一方面，若欲將該累積光量設定為大，則照射時間會變得非常的長，而變得不利於提升生產性。
本發明之偏光板，係可在與貼合著附易接著層的保護膜之面為相反側的偏光片面進一步積層保護膜(以下，有時稱為保護膜A)。可隔著由上述光硬化性接著劑組成物(1)所形成之接著劑層來貼合保護膜A與偏光片，亦可隔著由公知的接著劑所形成之接著劑層來貼合保護膜A與偏光片。此外，保護膜A可為附易接著層之保護膜，亦可為後述之光學層。
〔積層光學構件〕
本發明之偏光板係可積層偏光板以外的具有光學機能之光學層，而作成積層光學構件。
若舉光學層之例，對於配置在液晶單元的背面側之偏光板，係有積層在與面向該偏光板的液晶單元之側為相反側的反射層、半透射反射層、光 擴散層、聚光板、增亮膜等。此外，無論是對於配置在液晶單元的前面側的偏光板及配置在液晶單元的背面側的偏光板的任一者，均有積層在面向該偏光板的液晶單元之側的相位差膜等。
反射層、半透射反射層或光擴散層分別係為了成為反射型的偏光板(光學構件)、半透射反射型的偏光板(光學構件)或擴散型的偏光板(光學構件)而設置。反射型的偏光板係用於使來自視認側的入射光反射而顯示之類型的液晶顯示裝置，而可省略背光等的光源，故容易將液晶顯示裝置薄型化。此外，半透射型的偏光板係用於在亮處為反射型、在暗處係顯示源自背光的光之類型的液晶顯示裝置。作為反射型偏光板的光學構件，係例如可在偏光片上的保護膜附設由鋁等金屬所成的箔和蒸鍍膜而形成反射層。作為半透射型的偏光板之光學構件，係可藉由將前述的反射層設為半反射鏡(Half mirror)、或將含有珠光顏料等而顯示光透射性的反射板接著於偏光板而形成。另一方面，作為擴散型偏光板的光學構件，係可使用各種的方法，例如：對偏光板上的保護膜施以消光(matte)處理的方法、塗佈含有微粒子的樹脂之方法、接著含有微粒子的膜之方法等，而在表面形成微細凹凸構造。
再者，亦可形成作為反射擴散兩用的偏光板而發揮作用的光學構件，此種情況下，例如可採用在擴散型偏光板的微細凹凸構造面設置反映出該凹凸構造的反射層等方法。微細凹凸構造的反射層可藉由散射使入射光擴散，而有防止指向性、眩光，並且能夠抑制明暗不均勻等優點。此外，含有微粒子之樹脂層和膜，還具有於入射光以及入射光的反射光透射過含微粒子層之際被擴散，而能夠抑制明暗的不均勻等優點。反映出表面微細凹凸構造之反射層係可藉由例如像是真空蒸鍍、離子鍍覆、或濺鍍般的蒸鍍和鍍覆等方法，將金屬 直接附設於微細凹凸構造的表面而形成。為了形成表面微細凹凸構造而調配的微粒子，例如能夠為：如平均粒徑為0.1至30μm之二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻之無機系微粒子；如交聯或非交聯的聚合物之有機系微粒子；等。
聚光板係使用目的為光程調控等者，故可形成為棱鏡陣列片(prismaticprism array sheet)、透鏡陣列片(lens array sheet)或附點的片(dot-attached sheet)等。
增亮膜係使用目的為提升液晶顯示裝置之亮度者，其例子可舉出：反射型偏光分離片，係以積層複數片折射率的異方性互為相異的薄膜，而在反射率會產生異方性的方式設計出者；圓偏光分離片，係於膜基材上支持有膽固醇型液晶聚合物的定向膜和定向膜的定向液晶層者；等。
另一方面，作為光學層而發揮作用的上述相位差膜，其使用目的係補償液晶單元所致之相位差等。其例可舉出：由各種塑膠的延伸膜等所構成的雙折射性膜、定向固定有盤狀液晶或向列型液晶的膜、於膜基材上形成有上述液晶層者等。於膜基材上形成液晶層時，膜基材較佳係能夠使用三乙醯纖維素等纖維素系樹脂膜。
