TW201842362A - 附保護膜之偏光板及液晶面板 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種附保護膜之偏光板，其係在剝離保護膜時可減低用以拉起保護膜時所需之力。
本發明係提供一種附保護膜之偏光板，其積層方向之至少一剖面內，在與前述積層方向正交的方向之至少一端部中，關於與前述積層方向正交的方向，前述偏光性膜之最外側的位置P1、與前述光學膜之最外側的位置P2滿足下述(i)至(iii)之任一種關係：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離為1μm以下。

Description

附保護膜之偏光板及液晶面板
本發明係有關附保護膜(protect film)之偏光板及液晶面板。
偏光板係被廣泛利用作為液晶顯示裝置等顯示裝置中之偏光的供給元件以及偏光的偵測元件。偏光板一般係於偏光片的單面或雙面使用接著劑將防護膜予以貼合而成之構成。
對於偏光板的表面，在保管時或要構成液晶面板之製造步驟等時，為了保護表面，會有如專利文獻1所記載一般貼合可剝離的保護膜(亦稱為剝離膜或表面防護膜等)而作成附保護膜之偏光板之情形。保護膜係在將偏光板貼合於液晶單元後被剝離除去。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2016-170383號公報
保護膜的剝離係於保護膜的端部施加與膜面垂直之方向之力而拉起(剝離開始)，然後於被拉起的部分施加膜面方向之力而從偏光板剝離。剝離時於保護膜施加之力可在握持著保護膜的端部的情況下進行，亦可握持著貼附於保護膜的表面之剝離膠帶的情況下透過該剝離膠帶進行。
將保護膜拉起之力(以下亦稱為「拉起力」)及將保護膜拉起後在面方向剝離之力(以下亦稱為「面內剝離力」)係，雖然可藉由使要將保護膜貼附於偏光板之黏著劑(pressure-sensitive adhesive)設成黏著力較弱者而減低，但會造成保護膜浮起或在意料之外的時機剝落之不佳情形。通常，拉起力係大於面內剝離力。
於附保護膜之偏光板中，會有為了拉起保護膜而需要過大之力因而難以剝離保護膜之情況。偏光板之一般的構成，係有於偏光性膜上隔著黏著劑而貼合光學膜之構成。於包含如此構成之偏光板的附保護膜之偏光板中，亦有拉起保護膜時需要過大之力而難以剝離保護膜之情況。
本發明之目的係提供一種在剝離保護膜時，可減低用以拉起保護膜時所需之力的附保護膜之偏光板。
本發明係提供以下所示的附保護膜之偏光 板、液晶面板、及附保護膜之偏光板的製造方法。
〔1〕一種附保護膜之偏光板，具備：具有偏光性膜及光學膜之偏光板、以及積層於前述偏光板的表面之保護膜，且依序積層有前述偏光性膜、前述光學膜、前述保護膜；其中，該附保護膜之偏光板的積層方向之至少一剖面內，在與前述積層方向正交的方向之至少一端部中，關於與前述積層方向正交的方向，前述偏光性膜之最外側的位置P1、與前述光學膜之最外側的位置P2滿足下述(i)至(iii)之任一種關係：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離為1μm以下。
〔2〕如〔1〕所述之附保護膜之偏光板，其中，前述偏光性膜具備偏光片、及防護膜。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之附保護膜之偏光板，前述偏光板更具有黏著劑層，且依序積層有前述偏光性膜、前述黏著劑層、前述光學膜、前述保護膜。
〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所述之附保護膜之偏光板，其中，前述端部係存在於研磨端面。
〔5〕如〔4〕所述之附保護膜之偏光板， 其中，前述研磨端面係由V字溝與尖狀部交替形成之形狀。
〔6〕如〔4〕或〔5〕所述之附保護膜之偏光板，其中，位置P1與位置P2滿足前述(i)的關係。
〔7〕一種液晶面板，具備液晶單元、及〔3〕所述之附保護膜之偏光板，且依序積層有前述液晶單元、前述偏光性膜、前述黏著劑層、前述光學膜、前述保護膜。
〔8〕一種附保護膜之偏光板的製造方法，具有下列步驟：得到依序積層有偏光性膜、光學膜、保護膜的膜積層體之步驟；將前述膜積層體之至少一端面予以研磨加工，以使於前述端面中關於與前述積層方向正交的方向中，前述偏光性膜之最外側的位置P1、與前述光學膜之最外側的位置P2滿足下述(i)至(iii)之任一種關係之步驟：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離為1μm以下。
藉由本發明之附保護膜之偏光板，在剝離保護膜時，可減低用以拉起保護膜時所需之力。
10‧‧‧偏光片
20‧‧‧偏光性膜
21、22‧‧‧防護膜
31‧‧‧第1黏著劑層
32‧‧‧第3黏著劑層
50‧‧‧增亮膜
60‧‧‧保護膜
61‧‧‧基材膜
62‧‧‧第2黏著劑層
70‧‧‧分離膜
100‧‧‧偏光板
110、111、112、113、114‧‧‧附保護膜之偏光板
110a、110b、110c、110d、115b、115d、116a、116c‧‧‧端部
115、116‧‧‧剖面
200‧‧‧液晶單元
310‧‧‧剝離膠帶
320‧‧‧夾具
330‧‧‧玻璃板
410、411‧‧‧研磨工具
420‧‧‧上壓具
421‧‧‧下壓具
430‧‧‧壓具
431‧‧‧旋轉台
第1圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的一例之積層方向的剖面圖(實施例3)。
第2圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的一例之積層方向的剖面圖。
第3圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的一例之積層方向的剖面圖(實施例1)。
第4圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的一例之積層方向的剖面圖(實施例2)。
第5圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面圖。
第6圖係表示本發明之附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面圖。
第7圖係將偏光板積層體的端面予以研磨加工時使用的端面加工裝置之概略立體圖。
第8圖係表示保護膜的剝離方法之示意圖。
第9圖係表示剝離膠帶的貼附方向的一例之示意圖。
第10圖係表示剝離膠帶的貼附方向的一例之示意圖。
第11圖係表示剝離角度之示意圖。
第12圖係比較例1的附保護膜之偏光板的積層方向之剖面圖。
第13圖係比較例2的附保護膜之偏光板的積層方向之剖面圖。
第14圖係比較例3的附保護膜之偏光板的積層方向之剖面圖。
第15圖係表示評價試驗1的方法之示意圖。
第16圖係表示方形狀的附保護膜之偏光板的俯視立體圖。
<附保護膜之偏光板>
(1)附保護膜之偏光板的構成
本發明之附保護膜之偏光板係具備：具有偏光性膜(A)及光學膜(C)之偏光板、及積層於偏光板的表面之保護膜(D)，且依序積層有偏光性膜(A)、光學膜(C)、保護膜(D)。於偏光板中，光學膜(C)係例如藉由黏著劑層(B)而貼合積層，此時，附保護膜之偏光板中，依序積層有偏光性膜(A)、黏著劑層(B)、光學膜(C)、保護膜(D)。
針對本發明之附保護膜之偏光板的層構成之一例使用第1圖加以說明。
第1圖係表示附保護膜之偏光板的積層方向之剖面圖。如第1圖所示，附保護膜之偏光板111係具備偏光板100、及積層於前述偏光板100之增亮膜50側的表面之保護膜60(相當於保護膜(D))，該偏光板係包含依序積層有分離膜70、第1黏著劑層31、防護膜22、偏光片10(包含防護膜22及偏光片10之積層膜20相當於偏光性膜(A))、第3黏著劑層32(相當於黏著劑層(B))、增亮膜50(相當於光學膜(C))。保護膜60係由基材膜61、積層於該基材膜上之第2黏著劑層62所構成，且隔著第2黏著劑層62而貼合積層於偏光板100。
