TW201940861A - 用於連續移動帶材的紅外光透射檢查 - Google Patents

用於連續移動帶材的紅外光透射檢查 Download PDF

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Abstract

描述用於藉由測量通過一移動膜之一厚度尺寸的光透射位準來檢查該膜之系統及技術。該系統包括一光源，其經組態以提供包括一特定波長或一特定波長範圍的光。來自該光源的光經引導朝向該膜之一第一表面，且一影像擷取裝置在該膜相對於該第一表面的一第二側上經定位為相鄰於該光源，該影像擷取裝置經組態以測量出射該膜之一第二表面的光強度位準。通過該膜之光強度位準的測量可沿著該膜與實體位置在空間上同步以產生至少一輥映射，該輥映射指示該膜在該膜之該等成像部分上方的光透射特性。

Description

用於連續移動帶材的紅外光透射檢查 【相關申請案之交互參照】
本申請案主張2018年1月31日申請之美國臨時專利申請案第62/624266號之優先權，其揭露係全文以引用方式併入本文中。
用於製作各種類型的膜(例如，透明聚酯膜及多層膜)之製造程序常涉及製造呈一(多個)長連續片材的膜，其稱為一帶材。帶材本身通常係一材料，其在一方向(「橫幅方向(cross-web direction)」)上具有一固定尺寸，在正交方向(「縱幅方向(down-web direction)」)上具有一預定或不確定的長度，且在膜之一頂部平坦表面與底部平坦表面之間具有一標稱厚度尺寸。在製作及處理帶材中使用的各種製造程序期間，可沿一縱向軸輸送帶材，該縱向軸平行於帶材之長度尺寸(縱幅方向)且垂直於帶材之寬度尺寸(橫幅方向)延行。使用多種手段以在製造程序期間輸送帶材，諸如輥軸或其他類型的支撐機構。
在製造於其中採用膜之最終產品之程序中的某一點處，帶材可經分割成帶材材料的個別部分以從帶材形成「部件」。部件可包括具有一形狀(諸如一矩形形狀周緣)的帶材材料片，並可包括或 可不包括形成在該形狀內之帶材材料的截去部分空隙。一旦從帶材材料轉換，則可將部件施加至一裝置(諸如一電腦監視器螢幕或一行動裝置(例如智慧型手機)的一顯示螢幕)作為一膜層，其覆蓋裝置之一外表面的一些部分。
取決於特定應用，用在一最終產品中之各個別帶材材料片或者帶材材料本身的一些量(例如，一捲膜)可需要符合與某些物理及/或功能特性相關的一或多個準則。例如，在各種波長下或者在一或多個特定的波長範圍內通過膜之一厚度尺寸的光透射位準可係由客戶規定的一性能特性及/或可藉由一些其他法規要求來規定，且其可應用於最後成為用於在其中使用該膜之一特定應用的一最終產品(例如，一部件)的各帶材材料片。可需要在帶材材料上及/或在將轉換或者已轉換成一部件之個別帶材材料片上執行帶材材料本身或欲用在最終產品中之帶材材料的個別部分之檢查的各種類型及/或位準，以確保及/或證明遵從此等客戶及/或法規要求。
本文所述之系統、裝置、及方法提供用於在高速下測量一膜之光透射性質的技術(例如，在一膜連續地移動通過一檢查站時)，且其等可包括膜製造期間之大部分(例如，100%)膜的檢查。測量一膜的光透射性質可包括判定由一光源產生且透射通過該膜之在某一波長內或者在一波長範圍內或在不同波長範圍內的光之光透射位準。包括受關注的波長或波長範圍的光係由一光源產生並經引導朝向該膜，使得可測量透射通過該膜(例如，雖然該膜的一厚度尺寸)的 一光位準。判定在受關注的波長或波長範圍內透射通過一膜之來自該光源的該等光位準包括使用(多個)光感測器擷取在該膜的複數個成像區域上方透射通過該膜的一光強度位準以及判定沿著該膜之一對應位置，該對應位置沿著該膜在空間上同步該等經測量的光強度位準與沿著該膜的該等實體位置，兩者均處於該膜之橫幅尺寸及縱幅尺寸中，在其中測量該等光強度位準。
使用透射通過該膜之該等經測量的光強度位準以及使該等經測量的位準與該膜之特定實體位置相關的該空間同步資料，可由該系統產生用於該膜之輥映射的各種版本。該等輥映射可提供相對於指示沿著該膜之實體位置的至少一標記而在空間上同步之用於該膜的該等光透射值之一連續表示。該輥映射中所包括的資訊可指示該膜之符合及不符合針對該膜之各成像區域之該等經測量的光透射位準之一使用者可判定的臨限位準的區域。此外，該輥映射可呈現為一圖形影像，其包括位置資訊或相對於該帶材上之該等實體標記的指示符。與該膜上之實體位置在空間上同步之由此一輥映射指定或與此一輥映射關聯的資訊可用以控制該膜的一轉換，該轉換係用以將膜片與帶材分開以形成部件(例如，一組產品)，使得僅在轉換自該膜之該等部件中使用該膜滿足該臨限光透射位準的部分。此外，與該(等)輥映射關聯的該資料可例如即時或有某一時間延遲提供給用以製造該膜之一或多個製造程序作為回饋資料。該回饋資訊可用以進一步控制該製造程序，以便為該製造程序提供品質控制。此類回饋亦可與用以在一線上製造應用中從該膜轉換部件之一自動化轉換程序結合使用，其例如 針對相關於轉換自該膜的該等部件之該等光透射特性的客戶及/或法規要求幫助確保所有轉換自該膜之部件的品質。
作為一實例，本揭露係關於一種用於檢查一膜之方法，該方法包含使來自一光源的光透射通過該膜，同時使該膜前進通過一影像擷取裝置及該光源；以及針對該膜之複數個影像區域的各者藉由該影像擷取裝置的一光感測器陣列擷取對應於透射通過該膜之一光強度位準的電信號。該方法進一步包括針對該複數個影像區域的各者藉由處理電路系統分析該等經擷取的電信號以判定對應於透射通過該膜之該光強度位準的一光透射量化值；以及針對該複數個影像區域的各者相對於該膜上的至少一標記及藉由該處理電路系統判定該膜上之一對應位置，以將該等光透射量化值在空間上同步至該膜。該方法亦包括藉由該處理電路系統產生用於該膜之一輥映射，其中該輥映射針對該複數個影像區域提供該等光透射量化值之一連續表示，並與該膜上的該至少一標記在空間上同步以用於控制該膜轉換成複數個部件。
作為另一實例，本揭露係關於一種用於檢查一膜之系統，該系統包含一光源，其經組態以產生具有至少一波長的光以及在該膜前進通過該光源的同時引導由該光源產生的光至該膜之一第一表面；以及一影像擷取裝置，其經定位以擷取光以及在該光於通過該膜之一厚度尺寸之後出射該膜相對於該膜的該第一表面之一第二表面之後測量由該光源所產生的該光之一光強度位準；以及一基準標記讀取器，其經定位以讀取該膜上之至少一標記以及基於該至少一標記輸出位置資料。該系統進一步包括至少一處理器，該處理器包含處理電路系統， 其經組態以針對該膜之複數個影像區域的各者分析該等經擷取的電信號以判定對應於透射通過該膜之一光強度位準的一光透射量化值；使用該位置資料將針對該複數個影像區域的各者而判定之該光透射量化值映射至該膜的一對應位置，以針對該膜之該等影像區域的各者在空間上同步該光透射量化值；以及產生用於該膜的一輥映射，其表示與該膜上的該至少一標記在空間上同步之用於該複數個影像區域的該等光透射量化值。
作為另一實例，本揭露係關於一種校準一膜檢查系統之方法，該方法包含在一光源與一膜檢查系統的一影像擷取裝置之間無一膜存在的情況下，使來自該光源之一光透射至該影像擷取裝置；以及藉由該影像擷取裝置擷取電子信號，該複數個電子信號對應於跨該影像擷取裝置之一影像區域成像之該光強度位準中的變動。該方法進一步包括施加一平場影像校正至該等電子信號以均化跨該成像區域擷取之該等光強度位準中的變動；以及儲存使用該平場影像校正產生的影像校正資料。該影像校正資料係用於校正膜中之經測量的光透射位準。該方法包括當成像前進通過該光源及該影像擷取裝置的一膜時，將該經儲存的影像校正資料施加至由該影像擷取裝置產生之由該成像擷取裝置擷取的影像資料組。
100‧‧‧系統
101‧‧‧輸入
103‧‧‧輸出
105‧‧‧箭頭
107‧‧‧輸出
109‧‧‧箭頭
110A‧‧‧製造程序
110B‧‧‧製造程序
110C‧‧‧製造程序
110‧‧‧製造程序
111‧‧‧箭頭
112‧‧‧膜
112A‧‧‧第一側
112B‧‧‧第二側
114‧‧‧成像設備
116‧‧‧測試結果
118‧‧‧操作者
120‧‧‧運算裝置
120A‧‧‧顯示裝置
120B‧‧‧處理電路系統
122‧‧‧資料庫
130‧‧‧圖
131‧‧‧例示性裝置
131A‧‧‧總成
132‧‧‧標頭區域
133‧‧‧顯示螢幕
134‧‧‧電源按鈕
135‧‧‧電子光感測裝置
136‧‧‧發射器
137‧‧‧接收器
140‧‧‧部件
141‧‧‧標頭區域
142‧‧‧開口
143‧‧‧開口
144‧‧‧開口
145‧‧‧膜
150‧‧‧例示性檢查系統
151‧‧‧光源
152‧‧‧箭頭
153‧‧‧虛線箭頭
154‧‧‧影像擷取裝置
155‧‧‧獲取電腦
156‧‧‧基準標記讀取器
157‧‧‧基準標記控制器
158‧‧‧濾光器
160‧‧‧編碼器
161‧‧‧輥
162‧‧‧輥
163‧‧‧箭頭
166‧‧‧轉換控制系統
167‧‧‧網路
180‧‧‧概念圖
181‧‧‧例示性輥映射
182‧‧‧總體寬度尺寸
183‧‧‧標稱單位
184‧‧‧箭頭
185‧‧‧標記
186‧‧‧分區
187‧‧‧分區
188‧‧‧分區
189‧‧‧分區
190‧‧‧箭頭
191‧‧‧例示性輥映射
192‧‧‧分區
193‧‧‧分區
200‧‧‧概念圖
201‧‧‧輥映射
202‧‧‧部件
203‧‧‧部件
204‧‧‧部件
205‧‧‧「個別部件轉換」箭頭
206‧‧‧部件
220‧‧‧圖示
221‧‧‧垂直軸(y軸)
222‧‧‧水平軸(x軸)
223‧‧‧曲線
230‧‧‧例示性方法
232‧‧‧方塊
234‧‧‧方塊
236‧‧‧方塊
238‧‧‧方塊
240‧‧‧方塊
242‧‧‧方塊
244‧‧‧決策方塊
246‧‧‧方塊
250‧‧‧例示性方法
252‧‧‧方塊
254‧‧‧方塊
256‧‧‧方塊
258‧‧‧方塊
260‧‧‧方塊
圖1係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示一用於製造一膜以及針對光透射透性檢查膜之系統之一概觀的功能方塊圖。
