TW201616600A - 基板保持裝置與方法、及基板檢查裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於提供一種即使可處理之基板外周部之處理對象外區域較狹窄，亦可矯正產生翹曲及彎曲之基板的翹曲及彎曲而保持基板的裝置及方法。 本發明係一種基板保持裝置，其係保持基板者，且包含：框體，其具有較設定於基板之處理對象區域大之開口部；引導部，其以至少3點支撐較處理對象區域外側；定位保持部，其藉由自至少3方向自外側向內側按壓基板之外緣而定位保持；且引導部及定位保持部以分別包圍基板之外緣之方式配置，定位保持部與基板之外緣接觸之部分，係遍及上端部及下端部向基板之內側傾斜。

Description

基板保持裝置與方法、及基板檢查裝置

本發明係關於一種於處理基板(例如，於基板施加成膜、曝光、顯像、蝕刻、加工等，或檢查基板，或定位基板)時，進行基板之保持之基板保持裝置。尤其，關於一種只允許與較設定於基板內側之處理對象區域外側即基板外周部接觸及保持之基板之保持裝置與方法、及具備該裝置之基板檢查裝置。

根據先前，於矽晶圓之缺陷檢查裝置中，藉由支撐晶圓邊緣所設之錐形部或不影響缺陷檢查之範圍之邊緣部(即，基板外周部)之晶圓載置臺而保持(例如，專利文獻1)。

又，於檢查半導體晶圓及玻璃基板等之面上之缺陷、污垢等之裝置中，使用複數個固定限制構件、與其等對向配置之複數個可動限制構件、及負壓吸引基板外周部之下表面之吸附機構而保持基板(例如，專利文獻2)。

進而，於檢查矽晶圓之正背面之裝置中，提案有以具備引導輥之機械手把持晶圓之外周部，且藉由將晶圓設為鉛直狀態，可防止因自重而彎曲之技術(例如，專利文獻3)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2010-8392號公報

[專利文獻2]日本特開2003-27155號公報

[專利文獻3]日本特開平11-219990號公報

然而，於先前技術之情形時，由於將平面基板之保持作為前提，故對容易產生翹曲及彎曲之基板，無法進行期望之處理。

例如，於專利文獻1之技術中，若載置容易產生翹曲及彎曲之基板，則基板端部之任一者將浮起，於移動時，基板有偏移或自載置臺脫離之虞。

另一方面，於專利文獻2之技術中，若載置容易產生翹曲及彎曲之基板，則外周部之任一者將浮起，產生間隙而無法吸附。若為了吸附而需要較廣之範圍，則可能與檢查對象區域產生干涉。

另一方面，於專利文獻3之技術中，即使可防止基板之因自重而彎曲，亦無法矯正自最初產生翹曲及彎曲之基板。

因此，本發明之目的在於提供一種即使可處理之基板外周部之處理對象外區域較狹窄，亦可邊矯正產生翹曲及彎曲之基板的翹曲及彎曲，邊保持基板之裝置及方法。

為了解決上述課題，本發明之一觀點之態樣係一種基板保持裝置，其係保持基板者，且包含：引導部，其以至少3點支撐較設定於上述基板之處理對象區域更外側；基板保持部，其藉由基板保持構件自至少3方向將上述基板之外緣自外側向內側按壓，藉此保持上述基板；且上述引導部及上述基板保持構件以分別包圍上述基板之外緣之方式而配置，上述基板保持構件具有將上述基板之外緣限制位置於鉛直方向 之位置限制部。

又，本發明之其他之一觀點之態樣係一種基板保持方法，其係保持基板者，且使用以包圍上述基板之外緣之方式配置之至少3個引導部，邊使上述基板之外緣沿著上述引導部之內側面，邊使該基板之外緣或外緣下表面部接近而接觸該引導部之下端部，且藉由以包圍該基板之外緣之方式而配置且與上述基板之外緣接觸之部分為遍及上端部及下端部向上述基板之內側傾斜之構件，自至少3方向自上述基板之外緣之外側向內側按壓。

