TW201520048A - 光學積層體 - Google Patents

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Atsushi Kishi
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Abstract

本發明提供一種可兼顧硬塗層與基材層之密接性及硬度，且無需可能引起基材膜之變形之溫度之加熱即可製造之光學積層體。 本發明之光學積層體具備：基材層，其係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成；硬塗層，其係於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物而形成；及滲透層，其係該硬塗層形成用組合物向該(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成於該基材層與該硬塗層之間。該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。

Description

光學積層體
本發明係關於一種光學積層體。
液晶顯示器(LCD)、陰極射線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)等圖像顯示裝置存在如下情形，即若由於來自外部之接觸而對其表面造成損傷，則顯示圖像之視認性降低。因此，為了保護圖像顯示裝置之表面，而使用有包含基材層與硬塗層之光學積層體。作為光學積層體之基材膜，代表而言，使用有三乙醯纖維素(TAC)(專利文獻1)。然而，包含TAC之基材膜之透濕度較高。因此，於將包含此種基材膜之光學積層體用於LCD之情形時，產生於高溫高濕下水分透過該光學積層體而偏光元件之光學特性變差之問題。近年來，除在屋內之使用外，如汽車導航系統、攜帶型資訊終端之類之於屋外使用之機器使用LCD之情況亦變多，從而謀求即便於高溫高濕等嚴酷條件下亦不產生上述問題之可靠性較高之LCD。
為了解決上述問題，而提出有如下光學積層體，該光學積層體係藉由於低透濕性之丙烯酸系基材膜上塗佈硬塗層形成用組合物並進行加熱而使硬塗層形成用組合物向基材膜滲透，藉此使基材膜與硬塗層之密接性提高(例如，專利文獻2及專利文獻3)。然而，於專利文獻2之光學積層體之製造中，為了獲得充分之密接性，而必須於接近基材膜之Tg之溫度下進行加熱，因此有基材膜變形(例如，收縮)之虞。另一方面，於專利文獻3之光學積層體之製造中，雖可藉由相對低溫 之加熱而使硬塗層形成用組合物向基材膜滲透而使密接性提高，但有硬度變得不充分之情形。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-165205號公報
[專利文獻2]日本專利特開2012-234163號公報
[專利文獻3]日本專利特開2013-50641號公報
本發明提供一種可兼顧硬塗層與基材層之密接性及硬度，且無需可能引起基材膜之變形之溫度之加熱而可製造之光學積層體。
本發明之光學積層體具備：基材層，其係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成；硬塗層，其係於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物而形成；及滲透層，其係該硬塗層形成用組合物向該(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成於該基材層與該硬塗層之間。該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。
於一實施形態中，硬化性化合物(A)相對於上述硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為10重量%~60重量%。
於一實施形態中，硬化性化合物(A)與單官能單體(C)之合計相對於上述硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為20重量%~70重量%。
於一實施形態中，上述硬塗層形成用組合物包含含有9個以上之 自由基聚合性不飽和基之硬化性化合物(B1)作為硬化性化合物(B)。
於一實施形態中，上述單官能單體(C)之重量平均分子量為500以下。
於一實施形態中，上述單官能單體(C)具有羥基。
於一實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正雙折射之結構單元與表現負雙折射之結構單元。
於一實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為10000~500000。
於一實施形態中，上述硬塗層之與滲透層相反側之表面具有凹凸構造。
於一實施形態中，於上述硬塗層之與滲透層相反側進而具備抗反射層。
根據本發明之另一態樣，提供一種偏光膜。該偏光膜包含上述光學積層體。
根據本發明之又一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置包含上述光學積層體。
根據本發明之又一態樣，提供一種光學積層體之製造方法。該製造方法包括：於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上塗佈硬塗層形成用組合物而形成塗佈層，並將該塗佈層於50℃以上且未達100℃之溫度下進行加熱。該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。
根據本發明，藉由使用包含特定之3種硬化性化合物之硬塗層形成用組合物，可獲得基材層與硬塗層之密接性及硬度兩者優異，且無 需可能引起基材膜之變形之溫度下之加熱而可製造之光學積層體。
10、10'‧‧‧基材層
20‧‧‧滲透層
30、30'‧‧‧硬塗層
40‧‧‧阻擋層
100、200、300‧‧‧光學積層體
A‧‧‧交界
B‧‧‧交界