圖2係說明由具有各種針對光透射特性的要求之一膜形成的部件之用途的圖。
圖3係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術之用於檢查包含一膜之一帶材之一例示性成像系統的功能方塊圖。
圖4A係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示與針對一膜所產生的光透射位準關聯之映射實例的概念圖。
圖4B係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示用以判定用於產生部件之一膜之可用部分的一輥映射之用途的概念圖。
圖5根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示用於通過一膜之經測量的光透射位準之測試結果的圖示。
圖6係根據本揭露所述之各種技術繪示一用於光透射測量之例示性方法的流程圖。
圖7係根據本揭露所述之各種技術繪示一或多個例示性方法的流程圖。
本文所提供之圖式及說明繪示及描述本揭露之發明方法、裝置、及系統之各種實例。然而，本揭露之方法、裝置、及系統不限於如本文所繪示及描述之特定實施例，且如所屬技術領域中具有通常 知識者所將理解，預期本揭露之方法、裝置、及系統的其他實例及變體屬於本申請案之範疇。
大致上，本文描述用於檢查膜的技術，以便判定在某一特定波長內或者在一波長範圍內或在不同波長範圍內的光通過一膜的光透射位準。如上文所述，對一膜的某些應用而言，使一特定波長的光或者一波長範圍的光透射通過膜的厚度尺寸(例如，通過膜之一層的一厚度尺寸)的能力可係與膜的必需性能相關的一關鍵品質因素。
例如，針對打算用作圍繞及/或覆蓋顯示裝置(諸如電腦監視器或行動電話的顯示器)之外表面上之一覆蓋膜的某些膜之應用在某一最低透射位準處可需要使某些波長的光或某些波長範圍的光通過，同時阻擋或衰減其他(多個)波長的光。在一些應用中，膜必須經配置以在光通過膜的一厚度尺寸時予該波長的光一最低衰減位準的情況下使一特定波長的光(諸如紅外光)通過，同時阻擋其他波長的光(諸如可見光譜中的光)之透射。具有特定光透射特性的膜之用途在其他應用(諸如汽車及工業應用)中亦可係重要的，其中針對膜的光透射特性可藉由一或多個工業標準及/或政府法規來要求。
例如，針對通過一膜之紅外光透射位準之光透射位準的測量當前係受限為小的離散測量。一般而言，做出此等測量係非常耗時的，可需要特定的樣本大小，並可未針對相關的光透射特性測量大部分(例如100%)的樣本。在要求膜的100%檢查及測量之一些應用 中，可能無其他有別於此等耗時技術的方法可用以達成所需的品質控制。
本文所述之系統、裝置、及方法提供在高速下測量一膜之光透射性質的技術(例如，在一膜連續地移動通過一檢查站時)，且其等可包括膜的100%檢查。此使其適於線上製造應用中的實施方案，其中本發明可提供品質保證連同給提供膜之製造程序的即時回饋。大致上，通過膜的光透射係指相對於膜的一厚度尺寸之受關注的光之(多個)波長的透射及/或衰減位準(例如，膜的頂部與底部外部平坦表面之間的光透射)。此膜可包含單一材料層，或者可包括形成在膜的頂部與底部外部平坦表面之間的多個不同材料層。膜的厚度尺寸可係一垂直尺寸(例如，在膜的頂部與底部外部平坦表面之間以九十度延伸之一線的長度)。然而，對膜之一「厚度尺寸(thickness dimension)」的任何提及不一定要受限於由確切地垂直於膜的頂部及底部外部平坦表面的一線所判定之一尺寸，並可包括基於一非垂直線(例如，相對於膜的頂部及底部外部平坦表面具有一角定向)之長度的一尺寸。
在一些應用中，要求一膜針對一特定波長的光(諸如紅外光)允許至少一最低光透射位準跨最後用在一最終產品中之膜的所有部分通過膜的(多個)層，同時衰減或完全阻擋其他波長或波長範圍的光(諸如可見光)透射通過膜的厚度尺寸。膜之具有此等光透射性質的部分可包括一帶材的部分，該等部分係欲轉換成由膜片形成的「部件」，其等與膜之一較大帶材分開。
本文所述之系統、裝置、及技術允許在包含一膜的一帶材各處測量光透射位準(諸如紅外光透射位準)。此外，此等測量可在高速度率下及大面積上方執行，在一些實施例中，可在形成帶材之材料空間的整體上方執行。根據本文所述之技術，可隨著形成帶材的膜前進通過一檢查站(亦稱為一成像設備)而在一連續基礎上進行通過膜之光透射位準的測量。成像設備可包含一光源，其經配置而朝著形成一帶材的膜之一第一側發射光(在一些實施例中，紅外光)，同時帶材沿著帶材的長度或沿著縱幅尺寸前進通過光源。具有一光感測器陣列之一影像擷取裝置(諸如攝影機)可經定位在膜之相對膜的第一側之一第二側上的一位置處。影像擷取裝置係經組態以擷取由光源產生並透射通過膜之一厚度尺寸的光。影像擷取裝置針對膜的複數個成像區域產生對應於由影像擷取裝置所擷取的光強度位準之電信號。處理電路系統(諸如影像處理電路系統)係經組態以接收由影像擷取裝置擷取並與透射通過膜材料之厚度的光位準關聯的電信號，以及處理電信號以針對通過膜之經測量的光透射位準產生與帶材材料之成像部分關聯的資料。
此外，位置讀取器電路系統(其可包括經組態以基於滾動計數或位置指示符(諸如從膜表面讀取的基準標記或條碼)判定位置資料之一或多個感測器)係用以使與膜的成像區域關聯的位置資料與經擷取的光強度值產生關聯，從而使經擷取的光強度值與膜之特定的實體成像區域在空間上同步。以此方式，與經測量的光透射位準關聯之經擷取的資料係使用位置資料映射至膜的各別部分，以產生由成 像設備成像之帶材的一「輥映射(roll map)」。輥映射指定膜的不同部分上方之經測量的光透射位準至做出此等測量之各者的膜位置之一映射。可藉由擷取位置資料來執行映射，例如藉由感測沿著膜的長度(縱幅)尺寸提供的基準標記，以及如在光透射位準經測量時由一讀取器裝置所讀取者。
經擷取的位置資料可與光透射位準的測量關聯，使得用於帶材之成像部分之經測量的光透射位準可映射至分別做出此等測量的帶材位置。使用經測量的光透射位準及關聯的位置資料，可產生在帶材藉由成像設備成像的部分上方之用於光透射位準的一總體映射或者「輥映射」。在一些實施例中，帶材的成像部分包括跨橫幅尺寸及沿著帶材縱軸(縱幅尺寸)的整體之帶材整體。
使用使用本揭露通篇所述之技術的任一者產生的輥映射或者其任何等同物，可施加光透射的各種臨限位準至輥映射以產生一通過/未通過輥映射。通過/未通過輥映射可提供輥映射區域通過針對一臨限光透射位準的(多個)要求或者基於施加至輥映射的臨限位準而未通過(多個)要求之一指示(諸如圖形影像)。可進一步將通過/未通過輥映射提供給一轉換程式，該轉換程式判定通過/未通過輥映射的哪些區域可接著用以提供「良好」部件，該等部件可從帶材材料轉換(例如，分開成一部件)，並具有欲包括在滿足針對光透射的(多個)要求位準之經轉換部件之邊界內的膜的所有部分。
圖1係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示用於製造一膜以及針對光透射透性檢查膜之系統100之一概觀 的方塊圖。初始，製造程序110接收各種輸入101(例如，材料、能量、人、機具等)，並施加製造程序110A、110B、及110C以產生包括膜112的輸出103。製造程序110不受限於任何特定類型或形式的製造，並說明可操作以產生可包括透明或半透明膜之一膜之任何類型之製造程序，該等膜係意欲針對光的(多個)各種波長提供某些光透射特性位準。
由製造程序110提供的膜112可包括一膜，其具有一標稱厚度尺寸及一預定寬度尺寸。膜的一標稱厚度尺寸可在從25至500微米的範圍中，但不受限於此尺寸範圍，並可包括具有一較小或較大的標稱厚度尺寸的膜。預定寬度尺寸可在十二至六十吋的範圍中，但不受限於此寬度尺寸範圍。該膜可具有一預定長度，在大多數例項中，該膜可比該寬度尺寸長許多倍，或可自製造程序110以一連續長度予以提供，在任一情況中，該膜可稱為一帶材。在一些實施例中，膜112包含單一透明或半透明材料層，或者可包括具有複數個材料層的一膜。膜可係意欲針對一特定波長的光或針對一波長範圍的光提供特定的光透射位準，通常通過膜的厚度尺寸。膜亦可係意欲衰減或阻擋特定波長或一波長範圍的光透射通過膜的厚度尺寸。在一些實施例中，膜係意欲允許在光之一特定波長或一波長範圍內的一最低光透射位準，同時亦衰減或完全阻擋一不同波長的光或者一不同波長範圍的光透射通過膜的厚度尺寸。
根據本文所述之技術，膜112可以具有一固定橫幅尺寸及一預定或一未決長度尺寸(縱幅尺寸)的一捲帶材材料提供。膜 112的各層可包含形成膜之單一層的一層或複數層材料，其在膜之大致上平坦的頂部與底部表面之間具有一標稱厚度尺寸。
如箭頭105所圖示，系統100可提供由製造程序110產生的膜112給包括成像設備114的一檢查站。成像設備114可包括一光源(未圖示於圖1中)，其經組態以一特定波長或在一波長範圍內產生並提供光，其(等)受關注之處在於通過膜之此(等)波長的光透射位準。光源經配置以在一方向上提供光，使得光經引導而透射通過膜的一厚度尺寸。在一些實施例中，針對膜的要求係與能夠完全或至少以某一衰減位準阻擋一特定波長或一波長範圍的光，同時使其他(多個)波長的光在無任何衰減位準或僅有一最低衰減位準的情況下通過的膜關聯。
欲由成像設備114檢查的膜112可經定位，使得膜相鄰於光源前進，使得由光源產生的光經引導至膜的一第一表面(例如，一底部表面)。來自光源的光可在大致上通過(例如平行於)膜之厚度尺寸的一方向上或者以不平行於膜之厚度尺寸的某一角度透射通過膜，但其中光仍行進通過並出射膜的一第二表面(例如，實質上平行於底部表面的一頂部表面)。經組態以擷取及測量光強度位準之一影像擷取裝置(未圖示於圖1中)(諸如具有經組態以擷取及測量光強度位準之一電影像擷取陣列的攝影機)可在與光源所處之膜的第一側相對之第二側(例如，頂部表面)上經定位為相鄰於膜。影像擷取裝置可經配置以擷取透射通過膜112並在影像擷取裝置處經接收的光之一波長或一波長範圍的光，以及產生對應於在影像擷取裝置處經接收 之經測量的光位準之電信號。此等電信號接著經分析以針對相關的光波長或波長範圍判定經擷取的光強度位準，並用以進一步針對膜之成像區域的各者判定此(等)波長的光之透射位準。
