TW201523098A - 光配向照射裝置及光配向照射裝置之開口量調整方法 - Google Patents

光配向照射裝置及光配向照射裝置之開口量調整方法 Download PDF

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Mizuki Nakamura
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Shinetsu Eng Co Ltd
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Abstract

一種具備有調整開口之遮蔽量之部分遮蔽構件的光配向照射裝置，其測定自開口所照射之累積光量，用於決定部分遮蔽構件之遮蔽量。 本發明之光配向照射裝置之特徵在於執行如下之處理：配向處理，其一方面利用掃描部使偏光光線照射部與載置台以相對之方式產生移動，一方面將自開口所射出之偏光光線加以照射至基板；及測定處理，其在各部分遮蔽構件位置，一方面利用掃描部使載置台與偏光光線照射部以相對之方式產生移動，一方面使光感測器接收自開口所射出之偏光光線，而加以測定累積光量，該累積光量係將利用光感測器所測定之照度而以時間之方式加以累積。

Description

光配向照射裝置及光配向照射裝置之開口量調整方法
本發明係關於一種光配向照射裝置，其係於液晶顯示板製造領域中加以使用者，尤其用於在液晶顯示裝置所使用之基板上以使液晶分子整齊排列為較理想之角度及方向之方式對配向膜賦予配向性。
隨著近年來液晶顯示領域之利用擴大而需求增大，而強烈要求改善習知之液晶顯示裝置之缺點即視角、對比率、動畫性能顯示等。尤其於在液晶顯示基板上對液晶分子賦予配向性之配向膜中，正推進配向方向之均一化、預傾角之賦予、單一像素內之複數個區域之形成(多域)等各種改善。
至今，對形成於液晶顯示基板上之聚合物層(配向膜)賦予配向特性之優點及用以實現此之技術已廣為人知。作為此種賦予配向特性之方法，有稱為布摩擦法之方法，該方法係如下處理：一方面使捲繞有布之輥轉動，一方面使基板移動，從而朝一方向有力地摩擦表面之聚合物層。
然而，於該布摩擦法中，被指出有靜電之產生、配向膜表面所產生之損傷、粉塵之產生等各種缺點。尤其是，近年來，於液晶顯示裝置高精細化之狀況下，可認為即便係微小之損傷亦會對所觀察之畫質造成影響。為了避免該布摩擦法之問題，已知有對 配向膜照射紫外線區域之偏光光線而賦予配向特性之光摩擦法。
對塗佈於基板面之配向膜照射偏光光線而進行配向處理之光配向照射裝置中，有利用線柵偏光片對照射棒狀之燈之光源生成偏光照射光之類型者。於該照射裝置中，雖然棒狀之燈之出射光之沿著長軸之照度相對均一，但存在因線柵偏光片本身之性能之偏差而導致照度產生偏差的問題，為了使照度均一化，有可將沿一方向排列配置之遮光手段在與所排列之一方向交叉之方向上進行調整者(專利文獻1)。
另一方面，利用自光源之出射部分向基板照射面照射大致平行光之紫外線燈至少有沿照射區域之長軸方向排列複數個之類型者，於該類型之配向照射裝置中，理論上有如下等優點：燈之長尺寸方向之長度並無限制；及因照射光為大致平行光而可照射優質之光；進而，因利用波段之相依性非常少之布魯斯特型偏光片生成偏光照射光而可利用範圍較廣之波段之偏光光線。
進而，因可出射大致平行光之優點而可拉開照射光源之燈部與基板照射面之距離，並且不會照射來自燈之直射光，而係對基板照射面照射通過大致100%去除可見光或紅外線之濾光片之光，故可避免於基板面之額外之溫度上升。
如此，利用自光源之出射部分向基板照射面照射大致平行光之紫外線燈沿至少照射區域之長軸方向排列複數個之類型中，光之品質或對於熱之特性良好，另一方面，照射大致平行光之紫外線燈於個體間存在微小之照度之偏差，從而會因沿照射區域之至少長軸方向排列複數個紫外線燈而產生沿照射區域之長軸方向之照度偏差。
進而一方面於長軸方向上略微錯開沿長軸方向排列有複數個之燈群組，一方面於短軸方向上亦排列數行燈群組，並使各行之大致矩形之照射區域重疊，藉此可緩和沿長軸方向之照度偏差。又，亦有如下者：即便不使上述各行之大致矩形之照射區域重疊，亦可藉由沿相對於基板之搬送方向正交之方向排列多排而抑制偏差(專利文獻2)。
然而，將沿長軸方向排列有複數個之燈群組排列非常多之行數並使各行之大致矩形之照射區域重疊，會導致朝向布魯斯特型偏光片之入射角度變為來自各個方向，由此獲得之偏光光線之消光比會降低，從而導致作為布魯斯特型之優點之「優質之光」之意義受損，並且必須較大地設置布魯斯特型偏光片之受光區域，偏光片之寬度方向之大小變得非常大，因而並不實用。
為了解決該問題，亦可考慮將照射光源之燈配置於距基板或布魯斯特型偏光片部分非常遠之距離，而將朝布魯斯特型偏光片之入射角度設為銳角，但於該情形時，裝置之高度變得非常高，因而亦不實用。
又，即便於在單獨確認並分選照射燈之照度而使初始照度一致之狀態下進行照射的情形時，由於各照射燈之經時性之照度衰減略微存在偏差，並非與初始之照射燈照度連動地衰減，故擔憂產生時間變化引起之偏差。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利第5177266號公報
專利文獻2：日本專利第5077465號公報
另一方面，根據實驗結果判明到如下情況，即，於對於光配向材料之配向處理中，於適當之照度範圍內，並不依存於照度本身之偏差，而係以照度與照射時間之積表示之累積光量占較大因素，因此可知，即便於適當之照度範圍內存在照度之偏差，亦可藉由使累積光量固定而實現穩定之配向處理。
本發明係一種設置有可調整開口之遮蔽量之部分遮蔽構件的光配向照射裝置，其以使自開口照射之偏光光線之光量適合於配向處理之方式進行部分遮蔽構件之位置調整，其目的在於進行部分遮蔽構件之位置調整所需的各部分遮蔽構件位置上之累積光量之測定。
因此，本發明之光配向照射裝置係採用以下之構成。