本發明之附保護膜之偏光板的積層方向之至少一剖面內，在與積層方向正交的方向之至少一端部中，關於與積層方向正交的方向，偏光性膜(A)之最外側的位置P1(以下有時將該位置簡稱為「位置P1」)、與光學膜(C)之最外側的位置P2(以下有時將該位置簡稱為「位置P2」)滿足下述(i)至(iii)之任一種關係：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離L為1μm以下。
附保護膜之偏光板111之第1圖所示的端部滿足上述(iii)的關係。
所謂的位置P1與位置P2的關係滿足上述(i)至(iii)之任一種關係，係指以位於位置P2之內側且與位置P2的距離為1μm之位置作為基準點時，位置P1係位於基準點之外側處。
針對本發明之附保護膜之偏光板之位置P1與位置P2的上述特徵，使用第16圖來具體地加以說明。附保護膜之偏光板通常為方形。第16圖係示意性表示方形的附保護膜之偏光板的俯視立體圖。方形的附保護膜之偏光板110係於側面具有4個端面110a、110b、110c、110d(本說明書中，只要沒有特別註明，「端面」意指側面的端面)。在本發明之附保護膜之偏光板110的積層方向(箭頭方向)之至少一剖面(例如穿過相對向的2個端面之剖面115、 116，較佳為與附保護膜之偏光板的長邊或短邊平行的剖面)內，在與積層方向(箭頭方向)正交的方向之至少一端部(例如在剖面115時為端部115b或端部115d，在剖面116時為端部116a或端部116c)中，關於與積層方向正交的方向，係構成為位置P1與位置P2滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。上述的端部(例如端部115b、115d、116a、116c)係存在於任一端面110a、110b、110c、110d。
本發明之附保護膜之偏光板係具有滿足上述(i)至(iii)之任一種關係的端部，藉由從該端部開始剝離保護膜，可減低用以拉起保護膜所需之力。於附保護膜之偏光板中，較佳係在全區域中具有滿足上述(i)至(iii)之任一種關係的端面。此時，即使從該端面之任一端部開始剝離保護膜，亦可減低用以拉起保護膜所需之力。又，於附保護膜之偏光板中，更佳係4個端面在全區域中均滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。此時，即使從任一端部開始剝離保護膜，亦可減低用以拉起保護膜所需之力。
附保護膜之偏光板111的第1圖所示之端部中，位置P1與位置P2的距離L為1μm以下，且滿足上述(iii)的關係。關於附保護膜之偏光板111之所有的端部，位置P1與位置P2的位置關係是設成與第1圖所示之關係為相同的關係。附保護膜之偏光板111係以滿足上述(iii)的關係之方式調整偏光性膜(A)與光學膜(C)的端部位置。
第2圖係表示附保護膜之偏光板之另一例的剖面圖。附保護膜之偏光板112的第2圖所示之端部中， 位置P1位於位置P2之外側，且滿足上述(i)的關係。附保護膜之偏光板112之所有的端部，位置P1與位置P2的位置關係是設成與第2圖所示之關係為相同的位置關係。附保護膜之偏光板112係以滿足上述(i)的關係之方式調整偏光性膜(A)與光學膜(C)的端部位置。
第1圖及第2圖係具體表示附保護膜之偏光板的層構成、及位置P1與位置P2的位置關係。因此，第1圖或第2圖所示之例子中，附保護膜之偏光板的層構成、及位置P1及位置P2的位置關係只要是滿足第1圖或第2圖所示之關係者即可，亦可包含各層的相對厚度、各層的相對寬度等其他條件與第1圖或第2圖所示者為相異之態樣。如第1圖及第2圖所示，偏光性積層膜(A)與光學膜(C)係隔著黏著劑層(於第1圖及第2圖中為第3黏著劑層32)而積層的附保護膜之偏光板中，由於黏著劑層的彈性模數比保護膜更低，故黏著劑層容易吸收拉起保護膜之力，會有需要用以拉起保護膜所需較大之力之情形。尤其，當中存在於偏光性積層膜(A)與光學膜(C)之間的黏著劑層之在溫度20℃的儲存彈性模數為0.1MPa以下，甚至為0.08MPa以下時，藉由以該黏著劑層吸收用以拉起保護膜之力，會有需要用以拉起保護膜之較大的力之情形。藉由本發明，即使於偏光性積層膜(A)與光學膜(C)之間存在有在溫度20℃的儲存彈性模數為0.1MPa以下的黏著劑層之附保護膜之偏光板中，亦可減低拉起保護膜時所需之力。此外，存在於偏光性積層膜(A)與光學膜(C)之間的黏著劑 層之溫度20℃的儲存彈性模數，通常為0.01MPa以上。
黏著劑層的儲存彈性模數可使用市售的流變計來測定。具體而言，可使用Anton Paar公司製的MCR301。測定條件可設定如下。此外，本說明書所示之儲存彈性模數係使用在此所記載之裝置及測定條件所測得之值。
測定工具：直徑25mm的平行板(parallel plate)
溫度：20℃
頻率：1Hz
應變：1%
正向力：0N
試料形狀：黏著劑層積層成210μm者
附保護膜之偏光板中，偏光性膜(A)與光學膜(C)的端部位置之調整可在積層時進行，亦可在積層後藉由裁切、研磨等端面加工來進行。對附保護膜之偏光板施予端面加工時，會有用以拉起保護膜而需要更大之力。其原因之一，認為是因為端面加工使保護膜的剖面形狀改變，而容易使力分散。藉由本發明，即使在施予端面加工的附保護膜之偏光板中，亦可減低用以拉起保護膜所需之力。附保護膜之偏光板，在積層後有時會配合液晶單元而裁切成例如長方形等形狀、及預定的尺寸形狀。又，為了提高偏光板的尺寸精度，以使端面變得平滑，有時會將端面研磨。端面經研磨時，端面容易變得不平齊。附保護膜之偏光板的端 面加工，通常係在重疊複數片偏光板並從上下予以擠壓、固定之狀態下進行。此時，構成偏光板的各層會因來自上下的擠壓力而暫時性變形(變薄而擴大)，且在變形後的狀態進行端面加工。變形的程度係依來自上下的擠壓力之大小、偏光板的層構成、大小、各層的厚度等而異。因此，端面加工時的端面形狀會與釋放來自上下的擠壓力而使變形復原後的狀態之端面形狀有所不同。
第3圖、第4圖係表示施予如此之端面加工後的本發明之附保護膜之偏光板的一例之剖面圖。第3圖及第4圖的不同之處在於保護膜60中端面相對於表面的角度為鈍角(第3圖)或銳角(第4圖)。第3圖及第4圖係具體表示附保護膜之偏光板的層構成、及位置P1與位置P2的位置關係。因此，第3圖或第4圖所示之例子中，附保護膜之偏光板的層構成、及位置P1與位置P2的位置關係只要是滿足第3圖或第4圖所示之關係者即可，亦可包含各層的相對厚度、各層的相對寬度等其他條件與第3圖或第4圖所示者為相異之態樣。關於附保護膜之偏光板113、114之所有的端部，位置P1與位置P2的位置關係是設成與第3圖或第4圖所示之位置關係為相同的關係。
第3圖、第4圖所示之附保護膜之偏光板113、114的端面係包含由V字溝與尖狀部交替形成之形狀(以下將如此之形狀稱為「鋸齒形狀」)。附保護膜之偏光板113、114係在從上下予以擠壓、固定之狀態下將4個端面研磨而製作。在因來自上下的擠壓而變形之狀態下研磨 成大致平齊後，擠壓力得到釋放之端面(以下稱為「研磨端面」)，如第3圖、第4圖所示會有呈現由V溝與尖狀部交替形成之形狀的情形。在具有研磨傷痕之點，研磨端面不同於不具有研磨傷痕的端面。如此之端面研磨完成後的附保護膜之偏光板可實現較高的尺寸精度。
由於黏著劑層的黏彈性比靠近的層高且因來自上下的擠壓而變形的程度會較大，故在研磨後解放擠壓力時，有剖面呈現屬於V字狀的V字溝之傾向。V字溝係形成在研磨的程度比周圍大的位置。另一方面，由於黏彈性低的層因來自上下的擠壓而變形的程度會較小，故在研磨後釋放擠壓力時，會有剖面呈現屬於尖狀的尖狀部之傾向。尖狀部係形成在研磨的程度比周圍小的位置。V字溝與尖狀部的形成位置、各V字溝的深度、各尖狀部的高度可藉由調整各層的材料或厚度、來自上下的擠壓力等而適當調整。
第3圖、第4圖所示之附保護膜之偏光板113、114係以滿足上述(i)的關係之方式將端面研磨。