成像設備114可包括經組態以使膜112沿著膜之一縱軸前進的裝置，以便部分(諸如膜的一寬度方向部分)可移動進出形成在光源與影像擷取裝置之間的成像區域。隨著膜112前進進出成像區域，亦透射通過膜並在成像設備114的影像擷取裝置處經接收之從光源透射的光位準係經測量以針對由影像擷取裝置成像的膜部分擷取與光透射位準關聯的影像資料。
成像設備114進一步包括一或多個裝置(未具體圖示於圖1中)，其等經配置以感測一位置標記(諸如可印刷在膜上或結合在膜內之一基準標記或一條碼)，該位置標記指示沿著膜之一縱幅尺寸的一實體位置。基於感測位置標記，且在一些實施例中基於從感測位置標記而讀取的資訊，在膜之各成像區域處之通過膜的光透射位準之測量係與得自位置標記的資料在空間上同步，以提供使膜的成像區域與在其中測量光透射位準之膜的對應實體位置關聯的資料。針對膜的各區域擷取的影像資料係映射至帶材的對應實體位置，該對應實體位置對應於基於經感測的位置標記資料而在其中執行成像之帶材部分。
在一些實施例中，在時間中的任何特定例項處經成像之膜112的部分在膜的橫幅尺寸中跨膜112的整體延伸。隨著膜112前進，膜112的複數個部分係前進進入成像設備114之經成像區域、成像、並前進離開該成像設備的成像區域，使得沿著膜的縱幅尺寸延伸 的膜部分可針對光透射位準進行測量。成像區域的部分可係相連的，使得在橫幅尺寸中以及沿著膜的縱幅尺寸跨帶材延伸之膜112的所有部分均針對光透射位準進行測量。
如上文所述，成像設備114亦包括一或多個裝置，其等經組態以讀取及擷取與膜112之由成像設備114成像的部分關聯之位置資料以測量通過膜的光透射位準。例如，成像設備114可包括讀取器(未圖示於圖1中)，其等經組態以讀取膜之一表面上的基準標記或嵌入膜內的標記。基準標記可包括指示基準標記相對於膜的縱向尺寸之位置的資訊。成像設備114可關聯經擷取的位置資料與針對膜的成像部分測量之光透射位準以產生一「輥映射」，該輥映射與針對沿著膜及跨膜成像之不同膜位置測量之經測量的光透射位準關聯。用以針對膜112產生輥映射的資料可用以產生一或多個圖形影像，其等顯示如針對膜的一或多個部分測量之不同的光透射位準。
此外，不同的臨限(諸如光位準透射臨限)可施加至初始用以產生輥映射的資料以進一步產生一通過/未通過輥映射。通過/未通過輥映射可用以產生一圖形影像，其顯示膜112符合及不符合由施加以產生通過/未通過輥映射之臨限所指示之光透射位準的部分。下文針對圖3繪示及描述與一例示性成像設備關聯的額外細節及說明。
再次參照圖1，成像設備114可執行與經測量的光透射位準關聯之經擷取的電子信號及/或與位置資料關聯之經擷取的電子信號的分析，並提供輸出107，其使位置資料與針對膜112測量的光透射位準關聯。在一些實施例中，此資料可轉發作為測試結果116，並儲 存在資料庫122中。在其他實施例中，與經測量的光透射位準關聯之電子信號及/或與經擷取的位置資料關聯之電子信號可作為輸出107從成像設備114轉發至另一運算裝置120(諸如個人電腦)，以供運算裝置進行進一步的處理。由運算裝置120接收之信號的進一步處理可包括使用資料產生輥映射、接收/檢索臨限的輸入值、及/或產生與膜112之成像關聯的額外資料(諸如通過/未通過輥映射)。額外的映射及/或資料可提供作為測試結果116以及作為來自運算裝置120的一輸出及/或可儲存為資料庫122中的資料。
測試結果116不受限於任何特定形式或類型的測試結果。在一些實施例中，測試結果116包括由與成像設備114所擷取之光透射位準的測量關聯的資料產生的一或多個圖形影像。(多個)圖形影像可包含代表經擷取影像之一影像或儲存資料，其可例如由操作者118在運算裝置120的一電腦監視器上顯示及觀看，如箭頭109所圖示。在一些實施例中，測試結果116包括一輥映射的圖形表示，其繪示與針對膜112之成像部分的光透射位準關聯的資訊，該等成像部分與從其中擷取資料之沿著膜及跨膜的實體定位關聯。
擷取自膜112的成像部分之影像的圖形表示不受限於任何特定類型的圖形表示。在一些實施例中，圖形表示包括具有X-Y軸及一圖形表示的二維圖形，其描繪在一些部分上方，或者在一些實施例中在膜112的整體上方之針對特定(多個)波長的光之光透射位準中的變動。圖形資訊可包括作為臨限位準施加至一輥映射以產生一通過/未通過輥映射之一圖形影像之一或多個值的一指示。在各種實例中， 測試結果116包括基於從成像設備114擷取之影像關聯之資料之統計分析的資訊，其呈一表格格式或呈一圖形格式(諸如繪示經擷取之影像資料之一鐘形曲線或其他統計分布的一圖形)。
在一些實施例中，與成像膜112關聯之其他資訊可包括在測試結果116中。例如，關於哪一班製造程序110製成膜112、與膜112之製造關聯的一日期及/或時間、在膜生產中使用何種原料及/或機器、以及環境條件為何(諸如膜之製造處及製造時間的區域環境溫度)的資訊係可與經檢查之特定膜關聯之資訊的實例，並可包括在測試結果116中。包括在測試結果116中之資訊不受限於任何特定類型的資訊，並可包括咸認為與膜112及/或與膜的光透射性質之測量關聯的成像設備114相關的任何資訊或資訊類型。
系統100包括一或多個裝置，其等可操作以將上述之資訊之任何者(包括測試結果116)儲存為儲存在資料庫122中或在可操作以一可檢索格式儲存測試結果及任何其他關聯資訊之任何其他類型的系統或裝置中之資料。在一些實例中，資料庫122係一電子資料庫，該電子資料庫位於在其中發生製造程序110的現場，或者可係經由一網路(諸如網際網路)或透過一區域網路耦合至測試結果116之一遠端資料庫。在一些實施例中，資料庫122亦可至少部分地表示儲存在一地點(諸如檔案室)中的印刷材料。
除了儲存資訊以外，系統100可包括一或多個機構(圖示為箭頭111)，以允許基於測試結果116及/或可基於或衍生自測試結果116之由操作者(例如操作者118)提供的輸入而提供回饋給製造 程序110。在一些實施例中，隨著由製造程序110提供膜，測試結果116可在成像設備114針對膜112測量光透射位準時以一即時基礎提供。基於測試結果及/或衍生自測試結果的觀察，由箭頭111圖示的回饋可提供給製造程序110，例如以調整輸入101的一或多個參數或者製造程序110A、110B、及/或110C的參數，以變更作為膜112提供的輸出，以便使輸出符合由膜之成像所測量及評估的一或多個特性。
圖2係圖130，其說明對光透射特性具有不同要求之由膜145形成之部件140的用途。圖130包括例示性裝置131的圖示，其不具有施加於裝置131的部分上方之具有特定光透射性質之包含膜145的部件140之施加，而裝置131之進一步的總成131A具有施加於裝置131的部分上方的部件140。如圖130的左手部分所示，一例示性裝置包括顯示螢幕133及標頭區域132，該標頭區域沿著顯示螢幕的一頂部邊緣接界顯示螢幕133。在一些實施例中，裝置131係一電子行動裝置(例如，智慧型手機或個人數位助理)。顯示螢幕133可係任何類型的裝置，其經組態以提供可包括圖形顯示及/或文本之一可見顯示給觀看顯示螢幕的使用者。
標頭區域132可包括任何的開/關電源按鈕134、電子光感測裝置135、光信號發射裝置136、及光信號接收器裝置137。開/關電源按鈕134可係一可致動裝置，其可經致動以開啟及關閉裝置131。電子光感測裝置135可例如在裝置131的攝影機功能中用作可見光的一感測器。光信號發射裝置136可例如使用紅外波長的光產生及透射一光信號，且光信號接收器裝置137可經組態以往回接收從光信號發 射裝置136透射以及從裝置131外部之一物體反射回到裝置131之任何部分的光。
光信號發射裝置136及光感測裝置135的操作可由裝置131使用，例如作為一測距特徵的部分及/或用於在與裝置131之攝影機功能關聯的一聚焦功能中使用。雖然來自光信號發射裝置136的紅外光透射及以紅外波長接收光可係重要的，然而，可係所欲的是看著此等裝置的使用者看不見此等裝置所處之裝置131的部分。換言之，在一些實施例中，此等裝置從觀察裝置131的顯示螢幕133之使用者的視角看來應係隱藏的。
在圖130中，部件140繪示由轉換自膜帶材之膜層145形成的一部件，其針對通過膜之一厚度尺寸之特定波長的光或者特定波長範圍的光提供某些光透射特性。例如，形成部件140的膜145可允許紅外光以紅外光之很少衰減或無衰減透射通過膜145的一厚度尺寸，同時衰減或完全阻擋可見光波長範圍內的光透射。在將膜145用以形成部件140的實施例中，要求以無衰減或某一最大衰減位準透射通過膜之紅外光波長可係具有940奈米之波長的光。此外，要求在透射通過形成部件140之膜145時衰減的可見光波長範圍可包括具有從約390至700奈米之波長範圍的光或在一些設定中經定義為一般人眼可見之一波長範圍的光。
如圖2所示，部件140包括延伸通過膜145之開口142、143、及144。開口142經定形狀及配置在部件140的標頭區域141內以在將部件140放置在裝置131的正面上方時環繞總成131A的電源按 鈕134，從而允許通過部件140存取電源按鈕134。開口144經定形狀及配置在部件140的標頭區域141內以在將部件140放置在裝置131的正面上方時環繞總成131A的電子光感測裝置135，從而允許光通過開口143並由電子光感測裝置135接收。開口144經定形狀及相對於部件140的標頭區域141配置以環繞總成131A中之顯示螢幕133，從而允許光通過開口144並使人類使用者適應顯示螢幕133的觀看。部件140的標頭部分141係配置以覆蓋在總成131A之標頭132的部分上方，該部分在將部件140放置在裝置131的正面上方時包括總成131A的發射器136及接收器137。
