TW201719152A - 層積光學薄膜的缺陷檢查方法，光學薄膜的缺陷檢查方法及層積光學薄膜的製造方法 - Google Patents

層積光學薄膜的缺陷檢查方法，光學薄膜的缺陷檢查方法及層積光學薄膜的製造方法 Download PDF

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Abstract

一種層積光學薄膜的缺陷檢查方法，包含：進行光學薄膜(11)的缺陷檢查之第1檢查工程；在光學薄膜(11)上貼合保護薄膜(12)及黏著材(13)的層積光學薄膜(10A、10B)生成工程；於第1檢查工程中將所檢出的缺陷(20)資訊做為代碼(40)記錄於層積光學薄膜(10A)之記錄工程；進行層積光學薄膜(10B)的缺陷檢查之第2檢查工程；對應第1檢查工程中所檢出的缺陷(20)、及第2檢查工程中所檢出的缺陷(21)，在層積光學薄膜(10B)進行標記之標記工程；其中，在第2檢查工程中，讀取於記錄工程中所記錄的缺陷資訊，但不檢出對應缺陷資訊的缺陷(20)。

Description

層積光學薄膜的缺陷檢查方法，光學薄膜的缺陷檢查方法及層積光學薄膜的製造方法
本發明係有關於層積光學薄膜的缺陷檢查方法及光學薄膜的缺陷檢查方法，也有關於層積光學薄膜的製造方法。
做為具有光學特性的光學薄膜，習知的有：具有偏光特性的偏光板、及具有雙折射性的相位差板等。例如：做為偏光板，習知有：在做為光學薄膜本體的偏光子(Polyvinyl Alcohol：PVA)的主面之兩側貼合TAC(Triacetyl Cellulose)薄膜。做為相位差板，習知為：相位差板由光學薄膜本體單獨形成。這種光學薄膜也有貼合保護薄膜、或貼合附有分離膜狀態的黏著材而形成層積光學薄膜的情形。
這種光學薄膜及層積光學薄膜，例如在進行上述貼合時，假若內部或表面有異物及氣泡混入的話，會產生光學的缺陷。專利文獻1~2，揭示這種光學薄膜及層積光學薄膜的缺陷檢查方法。
藉由這種缺陷檢查方法檢出缺陷的話，對應該些缺陷，例如在光學薄膜及層積光學薄膜的表面上進行標記以圍繞缺陷，並將進行標記的區域，排除其做為製品的利用。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-69142號公報
[專利文獻2]日本特開2011-65184號公報
這種缺陷檢查方法，要求將缺陷數不多也不少地數出來。此外，也要求該標記需以對應缺陷的大小呈現。
不過，會對這種光學薄膜及層積光學薄膜進行2次以上缺陷檢查。例如：貼合光學薄膜及層積光學薄膜的每一層時，會進行缺陷檢查、也為了檢出相異的缺陷而進行不同的檢查方法。
但是，在進行2次以上的缺陷檢查時，在第2次以後的檢查中，在前次以前已檢出的缺陷會被重覆檢出，會有無法精準求出缺陷率的問題。在第2次以後的檢查中，會將前次以前所標記的標記當做缺陷檢出，對應(例如將缺陷包圍)並標記之，結果會有標記尺寸變大的問 題。
於是，本發明的目的為提供一種層積光學薄膜的缺陷檢查方法及光學薄膜的缺陷檢查方法：可在進行2次以上的缺陷檢查時，防止重覆檢出前次以前已檢出的缺陷；以及防止檢出對應前次以前所檢出的缺陷標記。此外，本發明的目的也有提供層積光學薄膜的製造方法。
本發明的層積光學薄膜的缺陷檢查方法，在光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的至少一者並形成層積光學薄膜的同時，進行前述層積光學薄膜中的缺陷檢查，其中，該層積光學薄膜的缺陷檢查方法，包含：進行光學薄膜的缺陷檢查之第1檢查工程；在光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的層積光學薄膜生成工程；記錄於第1檢查工程中所檢出的缺陷資訊之記錄工程；進行層積光學薄膜的缺陷檢查之第2檢查工程；對應第1檢查工程中所檢出的缺陷、及第2檢查工程中所檢出的缺陷，在層積光學薄膜進行標記之標記工程；其中，在第2檢查工程中，讀取於記錄工程中所記錄的缺陷資訊，但不檢出對應該缺陷資訊的缺陷。
根據該層積光學薄膜的缺陷檢查方法，第2檢查工程不檢出於記錄工程中所記錄的對應缺陷資訊的缺陷。因此，在進行2次以上的缺陷檢查時，可防止重覆檢出前次以前所檢出的缺陷。此外，根據該層積光學薄膜的 缺陷檢查方法，於記錄工程中，藉由記錄第1檢查工程所檢出的缺陷資訊，在第2檢查工程前，於第1檢查工程對應所檢出的缺陷，因為不在光學薄膜進行標記，可防止檢出前次以前對應所檢出的缺陷所做的標記。