本發明之光配向照射裝置係具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件、光感測器及控制部，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板，上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽之遮蔽量之方式而構成為能夠移動， 上述光感測器係作為能夠測定入射光之照度，上述控制部係作為能夠執行配向處理及測定處理，上述配向處理係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至上述基板，上述測定處理係在各上述部分遮蔽構件位置，一方面利用上述掃描部使上述載置台與上述偏光光線照射部以相對之方式產生移動，一方面使上述光感測器接收自上述開口所射出之偏光光線，而加以測定累積光量，該累積光量係將利用上述光感測器所測定之照度而以時間之方式加以累積。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述控制部係執行調整處理，該調整處理係根據於每個上述部分遮蔽構件所測定之累積光量而決定遮蔽量，並根據所決定之遮蔽量而對上述部分遮蔽構件進行位置調整。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述調整處理係自在上述測定處理中之上述部分遮蔽構件位置，使上述部分遮蔽構件於遮蔽上述開口之方向進行移動，而藉此進行位置調整。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述調整處理係以累積光量之下限值所被測定之上述部分遮蔽構件之遮蔽量成為最低遮蔽量之方式加以決定各上述部分遮蔽量之遮蔽量。
更進一步，本發明之光配向照射裝置係具有伴隨著利用上述掃描部所進行之移動而移動之突起部，且 上述部分遮蔽構件係能夠在利用上述掃描部所進行之偏光光線照射部與上述載置台之相對的移動方向而進行移動，且上述調整處理係在使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之狀態下，使上述掃描部產生移動，而藉此進行上述部分遮蔽構件之位置調整。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述突起部係可變更為朝向上述部分遮蔽構件側而突出之狀態、及收納狀態，上述調整處理係使上述突起部在收納狀態下而移動至與上述開口對向之位置，並且於使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之上述開口側端之狀態下，藉由上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，藉此，進行上述部分遮蔽構件之位置調整。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述突起部係配置在能夠於排列有上述部分遮蔽構件之方向進行移動之移動部。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述光感測器係配置在配置有上述突起部之上述移動部。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置中，上述部分遮蔽構件係於鄰接之上述部分遮蔽構件間具有重疊部分。
又，本發明之光配向照射裝置係具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件、突起部及控制部，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板， 上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽之遮蔽量之方式能夠在利用上述掃描部所進行之偏光光線照射部與上述載置台之相對的移動方向而進行移動，上述突起部係伴隨著利用上述掃描部所進行之移動而移動，上述控制部係作為能夠執行配向處理及調整處理，上述配向處理係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至被載置於上述載置台之上述基板，上述調整處理係在使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之狀態下，使上述掃描部產生移動，而藉此使上述部分遮蔽構件產生移動。
又，本發明之光配向照射裝置之開口量調整方法係具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件及光感測器之光配向照射裝置之開口量調整方法，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板，上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽 之遮蔽量之方式而構成為能夠移動，上述光感測器係作為能夠測定入射光之照度，且本發明之光配向照射裝置之開口量調整方法係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至上述基板，在各上述部分遮蔽構件位置，一方面利用上述掃描部使上述載置台與上述偏光光線照射部以相對之方式產生移動，一方面使上述光感測器接收自上述開口所射出之偏光光線，而加以測定累積光量，該累積光量係將利用上述光感測器所測定之照度而以時間之方式加以累積，根據在各上述部分遮蔽構件位置所測定之累積光量而決定之遮蔽量，藉此針對所對應之上述部分遮蔽構件進行位置調整。
更進一步，在本發明之光配向照射裝置之開口量調整方法中，各上述部分遮蔽量之遮蔽量係以累積光量之下限值所被測定之上述部分遮蔽構件之遮蔽量成為最低遮蔽量之方式而加以決定。
根據本發明之光配向照射裝置，在各部分遮蔽構件位置，一方面利用掃描部使載置台與偏光光線照射部相對移動，一方面使光感測器接收自開口射出之偏光光線，並測定將利用光感測器測定到之照度隨時間累積而得之累積光量，藉此，可進行調整各部分遮蔽構件之位置所需的累積光量之測定。而且，藉由根據所測定到之累積光量對各部分遮蔽構件進行位置調整，可謀求累積光量之均一化，從而進行穩定之配向處理。
又，根據本發明之光配向照射裝置，藉由使用利用可使偏光光線照射部與載置台相對移動之掃描部之移動的突起部而進行各部分遮蔽構件之位置調整，無需使部分遮蔽構件移動之構成，而可謀求光配向照射裝置之簡化。又，掃描部多數情況下使用移動精度優異者，因此，藉由使用此種掃描部，亦可謀求部分遮蔽構件之位置調整精度之提高。
1‧‧‧光配向照射裝置
2‧‧‧偏光光線照射部
11‧‧‧載置台
12‧‧‧轉動部
13‧‧‧可動台
14a、14b‧‧‧LM軌道
15a~15d‧‧‧LM塊體
