TWI766952B - 缺陷標記方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片的製造方法及片 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種適合標示缺陷的位置之缺陷標記方法。
本發明的缺陷標記方法係進行被檢查物的缺陷檢查，根據缺陷檢查的結果對被檢查物的缺陷部位施作標記，其中，以使缺陷D位於在與被檢查物面內的一個方向交叉的另一個方向相鄰的第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間的方式，將第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2印字在被檢查物的表面，藉此標示缺陷D的位置。

Description

缺陷標記方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片的製造方法及片
本發明係有關缺陷標記(marking)方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片(sheet)的製造方法及片。
例如，在樹脂膜(film)和紙等長帶狀原材的製造步驟中，係在搬送原材的期間進行原材的缺陷檢查，根據缺陷檢查的結果對原材的缺陷部位施作標記(以下，稱為缺陷標記)(參照例如下述之專利文獻1至4)。
此外，在液晶顯示面板(panel)所使用的偏光板等光學膜(片)的製造步驟中，係利用印字頭(head)，將缺陷的位置和種類、尺寸(size)、檢查方法等與缺陷有關的資訊(以下，稱為缺陷資訊)記錄(印字)在沿著光學膜端緣部之特定區域(以下，稱為記錄區域)。
光學膜係在缺陷資訊的記錄完成後捲收於芯材，當捲收量達一定量，便從搬送方向的上游側的光學膜切離，以原材捲(roll)的形式出貨。從原材捲切取依製品規格而裁剪(cut)成預先設定好的大小和方向的片(料片(chip))。此外，關於缺陷部分，係將之排除在製品之外予以作廢。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1：日本國特開2001-305070號公報
專利文獻2：日本國特開2002-303580號公報
專利文獻3：日本國特開2011-102985號公報
專利文獻4：日本國特開2014-16217號公報
然而，在上述的習知技術的缺陷標記中，將缺陷部分自原材切取下來時是在標記與缺陷之間進行切割，因此，會有缺陷是位於因切割而切取下來之側與因切割而切剩之側的其中哪一側，有時在切割後缺陷的位置變得不明之情形。
此外，在前述專利文獻2所記載的發明中係藉由附加刮痕記號(mark)來對缺陷部位施作標記。然而，在標示刮痕記號的情形時，無法在缺陷檢查後將刮痕記號消除。此時，依據標記後的目視檢查(品檢)，有時缺 陷部分仍會容許被作為製品。然而，一旦標示了刮痕記號，便無法再作為製品使用。
另一方面，一般而言，在上述的習知技術的缺陷標記中，係藉由對缺陷部位施作標記而僅標示缺陷的位置。因此，在習知技術的缺陷標記中，並未針對前述缺陷資訊進行記錄。因此，例如，當在出貨前再次對原材捲進行品檢時需要缺陷資訊的情形時，係必須預先將缺陷資訊另行記錄在記錄區域等。
本發明乃係鑒於如上述的習知情事而提案者，其目的在於提供一種適合標示缺陷的位置之缺陷標記方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片的製造方法及片。
就解決課題的手段而言，依據本發明的態樣，提供一種缺陷標記方法，係對被檢查物的缺陷部位施作標記，其中，以使缺陷位於在與前述被檢查物面內的一個方向交叉的另一個方向相鄰的第1印字樣式(pattern)與第2印字樣式之間的方式，將前述第1印字樣式及前述第2印字樣式印字在前述被檢查物的表面。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式中之任一者或兩者的印字樣式，記錄與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：將至少一個點(dot)狀的記號做印字或沿前述一個方 向將複數個點狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：將至少一個線狀的記號做印字或沿前述一個方向將複數個線狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由變更前述記號的數目、間隔、尺寸、顏色其中任一者以上，記錄與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由變更在前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔之印字樣式，標示前述缺陷於前述一個方向上的位置。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由將沿前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白配置在與前述缺陷相鄰的位置，藉此，標示前述缺陷於前述一個方向的位置。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由將在前述另一個方向與前述第1印字樣式和前述第2印字樣式中之任一者或兩者相鄰的第3印字樣式予以印字，以記錄與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：藉由前述任一者的印字樣式，記錄與前述缺陷以外有關的資訊。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：使用能夠消除的墨水(ink)將前述印字樣式做印字。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：對作為前述被檢查物而沿前述一個方向搬送的長帶狀原材的缺陷部位施作標記。
此外，在前述態樣的缺陷標記方法中，亦可為：對作為前述被檢查物而藉由切割長帶狀原材而得的片的缺陷部位施作標記。
此外，依據本發明的態樣，提供一種原材的製造方法，係包含下列步驟：對沿一個方向搬送的長帶狀原材進行缺陷檢查之步驟；及使用前述任一種缺陷標記方法，在將前述原材朝前述一個方向搬送的期間，根據前述缺陷檢查的結果對前述原材的缺陷部位施作標記之步驟。
此外，依據本發明的態樣，提供一種片的製造方法，係包含下列步驟：對藉由切割長帶狀原材而得的片進行缺陷檢查之步驟；及使用前述任一種缺陷標記方法，根據前述缺陷檢查的結果對前述片的缺陷部位施作標記之步驟。
此外，依據本發明的態樣，提供一種缺陷標記裝置，係具備對被檢查物的缺陷部位施作標記的印字裝置；前述印字裝置係具有：沿與前述被檢查物面內的一個方向交叉的另一個方向以預定之間隔排列配置，並且對前述被檢查物的表面將印字樣式做印字的複數個印字部； 及控制前述複數個印字部之驅動的控制部；前述控制部係以使缺陷位於在前述另一個方向相鄰的第1印字樣式與第2印字樣式之間的方式，進行用以選擇將前述第1印字樣式及前述第2印字樣式做印字的印字部之控制。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：前述控制部係對前述所選擇的任一者或兩者的印字部，因應要記錄之與前述缺陷有關的資訊，進行用以變更前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式之控制。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：將至少一個點狀的記號做印字或沿前述一個方向將複數個點狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：將至少一個線狀的記號做印字或沿前述一個方向將複數個線狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：變更前述記號的數目、間隔、尺寸、顏色其中任一者以上。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：前述控制部係對前述所選擇的任一個印字部，進行用以變更沿前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔之控制。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：前述控制部係對前述所選擇的任一個印字部，進行將沿前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白配置在與前述缺陷相鄰的位置之控制。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：前述控制部係選擇將在前述另一個方向與前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者相鄰的第3印字樣式予以印字的印字部，對該所選擇的任一者或兩者的印字部，因應要記錄之與前述缺陷有關的資訊，進行變更前述第3印字樣式之控制。