本發明之附保護膜之偏光板係在剝離保護膜時(通常係維持與液晶單元貼合時之關係)具有滿足上述(i)至(iii)之任一種關係的端部。尤其，在端面呈現如第3圖、第4圖所示之鋸齒形狀時，較佳係具有滿足上述(i)的關係之端部。藉由將該端面的端部設成保護膜開始剝離的位置，可進一步減低用以拉起保護膜所需之力。
以往，在開始剝離的位置係設置在研磨端 面且呈鋸齒形狀的端面時，會有用以拉起保護膜所需的過大力之情形。據猜測，此乃因保護膜在剝離時所施加之力未能有效地發揮作為保護膜的拉起力。即使於如此之情況時，藉由具有滿足上述(i)的關係之端部，且從該端部將保護膜拉起，可進一步減低用以拉起保護膜所要之力。滿足上述(i)的關係時，位置P1與位置P2的寬度方向的距離L較佳為20μm以下，更佳為1μm以上10μm以下，又更佳為2μm以上8μm以下。於偏光性膜(A)與光學膜(C)之間具有黏著劑層(B)時，會有在黏著劑層(B)的位置容易形成V字溝之傾向，因此有成為於偏光性膜(A)與光學膜(C)之間具有V字溝的端面之傾向。此外，偏光板的尺寸並無限定，例如為一邊的長度為5至30cm之方形。
位置P1與位置P2之寬度方向的距離L例如可使用能夠觀察三維表面形狀之雷射顯微鏡來測定。具體而言，藉由將附保護膜之偏光板的端面形狀以20倍或50倍的對物透鏡利用雷射進行掃描，可在非接觸的情況下測定距離L。雷射顯微鏡可列舉Olympus股份有限公司製的LEXT(註冊商標)OLS4100。
第3圖、第4圖中，研磨端面為鋸齒形狀之例子可列舉V字溝的最深部與尖狀部的頂部之連結部分為直線之情況，但鋸齒形狀並不限定於此，V字溝的最深部與尖狀部的頂部之連結部分亦可為曲線、或曲線與直線的組合。又，於鋸齒形狀中，V字溝的最深部與尖狀部的頂部具有圓形之形狀。
附保護膜之偏光板的層構成並不限定於第1圖至第4圖所示之例子。於第5圖、第6圖中列舉與第1圖至第4圖所示之例子相異的層構成。於第5圖、第6圖中，將附保護膜之偏光板的端面之剖面形狀省略改以直線表示，但引用了根據第1圖至第4圖之上述說明。
第5圖所示之附保護膜之偏光板係具備偏光板100、及積層於前述偏光板100的表面之保護膜60(相當於保護膜(D))，該偏光板係包含依序積層有分離膜70、第1黏著劑層31、防護膜22、偏光片10、防護膜21(包含防護膜22、偏光片10及防護膜21之積層膜20相當於偏光性膜(A))、第3黏著劑層32(相當於黏著劑層(B))、增亮膜50(相當於光學膜(C))。
第6圖所示之附保護膜之偏光板所具有的偏光板，除了不具有防護膜22而直接將第1黏著劑層31積層於偏光片10的表面以外，具有與第5圖所示之偏光板同樣的層構成。於第6圖所示之附保護膜之偏光板中，包含偏光片10及防護膜21之積層膜20相當於偏光性膜(A)。
於第1圖至第6圖中雖然省略圖示，但於偏光性膜20中，偏光片10與防護膜21、22的貼合可使用接著劑來進行。於本說明書中，包含接著劑之接著劑層亦作為偏光性膜20的構成要素。
(2)保護膜(D)
保護膜60係由基材膜61、及積層於該保護膜61上之第2黏著劑層62所構成。保護膜60係用以保護偏光板100 的表面之膜，且在例如於液晶單元等圖像顯示元件或其他光學構件貼合附保護膜之偏光板後，會連同該保護膜60所具有的第2黏著劑層62一起被剝離去除。保護膜的厚度例如為30至100μm。
構成基材膜61的樹脂例如可為：如聚乙烯之聚乙烯系樹脂、如聚丙烯之聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等的熱可塑性樹脂。較佳為聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂。基材膜61可為單層構造或多層構造，但從製造容易性及製造成本等的觀點來看，較佳為單層構造。基材膜61可為單軸拉伸膜或雙軸拉伸膜，但從膜的機械強度、製造容易性及製造成本等的觀點來看，較佳為雙軸拉伸膜。
關於第2黏著劑層62係引用關於後述的第1黏著劑層31及第3黏著劑層32的記載。
(3)偏光片
偏光片10係具有下述性質之吸收型的偏光片：將具有與其吸收軸平行的振動面之線性偏光吸收，並使具有與吸收軸正交(與穿透軸平行)的振動面之線性偏光穿透，該偏光片10可適合使用使聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向二色性色素而成之偏光膜。偏光片10例如可藉由包含下述步驟的方法來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸之步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色，使其吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂 膜以硼酸水溶液進行處理之步驟；以及，在藉由硼酸水溶液進行處理後，進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，尚可列舉乙酸乙烯酯和能夠與乙酸乙烯酯共聚之其他單體的共聚物等。能夠與乙酸乙烯酯共聚之其他單體之例，包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化率通常為85至100mol%，較佳為98mol%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質後之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可依據JIS K 6726而求出。
將如此之聚乙烯醇系樹脂製膜而得者，係被用作為偏光片10(偏光膜)的胚膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜的方法並無特別限定，可採用公知的方法。聚乙烯醇系胚膜的厚度並無特別限制，但為了將偏光片10的厚度設為15μm以下，通常係使用5至35μm者，較佳為20μm以下。欲將厚度超過35μm的聚乙烯醇系胚膜拉伸而得到厚度15μm以下的偏光片10時，需要提高拉伸倍率，且在將偏光片10的厚度設為15μm以下時，在高溫環境下的尺寸收縮也會變大。又，厚度未達5μm時，拉伸時的操作性會降低而在製造偏光片時容易產生切斷等缺陷。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸拉伸可在二色性色素的染色前、染色之同時、或染色後進行。使單軸拉伸在染色後進行時，該單軸拉伸可在硼酸處理之前或硼酸處理中進行。又，亦可在該等複數個段階中進行單軸拉伸。
單軸拉伸之時，可在周速相異之輥間往單軸進行拉伸，亦可使用熱輥往單軸進行拉伸。又，單軸拉伸可為在大氣中進行拉伸之乾式拉伸，亦可為在使用溶劑或水而使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸。拉伸倍率通常為3至8倍。
就將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色之方法而言，例如可採用將該膜浸漬於含有二色性色素的水溶液之方法。二色性色素可使用碘或二色性有機染料。此外，聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理前預先在水中施予浸漬處理。
就藉由碘所進行之染色處理而言，通常採用於含有碘及碘化鉀的水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜之方法。該水溶液中之碘的含量通常相對於每100重量份的水為0.01至1重量份。碘化鉀的含量通常相對於每100重量份的水為0.5至20重量份。又，該水溶液的溫度通常為20至40℃。另一方面，就藉由二色性有機染料所進行之染色處理而言，通常採用於含有二色性有機染料的水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜之方法。含有二色性有機染料的水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。該水溶液中之二色性有機染料的含量通常相對於每100重量份的水為 1×10-4至10重量份。該水溶液的溫度通常為20至80℃。