16‧‧‧滾珠螺桿
17‧‧‧滾珠螺桿驅動部
18‧‧‧軸承
19‧‧‧基台
21‧‧‧照射部殼體
21A‧‧‧第1開口
21B‧‧‧第2開口
22‧‧‧光源部
22#1~22#n‧‧‧紫外線燈
22a‧‧‧紫外線燈
22b‧‧‧反射鏡
22c‧‧‧濾光片
23‧‧‧遮蔽構件
24‧‧‧變更部
25‧‧‧部分遮蔽構件
25#1~25#m‧‧‧部分遮蔽構件
251‧‧‧間隔件
252‧‧‧軌道
253‧‧‧可動部
254‧‧‧固定螺栓
255‧‧‧止動螺栓
3‧‧‧調整部
31‧‧‧移動部
32‧‧‧光感測器
33‧‧‧開口調整部
33a‧‧‧突起部
41‧‧‧控制部
42‧‧‧顯示部
43‧‧‧輸入部
S‧‧‧基板
S'‧‧‧基板設置位置
A、B、C‧‧‧調整部之位置
L‧‧‧距離
W‧‧‧寬度
X、Y、Z‧‧‧軸
圖1係本發明之實施形態之光配向照射裝置的俯視圖。
圖2係本發明之實施形態之光配向照射裝置的俯視圖(照射時)。
圖3係本發明之實施形態之光配向照射裝置之側剖面圖。
圖4係本發明之實施形態之光配向照射裝置的剖面前視圖。
圖5係表示本發明之實施形態之第2開口部分之構成的圖。
圖6(A)至(C)係表示本發明之實施形態之部分遮蔽構件周圍之構成的圖。
圖7係表示本發明之實施形態之光配向照射裝置之控制構成的方塊圖。
圖8係表示本發明之實施形態之光量調整處理的流程圖。
圖9係表示本發明之實施形態之初始化處理的流程圖。
圖10(A)至(C)係表示利用本發明之實施形態之調整部進行之第2開口開放處理的側剖面圖。
圖11(A)至(C)係表示利用本發明之實施形態之調整部進行之第2開口開放處理的圖。
圖12(A)至(C)係表示利用本發明之實施形態之光感測器進行之測定處理的側剖面圖。
圖13係表示利用本發明之實施形態之光感測器進行之測定處理的圖。
圖14(A)及(B)係表示利用本發明之實施形態之調整部進行之第2開口封閉處理的側剖面圖。
圖15(A)及(B)係表示利用本發明之實施形態之調整部進行之第2開口封閉處理的圖。
圖16係表示本發明之實施形態之部分遮蔽構件相關資訊之資料構成的圖。
圖17係說明本發明之實施形態之累積光量與遮蔽量之關係的圖。
圖18係表示本發明之另一實施形態之光量調整處理的流程圖。
圖19係表示本發明之另一實施形態之部分遮蔽構件再現處理的流程圖。
圖1、圖2係表示本發明之實施形態之光配向照射裝置之構成的俯視圖。本實施形態之光配向照射裝置1具有偏光光線照射部2、載置台11、掃描部作為主要之構成要素。偏光光線照射部2係藉由通過形成於載置台11側之第2開口21B對形成於基板S之表面之配向膜照射紫外線，而對配向膜賦予配向特性的手段。如圖1所示，於本實施形態中，將載置台11之面(基板S之面)設為XY平面，將與XY平面正交之軸設為Z軸。而且，將載置台11之移動方向設定為Y方向。
於載置台11設置有成為曝光對象之基板S。於本實施形態中，以成為作為液晶顯示裝置之利用時之縱向或橫向之方式設置基板S之掃描方向。於成為曝光對象之基板S之表面形成有包含聚醯亞胺等光反應性高分子之膜狀之包含高分子之配向膜。若對該配向膜上照射偏光紫外線而使高分子膜改質，並藉由未圖示的之後之步驟於高分子膜上塗佈液晶分子，則液晶分子自高分子膜受到作用而整齊排列(配向)於特定之方向。本來係將該已賦予配向特性之高分子膜稱為配向膜，但通常亦將賦予配向特性之前之高分子膜稱為配向膜，於本說明書中，亦將賦予配向特性之前之高分子膜包括在內而稱為配向膜。
掃描部係使照射紫外線之偏光光線照射部2與載置台11相對移動之構件。於本實施形態中，偏光光線照射部2相對於基台19固定，掃描部使載置台11相對於基台19沿Y軸方向移動。如圖3所示，載置台11固定於在2根線性運動(LM，Linear Motion)軌道14a、14b上移動之LM塊體15a~15d上。於本實施形態中，使用滾珠螺桿16作為使載置台11移動之掃描部。滾珠螺桿16係以貫通於設置於載置台11之下方之支承部之方式設置。滾珠螺桿16係一端利用軸承18軸支，另一端利用滾珠螺桿驅動部17軸支，並藉由滾珠螺桿驅動部17之轉動控制而使載置台11沿Y軸方向移動。
為了使偏光光線照射部2與載置台11相對移動，本實施形態之掃描部係設為固定偏光光線照射部2並使載置台11移動之形態，但亦可設為使偏光光線照射部2移動之形態，或者亦可設為使偏光光線照射部2及載置台11兩者移動之形態。又，掃描 部係採用滾珠螺桿16，但對於使載置台11或偏光光線照射部2移動之手段，可考慮採用各種形態。例如，可考慮採用線性馬達。線性馬達在驅動時振動之產生較少，並且定位之精度較高，因此適合於採用為本發明中之掃描部。
自圖1所示之狀態起，一方面利用偏光光線照射部2照射紫外線，一方面使載置台11移動，藉此執行對於載置於載置台11上之基板S之配向處理。載置台11之移動係藉由利用滾珠螺桿驅動部17使滾珠螺桿16旋轉而進行。於圖2中示出基板S通過與第2開口21B(相當於本發明中之「開口」)對向之位置之情況。紫外線自第2開口21B射出，並照射至通過第1開口21B下方之基板S之表面。藉由如此般進行對基板S照射紫外線之配向處理，可對形成於基板S之表面之配向膜賦予配向特性。
圖3、圖4係本發明之實施形態之光配向照射裝置1的側剖面圖，尤其係用以對偏光光線照射部2之內部構成進行說明之圖。於圖3中示出YZ平面內之剖面，於圖4中示出ZX平面內之剖面。偏光光線照射部2於照射部殼體21中具有利用第1開口21A部分分為上方、下方之2室，且於上室內配置有光源部22。於本實施形態中，沿X軸方向配置有複數個(n個)光源部22。各光源部22係具備紫外線燈22a、反射鏡22b及濾光片22c而構成。本實施形態之紫外線燈22a係屬於點光源之類型，自紫外線燈22a照射之紫外線係以成為平行光或局部之平行光之方式利用反射鏡22b加以調整後，入射至濾光片22c。
如此，於本實施形態中，對光源部22使用作為點光源之紫外線燈22a，但光源部22可採用沿X軸方向配置直線狀之 線光源之形態等各種形態。又，於本實施形態中，沿X軸方向配置有複數個光源部22，但亦可沿Y軸方向配置複數個沿X軸方向排列之複數個光源部22之組。此時，藉由在各組間於X軸方向上錯開光源部22之配置，可抑制鄰接之光源部22之間產生之紫外線之照射不均。
濾光片22c具備將自紫外線燈22a照射之紫外線調整為適合於配向之特性的功能。於本實施形態中，濾光片22c具備使既定之波長透過之功能及透鏡功能，但該等濾光片22c之功能可視需要適當選擇。