此外，在前述態樣的缺陷標記裝置中，亦可構成為：前述控制部係對前述所選擇的任一個印字部，因應要記錄之與前述缺陷以外有關的資訊，進行變更前述任一者的印字樣式之控制。
此外，依據本發明的態樣，提供一種原材的製造裝置，係具備對沿一個方向搬送的長帶狀原材進行缺陷檢查的缺陷檢查裝置、及前述任一種缺陷標記裝置；在將前述原材沿前述一個方向搬送的期間，根據前述缺陷檢查的結果對前述原材的缺陷部位施作標記。
此外，依據本發明的態樣，提供一種片的製造裝置，且具備對藉由切割長帶狀原材而得的片進行缺陷檢查的缺陷檢查裝置、及前述任一種缺陷標記裝置；根據前述缺陷檢查的結果對前述片的缺陷部位施作標記。
此外，依據本發明的態樣，提供一種原材，係於缺陷部位施作有標記的長帶狀原材；具有藉由前述標記而在表面被印字之在短邊方向相鄰的第1印字樣式及第2印字樣式；藉由使缺陷位於前述第1印字樣式與前述第2印字樣式之間，而標示出前述缺陷的位置。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：將至少一個點狀的記號做印字或沿長邊方向將複數個點狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：將至少一個線狀的記號做印字或沿長邊方向將複數個線狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：變更了前述記號的數目、間隔、尺寸、顏色其中之任一者以上。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：藉由變更了沿前述長邊方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔之印字樣式，標示出前述缺陷於前述長邊方向的位置。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為： 將沿前述長邊方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白配置在與前述缺陷相鄰的位置，藉此標示出前述缺陷於前述長邊方向的位置。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：具有在前述短邊方向與前述第1印字樣式和前述第2印字樣式其中任一者或兩者相鄰的第3印字樣式，藉由前述第3印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：藉由前述其中任一者的印字樣式，記錄有與前述缺陷以外有關的資訊。
此外，在前述態樣的原材中，亦可構成為：以能夠消除的墨水印字有前述印字樣式。
此外，依據本發明的態樣，提供一種片，係於缺陷部位施作有標記的片；具有藉由前述標記而在表面被印字之在與一個方向交叉的的另一個方向相鄰的第1印字樣式及第2印字樣式，藉由使缺陷位於前述第1印字樣式與前述第2印字樣式之間，而標示出前述缺陷的位置。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：將至少一個點狀的記號做印字或沿前述一個方向將複數個點狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：將至少一個線狀的記號做印字或沿前述一個方向將複數個線狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：變更了前述記號的數目、間隔、尺寸、顏色其中任一者以上。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：藉由變更了沿前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔之印字樣式，標示出前述缺陷於前述一個方向的位置。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：將沿前述一個方向排列的複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白配置在與前述缺陷相鄰的位置，藉此標示出前述缺陷於前述一個方向的位置。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：具有在前述另一個方向與前述第1印字樣式和前述第2印字樣式其中任一者或兩者相鄰的第3印字樣式，藉由前述第3印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：藉由前述其中任一者的印字樣式，記錄有與前述缺陷以外有關的資訊。
此外，在前述態樣的片中，亦可構成為：以能夠消除的墨水印字有前述印字樣式。
如以上所述，依據本發明的態樣，能夠提供一種適合標示缺陷的位置之缺陷標記方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片的製造方法及片。
10‧‧‧缺陷標記裝置
11‧‧‧第1缺陷檢查裝置
12‧‧‧第2缺陷檢查裝置
13‧‧‧記錄裝置(印字裝置)
13a‧‧‧印字頭
13b‧‧‧噴嘴部(印字部)
14‧‧‧第1測長器
15‧‧‧第2測長器
16‧‧‧控制裝置(控制部)
21a至25a‧‧‧照明部
21b至25b‧‧‧光檢測部
100‧‧‧膜製造裝置(原材的製造裝置)
101‧‧‧第1搬送線
102‧‧‧第2搬送線
103‧‧‧第3搬送線
104‧‧‧第4搬送線
105‧‧‧第5搬送線
106‧‧‧捲收部
111a、111b‧‧‧第1夾輥
112‧‧‧第1蓄料器
112a、112b‧‧‧第1擺動輥
113‧‧‧第1導輥
121a、121b‧‧‧第2夾輥
122‧‧‧第2蓄料器
122a、122b‧‧‧第2擺動輥
123a、123b‧‧‧第2導輥
131a、131b‧‧‧第3夾輥
141a、141b‧‧‧第4夾輥
142‧‧‧第3蓄料器
142a、142b‧‧‧第3擺動輥
143a、143b‧‧‧第4導輥
151a、151b‧‧‧第5夾輥
151c、151d‧‧‧第6夾輥
152‧‧‧第4蓄料器
152a、152b‧‧‧第4擺動輥
153a‧‧‧第5導輥
153b‧‧‧第6導輥
153c‧‧‧第7導輥
a至f‧‧‧箭頭
D‧‧‧缺陷
DM‧‧‧點狀的記號
F4‧‧‧基材片
F4a‧‧‧偏光體
F4b、F4c‧‧‧保護膜
F5‧‧‧黏著層
F6‧‧‧隔離片
F7‧‧‧表面保護片
F8‧‧‧貼合片
F11‧‧‧第1光學膜
F12‧‧‧第2光學膜
F13‧‧‧第3光學膜
F1X‧‧‧光學膜
F10X‧‧‧光學膜
F101‧‧‧第1膜
F102‧‧‧第2膜
F103‧‧‧第3膜
F104‧‧‧單面貼合膜
F105‧‧‧雙面貼合膜(原材)
FX‧‧‧光學片
G‧‧‧周緣部
K‧‧‧空白
L‧‧‧搬送線
LM‧‧‧線狀的記號
P‧‧‧液晶顯示面板(光學顯示裝置)
P1‧‧‧第1基板
P2‧‧‧第2基板
P3‧‧‧液晶層
P4‧‧‧顯示區域
PT1‧‧‧第1印字樣式
PT2‧‧‧第2印字樣式
PT3‧‧‧第3印字樣式
R1‧‧‧第1原材捲
R2‧‧‧第2原材捲
R3‧‧‧第3原材捲
T1、T2‧‧‧間隔
第1圖係顯示液晶顯示面板的一例之俯視圖。
第2圖係第1圖中所示液晶顯示面板的剖面圖。
第3圖係顯示光學膜的一例之剖面圖。
第4圖係顯示膜製造裝置及缺陷標記裝置的構成之側視圖。
第5圖係顯示第4圖所示之缺陷標記裝置的構成之俯視圖。
第6圖係顯示以點狀的記號進行印字的第1印字樣式及第2印字樣式的一例之俯視圖。
第7圖係顯示以線狀的記號進行印字的第1印字樣式及第2印字樣式的一例之俯視圖。
第8圖(a)至(c)係顯示追加第3印字樣式的例子之俯視圖。
第9圖(a)至(d)係例示缺陷的種類與其印字樣式的不同之俯視圖。
第10圖(a)及(b)係顯示在第1製造步驟與第2製造步驟中發生的缺陷之剖面圖。
第11圖(a)至(c)係顯示針對在第1製造步驟與第2製 造步驟中發生的缺陷進行印字的第1印字樣式及第2印字樣式的一例之俯視圖。
第12圖係顯示第1印字樣式及第2印字樣式的變形例之俯視圖。
第13圖(a)至(g)係例示印字樣式的組合之俯視圖。
以下，針對本發明的實施形態，參照圖式詳細進行說明。
