JPH06320897A - 凹凸模様形成用転写シート及びその使用方法 - Google Patents

凹凸模様形成用転写シート及びその使用方法

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JPH06320897A
JPH06320897A JP13417993A JP13417993A JPH06320897A JP H06320897 A JPH06320897 A JP H06320897A JP 13417993 A JP13417993 A JP 13417993A JP 13417993 A JP13417993 A JP 13417993A JP H06320897 A JPH06320897 A JP H06320897A
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JP
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ionizing radiation
layer
pattern
transfer sheet
curable resin
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JP13417993A
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Tadamichi Ishii
忠道 石井
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被転写体に絵柄と同調した凹凸模様層をもつ
転写シートを提供する。 【構成】 電離放射線透過性シート2の一方の面に、電
離放射線遮蔽模様層3、電離放射線硬化性樹脂層の部分
的半硬化部4b、及び硬化部4c、絵柄層5、着色隠蔽
層6、及び、接着剤層7を順に設けた凹凸模様形成用転
写シートから、凹凸模様をもつ絵柄を被転写体8に形成
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、凹凸模様のある化粧用
転写シートに係わり、更に、詳しくは、紙、木材、プラ
スチック、無機系素材に対する、凹凸模様の光沢変化が
絵柄に同調した転写シート及びその使用方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の転写シートより得られる画像の光
沢は、絵柄の表面のみで表現されるものであり、絵柄と
凹凸模様、及び光沢との変化を完全に同調させるものが
なかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】凹凸模様を表現する盛
り上げインキによる印刷は、絵柄の階調がシャープに具
現できず、インキ転移量のバラツキにより凹凸の形状が
影響をうけやすいため、品質的に安定するものではなか
った。紫外線等の電離放射線硬化性樹脂を使用して、電
離放射線遮蔽インキ層との組み合わせにより凹凸感を施
す技術も開示されている(特開昭48ー17552号公
報、特公平1ー34667号公報参照)。しかしなが
ら、これらの技術は、絵柄、凹凸模様が、それぞれ個々
に形成されたものであるため、絵柄と凹凸模様とが必ず
しも同調したものではなく、また、凹凸模様層の凹部と
凸部の光沢との差がないものであるという問題点があっ
た。
【0004】本発明は、プラスチック、紙、木材、鉄
板、アルミニウムチューブ等あらゆる素材に対して、絵
柄、凹凸模様、及び光沢の差を同調して施せる凹凸模様
形成用転写シート及び、その使用法を提供することを目
的としている。
【0005】
【問題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の凹凸模様形成用転写シートにおいては、
電離放射線透過性シートの一方の面に、電離放射線遮蔽
模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄層、着色隠蔽
層、及び接着剤層を順に設けたものである。電離放射線
硬化性樹脂層は、未硬化状態の常温では熱可塑性の固形
物であり、電離放射線透過性シートの側から電離放射線
の照射により電離放射線遮蔽模様層にもとづいて、半硬
化状態から硬化状態の硬化度合いの異なる状態に変化す
るものである。そして電離放射線硬化性樹脂の半硬化層
は、熱転写後シートを剥離するときは、その層間で破壊
して剥離することを特徴とするものである。電離放射線
遮蔽模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄層、着色隠
蔽層、及び接着剤層を単一工程で形成することにより、
正確に電離放射線遮蔽模様層と絵柄層とを同調して形成
できるものである。そして、電離放射線透過性シート側