根據該等態樣，於接近基板外緣並按壓時，以基板保持構件之傾斜上端不及下端部以矯正該基板之外緣翹曲及彎曲之方式接近而保持基板。

又，本發明之其他之一觀點之態樣係一種基板檢查裝置，其特徵在於包含：基板保持裝置，其包含具有較設定於上述基板之處理對象區域更大之開口部之框體，且上述引導部與上述基板保持部經由該框體而連結；照明部，其向設定於上述基板之檢查對象部位照射照明光；攝像部，其拍攝設定於上述基板之檢查對象部位；及檢查部，其基於上述攝像部拍攝之圖像，檢查上述檢查對象部位；且上述照明部與上述攝像部隔著上述檢查對象部位而對向配置。

根據該態樣，於基板保持部接近而按壓基板之外緣時，基板保持部之傾斜之上端部及下端部以矯正該基板之外緣之翹曲及彎曲之方式而接近。然後，以該狀態保持基板，進行特定之檢查。

即使可處理之基板外周部之處理對象外區域較狹窄，亦可矯正 產生翹曲及彎曲之基板的翹曲及彎曲而保持基板。

1‧‧‧基板保持裝置(圓形基板用)

1A‧‧‧基板保持裝置(圓形基板用)

1B‧‧‧基板保持裝置(矩形基板用)

2‧‧‧框體

2B‧‧‧框體

3‧‧‧引導部

3A‧‧‧引導部

3B‧‧‧引導部

4‧‧‧基板保持部

4B‧‧‧基板保持部

20‧‧‧開口部

21‧‧‧框架部

30‧‧‧引導本體部

31‧‧‧引導部之上端部

32‧‧‧引導本體部

33‧‧‧引導部之內側面

34‧‧‧引導部之下端部

35‧‧‧引導部與基板之外緣接觸之部分

40‧‧‧基板保持構件

41‧‧‧基板保持構件之上端部

42‧‧‧基板保持構件之下端部

43‧‧‧基板保持構件之內側面

45‧‧‧基板保持構件與基板之外緣接觸之部分

50‧‧‧定位基準側往復動機構

51‧‧‧待機位置

52‧‧‧基準位置

53‧‧‧箭頭(往復動作之方向)

54‧‧‧機械制動器

55‧‧‧定位按壓側往復機構

56‧‧‧待機位置

57‧‧‧基板壓入位置

58‧‧‧箭頭(往復動作之方向)

90‧‧‧基板檢查裝置

91‧‧‧照明部

92‧‧‧攝像部

93‧‧‧檢查部

94‧‧‧照明光(透過照明光)

95‧‧‧檢查對象部位

96‧‧‧通過檢查對象部位後之光

W‧‧‧基板(處理對象，圓形)

We‧‧‧基板之外緣

Wfc‧‧‧定向平面

Wi‧‧‧基板(檢查對象)

Wp‧‧‧處理對象區域

Wq‧‧‧檢查對象區域

Wr‧‧‧基板(處理對象，矩形)

Wr1‧‧‧基板之第1基準邊

Wr2‧‧‧基板之第2基準邊

圖1係顯示使本發明具體化之形態之一例之整體構成之立體圖。

圖2係顯示使本發明具體化之形態之一例之剖視圖。

圖3係顯示使本發明具體化之形態之一例之主要部分之剖視圖。

圖4係顯示使本發明具體化之形態之另一例之俯視圖。

圖5係顯示使本發明具體化之形態之進而其他例之整體構成之俯視圖。

圖6(a)~(n)係顯示引導部之變化例之立體圖。

圖7係顯示使本發明具體化之其他形態之一例之整體構成之概略圖。

以下，對用以實施本發明之具體形態，邊使用圖式邊說明。

再者，於各圖中，將正交座標系之3軸設為X、Y、Z，將YY平面設為水平面，Z方向設為鉛直方向。Z方向表示為將箭頭之方向設為上，而將其相反方向設為下。

於以下之說明中，作為成為特定之處理對象之基板之一例，例示圓形之矽晶圓(以下，簡稱為基板W)。再者，於基板W之外緣之一部分存在稱為凹口及定向面之凹部及平坦部。

圖1係顯示使本發明具體化之形態之一例之整體構成之立體圖。

本發明之基板保持裝置1構成為具備：框體2、引導部3、及基板保持部4。該基板保持裝置1係將藉由人手或移載機器人等搬送之基板W，以維持一定之姿勢之狀態而保持者。進而，該基板保持裝置1係即使於處理中，使基板W移動或靜止，亦能以不會意外地位置偏移或脫落之方式而持續保持，且完成指定之處理後解除保持者。