圖130的右手部分繪示總成131A，其具有安裝在裝置131之正面上方的部件140。當安裝至裝置131上時，部件140的開口142允許存取電源按鈕134，且部件140的開口143容許未經衰減的光自及/或從電子光感測裝置135透射。部件140的開口144進一步容許未經衰減的光自及/或從裝置131的顯示螢幕133透射。裝置131的發射器136及接收器137在總成131A中由部件140的標頭部分141覆蓋。因為用以形成部件140的膜145阻擋可見光波長的透射，發射器136及接收器137從觀察裝置131的標頭區域之使用者的視角看來係「隱藏的」，且發射器136及接收器137本身在總成131A的圖示中係顯示為虛線圓形。
進一步地，由於形成部件140之膜145係經配置以紅外波長透射光，發射自發射器136的光信號可通過部件140的標頭141並從總成131A發射。可反射回到總成131A的紅外光信號的任何部分 可通過部件140並由總成131A的接收器137接收。因此，雖然從使用者的視角隱藏發射器136及接收器137，此等裝置可使用其等經組態以用來進行操作的紅外光波長保持完整功能。為了妥善地進行操作，用以形成部件140之膜145可需要符合針對紅外光譜及可見光譜兩者中之光透射性質的各種特性。上文針對圖1所述及如本揭露通篇所進一步描述之裝置、系統、及技術可用以在從包含膜之一帶材材料轉換成部件之前或之後針對符合類似或其他的光透射特性進行膜的檢查，以確保至少用以形成用在一最終應用(諸如總成131A)中之部件的膜部分滿足針對欲在其中使用部件之應用所要求的光透射性質要求的(多個)位準及準則。
圖3係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術之用於檢查包含膜112之一帶材之例示性檢查系統150的功能方塊圖。檢查系統150包括成像設備114，其經配置以隨著膜112連續地前進通過經定位在膜的一側上之光源151及經定位在與光源相對之膜的一第二側上之影像擷取裝置154針對光透射性質檢查膜112。在檢查系統150的例示性實施例中，膜112的一區段係經定位在兩個支撐輥161與162之間。光源151係經定位在輥161、162之間，並在膜112的第一側112A上相鄰於膜112(例如，相鄰於膜的一底部表面)。光源151係經配置以產生具有一特定波長的光或在一預先定義的光波長範圍內的光。光源151係進一步經配置使得由光源151產生的光入射在膜112的第一側112A上，如圖3中的箭頭152所圖示指示者。光源151不受限於任何特定類型的光源，並可係任何類型的光源，其經組 態以一強度產生及透射光，並包括對應於針對膜112的光透射性質而受關注的(多個)光波長之一波長或一波長範圍的光。在一些實施例中，光源151包含一發光二極體(LED)或複數個LED，其(等)經組態以受關注的(多個)波長產生及透射光。
取決於來自光源151的光入射在膜上之膜112的部分之光透射特性，全部、一些部分、或完全沒有由光源151提供的光將透射通過膜的厚度尺寸並出射膜的第二側112B，如圖3中由虛線箭頭153所圖示表示者。透射通過膜112之來自光源151的光量(例如，光強度位準)大致上隨著膜之光透射性質而變動。影像擷取裝置154係經配置以擷取透射通過膜112並在與光源151相對的膜之一區域中出射膜的第二表面112B的任何光。影像擷取裝置154係經定位為相鄰於膜112以及在與光源151相對的膜之第二側112B上。影像擷取裝置154可係任何裝置，其經配置以擷取由光源151產生並透射通過膜112且從膜的第二表面112B出射的光，以及產生對應於所擷取的光之各種性質的電子信號。例如，影像擷取裝置154可經配置以產生指示由影像擷取裝置所擷取的光之光強度位準的電信號，其亦對應於由光源151產生的光之波長或一波長範圍。
在一些實施例中，濾光器158係經定位在膜112與影像擷取裝置154之間，濾光器經配置以過濾出射膜的光，且在一些實施例中經配置以阻擋來自其他源的光(諸如來自膜的反射光)，以便僅允許在膜112的光透射性質之檢查中受關注之對應於光之一特定波長或一波長範圍的光通過濾光器158。如此，則濾光器158可有助於及/ 或減少引入至由影像擷取裝置154所擷取的光強度位準之測量中的任何誤差量(例如，可由影像擷取裝置154以其他方式擷取但非由光源151產生的光所導致者)。在一些實施例中，濾光器158係經配置以允許受關注之一特定波長的光通過，而阻擋亦可由光源151產生及從該光源透射但相對於針對膜112測量之光透射性質並非受關注的其他(多個)波長的光通過。例如，光源151可經組態以產生具有各種波長的光，包括(多個)紅外波長及整個可見光譜內的光波長。在一些實施例中，僅膜112之相關於一特定紅外光波長的透射性質係受關注，且濾光器158可因而經配置以傳遞具有受關注之紅外波長的光，同時阻擋其他波長的光(例如，落在可見光譜內的光)。
在使用或不使用濾光器158的情況下，影像擷取裝置154可經定位為緊密近接連續移動的膜112。膜112可在大致由箭頭163指示的一縱幅方向上輸送，且例如藉由施加至輥161及/或162的機械力。施加至旋轉輥161及/或162且因此使膜112前進的機械力可使用例如電動馬達或經配置以旋轉輥161及/或162的其他構件產生。隨著膜112在縱幅方向上前進，光源151提供光給膜112的第一表面112A，且影像擷取裝置154掃描連續移動的膜112之循序部分以獲得影像資料。影像資料可包括感測在受關注的波長或波長範圍內之光以及沿著在膜的一橫幅尺寸上跨膜112延伸的一成像區域(例如，如圖3所示沿著延伸進入並離開圖紙之膜的一軸)到達影像擷取裝置154的光強度位準。包括處理電路系統(例如，諸如獲取電腦155)的一運算裝置可從影像擷取裝置154收集影像資料，並執行影像資料的進一 步處理(諸如判定指示針對膜112之成像部分的各者測量之光透射位準的一光透射量化值)。
影像擷取裝置154不受限於任何特定類型的影像擷取裝置，且可係能夠隨著膜前進通過影像擷取裝置而成像膜112之循序部分的一習知成像裝置，並提供呈電子信號形式的輸出(諸如影像資料的一數位資料流)。在一些實施例中，影像擷取裝置154係一線掃描攝影機。在其他實施例中，影像擷取裝置154係一面掃描攝影機。如圖3所示，影像擷取裝置154可係一攝影機，其提供代表膜112之經感測影像的電輸出信號給獲取電腦155。
在其他實施例中，影像擷取裝置154可提供代表由攝影機直接擷取的影像之一數位資料流及/或一類比信號給運算裝置120，以供藉由包括在運算裝置120中之處理電路系統120B進行進一步的處理。其他感測器(例如雷射掃描器)可用作成像擷取裝置154。膜112的一「循序部分(sequential portion)」係指與由一系列單一線影像獲取之膜成像關聯的資料。單一線可包含連續移動的膜112之一區域，其映射至影像擷取裝置154之單列的感測器元件或像素。適於獲取影像的裝置實例包括線掃描攝影機，諸如可以商標名稱「Piranha」購自Dalsa,Waterloo,Ontario,Canada；或以「Model Aviiva SC2 CL」購自Atmel,San Jose,CA者。額外實例包括來自Surface Inspection Systems GmbH,Munich,Germany之雷射掃描器，隨附一類比至數位轉換器。
除了成像膜以擷取影像資料以外，檢查系統150的實例包括基準標記控制器157，其經配置以控制基準標記讀取器156以從膜112收集輥及位置資訊。例如，基準標記讀取器156可包括一或多個光的光感測器，以用於從膜112讀取條碼或其他標記。替代地或此外，基準標記控制器157可從一或多個高精度編碼器(圖示顯示為圖3中的編碼器160)接收位置信號，該等編碼器可與膜112及/或輥161、162中的一或兩者嚙合。基於位置信號，基準標記控制器157針對從膜112讀取的各經偵測之基準標記判定位置資訊。基準標記控制器157將輥及位置資訊傳送至運算裝置120作為位置資料。在一些實施例中，運算裝置120的處理電路系統120B係經配置以在空間上同步位置資料與對應的影像資料，使得影像資料可與取得影像資料之沿著膜112的特定實體位置關聯。如圖3所示之運算裝置120可提供針對圖1繪示及描述之特徵的任何者並執行歸因於運算裝置120之功能的任何者。
用於施加及使用基準標記以識別一帶材上之特定位置的技術係描述於美國專利第7,623,699 B2號(Floeder等人)中，其全部內容特此以引用方式併入本文中。各種類型的基準標記及用於讀取基準標記以執行異常資料之空間對位及組合的技術之實例係描述於美國專利第7,542,821 B2號(Floeder等人)中，其全部內容特此以引用方式併入本文中。用於使用同步標記及由處理一帶材的輥提供之輥同步信號以針對異常及缺陷而關聯位置資料的技術係描述於美國專利第7,797,133 B2號(Floeder等人)中，其全部內容特此以引用方式併入本文中。雖然針對基準標記與基準標記控制器157以及讀取器156進 行討論，在本揭露的所有實施例中，基準標記對於欲使本文所述的技術起效可非必不可少的。在其他實施例中，於不偏離本文所述之技術的情況下，其他構件可用以判定膜112之經成像部分的實體位置以及膜112上的其他資訊。
再次參照圖3，運算裝置120的處理電路系統120B處理包括由獲取電腦155所提供之影像資料的影像流。處理電路系統120B可使用一或多個初始演算法處理影像資料以產生一值(諸如一光透射量化值)，該值指示在膜112之由影像擷取裝置154成像的部分之各者處針對一或多個光波長由影像擷取裝置154測量的光強度位準。舉實例而言，通過膜之厚度尺寸之就具有940nm波長的紅外光透射而言之膜112的光透射性質可係藉由成像設備114檢查及測量的膜性質。光源151因而係經配置以產生具有940nm波長的光以及引導紅外光朝向膜112的第一側112A。
通過膜112並出射膜的第二表面112B之光強度位準係由虛線箭頭153表示，且隨著在膜之由影像擷取裝置154成像的各部分處之膜的光透射性質而變化。此等光透射性質可係膜112本身之性質(諸如用以形成膜之不同材料層的配置)的一函數，且在一些情況下亦可受到個別異常(諸如沿著膜尺寸之在特定位置處之膜中的表面缺陷或其他異常)的影響。此等異常及/或缺陷可包括膜中的斑點、刮痕、油滴、及/或機器線缺陷。
