TW201616223A - 硬化性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 95
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 claims abstract description 79
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 62
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 27
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 72
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 72
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052800 carbon group element Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001849 group 12 element Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 55
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 49
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Inorganic materials [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- 102100027123 55 kDa erythrocyte membrane protein Human genes 0.000 description 11
- 101001057956 Homo sapiens 55 kDa erythrocyte membrane protein Proteins 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 11
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 9
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N neopentyl alcohol Chemical compound CC(C)(C)CO KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N butyl alcohol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride Chemical compound C1C=CCC2C(=O)OC(=O)C21 KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOWVFPAIJRADGF-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C=CC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O DOWVFPAIJRADGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHMDZMAJDUVGHO-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C=CC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 OHMDZMAJDUVGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CC)CC1C=C2 QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical class C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- WNHHRXSVKWWRJY-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)methanol Chemical compound C1C2C(C)(CO)CC1C=C2 WNHHRXSVKWWRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dimethylhydrazine Chemical compound CNNC DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMUOGGKCRDLFAA-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)CCC=CC1(C)C(O)=O UMUOGGKCRDLFAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVHNGVXBCWYLFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazinane-2-thione Chemical compound S=C1NCCCN1 NVHNGVXBCWYLFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCFIKBMPEOEIED-UHFFFAOYSA-N 1-acridin-9-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 NCFIKBMPEOEIED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 10-butyl-2-chloroacridin-9-one Chemical compound ClC1=CC=C2N(CCCC)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZJQCUDHKUWEFU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpentanenitrile Chemical compound CCCC(C)(C)C#N TZJQCUDHKUWEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBSNQEZPXZKHGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-diethoxybicyclo[2.2.1]hept-5-ene Chemical compound C1C2C=CC1C(OCC)C2OCC VBSNQEZPXZKHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFDBQLSDFKLLEC-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxybicyclo[2.2.1]hept-5-ene Chemical compound C1C2C=CC1C(OC)C2OC WFDBQLSDFKLLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dichlorophenyl)-2-[2-(2,3-dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZYVCAJKUNEWLC-UHFFFAOYSA-N 2-(5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)ethanol Chemical compound C1C2C(CCO)CC1C=C2 CZYVCAJKUNEWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OCC(=C)C(O)=O AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFTZDQKIXPDAF-UHFFFAOYSA-N 2-Furanmethanethiol Chemical compound SCC1=CC=CO1 ZFFTZDQKIXPDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJNMUNZDHCXGMC-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethyl)-2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl]ethanol Chemical compound C1C2C=CC1C(CCO)C2CCO DJNMUNZDHCXGMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWONDYSHSJIGBM-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3,5-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=C(COCC2OC2)C=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 BWONDYSHSJIGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZYCUUFNXNXWBU-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(COCC2OC2)=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 DZYCUUFNXNXWBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAHOABUATCSPEQ-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 NAHOABUATCSPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCEFSFLKLRMYOL-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-4,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C(COCC2OC2)=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=1COCC1CO1 NCEFSFLKLRMYOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOXIWIOCGARHCY-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-4-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=1COCC1CO1 LOXIWIOCGARHCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMAFESHBEJJZMF-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-5-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=C1COCC1CO1 DMAFESHBEJJZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPZQXXDQOBDBGO-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-6-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC=1C(C=C)=CC=CC=1COCC1CO1 RPZQXXDQOBDBGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIMIHAMTEJGIJW-UHFFFAOYSA-N 2-hexylsulfanyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(SCCCCCC)=NC2=C1 SIMIHAMTEJGIJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDJAEUWFPHVXLQ-UHFFFAOYSA-N 2-iminopropanal Chemical compound CC(=N)C=O NDJAEUWFPHVXLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DQSPQIPLFYIAFQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3-dihydro-1,2,4-triazole-3-thiol Chemical compound CN1NC=NC1S DQSPQIPLFYIAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSVKYZDOIWXDIO-UHFFFAOYSA-N 2-methylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-3-carboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C)C2C(O)=O SSVKYZDOIWXDIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-1-ene Chemical group CC=C.CC(=C)C(O)=O FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJNLCHNQVJVCPY-UHFFFAOYSA-N 2-n-methoxy-2-n-methyl-4-n,6-n-dipropyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCNC1=NC(NCCC)=NC(N(C)OC)=N1 FJNLCHNQVJVCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- KBIWOJBFYNSQKW-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=C)=C1C(O)=O KBIWOJBFYNSQKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERQPPCVTFSKSO-UHFFFAOYSA-N 3a,7a-dimethyl-4,5-dihydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC=CC2(C)C(=O)OC(=O)C21C WERQPPCVTFSKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C(=O)OC2=O HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound N1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]ethenyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODXNOGQHTZSYFY-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1C(O)=O ODXNOGQHTZSYFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTOEAMRIIXGDJ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound OC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O CCTOEAMRIIXGDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYJGMAIQZRWXSD-UHFFFAOYSA-N 4-methylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1(C)C(C(O)=O)C2C(O)=O QYJGMAIQZRWXSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUMNWCHHXDUKFI-UHFFFAOYSA-N 5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enylmethanol Chemical compound C1C2C(CO)CC1C=C2 LUMNWCHHXDUKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLNJETIYJIMHAV-UHFFFAOYSA-N 5-ethoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(OCC)CC1C=C2 LLNJETIYJIMHAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHEGKRQSANCPRR-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-en-5-ol Chemical compound C1C2C(CC)(O)CC1C=C2 IHEGKRQSANCPRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOAYPXDNINXAQH-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(CC)(C(O)=O)CC1C=C2 AOAYPXDNINXAQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCDOWRWNYHNLLA-UHFFFAOYSA-N 5-methoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(OC)CC1C=C2 RCDOWRWNYHNLLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAVRBAGOQPJLCD-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-en-5-ol Chemical compound C1C2C(C)(O)CC1C=C2 ZAVRBAGOQPJLCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C)CC1C=C2 PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHFJSOMLKXSSQ-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(C)(C(O)=O)CC1C=C2 JIHFJSOMLKXSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCAERCCYCCTM-UHFFFAOYSA-N 6-amino-5-nitro-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one Chemical compound NC=1NC(=S)NC(=O)C=1[N+]([O-])=O PSGCAERCCYCCTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001101476 Bacillus subtilis (strain 168) 50S ribosomal protein L21 Proteins 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDDIQQGVAJRFFC-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=C(COCCCOCCCOCC2=C(C=CC=C2)C=C)C=CC=C1 Chemical compound C(=C)C1=C(COCCCOCCCOCC2=C(C=CC=C2)C=C)C=CC=C1 IDDIQQGVAJRFFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTEYEIWLZHYUBV-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC=C(COCCCOCCCOCC2=CC=C(C=C2)C=C)C=C1 Chemical compound C(=C)C1=CC=C(COCCCOCCCOCC2=CC=C(C=C2)C=C)C=C1 HTEYEIWLZHYUBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYMYEYZXJXYFSG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C=1C=C(COCCCOCCCOCC2=CC(=CC=C2)C=C)C=CC1 Chemical compound C(=C)C=1C=C(COCCCOCCCOCC2=CC(=CC=C2)C=C)C=CC1 UYMYEYZXJXYFSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEEBGAJRIDMCGY-UHFFFAOYSA-N C(C)C(C=COCCOC1CCC1)C Chemical compound C(C)C(C=COCCOC1CCC1)C QEEBGAJRIDMCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYQNYLUQUNRIT-UHFFFAOYSA-N C(C)C1(CCC1)OCOC=CC Chemical compound C(C)C1(CCC1)OCOC=CC HVYQNYLUQUNRIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPHVMIFKRGZMHJ-UHFFFAOYSA-N C(C)OCC(C)OCC.C(C)(=O)O Chemical compound C(C)OCC(C)OCC.C(C)(=O)O BPHVMIFKRGZMHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZCWJVSAZUMKDA-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C(C(C)=N)=O Chemical compound C(CCC)C(C(C)=N)=O XZCWJVSAZUMKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCNVPZWTSRESAB-UHFFFAOYSA-N C=C.C(C1CO1)OCC1=CC=CC(=C1COCC1CO1)COCC1CO1 Chemical group C=C.C(C1CO1)OCC1=CC=CC(=C1COCC1CO1)COCC1CO1 NCNVPZWTSRESAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APHSQECQQFUFHC-UHFFFAOYSA-N CC(C=COCCOC1CCC1)C Chemical compound CC(C=COCCOC1CCC1)C APHSQECQQFUFHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJXNLVMJRAWXPP-UHFFFAOYSA-N CC(CCOCC1=C(C=CC=C1)C=C)OC(CCOCC1=C(C=CC=C1)C=C)C Chemical compound CC(CCOCC1=C(C=CC=C1)C=C)OC(CCOCC1=C(C=CC=C1)C=C)C YJXNLVMJRAWXPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOUFWSGPEBYERP-UHFFFAOYSA-N CC(CCOCC1=CC(=CC=C1)C=C)OC(CCOCC1=CC(=CC=C1)C=C)C Chemical compound CC(CCOCC1=CC(=CC=C1)C=C)OC(CCOCC1=CC(=CC=C1)C=C)C KOUFWSGPEBYERP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDPGBAVWVOVISN-UHFFFAOYSA-N CC(CCOCC1=CC=C(C=C1)C=C)OC(CCOCC1=CC=C(C=C1)C=C)C Chemical compound CC(CCOCC1=CC=C(C=C1)C=C)OC(CCOCC1=CC=C(C=C1)C=C)C JDPGBAVWVOVISN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHCAVTWFWMEDE-UHFFFAOYSA-N CC1(CCC1)OCOC=CC Chemical compound CC1(CCC1)OCOC=CC CIHCAVTWFWMEDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- YFPJFKYCVYXDJK-UHFFFAOYSA-N Diphenylphosphine oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1[P+](=O)C1=CC=CC=C1 YFPJFKYCVYXDJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000764773 Inna Species 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003047 N-acetyl group Chemical group 0.000 description 1
- ASVVWUBDYYNWHT-UHFFFAOYSA-N NC1=NNC(=N1)SO Chemical compound NC1=NNC(=N1)SO ASVVWUBDYYNWHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIXUTKFWKCIHTE-UHFFFAOYSA-N NC=1SC(=NN1)SO Chemical compound NC=1SC(=NN1)SO IIXUTKFWKCIHTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- IGHHPVIMEQGKNE-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)-2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl]methanol Chemical compound C1C2C=CC1C(CO)C2CO IGHHPVIMEQGKNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZETWZZNDACBTQ-UHFFFAOYSA-N [Cl].C=C Chemical group [Cl].C=C GZETWZZNDACBTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FYGUSUBEMUKACF-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(C(=O)O)CC1C=C2 FYGUSUBEMUKACF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZLWRLOYRRZECT-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-diol Chemical compound C1C2C(O)C(O)C1C=C2 TZLWRLOYRRZECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N bis(2-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1N GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N butan-1-one Chemical compound CCC[C]=O PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000005102 carbonylalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAAQPMPUQHKLLE-UHFFFAOYSA-N cyclohexene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)=CC1 KAAQPMPUQHKLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSPIWBYBMMBCEX-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylate Chemical compound C1C(C=C2)CC2C1C(=O)OC1CCCCC1 MSPIWBYBMMBCEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCCCCCC(S)S WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- FYPWTNDNZOOPAO-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylate Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)OC(C)(C)C)C2C(=O)OC(C)(C)C FYPWTNDNZOOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OCC WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N ethylhydrazine Chemical compound CCNN WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJCSPXHYDFONPU-UHFFFAOYSA-N etoac etoac Chemical compound CCOC(C)=O.CCOC(C)=O OJCSPXHYDFONPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCC(S)S ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229960001428 mercaptopurine Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxy-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)OC AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOOIQBUNJDFON-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate oxolane Chemical compound O1CCCC1.COC(C(=C)C)=O RIOOIQBUNJDFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- FNVQPLCHYJQMHP-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enoate oxolane Chemical compound C(C=C)(=O)OC.O1CCCC1 FNVQPLCHYJQMHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017144 n-butyl lactate Drugs 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- WLVPQQDEYVVXJF-UHFFFAOYSA-N phenyl bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylate Chemical compound C1C(C=C2)CC2C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 WLVPQQDEYVVXJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJNNAJJFLWBPRS-UHFFFAOYSA-N phenyl-[(2,4,6-trimethylphenyl)methyl]-[(2,4,6-trimethylphenyl)methylidene]phosphanium Chemical compound CC1=C(C=P(C2=CC=CC=C2)=CC2=C(C=C(C=C2C)C)C)C(=CC(=C1)C)C OJNNAJJFLWBPRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001802 phenylephrine Drugs 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N propionic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CYIRLFJPTCUCJB-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)OC CYIRLFJPTCUCJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- BZBMBZJUNPMEBD-UHFFFAOYSA-N tert-butyl bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylate Chemical compound C1C2C(C(=O)OC(C)(C)C)CC1C=C2 BZBMBZJUNPMEBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical compound O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Abstract
