TW201734560A - 偏光光照射裝置 - Google Patents

Abstract

可對同一對象物照射規定的方向即第1方向的偏光成分的光、以及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。自沿與對象物的掃描方向大致正交的方向設置的光源照射，且藉由偏光器而偏光的光被照射至載置於平台上的對象物之中的被照射第1方向的偏光成分的光的第1區域、以及被照射與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光的第2區域中的至少一者。

Description

偏光光照射裝置

本發明是有關於一種偏光光照射裝置。

在專利文獻1中，揭示有一種利用線柵（wire grid）偏光器的光配向用偏光光照射裝置。又，在專利文獻1中，揭示有在需要大的線柵偏光器時，將多個偏光器組合起來用作一個線柵偏光器的技術。

在專利文獻2中，揭示有一種（分配配向）光配向裝置，在基板上以規定的間隔設置有遮光膜，使入射角為+θ的紫外線入射而進行針對基板的A區域的配向，使入射角為-θ的紫外線入射而進行針對基板的B區域的配向。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2004-144884號公報 [專利文獻2]日本專利特開2002-350858號公報 [發明所欲解決的問題]

在專利文獻1所述的發明中，即使將多個偏光器組合起來，亦僅將一個方向的偏光光照射至對象物。在專利文獻2所述的發明中，存在如下問題：欲進行分配配向，必須精密地進行照射頭的旋轉或基板的對位等。此外，專利文獻2所述的發明中的分配配向是紫外線的入射角不同的配向，並非偏光光的方向不同的配向。

本發明是鑒於如上所述的情況而完成，目的在於提供一種偏光光照射裝置，可對同一對象物照射規定的方向即第1方向的偏光成分的光、以及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。 [解決問題的手段]

為了解決所述問題，本發明的偏光光照射裝置的特徵在於例如包括：平台（stage），載置被照射偏光光的對象物；以及偏光照射部，包括沿與所述對象物的掃描方向大致正交的方向設置的光源、以及設置在所述光源與所述平台之間而使自所述光源照射的光偏光的偏光器；且所述偏光照射部對所述對象物的第1區域及所述對象物的第2區域中的至少一者照射偏光光，所述第1區域被照射自所述光源照射的光之中的規定的方向即第1方向的偏光成分的光，所述第2區域被照射自所述光源照射的光之中的與所述第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。

根據本發明的偏光光照射裝置，自沿與對象物的掃描方向大致正交的方向而設置的光源照射，且藉由偏光器而偏光的光是照射至載置於平台上的對象物之中的被照射第1方向的偏光成分的光的第1區域、以及被照射與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光的第2區域中的至少一者。如上所述，可對同一對象物照射第1方向的偏光成分的光及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。

此處，亦可為所述光源包括在所述掃描方向上相鄰設置的第1光源及第2光源，所述偏光器也可包括使自所述第1光源照射的光之中的所述第1方向的偏光成分透過的第1偏光器、以及使自所述第2光源照射的光之中的所述第2方向的偏光成分透過的第2偏光器。由此，可將不同方向的偏光光同時照射至對象物。

此處，所述偏光照射部亦可包括第1遮光部，所述第1遮光部設置在所述偏光器與所述平台之間，包括遮擋自所述第1光源照射的光的一部分的第1遮光板、以及遮擋自所述第2光源照射的光的一部分的第2遮光板。在此情況下，對未設置遮光板的區域照射偏光光，對設置有遮光板的區域不照射偏光光，從而在該些區域的邊界上曝光量發生急遽變化。由此，可在對象物中，相鄰地設置使不同的偏光成分的光照射的區域。

此處，所述偏光光照射裝置亦可包括：資訊獲取部，獲取關於所述對象物的資訊；遮光板驅動部，使所述第1遮光板沿所述第1光源移動，使所述第2遮光板沿所述第2光源移動；以及遮光板控制部，基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第1遮光板及所述第2遮光板的位置，對所述遮光板驅動部進行控制以使所述第1遮光板及所述第2遮光板移動至所述經確定的位置。由此，可根據對象物自動地進行遮光，而自動地照射與對象物相對應的方向的偏光光。

此處，所述偏光光照射裝置亦可包括使所述平台在所述掃描方向上移動，並且使所述平台在與所述掃描方向大致正交的偏移方向上移動偏移量的平台驅動部，所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈，所述第1光源及所述第2光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置，若所述平台在所述偏移方向上移動所述偏移量，則所述遮光板控制部可使所述第1遮光板及所述第2遮光板在所述偏移方向上移動所述偏移量。由此，可對未設置遮光板的區域穩定地照射偏光光。又，藉由使用長度方向沿掃描方向而設置的燈，可增大來自燈的光的射出角度θ，使設置有遮光板的區域與未設置遮光板的區域的邊界上的曝光量的變化更急遽。其結果為，可在對象物內相鄰地設置使不同的偏光成分的光照射的區域，從而更有效率地利用對象物。

此處，亦可為所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈，所述第1光源及所述第2光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置，所述偏光光照射裝置包括獲取關於所述對象物的資訊的資訊獲取部、以及基於所述資訊獲取部所獲取的資訊求出所述光源的點亮區域而僅使所述多個燈之中的位於所述點亮區域的燈點亮的光源控制部。由此，可僅使位於點亮區域的燈點亮，而防止熱過度產生。

此處，亦可為所述平台以可旋轉的方式設置在第1位置與第2位置之間，所述偏光器使所述第1方向的偏光成分透過，所述偏光照射部包括第2遮光部，所述第2遮光部設置在所述偏光器與所述平台之間，且包括沿所述掃描方向的長度為所述光源的沿所述掃描方向的長度以上的第3遮光板、以及與所述掃描方向大致正交的方向上的長度為所述光源的與所述掃描方向大致正交的方向上的長度以上的第4遮光板，當所述平台位於所述第1方向時，所述第3遮光板設置在沿所述掃描方向呈帶狀覆蓋所述光源的位置，即設置在相當於所述對象物的所述第1區域以外的區域的位置，當所述平台位於第2方向時，所述第4遮光板設置在覆蓋所述對象物的所述第1區域的位置。由此，可利用一種偏光器（不使用使第1方向的偏光成分透過的第1偏光器、以及使第2方向的偏光成分透過的第2偏光器），將不同方向的偏光成分的光照射至同一對象物W。又，由於光源全部始終點亮，故而只要改變第3遮光板、第4遮光板的位置，便可使多種基板連續地曝光。

此處，所述偏光光照射裝置亦可包括：資訊獲取部，獲取關於所述對象物的資訊；平台驅動部，使所述平台在所述第1位置與所述第2位置之間旋轉，且使所述平台沿所述掃描方向移動；遮光板驅動部，使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動；以及控制部，對所述平台驅動部及所述遮光板驅動部進行控制；且所述控制部基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第3遮光板的位置，使所述第3遮光板移動至所述經確定的位置，且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第4遮光板的位置，使所述第4遮光板與所述平台一同向所述掃描方向移動，以使所述第4遮光板保持在所述經確定的位置。由此，可根據對象物自動地遮擋多餘的光。

