TW201523053A - 雷射操作的光源（三） - Google Patents

Abstract

一種雷射操作的光源含有：腔室，該腔室用於容納可離子化氣體；及點火源，該點火源用於在腔室中離子化氣體，以產生電漿。光源含有雷射，該雷射用於將雷射能量輸入至電漿，使得在雷射輻射的衝擊下，電漿發射有效光，其中該有效光形成光源的輸出訊號；其中提供構件以用於將有效光耦合至傳輸光纖中。一種光學系統，該光學系統用於將電漿成像至面對光學系統之光纖的終端上，該光學系統係安排在腔室及傳輸光纖之間，其中光學系統經校正用於減少色像差。

Description

雷射操作的光源(三)

本發明係大致關於雷射操作的光源。

雷射操作的光源通常在光譜學或表面檢測中已知且被使用於例如量測之功能。

已知的雷射操作的光源(在此處以下亦將簡稱為光源)含有腔室，該腔室用於容納加壓的可離子化氣體；以及點火源，該點火源用於離子化腔室中的氣體，以產生電漿。已知的光源更含有雷射，該雷射用於將雷射能量輸入至電漿中，使得在雷射輻射的衝擊下，電漿產生有效光，該有效光形成光源的輸出訊號。為了傳送至下游製程，提供用於將有效光耦合至傳輸光纖中的構件。已知的光源更含有光學系統，該光學系統被安排於腔室及傳輸光纖之間，用於將電漿成像至面對光學系統之光纖的終端上。從腔室輸出的光可展現非所欲的特性，例如色像差、球面像差及/或慧形像差(coma aberration)。再者，安排在腔室及傳輸光纖之間的光學系統亦可能引導此等非所欲的特性至進入光纖中的光。因此，對將解決先前結構之缺陷及不足之雷射操作的光源存在迄今未 得到解決的需要。

本發明的實施例提供雷射操作的光源。以構造簡述之，在其他所有系統之一個系統實施例可如以下實施。系統包括用於容納可離子化氣體的腔室，及用於離子化腔室中的氣體以產生電漿的點火源。光源含有雷射，用於輸入雷射能量至電漿中，使得在雷射輻射的衝擊下，電漿發射有效光，該有效光形成光源的輸出訊號，其中提供用於將有效光耦合至傳輸光纖中的構件。用於將電漿成像至面向操作系統之光纖的終端的操作系統，係安排在腔室及傳輸光纖之間，其中光學系統經校正以減少色像差。

本發明係基於具體說明雷射操作的光源，以改善光學品質之目的。

本發明係基於光源的光學品質受到負面影響之知識，特別關於當回應於電漿成像在面向光學系統的光纖之終端上而呈現色像差及/或球面像差時，所產生光的均勻性。基於此，本發明基於減少或避免透過光學系統引發的色像差之想法，且因此增加光源的光學品質。

因此，本發明提供經校正的光學系統，用於減少色像差。分別歸因於相對應的消色差校正或消色差光學系統的使用，例如在可見光的光譜中彼此相差最大的波長，或主要顏色紅色及藍色各自的波長被匯集，使得以此方式至少最小化相對應之顏色的像差。結果此光學系統本身已知的消色差校正，在雷射操作的光源之情況中為非常重要的，因為顯著 改善光源的光學品質，特別針對產生的光之均勻性。

根據本發明，理論上當光學系統應用消色差校正時或當使用消色差光學系統時分別為足夠的。然而，光源的光學品質可基於複消色差地或超級消色差地校正光學系統而進一步提升。如範例實施例，當分別應用複消色差校正或回應於複消色差光學系統的使用時，三個顏色，例如主要顏色綠色，與兩個其他主要顏色紅色及藍色匯集。