於前述第1檢查工程中的缺陷檢查方法與前述第2檢查工程中的缺陷檢查方法，可以是相同，也可以是相異。
本發明的光學薄膜的缺陷檢查方法，為光學薄膜的缺陷檢查方法，包含：進行光學薄膜的缺陷檢查之第1檢查工程；記錄於第1檢查工程中所檢出的缺陷資訊之記錄工程；對光學薄膜進行與第1檢查工程中的缺陷檢查相異之缺陷檢查的第2檢查工程；對應第1檢查工程中所檢出的缺陷、及第2檢查工程中所檢出的缺陷，在光學薄膜進行標記之標記工程；其中，在第2檢查工程中，讀取於記錄工程中所記錄的缺陷資訊，但不檢出對應該缺陷資訊的缺陷。
本發明的光學薄膜，不只是由光學薄膜本體所形成的單層光學薄膜，也包含：含有光學薄膜本體的光學薄膜、及在該光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的至少一者並形成層積光學薄膜的概念。
該光學薄膜的缺陷檢查方法，也因為第2檢查工程並不檢出於記錄工程中所記錄的對應缺陷資訊的缺陷，於進行2次以上的缺陷檢查時，可防止重覆檢出前次以前所檢出的缺陷。該光學薄膜的缺陷檢查方法，也於記 錄工程中，藉由記錄第1檢查工程所檢出的缺陷資訊，在第2檢查工程前，於第1檢查工程對應所檢出的缺陷，因為不在光學薄膜進行標記，可防止檢出前次以前對應所檢出的缺陷所做的標記。
本發明的層積光學薄膜的製造方法為：在光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的至少一者而製造層積光學薄膜的方法，包含：前述的層積光學薄膜的缺陷檢查方法。根據該層積光學薄膜的製造方法，也可以得到與上述層積光學薄膜的缺陷檢查方法相同的優點。
根據本發明，在進行2次以上的光學薄膜及層積光學薄膜的缺陷檢查時，可防止重覆檢出前次以前已檢出的缺陷，因此，能得到精準的缺陷率。此外，根據本發明，在進行2次以上的光學薄膜及層積光學薄膜的缺陷檢查時，可防止檢出對應前次以前所檢出的缺陷標記，因此，可防止最後的標記變大、及光學薄膜產率降低等問題。
10A、10B‧‧‧光學薄膜
11‧‧‧光學薄膜
12‧‧‧保護薄膜
13‧‧‧分離膜貼附黏著材
14‧‧‧分離膜
15‧‧‧黏著材
20、21、25‧‧‧缺陷
30、31‧‧‧標記
40‧‧‧條形碼(代碼)
101、102、104、105、107‧‧‧原料輥
103、106‧‧‧貼合輥
111‧‧‧透過檢查器
113、119‧‧‧噴墨印刷器
115‧‧‧檢查器(透過檢查器或反射檢查器)
117‧‧‧代碼讀取器
[圖1]有關本發明第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法之示意圖。
[圖2]有關本發明第1實施形態的層積光學薄膜的缺 陷檢查方法及製造方法之示意圖。
[圖3]有關本發明第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法中說明記錄工程之圖，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖4]沿圖3的層積光學薄膜之IV-IV線斷面圖。
[圖5]有關本發明第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法中說明標記工程之圖，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖6]沿圖5的層積光學薄膜之VI-VI線斷面圖。
[圖7]於習知的缺陷檢查方法中，為了說明第1標記工程的圖，在習知的缺陷檢查方法中，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖8]沿圖7的層積光學薄膜之VIII-VIII線斷面圖。
[圖9]於習知的缺陷檢查方法中，為了說明第2標記工程的圖，在習知的缺陷檢查方法中，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖10]沿圖9的層積光學薄膜之X-X線斷面圖。
[圖11]有關本發明第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法之示意圖。
[圖12]有關本發明第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法之示意圖。