框體2係為了將基板W以維持為一定姿勢之狀態而保持，用於安 裝後述之引導部3等之構件。框體2設有開口部20，該開口部20將基板W之外緣We、或較設定於基板W之處理對象區域Wp外側作為內緣，且以可對於基板W進行特定處理之方式而構成。於圖1中，框體2之上下表面顯示為大致配置於水平方向之狀況。

引導部3係於將基板W載置於基板保持裝置1時，以基板W之外緣We收容於特定範圍內之方式而限制水平方向之位置，且限制基板W之外緣We之上下方向之位置者。引導部3係構成為以至少3點支撐較基板W之處理對象區域Wp外側。進而，引導部3以包圍基板W之外緣We之方式而配置，安裝於框體2。於圖1中，顯示引導部3以包圍基板W之外緣We之狀態，配置於4處之狀況。

具體而言，引導部3係大致L字型之外形，且由自下方支撐基板W之外緣We或外緣下表面部之構件、及延伸於鉛直上方之構件構成。再者，將延伸於該鉛直上方之構件之上端部，稱為引導部之上端部31；將自下方支撐基板W之外緣We或外緣下表面部之構件，稱為引導部之下端部34；將該等引導部之上端部31與引導部之下端部34之間，稱為引導本體部32；將引導本體部32之基板W側之側面，稱為引導部之內側面33。再者，引導部之下端部34以朝向基板W之內側之狀態而配置。

於各引導部之內側面33與基板W之外緣We，分別設定特定之間隔(所謂之間隙)。引導部之下端部34係配置為水平方向較基板W之外緣We位於基板W內側，且較基板W之處理對象區域Wp外側。又，各引導部之下端部34以分別自上下方向觀察，與其上表面或基板W之外緣We接觸之部分係配置為大致於同一水平面(即，與框體2之上下表面平行之面)，且具有為了基板W不會進一步朝下方移動而限制上下方向之位置之功能。

因此，即使於基板W產生翹曲及彎曲，亦可藉由加上基板W之自 重，使引導部3以4處所配置之引導部3中之至少3點，支撐較基板W之處理對象區域Wp外側。

圖2係顯示使本發明具體化之形態之一例之剖視圖，顯示有自y方向觀察於圖1中圖示之基板保持裝置1之各部之剖視圖。

圖3係顯示使本發明具體化之形態之一例之主要部分之剖視圖，顯示構成本發明之基板保持部4之一者與基板W之外緣We之位置關係之細節。

基板保持部4係為了於將基板W載置於基板保持裝置1後，進行特定之處理，而將基板W之外緣We以預先規定之位置保持者。進而，基板保持部4具有位置限制部，該位置限制部係將基板W之外緣We限制位置於鉛直方向者。

位置限制部可由大致圓筒狀之形狀、且鉛直方向之中途向基板W之外側凹陷之形狀之基板保持構件40構成。基板保持構件40與基板W之外緣We接觸之部分45係遍及該基板保持構件之上端部41及下端部42，向基板W之內側傾斜，中途成為凹陷部43。又，基板保持構件40以上端部41配置於較與基板W之外緣We接觸之部分45於Z方向更高之位置，下端部42配置於較與基板W之外緣We接觸之部分45於Z方向更低之位置之方式配置尺寸及形狀。

該等基板保持構件40以包圍基板W之外緣We之狀態而配置複數個。進而，基板保持部4構成為包含：直接與基板W之外緣We接觸之複數個基板保持構件40、及使基板保持構件40移動之機構(詳細於後述)。然後，基板保持部4藉由該等複數個基板保持構件40，自至少3方向將基板W之外緣We自外側向內側按壓，藉此保持基板而構成。

於基板保持裝置1中，該等基板保持構件40之凹陷部43係於保持基板W時，使基板W之外緣We被限制位置於同一平面(圖1~3中為XY平面)般配置於Z方向之位置，且基板保持構件之上端部41及下端部42 係設計配置為於保持基板W時，係配置於設定於基板W之處理對象區域Wp之外側般之形狀。再者，此處所謂之同一平面係指確保可對於基板W進行特定處理之程度之平坦性之狀態。

藉此，即使於基板W產生翹曲及彎曲，藉由基板保持構件40移動至基板W之內側，可邊將基板W之外緣We於鉛直方向限制於基板保持構件40之上端部41至下端部42間，邊以集中於凹陷部43之中心之方式而限制位置。因此，於基板保持部4，能以矯正基板W之翹曲及彎曲之狀態保持基板W。