本發明的進一步發展之另一優點提供光學系統，該光學系統含有用於準直電漿的成像之準直光學元件，及用於將電漿的成像聚焦至面向光學系統之光纖的終端上的聚焦光學元件。

根據本發明，光源的光學品質可藉由進一步校正光學系統的光學參數而進一步改善，亦特別針對光學系統及光纖對彼此的適應。在此條件中，本發明的進一步發展之優點提供以此方式關於其放大率所體現且裝備的光學系統，其中在光纖的輸入平面中電漿的成像等於或小於在輸入平面中光纖的導光核心的直徑。以此方式，回應於由光學系統進行的電漿之成像可取得的光係藉由光的手段耦合至光纖中，使得光產量或光源的亮度分別進一步最佳化。在此實施例的情況中，亦可能選擇放大率，使得在光纖的輸入平面中電漿的成像稍微大於在此平面中光纖的導光核心之直徑。以此方式，光纖幾乎稍微「溢出」光，使得即使在相對於光纖對光學系統的定向之某些調整容忍度的情況中，亦確保高的光產量。

本發明的進一步發展之另一優點提供光學系統的數 值孔徑與光纖的數值孔徑，該兩者彼此適應，特別使得於像側處之光學系統的張角等於或小於光纖的接受角。以此方式，確保從光學系統放射的光束以所欲的方式全部反射在光纖中，且未衍射於光纖的外套中。在此範例實施例的情況中，於像側處光學系統的張角理論上可選擇為等於光纖的接受角。然而，為了建立某一容忍度以用於對調整誤差，於像側處光學系統的張角選擇為稍微大於光纖的接受角可能具有益處。

本發明的進一步發展之另一優點提供光源以發射可見光譜範圍之中的有效光。

本發明的其他系統、方法、特徵及優點對技藝人士而言，在審查以下圖式及詳細說明之後將為顯而易見的。應注意所有此等額外系統、方法、特徵及優點均被包括在此說明書之中、本發明的範疇之中，且受到隨附申請專利範圍之保護。

2‧‧‧光源

4‧‧‧腔室

6‧‧‧電漿

8‧‧‧電極

10‧‧‧電極

12‧‧‧雷射

14‧‧‧光纖

16‧‧‧光學系統

18‧‧‧透鏡

20‧‧‧透鏡

22‧‧‧導光核心

24‧‧‧外套

26‧‧‧準直光學元件

28‧‧‧聚焦光學元件

30‧‧‧過濾器

40‧‧‧輸入窗

50‧‧‧輸出窗

510-580‧‧‧步驟

本發明之許多態樣可參考以下圖式較佳地理解。圖式中的部件並非必須按照尺寸，取而代之地重點強調明確圖示本發明之原理。再者，在圖式中，類似的元件符號在數個視圖中表明相對應部分。

第1圖係概要圖，以高度圖解概要的方式顯示根據本發明之光源的範例實施例。

第2圖係概要圖，用於解釋根據第1圖之光源的傳輸光纖的接受角。

第3圖係概要圖，用於在像側澄清根據第1圖的光源之光學系統的張角。

第4圖係根據第1圖之光源的光學系統的範例實施例之高度圖解的概要圖。

第5圖係一範例方法之流程圖，用於設計從雷射激發的電漿腔室及傳輸光纖接收光之光學系統，該雷射激發的電漿腔室包括輸出窗。

以下定義對此處所揭露之實施例的特徵所應用的詞彙之詮釋為實用的，且僅意味著界定本揭露案之中的元件。在申請專利範圍之中所使用的詞彙並非意圖作為限制，或應藉此衍生。在隨附申請專利範圍之中所使用的詞彙僅應藉由其在可應用領域之中的習慣意義加以限定。

如此揭露案之中所使用，「實質上」意味著「非常接近」，或在一般製造容忍範圍之中。舉例而言，實質上平坦的窗係意圖設計成平坦的，但基於製造所造成之變因，而可由完全平坦改變。

如此揭露案之中所使用，「有效光」大致指稱在可見光譜及近紅外光譜之中的光，舉例而言，較佳為在400-950nm之中，但非限於此範圍。舉例而言，對於特定應用，有效光可包括至少某部分的紫外光譜。