基於由基準標記控制器157所產生的位置資料，運算裝置120的處理電路系統120B至少針對膜的縱幅尺寸判定膜112之各經 成像區域的空間位置。由影像擷取裝置154及/或獲取電腦155提供的影像資料可包括指示影像資料相對於膜112之各經成像區域之橫幅定位的資料。基於來自基準標記控制器157的位置資料及影像資料，處理電路系統120B判定一光透射量化值，其指示在膜112之經成像區域的各者處所測量的光強度位準，其沿著膜的橫幅及縱幅尺寸與對應的經成像區域之特定實體位置在空間上同步。例如，可定義一座標系，使得用於膜之一經成像區域的x維度座標表示在橫幅尺寸中跨膜的一距離，而用於膜之一成像區域的y維度座標表示沿著膜112之一長度(例如沿著膜的縱幅尺寸)的一距離。此等x及y座標可如下文進一步描述用以產生一輥映射，其將針對受關注之(多個)光波長測量的光強度位準映射至沿著膜112之對應的實體位置，其中光強度位準係使用成像設備114測量。
運算裝置120可記錄影像資料、位置資料、任何經計算的光透射量化值、及與至資料庫122中之(多個)輥映射的產生關聯的任何資料。儲存的資訊可包括針對與膜112關聯之x-y座標系計算的光透射量化值之各者的空間位置或者鏈接光透射量化值與沿著膜的橫幅及縱幅尺寸之對應的實體位置之另一組資料。運算裝置120之處理電路系統120B亦可存取此儲存在資料庫122中的資料，以如下文進一步描述般基於施加一或多個臨限值至針對膜112的經成像部分計算之光透射量化值而產生額外的資料(諸如一通過/未通過輥映射)。臨限值初始可由操作員輸入，並可儲存在資料庫122中以供稍後用於產生通過/未通過輥映射，或者用於欲在與膜112的檢查關聯之其他類型的 影像資料上執行的分析。任何額外資料(諸如與一通過/未通過輥映射關聯的資料)亦可儲存在資料庫122中以供稍後檢索及/或參考。此外，包括可由處理電路系統120B產生的任何通過/未通過輥映射之輥映射亦可用以產生一輥映射，其用以針對一部件或複數個部件從膜的轉換判定膜112的可用部分，如下文進一步針對圖4B所述者。
再次參照圖3，任何額外資料(諸如與一通過/未通過輥映射關聯的資料或者與(多個)部件之轉換關聯之使用輥映射)亦可儲存在資料庫122中以供稍後檢索及/或參考。資料庫122可以一些不同形式的任何者實施，包括一資料儲存檔案或者在一或多個資料庫伺服器上執行之一或多個資料庫管理系統(DBMS)。資料庫管理系統可係例如關連式(RDBMS)、階層式(HDBMS)、多維(MDBMS)、物件導向(ODBMS或OODBMS)、或物件關連式(ORDBMS)資料庫管理系統。作為一例示，資料庫122係實施為可以商標名稱「SQL SERVER」購自Microsoft Corporation,Redmond,WA的一關連式資料庫。如圖3所示之資料庫122可經配置以提供針對圖1繪示及描述之特徵的任何者並執行歸因於資料庫122之功能的任何者。再次參照圖3。
再次參照圖3，在一些實施例中，運算裝置120的處理電路系統120B係經組態以即時產生資料(諸如與膜112之成像關聯的一輥映射)，以及在顯示裝置120A(諸如耦合至運算裝置120的一電腦監視器)上即時地產生及顯示輥映射的一圖形影像。圖形顯示可由人類操作者(例如，如圖1所示的操作者118)觀察。
再次參照圖3，運算裝置120亦可耦合至可耦合至一或多個額外系統(例如，製造程序110及/或轉換控制系統166)之網路167。網路167不受限於任何特定類型的網路，且可係使用允許運算裝置120與製造程序110及/或轉換控制系統166通訊之任何類型的通訊協定之任何網路，包括網際網路、區域網路(LAN)、廣域網路(WAN)。
發生在運算裝置120與製造程序110之間的通訊可包括即時通訊，或者時間延遲且對應於膜112之經測量及/或計算的光透射性質之測量及分析的通訊。在此等通訊中所提供的資料可由製造程序110使用以調整一或多個輸入及/或與膜112之製造關聯的一或多個參數，例如以針對由製造程序110產生之膜的光透射性質來控制、校正、及/或改善膜112的一或多個性質。
發生在運算裝置120與轉換控制系統166之間的通訊可包括即時通訊，或者在時間上延遲且對應於膜112之經測量及/或計算的光透射性質之測量及分析的通訊。此等通訊可由轉換控制系統166使用以控制從膜112轉換(例如，藉由切割膜來分開)部件之一自動化轉換系統。在一些實施例中，包括由運算裝置120產生之一輥映射的資料可傳送至轉換控制系統166，該資料指示膜112的哪些部分符合光透射的臨限位準，使得從膜的此等部分轉換的一部件將滿足可適用於欲在其中使用該部件之最終產品的(多個)光透射性質要求。
例如，與膜112的經成像部分之光透射量化值的映射有關的資訊可經由網路167方式從運算裝置120傳送至轉換控制系統166。基於此傳送資訊，轉換控制系統166可基於由運算裝置120提供的光 量化值或者基於由運算裝置120提供的一通過/未通過輥映射判定膜112可轉換成具有所要求的光透射性質之一或多個部件的彼等部分。一旦針對膜112的資料已經映射，資料可用以使用一可移除或可洗的標記直接在膜表面上或者虛擬地使用x,y座標來標記帶材輥上的部件，該等部件可藉由轉換控制系統166從膜轉換並將符合基於針對膜的該部分所判定的光透射量化值之針對部件的光透射要求。
成像膜112的實例亦可包括使用一偏振軸。影像擷取裝置154的實例可使用機械地附接至影像擷取裝置之一固定的線偏振器，以為所檢查的膜112界定一軸，其亦界定一偏振軸。若兩軸確切地對準，則將發生最大光透射，且由光擷取裝置156測量的光強度位準將係最亮。若此等軸恰好正交，則通過膜112的光透射位準將係最小。其他軸定向將導致兩個極端值之間的某一透射位準，與兩個軸的相對角度成比例。因此，影像擷取裝置156的定向不必垂直於膜的頂部表面，其中除了垂直以外的任何角度定向均可由偏振軸負責。例示性實施例可包括二或更多個套準視圖，其中偏振器對於成像膜112處於不同角度。額外的視圖可增加系統的準確度。在一些例示性實施例中，套準視圖的總數係三。
圖4A係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示與針對膜112所產生的光透射位準關聯之例示性輥映射181、191的概念圖180。在圖4A所示的實例中，包括在輥映射181、191中之膜112的經成像部分分別包括由輥映射181及191表示之100%的膜面積。輥映射181包括膜112之經成像部分的一例示性映射，具有落 在針對不同的經測量光透射位準預先定義之範圍內的膜區域。輥映射191包括膜112的部分之一例示性映射，其經映射至膜上並指示指派給由輥映射191所表示之膜的不同部分之一通過/未通過狀態。包括經測量的值及位置資訊之輥映射181及輥映射191可儲存為一電腦可讀媒體內的資料結構(諸如一資料庫)，並可用以產生指示例如使用如針對圖3所繪示及描述之光透射檢查系統150從成像膜112所測量及/或計算的資料之一圖形表示。以此方式，輥映射181及輥映射191可代表儲存在一資料庫(例如，如針對圖1及圖3所繪示及描述之資料庫122)中的資料。輥映射181及輥映射191亦可代表經呈現至一顯示螢幕(例如，圖1及圖3所繪示及描述之運算裝置120的顯示螢幕120A)上的實際圖形影像，以供使用者(例如，如圖1所繪示及描述的操作者118)觀看。操作者118可與運算裝置120互動，例如以提供輸入給運算裝置120，其等指示欲施加以產生輥映射181及/或產生輥映射191的臨限值，如下文進一步描述者。
再次參照圖4A，輥映射181繪示膜112的一部分，其具有以線性尺寸之一些標稱單位183(例如以公分或吋)測量的總體寬度尺寸182。針對膜112之由輥映射181描繪的總體寬度尺寸182不受限於任何特定寬度，且在一些實施例中可在從12至36吋的範圍中。例如，膜112的寬度尺寸可小於或大於此等寬度尺寸。輥映射181亦包括一長度尺寸，通常由標記185指示。用於膜112的長度尺寸可沿著膜製造及/或當針對膜測量光透射位準時成像的一方向延伸(諸如通常由箭頭184所指示之一縱幅尺寸)。如圖4A所示，長度尺寸可或可 不使用具有與用以描繪寬度測量相同的長度單位之標記185描繪，且因此總體寬度尺寸182的比率可不按照膜112的長度尺寸的比例，如由輥映射181所描繪者。在一些實施例中，如由標記185表示之膜112的長度尺寸可代表膜112之長度尺寸的整體，且在其他實施例中，由標記185表示的長度尺寸可僅代表膜112之總體長度的一部分。在一些實施例中，膜112具有一不確定的長度尺寸，其長度可係數百碼，其之全部或僅一部分可由圖4A中之輥映射181所示之膜112的部分表示。
如圖4A所示，輥映射181包括複數個分區186、187、188、及189。分區的各別邊界可由不同類型的線(諸如實線、長虛線、及短虛線、或者以其他方式例如藉由加諸於邊界線上的不同形狀(諸如正方形、圓形、及三角形)而有所區別的線)來指示。在一些實施例中，可使用不同的顏色以指示包含不同分區之膜112的不同區域。在輥映射181中，各分區186、187、188、及189表示膜112的區域，其等經測量具有高於、在內、或低於指示與透射通過膜之一厚度尺寸相關之經測量的光強度位準之一特定臨限或一組臨限的一光透射位準。
例如，在輥映射181中如分區186所指示之膜112的區域可僅包括膜的部分，其中相對於由一光源施加至膜之經成像區域的光強度位準且在光之一特定波長或一波長範圍內之通過膜之百分率光透射位準經測量係至少65%(在一些實施例中，在從65%至75%的範圍中)。如由分區187(且排除分區186)圈起所指示之膜的區域可僅包括膜的部分，其中相對於由一光源施加至膜之經成像區域的光強度 位準且在光之受關注的特定波長或波長範圍內之通過膜之百分率光透射位準經測量係在從55%至65%的範圍內。如由分區188(且排除分區186及187)圈起所指示之膜的區域可僅包括膜的部分，其中相對於由一光源施加至膜之經成像區域的光強度位準且在光之受關注的一特定波長或一波長範圍內之通過膜之百分率光透射位準經測量係在從45%至55%的範圍中。如分區189(通常係不包括在分區186、187、及188之任一者內的區域)所指示之膜的區域可僅包括膜的部分，其中相對於由一光源施加至膜之經成像區域的光強度位準且在光之受關注的特定波長或波長範圍內之通過膜之百分率光透射位準經測量係低於45%。