就形成雙折射性膜的塑膠而言，可舉例如：非晶性聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、如聚丙烯之鏈狀聚烯烴系樹脂、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚芳酯、聚醯胺等。延伸膜可為經單軸或二軸等適宜的方式處理者。另外，相位差膜亦可以廣帶域化等光學特性的調控為目的，而將2片以上組合使用。
於積層光學構件中，由於包含相位差膜作為偏光板以外的光學層者在應用於液晶顯示裝置時可有效地進行光學補償，故較佳為使用包含相位差膜作為偏光板以外的光學層者。相位差膜的相位差值(面內以及厚度方向)，若為對應所應用的液晶單元而選擇最適當者即可。
積層光學構件可係將偏光板與對應使用目的而由上述各種光學層選出之1層或2層以上予以組合，而作成2層或3層以上的積層體。於此種情況下，形成積層光學構件之各種光學層係能夠使用接著劑、黏著劑而與偏光板一體化，為此所使用的接著劑、黏著劑若為能夠良好地形成接著劑層或黏著劑層者，則無特別限定。從接著操作的簡便性、防止光應變(optical strain)的產生等觀點來看，較佳為使用黏著劑(亦稱為感壓接著劑)。黏著劑係可使用以丙烯酸樹脂聚合物和聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醚等作為基質聚合物(base polymer)。其中，較佳為選擇使用如丙烯酸系黏著劑般，係光學透明性優異、保有適度的濕潤性和凝聚力、與基材的接著性亦優異，且具有耐候性、耐熱性等，而在加熱、加濕的條件下不會產生浮起和剝落等剝離問題者。於丙烯酸系黏著劑中，如下所述之丙烯酸樹脂共聚物係有用於作為基質聚合物；其中，該丙烯酸樹脂共聚物係以使玻璃轉移溫度成為較佳之25℃以下、更佳之0℃以下的方式來調配具有甲基、乙基和丁基等碳數為20以下之烷基的(甲基)丙烯酸之烷基酯，與由(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸羥乙酯等所成的含有官能基之丙烯酸樹脂單體，而重量平均分子量為10萬以上者。
偏光板之黏著劑層之形成，例如可藉由下述方式來進行：使黏著劑組成物溶解或分散於甲苯和乙酸乙酯等有機溶劑而調製出10至40質量%的溶液，並將所調製的溶液直接塗佈在偏光板上的方式；預先在保護膜上形成黏 著劑層後，再將該黏著劑層移動附著到偏光板上之方式等。黏著劑層之厚度係依其接著力等而決定，但以在1至50μm左右之範圍為適當。
此外，黏著劑層中可視需要而調配：包含玻璃纖維和玻璃珠、樹脂珠、金屬粉和其它的無機粉末等之填充劑；顏料和著色劑；抗氧化劑、紫外線吸收劑等。紫外線吸收劑係有：水楊酸酯系化合物和二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
積層光學構件可配置在液晶單元的單側或兩側。使用之液晶單元係任意者，例如可使用以薄膜電晶體型為代表之主動矩陣驅動型者、以超扭轉向列型(Super Twisted Nematic)為代表之單純矩陣驅動型者等之各種液晶單元，來形成液晶顯示裝置。積層光學構件與液晶單元的接著，通常能夠使用與上述相同的黏著劑。
[實施例]
以下係顯示實施例，以進一步具體說明本發明，但本發明並不侷限於此等實施例。例子中，表示含量及使用量的%及份若未特別註明，即為重量基準。此外，以下的例子所使用之光陽離子硬化性成分以及光陽離子聚合起始劑係如下所示，以下係表示各者的記號。
(1)附易接著層之環烯烴膜的製作
調製例1：胺酯樹脂的水分散體(1)的調製