自上室之光源部22照射之紫外線通過第1開口21A後，入射至照射部殼體21之下室。於該下室配置有偏光部24。偏光部24係自入射之紫外線(無偏光)中提取朝既定方向偏光之紫外線的手段，於本實施形態中，使用布魯斯特偏光片。因此，針對自光源部22入射之紫外線，設置既定之角度而配置偏光片。入射至偏光部24之紫外線於每一偏光方向被分為於偏光部24反射之紫外線及透過偏光部24之紫外線。於本實施形態中，將透過偏光部24之紫外線用於配向處理。如此，經偏光部24偏光之紫外線自設置於照射部殼體21之下方之第2開口21B向載置台11側射出。圖3係載置於載置台11上之基板S正好如圖2般位於與第2開口21B對向之位置的情況。
又，於本實施形態之偏光光線照射部2設置有可遮蔽照射部殼體21之上室與下室間之第1開口21A的遮蔽構件23。圖3為第1開口21A打開之狀態，藉由使遮蔽構件23沿箭頭之方向滑動，可遮蔽第1開口21A。於不需要利用偏光光線照射部2進行 之紫外線照射之情形時，可利用遮蔽構件23遮蔽第1開口21A。於熄滅光源部22所使用之紫外線燈後再次點亮之情形時，為使照度穩定化而需要數十分鐘。於本實施形態中，於暫時不需要紫外線照射之情形時，可藉由利用遮蔽構件23遮蔽第1開口21A而中斷紫外線照射，並且於需要紫外線照射時，可藉由開放第1開口21A而迅速恢復紫外線照射。又，於通常之生產中，藉由在不需要之時間內不照射紫外線，可保護裝置之構成零件免受紫外線損害。
於此種光配向照射裝置1中，較佳為利用所照射之光(紫外線)使基板S上之配向膜配向時儘可能使配向膜均一地配向。為了實現均一之配向，必須無累積光量之不均地均一地照射所照射之光。於如本實施形態般使用複數個光源部22之情形時，因各光源部22之照射區域內之累積光量之不均、各紫外線燈22a間之照度之經時特性之變化之差異所引起的累積光量之不均、或者配向處理中之貢獻度較大之帶域(感應帶)中之累積光量之不均等而導致成為紫外線照射對象之基板S之配向特性產生不均。為了抑制此種照度不均，本實施形態之光配向照射裝置1設置有複數個部分遮蔽構件25，以調整照射部殼體21之第2開口21B之開口量。
該部分遮蔽構件25如圖3所示設置於照射部殼體21之第2開口21B之右側，可藉由左右之移動而調整第2開口21B之開口量。換言之，部分遮蔽構件25可調整第2開口21B側之遮蔽量。根據圖4之ZX平面內之剖面圖可知，該部分遮蔽構件25沿X軸方向配置有m個(25#1~25#m)，且各部分遮蔽構件25可獨立地沿Y軸方向移動。藉由對該等沿X軸方向排列之各部分遮蔽構件25#1~25#m進行位置調整，可於X軸方向上調整自第2開口 21B對基板S照射之紫外線之光量。
於圖5中示意性地示出第2開口21B及部分遮蔽構件25#1~25#m之配置之情況。於圖5中，對自左邊起位於第2個之部分遮蔽構件25#2表示開口之關係。於部分遮蔽構件25#2位置，第2開口21B中之Y軸方向之距離為L，部分遮蔽構件25#2之寬度為W，因此，於第2開口21B形成L×W之面積之開口。由於各部分遮蔽構件25#1~25#m可沿Y軸方向調整位置，故可調整第2開口21B中之Y軸方向之距離L。藉由對此種部分遮蔽構件25#1~25#m進行位置調整，可對自第2開口21B照射之紫外線調整X軸方向上之照度。
於圖6中示出本發明之實施形態之部分遮蔽構件25周圍的構成。於圖6(A)中示出YZ平面內之剖面圖。於照射部殼體21之下方固定有軌道252。於軌道252上設置有可沿Y軸方向滑動之可動部253，部分遮蔽構件25經由間隔件251而固定於可動部253。部分遮蔽構件25為包含金屬或樹脂等素材之板狀構件。部分遮蔽構件25相對於可動部253之固定係利用2個螺栓(固定螺栓254及止動螺栓255)而進行。該2個螺栓中，止動螺栓255具有相對於軌道固定可動部253之功能。部分遮蔽構件25之位置調整係藉由鬆開止動螺栓255並使可動部253於軌道上滑動而進行。進行調整位置後，可藉由緊固止動螺栓255而牢固地固定部分遮蔽構件25之位置。
圖6(B)係自Y軸負方向即自第2開口21B觀察部分遮蔽構件25之配置所得的情況。如圖6(A)中所說明般，各部分遮蔽構件25經由間隔件251而固定於可動部253。於本實施形態中， 針對在X軸方向上鄰接之部分遮蔽構件25，藉由使用於固定之間隔件251之Z軸方向之高度不同，而使鄰接之部分遮蔽構件25間之Z軸方向之位置不同。而且，於鄰接之部分遮蔽構件25間形成重疊之區域，從而於利用複數個部分遮蔽構件25遮光時，不會於部分遮蔽構件25間產生光之洩漏。
部分遮蔽構件25之位置調整亦可手動進行，但於本實施形態中，係使用利用調整部3之自動調整機構。該調整部3如圖1~圖4所示配置於載置台11之側面，且可隨著載置台11之移動而沿Y軸方向移動。於圖3中示出該調整部3之剖面構成。本實施形態之調整部3具備可沿X軸方向移動之移動部31。於該移動部31設置有光感測器32及開口調整部33。藉由使該移動部31沿X軸方向移動，可使調整部3移動至測定或成為位置調整對象之部分遮蔽構件25之位置。如此，於本實施形態中，可對複數個部分遮蔽構件25使用設置於1個調整部3之光感測器32及開口調整部33。即，光感測器32及開口調整部33成為設置於1個構件上之形態，但該等光感測器32及開口調整部33亦可設置於不同構件上。又，光感測器32亦可設置複數個。可同時測定複數個部分遮蔽構件25之位置上之累積光量。又，藉由共用光感測器32及開口調整部33之移動手段，亦可謀求構成之簡化。光感測器32係對入射之光之照度進行測定的感測器，本實施形態之光配向照射裝置1中之照度計測係沿Y軸方向移動載置台11而將光感測器32移動至第2開口21B之下方位置而進行。
另外，已知存在對配向膜之配向之貢獻度較大的光之帶域(感應帶)。較佳為於光感測器32中考慮此種配向膜之感應帶而 設置與感應帶對應之光學濾光片。藉由在光感測器32中設置光學濾光片，可測定配向膜之感應帶中之紫外線之照度。又，藉由排除紫外線之感應帶以外之帶域、或者配置於光配向照射裝置1之設置環境之照明光等不需要之光之照度，可使感應帶中之紫外線之照度測定之精度更高。再者，根據所使用之配向膜之類型，有感應帶存在於不同帶域之情形。於該情形時，光感測器32之光學濾光片使用適合者，即，使用與所使用之感應帶對應者。因此，光學感測器32之光學濾光片較佳為可更換，或者可變，以對應複數個感應帶。