如上文所述，分區186、187、188、及189係指示為膜112的區域，其等具有針對經透射之光強度計算的一百分率位準，相對於由在膜之經成像區域之各者中針對光之一特定波長或波長範圍測量光透射位準時所用之一光源施加至膜的光強度位準，該百分率位準落在高於、在內、或低於一或多個臨限位準。此等百分率位準可表示稱為光透射量化值之一度量的一實例，其經指派給膜112之經成像區域的各者。用於光透射量化值的度量不受限於在產生輥映射181中所描繪的資料時經計算為一百分率值。在一些實施例中，其他值(諸如相對於針對在經成像區域中透射通過膜112的光測量之光位準比較由一光源加諸於膜上之光位準的一比率值)係用作光透射量化值，且針對此度量計算的值係經映射以產生輥映射181。此外，光透射量化值可 係針對單一波長的光或針對多個波長的光之一組合之膜的經成像區域之光密度(例如吸光率)的一測量。
可使用用於判定光透射量化值的其他計算。例如，在膜的經成像區域中透射通過膜的光位準可使用光相對於一灰階的視強度來測量。所施加的例示性灰階可具有從0(零)至255的值範圍，其中施加欲測量之一或多個光波長的光源具有一例示性灰階強度值200。灰階強度值200關聯於100百分比的光透射位準。當成像膜以測量在經成像區域中實際通過膜之由光源提供的光量時，經測量的光強度係相對於指派給光源的值200轉換成一灰階強度值。例如，若經成像之膜的一經成像部分在由成像裝置所測量之一波長處(或在光之一波長範圍內)透射由光源所提供之光強度的五十百分比，則將指派一灰階值「100」給膜的該部分，該灰階值係「200」灰階值的五十百分比。
用於判定光透射量化值的計算可包括平場影像校正技術，以移除影像擷取裝置所用的光感測陣列之敏感度的像素間變動，以如透過本揭露所述般測量光透射。平場係用以補償光感測陣列的像素中之不同的增益及暗電流位準。增益可定義為隨所接收的光(強度)量而變動之由光感測陣列給定的信號量。暗電流可定義為當沒有光入射在光感測器陣列上時由光感測陣列給定的信號量。此等值可基於逐像素基礎針對光感測器陣列判定。可使用下式針對此等差異校準像素：經校準像素=(原始像素-暗像素)/(參考像素-暗像素)。原始像素表示由一像素測量的光強度，暗像素係用於像素的暗電流值，且參考像素係用以校準光感測陣列之一預先定義的像素值。
在其他實施例中，針對光強度位準的實際經測量值(例如實際經測量的光度值)可用作用於映射由輥映射181所描繪之光強度位準的光透射量化值。可用以比較膜112的經成像區域測量之實際及/或相對之光強度位準的其他測量單位可用以提供用於產生輥映射181的資料，並預期用作可用以產生輥映射181之描繪的技術。
用以針對膜112的各經成像區域判定膜112之光透射位準的值可跨膜112的表面相對於二維定位(例如，橫幅及縱幅尺寸)映射，如輥映射181所描繪者。在一些實施例中，膜112的各經成像區域相對於膜之一縱向尺寸的實體位置可藉由讀取作為膜112之上或之內的印刷標記提供之亦可稱為位置指示標記或基準標記的位置標記(描繪為標記185)來判定。此等位置指示標記可採取不同的形式(諸如條碼標記及/或基準參考)，其等沿著膜的縱幅尺寸提供縱向位置之一獨特及/或相對的識別。在一些實施例中，執行膜112之成像的成像裝置產生跨膜之橫幅尺寸的整體延伸之一影像區域，且跨膜112的橫幅尺寸延伸之該經成像區域與縱向位置資料在空間上同步，該縱向位置資料指示沿著膜的長度尺寸之經成像區域相對於影像區域之縱幅位置的縱向位置。
作為產生與成像一特定影像區域關聯之影像資料的部分，用以成像膜的影像擷取裝置亦可產生使膜112之一給定的經成像部分與相對於膜112的橫幅尺寸之一對應實體定位關聯所要求的寬度方向位置資訊。例如，膜之一經成像區域可對應於用以成像膜112的影像擷取裝置能夠產生作為一個別電子信號之單一像素或其他個別元件。 在此類實施例中，針對經測量並與該特定像素或元件關聯的一光波長或一光波長範圍，各個別像素或元件將具有一光強度位準。針對該像素或元件計算之所得之經計算的光透射量化值將基於像素或元件的相對橫幅位置而映射至輥映射181中，其在取得與該像素或元件關聯之膜的橫幅位置處的膜成像時可指示為由影像擷取裝置所提供之影像資料的部分。像素或元件的關聯縱幅位置可使用由針對圖3繪示及描述之基準標記控制器157感測及/或提供的位置資料判定。在其他實施例中，膜112的經成像區域係指派一特定的光透射量化值並映射至如圖4A所繪示的輥映射181，可包括光感測陣列之一群組或者二或更多個像素或元件(諸如經配置在一線中之像素或元件的一群組，該線具有對應於膜112之一橫幅尺寸的一定向)。
使用此等映射技術之一或多者，輥映射181例如使用基於膜的寬度尺寸182及長度尺寸(由箭頭184圖示表示之縱幅尺寸)之一二維網格系統提供針對膜112之經成像區域的各者的測量之光透射位準至膜之經成像區域的對應實體位置(例如寬度及縱向尺寸)之一映射。一旦已針對膜收集光透射測量資料，用於映射的各種參數及/或臨限值(例如針對欲映射之一或多個分區之(多個)百分率範圍的設定以及諸如輥映射181之一映射)便可產生及/或再生以反映最新的映射參數集合。基於可調整的臨限值集合產生及再生輥映射181的能力以例如為了向一系統使用者顯示而映射及/或圖形描繪資料的方式允許靈活性。例如，可將一不同的臨限或不同的臨限集合施加至測量自 膜112的同一個影像資料集合，以提供膜的哪個部分將符合與光透射性質相關之不同的性能準則集合之一圖形指示。
除了如輥映射181所描繪之光透射位準的映射以外，額外的映射參數可施加至與用以初始產生輥映射181之經測量的光透射位準關聯的資料。例如，可將一通過/未通過臨限位準(諸如一百分率位準)施加至映射程序以產生一新的通過/未通過輥映射191，其基於通過/未通過臨限位準指示膜的哪個部分將「通過」，而膜的哪個部分將「未通過」。通過/未通過臨限位準可設定在一位準，該位準係由一品質控制參數(諸如一客戶或一法規要求)判定，對可能使用映射的膜之應用而言與針對光之一特定波長或一波長範圍所要求之一最小光透射位準相關。
在通過/未通過輥映射191的圖示中，分區192係定界在輥映射191內所包括之膜112的部分內。另一分區193環繞分區192，並包括通過/未通過輥映射191中所包括在但分區193內未包括之膜112的部分。指示為在分區192內之膜112的此等部分以及指示為以分區193包括的剩餘部分可基於指派給膜112之經成像區域的各者之一狀態指示值而判定。在一些實施例中，輥映射191中所繪示的狀態指示可具有可稱為狀態指示值之由一「通過」值或一「未通過」值指示之兩個可能的值，且為此將兩個可能的值中之一者指派給膜之經成像區域的各者。通過/未通過輥映射191可係相對於膜之經成像區域之各者的對應實體位置基於針對此等經成像區域之各者的此等狀態指示值之一映射而產生的一圖形影像。
舉實例而言，對意欲用在一特定應用中之膜的任何部分而言，一通過/未通過臨限位準可經判定為針對光之一特定波長(例如，具有940奈米波長的紅外光)測量之光透射的至少某一百分率(最低位準)。由箭頭190圖示表示之一通過/未通過臨限的應用可施加至與輥映射181關聯的資料以產生新的通過/未通過輥映射191。如通過/未通過輥映射191所示，基於所施加的通過/未通過臨限190，分區192內所包括之膜112的區域通過針對一最小光透射位準的要求。分區192內之膜112的部分可經移除或轉換成膜之一或多個較小區段(例如，一或多個「部件(part/parts)」)，並用於要求光透射臨限位準的應用。基於所施加的通過/未通過臨限190，通常指示為分區193之不包括在分區192內之膜112的區域未通過針對最小光透射位準的要求。膜112的此等部分將視為不可用於要求由臨限190所規定的光透射臨限位準之膜的特定應用。同樣地，通過/未通過輥映射191可用以判定膜112的哪些區域可用以提供一或多個部件，其等在轉換自膜112時將滿足與由臨限190的值所設定之針對光的(多個)經定義波長之(多個)光透射位準相關的要求。
依靠產生一映射(諸如通過/未通過輥映射191)的能力，具有一特定光透射要求之可用在一給定應用中之膜112的部分可沿著膜相對於橫幅及縱幅定位設置，且因此與膜的其他(未通過)部分分開。此能力可允許使用具有膜之可不適於特定應用的一些部分之膜的部分。換言之，整個帶材卷不一定要適用，且因此對於在該材料卷中將膜用於一特定應用而言不一定需要退回。此外，針對通過/未通過臨 限設定及測試不同位準的能力可允許使用者判定一特定批次的膜在滿足相對於針對此等不同應用之光透射性質之要求的同時可或不可用於其他(多個)應用的何者。例如，當使用一自動化轉換系統並基於膜的輥映射而轉換成部件時，此等特徵可在將膜視為整體(例如整個膜卷)時及/或在將膜的哪些部分視為可用於一或多個不同應用時藉由下列來改善效率及減少廢品：允許操作員判定可使用一膜的哪些部分以及膜有資格可用於哪一種(多種)應用。
進一步地，衍生自膜112之光透射性質的映射之資訊可經分析並用作回饋以排除故障及/或校正用以生產膜112之(多個)製造程序的條件及/或參數。例如，圖案(諸如出現在輥映射181及/或通過/未通過輥映射191中之在縱幅尺寸中延伸之膜112之「未通過」部分的線)可用於對與膜的光透射性質有關的問題可起到作用之已定位裝置(諸如在製造程序期間用以處理帶材的輥軸)。基於由輥映射所提供的資訊，可在製造階段找出此等問題並加以解決，且因此增加稍後製成的膜之可用部分，從而增加產量及減少廢品。
雖然上文針對輥映射181及191所述之實施例已針對膜112之經測量/計算的光透射位準描述，類似的映射及圖形圖示可基於針對透射通過膜之光的特定(多個)波長的衰減位準產生。例如，使用透射通過膜112之經成像部分之具有一特定波長或波長範圍之經測量的光強度位準，亦可計算用於由通過膜的光所導致之在此等波長中之光衰減位準的一值。例如，若在膜之一特定經成像區域中透射通過膜之在受關注的(多個)波長中之經測量的光強度位準係70百分比， 則可指派100百分比減70百分比(或30百分比)之一衰減值作為用於膜之經成像部分的一光衰減值。