[圖13]有關本發明第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法中說明記錄工程之圖，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖14]沿圖13的層積光學薄膜之XIV-XIV線斷面圖。
[圖15]有關本發明第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法中說明標記工程之圖，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖。
[圖16]沿圖15的層積光學薄膜之XVI-XVI線斷面圖。
[實施形態]
以下，參照圖式詳細說明本發明最佳的實施形態。於各圖式中對於同一或是相當的部分標示同一符號。
〔第一實施形態〕
圖1及圖2為：有關本發明第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法之示意圖。圖3及圖5為：有關本發明第1實施形態的缺陷檢查方法之不同的工程中，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖；圖4及圖6為：圖3及圖5所示的層積光學薄膜的斷面圖。圖1~圖6以XY平面座標表示。X方向表示層積光學薄膜的寬邊方向，Y方向表示層積光學薄膜的長邊方向。
首先，如圖1所示，從原料輥101放出光學薄膜11。光學薄膜11包含具有光學特性的光學薄膜本 體。做為光學薄膜11，習知有：具有偏光特性的偏光板、及具有雙折射性的相位差板等。例如：光學薄膜11為偏光板時，在做為光學薄膜11的光學薄膜本體，包含偏光子(Polyvinyl Alcohol：PVA)，該偏光子的主面之兩側貼合有TAC(Triacetyl Cellulose)薄膜。另一方向，光學薄膜11為相位差板時，相位差板相當於光學薄膜本體。
接著，利用配置於光學薄膜11的另一方的主面11b側的光源(圖未示)，以光照射光學薄膜11，並藉由配置於光學薄膜11的一方之主面11a側的透過檢查器111，接收透過光學薄膜11的光，基於該所接收的透過光，進行光學薄膜11的缺陷檢查(第1檢查工程，透過檢查)。
接著，從原料輥102放出保護薄膜12，層積保護薄膜12於光學薄膜11的一方之主面11a側。做為保護薄膜12可使用PET(Polyethylene Terephthalate)等薄膜。接著，藉由貼合輥103貼合光學薄膜11與保護薄膜12，生成層積光學薄膜10A。
接著，利用配置於層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的噴墨印刷器113(使用滴液法)，將於第1檢查工程所檢出的缺陷的資訊(缺陷資訊)做為代碼，記錄於層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的表面端部(記錄工程)。
例如，如圖3及圖4所示，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10A的內部所生成的3個缺陷20時， 將該等缺陷20的座標資訊做為條形碼40，對應各缺陷20，記錄於層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的表面的X方向端部。圖4及圖1僅概略表示圖3的1個缺陷20，及對應該缺陷20的條形碼40。
也可以在每一個Y方向的預定區間(例如：每60mm為間隔)，記錄1個條形碼40。在此種情況下，可以將存在於此預定區間的所有缺陷資訊，集合成1個條形碼40做記錄。
接著，卷取層積光學薄膜10A於原料輥104。
接著，如圖2所示的，從原料輥104放出層積光學薄膜10A，此外，從原料輥105放出貼合黏著材15與分離膜(離型薄膜)14的分離膜貼附黏著材13，層積分離膜貼附黏著材13於層積光學薄膜10A的光學薄膜11側。做為分離膜的材料可使用PET(Polyethylene Terephthalate)等。接著，藉由貼合輥106貼合層積光學薄膜10A與分離膜貼附黏著材13，生成層積光學薄膜10B。