就藉由二色性色素進行染色後的硼酸處理而言，通常採用將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液之方法。在使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸的水溶液較佳係含有碘化鉀。
含有硼酸的水溶液中之硼酸的量通常相對於每100重量份的水為2至15重量份。該水溶液中之碘化鉀的量通常相對於每100重量份的水為0.1至15重量份。該水溶液的溫度可為50℃以上，例如50至85℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常經水洗處理。水洗處理係例如可藉由將經硼酸處理的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中而進行。水洗處理時之水的溫度通常在5至40℃。
水洗後施予乾燥處理而得到偏光片10。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。偏光片10的厚度為15μm以下，較佳為10μm以下。將偏光片10的厚度設為15μm以下，係有利於偏光板100甚至是圖像顯示裝置的薄型化。偏光片10的厚度通常為2μm以上(例如5μm以上)。
藉由乾燥處理，偏光片10的水分率被減低至實用程度。該水分率通常為5至20重量%，較佳為8至15重量%。水分率低於5重量%時，偏光片10會喪失可撓性，會有偏光片10在其乾燥後產生損傷或破裂之情形。又，水分率高於20重量%時，會有偏光片10的熱安定性 劣化之情形。
(4)防護膜
可積層於偏光片10的單面或雙面之防護膜21、22可為包含具有透光性(較佳為在光學上為透明)的熱塑性樹脂例如：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之纖維素系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如甲基丙烯酸甲酯系樹脂之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂；丙烯腈/苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚縮醛系樹脂；改質聚伸苯醚系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等之膜。其中，較佳係使用聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂。此外，本說明書中，所謂的「(甲基)丙烯酸系樹脂」係指選自由丙烯酸系樹脂及甲基丙烯酸系樹脂所成群組中之至少1種。於其他附註「(甲基)」的用語中亦同理。
鏈狀聚烯烴系樹脂除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂之鏈狀烯烴的均聚物以外，尚可列舉包含2種以上的鏈狀烯烴之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元進行聚合之樹脂的總稱。若列舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例，係有環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加 成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯之鏈狀烯烴之共聚物(代表性為隨機共聚物)、及將該等以不飽和羧酸或其衍生物改質後之接枝聚合物、以及該等的氫化物等。其中，較佳可使用：使用降莰烯或多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴而得之降莰烯系樹脂。
所謂的纖維素系樹脂係指由棉絨或木材紙漿(闊葉樹紙漿、針葉樹紙漿)等原料纖維素所得到，且為纖維素的羥基中之氫原子的一部分或全部被乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代後之纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯。例如可列舉包含纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、及該等的混合酯等者。其中，三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂係含有來自(甲基)丙烯酸系單體的構成單元之聚合物。該聚合物通常為含有甲基丙烯酸酯的聚合物。較佳為含有來自甲基丙烯酸酯的結構單元之比率相對於全結構單元為50重量%以上之聚合物。(甲基)丙烯酸系樹脂可為甲基丙烯酸酯的均聚物，亦可為含有來自其他聚合性單體的構成單元之共聚物。此時，來自其他聚合性單體的構成單元之比率相對於全結構單元較佳為50%以下。
可構成(甲基)丙烯酸系樹脂的甲基丙烯酸酯較佳為甲基丙烯酸烷基酯。甲基丙烯酸烷基酯可列舉：如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁 酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯之烷基的碳數為1至8之甲基丙烯酸烷基酯。甲基丙烯酸烷基酯中所含的烷基的碳數較佳為1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中，甲基丙烯酸酯可只單獨使用1種或併用2種以上。
可構成(甲基)丙烯酸系樹脂之上述其他聚合性單體可列舉丙烯酸酯、及其他於分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物。其他聚合性單體可單獨使用1種或併用2種以上。丙烯酸酯較佳為丙烯酸烷基酯。丙烯酸烷基酯可列舉：如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-羥基乙酯之烷基的碳數為1至8之丙烯酸烷基酯等。丙烯酸烷基酯中所含的烷基的碳數較佳為1至4。於(甲基)丙烯酸系樹脂中，丙烯酸酯可單獨使用1種或併用2種以上。
其他於分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物可列舉乙烯、丙烯、苯乙烯等乙烯系化合物、或如丙烯腈之氰乙烯(vinyl cyanide)化合物。其他於分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物可單獨使用1種或併用2種以上。
防護膜21、22的厚度通常為1至100μm，但從強度或操作性等的觀點來看，較佳為5至60μm，更佳為5至50μm。若為此範圍內的厚度，可機械性地保護偏光片10，即使偏光片10曝露於濕熱環境下也不會收縮，而可保持安定的光學特性。
從薄膜化的觀點來看，偏光板100可為不具有防護膜21、22之任一者或兩者的構成。又，就不具有防護膜21的構成而言，可作成後述的光學膜(C)兼具防護膜21的功能者。
只在偏光片10的一面積層防護膜時，亦可在偏光片10之與積層有防護膜的面為相反側之面，設置由與後述的活性能量線硬化性接著劑同樣的活性能量線硬化性樹脂組成物形成之保護層。藉由設置保護層，即使是只在偏光片10的一面具有防護膜之構成，亦可進一步有效地抑制伴隨濕度變化的捲曲、或偏光片10的劣化。於本說明書中，如此之保護層亦作為偏光性膜(A)的構成要素。
在偏光片10的雙面貼合防護膜時，該等防護膜可由同一種類的熱塑性樹脂構成，亦可由不同種類的熱塑性樹脂構成。又，厚度可為相同或相異。而且，可具有相同的相位差特性或具有相異的相位差特性。