由以往之硬化性組成物以光蝕刻法形成硬化圖案時,會有顯像後之硬化圖案的殘膜率低的問題。該殘膜率係指以下式(z)所示之值。
殘膜率(%)=Td/Te×100 (z)[式(z)中,Td表示硬化圖案之膜厚,Te表示光照射後的組成物層之膜厚。]
本發明之硬化性組成物係含有:量子點、聚合起始劑、聚合性化合物及硫醇化合物。前述硬化性組成物中,硫醇化合物係分子內含2個以上的氫硫基之硫醇化合物。
Description
本發明係關於包含量子點的硬化性組成物及顯示裝置。
專利文獻1中,記載一種由半導體超微粒(量子點)、溶劑及可聚合的單體所構成之硬化性組成物。
[專利文獻1]日本特開平10-186426號公報
由專利文獻1中記載之硬化性組成物以光蝕刻法形成硬化圖案時,會有顯像後之硬化圖案的殘膜率低的問題。其中,硬化圖案係指在部分基板上形成硬化膜者。而且,殘膜率係指以下之式(z)所示之值。
殘膜率(%)=Td/Te×100 (z)[式(z)中,Td表示硬化圖案之膜厚,Te表示光照射後的組成物層之膜厚。]
本發明係包含以下之發明。
[1]一種硬化性組成物,其係含有量子點、聚合起始劑、聚合性化合物及硫醇化合物。
[2]如[1]記載之硬化性組成物,其中硫醇化合物為分子內含2個以上的氫硫基之硫醇化合物。
[3]如[1]或[2]記載之硬化性組成物,其中量子點為選自:12族元素與16族元素之化合物、13族元素與15族元素之化合物以及14族元素與16族元素之化合物所成群組中之至少一種。
[4]如[1]至[3]中任一者記載之硬化性組成物,其中再含樹脂。
[5]一種硬化膜,其係以[1]至[4]中任一者記載之硬化性組成物所形成。
[6]一種顯示裝置,其係包含[5]記載之硬化膜。
如依本發明之硬化性組成物,可在顯像時以高殘膜率獲得硬化圖案,且該硬化圖案在發光時之量子產率優異。
本發明之硬化性組成物係含有量子點(A)、
聚合性化合物(B)、聚合起始劑(C)及硫醇化合物(D)。
<量子點(A)>
量子點係粒徑1nm至100nm左右之半導體微粒,為可利用半導體的能帶間隙,吸收紫外光或可見光而發光的微粒。
量子點之例可列舉如各為化學式:CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、CdHgTe、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe及HgZnSTe等12族元素與16族元素之化合物;GaN、GaP、GaAs、AlN、AlP、AlAs、InN、InP、InAs、GaNP、GaNAs、GaPAs、AlNP、AlNAs、AlPAs、InNP、InNAs、InPAs、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlPAs、GaInNP、GaInNAs、GaInPAs、InAlNP、InAlNAs及InAlPAs等13族元素與15族元素之化合物;PdS及PbSe等14族元素與16族元素之化合物等。
量子點含有S(硫原子)及Se(硒原子)時,亦可使用經過金屬氧化物及有機物表面修飾的量子點。使用經過表面修飾的量子點,可防止由形成有機層的材料中之反應成分吸去S及Se。
而且量子點亦可由上述之化合物組合形成內核-外殼構造。此種組合之例可列舉如內核為CdSe(硒化鎘),外殼為ZnS(硫化鋅)的微粒等。
量子點的能量狀態係受其大小影響,故可經由改變粒徑自由地選擇其發光波長。例如,在量子點只有CdSe構成時,在粒徑2.3nm、3.0nm、3.8nm、4.6nm時螢光光譜的波峰波長,各為528nm、570nm、592nm、637nm。而且,來自於量子點所發出的光之光譜範圍狹小,以此種具有尖銳波峰之光組合,可擴大顯示裝置可顯示的色域。並且,量子點為高回應性,因此可有效地利用由光源所放射的光。
本發明的硬化性組成物可含由光源所放射的光,只可發出特定波長的光之量子點,亦可組合含可發出2種以上不同波長的光之量子點。作為前述特定波長之光可例舉如:紅色光、綠色光及藍色光。
量子點(A)的含有率,相對於固形成分,以1至50質量%為佳,5至40質量%更佳。本說明書中之固形成分,係指除去後述之溶劑(F)及其他溶劑的硬化性組成物成分之合計。組成物中的固形成分之含有率可以液相層析或氣相層析等一般已知之分析方式測定。
<聚合性化合物(B)>
聚合性化合物(B)係可以後述之聚合起始劑(C)所產生之活性自由基、酸等聚合的化合物。此類化合物之例可列舉如:含乙烯性不飽和鍵之化合物等,而以(甲基)丙烯酸酯化合物為佳。
再者,本說明書中,「(甲基)丙烯酸」,係指選自:丙烯酸及甲基丙烯酸所成群組中的至少1種。「(甲基)丙烯醯
基」及「(甲基)丙烯酸酯」等之表示,亦具有相同之含意。
其中,聚合性化合物(B)以含有3個以上之乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物為佳。該類聚合性化合物之例可列舉如:三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、八(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯、七(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯、十(甲基)丙烯酸四新戊四醇酯、九(甲基)丙烯酸四新戊四醇酯、三聚異氰酸三(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)酯、乙二醇改質四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、乙二醇改質六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、丙二醇改質四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、丙二醇改質六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、己內酯改質四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、己內酯改質六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯等。
聚合性化合物(B)的重量平均分子量,以150至2,900為佳,250至1,500更佳。
聚合性化合物(B)的含有率,相對於固形成分,以7至65質量%為佳,13至60質量%更佳,17至55質量%又更佳。聚合性化合物(B)的含有率在前述範圍時,會有更提高硬化圖案的殘膜率及硬化圖案的耐藥品性之傾向。
<聚合起始劑(C)>
聚合起始劑(C),只要為可經光或熱作用產生活性自由基、酸等,使聚合反應開始的化合物即可,並無特別之限
定,可使用一般已知的聚合起始劑。
可產生活性自由基的聚合起始劑之例可列舉如:烷基苯酮化合物、O-醯基肟化合物、聯咪唑化合物、三嗪化合物及醯基膦氧化物化合物。
烷基苯酮化合物以胺基烷基苯酮化合物為佳。烷基苯酮化合物之具體例可列舉如:二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-甲基氫硫基苯基)-2-N-嗎福林基丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-N-嗎福林基苯基)-2-苯甲基丁烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-N-嗎福林基苯基)-2-(4-甲基苯基甲基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯甲基二甲基縮酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之寡聚物等。而以2-甲基-1-(4-甲基氫硫基苯基)-2-N-嗎福林基丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-N-嗎福林基苯基)-2-苯甲基丁烷-1-酮為佳。亦可使用Irgacure 369、907(以上,為日本Ciba公司製造)等之商品。
前述O-醯基肟化合物可為含有式(d1)所示之部分構造的化合物。以下,*係表示鍵結基。
前述肟化合物之例可列舉如:N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)丁烷-1-酮-2-亞胺、N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)辛烷-1-酮-2-亞胺、N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)-3-環戊基丙烷-1-酮-2-亞胺、N-乙醯
氧基-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙烷-1-亞胺、N-乙醯氧基-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(3,3-二甲基-2,4-二酮基環戊基甲基氧基)苯甲醯基}-9H-咔唑-3-基]乙烷-1-亞胺、N-乙醯氧基-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-3-環戊基丙烷-1-亞胺、N-苯甲醯氧基-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-3-環戊基丙烷-1-酮-2-亞胺;日本特開2011-132215號公報、國際公開2008/78678號、國際公開2008/78686號、及國際公開2012/132558號中所記載之化合物等。亦可使用Irgacure(註冊商標)OXE01、OXE02(以上,為BASF公司製造)、N-1919(ADEKA公司製造)等商品。
其中,肟化合物以選自:N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)丁烷-1-酮-2-亞胺、N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)辛烷-1-酮-2-亞胺及N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)-3-環戊基丙烷-1-酮-2-亞胺所成群組中的至少一種為佳。
前述聯咪唑化合物可例舉如式(d5)所示之化合物。
碳數6至10的芳基之例可列舉如:苯基、甲苯基、二甲苯基、乙基苯基及萘基等,而以苯基為佳。
取代基之例可列舉如:鹵素原子、碳數1至4的烷氧基等。鹵素原子之例可列舉如:氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,而以氯原子為佳。碳數1至4的烷氧基之例可列舉如:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等,而以甲氧基為佳。
前述聯咪唑化合物之例可列舉如:2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯咪唑、2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、2,2’-二(2,3-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯咪唑、2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯咪唑、2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(烷氧基苯基)聯咪唑、2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(二烷氧基苯基)聯咪唑、2,2’-二(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(三烷氧基苯基)聯咪唑、4,4’,5,5’-位之苯基經羰烷氧基取代之聯咪唑化合物等。此類化合物係記載於例如:日本特開平06-75372號公報、日本特開平06-75373號公報、日本特公昭48-38403號公報、日本特開昭62-174204號公報、日本特開平7-10913號公報等。其中,以下述式所示之化合物或該等之混合物為佳。