接著，利用配置於層積光學薄膜10B的另一方的主面10b側(分離膜貼附黏著材13側)的光源(圖未示)，以光照射層積光學薄膜10B，並藉由配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側(保護薄膜12側)的透過檢查器115，接收透過層積光學薄膜10B的光，基於該所接收的透過光，進行層積光學薄膜10B的缺陷檢查(第2檢查工程，透過檢查)。在第1實施形態中，檢查器115 為透過檢查器。
在第2檢查工程中，藉由代碼讀取器117，讀取於記錄工程中記錄於條形碼40的缺陷資訊，但不檢出對應所讀取的缺陷資訊之缺陷20。也就是說，第2檢查工程檢出於第1檢查工程沒有檢出，但於第2檢查工程初次檢出的缺陷21(參照圖5及圖6)。具體來說，第2檢查工程中，將與從條形碼40所讀取的缺陷座標位於同一位置的缺陷，判別成同一缺陷而不檢出。
接著，利用配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的噴墨印刷器119(使用滴液法)，將於第1檢查工程所檢出的缺陷(也就是說，從條形碼40所讀取的缺陷)、以及對應第2檢查工程所檢出的缺陷，於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的表面進行標記(標記工程)。
例如，如圖3及圖4所示，第1檢查工程中，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10A的內部所生成的3個缺陷20時，如圖5及圖6所示，第2檢查工程中，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10B的內部所生成的2個缺陷21時，將各自對應該等缺陷20、21的X方向的兩側，藉由線狀的標記31於Y方向做標記，以挾持缺陷20、21(也就是包圍缺陷20、21)的方式，在層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的表面進行標記。
圖6在概略表示在圖5中的1個缺陷20、及對應該缺陷20的2個線狀標記31的同時，也概略地表示 圖5中的1個缺陷21，及對應該缺陷21的2個線狀標記31。圖2僅概略表示圖5的1個缺陷20或21，及對應該缺陷20或21的2個線狀標記31。
接著，將層積光學薄膜10B卷取至原料輥107。
在此，圖7及圖9為：於習知的缺陷檢查方法的相異工程中，表示層積光學薄膜的一方之主面示意圖；圖8及圖10為：圖7及圖9所示的層積光學薄膜的斷面圖。
習知的缺陷檢查方法，取代於本實施形態的記錄工程及標記工程，具備第1標記工程及第2標記工程；於第2檢查工程中，不具備檢出第1檢查工程中所檢出的缺陷之機能，和本實施形態的缺陷檢查方法相異。
第1標記工程，例如圖7及圖8所示的，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10A的內部所生成的3個缺陷20時，將各自對應該等缺陷20的X方向的兩側，藉由線狀的標記30於Y方向做標記，以挾持缺陷20(也就是包圍缺陷20)的方式，在層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的表面進行標記。
第2標記工程，例如圖8及圖10所示的，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10B的內部所生成的2個缺陷21時，將各自對應該等缺陷21的X方向的各自兩側，藉由線狀的標記31於Y方向做標記，以挾持缺陷21(也就是包圍缺陷21)的方式，在層積光學薄膜10B的一 方之主面10a側的表面進行標記。
該習知的缺陷檢查方法，如圖8及圖10所示的，於第2檢查工程中，在再度檢出第1檢查工程所檢出的缺陷20的同時，將第1標記工程所形成的標記30當作缺陷檢出。因此，於第2標記工程中，對應第1檢查工程所檢出的缺陷20及第1標記工程所形成的標記30，以挾持該等缺陷20及標記30(也就是包圍缺陷20及標記30)的方式，形成標記31。
這樣，於習知的缺陷檢查方法中，在進行2次以上的缺陷檢查時，在第2次以後的檢查中，在前次以前已檢出的缺陷會被重覆檢出，會有無法精準求出缺陷率的問題。此外，在第2次以後的檢查中，將前次以前所標記的標記當做缺陷檢出，並對應該缺陷在其旁邊再做標記，結果最終會有標記尺寸變大的問題，並有降低光學薄膜產率的問題。