開口調整部33係可開閉部分遮蔽構件25即使部分遮蔽構件25沿Y軸方向移動的手段。開口調整部33具備可沿Z軸方向伸縮之突起部33a。第2開口21B之開口量之可變係藉由將突起部33a抵壓於部分遮蔽構件25之端部而進行。本實施形態之開口調整部33成為利用掃描部進行之載置台11之移動之形態，且無需另行設置使開口調整部33移動之構件。因此，可謀求構成之簡化、成本削減。又，由於利用移動精度較高之掃描部進行之移動，故亦可高精度地進行部分遮蔽構件25之移動。
於圖6(A)中，以虛線表示開口調整部33相對於部分遮蔽構件25之移動之情況。於增大第2開口21B之遮蔽量之情形時，藉由於在(c)之位置使突起部33a抵接於部分遮蔽構件25之狀態下使載置台11沿Y軸負方向移動，可使部分遮蔽構件25沿遮蔽第2開口21B之方向移動。又，於本實施形態中，亦可藉由使突起部33a移動至(a)之位置，而減小部分遮蔽構件25之遮蔽量，即，開放第2開口21B。當自(c)之位置移動至(a)之位置時，突起部33a會與止動螺栓255等構成及部分遮蔽構件25本身產生干涉。移動 時，藉由如(b)所示般降低(收納)突起部33a，可實現(a)、(c)兩個位置上之部分遮蔽構件25之位置調整。於(a)之位置，藉由在使突起部33a抵接於部分遮蔽構件25之狀態下使載置台11沿Y軸正方向移動，可使部分遮蔽構件25沿開放第2開口21B之方向移動。
如此，於本實施形態中，藉由使突起部33a可沿Z軸方向伸縮，可如(a)、(c)般將突起部33a抵接於部分遮蔽構件25之兩端，從而可使部分遮蔽構件25沿Y軸之正負兩方向移動。開口調整部33並不限於此種形態，亦可為使用在Z軸方向上位置被固定之突起部33a的構成。於該情形時，可於(c)之位置沿封閉第2開口21B之方向對部分遮蔽構件25進行位置調整，而手動進行反方向之位置調整。
於圖7中示出本發明之實施形態之光配向照射裝置1的控制構成。作為控制構成，具有統括地控制光配向照射裝置1之控制部41。控制部41可利用所謂之電腦而構成，具備中央處理單元(CPU，Central Processing Unit)、隨機存取記憶體(RAM，Random Access Memory)、唯讀記憶體(ROM，Read Only Memory)及硬碟等記憶部。於記憶部記憶有用以執行各種處理之程式或資訊(資料)。於控制部41連接有用以對使用者顯示各種資訊之顯示部42、用以由使用者輸入各種資訊、指示之輸入部43。顯示部42及輸入部43亦可作為觸控面板畫面而構成。作為控制部41之控制對象，可進行利用滾珠螺桿驅動部17進行之滾珠螺桿16之旋轉控制、利用轉動部12進行之載置台11之轉動控制、紫外線燈22a之點亮控制。又，作為與調整部3相關之控制，可實現利用移動部31進行之調整部3沿X軸方向之移動、以及利用光感測器32進行之入射光之 光量計測、開口調整部33之突起部33a之升降控制。
基於此種光配向照射裝置1之控制構成，執行對於基板S之配向膜之配向處理、以及調整照射至配向膜之紫外線之光量的光量調整處理。藉由在配向處理之執行前進行該光量調整處理，可謀求配向處理中之紫外線之光量之均一化。
於圖8中示出表示本發明之實施形態之光量調整處理的流程圖。於圖7之控制構成中，基於來自輸入部43之使用者指示而開始光量調整處理。由於本實施形態之部分遮蔽構件25如圖6中所說明般採用利用止動螺栓255之固定機構，故於開始光量調整處理之前，藉由手動鬆開止動螺栓255而將各部分遮蔽構件25#1~25#m設為可移動之狀態。再者，亦可將部分遮蔽構件25#1~25#m之固定機構設為利用控制部41之自動機構。於該情形時，既可對各部分遮蔽構件25#1~25#m中之每一部分遮蔽構件設置固定機構，亦可設為統一對複數個部分遮蔽構件25#1~25#m固定位置之固定機構。再者，光量調整處理並不限於使用者指示，亦可設為定時處理等在利用輸入部43預先指定之開始時間開始的處理。藉由將開始時間設定於開始工作前等，於開始工作時，可於已調整光量之狀態下開始配向處理。
隨著光量調整處理開始，輸入基準累積光量、成為光量調整處理之對象之基板名、測定帶域等各種條件(S101)。此處，所謂基準累積光量，係用以於各部分遮蔽構件25間使累積光量一致或者控制於既定之誤差範圍內的基準。作為該基準，可考慮指定累積光量之絕對量或者對針對每一部分遮蔽構件25之位置所測定之累積光量指定與哪一累積光量一致(例如，與最低累積光量一 致，或者以各累積光量控制於±α%內之方式一致化)。
輸入各種條件後，控制部41執行對於光配向照射裝置之初始化處理(S200)。於圖9中示出表示本發明之實施形態之初始化處理的流程圖。該初始化處理係如下處理：點亮紫外線燈22a並待機至所照射之紫外線之照度穩定為止，並且以各部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量變為0、即第2開口21B成為全開之方式，使各部分遮蔽構件25#1~25#m移動。於本實施形態中，使第2開口21B全開而計測與各部分遮蔽構件25對應之位置上之累積光量，並基於計測結果而封閉各部分遮蔽構件25，藉此，可於來自第2開口21B之光量較大之狀態下謀求光量之均一化。
於初始化處理中，首先，使所有紫外線燈22#1~22#n點亮(S201)。其次，執行使m個部分遮蔽構件25#1~25#m移動至初始位置之處理。於圖10、圖11中示出使部分遮蔽構件25沿開放第2開口21B之方向移動之第2開口開放處理之情況。圖11係對自左邊起位於第2個之部分遮蔽構件25#2執行第2開口開放處理時之情況。圖10(A)、圖11(A)為初始狀態，開口調整部33之突起部33a成為收納狀態。於收納突起部33a之狀態下，利用掃描部使載置台11移動，藉此使開口調整部33移動至與第2開口21B對向之位置(S202)。此時，較佳為以不與部分遮蔽構件25產生干涉(碰撞)之方式，使開口調整部33移動至較部分遮蔽構件25可向第2開口21B側突出之位置更靠內側。藉由掃描部使載置台移動後，控制部41針對開口調整部33使突起部33a突出(S203)。於圖10(B)、圖11(B)中示出於第2開口21B內使突起部33a突出時之情況。
