TW201906743A - 轉印膜結構及其製法與立體轉印品及其製法 - Google Patents

轉印膜結構及其製法與立體轉印品及其製法 Download PDF

Info

Publication number
TW201906743A
TW201906743A TW106122496A TW106122496A TW201906743A TW 201906743 A TW201906743 A TW 201906743A TW 106122496 A TW106122496 A TW 106122496A TW 106122496 A TW106122496 A TW 106122496A TW 201906743 A TW201906743 A TW 201906743A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
pattern
light shielding
dark reaction
film structure
Prior art date
Application number
TW106122496A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI679134B (zh
Inventor
吳盧漢檉
黃朝鍵
Original Assignee
大勤化成股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大勤化成股份有限公司 filed Critical 大勤化成股份有限公司
Priority to TW106122496A priority Critical patent/TWI679134B/zh
Priority to JP2018014498A priority patent/JP6461387B2/ja
Publication of TW201906743A publication Critical patent/TW201906743A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI679134B publication Critical patent/TWI679134B/zh

Links

Landscapes

  • Decoration By Transfer Pictures (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

一種轉印膜結構包含一彈性薄膜基材層、一模板層、一第一遮光層、一第二遮光層、一填充層、一暗反應層、一第一圖案層及一固定層。 該模板層形成在該彈性薄膜基材層上,該第一遮光層形成在該彈性薄膜基材層上,該第二遮光層形成在該模板層上,該填充層形成在該第二遮光層上,該暗反應層形成在該填充層上,該第一圖案層形成在該第一遮光層上,該固定層位在該暗反應層與該第一圖案層上。本發明的轉印膜結構於一物件表面所形成的立體轉印圖案上不會殘留離型劑。