將胺酯樹脂水溶液(第一工業製藥股份有限公司製「SUPERFLEX170」)的固形分0.59g、純水10g、間苯二甲酸二醯肼41.2mg、環氧化合物(nagase chemtex公司製「DENACOL EX-313」)88.2mg以及異丙醇100mg予以混合，在室溫攪拌24小時，調製胺酯樹脂的水分散體(1)。
調製例2-4：胺酯樹脂的水分散體(2)至胺酯樹脂的水分散體(4)的調製
除了如表1之記載般地改變各種成分、含量以外，係與調製例1相同地調製出胺酯樹脂的水分散體(2)至胺酯樹脂的水分散體(4)。
Figure 109100325-A0202-12-0029-7
表1中的各成分係顯示如下。
170：第一工業製藥股份有限公司製「SUPERFLEX170」(不揮發成分：33質量%)
830HS；第一工業製藥股份有限公司製「SUPERFLEX830HS」(不揮發成分：27質量%)
500M：第一工業製藥股份有限公司製「SUPERFLEX540M」(不揮發成分：45質量%)
〔複層膜的製造〕
使用電暈處理裝置(春日電機公司製)，以輸出300W、電極長240mm、工作電極間距3.0mm、搬運速度4m/分鐘的條件，在由降莰烯系樹脂(COP：環烯烴聚合物)所構成的厚度50μm的相位差膜〔商品名“ZEONOR”，日本ZEON(股份有限公司)製〕的表面施以放電處理。
在COP膜之經施以放電處理的表面，使用棒塗機(OSG SYSTEM PRODUCTS股份有限公司製D-bar(P)0.08mm(H)3μm)將調製例1所製作的胺酯樹脂水分散體(1)以乾燥後的膜厚成為125nm的方式進行塗佈，在120℃乾燥3分鐘使之硬化，而得到附易接著層之COP膜(1)。
除了將胺酯樹脂水分散體(1)變更為於調製例2至4所調製之胺酯樹脂水分散體(2)至胺酯樹脂水分散體(4)以外，係與上述相同的方式，得到附易接著層之COP膜(2)至附易接著層之COP膜(4)。
〔N/C比的測定〕
使用賽默飛世爾科技(Thermo Fisher Scientific)公司製的K-Alpha+X射線光電子分光(XPS)系統，從易接著層之N(1s)、C(1s)的譜峰的面積強度比與裝置的靈敏度常數算出樹脂的底塗層(primer layer)之表面的N/C元素比。結果係顯示於表3。
測定條件係如以下所述。
X射線光源：單色Al-K α
X射線點尺寸：400μm φ
X射線輸出：6.0mA/1.2kV
中和槍：0.15mA/0.2V
通過能量(Pass energy)：50eV
掃描次數：5次
能階間隔(Step)：0.1eV
掃描累積時間(Dwell time)：50ms
〔實施例1〕
(2)光硬化性接著劑的調製
以表2表示之調配比例(單位為份)來混合各成分之後，進行脫泡，調製出光硬化性接著劑。另外，光陽離子聚合起始劑(b1)係作成50%碳酸丙烯酯溶液來調配，表2係表示其固形分量。
(A)光陽離子硬化性成分
(a1)脂環式環氧化合物 CEL2021(大賽璐股份有限公司製)
(a2)二縮水甘油基化合物 EX-211(nagase chemtex股份有限公司製)
(a3)單官能脂肪族環氧化合物 EX-121(nagase chemtex股份有限公司製)
(B)光陽離子聚合起始劑
(b1)SP-500(ADEKA股份有限公司製)
(c)調平劑 KRM-230(ADEKA股份有限公司製)
Figure 109100325-A0202-12-0031-8
(3)偏光板(1)的製作