在本實施形態中，係例如就光學顯示裝置的生產系統(system)而言，針對構成其一部分的膜製造裝置(原材的製造裝置)、及使用該膜製造裝置的膜製造方法(原材的製造方法)進行說明。
膜製造裝置係例如為製造貼合至液晶顯示面板或有機EL(Electro-Luminescence)顯示面板等面板狀光學顯示零件(光學顯示面板)的例如偏光膜、相位差膜、亮度提升膜等膜狀的光學構件(光學膜)之裝置。膜製造裝置係構成生產含有如上述之光學顯示零件和光學構件的光學顯示裝置之生產系統的一部分。
在本實施形態中，就光學顯示裝置而言係例示穿透式的液晶顯示裝置。穿透式的液晶顯示裝置概略上係具備液晶顯示面板及背光(backlight)。在該種液晶顯示裝置中，係將自背光射出的照明光從液晶顯示面板的背面側射入、從液晶顯示面板的表面側射出經液晶顯示面板調變過的光，藉此能夠顯示圖像。
(光學顯示裝置)
首先，就光學顯示裝置而言，針對第1圖及第2圖所示的液晶顯示面板P的構成進行說明。另外，第1圖係顯示液晶顯示面板P的構成之俯視圖。第2圖係沿第1圖中所示之剖切線A-A的液晶顯示面板P的剖面圖。另外，在第2圖中係省略表示剖面的剖面線(hatching)的圖示。
如第1圖及第2圖所示，液晶顯示面板P概略上係具備：第1基板P1；第2基板P2，係與第1基板P1相對向配置；及液晶層P3，係配置在第1基板P1與第2基板P2之間。
第1基板P1係由俯視呈長方形的透明基板所構成。第2基板P2係由比第1基板P1小的呈長方形的透明基板所構成。液晶層P3係配置在以密封(seal)材(未圖示)將第1基板P1與第2基板P2之間的周圍予以密封而由密封材所包圍的俯視呈長方形的區域之內側。在液晶顯示面板P中，係將俯視下局限在液晶層P3外周之內側的區域設為顯示區域P4、將包圍該顯示區域P4的周圍的外側的區域設為周緣部G。
在液晶顯示面板P的背面(背光側)，係依序積層貼合有作為偏光膜的第1光學膜F11、層疊於該第1光學膜F11且作為亮度提升膜的第3光學膜F13。在液晶顯示面板P的表面(顯示面側)，係貼合有作為偏光膜的第2光學膜F12。以下，將第1、第2及第3光學膜F11至 F13統稱為光學膜F1X。
(光學膜)
接著，針對第3圖所示的構成光學膜F1X的光學片FX的一例進行說明。另外，第3圖係顯示光學片FX的構成之剖面圖。另外，在第3圖中係省略了表示剖面的剖面線的圖示。
光學膜F1X係藉由從第3圖所示的長帶狀的光學片(原材)FX切取預定之長度的片件(端片)而得。具體而言，該光學片FX係具有：基材片F4；黏著層F5，係設置在基材片F4的一面(第3圖中的頂面)；隔離(separator)片F6，係隔介黏著層F5而設置在基材片F4的一面；及表面保護片F7，係設置在基材片F4的另一面(第3圖中的底面)。
關於基材片F4，當例如為偏光膜時，係具有由一對保護膜F4b、F4c包夾偏光體F4a的構造。黏著層F5乃係使片件(光學膜F1X)黏貼至液晶顯示面板P之層。隔離片F6乃係保護黏著層F5之片，且於將片件(光學膜F1X)貼合至液晶顯示面板P之前從黏著層F5剝離下來。另外，將隔離片F6從光學膜F1X移除後之部分係成為貼合片F8。
表面保護片F7係保護基材片F4的表面之片。表面保護片F7係在將片件(光學膜F1X)黏貼至液晶顯示面板P後從片件(光學膜F1X)的表面剝離下來。
另外，關於基材片F4，係亦可採用將一對保護膜F4b、F4c中之任一者予以省略的構成。例如，能夠採用將黏著層F5側的保護膜F4b予以省略而將黏著層F5直接設置在偏光體F4a的構成。此外，在表面保護片F7側的保護膜F4c係例如亦可施作保護液晶顯示面板P之最外面的硬塗(hard coat)處理、可獲得防眩效果的抗眩(anti-glare)處理等表面處理。此外，關於基材片F4，並不限於上述的積層構造者，亦可為單層構造。此外，關於表面保護片F7，亦能夠予以省略。
(膜製造裝置及膜製造方法)
接著，針對第4圖所示的膜製造裝置100進行說明。另外，第4圖係顯示膜製造裝置100的構成之側視圖。
如第4圖所示，膜製造裝置100係例如為將作為表面保護膜的長帶狀的第2膜F102貼合至作為偏光膜的長帶狀的第1膜F101的一面後，將作為表面保護膜的長帶狀的第3膜F103貼合至第1膜F101的另一面，藉此製造在第1膜F101的兩面貼合有第2膜F102及第3膜F103的光學膜F10X。
具體而言，該膜製造裝置100概略上係具備：第1搬送線(line)101、第2搬送線102、第3搬送線103、第4搬送線104、第5搬送線105、及捲收部106。
其中，第1搬送線101係形成將第1膜F101進行搬送的搬送路徑；第2搬送線102係形成將從第1原 材捲R1捲送出的第2膜F102進行搬送的搬送路徑；第3搬送線103係形成將在第1膜F101的一面貼合有第2膜F102而成的單面貼合膜F104進行搬送的之搬送路徑；第4搬送線104係形成將從第2原材捲R2捲送出的第3膜F103進行搬送的搬送路徑；第5搬送線105係形成將在單面貼合膜F104的第1膜F101側之面(第1膜F101的另一面)貼合有第3膜F103而成的雙面貼合膜F105(光學膜F10X)進行搬送的搬送路徑。此外，所製造出的光學膜F10X係在捲收部106中捲收於芯材成為第3原材捲R3。
第1搬送線101乃係例如令藉由對PVA(Polyvinyl Alcohol；聚乙烯醇)等作為偏光體之基材的膜施作染色處理、交聯處理、延伸處理等處理後在其兩面貼合TAC(Triacetylcellulose(三乙酸纖維素))等保護膜而得的長帶狀的第1膜F101搬送往第3搬送線103。
具體而言，在該第1搬送線101，係從隔著第3搬送線103上游側之一方側往第3搬送線103沿水平方向依序配置有：一對第1夾輥(nip roller)111a、111b、含有複數個第1擺動輥(dancer roller)112a、112b的第1蓄料器(accumulator)112、及第1導輥113。
一對第1夾輥111a、111b乃係一邊將第1膜F101包夾於其間，一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示箭頭a的方向(右方向)拉出第1膜F101。
第1蓄料器112乃係用於吸收因第1膜F101的饋送量的變動所產生之差並且減輕施加在第1膜F101 的張力的變動。具體而言，該第1蓄料器112係具有：在第1夾輥111a、111b與第1導輥113之間，以交替排列的方式配置有位於上部側的複數個擺動輥112a、與位於下部側的複數個擺動輥112b之構成。
在第1蓄料器112中，係於將第1膜F101交錯掛繞在上部側的擺動輥112a與下部側的擺動輥112b之狀態下，一邊令第1膜F101搬送，一邊令上部側的擺動輥112a與下部側的擺動輥112b沿上下方向相對地進行升降動作。藉此，能夠在不用停止第1搬送線101之情形下蓄積第1膜F101。例如，在第1蓄料器112中，能夠藉由擴大上部側的擺動輥112a與下部側的擺動輥112b之間的距離來增加第1膜F101的蓄積，相反地能夠藉由縮減上部側的擺動輥112a與下部側的擺動輥112b之間的距離來減少第1膜F101的蓄積。第1蓄料器112係例如在更換原材捲R1至R3的芯材之後的接紙等作業時運轉。
第1導輥113乃係一邊旋轉一邊將由第1夾輥111a、111b拉出的第1膜F101導引往第3搬送線103的上游側。另外，關於第1導輥113，並不限於僅配置有一個之構成，亦可為配置有複數個之構成。
第2搬送線102乃係例如一邊令PET(Polyethylene terephthalate；聚對苯二甲酸乙二酯)等作為表面保護膜的長帶狀的第2膜F102從第1原材捲R1捲送出，一邊搬送往第3搬送線103。
具體而言，在該第2搬送線102，係從隔著 第3搬送線103上游側之另一方側往第3搬送線103沿水平方向依序配置有：一對第2夾輥121a、121b、含有複數個第2擺動輥122a、122b的第2蓄料器122、及複數個第2導輥123a、123b。
一對第2夾輥121a、121b乃係一邊將第2膜F102包夾於其間，一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示之箭頭b的方向(左方向)拉出第2膜F102。
第2蓄料器122乃係用於吸收因第2膜F102的饋送量的變動所產生之差並且減輕施加在第2膜F102的張力的變動。具體而言，該第2蓄料器122係具有在第2夾輥121a、121b與第2導輥123a、123b之間，以交替排列的方式配置有位於上部側的複數個擺動輥122a、與位於下部側的複數個擺動輥122b之構成。