如此揭露案之中所使用，「可見光譜」係電磁光譜中人眼可見(可偵測到)的部分。以頻率而言，此光譜對應至430-790nm之附近的頻帶。

如此揭露案之中所使用，「準直的光」為具有實質上平行的射線之光，且因此當其傳播時將最小化散射。

如此揭露案之中所使用，「透鏡」指稱將通過光學元件之光重新導向/重新塑型之光學元件。相反地，鏡子或反射器將從鏡子或反射器反射的光重新導向/重新塑型。

如此揭露案之中所使用，「色像差」指稱不同的顏色從諸如透鏡之光學元件以不同距離聚焦之現象。

如此揭露案之中所使用，「球面像差」指稱來自球面光源之光遭遇非球面(或非正確定位的球面)光學元件，而引發從諸如透鏡之光學元件於不同距離處之角度扭曲之現象。

如此揭露案之中所使用，在光學系統中的「慧形像差(「coma aberration」或「comatic aberration」)」指稱某些光學設計固有的或歸因於透鏡或其他部件中的瑕疵(該等瑕疵導致離軸點源表現扭曲)之像差，且特別是歸因於在入口瞳孔上放大率的變因。慧形像差可為波長的函數，其中在此情況下係為色像差之形式。

如此揭露案之中所使用，「複消色差(apochromat)」或「複消色差透鏡」，係用於校正色像差及球面像差，而比普通消色差透鏡更佳的透鏡。消色差透鏡通常經校正，以將兩個波長(例如但非限於紅色及藍色)聚焦至相同平面中。複消色差透鏡通常設計成將三個波長(例如但非限於紅色、綠色及藍色)聚焦至相同平面中。複消色差亦可校正兩個波長的球面色差，而非消色差僅校正一個波長。

現將參考本發明的實施例之細節，其範例圖示於隨附圖式中。盡可能地，在圖式及說明書中所使用的相同元件符號代表相同或類似的部分。在高度圖解的概要圖中，第1圖顯示根據本發明之光源2的第一範例實施例，該光源2含有用於容納可離子化氣體的腔室4，在此範例實施例中，該可離子化氣體係由氙氣形成。亦可使用當由雷射光源激化時，形成電漿且發射光的其他可離子化氣體。光源2進一步含有點火源，該點火源用於離子化腔室4中的氣體，以產生第1圖中圖解建議的電漿6，其中在此範例實施例的情況中，點火源係由一對電極8、10形成。

光源2進一步含有雷射12。舉例而言，雷射12可為具有小頻寬的單一波長雷射，配置成抽吸腔室4之中可離子化氣體的吸收線。雷射12產生光束，用於透過腔室4的輸入窗40輸入雷射能量至電漿6中，使得電漿6在雷射輻射的衝擊下，透過腔室4的輸出窗50發射有效光。舉例而言，輸出窗10可為但非限於平面窗或球狀窗。輸出窗50的配置可大致影響輸出光。舉例而言，平面輸出窗50比球狀輸出窗50對光可引發更大的球面像差。然而，若點燃的電漿並非與球狀輸出窗50的焦點中心並列，則球狀輸出窗50亦可產生球面像差。因此，平面輸出窗50可為較佳地允許在腔室4之中點燃電漿6之位置的容忍度。

輸出窗50的配置以及在光學動線中後續光學元件之配置，影響光學系統16可實行的色/球面/慧形校正之類型。因此，光學系統16的設計，例如準直透鏡18及聚焦透 鏡20，尋求在光學系統16上平衡此等像差之校正，包括準直透鏡18及聚焦透鏡20之設計。舉例而言，可藉由模製透鏡18、20以提供輸出光與光纖14的所欲光學耦合，及藉由平衡像差校正與在光纖14的輸入平面處之光纖14耦合輸入要求，來將校正設計至光學系統16中。

在圖示的範例實施例中，光源2配置成在可見波長範圍之中發射有效光。然而，在其他實施例中，有效光可延伸超過可見波長範圍，例如至近紅外光之範圍中。發射的有效光形成光源2的輸出訊號。

光源2進一步含有耦合構件，該耦合構件用於耦合有效光至諸如多重模式光纜、單一模式光纜、或綑束光纜之傳輸光纖14中。為了此目的，可提供光纖耦合器，此耦合器為了清楚之原因並未圖示於第1圖中。在腔室4及光纖14之間提供光學系統16，此系統在第1圖中藉由兩個透鏡18、20之手段圖解地表示，且此系統用以將電漿6成像至面向光學系統16的光纖14之終端上。儘管為了方便起見以單一方式指稱，但準直透鏡18可為單一透鏡或一連串多重光學元件，且聚焦透鏡12可為單一透鏡或一連串多重光學元件。