此處，亦可為所述控制部使所述平台旋轉而設為所述第1方向，且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊，以所述第3遮光板沿所述掃描方向呈帶狀覆蓋所述光源，所述第4遮光板不覆蓋所述光源的方式使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動，在所述第1方向上使所述平台向所述掃描方向移動，且使所述平台旋轉而設為所述第2方向，並且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊，以所述第3遮光板不覆蓋所述光源，所述第4遮光板覆蓋所述第1區域的方式使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動，且保持著所述平台與所述第4遮光板的位置關係，一面在所述第2方向上使所述平台向所述掃描方向移動，一面使所述第4遮光板向所述掃描方向移動。如上所述，藉由在各個曝光處理中使用各自不同的遮光板遮擋多餘的光，而維持著使所有光源點亮的狀態，在同一對象物W上，可依次形成被照射第1方向的偏光成分的光的第1區域、以及被照射與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光的第2區域。

此處，亦可為所述平台驅動部使所述平台在所述掃描方向上移動，並且使所述平台在與所述掃描方向大致正交的偏移方向上移動偏移量，所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈，所述光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置，所述控制部使所述平台在所述偏移方向上移動所述偏移量，且使所述第3遮光板或所述第4遮光板在所述偏移方向上移動所述偏移量。由此，可對未設置遮光板的區域穩定地照射偏光光。 [發明的效果]

根據本發明，可對同一對象物照射規定的方向即第1方向的偏光成分的光、以及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。

以下，參照圖示，對本發明的實施形態進行詳細說明。

＜第1實施形態＞ 圖1是表示第1實施形態的偏光光照射裝置1的概略的正視圖。偏光光照射裝置1例如使來自光源的光穿過偏光膜而獲得偏光，將所述偏光照射至玻璃基板等（以下，稱為對象物W）的被曝光面，而生成液晶面板用的配向膜等。特別是在進行在一個對象物W內配置多個多種大小的單元（cell）（例如，大尺寸的單元及小尺寸的單元）以提高對象物W的虛設（dummy）區域的利用率的玻璃上多模型（Multi-Model on Glass，MMG）方式的曝光的情況下有用。

以下，將對象物W的搬送方向設為y方向，將與搬送方向正交的方向設為x方向，將垂直方向設為z方向。

偏光光照射裝置1主要包括偏光照射部10、平台20及平台驅動部30。

偏光照射部10將偏光照射至對象物W。關於偏光照射部10將在後文詳述。

平台20設置為可在x方向（與對象物W的掃描方向大致正交的方向）及y方向（對象物W的掃描方向）上移動。在平台20的上表面，載置對象物W。

平台驅動部30包括在y方向上延伸設置的平台導軌31、以及具有致動器（actuator）等的驅動部32。驅動部32使平台20沿平台導軌31（即，掃描方向）移動（參照圖1的粗箭頭）。又，驅動部32使平台20在與掃描方向（y方向）大致正交的偏移方向（x方向）上移動偏移量（後文詳述）。平台驅動部30使平台20移動的構成已為公知，故而省略說明。

其次，對偏光照射部10進行詳細說明。圖2是表示偏光照射部10的概略的平面圖。圖3是表示自側面觀察偏光照射部10時的概略的主要部位透視圖。

偏光照射部10主要包括光源11、特定波長透過濾波器12、偏光器13、遮光部14及反射器（reflector）15。再者，圖2中，已省略特定波長透過濾波器12及反射器15的圖示。

光源11包括多個燈11x。燈11x為棒狀，照射未偏光的光（例如，紫外光）。作為燈11x，可使用高效率地發出光配向處理時所需要的短波長紫外光（例如，254 nm波長光）的長弧燈（long-arc lamp）。

燈11x是以長度方向沿y方向的方式設置。藉由在x方向上排列設置多個燈11x，而配置沿x方向延伸的光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d。光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d是在y方向上相鄰而設置。再者，光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d中分別所含的燈11x的數量並不限於圖2所示的形態。又，在圖2中，光源11包含四個光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d，但光源11所含的光源列的數量亦不限於四個。

自燈11x照射的光經反射器15反射，而穿過特定波長透過濾波器12及偏光器13，照射至對象物W（參照圖3）。

在光源11的下側（-z側），即在光源11與平台20之間，設置有特定波長透過濾波器12、偏光器13及遮光部14（參照圖3）。特定波長透過濾波器12及偏光器13是針對一個燈11x各設置一個，遮光部14是針對每個光源列11a、光源列11d而設置。

特定波長透過濾波器12是以僅使特定的波長範圍的光透過，而吸收其他波長的光的方式製作而成的濾波器。特定波長透過濾波器12是在板狀的玻璃（石英玻璃等）即透明基板上，形成有僅使特定的波長範圍的光透過的帶通濾波器（bandpass filter）的濾波器層。但是，透明基板上所形成的濾波器並不限於帶通濾波器，亦可為例如低截濾波器（low-cut filter）或反射濾波器。

偏光器13是使無偏光的光偏光的構件，設置在特定波長透過濾波器12的下側（-z側）。偏光器13既可針對每個燈11x各設置一個，亦可針對每個燈11x設置兩個以上。

作為偏光器13，可使用入射角度依賴性少的線柵偏光器。所謂線柵偏光器，是指在透明基板13a（參照圖3）的表面上形成有金屬線13b（參照圖3）的偏光器。藉由將金屬線13b的間距設為所入射的光的波長以下，而使與金屬線13b的長度方向大致平行的偏光成分反射，使與金屬線13b的長度方向大致正交的偏光成分穿過。金屬線13b例如由鋁形成。圖3中，圖示有金屬線13b的長度方向。

偏光器13包括偏光方向不同的兩種偏光器13A、偏光器13B。如圖3所示，偏光器13A是金屬線13b的長度方向沿y方向，使x方向的偏光成分穿過。偏光器13B是金屬線13b的長度方向沿x方向，使y方向的偏光成分穿過。如上所述，偏光器13A與偏光器13B中，所穿過的偏光成分的方向不同。

在位於光源列11a、光源列11b、光源列11c的燈11x的下方，設置偏光器13A。在位於光源列11d的燈11x的下方，設置偏光器13B。圖中，利用空心箭頭示意性地表示偏光光的方向。

如圖2所示，關於設置有不同的偏光器13A、偏光器13B的光源列11a、光源列11d，位於光源列11a、光源列11d的燈11x的x方向上的位置相同。與此相對，關於設置有相同的偏光器13A的光源列即光源列11a、光源列11b、光源列11c，位於光源列11a的燈11x、位於光源列11b的燈11x與位於光源列11c的燈11x分別在x方向上偏離規定量（以下，稱為偏離量S）。並且，基於所述規定量確定偏移量（後文詳述）。

再者，偏光器13並不限於線柵偏光器，可使用僅使任意方向的光透過的各種偏光器。

遮光部14是遮擋已穿過偏光器13的偏光光，而使偏光光不照射至對象物W。

遮光部14包括遮光板14a。如圖3所示，遮光板14a設置在偏光器13的下側，即設置在偏光器13與平台20之間。在本實施形態中，包括兩塊遮光板14a，在光源列11a、光源列11d上分別各設置有一塊遮光板14a。如圖2所示，設置在光源列11a的遮光板14a遮擋自位於光源列11a的燈11x照射的光的一部分，設置在光源列11d的遮光板14a遮擋自位於光源列11d的燈11x照射的光的一部分。

為了有效率地遮擋偏光光，遮光板14a設置在與對象物W儘可能相近的位置。在本實施形態中，燈11x與對象物W的距離為130 mm～140 mm左右，遮光板14a與對象物W的距離為2 mm左右（參照圖3）。