Description

轉印膜結構及其製法與立體轉印品及其製法
本發明是有關於一種轉印膜結構及其製法與轉印品及其製法,特別是指一種包含遮光層的轉印膜結構及其製法與立體轉印品及其製法。
為了增加物品外觀的美感,現有已存在各種能貼覆於一物件表面且具有各式轉印圖案的轉印膜,例如可貼覆於如手機或筆記型電腦等電子產品外殼上的轉印膜。然而,大多數轉印膜上的圖案皆僅限於平面轉印圖案,非為能產生具有立體觸感的立體轉印圖案。
目前市面上已出現能於物件上產生立體轉印圖案的轉印膜結構,此轉印膜結構的製法是先提供一離型劑層,並於該離型劑層上設置一軟性塗層,接著於該軟性塗層上相反於該離型劑層的一側設置一油墨層,再於該油墨層上相反於該軟性塗層的一側設置一黏著層,最後製得一轉印膜結構。前述的轉印膜結構在透過該黏著層固定在一物件表面並移除該離型劑層後,該物件表面上即會形成立體轉印圖案。
然而,前述的轉印膜結構在移除該離型劑層後,常會於該立體轉印圖案上殘留離型劑,並無法將離型劑完全移除乾淨,影響到立體轉印圖案的美觀。因此,如何解決現有的轉印膜結構因離型劑所產生的缺點,成為目前致力研究的目標。
因此,本發明的第一目的,即在提供一種轉印膜結構。該轉印膜結構於一物件表面所形成的立體轉印圖案上不會殘留離型劑。
於是,本發明轉印膜結構包含一彈性薄膜基材層、一模板層、一第一遮光層、一第二遮光層、一填充層、一暗反應層、一第一圖案層及一固定層。
該模板層以第一圖樣形成在該彈性薄膜基材層上且由塗料形成。
該第一遮光層以互補於該第一圖樣的第二圖樣形成在該彈性薄膜基材層上且由紫外光吸收油墨形成,該第一遮光層與該模板層位在同一平面上。
該第二遮光層以該第一圖樣形成在該模板層上且由紫外光吸收油墨形成。
該填充層以該第一圖樣形成在該第二遮光層上且由透明油墨形成。
該暗反應層以該第一圖樣形成在該填充層上。
該第一圖案層以該第二圖樣形成在該第一遮光層上且由油溶性塗料形成,該第一圖案層與該第二遮光層、該填充層及該暗反應層接觸。
該固定層位在該暗反應層與該第一圖案層上。
因此,本發明的第二目的,即在提供一種前述轉印膜結構的製法。
於是,本發明轉印膜結構的製法包含下列步驟: (a) 在一彈性薄膜基材層上以第一圖樣形成一由塗料形成的模板層; (b) 在該彈性薄膜基材層上以互補於該第一圖樣的第二圖樣形成一由紫外光吸收油墨形成的第一遮光層,該第一遮光層與該模板層位在同一平面上; (c) 在該模板層上以該第一圖樣形成一由紫外光吸收油墨形成的第二遮光層; (d) 在該第一遮光層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第一圖案次層,該第一圖案次層與該第二遮光層位在同一平面上; (e) 在該第二遮光層上以該第一圖樣形成一由透明油墨形成的填充層; (f) 在該第一圖案次層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第二圖案次層,該第二圖案次層與該填充層位在同一平面上; (g) 在該填充層上以該第一圖樣形成一暗反應層; (h) 在該第二圖案次層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第三圖案次層,該第三圖案次層與該暗反應層位在同一平面上,該第一圖案次層、該第二圖案次層與該第三圖案次層共同界定出一第一圖案層;及 (i) 形成一位在該暗反應層與該第三圖案次層上方的固定層,以得到該轉印膜結構。
此外,本發明還有一第三目的,即在提供一種於其立體轉印圖案上不會殘留離型劑的立體轉印品。
於是,本發明立體轉印品包含一物件、一固定層、一暗反應層、一第三圖案次層、一填充層、一第二圖案次層及一第一圖案次層。
該固定層貼覆在該物件表面上。
該暗反應層以第一圖樣位在該固定層上。
該第三圖案次層以互補於該第一圖樣的第二圖樣位在該固定層上且由油溶性塗料形成,該第三圖案次層與該暗反應層位在同一平面上。
該填充層以該第一圖樣覆蓋在該暗反應層上且由透明油墨形成。
該第二圖案次層以該第二圖樣覆蓋在該第三圖案次層上且由油溶性塗料形成,該第二圖案次層與該填充層位在同一平面上。
該第一圖案次層以該第二圖樣覆蓋在該第二圖案次層上且由油溶性塗料形成,該第一圖案次層、該第二圖案次層與該第三圖案次層共同界定出一第一圖案層。
而本發明的第四目的,即在提供一種前述立體轉印品的製法。
於是,本發明立體轉印品的製法包含前述轉印膜結構的製法所有步驟及下列步驟: (j) 使該轉印膜結構的固定層貼覆於一物件表面; (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層朝該固定層的方向照射; (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層與該第一圖案層移除該第一遮光層、該第二遮光層、該模板層與該彈性薄膜基材層;及 (m) 在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層、該填充層、該暗反應層與該固定層,以得到該立體轉印品。
而本發明的第五目的,即在提供另一種前述立體轉印品的製法。
