TW201640100A - 積層光學膜之缺陷檢查方法、光學膜之缺陷檢查方法及積層光學膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之一實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法包含：第1檢查步驟，其進行光學膜11之缺陷檢查；積層光學膜形成步驟，其使保護膜12及黏著材料13貼合於光學膜11而形成積層光學膜10A、10B；第1標記步驟，其對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷20而於積層光學膜10A進行(標記30之)標記；第2檢查步驟，其進行積層光學膜10B之缺陷檢查；及第2標記步驟，其對應於第2檢查步驟中所檢測出之缺陷21而於積層光學膜10B進行(標記31之)標記；且於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記30進行檢測。

Description

積層光學膜之缺陷檢查方法、光學膜之缺陷檢查方法及積層光學膜之製造方法
本發明係關於一種積層光學膜之缺陷檢查方法及光學膜之缺陷檢查方法，亦係關於一種積層光學膜之製造方法。
作為具有光學特性之光學膜，已知具有偏光特性之偏光板、具有雙折射性之相位差板等。例如，作為偏光板，已知於作為光學膜本體之偏光元件(Polyvinyl Alcohol：PVA，聚乙烯醇)之主面兩側貼合TAC(Triacetyl Cellulose，三乙酸纖維素)膜而成者。作為相位差板，已知相位差板由光學膜本體單獨構成者。此種光學膜亦存在貼合保護膜、或貼合附有分離膜之狀態之黏著材料而形成積層光學膜之情況。
於此種光學膜及積層光學膜中，例如若於上述貼合時於內部或表面混入異物或氣泡，則會產生光學性缺陷。於專利文獻1~2中，揭示有對此種光學膜及積層光學膜之缺陷進行檢查之方法。
若藉由此種缺陷檢查方法檢測出缺陷，則對應於缺陷而例如以包圍缺陷之方式於光學膜及積層光學膜之表面上進行標記，被施以標記之區域不作為製品使用。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-69142號公報
[專利文獻2]日本專利特開2011-65184號公報
於此種缺陷檢查方法中，要求不過多或過少而準確地數出缺陷之數量。又，要求所標記出之標記為與缺陷之大小對應之大小。
此外，於此種光學膜及積層光學膜之缺陷檢查中，存在進行2次以上之缺陷檢查之情況。例如，存在如下情況，即，每次貼合光學膜及積層光學膜之各層均進行缺陷檢查，或為檢測不同之缺陷而進行不同之檢查方法。
然而，於進行2次以上之缺陷檢查之情形時存在如下問題，即，於第2次以後之檢查中將於前次以前標記出之標記檢測為缺陷，對應於此而進行(例如以包圍缺陷之方式)標記，其結果，最終標記尺寸變大。
因此，本發明之目的在於提供一種積層光學膜之缺陷檢查方法及光學膜之缺陷檢查方法，於進行2次以上之缺陷檢查時，可防止對與於前次以前檢測出之缺陷對應之標記進行檢測。又，本發明之目的亦在於提供一種積層光學膜之製造方法。
本發明之積層光學膜之缺陷檢查方法係一面使保護膜及黏著材料之至少一者貼合於光學膜而獲得積層光學膜，一面對積層光學膜中之缺陷進行檢查之方法，且包含：第1檢查步驟，其進行光學膜之缺陷檢查；積層光學膜形成步驟，其使保護膜及黏著材料之至少一者貼合於光學膜而形成積層光學膜；第1標記步驟，其對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜進行標記；第2檢查步驟，其進行積層光學膜之缺陷檢查；及第2標記步驟，其對應於第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜進行標記；且於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。
根據該積層光學膜之缺陷檢查方法，於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。藉此，於進行2次以上之缺陷檢查時，可防止對與於前次以前檢測出之缺陷對應之標記進行檢測。
上述第1檢查步驟中之缺陷檢查方法與上述第2檢查步驟中之缺陷檢查方法既可相同，亦可不同。
本發明之光學膜之缺陷檢查方法係對光學膜之缺陷進行檢查之方法，且包含：第1檢查步驟，其進行光學膜之缺陷檢查；第1標記步驟，其對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於光學膜進行標記；第2檢查步驟，其進行光學膜之缺陷檢查、且為與第1檢查步驟中之缺陷檢查不同之缺陷檢查；第2標記步驟，其對應於第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於光學膜進行標記；且於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。