防護膜21、22之至少任一者中，於其外表面(與偏光片10為相反側之面)可具備如硬塗層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)或光學層。
防護膜21、22可含有1種或2種以上的添加劑。若列舉添加劑的例子，係有紫外線吸收劑、橡膠粒子、潤滑劑、分散劑、熱安定劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑等。
(5)接著劑層
防護膜21、22例如可隔著接著劑層而貼合於偏光片10。形成接著劑層的接著劑可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑、或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。
水系接著劑可列舉包含聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。其中，適合使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之水系接著劑。聚乙烯醇系樹脂除了將屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯皂化處理而得之乙烯醇均聚物以外，尚可使用乙酸乙烯酯和能夠與該乙酸乙烯酯共聚之其他單體的共聚物皂化處理而得之聚乙烯醇系共聚物、或將該等的羥基部分改質後的改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑可含有醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
使用水系接著劑時，較佳係在將偏光片10與防護膜21、22貼合後，實施用以去除水系接著劑中所含的水之乾燥步驟。在乾燥步驟後，可設置進行熟化的熟化步驟。熟化時的溫度通常為20至45℃。
上述活性能量線硬化性接著劑係指會因照射紫外線或電子束等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉含有聚合性化合物及光聚合起始劑的硬化性組成物、含有光反應性樹脂的硬化性組成物、含有黏合劑樹脂及光 反應性交聯劑的硬化性組成物等。較佳為如紫外線硬化性接著劑。聚合性化合物可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體之光聚合性單體，或來自光聚合性單體的低聚物。光聚合起始劑可列舉含有會因活性能量線的照射而產生如中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基之活性物種之物質者。含有聚合性化合物及光聚合起始劑的活性能量線硬化性接著劑，較佳可使用含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑的硬化性組成物，或含有光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合起始劑的硬化性組成物、或該等硬化性組成物的混合物。
光硬化性環氧系單體較佳為脂環式環氧化合物。所謂的脂環式環氧化合物係指於分子內具有1個以上之與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環的構造之化合物。脂環式環氧化合物可只單獨使用1種或併用2種以上。所謂的「與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環的構造」係指從以下所示之構造中之(CH2)m中移除1個或複數個氫原子後的基。下式中，m為2至5的整數。
因此，(CH2)m中之1個或複數個氫原子經移除後的基鍵結於其他化學構造之化合物，可形成脂環式 環氧化合物。(CH2)m中之1個或複數個氫原子可被甲基或乙基等直鏈狀烷基適當取代。在脂環式環氧化合物之中，以具有氧雜雙環己烷環(於上述式中m=4者)、或氧雜雙環庚烷環(於上述式中m=5者)之脂環式環氧化合物為較佳，因為顯示優異的接著性。以下具體地列舉可較佳使用的脂環式環氧化合物。
使用活性能量線硬化性接著劑時，在將偏光片10與防護膜21、22貼合後，視需要進行乾燥步驟， 接著進行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。因此，使用活性能量線硬化性接著劑時，接著劑層為其硬化物層。活性能量線的光源並無特別限定，較佳為於波長400nm以下具有發光分佈的紫外線，具體而言，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
將偏光片10與防護膜21、22貼合之時，為了提高接著性，可於該等之至少任一者的貼合面施予皂化處理、電暈處理、電漿處理等。
於偏光片10的雙面貼合防護膜時，用以將該等防護膜貼合之接著劑可為同一種類的接著劑或不同種類的接著劑。
(6)光學膜(C)
偏光板100係具有隔著第3黏著劑層32(相當於黏著劑層(B))而積層於偏光片10上之光學膜(C)。光學膜(C)的代表例為增亮膜50及相位差膜。光學膜(C)亦可為如上述之防護膜。
增亮膜50又稱為反射型偏光膜，可使用具有將來自光源(背光)的射出光分離成穿透偏光及反射偏光或散射偏光的功能之偏光轉換元件。藉由將增亮膜50配置於偏光片10上，可利用屬於反射偏光或散射偏光之回歸光而使從偏光片10射出的線性偏光之射出效率提升。
增亮膜50例如可為異向性反射偏光片。異 向性反射偏光片之一例為使某一振動方向的線性偏光穿透，而使另一振動方向的線性偏光反射之異向性多層薄膜，其具體例為3M公司製的「DBEF」(參照日本特開平4-268505號公報等)。異向性反射偏光片之另一例為膽固醇型(cholesteric)液晶層與四分之一波片(quarter-wave plate)的複合物，其具體例為日東電工製的「PCF」(參照日本特開平11-231130號公報等)。異向性反射偏光片之又另一例為反射欄偏光片，其具體例為如對金屬施予精細加工而即使在可見光區域亦會射出反射偏光之金屬晶格反射偏光片(參照美國專利第6288840號說明書等)、將金屬微粒子添加於高分子基質中並予以拉伸而成之膜(參照日本特開平8-184701號公報等)。
於增亮膜50之與第3黏著劑層32的貼合面可預先進行表面活化處理。藉此，可作成於濕熱環境下不容易在第3黏著劑層32與增亮膜50之間產生剝落之濕熱耐久性優異的偏光板100。
表面活化處理可列舉：電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性射線處理(紫外線處理、電子束處理等)等乾式處理；使用水或丙酮等溶劑的超音波處理、鹼性處理、錨固塗佈處理等濕式處理。該等處理可單獨進行或組合2種進行。其中，在要將捲筒狀的膜連續地處理時，較佳為電暈處理、電漿處理。
於增亮膜50的外表面可設置如硬塗層、防 眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)或光學層。藉由形成該層，可使與背光膠帶的密著性或顯示圖像的均勻性得到提升。增亮膜50的厚度通常為10至100μm，但從偏光板100之薄膜化的觀點來看，較佳為10至50μm，更佳為10至30μm。
(7)黏著劑層
第1黏著劑層31係配置於偏光板100的最表面之黏著劑層，可用於將附保護膜之偏光板貼合於圖像顯示元件(例如液晶單元)或其他光學構件。第3黏著劑層32係用於將構成偏光板100的光學膜相互(例如：如增亮膜50之光學膜與偏光片10或防護膜21)貼合。第1黏著劑層31、第3黏著劑層32可由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系的樹脂作為主要成分之黏著劑組成物所構成。其中，以透明性、耐候性、耐熱性等優異之以(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物的黏著劑組成物為宜。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型者。