不過，根據第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法，因為第2檢查工程並不檢出於記錄工程中所記錄的對應缺陷資訊的缺陷，於進行2次以上的缺陷檢查時，可防止重覆檢出前次以前已檢出的缺陷20，因此，能得到精準的缺陷率。此外，根據第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法，於記錄工程中，藉由將第1檢查工程所檢出的缺陷資訊做為條形碼40記錄，在第2檢查工程前，於第1檢查工程對應所檢出的缺陷20，因為不在光學薄膜進行標記，可防止檢出前次以前對應所檢 出的缺陷所做的標記。因此，最終可防止因為標記尺寸變大而使光學薄膜的產率降低的問題。
〔第1實施形態的變形例〕
第1實施形態例示：在光學薄膜11貼合保護薄膜12及分離膜貼附黏著材13之貼合工程之前與之後，進行複數次同一種類的缺陷檢查(透過檢查)的方法。不過，本發明的思想，如同以下的詳細說明，有進行不同種類的缺陷檢查的組合形態，例如：於第1實施形態中，進行做為第1檢查工程的透過檢查，而進行做為第2檢查工程的反射檢查形態也適用。
〔第2實施形態〕
第1實施形態雖例示了在光學薄膜11貼合保護薄膜12及分離膜貼附黏著材13之貼合工程之前與之後，進行複數次的缺陷檢查的方法，但本發明的思想，也適用於對同一層積光學薄膜進行複數次的缺陷檢查之方法。
例如，對於同一層積光學薄膜，也有組合不同的檢查(例如：透過檢查及反射檢查)的情形。例如，透過檢查適合檢出混入光學薄膜內部的黑色系異物，但卻難以檢出混入光學薄膜表面的小氣泡。另一方面，反射檢查適合檢出混入光學薄膜表面的小氣泡，但卻難以檢出混入光學薄膜內部的黑色系異物。
以下，例示了對同一層積光學薄膜組合不同的檢查之缺陷檢查方法。該第2實施形態，以層積光學薄膜的缺陷檢查方法做例示。不過，本發明的思想，也可適用於對於單層光學薄膜組合不同的檢查之缺陷檢查方法。
圖11及圖12為：有關本發明第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法之示意圖。圖13及圖15為：有關本發明第2實施形態，於不同的層積光學薄膜的缺陷檢查方法工程中，表示層積光學薄膜的一方之主面的圖；圖14及圖16為：圖13及圖15所示的層積光學薄膜的斷面圖。
首先，如圖11所示，從原料輥101放出層積光學薄膜10B。接著，利用配置於層積光學薄膜10B的另一方的主面10b側的光源(圖未示)，以光照射層積光學薄膜10B，並藉由配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的透過檢查器111，接收透過層積光學薄膜10B的光，基於該所接收的透過光，進行層積光學薄膜10B的缺陷檢查(第1檢查工程，透過檢查)。
接著，利用配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的噴墨印刷器113(使用滴液法)，將於第1檢查工程所檢出的缺陷的資訊做為代碼，記錄於層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的表面端部(記錄工程)。
例如，如圖13及圖14所示，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10B的內部所生成的3個缺陷20時，將該等缺陷20的座標資訊做為條形碼40，對應各缺 陷20，記錄於層積光學薄膜10A的保護薄膜12側的表面的X方向端部。圖14及圖11僅概略表示圖13的1個缺陷20，及對應該缺陷20的條形碼40。
接著，卷取層積光學薄膜10B於原料輥104。
接著，如圖12所示，從原料輥104放出層積光學薄膜10B。接著，利用配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的光源(圖未示)，以光照射層積光學薄膜10B，並藉由配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的透過檢查器115，接收由層積光學薄膜10B的一方之主面10a所反射的光，基於該所接收的透過光，進行層積光學薄膜10B的缺陷檢查(第2檢查工程，反射檢查)。在第2實施形態中，檢查器115為反射檢查器。
在第2檢查工程中，藉由代碼讀取器117，讀取於記錄工程中記錄於條形碼40的缺陷資訊，但不檢出對應所讀取的缺陷資訊之缺陷20。也就是說，第2檢查工程檢出於第1檢查工程沒有檢出，但於第2檢查工程初次檢出的缺陷25(參照圖15及圖16)。具體來說，第2檢查工程中，將與從條形碼40所讀取的缺陷座標位於同一位置的缺陷，判別成同一缺陷而不檢出。