又，遮光部14主要包括沿x方向的軸14b（參照圖2）、以及使遮光板14a沿軸14b移動的致動器等遮光板驅動部14c（參照圖4）。因此，遮光板14a可沿光源列11a、光源列11d（沿x方向）移動。

圖4是表示偏光光照射裝置1的電氣構成的方塊圖。偏光光照射裝置1主要包含控制部101、記憶部102、輸入部103、輸出部104而構成。

控制部101是作為運算裝置的中央處理器（Central Processing Unit，CPU）等程式控制器件，按照記憶部102中所儲存的程式而運行。在本實施形態中，所述控制部101是作為僅使位於點亮區域（後文詳述）的燈11x點亮的光源控制部101a、控制遮光板驅動部14c的遮光板控制部101b、及控制驅動部32的平台控制部101c而發揮作用。關於控制部101的詳細運行的內容，將在後文詳述。

記憶部102是非揮發性記憶體、揮發性記憶體等，保持藉由控制部101而執行的程式等，並且作為控制部101的工作記憶體而運行。

輸入部103包括鍵盤或滑鼠等輸入器件。在本實施形態中，自輸入部103輸入關於對象物W的資訊。輸出部104是顯示器等。

對如上所述而構成的偏光光照射裝置1的作用進行說明。圖5是表示偏光光照射裝置1的處理的流程的流程圖。進行處理之前，平台20位於圖1所示的初始位置。

若自輸入部103輸入關於對象物W的資訊，則首先，光源控制部101a確定點亮區域，遮光板控制部101b確定遮光板14a的位置（步驟S10）。以下，對步驟S10的處理進行詳細說明。

所謂關於對象物W的資訊，例如，是表示對象物W包括區域Wa及區域Wb，區域Wa（參照圖2）是使沿y方向的偏光光照射的區域，區域Wb（參照圖2）是使沿x方向的偏光光照射的區域的資訊。

點亮區域是以x方向上的位置來表示。光源控制部101a針對光源列11d（y方向的偏光成分透過），將曝光前對象物W載置於平台20上時的區域Wa的x方向上的位置確定為點亮區域。又，光源控制部101a針對光源列11a（x方向的偏光成分透過），將曝光前對象物W載置在平台20上時的區域Wb的x方向上的位置確定為點亮區域。

在記憶部102中，記憶有關於各個燈11x將編號與位置加以關聯的資訊（關於燈11x的資訊）。光源控制部101a可根據關於燈11x的資訊，判定位於點亮區域的燈11x是哪個。

又，遮光板控制部101b將遮光板14a的端部與點亮區域的邊界大致一致，遮光板14a與點亮區域不重合的位置確定為遮光板14a的位置。

其次，光源控制部101a使位於在步驟S10中所確定的點亮區域的燈11x點亮（步驟S12）。在圖2中，對位於點亮區域的燈11x進行網線標示。與此同時，遮光板控制部101b經由遮光板驅動部14c使遮光板14a沿軸14b移動，使遮光板14a移動至步驟S10中所確定的位置（步驟S12）。圖2中，對遮光板14a進行網線標示。

返回至圖5的說明。平台控制部101c進行曝光處理，即，經由驅動部32使平台20（即，對象物W）在掃描方向即y方向上移動（一次往返），將自偏光照射部10照射的光照射至對象物W的被曝光面而生成配向膜等（步驟S14）。

圖6是示意性地表示偏光照射部10的一部分的圖，例示有位於光源列11a的燈11x、特定波長透過濾波器12、偏光器13A及遮光板14a。圖6中，利用細的兩點鏈線表示自燈11x照射的光。

關於未配置遮光板14a的部分，自燈11x照射的光穿過特定波長透過濾波器12及偏光器13而照射至對象物W。與此相對，關於配置有遮光板14a的部分，自燈11x照射的光雖穿過特定波長透過濾波器12及偏光器13，但經遮光板14a遮擋而未被照射至對象物W。

遮光板14a設置在端部與點亮區域的邊界大致一致，且與點亮區域不重合的位置，故而關於點亮區域以外的區域，未將偏光光照射至對象物W。

如上所述，在步驟S14中，僅未經遮光板14a遮擋的光照射至對象物W的被曝光面。在本實施形態中，對區域Wa僅照射自光源列11d照射的光之中的y方向的偏光光，與此同時，對區域Wb僅照射自光源列11a照射的光之中的x方向的偏光光。再者，曝光處理自身為一般的處理，故而省略詳細的說明。

返回至圖5的說明。平台控制部101c判定曝光處理（步驟S14）是否已進行規定的曝光次數（步驟S16）。曝光次數是基於偏移量等而預先確定，記憶於記憶部102中。又，偏移量是基於偏離量S（參照圖2）而預先確定，記憶於記憶部102中。例如，偏移量是偏離量S的1/2的值、偏離量S的1/4的值等。又，例如，當偏離量S為144 mm，偏移量為24 mm時，曝光次數為六次（＝144 mm/24 mm）。

當曝光處理未進行曝光次數時（步驟S16中為否（NO）），平台控制部101c經由驅動部32，使平台20在偏移方向上移動偏移量（步驟S18）。與此同時，遮光板控制部101b經由遮光板驅動部14c，使遮光板14a在偏移方向上移動偏移量（步驟S18）。再者，偏移方向經預先確定，記憶於記憶部102中。

並且，平台控制部101c在使平台20及遮光板14a在偏移方向上已移動偏移量的狀態下，進行曝光處理（步驟S14）。

當曝光處理已進行曝光次數時（步驟S16中為是（YES）），平台控制部101c結束對一塊對象物W的處理。

此處，說明當設置有遮光板14a，而僅使點亮區域的燈11x點亮時，藉由圖5所示的處理而使對象物W如何曝光。圖7是表示曝光條件（點亮區域、偏移量、偏移方向等）的一例的圖，圖8是表示在圖7所示的曝光條件下將偏光光照射至對象物W時對象物W中的偏光光的照射量的圖。

在圖7中，在x方向為48 mm、192 mm、336 mm及480 mm的位置上設置有燈11x。又，在圖7中，點亮區域為x≧192 mm，位於x方向＝192 mm、336 mm及480 mm的燈11x被點亮。在圖7中，對位於點亮區域的燈11x進行網線標示。

又，遮光板14a設置成在第一次曝光時（對象物W在偏移方向上未移動時），端部的x方向上的位置為192 mm，且與點亮區域不重合（即，使遮光板14a的x方向上的位置為192 mm以下）。又，圖7表示偏移方向為-x方向，偏移量為24 mm時進行有六次曝光處理的情況。

圖8的橫軸的數字表示第一次曝光時的對象物W的x方向上的位置。如圖8所示，在相當於對象物W在偏移方向上未移動的狀態下的點亮區域（x為192 mm以上）的區域內，對對象物W穩定地照射偏光光。與此相對，對於設置有遮光板14a的區域，未對對象物W照射偏光光。又，由於設置有遮光板14a，故而在對象物W在偏移方向上未移動的狀態下的點亮區域的端部附近，曝光量發生了急遽變化，曝光量不穩定的區域變窄。

根據本實施形態，可對同一對象物，同時照射不同方向的偏光光。例如，可使自某個光源列（例如，光源列11a）照射的光，透過使與掃描方向大致正交或大致平行的第1方向的偏光成分透過的偏光器（例如，偏光器13A），而照射至對象物W的某個區域（例如，區域Wa）。並且，與此同時，可使自其他光源列（例如，光源列11d）照射的光，透過使與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分透過的偏光器（例如，偏光器13B），而照射至對象物W的與區域Wa不同的區域（例如，區域Wb）。由此，可將規定的方向即第1方向的偏光成分的光、以及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光同時照射至對象物W，從而在區域Wa、區域Wb內同時生成方向各不相同的配向膜等。例如，藉由在區域Wa內形成小尺寸的單元，在區域Wb內形成大尺寸的單元，可應對MMG，從而可提高對象物W的虛設區域的利用率。