於基板保持部4中，作為使基板保持構件40移動之機構，可例示如下之構成。即，包含定位基準側往復動機構50及定位按壓側往復機構55之構成。該等定位基準側往復動機構50及定位按壓側往復機構55分別配置於隔著基板W而對向之位置，且分別安裝於框體2。於保持圓形之基板W之形態中，只要包含一組使至少2個基板保持構件40移動之定位基準側往復動機構50、及使基板保持構件40移動之定位按壓側往復機構55即可。

定位基準側往復動機構50係使至少2個基板保持構件40在待機位置51(以實線圖示)與基準位置52(以虛線圖示)間移動者。更具體而言，定位基準側往復動機構50可例示為使用藉由氣壓及油壓等而往復動作之促動器及可自外部機器控制之旋轉馬達與球形螺栓者及線性馬達(所謂之電動促動器)等。

再者，所謂待機位置51，係至少有2個基板保持構件之上端部41分別成為較基板W之外緣We更外側之位置。另一方面，所謂基準位置52，係於保持基板W時，至少有2個基板保持構件40與基板W接觸之部分分別成為該基板之定位基準位置之位置。

該等待機位置51與基準位置52，可藉由機械制動器54之位置調整而設定，或基於編碼器而設定為定位停止位置。

定位按壓側往復機構55係使基板保持構件40於待機位置56(以實線圖示)與基板壓入位置57(以虛線圖示)間移動者。再者，所謂待機位置56係基板保持構件之上端部41成為較基板W之外緣We更外側之位置。另一方面，所謂基板壓入位置57，係於保持基板時，基板保持構件40與基板W接觸之部分成為較該基板W之外緣We更內側之位置。

該待機位置56與基板壓入位置57可藉由機械制動器之位置調整而設定，或基於編碼器而設定為定位停止位置。

由於如此之構成，基板保持部4藉由使基板保持構件40移動至待機位置51、56，而為可載置或取出圓形基板W之狀態，藉由將基板保持構件40移動至基準位置52、基板壓入位置57，可設為以預先規定之位置保持基板W之外緣We之狀態(即，進行切換動作)。

[變化例]

圖4係顯示使本發明具體化之形態之另一例之俯視圖。

於圖4中，顯示保持外緣為圓形狀之基板W之基板保持裝置1A之一例。基板保持裝置1A係上述基板保持裝置1之變化例，包含6個引導部3A而構成。該等引導部3A於配置於3處之基板保持構件40之兩側附近以2個為1組合計配置3組。由於如此之構成，基板保持裝置1A於保持較薄而易變形之基板W時，可防止基板W之外緣We大幅下垂，確實地以基板保持構件40夾住基板W之外緣We而保持基板W。

[對矩形基板之適用例]

圖5係顯示使本發明具體化之形態之進而另一例之整體構成之俯視圖。於圖5，顯示保持外緣為矩形狀之基板Wr之基板保持裝置1B之一例。基板保持裝置1B構成為包含框體2B、引導部3B、基板保持部4B。該基板保持裝置1B與保持上述之圓形基板W之基板保持裝置1不同，係保持矩形狀之基板Wr者。矩形狀之基板Wr係施加以用以識別方向之稱為定向平面Wfc之切角，將夾住其之邊之長邊側稱為基板之 第1基準邊Wr1，短邊側稱為基板之第2基準邊Wr2。

於基板保持裝置1B中，由於框體2B、引導部3B、基板保持部4B分別與上述之基板保持裝置1之框體2、引導部3、基板保持部4大致功能相同，故對同樣部分省略說明，而對不同部分詳細敘述。

框體2B設有將基板Wr之外緣或較設定於基板Wr之處理對象區域Wp更外側作為內緣之開口部20B。

引導部3B以於基板Wr之第1基準片Wr1側支撐2處、於第2基準片Wr2側支撐1處、於與第1基準片Wr1對向之邊側及與第2基準片Wr2對向之邊側分別支撐1處之方式配置。

基板保持部4B係構成為將基板Wr之第1基準片Wr1側之兩處、第2基準片Wr2側之一處、與第1基準片Wr1對向之邊側、及與第2基準片Wr2對向之邊側之分別1處自基板Wr之外側向內側按壓。