本發明中之光學膜之概念為不僅包括由光學膜本體構成之單層光學膜，亦包括包含光學膜本體之光學膜、及使保護膜及黏著材料之至少任一者貼合於該光學膜而形成之積層光學膜。
於該光學膜之缺陷檢查方法中，亦於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記進行檢測，因此於進行2次以上之缺陷檢查時，可防止對與於前次以前檢測出之缺陷對應之標記進行檢測。
本發明之積層光學膜之製造方法係使保護膜及黏著材料之至少一者貼合於光學膜而製造積層光學膜之方法，且包含上述之積層光學膜之缺陷檢查方法。根據該積層光學膜之製造方法，可獲得與上述之積層光學膜之缺陷檢查方法相同之優點。
根據本發明，於進行2次以上光學膜及積層光學膜之缺陷檢查時，可防止對與於前次以前檢測出之缺陷對應之標記進行檢測，其結 果，可防止最終標記尺寸變大，從而可防止光學膜之產率降低。
10A‧‧‧積層光學膜
10B‧‧‧積層光學膜
10a‧‧‧積層光學膜之一主面
10b‧‧‧積層光學膜之另一主面
11‧‧‧光學膜
11a‧‧‧光學膜之一主面
11b‧‧‧光學膜之另一主面
12‧‧‧保護膜
13‧‧‧附有分離膜之黏著材料
14‧‧‧分離膜
15‧‧‧黏著材料
20‧‧‧缺陷
21‧‧‧缺陷
25‧‧‧缺陷
30‧‧‧標記
31‧‧‧標記
101‧‧‧原片輥
102‧‧‧原片輥
103‧‧‧貼合輥
104‧‧‧原片輥
105‧‧‧原片輥
106‧‧‧貼合輥
107‧‧‧原片輥
111‧‧‧透過檢查器
113‧‧‧噴墨印刷器
115‧‧‧檢查器(透過檢查器或反射檢查器)
119‧‧‧噴墨印刷器
圖1係表示本發明之第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。
圖2係表示本發明之第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。
圖3係用以說明本發明之第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法中之第1標記步驟之圖，且係表示積層光學膜之一主面之圖。
圖4係沿圖3之IV-IV線之積層光學膜之剖視圖。
圖5係用以說明本發明之第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法中之第2標記步驟之圖，且係表示積層光學膜之一主面之圖。
圖6係沿圖5之VI-VI線之積層光學膜之剖視圖。
圖7係用以說明先前之缺陷檢查方法中之最初之標記步驟之圖，且係表示先前之缺陷檢查方法中之積層光學膜之一主面之圖。
圖8係沿圖7之VIII-VIII線之積層光學膜之剖視圖。
圖9係用以說明先前之缺陷檢查方法中之圖7所示之標記步驟之後之標記步驟之圖，且係表示先前之缺陷檢查方法中之積層光學膜之一主面之圖。
圖10係沿圖9之X-X線之積層光學膜之剖視圖。
圖11係表示本發明之第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。
圖12係表示本發明之第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。
圖13係用以說明本發明之第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法中之第1標記步驟之圖，且係表示積層光學膜之一主面之圖。
圖14係沿圖13之XIV-XIV線之積層光學膜之剖視圖。
圖15係用以說明本發明之第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法中之第2標記步驟之圖，且係表示積層光學膜之一主面之圖。
圖16係沿圖15之XVI-XVI線之積層光學膜之剖視圖。
以下，參照圖式對本發明之較佳實施形態詳細地進行說明。於各圖式中對於相同或相當之部分標註相同之符號。
[第1實施形態]
圖1及圖2係表示本發明之第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。圖3及圖5係表示圖1所示之缺陷檢查方法之不同步驟中的積層光學膜之一主面之圖，圖4及圖6係圖3及圖5所示之積層光學膜之剖視圖。於圖1~圖6中，表示XY平面座標。X方向表示積層光學膜之寬度方向，Y方向表示積層光學膜之長度方向。