圖1(a)係本發明之較佳實施形態之光學積層體之概略剖面圖，(b)係不具有滲透層之光學積層體之概略剖面圖之一例。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體之概略剖面圖。
以下，對本發明之較佳實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
A.光學積層體之整體構成
圖1(a)係本發明之較佳實施形態之光學積層體之概略剖面圖，圖1(b)係不具有滲透層之光學積層體之概略剖面圖。圖1(a)所示之光學積層體100依序具備由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成之基材層10、滲透層20、及硬塗層30。硬塗層30係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物而形成。滲透層20係硬塗層形成用組合物向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成。基材層10係如上述般硬塗層形成用組合物向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透時，於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。另一方面，圖1(b)所示之光學積層體200未形成滲透層。圖1(a)及(b)所示之交界A係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜之硬塗層形成用組合物塗佈面所界定之交界。因此，關於交界A，於光學積層體100中係滲透層20與硬塗層30之交界，於未形成滲透層之光學積層體200中係基材層10'(即，(甲基)丙烯酸系樹脂膜)與硬塗層30'之交界。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸基」，意指丙烯酸基及/或甲基丙烯酸基。
滲透層20係如上述般，於光學積層體100中，硬塗層形成用組合物向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成。即，所謂滲透層20，係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中存在硬塗層成分之部分。滲透層20之厚度例如 為1.0μm以上。再者，所謂滲透層20之厚度，係於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜中存在硬塗層成分之部分之厚度，具體而言，係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中存在硬塗層成分之部分(滲透層)與不存在硬塗層成分之部分(基材層)的交界B、與交界A之距離。
本發明之光學積層體亦可視需要而於硬塗層30之外側配置任意適當之其他層(未圖示)。關於其他層，代表而言，係經由黏著劑層(未圖示)而配置。
形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂亦可向硬塗層形成用組合物溶出，而於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體之概略剖面圖。光學積層體300係於硬塗層30之與滲透層20相反側進而具備阻擋層40。阻擋層40係藉由如下方式產生，即形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂向硬塗層形成用組合物溶出，從而硬塗層形成用組合物與該(甲基)丙烯酸系樹脂發生相分離。具備阻擋層40之光學積層體之硬度優異。
本發明之光學積層體於500nm~600nm之波長區域下之硬塗層的反射光譜之振幅較佳為0.5%以下，更佳為0.3%以下，進而較佳為0.1%以下。根據本發明，可獲得反射光譜之振幅較少，即干涉斑較少之光學積層體。
本發明之光學積層體之硬塗層表面之鉛筆硬度較佳為2H以上，更佳為3H以上。
本發明之光學積層體例如適用於偏光膜(亦稱為偏光板)。具體而言，本發明之光學積層體於偏光膜中設置於偏光元件之單面或兩面，而可較佳地用作偏光元件之保護材料。
B.基材層
上述基材層係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成。更詳細而言，如上 所述，基材層係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物時，於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中該硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如將包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂成分之成形材料進行擠出成形而獲得。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之透濕度較佳為200g/m2‧24hr以下，更佳為80g/m2‧24hr以下。根據本發明，即便使用如上述般透濕度較高之(甲基)丙烯酸系樹脂膜，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異，且干涉斑得到抑制之光學積層體。再者，透濕度例如可藉由依據JIS Z 0208之方法，於40℃且相對濕度92%之試驗條件下進行測定。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之波長380nm下之光之透過率較佳為15%以下，更佳為12%以下，進而較佳為9%以下。若波長380nm之光之透過率為上述範圍，則表現優異之紫外線吸收能力，因此可防止光學積層體之由外界光等引起之紫外線劣化。