使各部分遮蔽構件25#1~25#m移動至初始位置之處 理係藉由如此般使突起部33a移動至第2開口21B之內側，並使突起部33a抵接於圖10中部分遮蔽構件25之左側而進行。於設定為i=1(S204)之後，利用移動部31使調整部3沿x軸方向移動至第i個部分遮蔽構件25#1之位置(S205)。繼而，利用掃描部移動載置台11，藉此使部分遮蔽構件25#1移動至初始位置(本實施形態中為第2開口21B全開之位置)。於圖10(C)、圖11(C)中示出藉由突起部33a之移動而使部分遮蔽構件25移動時之情況。藉由對各部分遮蔽構件25中之每一部分遮蔽構件執行S205、S206，而使所有部分遮蔽構件25#1~25#m移動至初始位置，而第2開口21B成為全開狀態。
於最後之(第m個)部分遮蔽構件25#m之移動結束之情形時(S207：是(Yes))，等待紫外線燈22#1~22#n之照度穩定(S209)。照度之穩定可藉由自開始點亮紫外線燈22#1~22#n(S201)起經過既定時間而加以判斷。或者，亦可利用如圖10(B)、圖11(B)般位於與第2開口21B對向之位置之光感測器32之檢測值而判定照度之穩定。
於判定紫外線燈22#1~22#n之照度已穩定之情形時(S209：Yes)，收納突起部33a，並利用掃描部使載置台11移動，從而使開口調整部33移動至圖10(A)、圖11(A)之初始位置，初始化處理(S200)結束。
如圖8所示，於光量調整處理中，初始化處理(S200)結束後，執行測定處理(S102~S106)及第2開口調整處理(S108~S114)。本實施形態之測定處理係對每一各部分遮蔽構件25之位置測定與該位置對應之累積光量的處理。於測定處理中，可利用光感 測器32測定與每一各部分遮蔽構件25之位置對應之1個至複數個部位之照度，但於本實施形態中，可藉由一方面使紫外線掃描一方面測定某一部位之累積光量，而測定於配向處理中基板S上之某一部位所接收之光量，從而成為切合實際之配向處理之光量測定。
於圖12、圖13中示出使用光感測器32測定累積光量之測定處理之情況。圖13中，符號A、B、C所示之調整部3之位置對應於圖12(A)、(B)、(C)。又，圖13係對自左邊起位於第2個之部分遮蔽構件25#2執行測定處理時之情況。於設定為i=1(S102)之後，利用移動部31使調整部3沿x軸方向移動至第i個部分遮蔽構件25#1之位置(S103)。此時，較佳為以光感測器32之測定位置成為部分遮蔽構件25之X軸方向之寬度之中心位置之方式進行定位。
繼而，一方面利用光感測器32測定照度，一方面利用掃描部使載置台11移動，而如圖13所示般以A→B→C之方式遍及自第2開口21B照射之紫外線之照射區域地使光感測器32移動，藉此測定自第2開口21B照射之紫外線之累積光量(單位：mW/cm2)、即利用光感測器32獲取之照度之累積值(單位：mJ/cm2)。所測定到之累積光量作為部分遮蔽構件相關資訊而記憶於控制部41內之記憶部(S105)。
於圖16中示出部分遮蔽構件相關資訊之資料構成。部分遮蔽構件相關資訊係包含作為元資料之基板名、測定帶域、執行日期時間及實際資料而構成。元資料係於光量調整處理中作為各種條件之輸入而自輸入部43輸入的資料。執行日期時間等亦可設為利用計時部進行之自動輸入。實際資料具有部分遮蔽構件編號 (相當於部分遮蔽構件25之後綴(1~m))、及累積光量、遮蔽量。於測定處理中，將對每一部分遮蔽構件25計測之累積光量與對應之部分遮蔽構件編號建立對應地記憶(S105)。遮蔽量係基於所測定到之累積光量而決定之值，為部分遮蔽構件25向第2開口21B側伸出之量。
當對所有部分遮蔽構件完成測定處理(S106：Yes)時，基於作為部分遮蔽構件相關資訊而記憶之累積光量，計算(決定)各部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量(S107)。圖17係表示本發明之實施形態之累積光量與遮蔽量之關係之圖，圖17(A)表示各部分遮蔽構件25的光量調整處理執行前之累積光量及遮蔽量。又，圖17(B)表示各部分遮蔽構件25的光量調整處理執行後之累積光量及遮蔽量。圖中，實線表示累積光量，虛線表示遮蔽量。如初始化處理中所說明般，初始化前，所有部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量成為0(最低值)。圖17(A)所示之累積光量為計測處理中所計測到之結果，且於各部分遮蔽構件25#1~25#m中之每一部分遮蔽構件觀察到偏差。
對於各部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量之計算係基於所測定到之累積光量者。於本實施形態中，將累積光量之下限值部位之部分遮蔽構件25之遮蔽量設為0，並以與該下限值一致之方式決定其他部分遮蔽構件25之遮蔽量。於圖17之例中，於部分遮蔽構件編號為11之位置計測到累積光量之下限值。因此，將該位置上之遮蔽量設為0而決定其他位置上之遮蔽量。遮蔽量可根據累積光量算出，且可藉由簡單地對累積光量乘以既定係數而算出。為了提高精度，亦可於計算遮蔽量時使用基於實驗結果等之既定之 關係式。所算出之每一部分遮蔽構件25之遮蔽量記憶於部分遮蔽構件相關資訊之實際資料中。
於圖17(B)中，以實線表示調整後之累積光量之預測值(本實施形態中未進行計測)，藉由按遮蔽量使各部分遮蔽構件25向第2開口21B側移動，理想而言，可如實線所示般於部分遮蔽構件25#1~25#m間謀求均一化。於本實施形態中，藉由初始化處理而將第2開口21B設為全開狀態(部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量最低之狀態)，並將於第2開口21B為全開狀態下測定到之累積光量之下限值作為基準而進行累積光量之均一化，即，將測定到下限值之部分遮蔽構件25之遮蔽量設為最低值，藉此儘可能抑制部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量，爭取來自第2開口21B之紫外線照射量。
於本實施形態中，係使調整後之累積光量均一化，但於調整後之累積光量容許誤差(例如0~+α%)之情形時，亦可藉由將所計測到之累積光量之下限值設定為誤差之最大值(+α%)，而進一步減少部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量。於該情形時，對於計測到容許誤差(0~+α%)之累積光量之部分遮蔽構件25，將其遮蔽量設為0，而對於計測到容許誤差以上(+α%以上)之累積光量之部分遮蔽構件25，則算出與累積光量對應之遮蔽量。