首先，如圖1所示，自原片輥101送出光學膜11。光學膜11包含具有光學特性之光學膜本體。作為光學膜11，可列舉具有偏光特性之偏光板、具有雙折射性之相位差板等。例如，於光學膜11為偏光板之情形時，包含作為光學膜本體之偏光元件(Polyvinyl Alcohol：PVA)，且於該偏光元件之主面兩側貼合有TAC(Triacetyl Cellulose)膜。另一方面，於光學膜11為相位差板之情形時，相位差板相當於光學膜本體。
繼而，藉由配置於光學膜11之另一主面11b側之光源(未圖示)而對光學膜11照射光，且藉由配置於光學膜11之一主面11a側之透過檢查器111而接收透過光學膜11之光，並基於所接收之透過光而進行光學膜11之缺陷檢查(第1檢查步驟，透過檢查)。
繼而，自原片輥102送出保護膜12，並將保護膜12積層於光學膜11之一主面11a側。作為保護膜12，可使用PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜等。繼而，藉由貼合輥103使光學膜11與保護膜12貼合而形成積層光學膜10A。
繼而，使用配置於積層光學膜10A之保護膜12側之噴墨印刷器113(藉由滴液法)，對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜10A之保護膜12側的表面進行標記(第1標記步驟)。
例如，如圖3及圖4所示，於檢測出因異物混入於積層光學膜10A內部而產生之3個缺陷20之情形時，對該等缺陷20之各者於X方向之兩側分別沿Y方向標記出線狀之標記30，藉此以夾入缺陷20之方式，換言之以包圍缺陷20之方式，於積層光學膜10A之保護膜12側之表面進行標記。
於圖4中，概略性地僅表示圖3中之1個缺陷20，並且概略性地表示與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。於圖1中，概略性地僅表示圖3中之1個缺陷20、及與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。
繼而，將積層光學膜10A捲取於原片輥104上。
繼而，如圖2所示，自原片輥104送出積層光學膜10A，又，自原片輥105送出分離膜(脫模膜)14貼合於黏著材料15而成之附有分離膜之黏著材料13，並將附有分離膜之黏著材料13積層於積層光學膜10A之光學膜11側。作為分離膜之材料，可使用PET(Polyethylene Terephthalate)等。繼而，藉由貼合輥106使積層光學膜10A與附有分離膜之黏著材料13貼合，而形成積層光學膜10B。
繼而，藉由配置於積層光學膜10B之另一主面10b側(附有分離膜之黏著材料13側)之光源(未圖示)對積層光學膜10B照射光，且藉由配置於積層光學膜10B之一主面10a側(保護膜12側)之檢查器115而接收透過積層光學膜10B之光，並基於所接收之透過光而進行積層光學膜10B之缺陷檢查(第2檢查步驟，透過檢查)。於第1實施形態中，檢查器115為透過檢查器。
於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記30進行檢測。例如，藉由使用噴墨印刷器之滴液法而形成之標記30通常較 欲藉由使用透過檢查器之檢查而檢測之缺陷大。因此，於檢查器115中，能夠根據例如大小而識別標記30。或者，檢查器115亦可基於第1標記步驟中所標記出之標記30之形狀而辨別標記30。檢查器115可具備過濾器部，該過濾器部將檢查器115所接收之上述透過光具有之資訊中與標記30相關之資訊除去。
繼而，使用配置於積層光學膜10B之一主面10a側之噴墨印刷器119(藉由滴液法)，對應於第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜10B之一主面10a側的表面進行標記(第2標記步驟)。
例如，如圖5及圖6所示，於檢測出因異物混入於積層光學膜10B內部而產生之2個缺陷21之情形時，對該等缺陷21之各者於X方向之兩側分別沿Y方向標記出線狀之標記31，藉此以夾入缺陷21之方式，換言之以包圍缺陷21之方式，於積層光學膜10B之一主面10a側之表面進行標記。
於圖6中，與圖4同樣地，概略性地僅表示圖3中之1個缺陷20，並且概略性地表示與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。於圖6中，概略性地僅表示圖5中之1個缺陷21，並且概略性地表示與該缺陷21對應之2個線狀之標記31。又，於圖2中，與圖1同樣地，概略性地僅表示圖5中之1個缺陷20或21、及與該缺陷20或21對應之2個線狀之標記30或31。