於基板保持部4B具備：定位基準側往復動機構50，其配置於基板Wr之第1基準片Wr1側；定位按壓側往復機構55，其配置於與第1基準片Wr1對向之邊側；定位基準側往復動機構50B，其配置於基板Wr之第2基準片Wr2側；及定位按壓側往復機構55B，其配置於與第2基準片Wr2對向之邊側。

由於如此之構成，基板保持部4B藉由使基板保持構件40移動至待機位置51、56，而設為可載置或取出矩形狀之基板Wr之狀態，藉由將基板保持構件40移動至基準位置52、基板壓入位置57，可設為以預先規定之位置保持基板Wr之外緣We之狀態(即，進行切換動作)。

再者於上述中，顯示為了保持矩形狀之基板Wr，而具備可使基板保持構件40獨立於X方向或Y方向移動之定位基準側往復動機構50、50B、及定位按壓側往復機構55、55B之構成。然而，用於保持矩形狀之基板Wr之形態並非限定於如此構成，亦可為包含使基板保持構件40以移動至基板Wr之對角方向(即，XY合成方向)之方式而配 置之定位基準側往復動機構、及定位按壓側往復機構之構成。

[引導部之形狀]

圖6係顯示引導部之變化例之立體圖。

於圖6(a)~(n)，作為可代替圖1~5所示之形態所使用之引導部3之變化例，分別例示各種形狀之引導部3a~3n。

更具體而言，關於引導部3a，引導本體部32a係設為自引導部之下端面34a側至上方(即，引導部之上端部31a側)，引導部之內側面33a向基板W之外側傾斜之形狀。又，關於引導部3b~3f亦相同，於本案中將如此之引導部3a~3f之形狀統稱為「向外開之L字型之外形」。再者，引導部之下端部34a~34f之與基板之外緣We接觸之部分係設為向基板之內側於水平方向突出之形狀。

進而，不限於如此之引導部3a~3f之形狀，如引導部3g~3n所示般，亦可將引導部之下端部34g~34n之與基板之外緣We接觸之部分設為向基板之內側向下方傾斜且突出之形狀，包含該等稱為「向外開之L字型之外形」。此時，引導部之下端部向下方傾斜之尺寸，係成為以基板保持部4、4B把持基板W、Wr時，能收容於基板保持構件之上端部41與下端部42之間。如此，若引導部之下端部之與基板之外緣We接觸之部分向下方傾斜，則由於可防止微粒之堆積而較佳。

於實施本案發明時，較佳為將引導部設為「向外開之L字型之外形」。藉由設置為如此之形狀，於移載基板W時，開始時基板之外緣We與引導部之上端部31之間隙為較大之狀態，但隨著使基板W沿著引導部之內側面33而接近引導部之下端部34，間隙逐漸變窄。然後，於基板之外緣We接觸於引導部之下端部34時，可成為無間隙或間隙極少之狀態。因此，藉由複數個基板保持構件40保持基板之外緣We時，可消除基板W之位置偏移或使位置偏移量極少。

[保持動作之說明]

對以上述之基板保持裝置保持基板時之動作流程說明詳細。

基板保持部4預先將基板保持構件40移動至待機位置51、56。

然後，邊使處理對象之基板之外緣We沿著引導部3之內面側，邊使該基板之外緣或外緣下表面部接近引導部之下端部並接觸。

其後，將以包圍該基板之外緣之方式而配置之複數個基板保持構件40分別自基板之外緣We之外側向內側按壓。此時，若為外緣為圓弧狀之基板W，則複數個基板保持構件40至少自3方向按壓基板W。另一方面，若為外緣為矩形狀之基板W，則複數個基板保持構件40至少按壓第1基準邊側之2處、第2基準邊側之1處、上述第1基準邊之對邊側之1處及上述第2基準邊之對邊側之1處。

[對其他形狀之基板之應用]

於上述中，對外緣為圓弧狀之基板W、外緣為矩形狀之基板Wr之情形，分別表示框體2、2B、引導部3、3A、基板保持部4、4B之具體例。然而，於應用本發明時，處理對象之基板之形狀並非限定於該等，亦可為其他形狀(例如，三角形、六角形、八邊形、橢圓形等)。而且，只要配合該等基板之外緣形狀，決定框體、引導部、基板保持部等之形狀、配置及個數等即可，配置至少以3點支撐較基板之處理對象區域更外側之引導部，且包含以基板保持構件40自至少3方向將基板自外側向內側按壓之基板保持部而構成。