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之面內相位差Re較佳為10nm以下，更佳為7nm以下，進而較佳為5nm以下，尤佳為3nm以下，最佳為1nm以下。(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向相位差Rth較佳為15nm以下，更佳為10nm以下，進而較佳為5nm以下，尤佳為3nm以下，最佳為1nm以下。若面內相位差及厚度方向相位差為上述範圍，則可明顯抑制原因在於相位差之對圖像顯示裝置之顯示特性之不良影響。更具體而言，可明顯抑制干涉斑或用於3D顯示器用液晶顯示裝置之情形之3D圖像的變形。面內相位差及厚度方向相位差為上述範圍之(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如可使用下述之具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。再者，面內相位差Re及厚度方向相位差Rth可分別由下 述式求出：Re=(nx-ny)×d
Rth=(nx-nz)×d
此處，nx係(甲基)丙烯酸系樹脂膜之遲相軸方向之折射率，ny係(甲基)丙烯酸系樹脂膜之進相軸方向之折射率，nz係(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向之折射率，d(nm)係(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度。遲相軸係指膜面內之折射率成為最大之方向，進相軸係指於面內垂直於遲相軸之方向。代表而言，Re及Rth係使用波長590nm之光而測定。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較佳可列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳可列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%、較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量較佳為10000~500000，更佳為30000~300000，進而較佳為50000~200000。若重量平均分子量為上述範圍內，則與硬塗層形成用組合物之相溶性優異。又，若重量平均分子量過小，則有製成膜之情形之機械強度不足之傾向。若重量平均分子量過大，則有熔融擠出時之黏度較高，成形加工性降低，而成形品之生產性降低之傾向。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上，更佳為120℃以上。若玻璃轉移溫度為上述範圍，則可獲得耐久性及耐 熱性優異之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。玻璃轉移溫度之上限並無特別限定，就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為具有表現正雙折射之結構單元與表現負雙折射之結構單元。若具有該等結構單元，則可調整該等結構單元之存在比，而抑制(甲基)丙烯酸系樹脂膜之相位差，而可獲得低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。作為表現正雙折射之結構單元，例如可列舉：構成內酯環、聚碳酸酯、聚乙烯醇、乙酸纖維素、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴等之結構單元、下述之通式(1)所示之結構單元。作為表現負雙折射之結構單元，例如可列舉：來自苯乙烯系單體、馬來醯亞胺系單體等之結構單元、聚甲基丙烯酸甲酯之結構單元、下述之通式(3)所示之結構單元等。於本說明書中，所謂表現正雙折射之結構單元，意指僅具有該結構單元之樹脂表現正雙折射特性之情形(即，於樹脂之延伸方向表現遲相軸之情形)的結構單元。又，所謂表現負雙折射之結構單元，意指僅具有該結構單元之樹脂表現負雙折射特性之情形(即，於與樹脂之延伸方向垂直之方向表現遲相軸之情形)的結構單元。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可較佳地使用具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之耐熱性優異。更佳為具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。若使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，則可獲得如上述般低透濕且相位差及紫外線透過率較小之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，亦稱為戊二醯亞胺樹脂)例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利 特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報、日本專利特開2007-009182號公報、日本專利特開2009-161744號公報中。該等記載係作為參考而被本說明書引用。
較佳為上述戊二醯亞胺樹脂包含下述通式(1)所表示之結構單元(以下，亦稱為戊二醯亞胺單元)、與下述通式(2)所表示之結構單元(以下，亦稱為(甲基)丙烯酸酯單元)。
式(1)中，R1及R2分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R3為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或碳數5~15之包含芳香環之取代基。式(2)中，R4及R5分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R6為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或碳數5~15之包含芳香環之取代基。