又，根據本實施形態，藉由在與點亮區域鄰接的位置設置遮光板14a，可在對一塊對象物W同時照射不同方向的偏光光時，相鄰地設置使不同的偏光成分的光照射的區域（例如，區域Wa、區域Wb）。

又，根據本實施形態，由於僅使位於點亮區域的燈11x點亮，故而可防止熱過度產生。這只在使用長度方向沿掃描方向設置的燈11x的情況下可實現。

又，根據本實施形態，藉由使用長度方向沿掃描方向而設置的燈，可增大來自燈的光的射出角度θ（參照圖6），使設置有遮光板的區域與未設置遮光板的區域的邊界上的曝光量的變化更急遽。其結果為，例如可使形成於區域Wa內的小尺寸的單元與形成於區域Wb內的大尺寸的單元的距離接近，從而更有效率地利用對象物W。

又，根據本實施形態，控制部101自動地確定點亮區域或遮光板14a的位置，故而可根據對象物W自動地進行曝光。

再者，在本實施形態中，偏光器13A所透過的偏光成分的方向與偏光器13B所透過的偏光成分的方向大致正交，但各個偏光器所透過的偏光的成分並不限定於此。例如，亦可為設置在光源列11a、光源列11b、光源列11c的下側的偏光器使與掃描方向大致正交的方向（或大致平行的方向）的偏光成分穿過，設置在光源列11d的下側的偏光器使自與掃描方向大致正交的方向（或，大致平行的方向）傾斜5度～10度左右的方向的偏光成分穿過。又，設置在光源列11a、光源列11b、光源列11c的下側的偏光器既可為與掃描方向大致正交的方向或大致平行的方向，亦可為與掃描方向無關的規定的方向。並且，所述規定的方向可基於形成於對象物W上的面板（單元）的規格來確定。

又，在本實施形態中，是控制部101基於關於對象物W的資訊來確定點亮區域及遮光板14a的位置，但亦可由操作者確定點亮區域或遮光板14a的位置，並記憶於記憶部102中。又，在本實施形態中，是控制部101使位於點亮區域的燈11x自動點亮，且使遮光板14a自動移動，但亦可由操作者以手動使點亮區域的燈11x點亮，或操作者以手動配置遮光板14a。

＜第1實施形態的變形例1＞ 如以上所說明，偏光光照射裝置1藉由對對象物W同時照射不同方向的偏光光，而在區域Wa、區域Wb內同時生成方向各不相同的配向膜等，但亦可僅使一個方向的偏光光照射至對象物W。

圖9是說明利用偏光照射部10僅使一個方向的偏光光照射至對象物W的情況的圖。

使遮光板14a移動至與光源列11a、光源列11d的燈11x不重合的位置為止，使光源列11a、光源列11b、光源列11c的燈11x點亮（參照圖9的網線標示）。由此，可僅使穿過了偏光器13A的x方向的偏光光照射至對象物W。

如上所述，偏光光照射裝置1既可同時照射不同方向的偏光光，亦可僅照射一個方向的偏光光。再者，關於僅使一個方向的偏光光照射的情況，處理的流程亦與圖5所示的情況相同，故而省略說明。

＜第2實施形態＞ 本發明的第1實施形態是在各光源列11a、光源列11d上分別各使用一塊遮光板14a，但遮光板14a的數量並不限於此。

第2實施形態是在各光源列11a、光源列11d上分別使用多個遮光板14a的形態。以下，對第2實施形態的偏光光照射裝置進行說明。第1實施形態的偏光光照射裝置1與第2實施形態的偏光光照射裝置的差異只是遮光板14a的數量，故而以下，僅對第2實施形態的偏光光照射裝置中的偏光照射部10A進行說明。又，關於與第1實施形態相同的部分，標註相同的符號，並省略說明。

圖10是對偏光照射部10A進行說明的圖。偏光照射部10A主要包括光源11、特定波長透過濾波器12（省略圖示）、偏光器13、遮光部14A及反射器15（省略圖示）。遮光部14A包括在各光源列11a、光源列11d上分別各設有三塊的遮光板14a。

光源控制部101a針對光源列11d，將曝光前對象物W載置於平台20上時的區域Wc的x方向上的位置確定為點亮區域。又，光源控制部101a針對光源列11a，將曝光前對象物W載置於平台20上時的區域Wd的x方向上的位置確定為點亮區域。在圖10中，對位於點亮區域的燈11x進行網線標示。

又，遮光板控制部101b將設置於光源列11a上的遮光板14a及設置於光源列11d上的遮光板14a的端部與點亮區域的邊界大致一致，遮光板14a與點亮區域不重合的位置，確定為遮光板14a的位置。在圖10中，對遮光板14a進行網線標示。

在本實施形態中，可對對象物W同時照射不同方向的偏光光。再者，處理的流程由於與圖5所示的情況相同，故而省略說明。

再者，藉由增加遮光板14a的塊數，而可以覆蓋圖10中的點亮區域以外的全部區域的方式配置遮光板14a。因此，在由遮光板14a覆蓋點亮區域以外的全部區域的情況下，即便使光源列11a、光源列11d的燈11x全部點亮，亦可獲得與僅使位於點亮區域的燈11x點亮的情況相同的效果。

＜第3實施形態＞ 本發明的第1實施形態是利用遮光板14a來進行遮光，但遮光板並非必需。

第3實施形態是不使用遮光板14a的形態。以下，對第3實施形態的偏光光照射裝置進行說明。第1實施形態的偏光光照射裝置1與第3實施形態的偏光光照射裝置的差異只是遮光部14的有無，故而以下，僅對第3實施形態的偏光光照射裝置中的偏光照射部10B進行說明。又，關於與第1實施形態相同的部分，標註相同的符號，並省略說明。

圖11是對偏光照射部10B進行說明的圖。偏光照射部10B主要包括光源11、特定波長透過濾波器12（省略圖示）、偏光器13及反射器15（省略圖示）（未設置遮光部14）。

圖12是表示第3實施形態的偏光光照射裝置的處理的流程的流程圖。

若自輸入部103輸入關於對象物W的資訊，則首先，光源控制部101a確定點亮區域（步驟S11）。例如，光源控制部101a針對光源列11d，將曝光前對象物W載置於平台20上時的區域We的x方向上的位置確定為點亮區域。又，光源控制部101a針對光源列11a，將曝光前對象物W載置於平台20上時的區域Wf的x方向上的位置確定為點亮區域。

其次，光源控制部101a使位於在步驟S10中所確定的點亮區域的燈11x點亮（步驟S13）。在圖12中，對位於點亮區域的燈11x進行網線標示。

平台控制部101c進行曝光處理（步驟S14），判定曝光處理是否已進行規定的曝光次數（步驟S16）。當曝光處理未進行曝光次數時（步驟S16中為否（NO）），平台控制部101c經由驅動部32，使平台20在偏移方向上移動偏移量（步驟S19）。然後，平台控制部101c在使平台20在偏移方向上已移動偏移量的狀態下，進行曝光處理（步驟S14）。