再者，於上述中，例示包含具有較處理對象區域更大之開口部之框體2、2B之構成，且表示於該等框體2、2B連結引導部3、3A、3B與基板保持部4、4B之構成。若為如此之構成，則於基板之下表面所設定之處理對象區域，可進行特定之處理。然而，若無需自基板之下表面之處理，而僅進行自基板上表面之處理之情形時，亦可無須設為具有開口部之框體，而僅藉由板材等，將引導部3、3A、3B與基板保持部4、4B連結。

[對檢查裝置之應用例]

圖7係顯示使本發明具體化之其他形態之一例之整體構成之概略圖。

於圖7中，顯示本發明之基板檢查裝置90之整體構成，基板檢查裝置90包含：上述之基板保持裝置1、照明部91、攝像部92、及檢查部93。該基板檢查裝置90係於使檢查對象之基板Wi(以下，僅稱為「基板Wi」)移動或靜止時，不會意外地位置偏移或脫落，且以矯正基板Wi之翹曲及彎曲之狀態保持檢查對象區域Wq(上述之處理對象區域之一類型)之外側，進行特定之檢查者。

照明部91係向設定於基板Wi之檢查對象部位95照射照明光94者。照明部91係將例如LED照明或鹵素照明等設為光源，照射可見光、紅外光或紫外線等者。

攝像部92係對設定於基板Wi之檢查對象部位95進行拍攝者。攝像部92係將例如CCD或CMOS等之區域感測器或線感測器等作為攝像元件而組入者，且將拍攝之圖像所對應之影像信號或資料輸出至外部機器者。

檢查部93係基於以攝像部拍攝之圖像而檢查上述檢查對象部位者。檢查部93係藉由例如稱為圖像處理單元之機器(硬體)及執行其之程式(軟體)而構成，輸入自攝像部92輸出之影像信號或資料，執行特定之圖像處理，進行異物之檢測及計數、圖案缺陷之檢測等者。

而且，照明部91與攝像部92係隔著基板Wi之檢查對象部位對向而配置，可對在基板Wi中所規定之檢查對象區域Wq之內側之檢查對象部位95照射照明光94，以通過檢查對象部位95之光96進行拍攝。此時，框體2之開口部20之內緣成為於基板Wi中所規定之檢查對象區域Wq之外側。因此，由於照明光及通過檢查對象部位95之光與框體2不干涉，故基板檢查裝置90可檢查於基板Wi中所規定之檢查對象區域 Wq之全域。

再者，本發明之基板檢測裝置不限於上述之構成，而亦可為以下之形態者。

1)將基板保持裝置固定配置於裝置框架，以保持基板Wi之狀態，使照明部91與攝像部92移動。

2)將照明部91與攝像部92固定配置於裝置框架，使保持基板Wi之基板保持裝置移動。

3)將照明部設為自基板保持裝置之框體之開口部全面照射照明光之構成，與基板保持裝置一起固定配置於裝置框架，使攝像部92移動。

再者，作為使上述各部移動之機構，可例示將能自外部機器控制之旋轉馬達與球形螺栓組合者及線性馬達等。

由於設為如此之構成，故本發明之基板檢查裝置於遍及檢查對象區域全域利用透過照明光進行全面檢查時，以基板保持構件保持檢查對象區域之外側，即使為存在於先前之檢查裝置中無法對應之翹曲及彎曲之基板，亦能以矯正翹曲及彎曲後之狀態檢查。

1‧‧‧基板保持裝置(圓形基板用)

2‧‧‧框體

3‧‧‧引導部

4‧‧‧基板保持部

20‧‧‧開口部

21‧‧‧框架部

31‧‧‧引導部之上端部

32‧‧‧引導本體部

33‧‧‧引導部之內側面

34‧‧‧引導部之下端部

40‧‧‧基板保持構件

50‧‧‧定位基準側往復動機構

53‧‧‧箭頭(往復動作之方向)

55‧‧‧定位按壓側往復機構

58‧‧‧箭頭(往復動作之方向)

W‧‧‧基板(處理對象，圓形)

Wp‧‧‧處理對象區域

Claims (9)