戊二醯亞胺樹脂亦可視需要，進而含有下述通式(3)所表示之結構單元(以下，亦稱為芳香族乙烯系單元)。
式(3)中，R7為氫或碳數1~8之烷基，R8為碳數6~10之芳基。
上述通式(1)中，較佳為R1及R2分別獨立為氫或甲基，R3為氫、甲基、丁基、或環己基，進而較佳為R1為甲基，R2為氫，R3為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂可僅含有單一種類作為戊二醯亞胺單元，亦可含有上述通式(1)中之R1、R2、及R3不同之複數種類作為戊二醯亞胺單元。
戊二醯亞胺單元可藉由使上述通式(2)所表示之(甲基)丙烯酸酯單元醯亞胺化而形成。又，戊二醯亞胺單元亦可藉由使順丁烯二酸酐等酸酐、或者此種酸酐與碳數1~20之直鏈或支鏈之醇的半酯；丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、順丁烯二酸酐、伊康酸、伊康酸酐、丁烯酸、富馬酸、檸康酸等α,β-乙烯性不飽和羧酸等醯亞胺化而形成。
上述通式(2)中，較佳為R4及R5分別獨立為氫或甲基，R6為氫或甲基，進而較佳為R4為氫，R5為甲基，R6為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂可僅含有單一種類作為(甲基)丙烯酸酯單元，亦可含有上述通式(2)中之R4、R5、及R6不同之複數種類作為(甲基)丙烯酸酯單元。
上述戊二醯亞胺樹脂較佳為含有苯乙烯、α-甲基苯乙烯等作為上述通式(3)所表示之芳香族乙烯系單元，進而較佳為含有苯乙烯作為上述通式(3)所表示之芳香族乙烯系單元。藉由具有此種芳香族乙烯系單元，而可減少戊二醯亞胺結構之正雙折射性，而可獲得更低相位 差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂可僅含有單一種類作為芳香族乙烯系單元，亦可含有R7及R8不同之複數種類作為芳香族乙烯系單元。
關於上述戊二醯亞胺樹脂中之上述戊二醯亞胺單元之含量，較佳為依存於例如R3之結構等而進行變化。關於戊二醯亞胺單元之含量，以戊二醯亞胺樹脂之總結構單元為基準，較佳為1重量%~80重量%，更佳為1重量%~70重量%，進而較佳為1重量%~60重量%，尤佳為1重量%~50重量%。若戊二醯亞胺單元之含量為上述範圍，則可獲得耐熱性優異之低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂中之上述芳香族乙烯系單元之含量可視目的或所需之特性而適當設定。根據用途，芳香族乙烯系單元之含量亦可為0。於含有芳香族乙烯系單元之情形時，其含量以戊二醯亞胺樹脂之戊二醯亞胺單元為基準，較佳為10重量%~80重量%，更佳為20重量%~80重量%，進而較佳為20重量%~60重量%，尤佳為20重量%~50重量%。若芳香族乙烯系單元之含量為上述範圍，則可獲得低相位差且耐熱性及機械強度優異之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
於上述戊二醯亞胺樹脂中，亦可視需要，進而使除戊二醯亞胺單元、(甲基)丙烯酸酯單元、及芳香族乙烯系單元以外之其他結構單元共聚合。作為其他結構單元，例如可列舉：由丙烯腈或甲基丙烯腈等腈系單體、馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體構成之結構單元。該等其他結構單元於上述戊二醯亞胺樹脂中可直接共聚合，亦可接枝共聚合。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，只要可獲得上述所需之特性，則可採用任意適當之紫外線吸收劑。作為上述紫外線吸收劑之代表例，可列舉：三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氰基丙烯 酸酯系紫外線吸收劑、苯并系紫外線吸收劑、及二唑系紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑可單獨使用，亦可組合複數種使用。
關於上述紫外線吸收劑之含量，相對於熱塑性樹脂100重量份，較佳為0.1重量份~5重量份，更佳為0.2重量份~3重量份。若紫外線吸收劑之含量為上述範圍，則可有效地吸收紫外線，且膜成形時之膜之透明性不會降低。於紫外線吸收劑之含量少於0.1重量份之情形時，有紫外線之遮斷效果變得不充分之傾向。於紫外線吸收劑之含量多於5重量份之情形時，有著色變嚴重，或成形後之膜之霧度變高，或透明性變差之傾向。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜可視目的而含有任意適當之添加劑。 作為添加劑，例如可列舉：受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材料；近紅外線吸收劑；磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、三氧化二銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等抗靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；塑化劑；潤滑劑；相位差減少劑等。所含有之添加劑之種類、組合、含量等可視目的或所需之特性而適當設定。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之製造方法，並無特別限定，例如可利用任意適當之混合方法將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、及視需要之其他聚合物或添加劑等充分地進行混合，而預先製成熱塑性樹脂組合物後，將其進行膜成形。或者，亦可將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、及視需要之其他聚合物或添加劑等分別製成各溶液後進行混合而製成均勻之混合液，之後進行膜成形。