在一些應用中，膜所欲的光透射性質可使得膜經要求使受關注的(多個)波長內的光衰減至少一最小量，與允許相同波長的光以不大於一最小衰減位準透射通過膜相反。同樣地，用於具有受關注之一特定波長或一波長範圍的光之一最小衰減位準的衰減值可經映射至沿著一膜的實體位置(例如，類似於如輥映射181所提供的圖形圖示)，以便以類似於用以產生通過/未通過輥映射191的方式產生一通過/未通過輥映射，但其具有指示針對膜之衰減位準的圖形指示。此等衰減映射可施加在上文所述的任何技術中(例如，關於判定整體膜卷之一狀態或膜的各部分之一狀態)，以提供回饋給生產膜的(多個)製造程序，以及提供輸入至一轉換系統以基於衰減映射控制從膜轉換成部件。
圖4B係根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示用以判定用於產生部件206之膜112之可用部分的輥映射201之用途的概念圖200。輥映射201包括具有繪示為分區192之一映射的膜112。分區192包括膜112的部分，其具有指派一「通過」值作為用於膜之該部分之狀態指示值的一光透射位準。輥映射201亦繪示膜112的部分(通常指示為分區193)，其具有指派一「未通過」值作為用於膜之該部分之狀態指示值的一光透射位準。如輥映射201所進一步繪示者，複數個部件202、203、204係繪示為疊置到輥映射201上。部件202、203、及204係繪示為膜112之一部分的實例，其等可從膜 轉換(例如切去及/或分開)，並具有針對欲從膜轉換之一部件要求的寬度及長度尺寸。儘管部件202、203、及204係繪示為各自具有一矩形形狀，可使用輥映射201之實例映射的部件不受限於具有任何特定形狀及/或任何特定尺寸的部件，且其他經定形狀的部件(例如具有圓形、正方形、橢圓形、或不規則形狀的部件)亦可描繪為可疊置到輥映射201上的影像。相對於彼此具有不同形狀的部件可描繪在相同的例示性輥映射201上，並打算作為輥映射201的實例。
如圖4B所示，部件202的各者係定位在輥映射201上，使得部件202之一給定者的寬度及長度尺寸的整體適配在分區192內。因此，具有由部件202所繪示之尺寸並轉換自指示為分區192之膜部分的部件將針對如通過/未通過臨限所設定並如分區192之描繪所指示之針對部件之預期用途要求的最小光透射位準。複數個部件具有部件202的尺寸並滿足針對光透射之最小位準要求，且如由「個別部件轉換」箭頭205所表示可轉換自膜112，且係由圖4B中之括號所指示之部件206繪示。
如亦繪示於圖4B中者，具有對應於部件202之適當尺寸的部件203可圖示地定位在輥映射201內，使得僅部件203的一部分在分區192內，且部件203的額外部分落在分區192外側並在分區193內。由於部件203未完全定位在分區192(「通過」分區)內，由部件203描繪之轉換自膜的一部件將不一定是滿足跨部件整體要求的最小光透射位準之一部件，且因此若從部件203經定位之膜112的部分轉換，則可係一「退回」部件。類似地，具有對應於部件202之適 當尺寸的部件204可圖示地定位在輥映射201內，但部件204沒有任何部分經定位在分區192內。由於部件204沒有任何部件的部分經定位在分區192(「通過」分區)內，由部件204描繪之轉換自膜的一部件將不一定是滿足跨部件之任何部分要求的最小光透射位準之一部件，且因此若從部件204經定位之膜112的部分轉換，則可係一「退回」部件。
將所提出的部件的影像疊置到光透射位準之一映射(諸如輥映射201)上的能力可提供若干益處。例如，膜的一部分可經分析以判定可從膜之經映射部分轉換之可能的產出率(例如，一些部件206)。映射亦使用膜112的部分繪示，諸如沿著膜的側，通常不提供「通過」狀態值。此類資訊可用以排除用以生產膜之製造程序的故障，以便減少膜的「未通過」區域，且因此增加可轉換自膜之部件的總體產量。進一步地，在一些實施例中，一或多個使用者輸入可係可用的，其等允許操縱映射中所提出之部件的定位，且因此進一步最大化來自膜之合格部件的可能產量。例如，在輥映射201中將部件202定位在部件203右方可經調整以允許部件203移動，使得部件203經定位在分區192內且因此若在新位置轉換自膜則將表示一「良好」部件。
此外，分區192內所包括之區域的重新映射可基於輸入來執行，其等例如調整針對用以判定應包括在分區192內之區域的通過/未通過臨限的位準集合。例如，通過/未通過臨限可設定為一不同臨限位準(諸如更高或更低的臨限位準)，且輥映射201可重新映射以基於(多個)新的臨限位準定義分區192之邊界中的任何變化。與輥 映射201關聯的資料可用以判定是否可針對所施加之臨限位準的各種設定從膜112之一給定部分(諸如輥映射201中描繪之膜112的部分)得到產量位準的變化。此外，可藉由一轉換控制系統(例如，圖3的轉換控制系統166)來提供(例如以電子方式存取)與輥映射201之產生關聯的資料。至用以產生輥映射201之資料的存取可允許在部件轉換自膜的過程中由轉換控制系統自動控制。轉換控制系統可使用來自輥映射201的資料以僅從部件可完全定位在「通過」分區192內之膜的(多個)部分自動轉換部件，從而確保此等部件中所用之膜112的部分符合由用以產生輥映射之臨限位準設定所設定之光透射要求。
圖5根據本揭露所述之一或多個例示性實施方案及技術繪示用於通過一膜之經測量的光透射位準之測試結果的圖示220。圖示220包括一水平軸(x軸)222，其代表使用一手持式紅外測光計測量之用於光強度的經測量值。圖示220進一步包括一垂直軸(y軸)221，其代表使用包括一光感測陣列元件之一攝影機測量之用於光強度的經測量值。如曲線223所繪示，在由手持式測光計所測量之強度值與在使用攝影機測量時針對相同光強度位準所測量者之間存在強關聯性。資料關聯性的結果可用作一校準工具以進一步增強攝影機測量系統以及用以產生相對於圖220中之垂直軸221繪製之資料之由攝影機所擷取之測量的準確度。
圖6係根據本揭露所述之各種技術繪示一用於光透射測量之例示性方法230的流程圖。雖然方法230如針對圖3所繪示及描述般地描述為藉由檢查系統150執行，方法230之一或多個步驟的執 行不受限於由針對檢查系統150所述之特定裝置執行，並可部分或整體地由經配置以執行操作以及提供與方法230之性能關聯的特徵之其他裝置執行。
再次參照圖6，方法230包括在光源151與成像設備114的影像擷取裝置154之間定位膜112(方塊232)。光源151可經組態以產生具有一特定波長或一特定波長範圍以及處於一預先定義之光強度位準的光。影像擷取裝置154可係任何裝置，其經組態以針對膜112之光透射性質的測量來測量至少受關注的(多個)光波長範圍內的光強度位準。作為定位光源及影像擷取裝置的部分，光源151可經校準以受關注的一或多個光波長產生具有一特定強度位準的光，且影像擷取裝置154可經校準以相對於由光源所產生之經校準的光位準測量透射通過膜之一厚度尺寸的光強度位準。在各種實例中，膜112在光源151與影像擷取裝置154之間的定位可包括將濾光器158定位在膜與影像擷取裝置之間，濾光器經組態以通過一或多個波長的光以及阻擋其他波長的光，使得僅允許通過濾光器158的光波長從膜112透射至影像擷取裝置154。在一些實施例中，經定位在光源與影像擷取裝置之間的膜112係一膜，而其意欲針對經傳遞通過膜之一厚度尺寸之具有受關注的(多個)波長的光具有預先定義的光透射性質。
方法230包括在使膜前進的同時使來自光源151的光透射至膜112的一表面(方塊234)。使膜前進可包括將一機械力(諸如一旋轉力)施加至一或多個裝置(諸如輥)，該等裝置與膜112嚙合 並配置為以某一預定且可控的速率使膜112前進通過光源151及影像擷取裝置154。
方法230包括藉由影像擷取裝置154產生電子信號，該等電子信號對應於由光源產生並透射通過膜112之一厚度尺寸的光之經感測的光強度位準中的變動(方塊236)。產生電子信號可包括隨著膜前進通過影像擷取裝置，針對與膜之一經成像區域關聯的影像擷取裝置之一光感測器陣列的各像素或元件擷取光強度位準的一測量。
方法230包括分析對應於光之經感測的光強度位準中之變動的電信號，以針對膜之經成像部分的各者產生光透射量化值(方塊238)。在一些實施例中，光透射量化值係計算為相對於由光源提供之光強度位準的百分率、計算為由光源提供之光的光強度位準之一比率、計算為一灰階值、或者計算為經測量之光強度位準的實際值(諸如光度)。
方法230包括判定用以在空間上同步經測量的光強度位準與膜上之對應的實體位置之位置資料(方塊240)。位置資料可藉由使用耦合至基準標記控制器157的基準標記讀取器156讀取基準標記來產生。基準標記可沿著膜的一縱向尺寸提供(例如，印刷在膜之一表面上的條碼標記或者以其他方式併入膜中的基準標記)。位置資料亦可藉由與用以使膜前進通過影像擷取裝置之機構嚙合的一或多個編碼器提供的感測器信號來單獨地或與沿著膜感測基準標記組合而產生。
方法230包括使用位置資料針對膜之經成像區域的各者產生透射通過膜的厚度尺寸之經測量的光強度位準之一或多個輥映射(方塊242)。在一些實施例中，膜的經成像區域對應於可由影像擷取裝置之一光感測器陣列的單一像素或單一成像元件成像的一區域。在一些實施例中，膜的經成像區域包括在膜的橫幅及縱幅兩種尺寸中之100百分比的膜區域。在一些實施例中，膜之經成像區域的映射係即時提供。映射可提供作為描繪顯示在一顯示裝置上(諸如一電腦監視器)上之一輥映射的一圖形影像。
由方法230提供的(多個)輥映射可包括本揭露通篇所述之輥映射的任何者，包括描繪具有落在低於、之內、及/或高於各種臨限值之光透射量化值的分區之一輥映射。由方法230提供的(多個)輥映射可包括一通過/未通過輥映射，其包括針對通過膜之一厚度尺寸之光透射分別符合及不符合一通過/未通過臨限值之沿著膜的橫幅及縱幅尺寸之分區的指示。由方法230提供的(多個)輥映射可包括疊置到一通過/未通過輥映射上之複數個部件的一圖形描繪，該映射指示許多部件的何者及/或該等部件如何可適配到將視為基於用以產生輥映射之通過/未通過臨限值而「通過」針對部件的光透射要求之膜的區域之映射的一或多個分區中。