在第2蓄料器122中，係於將第2膜F102交錯掛繞在上部側的擺動輥122a與下部側的擺動輥122b之狀態下，一邊令第2膜F102搬送，一邊令上部側的擺動輥122a與下部側的擺動輥122b沿上下方向相對地進行升降動作。藉此，能夠在不用停止第2搬送線102之情形下蓄積第2膜F102。例如，在第2蓄料器122中，能夠藉由擴大上部側的擺動輥122a與下部側的擺動輥122b之間的距離來增加第2膜F102的蓄積，相反地，能夠藉由縮減上部側的擺動輥122a與下部側的擺動輥122b之間的距離來減少第2膜F102的蓄積。第2蓄料器122係例如在更換原材捲R1至R3的芯材之後的接紙等作業時運轉。
複數個第2導輥123a、123b乃係一邊分別旋轉一邊將由第2夾輥121a、121b拉出的第2膜F102導引往第3搬送線103的上游側。另外，關於第2導輥123a、123b，並不限於配置有複數個之構成，亦可為僅配置有一個之構成。
第3搬送線103乃係令在第1膜F101的一面貼合第2膜F102而成的長帶狀的單面貼合膜F104搬送往第5搬送線105。
具體而言，在該第3搬送線103係配置有一對第3夾輥131a、131b。一對第3夾輥131a、131b乃係位於第1搬送線101的下游側與第2搬送線102的下游側之合流點，一邊將第1膜F101及第2膜F102包夾於其間一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示之箭頭c的方向(下方向)拉出將第1膜F101與第2膜F102貼合在一起而成的單面貼合膜F104。
第4搬送線104乃係例如一邊令PET(Polyethylene terephthalate)等作為表面保護膜的長帶狀的第3膜F103從第2原材捲R2捲送出，一邊搬送往第5搬送線105。
具體而言，在該第4搬送線104，係從隔著第3搬送線103下游側之一方側往第3搬送線103沿水平方向依序配置有：一對第4夾輥141a、141b、含有複數個第3擺動輥142a、142b的第3蓄料器142、及複數個第4導輥143a、143b。
一對第4夾輥141a、141b乃係一邊將第3膜F103包夾於其間，一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示之箭頭d的方向(右方向)拉出第3膜F103。
第3蓄料器142乃係用於吸收因第3膜F103的饋送量的變動所產生之差並且減輕施加在第3膜F103的張力的變動。具體而言，該第3蓄料器142係具有在第4夾輥141a、141b與第4導輥143a、143b之間，以交替排列的方式配置有位於上部側的複數個擺動輥142a、與位於下部側的複數個擺動輥142b之構成。
在第3蓄料器142中，係於將第3膜F103交錯掛繞在上部側的擺動輥142a與下部側的擺動輥142b之狀態下，一邊令第3膜F103搬送，一邊令上部側的擺動輥142a與下部側的擺動輥142b沿上下方向相對地進行升降動作。藉此，能夠在不用停止第4搬送線104之情形下蓄積第3膜F103。例如，在第3蓄料器142中，能夠藉由擴大上部側的擺動輥142a與下部側的擺動輥142b之間的距離來增加第3膜F103的蓄積，相反地能夠藉由縮減上部側的擺動輥142a與下部側的擺動輥142b之間的距離來減少第3膜F103的蓄積。第3蓄料器142係例如在更換原材捲R1至R3的芯材之後的接紙等作業時運轉。
複數個第4導輥143a、143b乃係一邊分別旋轉，一邊將由第4夾輥141a、141b拉出的第3膜F103導引往第3搬送線103的下游側(第5搬送線105的上游側)。另外，關於第4導輥143a、143b，並不限於配置有 複數個之構成，亦可為僅配置有一個之構成。
第5搬送線105乃係令在單面貼合膜F104的第1膜F101側之面(第1膜F101的另一面)貼合第3膜F103而成的長帶狀的雙面貼合膜F105(光學膜F10X)搬送往第3原材捲R3。
具體而言，在該第5搬送線105中，係從隔著第3搬送線103下游側之另一方側往第3原材捲R3沿水平方向依序配置有：一對第5夾輥151a、151b、第5導輥153a、一對第6夾輥151c、151d、含有複數個第4擺動輥152a、152b的第4蓄料器152、及第6導輥153b。
一對第5夾輥151a、151b乃係位於第3搬送線103的下游側與第5搬送線105的上游側之合流點，一邊將單面貼合膜F104及第3膜F103包夾於其間，一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示之箭頭e的方向(下方向)拉出將單面貼合膜F104與第3膜F103貼合在一起而成的雙面貼合膜F105。
第5導輥153a乃係一邊旋轉，一邊將由第5夾輥151a、151b拉出的雙面貼合膜F105導引往第4蓄料器152。另外，關於第5導輥153a並不限於僅配置有一個之構成，亦可為配置有複數個之構成。
一對第6夾輥151c、151d乃係一邊將雙面貼合膜F105包夾於其間，一邊互往相反的方向旋轉，藉此往第4圖中所示之箭頭f的方向(右方向)拉出雙面貼合膜F105。
在第4蓄料器152中，係於將雙面貼合膜F105交錯掛繞在上部側的擺動輥152a與下部側的擺動輥152b之狀態下，一邊令雙面貼合膜F105搬送，一邊令上部側的擺動輥152a與下部側的擺動輥152b沿上下方向相對地進行升降動作。藉此，能夠在不用停止第5搬送線105之情形下蓄積雙面貼合膜F105。例如，在第4蓄料器152中，能夠藉由擴大上部側的擺動輥152a與下部側的擺動輥152b之間的距離來增加雙面貼合膜F105的蓄積，相反地能夠藉由縮減上部側的擺動輥152a與下部側的擺動輥152b之間的距離來減少雙面貼合膜F105的蓄積。第4蓄料器152係例如在更換原材捲R1至R3的芯材之後的接紙等作業時運轉。
第6導輥153b乃係將雙面貼合膜F105導引往第3原材捲R3。另外，關於第6導輥153b，並不限於僅配置有一個之構成，亦可為配置有複數個之構成。
雙面貼合膜F105係在捲收部106捲收於芯材而成為光學膜F10X的第3原材捲R3後送到下個步驟。
(缺陷標記裝置及缺陷標記方法)
接著，針對前述膜製造裝置100所具備的缺陷標記裝置10、及使用該缺陷標記裝置10的缺陷標記方法進行說明。
如第4圖所示，缺陷標記裝置10乃係構成前述膜製造裝置100的一部分，概略上係構成為具備：搬 送線L、第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12、記錄裝置13、第1測長器14及第2測長器15、及控制裝置16。
搬送線L乃係形成將作為檢查對象的膜進行搬送的搬送路徑，在本實施形態中係由前述第1搬送線101、第3搬送線103及第5搬送線105構成搬送線L。
第1缺陷檢查裝置11乃係進行貼合第2膜F102及第3膜F103前的第1膜F101的缺陷檢查。具體而言，該第1缺陷檢查裝置11係檢測在製造第1膜F101時和搬送第1膜F101時產生的異物缺陷、凹凸缺陷、亮點缺陷等各種缺陷。第1缺陷檢查裝置11係藉由對以第1搬送線101搬送的第1膜F101，例如執行反射檢查、穿透檢查、斜穿透檢查、正交偏光(crossed Nicols)穿透檢查等檢查處理，而檢測出第1膜F101的缺陷。
第1缺陷檢查裝置11係在第1搬送線101中比第1夾輥111a、111b更上游側之處具有：複數個照明部21a至23a，係對第1膜F101照射照明光；及複數個光檢測部21b至23b，係檢測穿透第1膜F101的光(穿透光)或由第1膜F101所反射的光(反射光)。
在本實施形態中係構成為檢測穿透光，故沿第1膜F101的搬送方向排列的複數個照明部21a至23a與光檢測部21b至23b係分別隔著第1膜F101相對向配置。此外，在第1缺陷檢查裝置11中並不限於檢測該穿透光之構成，亦可構成為檢測反射光、或檢測穿透光及反射 光之構成。當是檢測出反射光時，只要將光檢測部21b至23b配置在照明部21a至23a側即可。
照明部21a至23a係將相應於缺陷檢查的種類而調整光強度、波長、偏光狀態等之照明光照射至第1膜F101。光檢測部21b至23b係使用CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合元件)等攝像元件，來拍攝第1膜F101受照明光照射之位置的圖像。以光檢測部21b至23b拍攝的圖像(缺陷檢查的結果)係輸出給控制裝置16。
第2缺陷檢查裝置12乃係進行貼合第2膜F102及第3膜F103後的第1膜F101、亦即雙面貼合膜F105的缺陷檢查。具體而言，該第2缺陷檢查裝置12係檢測在將第2膜F102及第3膜F103貼合至第1膜F101時、及搬送單面貼合膜F104及雙面貼合膜F105時產生的異物缺陷、凹凸缺陷、亮點缺陷等各種缺陷。第2缺陷檢查裝置12係藉由對以第5搬送線105搬送的雙面貼合膜F105，例如執行反射檢查、穿透檢查、斜穿透檢查、正交偏光穿透檢查等檢查處理，而檢測出雙面貼合膜F105的缺陷。
第2缺陷檢查裝置12係在第5搬送線105中比第5夾輥151a、151b更下游側之處具有：複數個照明部24a、25a，係對雙面貼合膜F105照射照明光；及複數個光檢測部24b、25b，係檢測穿透雙面貼合膜F105的光(穿透光)或由雙面貼合膜F105所反射的光(反射光)。