前述三嗪化合物之例可列舉如:2,4-二(三氯
甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪等。其中,以2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪為佳。
前述醯基膦氧化物化合物之例可列舉如:二(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、-(2,4,6-三甲基苯甲醯基)二苯基膦氧化物等。
其他之聚合起始劑之例可列舉如:苯偶因、苯偶因甲基醚、苯偶因乙基醚、苯偶因異丙基醚、苯偶因異丁基醚等苯偶因化合物;二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯基酮、4-苯甲醯基-4’-甲基二苯基硫化物、3,3’,4,4’-四(第三丁基過氧羰基)二苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮、4,4’-二(二乙基胺基)二苯基酮等二苯基酮化合物;9,10-菲醌、2-乙基蒽醌、樟腦醌等醌化合物;10-丁基-2-氯吖啶酮、二苯乙二酮、苯基乙醛酸甲酯、二茂鈦化合物等。
為提高形成硬化膜時的反應效率,在聚合起始劑(C)中以含O-醯基肟化合物為佳。
聚合起始劑(C)的含量,相對於聚合性化合
物(B)100質量份,以0.1至300質量份為佳,0.1至200質量份更佳。硬化性組成物包含後述之樹脂(E)時,聚合起始劑(C)的含量,相對於後述之樹脂(E)及聚合性化合物(B)的合計量100質量份,以0.1至30質量份為佳,1至20質量份更佳。聚合起始劑(C)的含量在前述範圍內時,經高靈敏度化可縮短曝光時間之傾向而可提高硬化膜的生產性。
<聚合起始助劑(C1)>
此外視須要,亦可再併用聚合起始助劑(C1)。聚合起始助劑(C1),係可使用:用以促進聚合起始劑使聚合開始之聚合性化合物聚合的化合物,或為增敏劑,在含聚合起始助劑(C1)時,通常係與聚合起始劑(C)組合使用。聚合起始助劑(C1)之例可列舉如:胺化合物、烷氧基蒽化合物、硫雜蒽酮化合物及羧酸化合物等。
在含有聚合起始助劑(C1)時,聚合起始助劑(C1)的含量,相對於聚合性化合物(B)100質量份,以0.1至300質量份為佳,0.1至200質量份更佳。硬化性組成物中含後述之樹脂(E)時,聚合起始助劑(C1)的含量,相對於後述之樹脂(E)及聚合性化合物(B)的合計量100質量份,以0.1至30質量份為佳,1至20質量份更佳。聚合起始助劑(C1)的含量在該範圍內時,會有能以更高靈敏度形成硬化膜之傾向。
<硫醇化合物(D)>
本發明之硬化性組成物係包含硫醇化合物(D)。硫醇化合物(D)係分子內含氫硫基(-SH)的化合物。硫醇化合物由
於具有增敏效果,因此包含此之硬化性組成物會有易於硬化之傾向。
分子內含1個氫硫基的化合物之例可列舉如:2-氫硫基噁唑、2-氫硫基噻唑、2-氫硫基苯并咪唑、2-氫硫基苯并噻唑、2-氫硫基苯并噁唑、2-氫硫基菸鹼酸、2-氫硫基吡啶、2-氫硫基吡啶-3-醇、2-氫硫基吡啶-N-氧化物、4-胺基-6-羥基-2-氫硫基嘧啶、4-胺基-6-羥基-2-氫硫基嘧啶、4-胺基-2-氫硫基嘧啶、6-胺基-5-亞硝基-2-硫脲嘧啶、4,5-二胺基-6-羥基-2-氫硫基嘧啶、4,6-二胺基-2-氫硫基嘧啶、2,4-二胺基-6-氫硫基嘧啶、4,6-二羥基-2-氫硫基嘧啶、4,6-二甲基-2-氫硫基嘧啶、4-羥基-2-氫硫基-6-甲基嘧啶、4-羥基-2-氫硫基-6-丙基嘧啶、2-氫硫基-4-甲基嘧啶、2-氫硫基嘧啶、2-硫脲嘧啶、3,4,5,6-四氫嘧啶-2-硫醇、4,5-二苯基咪唑-2-硫醇、2-氫硫基咪唑、2-氫硫基-1-甲基咪唑、4-胺基-3-肼基-5-氫硫基-1,2,4-三唑、3-胺基-5-氫硫基-1,2,4-三唑、2-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、3-氫硫基-1H-1,2,4-三唑-3-硫醇、2-胺基-5-氫硫基-1,3,4-噻二唑、5-胺基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、2,5-二氫硫基-1,3,4-噻二唑、(呋喃-2-基)甲烷硫醇、2-氫硫基-5-四氫噻唑酮、2-氫硫基噻唑啉、2-氫硫基-4(3H)-喹唑啉酮、1-苯基-1H-四唑-5-硫醇、2-喹啉硫醇、2-氫硫基-5-甲基苯并咪唑、2-氫硫基-5-硝基苯并咪唑、6-胺基-2-氫硫基苯并噻唑、5-氯-2-氫硫基苯并噻唑、6-乙氧基-2-氫硫基苯并噻唑、6-硝基-2-氫硫基苯并噻唑、2-氫硫基萘并咪唑、2-氫
硫基萘并噁唑、3-氫硫基-1,2,4-三唑、4-胺基-6-氫硫基吡唑并[2,4-d]吡啶、2-胺基-6-嘌呤硫醇、6-氫硫基嘌呤、4-氫硫基-1H-吡唑并[2,4-d]嘧啶等。
分子內含2個以上之氫硫基的化合物之例可列舉如:己二硫醇、癸二硫醇、1,4-二(甲基氫硫基)苯、丁二醇二(3-氫硫基丙酸酯)、丁二醇二(3-氫硫基乙酸酯)、乙二醇二(3-氫硫基乙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-氫硫基乙酸酯)、丁二醇二(3-氫硫基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-氫硫基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-氫硫基乙酸酯)、新戊四醇四(3-氫硫基丙酸酯)、新戊四醇四(3-氫硫基乙酸酯)、三羥基乙基三(3-氫硫基丙酸酯)、新戊四醇四(3-氫硫基丁酸酯)、1,4-二(3-氫硫基丁氧基)丁烷、二新戊四醇六(3-氫硫基丙酸酯)、二新戊四醇六(3-氫硫基乙酸酯)、二新戊四醇六(3-氫硫基丁酸酯)等。
硫醇化合物以分子內含有2個以上的氫硫基之化合物為佳,含有3個以上的化合物更佳。使用硫醇化合物時,可提高硬化圖案的殘膜率。
硫醇化合物(D)的含量,相對於樹脂(E)及聚合性化合物(B)之合計量100質量份,以0.1至20質量份為佳,0.1至10質量份更佳。硫醇化合物(D)的含量在該範圍內時,可使形成硬化圖案時之聚合的靈敏度更為提高,且有更提高顯像後之硬化圖案的殘膜率之傾向。
本發明之硬化性組成物,除了上述成分之外,以再包含樹脂(E)、溶劑(F)及/或塗平劑(G)為佳。
<樹脂(E)>
樹脂(E),以鹼可溶性樹脂為佳。樹脂(E)之例可列舉如以下之樹脂[K1]至[K4]等。
樹脂[K1]:以選自:不飽和羧酸及不飽和羧酸酐所成群組中的至少1種(a)(以下有時稱為「(a)」)、及可與(a)共聚之單體(c)(但,與(a)不同。以下有時稱為「(c)」)共聚的樹脂;樹脂[K2]:(a)與(c)之共聚物與含有碳數2至4的環狀醚構造及乙烯性不飽和鍵的單體(b)(以下有時稱為「(b)」)反應之樹脂;樹脂[K3]:(b)與(c)之共聚物與(a)反應之樹脂;樹脂[K4]:(b)與(c)之共聚物與(a)反應,並再與羧酸酐反應之樹脂。
(a)之例可列舉如:丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、鄰-、間-、對-乙烯基苯甲酸等不飽和單羧酸類;順丁烯二酸、反丁烯二酸、檸康酸、中康酸、依康酸、3-乙烯基苯二甲酸、4-乙烯基苯二甲酸、3,4,5,6-四氫苯二甲酸、1,2,3,6-四氫苯二甲酸、二甲基四氫苯二甲酸、1,4-環己烯二羧酸等不飽和二羧酸類;甲基-5-降莰烯-2,3-二羧酸、5-羧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基二環[2.2.1]庚-2-烯等含羧基之二環不飽和化合物類;順丁烯二酸酐、檸康酸酐、依康酸酐、3-
乙烯基苯二甲酸酐、4-乙烯基苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氫苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氫苯二甲酸酐、二甲基四氫苯二甲酸酐、脫水5,6-二羧基二環[2.2.1]庚-2-烯等不飽和二羧酸酐類;琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯等2價以上之多元羧酸的不飽和單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯類;α-(羥基甲基)丙烯酸之類,在同一分子中含有羥基及羧基的不飽和丙烯酸酯類等。
其中,由共聚反應性之點及所獲得之樹脂對鹼水溶液的溶解性之點而言,以丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐等為佳。
(b)之例可列舉如:含有碳數2至4的環狀醚構造及乙烯性不飽和鍵的單體。碳數2至4的環狀醚構造之例可列舉如:環氧乙烷環、氧環丁烷環、四氫呋喃環等,可單獨使用1種,亦可以多種組合使用。(b)係以含有碳數2至4的環狀醚構造及(甲基)丙烯醯氧基的單體為佳。
(b)之例可列舉如:(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸β-甲基環氧丙酯、(甲基)丙烯酸β-乙基環氧丙酯、環氧丙基乙烯基醚、鄰-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、間-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、對-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、α-甲基-鄰-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、α-甲基-間-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、α-甲基-對-乙烯基苯甲基環氧丙基醚、2,3-二(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,4-二(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,5-二(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,6-二(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,3,4-三(環氧丙氧基甲基)苯
乙烯、2,3,5-三(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,3,6-三(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、3,4,5-三(環氧丙氧基甲基)苯乙烯、2,4,6-三(環氧丙氧基甲基)苯乙烯等含環氧乙烷環與乙烯性不飽和鍵之單體;3-甲基-3-甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷、3-甲基-3-丙烯醯氧基甲基氧環丁烷、3-乙基-3-甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷、3-乙基-3-丙烯醯氧基甲基氧環丁烷、3-甲基-3-甲基丙烯醯氧基乙基氧環丁烷、3-甲基-3-丙烯醯氧基乙基氧環丁烷、3-乙基-3-甲基丙烯醯氧基乙基氧環丁烷、3-乙基-3-丙烯醯氧基乙基環氧乙烷等含氧環丁烷環與乙烯性不飽和鍵之單體;丙烯酸四氫呋喃甲酯(例如:大阪有機化學工業(股)製造之“Viscoat V#150”)、甲基丙烯酸四氫呋喃甲酯等含有四氫呋喃環與乙烯性不飽和鍵之單體。