為了操作光源2，受壓下在腔室4中收集的氣體可初始藉由施加電壓至電極8、10來離子化，使得能夠產生電漿6。雷射12照射雷射光至以此方式形成的電漿6中，接著發射其他光之中的有效光，作為光源2的輸出訊號。除了有效光之外，電漿6回應於雷射輻射的照射可能發射雜散輻射。然而，雜散輻射根據本發明之上下文不具有進一步益處，而 且將因此不在此處進一步解釋細節。

光學系統16將電漿6成像且在面對光學系統16的光纖14的終端上聚焦影像，使得以此方式將有效光耦合至光纖14中。透過光纖14，有效光傳輸至下游製程，例如在晶圓檢測(未顯示)條件下的製程或在回應於晶片製造的平板印刷製程(未顯示)條件下的製程。

根據第一實施例，光學系統16經校正用於減少例如由雷射12產生的多重光波長所造成的色像差。在圖示的範例實施例的情況中，光學系統複消色差地被校正，以便由此形成複消色差系統，在此情況下，例如主色紅色、綠色及藍色因光學校正及源自於光學系統16的色像差的顏色之像差減少(較佳地被最小化)而被匯集。本發明所提之顏色的像差的減少應理解使得在光學系統的情況下，分別相較於未消色差或未複消色差校正的光學系統之情況下減少顏色的像差。理想上，源自色像差的顏色之像差一定程度地經校正，使得在下游製程的條件中剩餘的殘餘像差，對由光源2產生且透過光纖14傳輸的光，不再具有實際相關的衝擊。

在圖示的第一範例實施例之情況中，光學系統16針對其放大率之方式裝備，使得在光纖14的輸入平面中電漿6的成像等於或大於輸入平面中光纖的導光核心之直徑。一方面，當電漿6的成像大於光纖14的導光核心之直徑時，可在光纖14中獲得有效光更均勻的分佈。相反地，當成像尺寸等於或小於光纖的導光核心之直徑時，有效光的更大部分被照射至光纖14中。

為了補償相對於光學系統16之光纖14的某些調整容忍度(例如，相對於電漿6之成像正確地定位光纖)，在光纖14的輸入平面中電漿6的成像直徑亦可稍微大於輸入平面中光纖14的導光核心之直徑(例如，高達110%或更大)，使得光纖14幾乎稍微「溢出」有效光。若相對於光學系統之電漿6的成像大約假設電漿6在垂直於光學系統的光學軸之平面中大約具有圓形的形狀，電漿的半徑理解為電漿之中心點(因此為具有最高密度之電漿的位置)至徑向點(在此點上電漿的密度相較於最高密度減少至1/e²之密度)之距離。在圖示的範例實施例之情況中，光學系統16的數值孔徑及光纖14的數值孔徑彼此經調適，使得於像側處光學系統的張角等於或大於光纖的接受角。為了解釋接受角，初始參考第2圖。

第2圖顯示光纖14之概要圖，其中該光纖14含有包含折射率n₁的導光核心22及具有折射率n₂的外套24。以太大的角度射擊光纖14的前表面之光束並未以所欲的方式完全反射，但在光纖14的外套24中衍射。為了避免在外套中光束的此衍射，射擊的光束必須保持在稱為接受錐狀之中，該接受錐狀係藉由光纖14的接受角決定。在光纖14的數值孔徑(NA)及接受角(θ_GRENZ)之間的條件如下：

接受角(θ_GRENZ)因此如下：

為了在像側解釋光學系統16的張角，參考第3圖。 光學系統16在第3圖中藉由單一透鏡的手段表現，其中圖示於透鏡側處的張角ω_O及於像側處的張角ω_B。

光學系統16的數值孔徑及光纖14的數值孔徑彼此適應，使得於像側處之光學系統16的張角ω_B適於光纖的接受角θ_GRENZ。可進行此適應，使得於像側處之光學系統16的張角ω_B為光纖14之接受角θ_GRENZ的兩倍大。以此方式確保從光學系統16放射的光束以所欲的方式全部反射在光纖14中，且因此被傳輸。然而，為了補償由光纖14相對於光學系統16之誤調整所造成的某些容忍度，像側處的張角ω_B亦可經選擇，以便稍微比光纖的接受角θ_GRENZ之兩倍更大(例如，高達110%或更大)。因此應用以下之調整：