在本實施形態中係構成為檢測穿透光，故沿雙面貼合膜F105的搬送方向排列的複數個照明部24a、 25a與光檢測部24b、25b係分別隔著雙面貼合膜F105相對向配置。此外，在第2缺陷檢查裝置12中並不限於檢測該穿透光之構成為，亦可為檢測反射光、或檢測穿透光及反射光之構成。當是檢測反射光時，只要將光檢測部24b、25b配置在照明部24a、25a側即可。
照明部24a、25a係將相應於缺陷檢查的種類而調整光強度、波長、偏光狀態等之照明光照射至雙面貼合膜F105。光檢測部24b、25b係使用CCD等攝像元件，拍攝雙面貼合膜F105受照明光照射之位置的圖像。以光檢測部24b、25b拍攝的圖像(缺陷檢查的結果)係輸出給控制裝置16。
記錄裝置13乃係根據第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12的缺陷檢查的結果對缺陷部位施作標記的印字裝置。記錄裝置13係設置在第5搬送線105中比第2缺陷檢查裝置12更下游側之處。記錄裝置13係例如具有採用噴墨(inkjet)方式的複數個印字頭13a。另外，關於印字頭13a，亦可為採用雷射(laser)方式者。
如第5圖所示，複數個印字頭13a係沿與雙面貼合膜F105的搬送方向交叉的方向(寬度方向)排列配置。此外，在各印字頭13a中，係沿與雙面貼合膜F105的搬送方向交叉的方向(寬度方向)以預定之間隔排列配置有噴出墨水的噴嘴(nozzle)部(印字部)13b。各印字頭13a的噴嘴部13b係相對向於雙面貼合膜F105，從雙面貼合膜F105的寬度方向的一端側等間隔地排列配置到另一端側。
此外，在與複數個印字頭13a相對向的位置係配置有與雙面貼合膜F105相接的第7導輥153c。此外，各印字頭13a的噴嘴部13b係從雙面貼合膜F105之與第7導輥153c相接之位置的相反側，朝雙面貼合膜F105的表面噴出墨水。藉此，便能夠在雙面貼合膜F105的表面印字(標記)點狀的記號。
第1測長器14及第2測長器15乃係測量第1膜F101的搬送量。具體而言，在本實施形態中，係在第1搬送線101中位於比第1蓄料器112更上游側之處的第1夾輥111a配置有構成第1測長器14的旋轉編碼器(rotary encoder)、及在位於比第1蓄料器112更下游側的第3夾輥131a配置有構成第2測長器15的旋轉編碼器。
關於第1測長器14及第2測長器15，係相應於與第1膜F101相接而旋轉的第1夾輥111a及第3夾輥131a的旋轉變位量，由旋轉編碼器來測量第1膜F101的搬送量。第1測長器14及第2測長器15的測量結果係輸出給控制裝置16。
另外，在本實施形態中，在第1缺陷檢查裝置11與記錄裝置13之間只存在一個蓄料器，故成為在該蓄料器的上游側與下游側各配置有一個測長器之構成。另一方面，當在第1缺陷檢查裝置11與記錄裝置13之間存在有複數個蓄料器時，只要構成為在其中位於最上游側的蓄料器的上游側與其中位於最下游側的蓄料器的下游側各配置有一個測長器即可。
控制裝置16乃係統籌控制膜製造裝置100之各部。具體而言，該控制裝置16係具備作為電子控制裝置的電腦系統(computer system)。電腦系統概略上係具備：CPU(Central Processing Unit；中央處理器)等運算處理部、及記憶體(memory)和硬碟(hard disc)等資訊記憶部。
在控制裝置16的資訊記憶部係記錄有控制電腦系統之作業系統(OS；Operation System)、及令運算處理部執行膜製造裝置100各部中的各種處理之程式(program)等。此外，控制裝置16係亦可含有執行膜製造裝置100各部的控制所需的各種處理之ASIC(Application Specific Integrated Circuit；特定應用積體電路)等邏輯電路。此外，控制裝置16係含有供進行電腦系統與外部裝置間的輸入輸出用的介面(interface)。在該介面係例如能夠連接有鍵盤(keyboard)和滑鼠(mouse)等輸入裝置、液晶顯示器等顯示裝置、通信裝置等。
控制裝置16係作為根據前述第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12的缺陷檢查的結果對複數個印字頭13a的噴嘴部13b之驅動進行控制的控制部發揮功能。亦即，該控制裝置16係解析以光檢測部21b至23b及光檢測部24b、25b所拍攝的圖像，判別缺陷的有無(位置)和種類等。接著，當判定為在第1膜F101和雙面貼合膜F105存在缺陷時，進行對符合條件的噴嘴部13b之驅動進行控制而對雙面貼合膜F105的缺陷部位施作標記的缺陷標記。
此外，在缺陷標記裝置10中，係以避免雙面貼合膜F105的缺陷檢查位置與缺陷部位的標記位置之間產生位差的方式，在缺陷檢查後於預定之時序(timing)進行缺陷標記。例如，在本實施形態中，係計算在以第1缺陷檢查裝置11或第2缺陷檢查裝置12所進行的缺陷檢查的時刻以後，在搬送線L上搬送的膜的搬送量，當所算出的搬送量與偏置(offset)距離一致時，以記錄裝置13進行缺陷標記。
此處，偏置距離係指第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12、與記錄裝置13之間的膜的搬送距離。精確地說，偏置距離係定義為：以第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12進行缺陷檢查的位置(缺陷檢查位置)、與以記錄裝置13施作標記的位置(標記位置)之間之膜的搬送距離。此外，偏置距離係一旦令第1蓄料器112運轉便變動。
第1蓄料器112非運轉時的偏置距離(以下，稱為第1偏置距離)係已預先記憶在控制裝置16的資訊記憶部。具體而言，在第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12係存在有複數個光檢測部21b至23b及光檢測部24b、25b，就每個光檢測部21b至25b進行缺陷檢查。因此，在控制裝置16的資訊記憶部中，係就每個光檢測部21b至25b記憶第1偏置距離。
當因第1蓄料器112的運轉使偏置距離發生變動時，係根據第1蓄料器112的上游側與下游側之間的 第1膜F101的搬送量之差，算出偏置距離的補正值。亦即，在控制裝置16中，係從第1測長器14及第2測長器15的測量結果算出藉由第1蓄料器112而蓄積的第1膜F101之蓄積量，並根據該第1膜F101之蓄積量，算出偏置距離的補正值。
在缺陷標記裝置10中，於第1蓄料器112的運轉時，根據偏置距離的補正值，對記錄裝置13施作標記的時序進行補正。例如，在本實施形態中，係根據第1測長器14及第2測長器15的測量結果，算出偏置距離的補正值。控制裝置16係根據該補正值及第1偏置距離，算出第1蓄料器112運轉時的偏置距離(以下，稱為第2偏置距離)。
在本實施形態中，係根據第1測長器14或第2測長器15的測量結果，計算在以第1缺陷檢查裝置11及第2缺陷檢查裝置12所進行的缺陷檢查的時刻以後，在搬送線L上搬送的膜的搬送量，當所算出的搬送量與第2偏置距離一致時，以記錄裝置13進行缺陷標記。
此外，在本實施形態中，於第1蓄料器112的運轉時，亦可將表示第1蓄料器112運轉過的資訊(以下，稱為蓄料器運轉資訊)有別於缺陷標記另外記錄在雙面貼合膜F105。當記錄有蓄料器運轉資訊時，能夠藉由操作人員(operator)仔細地檢查附加有蓄料器運轉資訊之部分的缺陷部位而檢測出標記位置的位差等。藉此，將良品部分誤判定為缺陷部位的可能性會減少，以謀求良率的提升。
此外，在本實施形態的缺陷標記裝置10中，例如，如第6圖所示，係以使缺陷D位於在雙面貼合膜F105的寬度方向相鄰的第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間的方式，將第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2印字在雙面貼合膜F105的表面。
在本實施形態中，就第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2而言，係沿雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)排列印字複數個點狀的記號DM。記號DM乃係能夠藉由目視觀察而看到之程度的大小，具體而言，其直徑為5mm(millimeter；毫米)以下(更佳為1mm以上且3mm以下)。