於是,本發明立體轉印品的製法包含前述轉印膜結構的製法(a)~(h)步驟及下列步驟: (h1) 在該暗反應層與該第三圖案次層上形成一由油溶性塗料形成的第二圖案層; (i) 形成一位在該第二圖案層上方的固定層,以得到該轉印膜結構; (j) 使該轉印膜結構的固定層貼覆於一物件表面; (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層朝該固定層的方向照射; (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層與該第一圖案層移除該第一遮光層、該第二遮光層、該模板層與該彈性薄膜基材層;及 (m) 在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層、該第二圖案層、該填充層、該暗反應層與該固定層,以得到該立體轉印品。
本發明的功效在於:本發明的轉印膜結構是通過該第一遮光層與該第二遮光層的設置,使其在貼覆於一物件表面後,僅需照射紫外光即可使該第一遮光層、該第二遮光層、該模板層與該彈性薄膜基材層能從該填充層與該第一圖案層上被輕易移除,與現有的轉印膜結構是貼覆於一物件表面後再移除離型劑層的技術不同。因此,本發明的轉印膜結構於該物件表面所形成的立體轉印圖案上(即該填充層與該第一圖案層上)不會殘留離型劑。
以下將就本發明內容進行詳細說明:
[ 轉印膜結構 ]
較佳地,該彈性薄膜基材層的材料為聚乙烯醇、耐綸、聚甲基戊烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯吡咯啶酮、聚乙烯、聚丙烯或其組合。
較佳地,該暗反應層的材料為陽離子型樹脂、硫醇樹脂或其組合。
較佳地,該模板層固著於該彈性薄膜基材層上。
較佳地,本發明的轉印膜結構還包含一位在該暗反應層、該第一圖案層與該固定層之間且由油溶性塗料形成的第二圖案層。
較佳地,本發明的轉印膜結構還包含一貼覆在該固定層上的離型膜。
[ 轉印膜結構的製法 ]
較佳地,本發明的轉印膜結構的製法還包含一在該步驟(h)後的步驟(h1),該步驟(h1)是在該暗反應層與該第三圖案次層上形成一由油溶性塗料形成的第二圖案層,該步驟(i)是在該第二圖案層上形成該固定層。
[ 立體轉印品 ]
較佳地,本發明的立體轉印品還包含一位在該暗反應層、該第一圖案層與該固定層之間且由油溶性塗料形成的第二圖案層。
在本發明被詳細描述前,應當注意在以下的說明內容中,類似的元件是以相同的編號來表示。
實施例 1>
製備轉印膜結構 ( 包含一個圖案層 )
本實施例1的轉印膜結構的製法包含下列步驟:
步驟 (a) 參閱圖1,在一彈性薄膜基材層1上以第一圖樣20形成一由HA-Clear塗料(廠商為大勤化成股份有限公司)形成的模板層2,其中,該彈性薄膜基材層1是由一聚乙烯醇次層及兩個分別位於該聚乙烯醇次層相反兩側的耐綸次層經共同擠壓所形成。
步驟 (b) 參閱圖2,在該彈性薄膜基材層1上以互補於該第一圖樣20的第二圖樣30形成一由紫外光吸收油墨(UV-AB INK;廠商為大勤化成股份有限公司)形成的第一遮光層3,該第一遮光層3與該模板層2位在同一平面上。
步驟 (c) 參閱圖3,在該模板層2上以該第一圖樣20形成一由紫外光吸收油墨(UV-AB INK)形成的第二遮光層4。
步驟 (d) 參閱圖4,在該第一遮光層3上以該第二圖樣30形成一由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y;廠商為大勤化成股份有限公司)形成的第一圖案次層71,該第一圖案次層71與該第二遮光層4位在同一平面上。
步驟 (e) 參閱圖5,在該第二遮光層4上以該第一圖樣20形成一由透明油墨(UV-H Clear;廠商為大勤化成股份有限公司)形成的填充層5。
步驟 (f) 參閱圖6,在該第一圖案次層71上以該第二圖樣30形成一由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成的第二圖案次層72,該第二圖案次層72與該填充層5位在同一平面上。
步驟 (g) 參閱圖7,在該填充層5上以該第一圖樣20形成一由油墨(UV-SH INK;廠商為大勤化成股份有限公司)形成的暗反應層6。
步驟 (h) 參閱圖8,在該第二圖案次層72上以該第二圖樣30形成一由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成的第三圖案次層73,該第三圖案次層73與該暗反應層6位在同一平面上,該第一圖案次層71、該第二圖案次層72與該第三圖案次層73共同界定出一第一圖案層7。
步驟 (i) 參閱圖9,在該暗反應層6與該第三圖案次層73上方形成一由HAB背膠形成的固定層8,以得到該轉印膜結構100。
需說明的是,該填充層5與該第二圖案次層72的形成順序無特別限制,在本實施例的方法中,可以先形成該第二圖案次層72[步驟(f)]後,再形成該填充層5[步驟(e)]。此外,該暗反應層6與該第三圖案次層73的形成順序同樣也無特別限制,在本實施例的方法中,可以先形成該第三圖案次層73[步驟(h)]後,再形成該暗反應層6[步驟(g)]。