から電離放射線の照射を施して、電離放射線硬化性樹脂
層を、部分的に硬化度合いの異なる状態で構成するもの
である。あるいは、電離放射線を照射する前に、凹凸模
様形成用転写シートの画像面を被転写体に圧着した後に
電離放射線を照射することもできる。そして、部分的に
硬化の度合いが異なる電離放射線硬化性樹脂層を形成し
た後、転写シートを剥離し画像を完成させるものであ
る。更に、必要によっては、転写シートを剥離した画像
面に電離放射線を再照射して、凹凸模様の光沢に差があ
る、完全硬化した凹凸模様層を被転写体に構成すること
ができる。
【0006】
【作用】電離放射線遮蔽模様層は、転写シートのシート
側から、照射した電離放射線を絵柄に同調して遮蔽する
ものである。そして、その部分に設けられた電離放射線
硬化性樹脂は、硬化反応が完全に抑制されるか、極めて
軽度の硬化をうけるものである。したがって、凹凸模様
形成用転写シートから被転写体に画像を転写し、電離放
射線透過性シートを剥離するときは、電離放射線硬化型
樹脂層が形成する凹凸模様層に同調して完全硬化した部
分は、シート面固有の光沢をもち、また、軽度の硬化を
うけた部分は、その層間で破壊されて剥離するため、シ
ートがもつ光沢とは差がある面を形成するように働くも
のである。また、電離放射線硬化性樹脂層は、被転写体
上に、転写により凹凸模様層を形成すると同時に、電離
放射線透過性シートと剥離性をもち、更に、転写した絵
柄の保護層の作用をもつものである。
【0007】本発明の凹凸模様形成用転写シートは、図
2に示すように基材シートの一方の面に、電離放射線遮
蔽模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄層、着色隠蔽
層、及び接着剤層を順に設けたものである。電離放射線
透過性シートは、電離放射線が紫外線の場合は、ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリプロピレン等の延伸フイルム
又は、シートが挙げられ、紫外線の透過性を阻害する着
色料等を含まないものが好ましい。電離放射線が電子線
の場合は、電子線の透過性が高いので特に制約はなく、
上記の紫外線を透過するシートのみならず、紙に至るま
でも使用できる。したがって、印刷適性、転写時の適性
を重点的にした選択が可能である。電離放射線透過性シ
ートは、電離放射線遮蔽模様層との接着性がよく、電離
放射線硬化性樹脂層とは、剥離性をもつ必要がある。シ
ートそのものが上記の適性をもたない場合は、これらの
適性をもつ組成物の塗布等により、表面を改質して使用
することもできる。
【0008】電離放射線遮蔽模様層は、電離放射線透過
性シートのシート側から、照射した電離放射線を遮蔽
し、電離放射線硬化性樹脂層を部分的に硬化し、転写シ
ートの凹凸模様を形成するためのマスクパターンの作用
をもつものである。したがって、電離放射線遮蔽模様層
を形成する材料は、電離放射線が紫外線のときは、紫外
線を遮蔽、又は吸収するものである0.3〜10μmの
酸化チタン、カーボンブラック等の着色顔料や、硫酸バ
リウム、炭酸カルシウム等の充填剤を含むインキ、また
は、ベンゾフェノール系、サリチレート系、ベンゾトリ
アゾール系、アクリロニトリル系の紫外線吸収剤を含む
インキが挙げられる。また、電離放射線が電子線の場合
は、密度の大きい顔料である鉛白、黄鉛、酸化チタンの
他、金属粉であるアルミニウム粉、鉄粉等を含むインキ
が挙げられる。電離放射線遮蔽模様層の印刷は、これら
のインキを用いて通常の印刷法は採用できるが、好まし
くは、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷等インキ転
移量が多い印刷方式である。
【0009】電離放射線硬化性樹脂層は、被転写体上
に、転写により凹凸模様層を形成すると同時に、電離放
射線透過性シートと剥離性をもち、更に、転写した絵柄
の保護層となるものである。この保護層は未硬化の状態
では、常温で固体であり、かつ、熱可塑性である電離放
射線硬化性樹脂で形成する。これらの電離放射線硬化性
樹脂は、ラジカル重合性不飽和基をもつ熱溶融性樹脂で
あり次の2種類のものがある。 (1) ガラス転移点が、0〜250℃のポリマー中にラジ
カル重合性不飽和基をもつ化合物。具体的には、ポリマ
ーとしては以下の化合物〜を共重合させたものに対
し、後述の (イ)〜(ニ) によりラジカル重合性不飽和基を
導入したものを用いることができる。 水酸基をもつ単量体:N−メチロールアクリルアミ
ド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ3ーフェノキシプロ
ピルアクリレート、2−ヒドロキシ3ーフェノキシプロ
ピルメタクリレート、シアヌル酸、イソシアヌル酸な