控制裝置16係從沿雙面貼合膜F105的寬度方向排列的複數個噴嘴部13b之中，選擇印字第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2的兩個噴嘴部13b。接著，該等被選擇到的兩個噴嘴部13b係在隔著缺陷D的雙面貼合膜F105的寬度方向(短邊方向)的兩側，印字第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2。
此時，藉由使缺陷D位於第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間，即能夠標示位於其間的缺陷D的位置。藉此，在標記後的目視檢查(品檢)中，即能夠容易地掌握缺陷D的位置。
此外，藉由第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間隔，即能夠辨識到位於其間的缺陷D的大小。因此，針對所選擇的兩個噴嘴部13b，未必限於選擇 沿著雙面貼合膜F105的寬度方向排列的複數個噴嘴部13b中之相鄰的噴嘴部13b，只要配合缺陷D的位置及大小適當地選擇兩個噴嘴部13b即可。
此外，藉由使缺陷D位於第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間，在將缺陷部分自雙面貼合膜F105切取下來時，便在第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者與缺陷D之間進行切割。
此時，便在因切割而切取下來之側與因切割而切剩之側殘留有第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者。藉此，缺陷D是位於因切割而切取下來之側與因切割而切剩之側的其中的哪一側，即能夠藉由切割後殘留的第1印字樣式PT1或第2印字樣式PT2而容易地確認缺陷的位置。
此外，針對第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2，係能夠使用能夠消除的墨水進行印字。如前所述，標記後的目視檢查(品檢)有時仍會容許缺陷部分作為製品。此時，藉由消除第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2，即能夠將該部分作為製品使用，能夠謀求產率的提升。
針對能夠消除的墨水，能夠使用對從酮(ketone)類(甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、丙酮(acetone)等)、酯(ester)類(乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丙酯(propyl acetate)等)、醇(alcohol)類(乙醇(ethanol)、2-丙醇(propanol)等)中適當地選擇出的溶劑添加著色劑及製膜用樹脂等而 成的油性墨水。此外，亦可視需要而添加硬化劑和界面活性劑等。另一方面，就用以消除墨水的溶劑而言，能夠使用與上述溶劑相同的溶劑。另外，就使用甲苯(toluene)和二甲苯(xylene)等芳香族烴類而言，因會侵蝕光學膜(偏光板)的材質，故不宜使用。
此外，在本實施形態的缺陷標記裝置10中，係藉由第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者或兩者的印字樣式來記錄與缺陷D有關的資訊。
具體而言，控制裝置16係在印字第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2時，對所選擇的噴嘴部13b，依據要記錄的與缺陷D有關的資訊(缺陷資訊)，進行變更第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者或兩者的印字樣式(在本實施形態中為第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2)之控制。
例如，在本實施形態中，係依據要記錄的缺陷資訊，變更構成第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2的記號DM的數目與間隔。藉此，能夠在對缺陷部位施作標記的同時記錄缺陷資訊。
缺陷資訊乃係缺陷D的位置和種類、尺寸、檢查方法(缺陷檢查的種類)等與缺陷D有關的資訊。對第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2係以能夠識別出該等缺陷資訊的方式預先設定記號DM的數目與間隔。
例如，第6圖中所示的第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2分別係沿雙面貼合膜F105的一個方 向、亦即搬送方向(長邊方向)排列印字五個記號DM。其中，分別在上游側配置兩個記號DM及在下游側配置三個記號DM。此外，在上游側的記號DM與下游側的記號DM之間設置有一個記號範圍的空白(空出間隔而形成的部分)K。
空白K係配置成在雙面貼合膜F105的另一個方向、亦即寬度方向(短邊方向)與缺陷D大致同列。亦即，該空白K係標示缺陷D於雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)的位置。另外，當缺陷D比空白K大時，較佳為將空白K配置在與缺陷D的中心相鄰的位置。
此時，不僅能夠標示缺陷D位於第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間，還能夠藉由空白K標示缺陷D位於上游側的記號DM與下游側的記號DM之間。藉此，能夠更容易地掌握缺陷D的位置。此外，在跨越缺陷D將料片切取下來時，藉由檢視殘留的記號DM，即能夠判別在該料片是否存在有缺陷D。藉此，能夠使雙面貼合膜F105的利用效率提升。
此外，由於上游側與下游側的記號DM的數目不同，因此即使是在自雙面貼合膜F105切取下來之後仍然能夠容易地掌握雙面貼合膜F105的搬送方向(第6圖中箭頭所示之方向)。
此外，從缺陷D與空白K於雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)的位差量，能夠掌握缺陷檢查位置與標記位置之間的時序的時差量。此外，根據該時差 量，能夠容易地調整以記錄裝置13進行標記的時序。
關於空白K的大小，較佳為將隔著空白K之兩側的記號DM的間隔(中心間距離)T2設為比沿搬送方向以一定之間隔排列的記號DM的間隔(中心間距離)T1更大。更具體言之，較佳為採用1.2≦T2/T1≦3.0的範圍，更佳為採用1.5≦T2/T1≦2.5的範圍。
如以上所述，依據本實施形態，藉由上述的第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2，能夠標示缺陷D的位置並且記錄缺陷資訊。
另外，本發明並不限於上述實施形態，在不脫離本發明主旨的範圍內，能夠施行各種變更。
例如，針對第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2，並不限於變更前述記號DM的數目和間隔，其他例如還能夠變更尺寸(直徑)和顏色(紅、藍、黑等。較佳為黑)等。亦即，只要變更點狀的記號DM的數目、間隔、尺寸(直徑)、顏色其中任一者以上即可。藉此，可更加細微地設定該些印字樣式PT1、PT2，即能夠記錄更多的資訊。
此外，例如，如第7圖所示，針對第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2，並不限於前述點狀的記號DM，亦可為沿雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)印字線狀的記號LM。
此時，不僅能夠使用前述噴墨方式的印字頭13a，例如還能夠使用沿與雙面貼合膜F105的搬送方向交叉的方向(寬度方向)排列的複數個標記器(marker)(印字 部)。關於標記器，並無特別限定，例如有記號筆(pen marker)和雷射刻印器(laser rmarker)等。
在印字線狀的記號LM來記錄缺陷資訊的情形時，係依據要記錄的缺陷資訊，沿雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)排列配置至少一個或複數個記號LM，且變更線狀的記號LM的數目、間隔、尺寸(長度、粗細)、顏色其中任一者以上。藉此，與印字點狀的記號DM印字的情形同樣地，能夠記錄缺陷資訊。此外，當在線狀的記號LM設置空白K時，較佳為將該空白K的間隔設為3mm至5mm程度。
此外，例如如第8圖(a)至(c)所示，亦可印字在雙面貼合膜F105的寬度方向(短邊方向)與第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者或兩者相鄰的第3印字樣式PT3。