(b),由於樹脂[K2]至[K4]在製造時的反應性提高而不易餘留未反應的(b),(b)係以含環氧乙烷環與乙烯性不飽和鍵之單體為佳。
(c)之例可列舉如:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸烷-8-酯(該技術領域之慣用名:(甲基)丙烯酸二環戊酯、或(甲基)丙烯酸三環癸酯)、(甲基)丙烯酸三環[5.2.1.02,6]
癸烷-8-酯(該技術領域之慣用名:(甲基)丙烯酸二環戊烯酯)、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸炔丙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯等(甲基)丙烯酸酯類;(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯類;順丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二乙酯、依康酸二乙酯等二羧酸二酯;二環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-(2’-羥基乙基)二環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙氧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羥基二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(羥基甲基)二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(2'-羥基乙基)二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二甲氧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二乙氧基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-乙基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基甲基-5-甲基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-第三丁氧基羰基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-環己氧基羰基二環[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧基羰基二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(第三丁氧基羰基)二環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(環己氧基羰基)二環[2.2.1]庚-2-烯等二環不飽和化合物類;N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、
N-苯甲基順丁烯二醯亞胺、N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺苯甲酸酯、N-琥珀醯亞胺基-4-順丁烯二醯亞胺丁酸酯、N-琥珀醯亞胺基-6-順丁烯二醯亞胺己酸酯、N-琥珀醯亞胺基-3-順丁烯二醯亞胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)順丁烯二醯亞胺等二羰基醯亞胺衍生物類;苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對-甲氧基苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、氯亞乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙酸乙烯酯、1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等。
其中,由共聚反應性及耐熱性之點而言,以苯乙烯、乙烯基甲苯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯甲基順丁烯二醯亞胺、二環[2.2.1]庚-2-烯等為佳。
樹脂[K1]中來自於各單體的構造單位之比例,以構成樹脂[K1]的全構造單位為基準,來自於(a)的構造單位為2至70莫耳%,且來自於(c)的構造單位為30至98莫耳%為佳。同時以來自於(a)的構造單位為10至70莫耳%,且來自於(c)的構造單位為30至90莫耳%更佳。
樹脂[K1]的構造單位之比例,在上述範圍時,會有硬化性組成物的保存安定性、形成硬化圖案時的顯像性、及所得之硬化圖案的耐溶劑性優良之傾向。
樹脂[K1],可參考如:文獻「高分子合成實驗法」(大津隆行著 發行所化學同人(股)第1版第1次印刷1972年3月1日發行)中所記載之方法及該文獻中所記
載的引用文獻製造。
具體上,可以預定量之(a)及(c)、聚合起始劑及溶劑加入反應容器中,再以如以氮氣取代氧氣脫去氧氣環境,並於攪拌下加熱及保溫之方法操作。再者,當中所使用之聚合起始劑及溶劑,並無特別之限定,可使用該技術領域中一般所使用的物品。例如,聚合起始劑可列舉如:偶氮化合物(2,2’-偶氮二異丁腈、2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)等)及有機過氧化物(過氧化苯甲醯等);溶劑只要可溶解各單體者即可,可含於本發明之硬化性組成物中的溶劑(F)可如後述所列舉之溶劑等。
同時,獲得的共聚物可直接以反應後的溶液使用,亦可使用經過濃縮或稀釋的溶液,亦可以再沉澱等方法取出的固體(粉體)使用。特別是,作為該聚合時之溶劑,藉由使用後述之溶劑(F),由於反應後之溶液直接使用於本發明之硬化性組成物之調製,因此可簡化本發明的硬化性組成物之製造步驟。
樹脂[K2]可先獲得(a)與(c)的共聚物,再以(b)所含之碳數2至4的環狀醚加成於來自於(a)的羧酸及/或羧酸酐而製造。
首先(a)與(c)的共聚物可以與樹脂[K1]之製造方法所記載的方法同樣地製造。該情形時,各由來的構造單位之比例係以與樹脂[K1]中所列舉的比例相同為佳。
其次,以前述共聚物中來自於(a)的羧酸及/或羧酸酐之一部分,與(b)所含的碳數2至4的環狀醚反應。
然後繼續製造(a)與(c)之共聚物,先將燒瓶內的氣體由氮氣取代為空氣,並將(b)、羧酸或羧酸酐與環狀醚間反應之反應催化劑(例如三(二甲基胺基甲基)酚等)及聚合抑制劑(例如氫醌)等加入燒瓶內,再於如60至130℃下,進行反應1至10小時,即可製造樹脂[K2]。
(b)的使用量,相對於100莫耳之(a),以5至80莫耳為佳,10至75莫耳更佳。在該範圍時,有使硬化性組成物的保存安定性、形成硬化圖案時之顯像性,以及,所得之硬化圖案的耐溶劑性、耐熱性、機械強度及靈敏度平衡良好的傾向。
前述反應催化劑的使用量,相對於(a)、(b)及(c)的合計量100質量份,以0.001至5質量份為佳。前述聚合抑制劑的使用量,相對於(a)、(b)及(c)的合計量100質量份,以0.001至5質量份為佳。
加入的方法、反應溫度及時間等反應條件,可考慮製造設備及聚合的發熱量等之後適當地調整。而且,亦與聚合條件相同,可考慮製造設備及聚合的發熱量等,再適當地調整加入的方法及反應溫度。
樹脂[K3],第一階段可以與上述樹脂[K1]的製造方法同樣地操作,獲得(b)與(c)的共聚物。與上述相同,所獲得之共聚物可將反應後的溶液直接使用,亦可使用經過濃縮或稀釋的溶液,亦可以再沉澱等的方法所取出之固體(粉體)使用。
來自於(b)及(c)的構造單位之比例,相對於前述構成共
聚物的全構造單位之合計之莫耳數,以各來自於(b)的構造單位為5至95莫耳%,來自於(c)的構造單位為5至95莫耳%為佳。而且,以來自於(b)的構造單位為10至90莫耳%,來自於(c)的構造單位為10至90莫耳%更佳。
然後,再以與樹脂[K2]的製造方法相同之條件,經由對來自於含於(b)及(c)之共聚物所含之(b)的環狀醚,以含於(a)的羧酸或羧酸酐反應加成,即可獲得樹脂[K3]。
前述之共聚物反應的(a)之使用量,相對於(b)100莫耳,以5至80莫耳為佳。
樹脂[K4]係對樹脂[K3],再以羧酸酐反應的樹脂。即在環狀醚與羧酸或羧酸酐反應所產生的羥基上,再以羧酸酐反應加成。
羧酸酐之例可列舉如:順丁烯二酸酐、檸康酸酐、依康酸酐、3-乙烯基苯二甲酸酐、4-乙烯基苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氫苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氫苯二甲酸酐、二甲基四氫苯二甲酸酐、脫水5,6-二羧基二環[2.2.1]庚-2-烯等。羧酸酐的使用量,相對於(a)之使用量1莫耳,以0.5至1莫耳為佳。
樹脂(E)之例,具體上可列舉如:(甲基)丙烯酸苯甲酯/(甲基)丙烯酸共聚物、苯乙烯/(甲基)丙烯酸共聚物等之樹脂[K1];(甲基)丙烯酸苯甲酯/(甲基)丙烯酸共聚物以(甲基)丙烯酸環氧丙酯加成之樹脂、(甲基)丙烯酸三環癸酯/苯乙烯/(甲基)丙烯酸共聚物以(甲基)丙烯酸環氧丙
酯加成之樹脂、(甲基)丙烯酸三環癸酯/(甲基)丙烯酸苯甲酯/(甲基)丙烯酸共聚物以(甲基)丙烯酸環氧丙酯加成之樹脂等之樹脂[K2];(甲基)丙烯酸三環癸酯/(甲基)丙烯酸環氧丙酯之共聚物以(甲基)丙烯酸反應的樹脂、(甲基)丙烯酸三環癸酯/苯乙烯/(甲基)丙烯酸環氧丙酯之共聚物以(甲基)丙烯酸反應的樹脂等之樹脂[K3];(甲基)丙烯酸三環癸酯/(甲基)丙烯酸環氧丙酯之共聚物以(甲基)丙烯酸反應的樹脂再以四氫苯二甲酸酐反應的樹脂等之樹脂[K4]等。
其中,樹脂(E)以含有選自:樹脂[K2]、樹脂[K3]及樹脂[K4]所成群組中的至少一種為佳。
樹脂(E)換算聚苯乙烯的重量平均分子量,以3,000至100,000為佳,5,000至50,000更佳,5,000至30,000又更佳。分子量在前述範圍內時,會有提高硬化膜之硬度、增加硬化圖案的殘膜率、使組成物層中未曝光部分對顯像液之溶解性良好、提高硬化圖案的解析度之傾向。
樹脂(E)的分子量分布[重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn)],以1.1至6為佳,1.2至4更佳。
樹脂(E)的酸價,以50至170mg-KOH/g為佳,60至150mg-KOH/g更佳,70至135mg-KOH/g又更佳。其中酸價係中和樹脂(E)1g所須要的氫氧化鉀之量(mg)的測定值,可如使用氫氧化鉀水溶液滴定求出。
樹脂(E)的含量,相對於固形成分的總量,以7至65質量%為佳,13至60質量%更佳,17至55質量%又更佳。在樹脂(E)的含量在前述範圍內時,會有更提高
硬化圖案之解析度及硬化圖案的殘膜率之傾向。
<溶劑(F)>
溶劑(F),只要可溶解聚合性化合物(B)、聚合起始劑(C)、硫醇化合物(D)及樹脂(E)者即可,並無特別之限定,亦可使用該技術領域中通常使用的溶劑。其例可列舉如:酯溶劑(分子內含-COO-,而不含-O-的溶劑)、醚溶劑(分子內含-O-,而不含-COO-的溶劑)、醚-酯溶劑(分子內含-COO-及-O-的溶劑)、酮溶劑(分子內含-CO-,而不含-COO-的溶劑)、醇溶劑(分子內含OH,而不含-O-、-CO-及-COO-的溶劑)、芳香族烴溶劑、醯胺溶劑、二甲基亞碸等。
酯溶劑之例可列舉如:乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、2-羥基異丁酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸正戊酯、乙酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙酸環己醇酯及γ-丁內酯等。