於S108~S109之第2開口調整處理中，基於S107中所算出之對於各部分遮蔽構件25#1~25#m之遮蔽量而對各部分遮蔽構件25#1~25#m進行位置調整。於圖14、圖15中示出第2開口調整(封閉)處理之情況。圖15係對自左邊起位於第2個之部分遮蔽構件25#2執行第2開口封閉處理時之情況。如圖14(A)所示， 變更為使開口調整部33之突起部33a沿Z軸正方向突出之狀態(S109)。繼而，藉由利用移動部31進行之調整部3之X軸方向之移動，而使突起部33a移動至設為移動對象之部分遮蔽構件25之位置(S110)。繼而，使用S107中所算出並記憶之第i個遮蔽量而利用掃描部使載置台11移動，藉此調整部分遮蔽構件25之位置(S111)。如此，於本實施形態中，藉由在部分遮蔽構件25之位置調整時使用進行載置台之移動之掃描部，而無須設置部分遮蔽構件25用之移動手段。又，藉由使用移動精度優異之掃描部，亦可謀求提高部分遮蔽構件25之位置調整之精度。
各部分遮蔽構件25#1~25#m之位置調整完成後(S112：Yes)，將突起部33a設為圖10(A)所示之收納狀態(S114)，而結束第2開口調整處理及光量調整處理。由於本實施形態之部分遮蔽構件25如圖6中所說明般採用利用止動螺栓255之固定機構，故於進行光量調整處理後，藉由手動緊固止動螺栓255而以各部分遮蔽構件25#1~25#m不移動之方式固定位置。再者，亦可考慮將固定機構設為利用控制部41之自動機構，於該情形時，第2開口調整處理完成後，基於自控制部41對固定機構之指令而對各部分遮蔽構件25#1~25#m固定位置。
以上，藉由在進行配向處理之前執行包含測定處理及第2開口調整處理之光量調整處理，可於配向處理中抑制沿X軸方向產生之紫外線(偏光光線)之累積光量之不均。再者，於本實施形態之光量調整處理(第2開口調整處理)中，係藉由向第2開口21B側調整部分遮蔽構件25之位置而僅於遮蔽第2開口21B之方向上進行位置調整，但亦可藉由使用初始化處理中所說明之第2開口開 放處理(圖10、圖11)而於開放第2開口21B之方向上進行位置調整。於圖8中所說明之光量調整處理中，係於對所有部分遮蔽構件25進行測定處理之後進行第2開口調整處理，但亦可對各部分遮蔽構件25中之每一部分遮蔽構件以組之形式進行測定處理及第2開口調整處理。
於圖18中示出表示另一實施形態之光量調整處理之流程圖。於本實施形態中，於S151中之各種條件之輸入時，指定成為基準之累積光量(絕對量)。初始化處理(S200)與圖9中所說明之形態同樣，為使紫外線燈22穩定化以及將第2開口21B設為全開狀態之處理。於本實施形態之光量調整處理中，對各部分遮蔽構件25#1~25#m中之每一部分遮蔽構件以組之形式執行測定處理及第2開口調整處理。於設定為i=1(S152)之後，藉由利用移動部31進行之移動，而使調整部3移動至第1(i)個部分遮蔽構件25#1(S153)。繼而，一方面利用掃描部使載置台11移動(S154)，一方面利用光感測器32接收自第2開口21B照射之紫外線，藉此測定累積光量，並作為圖16之部分遮蔽構件相關資訊中之實際資料而記憶(S155)。
於第2開口調整處理中，以當前所處之部分遮蔽構件25之位置上之累積光量成為S151中所設定之基準累積光量之方式，根據S155中所測定之累積光量及S151中所設置之基準累積光量而算出遮蔽量(S156)。所算出之遮蔽量作為圖16之部分遮蔽構件相關資訊中之實際資料而記憶。於本實施形態中，由於係對各部分遮蔽構件25#1~25#m中之每一各部分遮蔽構件進行測定處理，故於使突起部33a突出之狀態下，突起部33a會與部分遮蔽構件25 等構成產生干涉。因此，於執行測定處理時，將突起部33a設為收納狀態，而於進行第2開口調整處理時，使突起部33a突出(S157)。
於使突起部33a突出之狀態下，根據S156中所算出之遮蔽量而利用掃描部使載置台11移動，藉此調整部分遮蔽構件25之位置(S158)。繼而，收納突起部33a，而為下一測定處理做準備(S159)。以上，藉由對各部分遮蔽構件25#1~25#m執行S153~S159之處理，而完成各部分遮蔽構件25#1~25#m位置上之測定處理及第2開口調整處理(S160)。完成後，利用固定機構對各部分遮蔽構件25#1~25#m固定位置。
於本實施形態之光量調整處理中，係對每一各部分遮蔽構件25之位置執行測定處理及第2開口調整處理之組，因此，可謀求光配向照射裝置中之工站數(步驟數)之削減。
於圖8、圖18之光量調整處理中製成並記憶於控制部41內之記憶部之部分遮蔽構件相關資訊亦可用於使部分遮蔽構件25之位置再現之部分遮蔽構件再現處理。於光配向處理裝置中，存在對不同類型之基板S進行配向處理之情況。通常係對某種程度上集中之批量進行配向處理，但於繼某種基板S(基板名A)之後對不同類型之基板S(基板名B)執行配向處理之情形時，亦可使用以往所記憶之不同類型之基板S(基板名B)之部分遮蔽構件相關資訊，且於不進行計測處理之情況下進行部分遮蔽構件25之位置調整。
當開始部分遮蔽構件再現處理時，讓使用者指定基板名(S301)。控制部41係自記憶部讀出與所指定之基板名對應之部分遮蔽構件相關資訊，但於記憶部中不存在與所指定之基板名對應之 部分遮蔽構件相關資訊之情形時(S302：否(No))，或者所讀出之部分遮蔽構件相關資訊過舊、即距上一次測定已經過既定時間以上之情形時(S303：No)，對顯示部42進行注意喚起顯示等，而對使用者進行警告(S311)。於該情形時，使用者可選擇是否執行光量調整處理，於選擇執行光量調整處理之情形時(S312：Yes)，執行圖8或圖18中所說明之光量調整處理。另一方面，於未選擇執行光量調整處理之情形時(S312：No)，結束部分遮蔽構件再現處理。
於部分遮蔽構件再現處理中之S305~S310中，基於所讀出之部分遮蔽構件相關資訊而使以往進行之光量調整處理中之部分遮蔽構件25#1~25#m之位置再現。因此，於設定為i=1(S304)之後，將突起部33a設為突出狀態(S305)，並利用移動部31使調整部3沿X軸方向移動至第i個部分遮蔽構件25#1之位置(S306)。繼而，使用與部分遮蔽構件25對應之遮蔽量而使載置台11移動，藉此對部分遮蔽構件25進行位置調整。藉由對所有部分遮蔽構件25#1~25#m執行S306、S307之處理，而完成基於部分遮蔽構件相關資訊之各部分遮蔽構件25#1~25#m之調整位置。完成後(S308：Yes)，藉由將突起部33a設為收納狀態(S309)而結束部分遮蔽構件再現處理。結束後，利用固定機構固定各部分遮蔽構件25#1~25#m並執行配向處理。