此時，控制裝置16係有別於印字前述第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2的兩個噴嘴部13b而另外選擇印字第3印字樣式PT3的噴嘴部13b。針對印字第3印字樣式PT3的噴嘴部13b，係能夠依據要記錄的缺陷資訊，選擇至少一個或複數個噴嘴部13b。
亦即，針對第3印字樣式PT3，係能夠相應於要記錄的缺陷資訊適當地選擇下述等樣式：如第8圖(a)所示相鄰於第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2其中任一者進行印字；如第8圖(b)所示相鄰於第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2之兩側進行印字；如第8圖(c)所示沿 雙面貼合膜F105的寬度方向(短邊方向)排列印字複數個。
此外，針對第3印字樣式PT3，係亦能夠印字在第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2之間。此時，能夠在隔著缺陷D的雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)的上游側或下游側、或兩側進行印字。
此外，針對第3印字樣式PT3，係與第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2同樣地，能夠以點狀的記號DM或線狀的記號LM進行印字。變更第3印字樣式PT3的方法亦與變更第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2的情形相同。
因此，針對缺陷資訊，藉由上述的第1印字樣式PT1、第2印字樣式PT2及第3印字樣式PT3的組合，能夠記錄更多的資訊。
針對藉由上述第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3其中任一者而記錄的缺陷資訊，係例如只要依據缺陷D的種類等而預先設定要變更哪個印字樣式及要變更構成該進行變更的印字樣式的記號DM(LM)的數目和間隔、尺寸(直徑、長度、粗細)、顏色中的何者。藉此，能夠按照預先設定的規則(rule)辨別出缺陷D的種類等。
例如，針對缺陷D的種類，係例如能夠列舉第9圖(a)所示的異物類、第9圖(b)所示的氣泡類、第9圖(c)所示的亮點類、第9圖(d)所示的皺褶類等。其中，第9圖(a)所示的異物類乃係因異物混入雙面貼合膜F105而形成的缺陷D。另一方面，第9圖(b)所示的氣泡類乃係因 在雙面貼合膜F105產生氣泡所形成的缺陷D。該氣泡有時會於有異物混入時將異物咬入至中心。另一方面，第9圖(c)所示的亮點類乃係在作為偏光膜的第1膜F101所產生的缺陷D，且為對偏光膜將檢偏器採用正交偏光配置時以亮點(漏光)的形式觀察到的缺陷D。另一方面，第9圖(d)所示的皺褶類的缺陷D乃係因在雙面貼合膜F105產生皺褶所形成的缺陷D。
在本實施形態中，係依據缺陷D的種類使隔著空白K的上游側的記號DM與下游側的記號DM中配置在上游側的記號DM的數目相異。例如，配置在上游側的記號DM的數目係在第9圖(a)所示的異物類時為三個，在第9圖(b)所示的氣泡類時為一個，在第9圖(c)所示的亮點類時為兩個，在第9圖(d)所示的皺褶類時為四個。藉此，能夠從配置在上游側的記號DM的數目容易地辨別缺陷D的種類。
此外，在本發明中，亦能夠藉由變更上述第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3其中任一印字樣式來記錄與缺陷D以外有關的資訊。
例如，就與缺陷D以外有關的資訊而言，能夠記錄製造條件、製造場所、同一種缺陷的發生頻度及其週期性的有無等製造資訊。此外，能夠藉由組合該等製造資訊來查出缺陷D的發生原因和場所、步驟等。藉此，能夠藉由進行缺陷D的肇因設備的維護(maintenance)等處置來減少缺陷D的發生。
此處，於第10圖(a)顯示在前述偏光膜的製造步驟中，在將保護膜(TAC)貼合到偏光體(PVA)兩面的步驟(第1步驟)中產生缺陷D1時的情形。此外，於第10圖(b)顯示在第1步驟之後，在將黏著劑與隔離膜(separator)貼合到其中一方保護膜(TAC)面上的步驟(第2步驟)中發生缺陷D2時的情形。
此外，對於在第1步驟中產生的缺陷D1，係印字例如第11圖(a)所示的第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2。另一方面，對於在第2步驟中產生的缺陷D2，係印字例如第11圖(b)所示的第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2。
此時，關於第11圖(a)及(b)所示的缺陷D1、D2的位置，係在隔著各自缺陷D1、D2的兩側印字第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2，並且在以一定之間隔排列的記號DM之間設置空白K，藉此能夠標示缺陷D1、D2的位置。
此外，針對記錄為缺陷D1、D2的資訊，係藉由第1印字樣式PT1與第2印字樣式PT2而記錄有缺陷D1、D2的種類(缺陷資訊)、及是否為在第1步驟與第2步驟中之任一步驟產生的缺陷D1、D2之資訊(製造資訊)。
具體而言，針對缺陷D1、D2的種類，係藉由構成第1及第2印字樣式PT1、PT2的記號DM的顏色進行區別。例如，能夠藉由例如穿透缺陷(藍)、正交偏光缺陷(紅)、反射缺陷(綠)之類記號DM的顏色的不同來識別 缺陷D1、D2的種類。
另一方面，在第1及第2印字樣式PT1、PT2，係藉由比空白K更上游側(記號DM的數目較少之側)的記號DM的數目，記錄是否為在第1步驟與第2步驟中之任一步驟產生的缺陷D1、D2之資訊。例如，當第1及第2印字樣式PT1、PT2的上游側的記號DM的數目為一個時，代表是在第1步驟中產生的缺陷D1；當為兩個時，代表是在第2步驟中產生的缺陷D2。
此外，除了第11圖(b)所示的第1及第2印字樣式PT1、PT2之外，亦可印字如第11圖(c)所示的第3印字樣式PT3。關於第3印字樣式PT3，係藉由記號DM的數目，記錄缺陷D2存在於積層而成的偏光膜中的第幾層之資訊(缺陷資訊)。例如，關於第11圖(c)所示的第3印字樣式PT3，係由三個記號DM所構成，故能夠辨別出缺陷D2存在於積層順序第三的層(TAC)。
如以上所述，在本發明中，係對偏光膜印字前述第1、第2及第3印字樣式PT3，藉此能夠標示缺陷D1、D2的位置並且記錄與該缺陷D1、D2有關的資訊等。
此外，在本發明中，例如，亦可如第12圖所示的第1印字樣式PT1及第2印字樣式PT2所示，將藉由設置前述空白K改為藉由縮小記號DM的間隔來標示缺陷D於雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)的位置。
此外，在本發明中，亦能夠將為了標示缺 陷D於雙面貼合膜F105的搬送方向(長邊方向)的位置而設置前述空白K(改變記號DM的間隔)改為改變記號DM的大小或使用第3印字樣式PT3來標示缺陷D的位置。
在本發明中，藉由前述第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3中之任一印字樣式的組合，例如能夠如第13圖(a)至(g)所示在缺陷D的周圍印字各式各樣的印字樣式。
其中，在第13圖(a)所示的印字樣式中，係由四個記號DM以四方包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(b)所示的印字樣式中，係由四個記號DM以三方包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(c)所示的印字樣式中，係由五個記號DM以鄰接的兩個邊包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(d)所示的印字樣式中，係由六個記號DM以鄰接的三個邊包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(e)所示的印字樣式中，係由十四個記號DM以四個邊包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(f)所示的印字樣式中，係由六個記號DM以相對向的兩個斜邊包圍缺陷D的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。另一方面，在第13圖(g)所示的印字樣式中，係由八個記號DM以四方包圍缺陷D 的周圍的方式印字第1、第2及第3印字樣式PT1至PT3。
另外，前述記錄裝置13雖係構成為配置在第2缺陷檢查裝置12的下游側，但亦能夠配置在第1缺陷檢查裝置11的下游側。此時，能夠在進行以第1缺陷檢查裝置11所做的缺陷檢查後，進行以記錄裝置13所做的缺陷資訊的記錄。