醚溶劑之例可列舉如:乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單丙基醚、乙二醇單丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚、丙二醇單丁基醚、3-甲氧基-1-丁醇、3-甲氧基-3-甲基丁醇、四氫呋喃、四氫吡喃、1,4-二噁烷、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二丙基醚、二乙二醇二丁基醚、苯甲醚、苯基乙醚及甲基苯甲
醚等。
醚-酯溶劑之例可列舉如:甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯、乙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯及二乙二醇單丁基醚乙酸酯等。
酮溶劑之例可列舉如:4-羥基-4-甲基-2-戊酮、丙酮、2-丁酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、4-甲基-2-戊酮、環戊酮、環己酮及異佛酮等。
醇溶劑之例可列舉如:甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、丙二醇及丙三醇等。
芳香族烴溶劑之例可列舉如:苯、甲苯、二甲苯及三甲苯等。
醯胺溶劑之例可列舉如:N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺及N-甲基吡咯啶酮等。
溶劑以:丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯、丙二醇單甲基醚、3-乙氧基丙酸乙酯、乙二醇單甲基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、4-羥基-4-甲
基-2-戊酮或甲苯為佳。
溶劑(F)之含有率,相對於硬化性組成物之總量,以70至95質量%為佳,75至92質量%更佳。換言之,硬化性組成物的固形成分,以5至30質量%為佳,8至25質量%更佳。溶劑(F)之含量在前述範圍內時,會有塗布時使組成物層的平坦性更佳、且易於形成適當膜厚的硬化膜之傾向。
<塗平劑(G)>
塗平劑(G)之例可列舉如:聚矽氧系界面活性劑、氟系界面活性劑及含氟原子聚矽氧系界面活性劑等。此類物品,亦可在側鏈上含聚合性基。
聚矽氧系界面活性劑之例可列舉如:分子內含矽氧烷鍵的界面活性劑等。具體上,可列舉如:Dow Corning Toray Silicone DC3PA、同系列SH7PA、同系列DC11PA、同系列SH21PA、同系列SH28PA、同系列SH29PA、同系列SH30PA、同系列SH8400(商品名:Dow Corning Toray日本公司製造)、KP321、KP 322、KP 323、KP 324、KP 326、KP 340、KP 341(信越化學工業公司製造)、TSF 400、TSF 401、TSF 410、TSF 4300、TSF 4440、TSF 4445、TSF 4446、TSF 4452、TSF 4460(Momentive Performance Materials合併日本公司製造)等。
前述氟系界面活性劑之例可列舉如:分子內含氟碳鏈的界面活性劑等。具體上,可列舉如:Fluorad(註冊商標)FC430、同系列FC431(住友3M製造)、
MEGAFACE(註冊商標)F142D、同系列F171、同系列F172、同系列F173、同系列F177、同系列F183、同系列F554、同系列R30、同系列RS-718-K(DIC公司製造)、F-top(註冊商標)EF301、同系列EF303、同系列EF351、同系列EF352(三菱Material電子化成公司製造)、Surflon(註冊商標)S381、同系列S382、同系列SC101、同系列SC105(旭玻璃公司製造)及E5844(Dikin Fine Chemical研究所製造)等。
前述含氟原子的聚矽氧系界面活性劑之例可列舉如:分子內含矽氧烷鍵及氟碳鏈的界面活性劑等。具體上,可列舉如:MEGAFACE(註冊商標)R08、同系列BL20、同系列F475、同系列F477及同系列F443(DIC公司製造)等。
塗平劑(G)之含量,相對於硬化性組成物之總量,以0.001質量%以上0.2質量%以下為佳,0.002質量%以上0.1質量%以下更佳,0.01質量%以上0.05質量%以下再更佳。在塗平劑(G)之含量在前述範圍內時,可使硬化膜的平坦性更為良好。
而且,本發明之硬化性組成物亦可視其須要,再含有填充劑、其他之高分子化合物、促密合劑、抗氧化劑、光安定劑、鏈轉移劑等,該技術領域一般已知的添加劑。
<硬化膜>
本發明之硬化膜可以本發明之硬化性組成物塗布於基板,再以光或熱作用硬化獲得。本發明之硬化膜可形成於
上述基板之全面上,亦可形成於上述基板之部分(即硬化圖案)。在上述基板之部分上形成硬化膜的方法可例舉:光蝕刻法、噴墨印刷法、印刷法等。其中,以光蝕刻法為佳。光蝕刻法係以本發明之硬化性組成物塗布於基板,並視其須要加以乾燥形成組成物層,再介光罩將該組成物層曝光,進行顯像的方法。
在基板之全面形成硬化膜的方法可以如以本發明之硬化性組成物塗布於基板,並視其須要加以乾燥形成組成物層,再加熱該組成物層及/或曝光該組成物層全面的方法。
基板之例可列舉如:石英玻璃、硼矽酸玻璃、氧化鋁矽酸鹽玻璃、表面塗氧化矽膜之鈉鈣玻璃等玻璃板、及聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯等樹脂板,聚矽氧、前述基板上形成鋁、銀、銀/銅/鈀合金薄膜等者等。
以光蝕刻法形成硬化圖案係可以一般已知或慣用之裝置及條件進行。例如,可如下製作。
首先,以硬化性組成物塗布在基板上,並以加熱乾燥(預焙)及/或減壓乾燥以去除溶劑等揮發成分而獲得組成物層。塗布方法之例可列舉如:旋塗法、狹縫式塗布法、細縫式旋轉塗布法等。
進行加熱乾燥時之溫度,以30至120℃為佳,50至110℃更佳。同時加熱時間以10秒至60分鐘為佳,30秒至30分鐘更佳。
進行減壓乾燥時,以在50至150Pa的壓力下,在20
至25℃之溫度範圍下進行為佳。
組成物層的膜厚並無特別之限定,可視目的之硬化圖案的膜厚適當地選擇。
其次,組成物層係在形成目的之硬化圖案時可介由光罩曝光。該光罩上之圖案並無特別之限定。
曝光所使用之光源以可發生250至450nm波長之光的光源為佳。可以如,以該波長之光,對應聚合起始劑的吸收波長,對436nm附近、408nm附近、或365nm附近的光,以帶通濾光鏡選擇性地濾光。具體上,可列舉如:汞燈、發光二極體、金屬鹵化物燈、鹵素燈等。
為可以平行光線均一地照射全部之曝光面,或使光罩可對準形成組成物層的基板之正確位置,以使用光罩對準曝光機及步進機等曝光裝置為佳。經過曝光的組成物層係再經由該組成物層中所含之聚合性化合物等聚合而硬化。
曝光後之組成物層再經由接觸顯像液顯像,即可使組成物層未曝光的部分溶解於顯像液中而去除,獲得硬化圖案。顯像液之例可列舉如:氫氧化鉀、碳酸氫鈉、碳酸鈉、氫氧化四甲基銨等鹼性化合物之水溶液及有機溶劑。鹼性化合物在水溶液中之濃度,以0.01至10質量%為佳,0.03至5質量%更佳。有機溶劑可列舉與上述溶劑(F)所例舉之相同者。同時,顯像液亦可含界面活性劑。
顯像方法可為槳法、浸漬法及噴塗法等之任一者。而且顯像時基板亦可傾斜任意之角度。
經過顯像所獲得之硬化圖案,以再進行加
熱(後焙)為佳。加熱之溫度,以150至250℃為佳,160至235℃更佳。加熱時間,以1至120分鐘為佳,10至60分鐘更佳。在顯像後進行加熱,由於可使硬化圖案中所含之未反應的聚合性化合物等進行聚合,因此可獲得耐藥品性更為優良之硬化圖案。
以紫外光或可見光對硬化膜照射,本發明之硬化膜可發出與所照射之光的波長不同之光。因此在形成本發明的硬化膜時所使用之硬化性組成物時,可經由選擇該硬化性組成物中所含之量子點的成分及粒徑,而選擇所發出的光之波長。
由於本發明之硬化膜具有如上述之變換照射光的波長之機能,因此可利用作為顯示裝置的色彩變換層。此類顯示裝置之例可列舉如記載於:日本特開2006-309219號公報、日本特開2006-310303號公報、日本特開2013-15812號公報、日本特開2009-251129號公報、日本特開2014-2363號公報等之中的顯示裝置。
本發明之硬化性組成物可在顯像時以高殘膜率獲得硬化圖案,而且由於該硬化圖案於發光時的量子產率優異,因此可使用於顯示裝置,特別是在液晶顯示裝置的色彩變換層。
以下,對本發明再以實施例,更詳細地說明。例中之「%」及「份」,除非特別指明,係質量%及質量份。
合成例1
先於具有攪拌裝置、滴入漏斗、冷凝器、溫度計及氣體入口管的燒瓶中加入丙二醇單甲基醚乙酸酯100份,再於替換氮氣下進行攪拌昇溫至120℃。其次,再於含有甲基丙烯酸苯甲酯40份及甲基丙烯酸20份的單體混合物中添加相對於單體混合物100份的聚合起始劑2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)1份,然後由滴入漏斗以2小時滴入燒瓶中,並且,在120℃下攪拌2小時獲得共聚物溶液。其次,再替換燒瓶內為空氣,並在上述共聚物溶液中加入甲基丙烯酸環氧丙酯10份、三苯基膦0.44份及甲基氫醌0.08份,並且在120℃下繼續反應,在固形成分酸價成為130mg-KOH/g時終止反應。其中,再加入丙二醇單甲基醚乙酸酯80份之後,獲得固形成分30%之樹脂E1溶液。該樹脂E1的重量平均分子量為3.0×104。
樹脂的重量平均分子量(Mw)之測定係使用GPC法並依以下的條件進行。
裝置:K2479(島津製作所製造)
管柱:SHIMADZU Shim-pack GPC-80M
管柱溫度:40℃
溶劑:四氫呋喃
流速:1.0mL/min
檢測器:RI
校正用標準品:TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40、F-4、F-288、A-2500、A-500(東曹公司製造)
<硬化性組成物之調製>
硬化性組成物之調製可各使用以下之物品。
CZ520:NN-LABS公司製造之量子點,10%甲苯分散液,內核-外殼型(內核:CdSe,外殼:ZnS)。
CZ620:NN-LABS公司製造之量子點,10%甲苯分散液,內核-外殼型(內核:CdSe,外殼:ZnS)。
KAYARAD(註冊商標)DPHA:日本化藥(股)製造,六丙烯酸二新戊四醇酯。
Irgacure(註冊商標)907:BASF公司製造之胺基苯烷基酮、2-甲基-1-(4-甲基氫硫基苯基)-2-N-嗎福林基丙烷-1-酮。
Irgacure(註冊商標)OXE 01:BASF公司製造之肟化合物、N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基氫硫基苯基)-辛烷-1-酮-2-亞胺。
PEMP:SC有機化學(股)製造,新戊四醇四(3-氫硫基丙酸酯)
Dow Corning Toray Silicone SH8400:Dow Corning Toray日本公司之商品,聚醚改質矽氧油。
〔實施例1〕
先以240份之(A)量子點“CZ520”、及日本BYK(股)
製造之“DISPERBYK-180(主成分:含酸基的共聚物之烷醇銨鹽)”24份混合,再以珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”40份、(C)聚合起始劑“Irgacure 907”8份、(D)硫醇化合物“PEMP”3份、作為(E)樹脂之60份的樹脂E1(換算為固形成分)、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯654份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
〔實施例2〕