ど。 カルボキシル基をもつ単量体:アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリロイルエチルモノサクシネートなど。 エポキシ基をもつ単量体:グリシジルメタクリレート
など。 アジリジニル基をもつ単量体:2−アジリニルエチル
メタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸アリル
など。 アミノ基をもつ単量体:アクリルアミド、メタクリル
アミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノ
エチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレ
ートなど。 スルフォン基をもつ単量体:2−アクリルアミド−2
メチルプロパンスルフォン酸など。 イソシアネート基をもつ単量体:2,4−トルエンジ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの
1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素をもつラジカル重合性単量体の付加物など。 更に、上記の重合体、又は共重合体のガラス転移点を
調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上
記の化合物と、この化合物と共重合できる次の単量体と
を共重合させることもできる。 共重合できる単量体は、メチルメタリクレート、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−
ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレートなどが挙げられる。次いで、上述の
ようにして得られた重合体、又は共重合体を、以下に記
載する(イ)〜(ニ) によってラジカル重合性不飽和基を導
入することにより、本発明に係わる材料を得ることがで
きる。 (イ) 水酸基をもつ単量体の重合体、又は共重合体の場合
は、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を
もつ単量体を縮合反応させる。 (ロ) カルボキシル基、スルフォン基をもつ単量体の重合
体、又は共重合体の場合は、前述の水酸基をもつ単量体
を縮合反応させる。 (ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニ
ル基をもつ単量体の重合体、又は共重合体の場合は、前
述の水酸基をもつ単量体もしくはカルボキシル基をもつ
単量体を付加反応させる。 (ニ)水酸基あるいはカルボキシル基を含む単量体の重合
体、又は共重合体の場合は、エポキシ基をもつ単量体、
アジリニル基をもつ単量体あるいはジイソシアネート化
合物と水酸基を含むアクリル酸エステル単量体との1モ
ル対1モルの付加反応をさせる。
【0010】(2) 融点が常温(20℃)〜250℃で、
ラジカル重合性不飽和基をもつ化合物。 具体的にはステアリルアクリレート、ステアリルメタク
リレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シ
クロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコ
ールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレー
ト、トリアジンを骨格とするラジカル反応性モノマーが
あり、例えば、トリアクリルイソシアヌレート、トリア
クリルホルマール、トリス(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、トリス(メタクリロイルオキシ
エチル)イソシアヌレート、ビスアクリロイルオキシエ
チル)・2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートの他に
アルキル・メチロール化メラミン、アルキルエーテル化
メラミン等のトリアジン誘導体(特開昭63−2391
0号公報参照)等がある。などが挙げられる。
【0011】また本発明は、前記の(1) 、(2) を混合し
て用いることもでき、更に、それらに対してラジカル重
合性不飽和単量体を加えることもできる。これらのラジ
カル重合性不飽和単量体は、紫外線又は電子線照射の
際、架橋密度を上げて耐熱性を向上させるものである。
前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサメタクリ
レート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジア
クリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル
ジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ソルビトールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、ソルビトールジグリシジルエーテルジメ
タクリレートなどを用いることができ、前述した共重合
体混合物の固形分100重量部に対して0.1〜100
重量部で用いることが好ましい。上記のものは、電子線
により充分硬化できるが、紫外線照射で硬化させる場合
には、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロ
ゲン化アセトフェノン類、ビアチルなどの紫外線照射に
よりラジカルを発生するものを用いることができる。
【0012】電離放射線硬化性樹脂層は、硬化後、電離
放射線透過性シートから剥離させて耐久性を備えた表面
保護層としての作用をするものである。そして、その硬
化時期については特に限定はしないが、通常は、絵柄
層、着色隠蔽層及び接着剤層を単一工程で連続的に施し
た後、電離放射線を照射して樹脂を硬化することが望ま
しい。
【0013】絵柄層は、木目模様、石目模様、抽象柄な
どの各種の模様を印刷により設けるものである。転写し
た場合凹凸模様と、絵柄層との同調あるいは非同調は自
由に選択することができ、優れた意匠効果を表現するこ
とができる。また、模様層は、例えばアルミニウム粉を
含むインキ、透明着色インキ等の全面印刷を繰り返すこ
とによりメタリック調の化粧を構成することもできる。
【0014】この絵柄層を構成するバインダーは、特に
限定されず、例えば一般の印刷インキに使用する樹脂、
又は最終的に硬化させた場合、優れた耐久性をもつ絵柄
を形成する熱硬化性樹脂、未硬化の状態では常温で固体
であり、かつ、熱可塑性樹脂である電離放射線硬化性樹
脂を用いることができる。特に、この絵柄層のバインダ
ーが電離放射線硬化性樹脂で形成した場合は、電離放射
線硬化性樹脂層と同一の材質となるため、電離放射線の
照射による樹脂の硬化作業を単一工程で行うことができ
る。したがって、作業工程の短縮化に貢献できる。
【0015】絵柄層に用いる非反応型のバインダーは、
エチルセルロース、ニトロセルロース、エチルヒドロキ
シセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トなどのセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリα−メ
チルスチレンなどのスチレン系樹脂及びスチレン共重合
体、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチ
ル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルなど
の単独、又は共重合体、ロジン、ロジン変性マレイン酸
樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ロジンエステル、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ポリビニルトルエン
樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共
重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂などのうちから選択して使用される。
【0016】絵柄層のインキバインダーに用いる熱硬化
性樹脂は、アルキッド樹脂、アミノアルキッド樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン
系樹脂、メラミン樹脂、ポリシクロヘキサン系樹脂など
が挙げられ、これらの材料は必要に応じて、硬化剤等を
添加して使用する。また、インキバインダーに電離放射
線硬化性樹脂を用いる場合は、電離放射線硬化性樹脂層
の凹凸模様層と同一の組成物を使用できる。
【0017】絵柄層に用いる着色料は、通常の染料や顔
料のうち、耐久性のあるものを適宜選択できる。例え
ば、酸化鉄、酸化チタン、黄色酸化鉄、黄鉛、群青、紺
青、カーボンブラック、アルミニウム粉、ブロンズ粉な
どの無機顔料、スレンイエロー、パーマネントイエロ
ー、キナクリドンレッド、パーマネントレッド、フタロ
シアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔
料の他に炭酸カルシウム、アルミナ、シリカ、硫酸バリ
ウムなどの体質顔料、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、