於製造上述熱塑性樹脂組合物時，例如利用混合均質儀等任意適當之混合機將上述之膜原料進行預摻後，將所獲得之混合物進行擠出混練。於該情形時，擠出混練所使用之混合機並無特別限定，例如 可使用單軸擠出機、雙軸擠出機等擠出機或加壓捏合機等任意適當之混合機。
作為上述膜成形之方法，例如可列舉：溶液澆鑄法(溶液鑄膜法)、熔融擠出法、壓延法、壓縮成形法等任意適當之膜成形法。較佳為熔融擠出法。關於熔融擠出法，因未使用溶劑，故而可降低製造成本或由溶劑引起之對地球環境或作業環境之負荷。
作為上述熔融擠出法，例如可列舉：T型模頭法、吹脹法等。成形溫度較佳為150~350℃，更佳為200~300℃。
於利用上述T型模頭法進行膜成形之情形時，可於公知之單軸擠出機或雙軸擠出機之前端部安裝T型模頭，捲取被膜狀擠出之膜，而獲得輥狀之膜。此時，亦可適當調整捲取輥之溫度，並向擠出方向進行延伸，藉此進行單軸延伸。又，亦可藉由將膜向與擠出方向垂直之方向進行延伸，而進行同時雙軸延伸、逐次雙軸延伸等。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜只要可獲得上述所需之相位差，則可為未延伸膜或延伸膜中之任一者。於為延伸膜之情形時，可為單軸延伸膜或雙軸延伸膜中之任一者。於為雙軸延伸膜之情形時，可為同時雙軸延伸膜或逐次雙軸延伸膜中之任一者。
上述延伸溫度較佳為作為膜原料之熱塑性樹脂組合物之玻璃轉移溫度附近，具體而言，較佳為(玻璃轉移溫度-30℃)~(玻璃轉移溫度+30℃)，更佳為(玻璃轉移溫度-20℃)~(玻璃轉移溫度+20℃)之範圍內。若延伸溫度未達(玻璃轉移溫度-30℃)，則有如下之虞，即所獲得之膜之霧度變大，或者膜裂開或破損，而未獲得特定之延伸倍率。 反之，若延伸溫度超過(玻璃轉移溫度+30℃)，則有如下傾向，即所獲得之膜之厚度不均變大，或者無法充分改善伸長率、撕裂擴大強度、及耐揉疲勞等力學性質。進而，有變得容易產生膜黏著於輥之問題之傾向。
上述延伸倍率較佳為1.1~3倍，更佳為1.3~2.5倍。若延伸倍率為上述範圍，則可大幅改善膜之伸長率、撕裂擴大強度、及耐揉疲勞等力學性質。結果為，可製造厚度不均較小，雙折射實際上為零(因此，相位差較小)，進而霧度較小之膜。
關於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜，為了使其光學等向性或機械特性穩定，而可於延伸處理後進行熱處理(退火)等。熱處理之條件可採用任意適當之條件。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度較佳為10μm~200μm，更佳為20μm~100μm。若厚度未達10μm，則有強度降低之虞。若厚度超過200μm，則有透明性降低之虞。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之表面之潤濕張力較佳為40mN/m以上，更佳為50mN/m以上，進而較佳為55mN/m以上。若表面之潤濕張力為至少40mN/m以上，則(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性進一步提高。為了調整表面之潤濕張力，可實施任意適當之表面處理。作為表面處理，例如可列舉：電暈放電處理、電漿處理、臭氧吹送、紫外線照射、火焰處理、化學處理。該等中，較佳為電暈放電處理、電漿處理。
C.滲透層
上述滲透層係如上述般，藉由硬塗層形成用組合物向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成。換言之，滲透層可對應於形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂與形成硬塗層之成分的相溶化區域之一部分。
於上述滲透層中，形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度較佳為自硬塗層側向基材層側連續地變高。其原因在於：藉由(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化，即不形成原因在於(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化之界面，而可抑制界面反射，而可獲得 干涉斑較少之光學積層體。
上述滲透層之厚度之下限例如為1.0μm，較佳為1.2μm，更佳為1.5μm，進而較佳為2μm。滲透層之厚度之上限較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×70%)μm，更佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×40%)μm，進而較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×30%)μm，尤佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜×20%)μm。若滲透層之厚度為上述範圍，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異，且干涉斑得到抑制之光學積層體。再者，滲透層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜、或利用SEM(Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)、TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)等電子顯微鏡之觀察而進行測定。關於利用反射光譜之滲透層之厚度之測定方法之詳細內容，係於下文作為實施例中之評價方法進行說明。
D.硬塗層