先以240份之(A)量子點“CZ520”、及東亞合成(股)製造之“TO-1382”(五丙烯酸二新戊四醇酯與琥珀酸之單酯化物、六丙烯酸二新戊四醇酯以及五丙烯酸二新戊四醇酯之混合物)24份混合,再以珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”40份、(C)聚合起始劑“Irgacure 907”8份、(D)硫醇化合物“PEMP”3份、作為(E)樹脂之60份的樹脂E1(換算為固形成分)、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯654份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
〔實施例3〕
先以240份之(A)量子點“CZ620”、及日本BYK(股)製造之“DISPERBYK-180”24份混合,再以珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”40份、(C)聚合起始劑“Irgacure
907”8份、(D)硫醇化合物“PEMP”3份、作為(E)樹脂之60份的樹脂E1(換算為固形成分)、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯654份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
〔實施例4〕
先以240份之(A)量子點“CZ620”、及東亞合成(股)製造之“TO-1382”24份混合,再以珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”40份、(C)聚合起始劑“Irgacure 907”8份、(D)硫醇化合物“PEMP”3份、作為(E)樹脂之60份的樹脂E1(換算為固形成分)、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯654份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
〔實施例5〕
先以271.7份之(A)量子點“CZ620”、及東亞合成(股)製造之“TO-1382”24份混合,再以珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”40份、(C)聚合起始劑“Irgacure OXE 01”10份、(D)硫醇化合物“PEMP”0.1份、作為(E)樹脂之60份的樹脂E1(換算為固形成分)、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯393.6份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
〔實施例6〕
除了各將(D)硫醇化合物"PEMP"的調配量變更為0.5
份、(F)溶劑的調配量變更為394.8份以外,如實施例5之同樣操作而獲得硬化性組成物。
〔實施例7〕
除了各將(A)量子點“CZ620”的調配量變更為272.7份、(D)硫醇化合物“PEMP”的調配量變更為1.0份、(F)溶劑的調配量變更為396.3份以外,如實施例5之同樣操作而獲得硬化性組成物。
〔實施例8〕
除了各將(A)量子點“CZ620”的調配量變更為276.8份、(D)硫醇化合物“PEMP”的調配量變更為3.0份、(F)溶劑的調配量變更為402.2份以外,如實施例5之同樣操作而獲得硬化性組成物。
〔實施例9〕
除了各將(A)量子點“CZ620”的調配量變更為291.2份、(D)硫醇化合物“PEMP”的調配量變更為10.0份、(F)溶劑的調配量變更為423.1份以外,如實施例5之同樣操作而獲得硬化性組成物。
〔實施例10〕
除了各將(A)量子點“CZ620”的調配量變更為311.7份、(D)硫醇化合物“PEMP”的調配量變更為20.0份、(F)溶劑的調配量變更為452.9份以外,如實施例5之同樣操作而獲得硬化性組成物。
〔比較例〕
先以220份之(A)量子點“CZ520”、及日本BYK(股)
製造之“DISPERBYK-180”22份混合,再將珠磨機完全分散量子點調製成量子點分散液。然後,再以(B)聚合性化合物“KAYARAD DPHA”100份、作為(F)溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯677份、及(G)塗平劑“Dow Corning Toray Silicone SH8400”0.1份混合而獲得硬化性組成物。
<硬化膜之製作>
先在5cm方形之玻璃基板(EAGLE 2000;Corning日本公司製造)上,將硬化性組成物以旋塗法塗布之後,於100℃下預焙1分鐘以獲得組成物層。冷卻之後,再使用曝光機(TME-150RSK;TOPCON(股)製造),在大氣下以150mJ/cm2的曝光量(365nm基準)對組成物層全面照射光。照射光之後,再於水系顯像液(包含非離子系界面活性劑0.12%及氫氧化鉀0.04%之水溶液)中於23℃下浸漬60秒,之後經過水清洗,再於烘箱中,在200℃下進行後焙10分鐘而獲得硬化膜。
<膜厚測定>
所得之硬化膜的膜厚,可以膜厚測定裝置(DEKTAK 3;日本真空技術(股)製造)測定。
<量子產率比之測定>
對於硬化性組成物調製所使用的量子點分散液,使波長450nm下之吸光度成為0.4之方式加入甲苯,製作成稀釋分散液。之後對該稀釋分散液及上述中所得之硬化膜,以螢光量子產率測定裝置(C9920-02G;浜松光科技(股)製造),各測定激發波長450nm下的量子產率。再以所測定之
量子產率依照下述式(y)計算量子產率比。式(y)中,Qf表示硬化膜之量子產率,Qs表示量子點稀釋分散液之量子產率。
量子產率比=Qf/Qs×100 (y)
<發光色之觀察>
對於所得之硬化膜,在暗室下以波長350nm之UV燈照射,並以目視觀察硬化膜的發光色。
<殘膜率之評量>
先在5cm方形之玻璃基板(EAGLE 2000;Corning日本公司製造)上,將硬化性組成物以旋塗法塗布之後,於100℃下預焙1分鐘以獲得組成物層。冷卻之後,再以形成組成物層的基板與石英玻璃製光罩之間隔為100μm,使用曝光機(TME-150RSK;TOPCON(股)製造),在大氣下,介由光罩,以80mJ/cm2的曝光量(365nm基準)對組成物層照射光。光罩係使用可形成100μm線/間距圖案者。照射光後的組成物層之厚度係以膜厚測定裝置(DEKTAK 3;日本真空技術(股)製造)測定。
其次,再將照射光之後形成組成物層之基板,在水系顯像液(含非離子系界面活性劑0.12%及氫氧化鉀0.04%之水溶液)中於23℃下浸漬60秒顯像,經過水清洗後即獲得硬化圖案。所得之硬化圖案之膜厚,可以膜厚測定裝置(DEKTAK 3;日本真空技術(股)製造)測定。
硬化圖案之殘膜率以式(z)求出。殘膜率為90%以上時,可判斷硬化性組成物之靈敏度良好。式(z)中,Td表示
硬化圖案之膜厚,Te表示照射光後之組成物層的膜厚。
殘膜率(%)=Td/Te×100 (z)
再者,比較例之硬化性組成物由於照射光之後的組成物層全部溶於顯像液中,基板上無法取得硬化圖案,因此無法觀察量子產率比及發光色。
藉由本發明之硬化性組成物,顯像時可以高殘膜率獲得硬化圖案,且該硬化圖案在發光時之量子產率優異。
Claims (6)
- 一種硬化性組成物,其係含有量子點、聚合起始劑、聚合性化合物及硫醇化合物。
- 如申請專利範圍第1項所述之硬化性組成物,其中硫醇化合物為分子內含2個以上的氫硫基之硫醇化合物。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之硬化性組成物,其中量子點為選自:12族元素與16族元素之化合物、13族元素與15族元素之化合物以及14族元素與16族元素之化合物所成群組中之至少一種。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之硬化性組成物,其中再含樹脂。
- 一種硬化膜,其係以申請專利範圍第1至4項中任一項所述之硬化性組成物所形成。
- 一種顯示裝置,其包含申請專利範圍第5項所述之硬化膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-180957 | 2014-09-05 | ||
JP2014180957 | 2014-09-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201616223A true TW201616223A (zh) | 2016-05-01 |
TWI683178B TWI683178B (zh) | 2020-01-21 |
Family
ID=55439668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104128773A TWI683178B (zh) | 2014-09-05 | 2015-09-01 | 硬化性組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6666842B2 (zh) |
KR (1) | KR102342178B1 (zh) |
CN (1) | CN106604937B (zh) |
TW (1) | TWI683178B (zh) |
WO (1) | WO2016035602A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US11016384B2 (en) | 2016-06-14 | 2021-05-25 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter using same |
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---|---|---|---|---|
TWI628193B (zh) | 2014-03-04 | 2018-07-01 | 納諾柯技術有限公司 | 量子點聚合物膜之製造方法 |
KR102092165B1 (ko) * | 2014-09-23 | 2020-03-23 | 동우 화인켐 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
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JP6834213B2 (ja) * | 2015-07-29 | 2021-02-24 | Jsr株式会社 | 樹脂組成物、膜、波長変換部材、及び膜の形成方法 |
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2015
- 2015-08-25 WO PCT/JP2015/073785 patent/WO2016035602A1/ja active Application Filing
- 2015-08-25 CN CN201580047519.8A patent/CN106604937B/zh active Active
- 2015-08-25 JP JP2016546561A patent/JP6666842B2/ja active Active
- 2015-08-25 KR KR1020177008976A patent/KR102342178B1/ko active IP Right Grant
- 2015-09-01 TW TW104128773A patent/TWI683178B/zh active
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016035602A1 (ja) | 2016-03-10 |
JP6666842B2 (ja) | 2020-03-18 |
JPWO2016035602A1 (ja) | 2017-06-15 |
TWI683178B (zh) | 2020-01-21 |
KR20170048530A (ko) | 2017-05-08 |
CN106604937B (zh) | 2020-01-07 |
CN106604937A (zh) | 2017-04-26 |
KR102342178B1 (ko) | 2021-12-23 |
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