就黏著劑組成物中所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基礎聚合物)而言，例如可適合使用以1種或2種以上的如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之(甲基)丙烯酸酯作為單體之聚合物或共聚物。於基礎聚合物中共聚有極性單體為較佳。極性單體例如可列舉：如(甲基)丙烯酸、(甲 基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯之具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可為只含有上述基礎聚合物，但通常更含有交聯劑。交聯劑可列舉屬於2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成有羧酸金屬鹽者；屬於多胺化合物，且與羧基之間形成有醯胺鍵者；屬於多環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成有酯鍵者；屬於多異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成有醯胺鍵者。其中，較佳為多異氰酸酯化合物。
所謂的活性能量線硬化型黏著劑組成物係指具有受到如紫外線或電子束之活性能量線的照射而硬化的性質，並且具有即使在活性能量線照射之前亦具有黏著性而可密著於膜等被接著物，且可藉由活性能量線的照射進行硬化而調整密著力之性質者。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了基礎聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。而且，有時視需要亦含有光聚合起始劑或光敏劑等。
黏著劑組成物可含有用以賦予光散射性之微粒子、珠粒(樹脂珠粒、玻璃珠粒等)、玻璃纖維、基礎聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉或其他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著 色劑、消泡劑、抗腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
第1黏著劑層31及第3黏著劑層32可藉由將上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。基材可為如偏光片10、防護膜21、22、增亮膜50之其他光學膜、分離膜(例如分離膜70)等。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可作成具有期望的硬化度之硬化物。
第1黏著劑層31及第3黏著劑層32的厚度可為1至40μm，但從偏光板100之薄膜化的觀點，以及在保持良好的加工性之同時控制偏光板100的尺寸變化之觀點來看，較佳係設為3至25μm(例如3至20μm，甚至是3至15μm)。
(8)分離膜
分離膜70係要將第1黏著劑層31貼合於圖像顯示元件(例如液晶單元)或其他光學構件之前，為了保護其表面而暫時接著的膜。分離膜70通常係由單面經離型處理過之熱塑性樹脂膜構成，其離型處理面係貼合於第1黏著劑層31。構成分離膜70的熱塑性樹脂例如可為如聚乙烯之聚乙烯系樹脂、如聚丙烯之聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂等。在要與增亮膜50等之光學膜貼合之前，為了暫時接著保護第3黏著劑層32的表面，亦可預先於第3黏著劑層32的表面黏貼與上述同樣的分離膜。分離膜70的厚度例如為10至50μm。
(9)附保護膜之偏光板製造方法
本發明之附保護膜之偏光板的製造方法係以使得積層方向之至少一剖面內之與積層方向正交的方向之至少一端部滿足上述(i)至(iii)之任一種關係的方式進行積層或積層後予以端面加工。針對本發明之端面為鋸齒形狀的附保護膜之偏光板的製造方法的一實施形態加以說明。本實施形態之附保護膜之偏光板的製造方法係包含下述步驟：〔a〕將偏光性膜(A)與光學膜(C)積層而得到偏光板之第1步驟；〔b〕於第1步驟所得之偏光板上積層保護膜而得到膜積層體之第2步驟；〔c〕將複數片的第2步驟所得之膜積層體重疊而得到偏光板積層體之第3步驟；以及〔d〕使沿著所得之偏光板積層體的端面之長度方向的旋轉軸為中心進行旋轉且具有研磨刀之研磨工具，相對於偏光板積層體進行相對移動，藉此將偏光板積層體之至少一端面予以研磨加工之第4步驟。以下詳細說明各步驟。
〔第1步驟〕
本步驟係至少將偏光性膜(A)與光學膜(C)積層而得到偏光板之步驟。於本步驟中，將偏光性膜(A)與光學膜(C)的端部位置調整，並以使其具有滿足上述(i)至(iii)之任一條件的端部之方式進行積層，藉此在第2步驟結束的時點亦可得到本發明之附保護膜之偏光板。
〔第2步驟〕
本步驟係於第1步驟所得之偏光板上積層保護膜 (D)，得到依序積層有偏光性膜(A)、光學膜(C)、保護膜(D)之膜積層體的步驟。
〔第3步驟〕
本步驟係將複數片的端面未研磨之第2步驟所得之膜積層體重疊而得到偏光板積層體的步驟。膜積層體為方形。所謂的「方形」為正方形或長方形，其尺寸並無特別限定。重疊的膜積層體之片數亦無特別限定。本步驟所使用的薄膜積層體通常係將長條的膜積層體裁切而得者。
參照用以說明將偏光板積層體的端面予以研磨加工之後述第4步驟的圖式之第7圖，將複數片的膜積層體重疊而得之偏光板積層體W，其具有4個露出的端面，各端面係由經重疊的各膜積層體之露出的端面構成。複數片的膜積層體係以使該等的4邊成為一致的方式重疊。膜積層體的重疊方向並無限定，可將各膜積層體以使保護膜60位於上側的方式進行重疊，然後維持如此之方向而設置在端面加工裝置，亦可將各膜積層體以使保護膜60位於下側的方式進行重疊，然後維持如此之方向而設置在端面加工裝置。膜積層體的重疊可藉由自動或手動進行。
〔第4步驟〕
本步驟係利用研磨工具將第3步驟所得之偏光板積層體的端面研磨加工成滿足上述(i)至(iii)之任一種關係，而得到具有研磨端面的附保護膜之偏光板的步驟。第7圖係用以說明將本發明之偏光板積層體端面予以研磨加工的第4步驟、及該步驟所使用的端面加工裝置之一例的概略立 體圖。
參照第7圖，首先針對偏光板積層體端面的研磨加工時使用的端面加工裝置加以說明。端面加工裝置係如第7圖所示，可以是具備下述者：將偏光板積層體W從上下方擠壓，用以固定成在研磨加工中不會使偏光板積層體W本身移動且不會使經重疊的偏光板偏移之上壓具420及下壓具421；持撐下壓具421，且能夠以與偏光板的積層方向z平行的中心軸為中心進行旋轉之旋轉台431；附設於上壓具420，且能夠與旋轉台431同時期往與該旋轉台同一方向進行旋轉之壓具430；用以將偏光板積層體W的端面予以研磨加工之2個研磨工具(研磨旋轉體)410、411。
在第7圖所示之端面加工裝置中，於圓周部分設置有往積層體端面側突出的切割刀之圓盤狀的旋轉體的研磨工具410、411，係在研磨工具410、411的位置被固定的狀態下以沿著偏光板積層體端面的垂線方向拉伸之旋轉軸為中心進行旋轉，使偏光板積層體往x方向移動而將積層體端面予以切割。偏光板積層體相對於研磨工具410、411的移動速度例如可設為100至5000mm/分鐘。偏光板積層體端面的切割量例如可設為各端面平均0.5至10mm。研磨工具410、411的旋轉速度例如可設為1000至10000rpm。