實施例 1 得到的轉印膜結構
參閱圖9,實施例1得到的轉印膜結構100包含一彈性薄膜基材層1、一模板層2、一第一遮光層3、一第二遮光層4、一填充層5、一暗反應層6、一第一圖案層7及一固定層8。
該模板層2以第一圖樣20形成並固著在該彈性薄膜基材層1上且由HA-Clear塗料形成。
該第一遮光層3以互補於該第一圖樣20的第二圖樣30形成在該彈性薄膜基材層1上且由紫外光吸收油墨(UV-AB INK)形成,該第一遮光層3與該模板層2位在同一平面上。
該第二遮光層4以該第一圖樣20形成在該模板層2上且由紫外光吸收油墨(UV-AB INK)形成。
該填充層5以該第一圖樣20形成在該第二遮光層4上且由透明油墨(UV-H Clear)形成。
該暗反應層6由油墨(UV-SH INK)形成且以該第一圖樣20形成在該填充層5上。
該第一圖案層7以該第二圖樣30形成在該第一遮光層3上且由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成。該第一圖案層7包括一第一圖案次層71、一第二圖案次層72及一第三圖案次層73,且該第一圖案層7與該第二遮光層4、該填充層5及該暗反應層6接觸,並與該彈性薄膜基材層1相間隔。
該固定層8位在該暗反應層6與該第一圖案層7上且由HAB背膠形成。
需特別說明的是,本實施例的轉印膜結構100還可以依使用者需求包含一位在該暗反應層6、該第一圖案層7與該固定層8之間且呈現金屬質感的蒸鍍層(圖未示)。此外,本實施例的轉印膜結構100也可以依使用者需求包含一貼覆在該固定層8上的離型膜(圖未示),且當欲使用本實施例的轉印膜結構100於物件上產生立體轉印圖案時,需先將該離型膜從該固定層8上移除。
實施例 2>
製備轉印膜結構 ( 包含兩個圖案層 )
參閱圖10,本實施例2的轉印膜結構100的製法與實施例1相似,其差別在於,本實施例的製法在該步驟(h)之後,還包含一在該第三圖案次層73與該暗反應層6上形成一第二圖案層9的步驟(h1),該第二圖案層9是由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成,且該步驟(i)是在該第二圖案層9上形成該固定層8。
實施例 2 得到的轉印膜結構
參閱圖10,實施例2得到的轉印膜結構100與實施例1得到的轉印膜結構類似,其差別在於,實施例2的轉印膜結構100還包含一位在該暗反應層6、該第一圖案層7與該固定層8之間的第二圖案層9,且該第二圖案層9與該彈性薄膜基材層1相間隔。
需特別說明的是,參閱圖9與圖10,不論是實施例1或實施例2,該轉印膜結構100的第一遮光層3接觸該第一圖案層7的一面可設計為具有光滑結構的表面(例如亮面)或具有粗糙結構的表面(例如霧面),或者也可以同時具有光滑結構及粗糙結構的表面,當該第一遮光層3接觸該第一圖案層7的一面為具有粗糙結構的表面時,該第一圖案層7接觸該第一遮光層3的一面也會成為具有粗糙結構的表面。
應用例 1>
製備立體轉印品 ( 由實施例 1 得到的轉印膜結構製得 )
本應用例1的立體轉印品的製法除了包含前述實施例1的轉印膜結構的製法所有步驟外,還包含及下列步驟:
步驟 (j) 參閱圖11,使該轉印膜結構100的固定層8貼覆於一物件40表面。
步驟 (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層1朝該固定層8的方向照射,使該第一遮光層3與該第二遮光層4能從該填充層5與該第一圖案層7上剝離。
步驟 (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層5與該第一圖案層7移除該第一遮光層3、該第二遮光層4、該模板層2與該彈性薄膜基材層1。
步驟 (m) 參閱圖12,在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層7、該填充層5、該暗反應層6與該固定層8,使該第一圖案層7、該填充層5、該暗反應層6與該固定層8固化後,得到該具有立體轉印圖案的立體轉印品200。
需特別說明的是,該暗反應層6在紫外光被移除後仍會持續進行固化,用以接著該填充層5、該第一圖案層7與該固定層8。
應用例 1 得到的立體轉印品
參閱圖12,應用例1得到的立體轉印品200包含一物件40、一固定層8、一暗反應層6、一填充層5、一第三圖案次層73、一第二圖案次層72及一第一圖案次層71。
該固定層8由HAB背膠形成且貼覆在該物件40表面上。
該暗反應層6由油墨(UV-SH INK)形成且以第一圖樣20位在該固定層8上。
該第三圖案次層73以互補於該第一圖樣20的第二圖樣30位在該固定層8上且由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成,該第三圖案次層73與該暗反應層6位在同一平面上。
該填充層5以該第一圖樣20覆蓋在該暗反應層6上且由透明油墨(UV-H Clear)形成。
該第二圖案次層72以該第二圖樣30覆蓋在該第三圖案次層73上且由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成,該第二圖案次層72與該填充層5位在同一平面上。