硬塗層係如上述般，於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上塗佈硬塗層形成用組合物而形成。硬塗層形成用組合物例如包含可藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而進行硬化之硬化性化合物。較佳為硬塗層形成用組合物包含光硬化型之硬化性化合物。硬化性化合物亦可為單體、低聚物及預聚物中之任一者。
上述硬塗層形成用組合物包含含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)作為必須之構成成分。作為自由基聚合性不飽和基，例如可列舉(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基等。藉由包含上述3種硬化性化合物之硬塗層形成用組合物，即便較低設定硬塗層形成時之塗佈層之加熱溫度(下述)，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性及硬度優異之光學積層體。
硬化性化合物(A)含有自由基聚合性不飽和基與芳香環各1個以上。硬化性化合物(A)可使(甲基)丙烯酸系樹脂與硬塗層之形成成分之相溶化區域之凝集力提高，結果可提高基材層與硬塗層之密接性。又，硬化性化合物(A)可使硬塗層高折射率化，因此於硬塗層上積層低折射率之抗反射層之情形時，可獲得反射率更低之抗反射膜。
硬化性化合物(A)所含有之自由基聚合性不飽和基之數較佳為1個~4個。又，硬化性化合物(A)所含有之芳香環之數較佳為1個~6個。作為芳香環，可例示苯環、雜環或該等之縮合環。較佳為芳香環為苯環。芳香環可具有取代基，亦可不具有取代基。
作為硬化性化合物(A)之具體例，可列聚：乙氧化鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單體、含有苄基、苯基等芳基或茀結構之(甲基)丙烯酸酯之低聚物或預聚物。硬化性化合物(A)可單獨使用，亦可組合複數種使用。
硬化性化合物(A)之分子量(於低聚物或聚合物之情形時為重量平均分子量)較佳為250以上，更佳為超過450，進而較佳為450~10000。若分子量為上述範圍內，則可充分提高相溶化區域之凝集力，因此可獲得基材層與硬塗層之密接性優異之光學積層體。
硬化性化合物(A)相對於硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為10重量%~60重量%，較佳為15重量%~55重量%，進而較佳為20重量%~50重量%。若為上述範圍，則可較低設定硬塗層形成時之加熱溫度，較短設定加熱時間，而可高效率地生產由加熱引起之變形(例如，(甲基)丙烯酸系樹脂膜之收縮)得到抑制之光學積層體。
硬化性化合物(B)含有2個以上之自由基聚合性不飽和基，另一方面，不含有芳香環。藉由硬塗層形成用組合物包含含有2個以上之自 由基聚合性不飽和基之多官能硬化性化合物(B)，可形成具有充分硬度之硬塗層。
於一實施形態中，硬塗層形成用組合物包含含有9個以上之自由基聚合性不飽和基之硬化性化合物(B1)作為硬化性化合物(B)。若塗佈包含硬化性化合物(B1)之硬塗層形成用組合物而形成硬塗層，則防止向硬塗層形成用組合物溶出之(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分(代表而言，(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之樹脂成分)於硬塗層形成時擴散至硬塗層之空氣界面，而可獲得硬度優異之光學積層體。較佳為於硬塗層形成基於硬化性化合物(B1)之阻擋層。若形成阻擋層，則可獲得硬度更優異之光學積層體。硬化性化合物(B1)所含有之自由基聚合性不飽和基之數較佳為10個以上，更佳為15個以上，進而較佳為20個~100個。硬化性化合物(B1)所含有之自由基聚合性不飽和基之數越多，越可提高硬塗層本身之硬度。
作為硬化性化合物(B1)，例如可列舉：(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、(甲基)丙烯酸聚酯、(甲基)丙烯酸環氧酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等低聚物或預聚物；具有不飽和基之甲基丙烯酸酯聚合物等。其中，就反應性與透明性之方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物或預聚物。硬化性化合物(B1)可單獨使用，亦可組合複數種使用。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由使自(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯與多元醇獲得之(甲基)丙烯酸羥基酯與二異氰酸酯進行反應而獲得。
作為上述(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯等。
作為上述多元醇，例如可列舉：乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二 醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基新戊酸新戊二醇酯、二羥甲基三環癸烷、1,4-環己二醇、螺二醇、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖類等。
作為上述二異氰酸酯，例如可使用芳香族、脂肪族或脂環族之各種二異氰酸酯類。作為上述二異氰酸酯之具體例，可列舉：四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、4,4-二苯基甲烷二異氰酸酯、及該等之氫化物等。
硬化性化合物(B1)之重量平均分子量較佳為1000以上，更佳為1500以上，進而較佳為2000~50000。硬化性化合物(B1)具有9個以上之自由基聚合性不飽和基，因此即便硬化性化合物(B1)之重量平均分子量相對較小，亦防止(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分擴散至硬塗層之空氣界面，而可獲得硬度優異之光學積層體。當然，以獲得硬度更優異之光學積層體等為目的，亦可使用重量平均分子量更大之硬化性化合物(B1)。