再者，本發明並不僅限於該等實施形態，適當組合各實施形態之構成而構成之實施形態亦成為本發明之範疇。
2‧‧‧偏光光線照射部
3‧‧‧調整部
11‧‧‧載置台
12‧‧‧轉動部
13‧‧‧可動台
14a、14b‧‧‧LM軌道
15a~15d‧‧‧LM塊體
16‧‧‧滾珠螺桿
21‧‧‧照射部殼體
21A‧‧‧第1開口
21B‧‧‧第2開口
22‧‧‧光源部
22a‧‧‧紫外線燈
22b‧‧‧反射鏡
22c‧‧‧濾光片
23‧‧‧遮蔽構件
24‧‧‧變更部
25‧‧‧部分遮蔽構件
31‧‧‧移動部
32‧‧‧光感測器
33‧‧‧開口調整部
33a‧‧‧突起部
S‧‧‧基板
X、Y、Z‧‧‧軸

Claims (12)

  1. 一種光配向照射裝置，其具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件、光感測器及控制部，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板，上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽之遮蔽量之方式而構成為能夠移動，上述光感測器係作為能夠測定入射光之照度，上述控制部係作為能夠執行配向處理及測定處理，上述配向處理係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至上述基板，上述測定處理係在各上述部分遮蔽構件位置，一方面利用上述掃描部使上述載置台與偏光光線照射部以相對之方式產生移動，一方面使上述光感測器接收自上述開口所射出之偏光光線，而加以測定累積光量，該累積光量係將利用上述光感測器所測定之照度而以時間之方式加以累積。
  2. 如申請專利範圍第1項之光配向照射裝置，其中，上述控制部係執行調整處理，該調整處理係根據於每個上述部分遮蔽構件所測定之累積光量而決定遮蔽量，並根據所決定之遮蔽量而對上述部分遮蔽構件進行位置調整。
  3. 如申請專利範圍第2項之光配向照射裝置，其中，上述調整處理係自在上述測定處理中之上述部分遮蔽構件位置，使上述部分遮蔽構件於遮蔽上述開口之方向進行移動，而藉此進行位置調整。
  4. 如申請專利範圍第2項之光配向照射裝置，其中，上述調整處理係以累積光量之下限值所被測定之上述部分遮蔽構件之遮蔽量成為最低遮蔽量之方式加以決定各上述部分遮蔽量之遮蔽量。
  5. 如申請專利範圍第3項之光配向照射裝置，其具有伴隨著利用上述掃描部所進行之移動而移動之突起部，且上述部分遮蔽構件係能夠在利用上述掃描部所進行之偏光光線照射部與上述載置台之相對的移動方向而進行移動，且上述調整處理係在使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之狀態下，使上述掃描部產生移動，而藉此進行上述部分遮蔽構件之位置調整。
  6. 如申請專利範圍第5項之光配向照射裝置，其中，上述突起部係可變更為朝向上述部分遮蔽構件側而突出之狀態、及收納之狀態，且上述調整處理係使上述突起部在收納狀態下而移動至與上述開口對向之位置，並且在使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之上述開口側端之狀態下，藉由上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，藉此進行上述部分遮蔽構件之位置調整。
  7. 如申請專利範圍第5項之光配向照射裝置，其中，上述突起部係配置在能夠於排列有上述部分遮蔽構件之方向進行移動之移動部。
  8. 如申請專利範圍第7項之光配向照射裝置，其中，上述光感測器係配置在配置有上述突起部之上述移動部。
  9. 如申請專利範圍第1項之光配向照射裝置，其中，上述部分遮蔽構件係於鄰接之上述部分遮蔽構件間具有重疊部分。
  10. 一種光配向照射裝置，其具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件、突起部及控制部，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板，上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽之遮蔽量之方式能夠在利用上述掃描部所進行之偏光光線照射部與上述載置台之相對的移動方向而進行移動，上述突起部係伴隨著利用上述掃描部所進行之移動而移動，上述控制部係作為能夠執行配向處理及調整處理，上述配向處理係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至被載置於上述載置台之上述基板，上述調整處理係在使上述突起部抵接於上述部分遮蔽構件之狀態下，使上述掃描部產生移動，而藉此使上述部分遮蔽構件產生移動。
  11. 一種光配向照射裝置之開口量調整方法，其係具備有載置台、偏光光線照射部、掃描部、複數個部分遮蔽構件及光感測器之 光配向照射裝置之開口量調整方法，且上述載置台係作為能夠載置於表面形成有配向膜之基板，上述偏光光線照射部係於與上述載置台對向之側，設置有射出偏光光線之開口，上述掃描部係作為能夠使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，各上述部分遮蔽構件係以變更使上述開口之一部分產生遮蔽之遮蔽量之方式而構成為能夠移動，上述光感測器係作為能夠測定入射光之照度，且該光配向照射裝置之開口量調整方法係一方面利用上述掃描部使上述偏光光線照射部與上述載置台以相對之方式產生移動，一方面將自上述開口所射出之偏光光線加以照射至上述基板，在各上述部分遮蔽構件位置，一面利用上述掃描部使上述載置台與偏光光線照射部以相對之方式產生移動，一面使上述光感測器接收自上述開口所射出之偏光光線，而加以測定累積光量，該累積光量係將利用上述光感測器所測定之照度而以時間之方式加以累積，根據在各上述部分遮蔽構件位置所測定之累積光量而決定之遮蔽量，藉此針對所對應之上述部分遮蔽構件進行位置調整。
  12. 如申請專利範圍第11項之光配向照射裝置之開口量調整方法，其中，各上述部分遮蔽量之遮蔽量係以累積光量之下限值所被測定之上述部分遮蔽構件之遮蔽量成為最低遮蔽量之方式而加以決定。
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