關於如第1圖至第6圖所示之最上面為保護膜60且最下面為分離膜70之層構成的膜積層體，依研 磨工具410、411的旋轉方向之不同，會有經研磨的端面之剖面形狀相異之情形。例如於膜積層體中，在研磨工具410、411依先使刀刃進入保護膜60，然後再使刀刃依序進入光學膜50、偏光性膜20、分離膜70之方向進行旋轉來予以研磨加工的情況(以下稱為「保護膜先研磨」)時，如第3圖所示，於保護膜60中會有端面相對於表面的角度變成鈍角之傾向。另一方面，在研磨工具410、411係依先使刀刃進入分離膜70，然後再使刀刃依序進入偏光性膜20、光學膜50、保護膜60之方向進行旋轉來予以研磨加工的情況(以下稱為「保護膜後研磨」)時，如第4圖所示，於保護膜60中會有端面相對於表面的角度變成銳角之傾向。
<液晶面板>
本發明之液晶面板係含有液晶單元、及積層於前述液晶單元上之上述本發明之附保護膜之偏光板。於液晶面板中，附保護膜之偏光板係以使其第1黏著劑層31成為(在具有分離膜70的情況時係將其剝離去除後)液晶單元側之方式配置。於液晶面板中，依序積層有液晶單元、偏光性膜(A)、黏著劑層(B)、光學膜(C)、保護膜(D)。液晶面板係在保護膜60被剝離去除後使用。本發明之附保護膜之偏光板較佳係積層於液晶單元的背面側。
第8圖(a)、(b)係表示保護膜的剝離方法之示意圖。如第8圖(a)所示，從積層有偏光板100與保護膜60之附保護膜之偏光板110貼合於液晶單元200之狀態起，對保護膜60施加拉起力，如第8圖(a)所示般將保護 膜60往箭頭A的方向拉起而使剝離開始。然後對保護膜60施加面內剝離力，如第8圖(b)所示般將保護膜60往箭頭B的方向剝離。
將從偏光板100剝離的保護膜60去除。
在第8圖(a)、(b)所示之剝離方法中，於保護膜60施加之力可在握持著要開始剝離保護膜的端部(以下稱為「剝離開始端部」)的情況下進行，亦可在握持著貼附於包含保護膜的剝離開始端部之區域的剝離膠帶的情況下透過該膠帶進行。又，於保護膜60之施加力可為由作業者直接進行的手動或自動。
保護膜60的剝離開始端部滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。隔著剝離膠帶而於保護膜施加力時，係將剝離膠帶以往外側突出的方式貼附於包含剝離開始端部的區域。第9圖、第10圖係示意性表示保護膜60的表面之剝離膠帶的貼附方向之一例的俯視圖。剝離膠帶310係只要貼附成包含保護膜60的剝離開始端部即可，可以如第9圖所示般之貼附於包含保護膜60的一端面之中央部的區域，亦可如第10圖所示般貼附於包含保護膜60的一角落之區域。如第10圖所示般貼附於包含保護膜60的一角落之區域者，相較於如第9圖所示般貼附於包含保護膜60的一端面之中央部的區域時，由於容易取得剝離時的平衡，因此會有可進一步減低拉起力及面內剝離力之傾向。剝離保護膜60時，係將剝離膠帶310之突出的端部直接或用夾具等握持，對保護膜施加力而剝離保護膜60。剝離膠 帶310於保護膜60的貼附可在將附保護膜之偏光板110貼合於液晶單元200之前或貼合之後。
保護膜60的面內剝離力亦可藉由保護膜60的剝離角度來調整。所謂的保護膜60的剝離角度，如第11圖所示，意指剝離部分中保護膜60與偏光板100所夾的角度θ。由於保護膜60的剝離角度可將面內剝離力設成適當的範圍，因此較佳係設為0°以上90°以下，更佳係設為0°以上30°以下。
於本發明中，藉由使保護膜60的剝離開始端部滿足上述(i)至(iii)之任一種關係，可減低用以拉起保護膜拉起所需之力。
(實施例)
以下列舉實施例及比較例來更具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等例子。
<實施例1>
(1)偏光片的製作
將平均聚合度約2400、皂化率99.9莫耳%以上且厚度20μm的聚乙烯醇膜，以乾式單軸拉伸至約4倍，接著保持拉伸狀態直接浸漬於40℃的純水1分鐘後，於碘/碘化鉀/水的重量比為0.1/5/100的水溶液中在28℃下浸漬60秒。然後於碘化鉀/硼酸/水的重量比為10.5/7.5/100的水溶液中在68℃下浸漬300秒。接著以5℃的純水洗淨5秒後，在70℃乾燥180秒，得到於經單軸拉伸的聚乙烯醇膜吸附配向有碘之偏光片。偏光片的厚度為7μm。
(2)水系接著劑的調製
將聚乙烯醇粉末〔Kuraray股份有限公司製的商品名「KL-318」、平均聚合度1800〕溶解於95℃的熱水，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中將交聯劑〔田岡化學工業股份有限公司製的商品名「Sumirez Resin 650」〕依相對於聚乙烯醇粉末2重量份為1重量份的比率混合，作成水系接著劑。
(3)單面保護偏光板的製作
依下述順序製作附剝離膜之單面保護偏光板。
將上述(1)所得之偏光片連續地搬送，同時將防護膜從防護膜〔丙烯酸系樹脂膜，住友化學股份有限公司製，厚度20μm〕卷連續地捲出並施予電暈處理，並且將剝離膜從剝離膜〔Konica Minolta Opto股份有限公司製的TAC膜之商品名「KC8UX2MW」，厚度80μm，無皂化處理〕卷連續地捲出。
其次，於偏光片與防護膜之間注入上述(2)所得之水系接著劑，同時於偏光片與剝離膜之間注入純水，並使其通過貼合輥間而作成包含防護膜/水系接著劑層/偏光片/純水/剝離膜之積層膜。接著搬送積層膜，並通過乾燥裝置以進行80℃、300秒的加熱處理，藉此使水系接著劑層乾燥，同時將存在於偏光片與剝離膜之間的純水揮發去除，得到附剝離膜之單面保護偏光板。將剝離膜從附剝離膜之單面保護偏光板剝離，得到單面保護偏光板(偏光性膜)。
(4)附增亮膜之單面保護偏光板的製作
隔著丙烯酸系感壓式黏著劑薄片〔Printec股份有限公司製，厚度15μm，在20℃之儲存彈性模數0.031MPa〕將增亮膜〔3M股份有限公司製的反射型偏光片之商品名「APF」)以與反射型偏光片的拉伸軸平行的方式往偏光片的拉伸方向貼合於上述(3)所得之單面保護偏光板的偏光片面，而得到附增亮膜之單面保護偏光板。
(5)附分離膜之單面保護偏光板的製作
於上述(4)所得之附增亮膜之單面保護偏光板的防護膜面貼合附分離膜之丙烯酸系感壓式黏著劑薄片〔Printec股份有限公司製、黏著劑層的厚度20μm〕，得到附分離膜之單面保護偏光板。
(6)附保護膜之偏光板的製作
於上述(5)所得之附分離膜之單面保護偏光板將保護膜〔藤森工業股份有限公司製，厚度58μm〕貼合於增亮膜側，而得到附保護膜之偏光板。
(7)研磨加工
將上述(6)所得之長條的附保護膜之偏光板以超級切除器(荻野精機製作所股份有限公司製，藉由從膜的上方往下以刀刃進行切割之方式)進行切割而作成方形的附保護膜之偏光板，並使用第7圖所示之研磨裝置，以使第7圖所示之上壓具420及下壓具421間的夾持壓力(clamp pressure)成為0.15MPa的情況下將其4個端面藉由保護膜先研磨予以研磨加工。研磨加工後所得的附保護膜之偏光 板的端部，示意上為如第3圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第3圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1、與增亮膜50的寬度方向之最外側的位置P2滿足上述(i)的關係，且位置P1與位置P2的寬度方向之距離L為3μm。附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長度為6cm，長邊的最長長度為21.6cm的尺寸。位置P1與位置P2的寬度方向之距離L係使用Olympus股份有限公司製的LEXT(註冊商標)OLS4100來測定。具體而言，係藉由對附保護膜之偏光板的端面進行雷射掃描，以非接觸的方式測定距離L。
<實施例2>
除了於上述(3)中使用環烯烴聚合物膜(COP)〔商品名：ZF-14，Japan Zeon股份有限公司製，厚度13μm〕作為防護膜以外，其餘以與實施例1同樣的方法而得到上述(6)之附保護膜之偏光板。
除了於上述(7)中將夾持壓力設為0.1MPa的情況下藉由保護膜後研磨進行研磨加工以外，其餘以與實施例1同樣的方法進行研磨加工。研磨加工後所得的附保護膜之偏光板的端部，示意上為如第4圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第4圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1、與增亮膜50的寬度方向之最外側的位置P2滿足上述(i)的關係，且位置P1與位置P2之寬度方向的距離L為5.5μm。