太大的張角ω_B可導致在傳輸至光纖14時能量的損失，而太小的角度使得角度均勻性將被損害，且將傳輸較少的光。

第4圖圖示光學系統16的範例實施例，其中根據本發明，光學系統16經消色差或複消色差地校正。為了消色差校正，光學系統16的光學元件可以此方式校正，使得所使用的波長光譜之兩個波長最佳化地經折射，且與光纖14的光纖尖端之平面的焦點會合。為了複消色差校正，光學系統16可進一步校正，以對超過兩個波長進一步消除色像差，導致在波長改變上光學系統性能較少的依賴性。

在圖示的範例實施例之情況中，光學系統含有準直光學元件26或透鏡，用於準直電漿6的成像；以及聚焦光學 元件28或透鏡，用於將電漿6的成像聚焦至面對光學系統16之光纖14的終端上。具有光學元件16以消色差地校正或複消色差地校正之選擇將大致影響對準直光學元件26及聚焦光學元件28之透鏡配置及/或透鏡材料的選擇。

歸因於光學系統16的複消色差校正，由色像差所造成的光學系統之顏色的像差被減少且較佳地被最小化，使得以此方式改善光源2的功能可靠度。若為所欲的，則用於光譜化過濾有效光的顏色過濾器(如第4圖中藉由過濾器30表現)可安排在準直光學元件26及聚焦光學元件28之間有效光的光路徑中。過濾器30可實行除了顏色過濾之外或額外的其他功能，例如作為偏振過濾器之功能。

光學系統16的設計牽涉平衡藉由使用準直光學元件26及聚焦光學元件28，以最佳化電漿成像之尺寸及角度之方式將腔室4之輸出光(第1圖)傳輸至光纖14中之目標，以及校正由腔室4的輸出窗50(第1圖)所產生的像差，與校正或避免可由準直光學元件26及聚焦光學元件28本身所引發的像差。

第5圖係用於設計光學系統16之範例方法的流程圖，該光學系統16用於從包括輸出窗50的雷射激發的電漿腔室4及傳輸光纖14接收光。應瞭解任何製程說明或流程圖中的方塊應理解為代表包括用於在製程中實施特定邏輯功能的一或更多指令的模組、片段、編碼的部分或步驟，且替代性實例被包括在本發明的範疇之中，其中功能可以不同於所顯示或所討論的順序執行，包括實質上同時或相反的順序， 取決於牽涉的功能性而定，如本發明領域中具有合理之技藝人士應理解。

如方塊510所顯示，決定透過輸出窗50離開腔室之光所透露之光學像差的量(若有)。如方塊520所顯示，準直光學元件26設計成準直從輸出窗50接收的光。如方塊530所顯示，聚焦光學元件28設計成從準直光學元件26接收準直的影像且將此影像聚焦至傳輸光纖14的輸入平面上。如方塊540所顯示，例如以光學系統模製軟體，模製包括輸出窗50、準直光學元件26及聚焦光學元件28之光學動線。如方塊550中所顯示，決定模製的光學動線是否對傳輸光纖14之輸入平面處的光引發像差，其中像差包括色像差、球面像差、及慧形像差之至少一者。如決定方塊560所顯示，若藉由輸出窗50、準直光學元件26及聚焦光學元件28所引發的像差之等級可接受，則如方塊580所顯示，完成方法。否則，如方塊570所顯示，更新準直光學元件及/或聚焦光學元件之設計，以減少像差。

應強調本發明的上述實施例僅為可能的實例範例，僅提出用於清楚理解本發明之原理。可對本發明之上述實施例進行許多改變及修改，而並非實質上悖離本發明之精神及原理。所有此等修改及改變均意圖被包括於此揭露案及本發明之範疇之中，且藉由以下申請專利範圍保護。

2‧‧‧光源

4‧‧‧腔室

6‧‧‧電漿

8‧‧‧電極

10‧‧‧電極

12‧‧‧雷射

14‧‧‧光纖

16‧‧‧光學系統

18‧‧‧透鏡

20‧‧‧透鏡

40‧‧‧輸入窗

50‧‧‧輸出窗

Claims (19)