方法230包括隨著膜前進通過光源及影像擷取裝置而判定膜的末端是否已到達(決策方塊244)。若膜的末端尚未到達(決策方塊244之「否」的分支)，方法230返回至方塊234。若膜的末端 已到達(退出決策方塊244的「是」分支)，則方法230結束(方塊246)。
圖7係根據本揭露所述之各種技術繪示用於校準一光透射測量系統之例示性方法250的流程圖。雖然方法250如針對圖3所繪示及描述般地描述為藉由檢查系統150執行，方法250之一或多個步驟的執行不受限於由針對檢查系統150所述之特定裝置執行，並可部分或整體地由經配置以執行操作以及提供與方法250之性能關聯的特徵之其他裝置執行。
再次參照圖7，方法250包括從光源151透射一光至影像擷取裝置154(方塊252)。在光源151與影像擷取裝置154之間並未定位膜，使得由光源151產生並從該光源透射的完整光強度位準係在無歸因於一膜之任何中介衰減的情況下經引導朝向影像擷取裝置154。例示性系統150利用定位在光源151與影像擷取裝置154之間的濾光器158，使得由光源產生的光在透射至光擷取裝置之前通過濾光器158。
方法250包括藉由影像擷取裝置154擷取對應於跨影像區域之光強度位準中的變動之電子信號(方塊254)。影像擷取裝置可係本揭露通篇所述之光成像裝置的任何者或其任何等同物，其等經組態以擷取及測量與落在針對檢查一膜之受關注的光之一特定波長或一波長範圍內之入射在影像擷取裝置上的光關聯的性質。
方法250包括施加平場影像校正至電子信號以均化跨經成像區域測量之光強度位準中的變動(方塊256)。在一些實施例中， 經成像區域包含影像擷取裝置之一光感測器陣列的一系列像素或其他元件，其等沿著膜之一橫幅尺寸的整體從膜的一外側邊緣跨欲由影像擷取裝置成像之膜的一區域延伸至膜的相對外側邊緣。該系列的像素可使用平場影像校正技術來校準，包括本揭露中所述之平場影像校正技術的任何者或其之任何等同物。
方法250包括儲存使用平場影像校正資料產生的影像校正資料，以供測量膜中的光位準透射使用(方塊258)。影像校正資料可儲存在任何類型的電子記憶體裝置中(例如，圖1及圖3中的資料庫122)。
方法250包括檢索經儲存的影像校正資料，並在成像一膜時將影像校正資料施加至由影像擷取裝置產生之由影像擷取裝置154擷取的影像資料(方塊260)。
可在各式各樣運算裝置、影像擷取裝置、及其各種組合中實施本揭露之技術。任何所述單元、模組或組件可一起實施或分離實施為離散但交互運作之邏輯裝置。將不同特徵描述為模組、裝置或單元意欲強調不同的功能態樣並且並非必然暗示此等模組、裝置或單元必須由不同硬體或軟體組件來實現。而是，與一或多個模組、裝置或單元相關之功能性可藉由不同硬體或軟體組件執行，或在共同或不同硬體或軟體組件內整合。本揭露中所述的技術可至少部分在硬體、軟體、韌體、或其任何組合中實施。例如，技術的各種態樣可經實施在一或多個微處理器、數位信號處理器(DSP)、特殊應用積體電路(ASIC)、場可程式化閘陣列(FPGA)、或任何其他等效的積體或離散邏 輯電路系統、以及此類組件的任何組合內，經體現在程式器(例如，圖1及圖3中的運算裝置120)、獲取電腦155、及基準標記讀取器156與基準標記控制器157(圖3)、製造程序110(圖1及圖3)與轉換控制系統166(圖3)中。用語「處理器(processor)」、「處理電路系統(processing circuitry)」、「控制器(controller)」或「控制模組(control module)」可大致上係指前述邏輯電路系統之任何者、單獨或與其他邏輯電路系統組合、或任何其他等效電路系統、及單獨或與其他數位或類比電路系統組合。
對於以軟體實施之態樣，歸於在本揭露中所描述之系統及裝置的至少一些功能性可體現為在一電腦可讀取儲存媒體(諸如隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、非揮發性隨機存取記憶體(NVRAM)、電可抹除可程式化唯讀記憶體(EEPROM)、快閃記憶體、磁性媒體、光學媒體、或有形之類似物)上的指令。伺服器、用戶端運算裝置、或任何其他運算裝置亦可含有一更可攜式可移除式記憶體類型以實現易於資料傳送或離線資料分析。可執行該等指令以支援在本揭露中所描述之功能性之一或多項態樣。在一些實施例中，一電腦可讀儲存媒體包含一非暫時性媒體。用語「非暫時性(non-transitory)」可指示儲存媒體非以載波或傳播訊號予以體現。在一些實施例中，一非暫時性儲存媒體可儲存可隨時間變化之資料(例如，在RAM或快取記憶體中)。
已描述本揭露之各種態樣。此等及其他態樣係在下文的申請專利範圍範疇內。

Claims (10)

  1. 一種用於檢查一膜之方法，該方法包含：使來自一光源的光透射通過該膜，同時使該膜前進通過一影像擷取裝置及該光源；針對該膜之複數個影像區域的各者藉由該影像擷取裝置的一光感測器陣列擷取對應於透射通過該膜之一光強度位準的電信號；針對該複數個影像區域的各者藉由處理電路系統分析經擷取的該等電信號以判定對應於透射通過該膜之該光強度位準的一光透射量化值；針對該複數個影像區域的各者相對於該膜上的至少一標記及藉由該處理電路系統判定該膜上之一對應位置，以將該等光透射量化值與該膜在空間上同步；及藉由該處理電路系統產生用於該膜之一輥映射，其中該輥映射針對該複數個影像區域提供該等光透射量化值之一連續表示，並與該膜上的該至少一標記在空間上同步以用於控制將該膜轉換成複數個部件。
  2. 如請求項1之方法，其中從該光源透射的該光包含一紅外光波長，且其中該膜包含複數個膜材料層，其等經組態以阻擋可見光波長的透射，同時允許該紅外光波長透射通過該膜的一厚度尺寸。
  3. 如請求項1或2中任一項之方法，其中分析經擷取的該等電信號以判定一光透射量化值包含判定針對該複數個影像區域之一給定影像區域而測量之經擷取的一光位準相對於由該光源提供給該給定影像區域之未經衰減的一光強度位準之一透射百分率。
  4. 如請求項1或2中任一項之方法，其中映射針對該複數個影像區域的各者而判定之該光透射量化值包含：在該膜相對於該影像擷取裝置前進時，從該膜讀取位置指示資訊，該位置指示資訊指示沿著該膜之至少一縱幅尺寸的一實體位置；及針對該複數個影像區域的各者將該位置指示資訊映射至透射通過該膜之經擷取的該光強度位準。
  5. 如請求項1或2中任一項之方法，其中該映射該等光透射量化值包括針對覆蓋該膜之一相連部分的該複數個影像區域映射該等光透射量化值。
  6. 如請求項1或2中任一項之方法，其中該映射包括映射指示該膜之一部分的分區，於該部分中該等光透射量化值至少超過一預先定義的臨限值。
  7. 如請求項1或2中任一項之方法，其中產生用於該膜之該輥映射進一步包含：藉由該處理電路系統判定用於針對該複數個影像區域的各者而判定之該等光透射量化值之一通過/未通過臨限值；基於針對該複數個影像區域的各者之該光透射量化值與該通過/未通過臨限值的一比較，由該處理電路系統判定指派給該複數個影像區域的各者之一通過/未通過狀態；及由該處理電路系統產生用於該膜的一通過/未通過輥映射，其指示指派給該複數個影像區域之該等影像區域的各者之該通過/未通過狀態。
  8. 如請求項7之方法，其進一步包含：藉由該處理電路系統產生描繪欲從該膜轉換之至少一部件的圖形影像，其中該至少一部件的各者包含圈起一形狀的一周緣； 藉由該處理電路系統定位該至少一部件之該等圖形影像的各者至該通過/未通過輥映射上，使得該至少一部件之該等圖形影像的各者之一整體完全位於該通過/未通過輥映射之一分區內，該通過/未通過輥映射具有指派給該分區內所包括的該等影像區域之各者的一通過狀態；藉由該處理電路系統產生該通過/未通過輥映射，其具有疊置到該通過/未通過輥映射上之該至少一部件的經定位的該等圖形影像；及藉由一顯示裝置顯示該通過/未通過輥映射，其具有該至少一部件之經疊置的該等圖形影像。
  9. 一種用於檢查一膜之系統，該系統包含：一光源，其經組態以產生具有至少一波長的光以及在該膜前進通過該光源的同時引導由該光源產生的該光至該膜的一第一表面；一影像擷取裝置，其經定位以在該光於通過該膜之一厚度尺寸之後出射該膜相對於該膜的該第一表面之一第二表面之後擷取光以及測量由該光源所產生的該光之一光強度位準；一基準標記讀取器，其經定位以讀取該膜上之至少一標記以及基於該至少一標記輸出位置資料；及至少一處理器，該處理器包含處理電路系統，其經組態以，針對該膜之複數個影像區域的各者分析經擷取的該等電信號以判定對應於透射通過該膜之一光強度位準的一光透射量化值，使用該位置資料將針對該複數個影像區域的各者而判定之該光透射量化值映射至該膜的一對應位置，以針對該膜之該等影像區域的各者在空間上同步該光透射量化值；及產生用於該膜的一輥映射，其表示與該膜上的該至少一標記 在空間上同步之用於該複數個影像區域的該等光透射量化值。
  10. 一種用於校準一膜檢查系統之方法，該方法包含：在一光源與一膜檢查系統的一影像擷取裝置之間無一膜存在的情況下，使來自該光源之一光透射至該影像擷取裝置；藉由該影像擷取裝置擷取複數個電子信號，該複數個電子信號對應於跨該影像擷取裝置之一影像區域成像之該光強度位準中的變動；施加一平場影像校正至該等電子信號以均化跨該成像區域擷取之該等光強度位準中的變動，該平場影像校正包括使用一暗電流及用於擷取透射之該光之該影像擷取裝置的複數個像素之各者的一增益值對一原始影像測量的校準；儲存使用該平場影像校正產生的影像校正資料，該影像校正資料係用於測量膜中的光位準透射；及當成像前進通過該光源及該影像擷取裝置的一膜時，將經儲存的該影像校正資料施加至由該影像擷取裝置產生之由該成像擷取裝置擷取的影像資料組。
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