メラミン樹脂、ポリメタクリル酸メチルなどの有機フィ
ラーのなかから適宜に選択して使用できる。
【0018】着色隠蔽層は、本質的には絵柄層に用いる
インキと同様の組成物を用いることができる。通常は、
隠蔽性を与えるため不透明で顔料濃度が高いものを用い
ることが好ましい。また、着色隠蔽層の下に金属粉入り
着色層、金属蒸着層を全面に施すこともある。この着色
隠蔽層は、凹凸模様層と同調することがない場合には、
絵柄印刷と別工程で施すこともできる。しかし、電離放
射線遮蔽模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄層及び
着色隠蔽層を単一工程で行うことが、工程費用の削減、
絵柄や色調管理等の面から好ましい。また、着色隠蔽層
のバインダーが熱可塑性樹脂である場合は、接着剤層を
兼ねることもできる。
【0019】接着剤層は、被転写体の材質により、選択
されるものであり、ポリメタクリル酸メチル、塩化ビニ
ル/酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ゴム系、又はポリオレフイン樹脂などにブ
ロキンッグ防止剤、滑剤などを加えた組成物や、前記の
着色隠蔽層の組成物を選択することができる。この着色
隠蔽層は、凹凸模様層と同調することがない場合には、
絵柄印刷と別工程で設けることもできるが、電離放射線
遮蔽模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄層と同一工
程で行うことが工程費用の削減からいっても好ましい。
別工程で設けるのは、水性の材料や、塗布量を特に多く
したい等の特殊な場合である。そして塗布方法は、グラ
ビアコーティング、ロールコーティング、エァナイフコ
ーティング、キスコーティング、スプレーコーティン
グ、フローコーティング、スクリーンコーティングなど
の方法を適宜に選択できる。
【0020】
【実施例】
〔実施例 1〕電離放射線透過性シート2として、厚さ
25μmのポリエチレンテレフタレートフイルム(ダイ
ヤホイル(株)製)の一方の面にコロナ放電処理を施
し、次の電離放射線遮蔽模様層用インキ、電離放射線硬
化性樹脂層用インキ、及びアクリル樹脂系インキで、電
離放射線遮蔽模様層3、電離放射線硬化性樹脂層4a、
絵柄層5、着色隠蔽層6、及び接着剤層7を多色グラビ
ア輪転印刷機で単一工程で印刷した。 〔電離放射線遮蔽模様層用インキ〕 ザ・インクテック(株)製 ウレタン系ブラ
ック 〔電離放射線硬化性樹脂層用インキ〕 三菱油化(株)製 メラミン系アク
リレート 〔絵柄用インキ、及び着色隠蔽層用インキ〕 (株)昭和インク工業所製 アクリル系着色
インキ 〔接着剤層用インキ〕 (株)昭和インク工業所製 アクリル系着色
インキ 上記の印刷物のフイルム面側から、出力80W/cmのオ
ゾンレス紫外線ランプ3灯設置した照射装置の中を、2
0m/分の速度で通過して、硬化度合いの異なる電離放
射線硬化性樹脂層4b半硬化部、及び4c(硬化部)を
もつ凹凸模様形成用転写シート1を得た。次いで、通常
のホットスタンプ機で、被転写体8であるポリスチレン
上に、上記の転写シートの接着剤層を、重ね合わせ20
0℃に加熱したシリコンゴム製転写ロールで加圧して、
画像を転写した後剥離した転写シート1aを除いて、画
像を構成した被転写体1bを得た。被転写体に構成され
た凹凸模様層1bは、絵柄層と同調したものであり、ま
た、半硬化の凹部4Cは層間剥離をすることとなり、凸
部と比較して光沢差のあるものであった。
【0021】〔実施例 2〕電離放射線透過性シート2
として一方の面にコロナ放電処理を施した厚さ25μm
のポリエチレンテレフタレートフイルム(ダイヤホイル
(株)製)のコロナ処理面に、次の電離放射線遮蔽層用
インキ、電離放射線硬化性樹脂層用インキ、及びアクリ
ル樹脂系インキで、電離放射線遮蔽模様層3、電離放射
線硬化性樹脂層4aおよび絵柄層5、着色隠蔽層6、及
び接着剤層7を多色グラビア輪転印刷機で単一工程で印
刷した。 〔電離放射線遮蔽模様層用インキ〕 ザ・インクテック(株)製 ウレタン系ブラ
ック 〔電離放射線硬化性樹脂層用インキ〕 三菱油化(株)製 メラミン系アク
リレート 〔絵柄用インキ、及び着色隠蔽層用インキ〕 (株)昭和インク工業所製 アクリル系着
色インキ 〔接着剤層用インキ〕 (株)昭和インク工業所製 アクリル系着
色インキ 上記の印刷物のフイルム面側から、出力80W/cmのオ
ゾンレス紫外線ランプ1灯設置した照射装置の中を、2
0m/分の速度で通過して、硬化度合いの異なる電離放
射線硬化性樹脂層4b半硬化部、及び4c(硬化部)を
もつ凹凸模様形成用転写シート1を得た。次いで、通常
のホットスタンプ機で、被転写体8であるポリスチレン
上に、上記の転写シートの接着剤層を、重ね合わせ20