1. 一種雷射操作的光源，包含：一腔室，該腔室用於容納一可離子化氣體及藉由激化該可離子化氣體所形成的一電漿；一雷射，該雷射用於將雷射能量輸入至該電漿，使得在該雷射輻射的衝擊下，該電漿發射有效光，該有效光形成該光源的該輸出訊號；構件，該等構件用於將該有效光耦合至一傳輸光纖中；一光學系統，該光學系統被安排在該腔室及該傳輸光纖之間，且該光學系統配置成將該電漿成像至面向該光學系統之該光纖的該終端上，其中該光學系統配置成校正色像差。
2. 如請求項第1項所述之光源，其中該光學系統進一步包含準直光學元件，及被安排在該準直光學元件下游的聚焦光學元件。
3. 如請求項第1項所述之光源，進一步包含一點火源，該點火源用於離子化該腔室中的該氣體，以產生該電漿。
4. 如請求項第1項所述之光源，其中該光學系統經校正用於超過兩種波長。
5. 如請求項第1-4項之任一項所述之光源，其中參考其放大率，該光學系統經配置，使得在該光纖的該輸入平面中之該電漿之該成像，等於或大於該光纖的該導光核心之該直徑。
6. 如請求項第1-4項之任一項所述之光源，其中參考其放大率，該光學系統經配置，使得在該光纖的該輸入平面中之該電漿之該成像，小於該光纖的該導光核心之該直徑。
7. 如請求項第1項所述之光源，其中該光學系統的該數值孔徑及該光纖的該數值孔徑彼此適應，使得於該像側處之該光學系統的該張角適應該光纖的該接受角。
8. 如請求項第1項所述之光源，其中該光源在該光波範圍之中發射有效光。
9. 如請求項第1項所述之光源，其中該光學系統進一步配置成校正球面像差。
10. 如請求項第1項所述之光源，其中該光學系統進一步配置成校正慧形像差。
11. 如請求項第2項所述之光源，其中該光學系統進一步包含過濾光學元件。
12. 如請求項第11項所述之光源，其中該過濾光學元件係佈置在該準直光學元件及該聚焦光學元件之間。
13. 一種用於一雷射激發的電漿腔室與一傳輸光纖之間的光學系統，該雷射激發的電漿腔室包含一輸出窗，該光學系統包含：準直光學元件，該準直光學元件配置成透過該輸出窗從該電漿腔室接收且準直一電漿成像；及聚焦光學元件，該聚焦光學元件配置成從該準直光學元件接收一準直的成像且聚焦在該傳輸光纖的一輸出平面上；其中該等準直光學元件及聚焦光學元件配置成校正由該輸出窗、該準直光學元件及該聚焦光學元件之至少一者所引發的像差，且該像差包含至少一個由以下構成之群組：色像差、球面像差及慧形像差。
14. 如請求項第13項所述之光學系統，其中該準直光學元件進一步包含複數個透鏡。
15. 如請求項第13項所述之光學系統，其中該聚焦光學元件進一步包含複數個透鏡。
16. 如請求項第13項所述之光學系統，其中該光學系統進一步包含過濾光學元件，該過濾光學元件佈置在該準直光學元件及該聚焦光學元件之間。
17. 一種用於設計一光學系統以用於接收來自一雷射激發的電漿腔室及一傳輸光纖之光的方法，該雷射激發的電漿腔室包含一輸出窗，該方法包含以下步驟：決定在透過該輸出窗離開該腔室之光中透露的一像差；設計準直光學元件，該準直光學元件配置成準直從該輸出窗所接受的光；設計聚焦光學元件，該聚焦光學元件配置成從該準直光學元件接收一準直的成像且聚焦在該傳輸光纖的一輸出平面上；模製一光學動線，該光學動線包含該輸出窗、該準直光學元件及該聚焦光學元件；決定該模製的光學動線是否對於該傳輸光纖的該輸出平面處之光引發一光學像差，該像差包含至少一個由以下構成之群組：色像差、球面像差及慧形像差；及更新該準直光學元件及/或該聚焦光學元件之該設計，以減少該像差。
18. 如請求項第17項所述之方法，其中該等準直光學元件及模製光學元件配置成消色差地(achromatically)校正像差。
19. 如請求項第17項所述之方法，其中該等準直光學元件及模製光學元件配置成複消色差地(apochromatically)校正像差。