當曝光處理已進行曝光次數時（步驟S16中為是（YES）），平台控制部101c結束對一塊對象物W的處理。

在本實施形態中，亦可對對象物W同時照射不同方向的偏光光。但是，在本實施形態中，由於未設置遮光板14a，故而無法使照射不同方向的偏光光的區域We、區域Wf鄰接。因此，為了有效率地生成配向膜等，理想的是設置遮光板14a。又，為了使區域We、區域Wf儘可能地接近，理想的是使來自燈11x的射出角度θ（參照圖6）儘可能增大（例如，大致45度以下）。並且，為了使來自燈11x的射出角度θ儘可能地增大，理想的是使用形成為光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d的光源11，所述光源列11a、光源列11b、光源列11c、光源列11d是將以長度方向沿y方向的方式而設置的棒狀的燈11x在x方向上排列多個並且沿x方向延伸。

＜第4實施形態＞ 本發明的第1實施形態是將以長度方向沿y方向的方式而設置的燈11x在x方向上排列多個而形成光源列，但光源的形態並不限定於此。

第4實施形態是使用沿x方向的長的燈的形態。以下，對第4實施形態的偏光光照射裝置進行說明。第1實施形態的偏光光照射裝置1與第4實施形態的偏光光照射裝置的差異只是光源的形態，故而以下，僅對第4實施形態的偏光光照射裝置中的偏光照射部10C進行說明。又，關於與第1實施形態相同的部分，標註相同的符號，並省略說明。

圖13是對偏光照射部10C進行說明的圖。偏光照射部10C主要包括光源11A、特定波長透過濾波器12（省略圖示）、偏光器13、遮光部14B及反射器15（省略圖示）。

光源11A包括兩根沿x方向設置的燈11y。兩根燈11y沿y方向相鄰而設置。再者，燈11y的根數並不限於兩根。

在燈11y的下側，相鄰地設置有多個偏光器13A、偏光器13B。遮光部14B包括針對兩根燈11y而分別設置的多個遮光板14a及軸14b。

在第3實施形態的偏光光照射裝置中，當自輸入部103輸入關於對象物W的資訊時，遮光板控制部101b基於關於對象物W的資訊確定遮光板14a的位置，使遮光板14a移動至經確定的位置。再者，在圖13中，對遮光板14a進行網線標示。

其次，光源控制部101a使燈11y點亮，平台控制部101c進行曝光處理。

在本實施形態中，亦可對對象物W同時照射不同方向的偏光光。再者，在本實施形態中，亦可無光源控制部101a。又，為了遮擋自燈11y照射的光，理想的是設置多個遮光板14a。

又，在本實施形態中，藉由使遮光板14a移動至與燈11y不重合的位置為止，僅使其中一個燈11y點亮，可僅使已穿過偏光器13A或偏光器13B的一個方向的偏光光照射至對象物W。

＜第5實施形態＞ 本發明的第1實施形態是將規定的方向即第1方向的偏光成分的光、以及與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光同時照射至對象物W，在對象物W上同時生成區域Wa、區域Wb，但是即使不將第1方向的偏光成分的光與第2方向的偏光成分的光同時照射至對象物W，亦可在對象物W上生成被照射第1方向的偏光成分的光的區域、以及被照射第2方向的偏光成分的光的區域。

第5實施形態是藉由不同的曝光動作而在對象物W上生成照射有第1方向的偏光成分的光的區域、以及照射有第2方向的偏光成分的光的區域的形態。以下，對第5實施形態的偏光光照射裝置2進行說明。關於第1實施形態的偏光光照射裝置1及第5實施形態的偏光光照射裝置2中相同的部分，標註相同的符號，並省略說明。

圖14是表示偏光光照射裝置2的概略的正視圖。偏光光照射裝置2主要包括偏光照射部10D、平台20及平台驅動部30A。偏光光照射裝置2在偏光照射部10D的兩側設置有兩個平台20。

偏光照射部10D將偏光照射至對象物W。後文將對偏光照射部10D進行詳述。平台20以可旋轉的方式設置在第1位置與第2位置之間。平台驅動部30A包括平台導軌31、驅動部32、以及使平台20沿xy平面旋轉的旋轉驅動部33。旋轉驅動部33包括未圖示的轉動軸及致動器等，使平台20在第1位置與第2位置之間旋轉大致90度。再者，使平台20旋轉的構成已為公知，故而省略說明。又，使平台20旋轉的角度並不限定於大致90度。

其次，對偏光照射部10D進行詳細說明。圖15是表示偏光照射部10D的概略的平面圖。圖16是表示自側面觀察偏光照射部10D時的概略的主要部位透視圖。

偏光照射部10主要包括光源11B、特定波長透過濾波器12、偏光器13A、遮光部14C及反射器15。再者，在圖15中，已省略特定波長透過濾波器12、偏光器13A及反射器15的圖示。

光源11B包括以長度方向沿y方向的方式而設置的多個燈11x。藉由在x方向上排列設置多個燈11x，而配置沿x方向延伸的光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h。光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h是在y方向上相鄰而設置。為了使累計照射量均勻化，四行光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h之間的偏離量S是各光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h中的燈11x之間的距離L的四分之一。例如，當距離L為144 mm時，偏離量S為36 mm（144 mm/4＝36 mm）。

再者，在本實施形態中，光源11B包括四行光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h，但光源11B的形態並不限於此，亦可包括三行光源列。當包含三行光源列時，若距離L設為144 mm，則偏離量S為48 mm（144 mm/3＝48 mm）。

在位於光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h的燈11x的下方，設置有使x方向的偏光成分穿過的偏光器13A。再者，偏光器13A既可針對一個燈11x各設置一個，亦可針對一個燈11x設置兩個以上。

遮光部14C設置在偏光器13A的下側，即設置在偏光器13A與平台20之間，遮擋已穿過偏光器13A的偏光光，以使偏光光不照射至對象物W的不需要光照射的部位。遮光部14C包括沿x方向移動的遮光板14d、以及沿y方向移動的遮光板14e。遮光板14d、遮光板14e與遮光板14a同樣，設置在與對象物W儘可能地接近的位置。

遮光板14d的沿y方向的長度為光源11B的y方向上的長度以上。遮光板14d設置在沿x方向延伸設置的軸（未圖示）上，可藉由致動器等遮光板驅動部14f（參照圖17）而沿x方向移動。

遮光板14e的x方向上的長度為光源11B的x方向上的長度以上。遮光板14e設置在沿y方向延伸設置的軸（未圖示）上，可藉由致動器等遮光板驅動部14g（參照圖17）而沿y方向移動。遮光板14e在保持著與平台20的位置關係的狀態下，與平台20一同沿y方向移動（後文詳述）。

遮光板14d、遮光板14e在自側面（x方向或y方向）觀察時，周緣被傾斜地切斷。如圖16所示，經切斷的部分的邊相對於垂直方向（z方向）傾斜來自燈11x的射出角度θ（參照圖6）。在本實施形態中，θ為大致60度。

圖17是表示偏光光照射裝置2的電氣構成的方塊圖。偏光光照射裝置2主要包含控制部101A、記憶部102、輸入部103及輸出部104而構成。

控制部101A與控制部101同樣，是作為運算裝置的CPU等程式控制器件，按照記憶部102中所儲存的程式而運行。在本實施形態中，所述控制部101A作為控制遮光板驅動部14f、遮光板驅動部14g的遮光板控制部101d以及控制驅動部32及旋轉驅動部33的平台控制部101e而發揮作用。關於控制部101A的詳細運行的內容，將在後文詳述。