繼而，將積層光學膜10B捲取於原片輥107。
圖7及圖9係表示先前之缺陷檢查方法之不同步驟中的積層光學膜之一主面之圖，圖8及圖10係圖7及圖9所示之積層光學膜之剖視圖。
於先前之缺陷檢查方法中，於不具備如下功能之點與本實施形態之缺陷檢查方法不同，即，該功能為於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。
即，如圖9及圖10所示，於先前之缺陷檢查方法中，會於第2檢查步驟中將於第1標記步驟中形成之標記30檢測為缺陷。其結果，於第2標記步驟中，會對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷20及第1標記步驟中所形成之標記30，而以夾入該等缺陷20及標記30之方式，換言之以包圍缺陷20及標記30之方式形成標記31。
如此，於先前之缺陷檢查方法中，於進行2次以上之缺陷檢查之情形時存在如下問題，即，於第2次以後之檢查中將於前次以前標記出之標記檢測為缺陷，且對應於此而於缺陷之附近進而進行標記，其結果，最終標記尺寸變大，從而光學膜之產率降低。
然而，根據第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法，於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記30進行檢測，因此於進行2次以上之缺陷檢查時，可防止對與於前次以前檢測出之缺陷對應之標記30進行檢測。其結果，可精度良好地求出缺陷率，又，可防止最終標記尺寸變大，從而可防止光學膜之產率降低。
[第1實施形態之變化例]
於第1實施形態中，例示了於使保護膜12及附有分離膜之黏著材料13貼合於光學膜11之步驟之前與之後進行複數次同一種類之缺陷檢查(透過檢查)之方法，但本發明之思想如以下所詳細說明般，亦可應用於組合進行不同種類之缺陷檢查之形態，例如於第1實施形態中進行透過檢查作為第1檢查步驟、且進行反射檢查作為第2檢查步驟之形態。
[第2實施形態]
於第1實施形態中，例示了於使保護膜12及附有分離膜之黏著材料13貼合於光學膜11之步驟之前與之後進行複數次缺陷檢查之方法，但本發明之思想亦可應用於對同一積層光學膜進行複數次缺陷檢查之方法。
例如，存在對同一積層光學膜組合進行不同檢查(例如，透過檢查及反射檢查)之情形。例如，透過檢查適於混入至光學膜內部之黑色系之異物之檢測，但難以檢測出混入至光學膜表面之小氣泡。另一方面，反射檢查適於混入至光學膜表面之小氣泡之檢測，但難以檢測出混入至光學膜內部之黑色系之異物。
以下，例示對同一積層光學膜組合進行不同檢查之缺陷檢查方法。於該第2實施形態中，例示積層光學膜之缺陷檢查方法，但本發明之思想亦可應用於對單層光學膜組合進行不同檢查之缺陷檢查方法。
圖11及圖12係表示本發明之第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法之圖。圖13及圖15係表示圖11及圖12所示之缺陷檢查方法之不同步驟中的積層光學膜之一主面之圖，圖14及圖16係圖13及圖15所示之積層光學膜之剖視圖。
首先，如圖11所示，自原片輥101送出積層光學膜10B。然後，藉由配置於積層光學膜10B之另一主面10b側之光源(未圖示)而對積層光學膜10B照射光，且藉由配置於積層光學膜10B之一主面10a側之透過檢查器111而接收透過積層光學膜10B之光，並基於所接收之透過光而進行積層光學膜10B之缺陷檢查(第1檢查步驟，透過檢查)。
繼而，使用配置於積層光學膜10B之一主面10a側之噴墨印刷器113(藉由滴液法)，對應於第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜10A之一主面10a側的表面進行標記(第1標記步驟)。
例如，如圖13及圖14所示，於檢測出因異物混入於積層光學膜10B內部而產生之3個缺陷20之情形時，對該等缺陷20之各者於X方向之兩側分別沿Y方向標記出線狀之標記30，藉此以夾入缺陷20之方式，換言之以包圍缺陷20之方式於積層光學膜10B之一主面10a側之表面進行標記。
於圖14中，概略性地僅表示圖13中之1個缺陷20，並且概略性地表示與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。於圖11中，概略性地僅表示圖13中之1個缺陷20、及與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。
繼而，將積層光學膜10B捲取於原片輥104上。