該第一圖案次層71以該第二圖樣30覆蓋在該第二圖案次層72上且由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成,該第一圖案次層71、該第二圖案次層72與該第三圖案次層73共同界定出一第一圖案層7。通過該第一圖案次層71的設置而使該物件40表面上形成具有立體觸感的立體轉印圖案。
應用例 2>
製備立體轉印品 ( 由實施例 2 得到的轉印膜結構製得 )
本應用例2的立體轉印品的製法除了包含前述實施例2的轉印膜結構的製法所有步驟外,還包含及下列步驟:
步驟 (j) 參閱圖13,使該轉印膜結構100的固定層8貼覆於一物件40表面。
步驟 (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層1朝該固定層8的方向照射,使該第一遮光層3與該第二遮光層4能從該填充層5與該第一圖案層7上剝離。
步驟 (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層5與該第一圖案層7移除該第一遮光層3、該第二遮光層4、該模板層2與該彈性薄膜基材層1。
步驟 (m) 參閱圖14,在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層7、該第二圖案層9、該填充層5、該暗反應層6與該固定層8,使該第一圖案層7、該第二圖案層9、該填充層5、該暗反應層6與該固定層8固化後,得到該立體轉印品200。
需特別說明的是,該暗反應層6在紫外光被移除後仍會持續進行固化,用以接著該填充層5、該第一圖案層7與該第二圖案層9。
應用例 2 得到的立體轉印品
參閱圖14,應用例2得到的立體轉印品200與應用例1得到的立體轉印品相似,其差別在於,應用例2得到的立體轉印品200還包含一位在該暗反應層6、該第一圖案層7與該固定層8之間且由油溶性塗料(HA-K、HA-C、HA-M或HA-Y)形成的第二圖案層9。該第二圖案層9使該物件40表面所形成的立體轉印圖案除了能呈現該第一圖案層7的花紋外,還能呈現另一種有別於該第一圖案層9的花紋。
綜上所述,本發明的轉印膜結構100是通過該第一遮光層3與該第二遮光層4的設置,使其在貼覆於一物件40表面後,僅需照射紫外光即可使該第一遮光層3、該第二遮光層4、該模板層2與該彈性薄膜基材層1能從該填充層5與該第一圖案層7上被輕易移除。因此,本發明的轉印膜結構100於該物件40表面所形成的立體轉印圖案上(即該填充層5與該第一圖案層7上)不會殘留離型劑,故確實能達成本發明的目的。
惟以上所述者,僅為本發明的實施例而已,當不能以此限定本發明實施的範圍,凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。
100‧‧‧轉印膜結構
1‧‧‧彈性薄膜基材層
20‧‧‧第一圖樣
2‧‧‧模板層
30‧‧‧第二圖樣
3‧‧‧第一遮光層
4‧‧‧第二遮光層
5‧‧‧填充層
6‧‧‧暗反應層
7‧‧‧第一圖案層
71‧‧‧第一圖案次層
72‧‧‧第二圖案次層
73‧‧‧第三圖案次層
9‧‧‧第二圖案層
200‧‧‧立體轉印品
8‧‧‧固定層
40‧‧‧物件
本發明的其他的特徵及功效,將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現,其中:  圖1是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(a);  圖2是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(b);  圖3是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(c);  圖4是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(d); 圖5是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(e); 圖6是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(f); 圖7是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(g); 圖8是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(h); 圖9是一剖面示意圖,說明實施例1的製法的步驟(i)及由實施例1得到的轉印膜結構; 圖10是一剖面示意圖,說明由實施例2得到的轉印膜結構; 圖11是一剖面示意圖,說明由實施例1的製法得到的轉印膜結構通過其固定層貼覆於一物件的表面; 圖12是一剖面示意圖,說明應用例1的製法的步驟(m)及由應用例1得到的立體轉印品; 圖13是一剖面示意圖,說明由實施例2的製法得到的轉印膜結構通過其固定層貼覆於一物件的表面;及 圖14是一剖面示意圖,說明應用例2的製法的步驟(m)及由應用例2得到的立體轉印品。