對如上所述而構成的偏光光照射裝置2的作用進行說明。圖18是表示偏光光照射裝置2的處理的流程的流程圖。圖19～圖22是說明偏光光照射裝置2對載置在位於+y側的平台20上的對象物W進行曝光處理時的流程的圖。圖19是第一次曝光處理的示意圖，圖20是第二次曝光處理的示意圖，圖21是第三次曝光處理的示意圖，圖22是第四次曝光處理的示意圖。在圖19～圖22中，對被照射偏光光的區域進行網線標示。

在處理之前，控制部101A首先使所有的燈11x點亮。又，控制部101A在處理之前，將平台20設為第1方向（參照圖19）（當平台20成為第2方向時，使平台20旋轉）。並且，控制部101A在平台20上載置有對象物W之後，開始圖18所示的處理。

此外，控制部101A在處理之前，經由輸入部103獲取關於對象物W的資訊。在本實施形態中，所謂關於對象物W的資訊，例如，是表示對象物W包括區域Wc及區域Wd（參照圖19、圖21等），區域Wc是平台20位於第1方向時使沿x方向的偏光光照射的區域，區域Wd是平台20位於第2方向時使沿x方向的偏光光照射的區域的資訊。再者，在本實施形態中，區域Wc、區域Wd是沿掃描方向或沿與掃描方向大致正交的方向的帶狀的區域，且相鄰而設置。區域Wc、區域Wd是平台20位於第1方向時（參照圖19、圖20）沿掃描方向的帶狀的區域，平台20位於第2方向時（參照圖21、圖22）沿與掃描方向大致正交的方向的帶狀的區域。

又，對象物W在區域Wc、區域Wd之間具有灰色區域（gray zone）We（參照圖23～圖25）。所謂灰色區域We，是指被照射至區域Wc的偏光成分的光及照射至區域Wd的偏光成分的光所照射的區域。在灰色區域We內，不形成單元。

遮光板控制部101d基於關於對象物W的資訊，確定曝光時配置遮光板14d的位置（步驟S20）。曝光時配置遮光板14d的位置是沿掃描方向呈帶狀覆蓋光源11B的位置，是相當於曝光前對象物W載置在平台20上時的區域Wc以外的區域的位置。遮光板14d的沿y方向的長度為光源11B的y方向上的長度以上，故而遮光板14d覆蓋光源11B的沿掃描方向的整個區域。

並且，遮光板控制部101d經由遮光板驅動部14f，使遮光板14d移動至步驟S20中所確定的位置（步驟S22）。在圖19、圖20中，遮光板14d是以覆蓋光源11B中的相當於區域Wd及灰色區域We（即，區域Wc以外的區域）的位置的方式而移動。由此，可對應於對象物自動地遮擋多餘的光。實際上，遮光板14d是位於光源11B的下側，然而為了說明，在圖19、圖20中利用實線來描繪遮光板14d。又，在圖19、圖20中已省略灰色區域We的圖示。再者，遮光板14e位於不覆蓋光源11B的位置。

控制部101A進行第一次曝光處理（步驟S24）。具體而言，在光源11B的燈11x全部點亮，光源11B由遮光板14d覆蓋著一部分的狀態下，平台控制部101e經由驅動部32使平台20（即，對象物W）在掃描方向即y方向上移動，而將自光源11B照射的光照射至對象物W的被曝光面而生成配向膜等。在步驟S24中，如圖19所示，使平台20沿-y方向移動而進行第一次曝光處理。

第一次曝光處理（步驟S24）結束後，平台控制部101e如圖20所示，經由驅動部32，使平台20在偏移方向上移動偏移量（步驟S26）。與此同時，遮光板控制部101d如圖20所示，經由遮光板驅動部14f，使遮光板14d在偏移方向上移動偏移量（步驟S26）。例如，偏移量是偏離量S（參照圖15）的1/2的值、偏離量S的1/4的值等，記憶於記憶部102中。

若使平台20及遮光板14d在偏移方向上移動偏移量（步驟S26），則控制部101A進行第二次曝光處理（步驟S28）。藉由第一次曝光處理及第二次曝光處理（步驟S24、步驟S28），對區域Wc及灰色區域We照射與對象物W的長度方向大致正交的方向（本實施形態中的第1方向）的偏光成分的光。由於使平台20及遮光板14d在偏移方向上移動偏移量而進行第二次曝光處理，故而可對區域Wc穩定地照射偏光光。在第二次曝光處理中，除了使平台20在+y方向上移動的方面（參照圖20）以外，與第一次曝光（步驟S24）相同，故而省略說明。

第二次曝光處理（步驟S28）結束後，遮光板控制部101d如圖21所示，經由遮光板驅動部14f，使遮光板14d移動至不覆蓋光源11B的位置（步驟S30）。又，平台控制部101e如圖21所示，經由旋轉驅動部33使平台20（即，對象物W）旋轉大致90度（步驟S32）。

遮光板控制部101d基於關於對象物W的資訊，確定曝光時配置遮光板14e的位置（步驟S34）。曝光時配置遮光板14e的位置是在平台20位於第2方向時，覆蓋剛剛（第一次及第二次）經曝光的區域即區域Wc的位置，藉由與對象物W（即，平台20）的關係來確定。由於平台20已旋轉大致90度（第2方向），故而區域Wc是沿x方向。遮光板14e由於x方向上的長度為光源11B的x方向上的長度以上，故而可覆蓋整個區域Wc。

控制部101A進行第三次曝光處理（步驟S36）。首先，平台控制部101e經由驅動部32，使平台20在第2方向上沿y方向（圖21中為-y方向）移動（步驟S361）。

遮光板控制部101d判定遮光板14e與平台20的位置關係是否已成為步驟S34中所確定的位置關係（步驟S363）。當遮光板14e與平台20的位置關係未成為步驟S34中所確定的位置關係時（步驟S363中為否（NO）），返回至步驟S361。

當遮光板14e與平台20的位置關係已成為步驟S34中所確定的位置關係時（步驟S363中為是（YES）），控制部101A使遮光板14e與平台20同時以相同的速度（使遮光板14e與平台20同步）向y方向（圖21中為-y方向）移動（同步掃描）（步驟S365）。

利用圖23、圖24、圖25，對步驟S36的處理進行說明。再者，在圖23～圖25中省略了平台20。又，圖中，粗箭頭表示遮光板14e及對象物W的移動的情形，網線部表示被照射來自光源11B的光的區域。

圖23是遮光板14e與平台20的位置關係已成為步驟S34中所確定的位置關係時的光源11B、遮光板14e及對象物W（平台20）的位置關係的示意圖。如上所述，藉由遮光板14e而不對區域Wc照射光的狀態是在步驟S34中所確定的位置關係（步驟S363中為是（YES））。

圖24是表示使遮光板14e與對象物W（平台20）一同向y方向（此處為-y方向）移動的狀態的圖。平台控制部101e經由驅動部32使平台20（即，對象物W）在-y方向上移動，與此同時，遮光板控制部101d經由遮光板驅動部14g，使遮光板14e在-y方向上移動。由此，使遮光板14e與平台20一同向掃描方向移動，以使遮光板14e保持在步驟S34中所確定的位置上。