附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長度為 6cm，長邊的最長長度為11cm的尺寸。
<實施例3>
除了不進行上述(7)的研磨加工以外，其餘與實施例2同樣的方法而得到附保護膜之偏光板。所得的附保護膜之偏光板的端部，示意上為如第1圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第1圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1、與增亮膜50的寬度方向之最外側的位置P2滿足上述(iii)的關係，且位置P1與位置P2的寬度方向之距離L未達1μm。附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長度為6cm，長邊的最長長度為11cm的尺寸。
<比較例1>
除了於上述(4)中將增亮膜貼合於單面偏光板的防護膜面而製作附增亮膜之單面偏光板，以及於上述(5)中將附分離膜之丙烯酸系感壓式黏著劑薄片貼合於附增亮膜之單面保護偏光板的偏光片面以外，其餘以與實施例1同樣的方法而得到上述(6)的附保護膜之偏光板。
除了於上述(7)中將夾持壓力設為0.1MP以外，其餘以與實施例1同樣的方法進行研磨加工。研磨加工後所得的附保護膜之偏光板的端部，示意上為如第12圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第12圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1位於增亮膜50的寬度方向之最外側的位置P2之內側，且位置P1與位置P2的寬度方向的距離L為3.5μm，皆未滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長 度為6cm，長邊的最長長度為11cm的尺寸。
<比較例2>
除了於上述(7)將夾持壓力設為0.05MPa以外，其餘以與實施例2同樣的方法而得到附保護膜之偏光板。所得的附保護膜之偏光板的端部，示意上為如第13圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第13圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1位於增亮膜50之最外側的位置P2之內側，且位置P1與位置P2之寬度方向的距離L為2μm，皆未滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。
附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長度為6cm，長邊的最長長度為11cm的尺寸。
<比較例3>
除了於上述(7)中藉由保護膜先研磨進行研磨加工以外，其餘以與實施例2同樣的方法而得到附保護膜之偏光板。所得的附保護膜之偏光板的短邊之中心剖面的端部，示意上為如第14圖所示之形狀(各層的相對厚度並未與第14圖一致)。偏光性膜20的寬度方向之最外側的位置P1位於增亮膜50之最外側的位置P2之內側，且位置P1與位置P2之寬度方向的距離L為5μm，皆未滿足上述(i)至(iii)之任一種關係。附保護膜之偏光板為方形，且短邊的最長長度為6cm，長邊的最長長度為11cm的尺寸。
[評價試驗1]
使用實施例1至3及比較例1至3的附保護膜之偏光板來進行確認保護膜的剝離性之評價試驗。第15圖係示意 性表示本評價試驗的方法之圖式。在本評價試驗中，首先將最下面的分離膜70剝離後隔著黏著劑層31將附保護膜之偏光板110貼合於玻璃板330，製作評價用試樣。然後於保護膜的表面內，以使上述測定出距離L的位置(短邊的中心)成為剝離開始點之方式，將剝離膠帶310(商品名：Nitto No.31B，寬度25mm)貼附成包含該位置且端部突出外側者。剝離膠帶310之貼附於保護膜的部分之長度約3cm，並貼附成突出的部分之長度為約3cm。然後將突出剝離膠帶310的外側之部分用夾具320握持，以使其相對於面方向成為約90°的角度(剝離角度)。夾具320的握持位置係設為離保護膜的表面約2cm的位置。最後以不移動夾具的方式使與偏光板貼合之玻璃板330以1.2m/分鐘的速度往面方向移動而將保護膜剝離。將此時剝離保護膜所需之力藉由測力計測定。以剝離開始時點的測定值作為拉起力，以隨後的測定值作為面內剝離力。於表1表示測定結果。
由表1所示之結果可知，相較於比較例1、2的附保護膜之偏光板，實施例1至3的附保護膜之偏光板，其保護膜的拉起力小，且保護膜的剝離性優異。比較例3的附保護膜之偏光板則無法將保護膜剝離。
[評價試驗2]
使用實施例1至3及比較例1至3的附保護膜之偏光板，藉由與評價試驗1同樣的方法來製作評價用試樣。使用剝離膠帶(商品名：Cellotape(註冊商標)，Nichiban股份有限公司製，寬度24mm)以取代評價試驗1所使用的剝離膠帶，並用夾具握持以使剝離角度成為約180°之方式，在已固定成不會使玻璃板330移動之狀態下，以1.0m/分鐘的速度移動夾具而將保護膜剝離。實施例1至3的附保護膜之偏光板可將保護膜剝離，但比較例1至3的附保護膜之偏光板的剝離膠帶會從保護膜表面剝落而無法將保護膜 剝離。

Claims (8)

  1. 一種附保護膜之偏光板，具備：具有偏光性膜及光學膜之偏光板、以及積層於前述偏光板的表面之保護膜，且依序積層有前述偏光性膜、前述光學膜、前述保護膜；其中，該附保護膜之偏光板的積層方向之至少一剖面內，在與前述積層方向正交的方向之至少一端部中，關於與前述積層方向正交的方向，前述偏光性膜之最外側的位置P1、與前述光學膜之最外側的位置P2滿足下述(i)至(iii)之任一種關係：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離為1μm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之附保護膜之偏光板，其中，前述偏光性膜具備偏光片、及防護膜。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之附保護膜之偏光板，前述偏光板更具有黏著劑層，且依序積層有前述偏光性膜、前述黏著劑層、前述光學膜、前述保護膜。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附保護膜之偏光板，其中，前述端部係存在於研磨端面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之附保護膜之偏光板，其 中，前述研磨端面係由V字溝與尖狀部交替形成之形狀。
  6. 如申請專利範圍第4或5項所述之附保護膜之偏光板，其中，位置P1與位置P2滿足前述(i)的關係。
  7. 一種液晶面板，具備液晶單元、及申請專利範圍第3項所述之附保護膜之偏光板，且依序積層有前述液晶單元、前述偏光性膜、前述黏著劑層、前述光學膜、前述保護膜。
  8. 一種附保護膜之偏光板的製造方法，具有下列步驟：得到依序積層有偏光性膜、光學膜、保護膜的膜積層體之步驟；將前述膜積層體之至少一端面予以研磨加工，以使於前述端面中關於與前述積層方向正交的方向中，前述偏光性膜之最外側的位置P1、與前述光學膜之最外側的位置P2滿足下述(i)至(iii)之任一種關係之步驟：(i)位置P1位於位置P2之外側；(ii)位置P1與位置P2相同；(iii)位置P1位於位置P2之內側，且位置P1與位置P2的距離為1μm以下。
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