繼而，如圖12所示，自原片輥104送出積層光學膜10B。繼而，藉由配置於積層光學膜10B之一主面10a側之光源(未圖示)而對積層光學膜10B照射光，且藉由配置於積層光學膜10B之一主面10a側之檢查器115而接收於積層光學膜10B之一主面10a反射之光，並基於所接收之反射光而進行積層光學膜10B之缺陷檢查(第2檢查步驟，反射檢查)。於第2實施形態中，檢查器115為反射檢查器。
於第2檢查步驟中，不對已於第1標記步驟中標記出之標記30進行檢測。即，於第2檢查步驟中，對未於第1檢查步驟中檢測出而於第2檢查步驟中首次檢測出之缺陷25進行檢測(參照圖15及圖16)。於檢查器115中，用以不對標記30進行檢測之方法可與第1實施形態相同。即，檢查器115亦可根據標記30之大小、形狀等而對其進行辨別。檢查器115可具備過濾器部，該過濾器部自被接收之反射光中所含之資訊將與標記30相關之資訊除去。
繼而，使用配置於積層光學膜10B之一主面10a側之噴墨印刷器119(藉由滴液法)，對應於第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於積層光學膜10B之一主面10a側的表面進行標記(第2標記步驟)。
例如，如圖15及圖16所示，於檢測出因氣泡混入於積層光學膜10B表面而產生之2個缺陷25之情形時，對該等缺陷25之各者於X方向之兩側分別沿Y方向標記出線狀之標記31，藉此以夾入缺陷25之方式，換言之以包圍缺陷25之方式於積層光學膜10B之一主面10a側之表面進行標記。
於圖16中，與圖14同樣地，概略性地僅表示圖13中之1個缺陷 20，並且概略性地表示與該缺陷20對應之2個線狀之標記30。於圖16中，概略性地僅表示圖15中之1個缺陷25，並且概略性地表示與該缺陷25對應之2個線狀之標記31。於圖12中，與圖11同樣地，概略性地僅表示圖15中之1個缺陷20或25、及與該缺陷20或25對應之2個線狀之標記30或31。
繼而，藉由原片輥107捲取積層光學膜10B。
於該第2實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法中，亦可獲得與第1實施形態之積層光學膜之缺陷檢查方法及製造方法相同之優點。
本發明並不限定於上述本實施形態而可進行各種變化。例如，於本實施形態中，例示了進行2次缺陷檢查之形態，但本發明之思想亦可應用於進行3次以上缺陷檢查之形態。
於本實施形態中，作為缺陷檢查之種類例示了透過檢查及反射檢查，但缺陷檢查之種類並不限定於此。本發明之思想亦可應用於包含正交偏光檢查等之缺陷檢查方法。
10B‧‧‧積層光學膜
20‧‧‧缺陷
21‧‧‧缺陷
30‧‧‧標記
31‧‧‧標記

Claims (5)

  1. 一種積層光學膜之缺陷檢查方法，其係一面使保護膜及黏著材料之至少一者貼合於光學膜而獲得積層光學膜，一面對上述積層光學膜中之缺陷進行檢查者，且包含：第1檢查步驟，其進行上述光學膜之缺陷檢查；積層光學膜形成步驟，其使上述保護膜及上述黏著材料之至少一者貼合於上述光學膜而形成上述積層光學膜；第1標記步驟，其對應於上述第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於上述積層光學膜進行標記；第2檢查步驟，其進行上述積層光學膜之缺陷檢查；及第2標記步驟，其對應於上述第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於上述積層光學膜進行標記；且於上述第2檢查步驟中，不對已於上述第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。
  2. 如請求項1之積層光學膜之缺陷檢查方法，其中上述第1檢查步驟中之缺陷檢查方法與上述第2檢查步驟中之缺陷檢查方法相同。
  3. 如請求項1之積層光學膜之缺陷檢查方法，其中上述第1檢查步驟中之缺陷檢查方法與上述第2檢查步驟中之缺陷檢查方法不同。
  4. 一種光學膜之缺陷檢查方法，其係對光學膜之缺陷進行檢查者，且包含：第1檢查步驟，其進行上述光學膜之缺陷檢查；第1標記步驟，其對應於上述第1檢查步驟中所檢測出之缺陷而於上述光學膜進行標記； 第2檢查步驟，其進行上述光學膜之缺陷檢查、且為與上述第1檢查步驟中之缺陷檢查不同之缺陷檢查；第2標記步驟，其對應於上述第2檢查步驟中所檢測出之缺陷而於上述光學膜進行標記；且於上述第2檢查步驟中，不對已於上述第1標記步驟中標記出之標記進行檢測。
  5. 一種積層光學膜之製造方法，其係使保護膜及黏著材料之至少一者貼合於光學膜而製造積層光學膜者，且包含如請求項1至3中任一項之積層光學膜之缺陷檢查方法。
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