接著，利用配置於層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的噴墨印刷器119(使用滴液法)，將於第1檢查工程所檢出的缺陷(也就是說，從條形碼40所讀取的缺陷)、以及對應第2檢查工程所檢出的缺陷，於層積光 學薄膜10B的一方之主面10a側的表面進行標記(標記工程)。
例如，如圖13及圖14所示，第1檢查工程中，在檢出因為異物混入層積光學薄膜10B的內部所生成的3個缺陷20時，如圖15及圖16所示，第2檢查工程中，在檢出因為氣泡混入層積光學薄膜10B的表面所生成的2個缺陷25時，將各自對應該等缺陷20、25的X方向的各自兩側，藉由線狀的標記31於Y方向做標記，以挾持缺陷20、25(也就是包圍缺陷20、25)的方式，在層積光學薄膜10B的一方之主面10a側的表面進行標記。
圖16在概略表示在圖15中的1個缺陷20，及對應該缺陷20的2個線狀標記31的同時，也概略地表示圖15中的1個缺陷25，及對應該缺陷25的2個線狀標記31。圖12僅概略表示圖15的1個缺陷20或25，及對應該缺陷20或25的2個線狀標記31。
接著，將層積光學薄膜10B卷取至原料輥107。
該第2實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法，也可以得到與第1實施形態的層積光學薄膜的缺陷檢查方法及製造方法相同的優點。
此外，本發明並不限定於上述實施形態，可以有多種的可能的變形態。例如，雖然本實施形態例示進行2次缺陷檢查的形態，但本發明的思想也可適用進行3次以上缺陷檢查的形態。
本實施形態，例示透過檢查及反射檢查做為缺陷檢查的種類，但並不限定該等缺陷檢查的種類。本發明的思想，也可適用於包含正交偏光檢查等的缺陷檢查方法。
本實施形態於記錄工程中，將檢出的缺陷20的座標資訊做為條形碼40記錄於層積光學薄膜10A，但是於記錄工程中，也可將所檢出的缺陷20之座標資訊記錄於電腦等的記憶體中。此外，本實施形態於第2檢查工程中，藉由代碼讀取器117讀取記錄於條形碼40的缺陷的座標資訊，但是於第2檢查工程中，也可利用電腦等的記憶體讀取所記錄的座標資訊。
10B‧‧‧光學薄膜
20、21‧‧‧缺陷
31‧‧‧標記
40‧‧‧條形碼(代碼)

Claims (5)

  1. 一種層積光學薄膜的缺陷檢查方法，在光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的至少一者並形成層積光學薄膜的同時，進行前述層積光學薄膜中的缺陷檢查，其中，該層積光學薄膜的缺陷檢查方法，包含：進行前述光學薄膜的缺陷檢查之第1檢查工程；在前述光學薄膜上貼合前述保護薄膜及前述黏著材的至少一者並生成前述層積光學薄膜之生成工程；記錄於前述第1檢查工程中所檢出的缺陷資訊之記錄工程；進行前述層積光學薄膜的缺陷檢查之第2檢查工程；對應前述第1檢查工程中所檢出的缺陷、及前述第2檢查工程中所檢出的缺陷，在前述層積光學薄膜進行標記之標記工程；其中，在前述第2檢查工程中，讀取於前述記錄工程中所記錄的前述缺陷資訊，但不檢出對應該缺陷資訊的缺陷。
  2. 如請求項1所記載之層積光學薄膜的缺陷檢查方法，其中，前述第1檢查工程中的缺陷檢查方法與前述第2檢查工程中的缺陷檢查方法相同。
  3. 如請求項1所記載之層積光學薄膜的缺陷檢查方法，其中，前述第1檢查工程中的缺陷檢查方法與前述第2檢查工程中的缺陷檢查方法相異。
  4. 一種光學薄膜的缺陷檢查方法，包含：進行前述光學薄膜的缺陷檢查之第1檢查工程； 記錄於前述第1檢查工程中所檢出的缺陷資訊之記錄工程；對於前述光學薄膜，進行與前述第1檢查工程中的缺陷檢查相異之缺陷檢查的第2檢查工程；對應前述第1檢查工程中所檢出的缺陷、及前述第2檢查工程中所檢出的缺陷，在前述光學薄膜進行標記之標記工程；其中，在前述第2檢查工程中，讀取於前述記錄工程中所記錄的前述缺陷資訊，但不檢出對應該缺陷資訊的缺陷。
  5. 一種層積光學薄膜的製造方法，在光學薄膜上貼合保護薄膜及黏著材的至少一者並形成層積光學薄膜，其中，該層積光學薄膜的製造方法，包含：如請求項1至3中任1項所記載之層積光學薄膜的缺陷檢查方法。
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