圖25是表示自圖24所示的狀態使遮光板14e及對象物W（平台20）進而向y方向（此處為-y方向）移動，遮光板14e已完全穿過光源11B的下方的狀態的圖。來自光源11B的光被照射至區域Wd及灰色區域We，而不照射至區域Wc。

如上所述，藉由使遮光板14e與對象物W（平台20）一同向y方向移動，可自動地遮擋多餘的光，以使來自光源11B的光不照射至區域Wc。

再者，在遮光板14e的周緣，上端面被切斷，其角度與來自燈11x的射出角度θ（參照圖6）大致相同。因此，可確實地遮擋自光源11B照射的光。

返回至圖18的說明。第三次曝光處理（步驟S36）結束後，平台控制部101e如圖22所示，經由驅動部32，使平台20在偏移方向上移動偏移量（步驟S38）。與此同時，遮光板控制部101d如圖22所示，經由遮光板驅動部14g，使遮光板14e在偏移方向上移動偏移量（步驟S38）。

然後，控制部101A進行第四次曝光處理（步驟S40）。藉由第三次曝光處理、第四次曝光處理（步驟S36、步驟S40），對區域Wd及灰色區域We照射與對象物W的長度方向為大致平行方向（本實施形態中的第2方向）的偏光成分的光。又，在圖21、圖22中已省略灰色區域We的圖示。在第四次曝光處理中，除了使平台20在+y方向上移動的方面（參照圖22）以外，與第三次曝光處理（步驟S36）相同，故而省略說明。由此，針對一塊對象物W的曝光處理結束。

以上，以位於偏光照射部10D的+y側的平台20為例說明了偏光光照射裝置2的處理的流程，但關於位於偏光照射部10D的-y側的平台20亦進行同樣的處理。偏光光照射裝置2具有兩個平台20，因此可在相對於一個平台20進行對象物W的取出或載置的期間，對載置在其他平台20上的對象物W進行曝光處理。

根據本實施形態，可對同一對象物，照射不同方向的偏光光。例如，可設置沿偏移方向移動的遮光板14d及沿掃描方向移動的遮光板14e，藉由在不使對象物W旋轉的狀態與使對象物W旋轉的狀態下分別進行曝光處理，而利用一種偏光器13A（不使用多種偏光器13A、偏光器13B），將不同方向的偏光成分的光照射至同一對象物W。又，藉由在各個曝光處理中使用遮光板14d、遮光板14e遮擋多餘的光，可在同一對象物W上，形成被照射第1方向的偏光成分的光的區域Wc、以及被照射與第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光的區域Wd。因此，可應對在同一對象物W內進行不同的偏光方向的曝光的MMG。

又，根據本實施形態，只要設為遮光板14d、遮光板14e不覆蓋光源11B或對象物W，便可對通常的基板進行通常的曝光處理（例如，使所有的燈11x點亮的一次往返的曝光）。例如，當重複進行燈11x的點亮、熄滅時，至燈11x的點亮狀態、熄滅狀態穩定之前要花費30分鐘左右的時間，因此無法使多種基板（例如MMG基板及通常的基板）連續地曝光。與此相對，在本實施形態中，由於所有的燈11x始終點亮，故而可藉由改變遮光板14d、遮光板14e的位置，來使多種基板連續地曝光。

再者，在本實施形態中，是將以長度方向沿y方向的方式而設置的燈11x在x方向上排列多個而形成光源列11e、光源列11f、光源列11g、光源列11h，但亦可使用沿x方向的長的燈11y（參照圖13）。

又，在本實施形態中，將遮光板14d、遮光板14e分別設置有各兩塊，但遮光板14d、遮光板14e的塊數並不限定於此。例如，遮光板14d、遮光板14e分別既可為一塊，亦可為三塊以上。又，遮光板14d、遮光板14e的大小亦不限定於圖15等所示的大小。

又，在本實施形態中，是首先在遮光板14d覆蓋著光源11B的一部分的狀態下進行區域Wc的曝光處理，其次在遮光板14e覆蓋著區域Wc的狀態下進行區域Wd的曝光處理，然而使區域Wc、區域Wd曝光的順序並不限於此，亦可在進行區域Wd的曝光處理之後進行區域Wc的曝光處理。

以上，已參照圖示對所述發明的實施形態進行詳述，但具體的構成並不限於所述實施形態，亦包括不脫離本發明的主旨的範圍的設計變更等。

又，在本發明中，所謂｢大致｣，是不僅包含嚴格相同的情況，而且包含不失同一性的程度的誤差或變形的概念。例如，所謂大致平行，並不限於嚴格平行的情況。又，例如，當僅僅表達為平行、正交等時，不僅包含嚴格平行、正交等的情況，而且包含大致平行、大致正交等的情況。又，在本發明中，所謂｢附近｣，是表示如下情況的概念，例如，當在A的附近時，是指A的附近，既可包含A，亦可不包含A。

1、2‧‧‧偏光光照射裝置
10、10A、10B、10C、10D‧‧‧偏光照射部
11、11A、11B‧‧‧光源
11a、11b、11c、11d、11e、11f、11g、11h‧‧‧光源列
11x、11y‧‧‧燈
12‧‧‧特定波長透過濾波器
13、13A、13B‧‧‧偏光器
13a‧‧‧透明基板
13b‧‧‧金屬線
14、14A、14B、14C‧‧‧遮光部
14a、14d、14e‧‧‧遮光板
14b‧‧‧軸
14c、14f、14g‧‧‧遮光板驅動部
15‧‧‧反射器
20‧‧‧平台
30、30A‧‧‧平台驅動部
31‧‧‧平台導軌
32‧‧‧驅動部
33‧‧‧旋轉驅動部
101、101A‧‧‧控制部
101a‧‧‧光源控制部
101b、101d‧‧‧遮光板控制部
101c、101e‧‧‧平台控制部
102‧‧‧記憶部
103‧‧‧輸入部
104‧‧‧輸出部
L‧‧‧距離
S‧‧‧偏離量
S10、S11、S12、S13、S14、S16、S18、S19、S20、S22、S24、S26、S28、S30、S32、S34、S36、S38、S40、S361、S363、S365‧‧‧步驟
W‧‧‧對象物
Wa、Wb、Wc、Wd、We、Wf‧‧‧區域
θ‧‧‧來自燈的光的射出角度
x、y、z‧‧‧方向