1. 一種基板保持裝置，其係保持基板者，且包含：引導部，其以至少3點支撐較設定於上述基板之處理對象區域外側；及基板保持部，其藉由基板保持構件自至少3方向將上述基板之外緣自外側向內側按壓，藉此保持上述基板；且上述引導部及上述基板保持構件分別以包圍上述基板之外緣之方式而配置，上述基板保持構件包含將上述基板之外緣限制位置於鉛直方向之位置限制部。
2. 如請求項1之基板保持裝置，其中成為保持對象之上述基板之外緣為圓弧狀；且上述基板保持部係藉由上述基板保持構件將上述基板之外緣之任意3處自外側向內側按壓，且包含：定位基準側往復動機構，其使按壓上述基板之外緣之3處中之2處，於成為較該基板之外緣外側之待機位置、及與該基板接觸之部分即該基板之定位基準位置之間往復動作；定位按壓側往復機構，其使按壓上述基板之外緣之3處中之除了上述2處以外之其他一處，於成為較該基板之外緣外側之待機位置、及與該基板接觸之部分即成為較該基板之外緣內側之基板壓入位置之間往復動作。
3. 如請求項1之基板保持裝置，其中成為保持對象之上述基板之外緣為矩形狀；且上述基板保持部藉由上述基板保持構件，至少將上述基板之第1基準邊側之2處、該基板之第2基準邊側之1處、上述第1基準 邊之對邊側之1處、及上述第2基準邊之對邊側之1處，自上述基板之外緣之外側向內側按壓，且包含：定位基準側往復動機構，其使按壓上述基板之外緣之上述第1基準邊側之2處及上述第2基準邊側之1處，於與該基板接觸之部分即成為較該基板之外緣外側之待機位置、或與該基板接觸之部分即與該基板之外緣接觸之基準位置之間往復動作；及定位按壓側往復機構，其使按壓上述基板之外緣之上述第1基準邊之對邊側之1處及上述第2基準邊之對邊側之1處，於與該基板接觸之部分即成為較該基板之外緣外側之待機位置、及與該基板接觸之部分即成為較該基板之外緣內側之基板壓入位置之間往復動作。
4. 如請求項1至3中任一項之基板保持裝置，其中將上述引導部設為向外開之L字型之外形，且包含：下端部，其支撐上述基板之外緣或外緣下表面部；引導本體部，其自上述下端部側至上端部側之內側面向上述基板之外側傾斜。
5. 如請求項4之基板保持裝置，其中上述引導本體部之向外側傾斜之角度係設定為5度~60度。
6. 一種基板檢查裝置，其包含：如請求項1至5中任一項之基板保持裝置，其包含具有較設定於上述基板之處理對象區域大之開口部之框體，且上述引導部與上述基板保持部經由該框體而連結；照明部，其向設定於上述基板之檢查對象部位照射照明光；攝像部，其拍攝設定於上述基板之檢查對象部位；及檢查部，其基於上述攝像部拍攝之圖像，檢查上述檢查對象部位；且 上述照明部與上述攝像部，係隔著上述檢查對象部位對向配置。
7. 一種基板保持方法，其係保持基板者；且使用以包圍上述基板之外緣之方式配置之至少3個引導部，邊使上述基板之外緣沿著上述引導部之內側面，邊使該基板之外緣或外緣下表面部接近該引導部之下端部並接觸；且藉由以包圍該基板之外緣之方式而配置之與上述基板之外緣接觸之部分為遍及上端部及下端部向上述基板之內側傾斜之構件，自至少3方向自上述基板之外緣之外側向內側按壓。
8. 一種基板保持方法，其係保持外緣為圓弧狀之基板者；且邊使上述基板之外緣沿著上述引導部之內側面，邊使該基板之外緣或外緣之下表面部接近該引導部之下端面並接觸；且藉由與上述基板之外緣接觸之部分為遍及上端部及下端部向上述基板之內側傾斜之構件，自上述基板之外緣之外側向內側按壓該基板之外緣之至少3處。
9. 一種基板保持方法，其係保持外緣為矩形狀之基板者；且邊使上述基板之外緣沿著上述引導部之內側面，邊使該基板之外緣或外緣之下表面部接近該引導部之下端部並接觸；且藉由與上述基板之外緣接觸之部分為遍及上端部及下端部向上述基板之內側傾斜之構件，自上述基板之外緣之外側向內側按壓至少第1基準邊側之2處、第2基準邊側之1處、上述第1基準邊之對邊側之1處、及上述第2基準邊之對邊側之1處。