Claims (11)

  1. 一種轉印膜結構,包含: 一彈性薄膜基材層; 一以第一圖樣形成在該彈性薄膜基材層上且由塗料形成的模板層; 一以互補於該第一圖樣的第二圖樣形成在該彈性薄膜基材層上且由紫外光吸收油墨形成的第一遮光層,該第一遮光層與該模板層位在同一平面上; 一以該第一圖樣形成在該模板層上且由紫外光吸收油墨形成的第二遮光層; 一以該第一圖樣形成在該第二遮光層上且由透明油墨形成的填充層; 一以該第一圖樣形成在該填充層上的暗反應層; 一以該第二圖樣形成在該第一遮光層上且由油溶性塗料形成的第一圖案層,該第一圖案層與該第二遮光層、該填充層及該暗反應層接觸;及 一位在該暗反應層與該第一圖案層上的固定層。
  2. 如請求項1所述的轉印膜結構,其中,該彈性薄膜基材層的材料為聚乙烯醇、耐綸、聚甲基戊烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯吡咯啶酮、聚乙烯、聚丙烯或其組合。
  3. 如請求項1所述的轉印膜結構,其中,該模板層固著於該彈性薄膜基材層上。
  4. 如請求項1所述的轉印膜結構,還包含一位在該暗反應層、該第一圖案層與該固定層之間且由油溶性塗料形成的第二圖案層。
  5. 如請求項1所述的轉印膜結構,還包含一貼覆在該固定層上的離型膜。
  6. 一種轉印膜結構的製法,包含下列步驟: (a) 在一彈性薄膜基材層上以第一圖樣形成一由塗料形成的模板層; (b) 在該彈性薄膜基材層上以互補於該第一圖樣的第二圖樣形成一由紫外光吸收油墨形成的第一遮光層,該第一遮光層與該模板層位在同一平面上; (c) 在該模板層上以該第一圖樣形成一由紫外光吸收油墨形成的第二遮光層; (d) 在該第一遮光層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第一圖案次層,該第一圖案次層與該第二遮光層位在同一平面上; (e) 在該第二遮光層上以該第一圖樣形成一由透明油墨形成的填充層; (f) 在該第一圖案次層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第二圖案次層,該第二圖案次層與該填充層位在同一平面上; (g) 在該填充層上以該第一圖樣形成一暗反應層; (h) 在該第二圖案次層上以該第二圖樣形成一由油溶性塗料形成的第三圖案次層,該第三圖案次層與該暗反應層位在同一平面上,該第一圖案次層、該第二圖案次層與該第三圖案次層共同界定出一第一圖案層;及 (i) 形成一位在該暗反應層與該第三圖案次層上方的固定層,以得到該轉印膜結構。
  7. 如請求項6所述的轉印膜結構的製法,還包含一在該步驟(h)後的步驟(h1),該步驟(h1)是在該暗反應層與該第三圖案次層上形成一由油溶性塗料形成的第二圖案層,該步驟(i)是在該第二圖案層上形成該固定層。
  8. 一種立體轉印品,包含: 一物件; 一貼覆在該物件表面上的固定層; 一以第一圖樣位在該固定層上的暗反應層; 一以互補於該第一圖樣的第二圖樣位在該固定層上且由油溶性塗料形成的第三圖案次層,該第三圖案次層與該暗反應層位在同一平面上; 一以該第一圖樣覆蓋在該暗反應層上且由透明油墨形成的填充層; 一以該第二圖樣覆蓋在該第三圖案次層上且由油溶性塗料形成的第二圖案次層,該第二圖案次層與該填充層位在同一平面上;及 一以該第二圖樣覆蓋在該第二圖案次層上且由油溶性塗料形成的第一圖案次層,該第一圖案次層、該第二圖案次層與該第三圖案次層共同界定出一第一圖案層。
  9. 如請求項8所述的立體轉印品,還包含一位在該暗反應層、該第一圖案層與該固定層之間且由油溶性塗料形成的第二圖案層。
  10. 一種立體轉印品的製法,包含如請求項6所述轉印膜結構的製法所有步驟及下列步驟: (j) 使該轉印膜結構的固定層貼覆於一物件表面; (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層朝該固定層的方向照射; (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層與該第一圖案層移除該第一遮光層、該第二遮光層、該模板層與該彈性薄膜基材層;及 (m) 在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層、該填充層、該暗反應層與該固定層,以得到該立體轉印品。
  11. 一種立體轉印品的製法,包含如請求項7所述轉印膜結構的製法所有步驟及下列步驟: (j) 使該轉印膜結構的固定層貼覆於一物件表面; (k) 在該步驟(j)之後,以紫外光自該彈性薄膜基材層朝該固定層的方向照射; (l) 在該步驟(k)之後,自該填充層與該第一圖案層移除該第一遮光層、該第二遮光層、該模板層與該彈性薄膜基材層;及 (m) 在該步驟(l)之後,以紫外光照射該第一圖案層、該第二圖案層、該填充層、該暗反應層與該固定層,以得到該立體轉印品。
TW106122496A 2017-07-05 2017-07-05 立體轉印品及其製法 TWI679134B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106122496A TWI679134B (zh) 2017-07-05 2017-07-05 立體轉印品及其製法
JP2018014498A JP6461387B2 (ja) 2017-07-05 2018-01-31 転写フィルム及びその製造方法、並びに転写フィルムによる3次元立体転写パターンを有する製品及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106122496A TWI679134B (zh) 2017-07-05 2017-07-05 立體轉印品及其製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201906743A true TW201906743A (zh) 2019-02-16
TWI679134B TWI679134B (zh) 2019-12-11