此外，關於前述記錄裝置13，並不限於在上述缺陷檢查後記錄缺陷資訊。例如有下述之情形：在長距離的搬送線中配置複數個記錄裝置，每隔一定距離進行距離資訊的記錄，且根據該所記錄的距離資訊進行距離的補正。關於如上述進行距離資訊之記錄的記錄裝置，例如將之配置在第1缺陷檢查裝置11的上游側等。
此外，關於前述記錄裝置13，並不限於構成為前述具備排列配置有複數個噴嘴部13b的複數個印字頭13a，例如當使用的是橫動(traverse)式的印字頭時，藉由對該印字頭進行移動操作，便能夠無關於膜的形狀和搬送方向地對缺陷部位施作標記。
另外，缺陷標記裝置10並不限於構成前述膜製造裝置100的一部分者，亦能夠採用從前述膜製造裝置100獨立出來的缺陷標記裝置。具體而言，係能夠構成為在搬送從第3原材捲R3捲送出的雙面貼合膜F105的期間，進行雙面貼合膜F105的缺陷檢查，並根據缺陷檢查的結果對雙面貼合膜F105的缺陷部位施作標記後再次捲收於芯材。
此外，亦可為在前述膜製造裝置100中不對缺陷部位施作標記，而是在追加的加工步驟中對缺陷部位施作標記。具體而言，亦可為在搬送從第3原材捲R3捲送出的雙面貼合膜F105的期間，在對雙面貼合膜F105的一面或兩面貼合其他膜後進行缺陷檢查，合併前述膜製造裝置100的缺陷檢查的結果對缺陷部位施作標記。
另外，針對作為本發明的檢查對象(被檢查物)之原材，未必限於前述偏光膜、相位差膜、亮度提升膜之類的光學膜，只要為對缺陷部位施作標記的膜和紙等長帶狀原材即可。
此外，就本發明的檢查對象(被檢查物)而言，亦可為藉由切割長帶狀原材而得的片(料片)。亦即，在本發明中，並不限於在搬送前述原材的期間進行原材的缺陷檢查而根據該缺陷檢查的結果對原材的缺陷部位施作標記，亦可為在切割後進行片的缺陷檢查，並根據該缺陷檢查的結果對片的缺陷部位施作標記。此外，亦可為在實施片的缺陷檢查與對片的缺陷部位之標記的期間，對片施行加工處理(例如，其他膜的貼合、片的表面處理等)。藉此，與被檢查物為原材的情形同樣地，對屬於被檢查物之片使用本發明的缺陷標記方法(裝置)而能夠標示缺陷的位置，並且記錄與該缺陷有關的資訊等。此外，本發明係除了適用於前述原材和片，還能夠廣泛地適用於能夠適用本發明者。
D‧‧‧缺陷
DM‧‧‧點狀的記號
K‧‧‧空白
PT1‧‧‧第1印字樣式
PT2‧‧‧第2印字樣式
T1、T2‧‧‧間隔

Claims (18)

  1. 一種缺陷標記方法，係對被檢查物的缺陷部位施作標記，其中，以使缺陷位於在與前述被檢查物面內的一個方向交叉的另一個方向相鄰的第1印字樣式與第2印字樣式之間的方式，將前述第1印字樣式及前述第2印字樣式印字在前述被檢查物的表面，前述第1印字樣式及前述第2印字樣式係分別藉由沿前述一個方向排列且至少變更了一部分的間隔的複數個記號所構成，將前述複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白係配置於與前述缺陷在前述另一個方向相鄰的位置，而標示出前述缺陷於前述一個方向的位置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷標記方法，其中，藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式，記錄與前述缺陷有關的資訊。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之缺陷標記方法，其中，沿前述一個方向將複數個點狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之缺陷標記方法，其中，沿前述一個方向將複數個線狀的記號排列而做印字，做為前述其中任一者或兩者的印字樣式。
  5. 如申請專利範圍第3項或第4項所述之缺陷標記方法，其中，藉由變更了前述記號的數目、前述間隔、尺寸、 顏色其中任一者以上之印字樣式，記錄與前述缺陷有關的資訊。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之缺陷標記方法，其中，將在前述另一個方向與前述第1印字樣式和前述第2印字樣式其中任一者或兩者相鄰的第3印字樣式予以印字，藉此記錄與前述缺陷有關的資訊。
  7. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之缺陷標記方法，其中，藉由前述任一者的印字樣式，記錄與前述缺陷以外有關的資訊。
  8. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之缺陷標記方法，其中，使用能夠消除的墨水將前述印字樣式做印字。
  9. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之缺陷標記方法，其中，對作為前述被檢查物而沿前述一個方向搬送的長帶狀原材的缺陷部位施作標記。
  10. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之缺陷標記方法，其中，對作為前述被檢查物而藉由切割長帶狀原材而得的片的缺陷部位施作標記。
  11. 一種原材的製造方法，係包含下列步驟：對沿一個方向搬送的長帶狀原材進行缺陷檢查之步驟；及使用申請專利範圍第9項所述之缺陷標記方法對前述原材的缺陷部位施作標記之步驟。
  12. 一種片的製造方法，係包含下列步驟：對藉由切割長帶狀原材而得的片進行缺陷檢查之 步驟；及使用申請專利範圍第10項所述之缺陷標記方法對前述片的缺陷部位施作標記之步驟。
  13. 一種缺陷標記裝置，係具備對被檢查物的缺陷部位施作標記的印字裝置；前述印字裝置係具有：沿與前述被檢查物面內的一個方向交叉的另一個方向以預定之間隔排列配置，並且對前述被檢查物的表面將印字樣式做印字的複數個印字部；及控制前述複數個印字部之驅動的控制部；前述控制部係以使缺陷位於在前述另一個方向相鄰的第1印字樣式與第2印字樣式之間的方式，進行用以選擇將前述第1印字樣式及前述第2印字樣式做印字的印字部之控制，前述第1印字樣式及前述第2印字樣式係分別藉由沿前述一個方向排列且至少變更了一部分的間隔的複數個記號所構成，將前述複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白係配置於與前述缺陷在前述另一個方向相鄰的位置，而標示出前述缺陷於前述一個方向的位置。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之缺陷標記裝置，其中，前述控制部係對前述所選擇的任一者或兩者的印字部，因應要記錄的與前述缺陷有關的資訊，進行用以變更前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式之控制。
  15. 一種原材，係於缺陷部位施作有標記的長帶狀原材；前述原材係具有藉由前述標記而在表面被印字之在前述原材之短邊方向相鄰的第1印字樣式及第2印字樣式，且使缺陷位於前述第1印字樣式與前述第2印字樣式之間，前述第1印字樣式及前述第2印字樣式係分別藉由沿前述原材之長邊方向排列且至少變更了一部分的間隔的複數個記號所構成，且將前述複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白係配置於與前述缺陷在前述短邊方向相鄰的位置，而標示出前述缺陷於前述長邊方向的位置。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之原材，其中，藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
  17. 一種片，係於缺陷部位施作有標記；前述片係具有藉由前述標記而在表面被印字之在與一個方向交叉的另一個方向相鄰的第1印字樣式及第2印字樣式，且使缺陷位於前述第1印字樣式與前述第2印字樣式之間，前述第1印字樣式及前述第2印字樣式係分別藉由沿前述一個方向排列且至少變更了一部分的間隔的複數個記號所構成，將前述複數個記號的至少一部分的間隔空出而形成的空白係配置於與前述缺陷在前述另一個方向相鄰 的位置，而標示出前述缺陷於前述一個方向的位置。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之片，其中，藉由前述第1印字樣式與前述第2印字樣式其中任一者或兩者的印字樣式，記錄有與前述缺陷有關的資訊。
TW107106823A 2017-03-03 2018-03-01 缺陷標記方法及缺陷標記裝置、原材的製造方法及原材，以及片的製造方法及片 TWI766952B (zh)

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