在含有紫外線吸收劑之厚度80μm的三乙醯纖維素膜〔商品名“Konica TAC KC8UX2MW”，Konica Minolta opto(股份有限公司)製〕的表面施以電暈放電處理，並於該電暈放電處理面，使用棒塗機塗佈光硬化性接著劑組成物(1)。於其塗佈層貼合厚度28μm的聚乙烯醇-碘系偏光片。此外，於附易接著層之COP膜(1)的易接著層側，使用棒塗機塗佈光硬化性接著劑組成物(1)。於前述塗佈層貼合偏光片的偏光片側，該偏光片係在單面貼合有先前所製作的三乙醯纖維素膜之偏光片，而製作積層物。從該積層物的附易接著層之COP膜側，使用附帶式輸送機之紫外線照射裝置(燈係使用Fusion UV系統公司製的“D燈”(D bulb))，以在UVB波長區域之累積光量成為150mJ/cm2的方式照射紫外線，使接著劑硬化。以如此方式，製作於偏光片的兩面貼合有保護膜的偏光板(1)(三乙醯纖維素膜/接著劑層/偏光片/接著劑層/易接著層/COP膜)。
(4)接著劑層之膜厚的測定
將製作之偏光板裁出為3mm(寬)×1cm，並使用切片機〔LEICA公司製Microtome EM UC7〕，在偏光片的延伸方向予以切斷，製作剖面觀察用試樣。以光學顯微鏡〔KEYENCE股份有限公司製 數位顯微鏡〕觀察所獲得之剖面觀察用試樣，求出接著劑層之厚度。結果顯示於表3。
(5)偏光板的耐久性評估
對作成的偏光板之COP面施以電暈處理，積層丙烯酸系黏著劑。將所製作之附黏著劑層偏光板裁切成30mm×30mm的大小，並於其黏著劑層側貼合無鹼玻璃(康寧公司製的商品名“EAGLE XG(註冊商標)”，得到積層體。將積層體 靜置在溫度80℃相對濕度90%的濕熱環境下50小時，並以目視確認50小時後的偏光板的顏色。根據以下的評估判斷進行評估。
○：於濕熱環境下靜置之前和之後，偏光板未變色。
×：於濕熱環境下靜置之後，透明部與黑色部混合存在而呈斑駁的模樣。或偏光板整面變得透明。
(6)密著性評估
將所製作的偏光板裁切成長度200mm×寬25mm的大小。在裁切後的偏光板的COP膜側設置丙烯酸系黏著劑層，將丙烯酸系黏著劑層與玻璃板貼合而得到積層體。於所獲得之積層體的偏光片與COP膜之間置入切刀之刀刃，於長度方向從端部剝開30mm，用試驗機的夾持部分將被剝開的部分夾住。在溫度23℃相對濕度55%的氣體環境中，將此狀態的積層體依據JIS K 6854-2：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第2部：180度剝離」，以夾持移動速度300mm/分鐘進行180度剝離試驗，求出排除了夾持部的30mm而涵蓋170mm的長度之平均剝離力。
實施例2至4以及比較例1至3
除了接著劑組成物以及附易接著層之COP膜係如表3所示以外，以相同方式得到偏光板(2)至偏光板(7)。
Figure 109100325-A0202-12-0034-9
本發明之偏光板於濕熱環境下之光學耐久性係有所提升。

Claims (3)

  1. 一種偏光板，係依順序積層有偏光片、接著劑層、易接著層及保護膜，其中，
    易接著層係含有鹼成分，且與接著劑層相接之表面的氮原子與碳原子之原子濃度比(N/C)為0.05以上未達1.0；
    接著劑層為含有光陽離子硬化性化合物(A)以及光陽離子聚合起始劑(B)之組成物之光硬化物層；
    光陽離子硬化性化合物(A)的總質量中，含有脂環式環氧化合物30至80質量%；
    相對於光陽離子硬化性化合物(A)100質量份，係含有光陽離子聚合起始劑(B)2.5至15質量份。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，易接著層之厚度為1至200nm。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，接著劑層之厚度為0.5至5μm。
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