Family

ID=65229018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106122496A TWI679134B (zh) 2017-07-05 2017-07-05 立體轉印品及其製法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6461387B2 (zh)
TW (1) TWI679134B (zh)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62104792A (ja) * 1985-10-31 1987-05-15 Nissha Printing Co Ltd 層間剥離型転写材
JP2764131B2 (ja) * 1988-06-20 1998-06-11 大日本印刷株式会社 凹凸模様を転写する方法
JP2950599B2 (ja) * 1990-10-19 1999-09-20 大日本印刷株式会社 転写シート
JPH06320897A (ja) * 1993-05-13 1994-11-22 Dainippon Printing Co Ltd 凹凸模様形成用転写シート及びその使用方法
JPH07266798A (ja) * 1994-03-30 1995-10-17 Toppan Printing Co Ltd 転写シート及びこれを用いた化粧板の製造方法
CN202192865U (zh) * 2011-05-27 2012-04-18 汕头市丽葵玩具有限公司 一种转印膜
KR101337137B1 (ko) * 2011-12-02 2013-12-05 (주)엘지하우시스 입체패턴을 나타내는 인몰드 사출용 전사필름 및 그의 제조방법
CN103568613B (zh) * 2012-07-31 2016-01-20 珠海格力电器股份有限公司 装饰板的印刷方法及装饰板
JP6225642B2 (ja) * 2013-10-30 2017-11-08 凸版印刷株式会社 インモールド転写箔
JP6451185B2 (ja) * 2014-09-30 2019-01-16 大日本印刷株式会社 水圧転写フィルム及びこれを用いた加飾成形品
WO2016139705A1 (ja) * 2015-03-02 2016-09-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 転写フィルム及び転写フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6461387B2 (ja) 2019-01-30
TWI679134B (zh) 2019-12-11
JP2019014224A (ja) 2019-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016530622A5 (zh)
US20190045643A1 (en) Anti-Slip Substrates
TWM456521U (zh) 3d紋理轉印薄膜
EP2808167B1 (en) Method of manufacturing case frame
KR102108370B1 (ko) 금속 느낌과 질감을 갖는 브랜드로고 및 라벨 제조방법
TW201540506A (zh) 具紋理與皮革效果紋理之裝飾膜
CN109203825A (zh) 一种壳体、其制造工艺及电子设备
TW201906743A (zh) 轉印膜結構及其製法與立體轉印品及其製法
TWM547117U (zh) 轉印膜結構
TWI252150B (en) In mold decoration fabrication of injection molding
TWI623444B (zh) Transfer film structure, preparation method thereof and preparation method of three-dimensional transfer product
TWM552438U (zh) 轉印膜結構與立體轉印品
CN109109536B (zh) 转印膜结构及其制法与立体转印品的制法
TWI557622B (zh) Sensing circuit structure and manufacturing method thereof
CN109304955B (zh) 转印膜结构及其制法与立体转印品及其制法
TWM527383U (zh) 具有紋路裝飾的非平面鋼化玻璃
JP2009067004A (ja) 加飾シートとその製造方法、加飾成形品
TWI418471B (zh) A method for manufacturing a decorative board for forming a protective film
US20110308961A1 (en) Pattern processing method of a workpiece's surface
KR101479417B1 (ko) Uv 경화 패턴층을 갖는 카드 제조방법
KR20130039395A (ko) 모바일 디바이스의 커버 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 모바일 디바이스의 커버
TWI581963B (zh) 複合式轉印膜
TW201420374A (zh) 裝飾性金屬圖案的製造方法及電子裝置
TWI342829B (en) A thin film structure and a fabrication method for the thin film structure
TW201117942A (en) Soft mold, manufacturing method thereof, in-mold roller decoration material with the soft mold and manufacturing the injection piece with the in-mold roller decoration material