0℃に加熱したシリコンゴム製ロールで加圧して、絵柄
層を設けた被転写体1bを得た。更に、絵柄層を転写し
終えた電離放射線透過性シート1aを剥離したのち、被
転写体面に、出力80W/cmのオゾンレス紫外線ランプ
3灯設置した照射装置の中を、20m/分の速度で通過
して、電離放射線硬化性樹脂層を完全硬化した4cを得
た。被転写体に構成された凹凸模様層1bは、絵柄層と
同調したものをもつものであり、またその半硬化の凹部
4bは層間剥離をすることとなり、凸部と比較して光沢
差があり、そして、再照射することにより凹部も完全に
硬化されている表面特性をもつものであった。
【0022】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されているような効果を奏す
る。 凹凸模様層が、絵柄層と同調して設けることができ、
また、その凹部の光沢は半硬化で層間剥離をするため、
その光沢が凸部のそれとは差があるためにシャープな凹
凸感と意匠感をもつことができる。 被転写体に転写形成された絵柄のトップ層が、電離放
射線硬化性樹脂脂で構成されるため、硬度、耐摩擦性、
耐汚染性等の表面特性に優れたものとなる。 接着層の選択により、被転写体の種類を問わず凹凸模
様層のある絵柄を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】凹凸模様形成用転写シートの画像を、被転写体
に熱転写した状態の断面を示す概念図である。
【図2】凹凸模様形成用転写シートに形成された未硬化
の電離放射線硬化性樹脂の断面状態を示す概念図であ
る。
【図3】凹凸模様形成用転写シートに形成された硬化し
た電離放射線硬化性樹脂の断面状態を示す概念図であ
る。
【符号の説明】
1 凹凸模様形成用転写シートの断面図 1a 画像を被転写体に転写した凹凸模様成形用転写シ
ートの断面図 1b 画像を転写により構成した被転写体 2 電離放射線透過性シート 3 電離放射線遮断模様層 4a 電離放射線硬化性樹脂層(未硬化部) 4b 電離放射線硬化性樹脂層(半硬化部) 4c 電離放射線硬化性樹脂層(硬化部) 5 絵柄層 6 着色隠蔽層 7 接着剤層 8 被転写体 剥離部 R 電離放射線照射

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電離放射線透過性シートの一方の面に、
    電離放射線遮蔽模様層、電離放射線硬化性樹脂層、絵柄
    層、着色隠蔽層および接着剤層を順に設けたことを特徴
    とする凹凸模様形成用転写シート。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の電離放射線硬化性樹脂層
    が、未硬化状態の常温で、熱可塑性の固形物であること
    を特徴とする凹凸模様形成用転写シート。
  3. 【請求項3】 単一工程で形成された請求項1又は、2
    記載の凹凸模様形成用転写シートの透明シート側から、
    電離放射線を照射して電離放射線硬化性樹脂層を部分的
    に硬化したものであることを特徴とする凹凸模様形成用
    転写シート。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の凹凸模様形成用転写シー
    トの接着剤層面と被転写体とを熱圧着し、透明シートの
    側から電離放射線を照射して電離放射線硬化性樹脂層を
    部分硬化後、電離放射線透過性シートを剥離することを
    特徴とする凹凸模様形成用転写シートの使用方法。
  5. 【請求項5】 請求項3記載の凹凸模様形成用転写シー
    ト接着剤層面と被転写体とを熱圧着し、電離放射線透過
    性シートを剥離後、画像面に電離放射線を照射して電離
    放射線硬化性樹脂層を硬化することを特徴とする凹凸模
    様成形用転写シートの使用方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08183297A (ja) * 1994-12-28 1996-07-16 Dainippon Printing Co Ltd 凹凸模様形成用転写シート、該転写シートの製造方法、及び凹凸模様形成方法
JP2010149383A (ja) * 2008-12-25 2010-07-08 Nissha Printing Co Ltd 部分マット転写シートの製造方法
JP2019014224A (ja) * 2017-07-05 2019-01-31 大勤化成股▲分▼有限公司Daigin Chemical Co.,Ltd. 転写フィルム及びその製造方法、並びに転写フィルムによる3次元立体転写パターンを有する製品及びその製造方法

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