圖1是表示第1實施形態的偏光光照射裝置1的概略的正視圖。 圖2是表示偏光照射部10的概略的平面圖。 圖3是表示自側面觀察偏光照射部10時的概略的主要部位透視圖。 圖4是表示偏光光照射裝置1的電氣構成的方塊圖。 圖5是表示偏光光照射裝置1的處理的流程的流程圖。 圖6是示意性地表示偏光照射部10的一部分的圖，例示有位於光源列11a的燈11x、特定波長透過濾波器12、偏光器13A及遮光板14a。 圖7是表示曝光條件的一例的圖。 圖8是表示在圖7所示的曝光條件下將偏光光照射至對象物W時對象物W上的偏光光的照射量的圖。 圖9是說明利用偏光照射部10僅將一個方向的偏光光照射至對象物W的情況的圖。 圖10是說明第2實施形態的偏光光照射裝置的偏光照射部10A的圖。 圖11是說明第3實施形態的偏光光照射裝置的偏光照射部10B的圖。 圖12是表示第3實施形態的偏光光照射裝置的處理的流程的流程圖。 圖13是說明第4實施形態的偏光光照射裝置的偏光照射部10C的圖。 圖14是表示第5實施形態的偏光光照射裝置2的概略的正視圖。 圖15是表示偏光照射部10D的概略的平面圖。 圖16是表示自側面觀察偏光照射部10D時的概略的主要部位透視圖。 圖17是表示偏光光照射裝置2的電氣構成的方塊圖。 圖18是表示偏光光照射裝置2的處理的流程的流程圖。 圖19是說明偏光光照射裝置2對載置在位於+y側的平台20上的對象物W進行曝光處理時的流程的圖，是第一次曝光處理的示意圖。 圖20是說明偏光光照射裝置2對載置在位於+y側的平台20上的對象物W進行曝光處理時的流程的圖，是第二次曝光處理的示意圖。 圖21是說明偏光光照射裝置2對載置在位於+y側的平台20上的對象物W進行曝光處理時的流程的圖，是第三次曝光處理的示意圖。 圖22是說明偏光光照射裝置2對載置在位於+y側的平台20上的對象物W進行曝光處理時的流程的圖，是第四次曝光處理的示意圖。 圖23是遮光板14e與平台20的位置關係成為步驟S34中所確定的位置關係時的光源11B、遮光板14e及對象物W（平台20）的位置關係的示意圖。 圖24是表示使遮光板14e與對象物W（平台20）一同向y方向（此處為-y方向）移動的狀態的圖。 圖25是表示使遮光板14e及對象物W（平台20）進而向y方向（此處為-y方向）移動，遮光板14e已完全穿過光源11B的下方的狀態的圖。

10‧‧‧偏光照射部

11‧‧‧光源

11a、11b、11c、11d‧‧‧光源列

11x‧‧‧燈

13、13A、13B‧‧‧偏光器

14‧‧‧遮光部

14a‧‧‧遮光板

14b‧‧‧軸

S‧‧‧偏離量

W‧‧‧對象物

Wa、Wb‧‧‧區域

x、y、z‧‧‧方向

Claims (10)

1. 一種偏光光照射裝置，其特徵在於包括： 平台，載置被照射偏光光的對象物；以及 偏光照射部，包括沿與所述對象物的掃描方向大致正交的方向設置的光源、以及設置在所述光源與所述平台之間而使自所述光源照射的光偏光的偏光器；且 所述偏光照射部對所述對象物的第1區域及所述對象物的第2區域中的至少一者照射偏光光，所述第1區域被照射自所述光源照射的光之中的規定的方向即第1方向的偏光成分的光，所述第2區域被照射自所述光源照射的光之中的與所述第1方向不同的方向即第2方向的偏光成分的光。
2. 如申請專利範圍第1項所述的偏光光照射裝置，其中 所述光源包括在所述掃描方向上相鄰而設置的第1光源及第2光源， 所述偏光器包括：第1偏光器，使自所述第1光源照射的光之中的所述第1方向的偏光成分透過；以及第2偏光器，使自所述第2光源照射的光之中的所述第2方向的偏光成分透過。
3. 如申請專利範圍第2項所述的偏光光照射裝置，其中所述偏光照射部包括第1遮光部，所述第1遮光部設置在所述偏光器與所述平台之間，包括遮擋自所述第1光源照射的光的一部分的第1遮光板、以及遮擋自所述第2光源照射的光的一部分的第2遮光板。
4. 如申請專利範圍第3項所述的偏光光照射裝置，其中包括： 資訊獲取部，獲取關於所述對象物的資訊； 遮光板驅動部，使所述第1遮光板沿所述第1光源移動，使所述第2遮光板沿所述第2光源移動；以及 遮光板控制部，基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第1遮光板及所述第2遮光板的位置，對所述遮光板驅動部進行控制以使所述第1遮光板及所述第2遮光板移動至所述經確定的位置。
5. 如申請專利範圍第4項所述的偏光光照射裝置，其中包括： 平台驅動部，使所述平台在所述掃描方向上移動，並且使所述平台在與所述掃描方向大致正交的偏移方向上移動偏移量；且 所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈， 所述第1光源及所述第2光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置， 若所述平台在所述偏移方向上移動所述偏移量，則所述遮光板控制部使所述第1遮光板及所述第2遮光板在所述偏移方向上移動所述偏移量。
6. 如申請專利範圍第2項所述的偏光光照射裝置，其中 所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈， 所述第1光源及所述第2光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置， 所述偏光光照射裝置包括： 資訊獲取部，獲取關於所述對象物的資訊；以及 光源控制部，基於所述資訊獲取部所獲取的資訊求出所述光源的點亮區域，僅使所述多個燈之中的位於所述點亮區域內的燈點亮。
7. 如申請專利範圍第1項所述的偏光光照射裝置，其中 所述平台以可旋轉的方式設置在第1位置與第2位置之間， 所述偏光器使所述第1方向的偏光成分透過， 所述偏光照射部包括第2遮光部，所述第2遮光部設置在所述偏光器與所述平台之間，包括沿所述掃描方向的長度為所述光源的沿所述掃描方向的長度以上的第3遮光板、以及與所述掃描方向大致正交的方向上的長度為所述光源的與所述掃描方向大致正交的方向上的長度以上的第4遮光板， 當所述平台位於所述第1方向時，所述第3遮光板設置在沿所述掃描方向呈帶狀覆蓋所述光源的位置，即設置在相當於所述對象物的所述第1區域以外的區域的位置， 當所述平台位於第2方向時，所述第4遮光板設置在覆蓋所述對象物的所述第1區域的位置上。
8. 如申請專利範圍第7項所述的偏光光照射裝置，其中包括： 資訊獲取部，獲取關於所述對象物的資訊； 平台驅動部，使所述平台在所述第1位置與所述第2位置之間旋轉，且使所述平台沿所述掃描方向移動； 遮光板驅動部，使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動；以及 控制部，對所述平台驅動部及所述遮光板驅動部進行控制；且 所述控制部基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第3遮光板的位置，使所述第3遮光板移動至所述經確定的位置，且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊確定所述第4遮光板的位置，使所述第4遮光板與所述平台一同向所述掃描方向移動，以使所述第4遮光板保持在所述經確定的位置。
9. 如申請專利範圍第8項所述的偏光光照射裝置，其中 所述控制部使所述平台旋轉而設為所述第1方向，且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊，以所述第3遮光板沿所述掃描方向呈帶狀覆蓋所述光源，所述第4遮光板不覆蓋所述光源的方式使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動，且在所述第1方向上使所述平台向所述掃描方向移動， 使所述平台旋轉而設為所述第2方向，且基於所述資訊獲取部所獲取的資訊，以所述第3遮光板不覆蓋所述光源，所述第4遮光板覆蓋所述第1區域的方式使所述第3遮光板及所述第4遮光板移動，且保持著所述平台與所述第4遮光板的位置關係，一面在所述第2方向上使所述平台向所述掃描方向移動，一面使所述第4遮光板向所述掃描方向移動。
10. 如申請專利範圍第8項或第9項所述的偏光光照射裝置，其中 所述平台驅動部使所述平台在所述掃描方向上移動，並且使所述平台在與所述掃描方向大致正交的偏移方向上移動偏移量， 所述光源包括長度方向沿所述掃描方向而設置的多個燈， 所述光源是藉由在與所述掃描方向大致正交的方向上排列設置所述多個燈，而沿與所述掃描方向大致正交的方向設置， 所述控制部使所述平台在所述偏移方向上移動所述偏移量，且使所述第3遮光板或所述第4遮光板在所述偏移方向上移動所述偏移量。