於另一實施形態中，硬塗層形成用組合物可包含具有2個~8個之自由基聚合性不飽和基之硬化性化合物(B2)作為硬化性化合物(B)。於該另一實施形態中，硬塗層形成用組合物亦可僅包含硬化性化合物(B2)作為硬化性化合物(B)，但就獲得硬度更優異之光學積層體之觀點而言，較佳為包含上述硬化性化合物(B1)與硬化性化合物(B2)兩者。
硬化性化合物(B2)所含有之自由基聚合性不飽和基之數例如可為 2個~6個。若硬塗層形成用組合物包含含有2個~6個之自由基聚合性不飽和基之硬化性化合物(B2)，則即便較低設定硬塗層形成時之塗佈層之加熱溫度，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異之光學積層體。
作為硬化性化合物(B2)，例如可列舉：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯及該等之低聚物或聚合物等具有(甲基)丙烯醯基之化合物；(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、及該等之低聚物或預聚物等。該等化合物可單獨使用，亦可組合複數種使用。
硬化性化合物(B2)較佳為具有羥基。若硬塗層形成用組合物包含此種硬化性化合物(B2)，則可更低設定硬塗層形成時之加熱溫度，更短設定加熱時間，而高效率地生產由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體。又，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異之光學積層體。作為具有羥基之硬化性化合物(B2)，例如可列舉：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等。
硬化性化合物(B2)之重量平均分子量較佳為3000以下，更佳為2000以下，進而較佳為1500以下，尤佳為1000以下，尤佳為500以下。藉由使用具有相對較小之重量平均分子量之硬化性化合物(B2)，而可使滲透層之厚度變大。其結果為，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異，且干涉斑得到抑制之光學積層體。
硬化性化合物(B)相對於硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為30重量%~80重量%，較佳為30重量%~75重量%，進而較佳為35重量%~70重量%，尤佳為40重量%~60重量%。若為上述範圍，則可獲得具有充分硬度之光學積層體。
於硬塗層形成用組合物包含硬化性化合物(B1)及硬化性化合物(B2)兩者之情形時，該等之調配重量比(B1/B2)例如可為30/70~99/1、較佳為40/60~99/1、更佳為50/50~99/1。
單官能單體(C)含有1個自由基聚合性不飽和基，另一方面不含有芳香環。單官能單體(C)容易向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透，因此可較佳地形成滲透層。又，若硬塗層形成用組合物包含單官能單體(C)，則可較低設定硬塗層形成時之加熱溫度，較短設定加熱時間，而高效率地生產由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體。
單官能單體(C)之重量平均分子量較佳為500以下，更佳為300以下，進而較佳為未達250，尤佳為未達200。若為此種單官能單體，則容易向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透及擴散。作為此種單官能單體，例如可列舉：甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異硬脂酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異基酯、丙烯醯嗎啉、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、二甲胺基丙基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、丙烯醯嗎啉等。
單官能單體(C)較佳為具有羥基、醚、胺(包含嗎啉環)等極性基，更佳為具有羥基。若為此種單官能單體，則對(甲基)丙烯酸系樹脂膜之滲透性或溶解性優異。其結果為，可更低設定硬塗層形成時之加熱溫度，更短設定加熱時間，而可高效率地生產由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體。又，若上述硬塗層形成用組合物包含具有羥基之單官能單體，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性 優異之光學積層體。作為此種單官能單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、1,4-環己烷甲醇單丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺、環己烷二甲醇單丙烯酸酯等。其中，較佳為丙烯酸4-羥基丁酯、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺。
單官能單體(C)之沸點較佳為高於硬塗層形成時之塗佈層之加熱溫度(下述)。上述單官能單體之沸點例如較佳為150℃以上，更佳為180℃以上，尤佳為200℃以上。若為上述範圍，則可防止單官能單體由於硬塗層形成時之加熱而揮發之情況，而可使單官能單體向(甲基)丙烯酸系樹脂膜充分滲透。
單官能單體(C)相對於硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率較佳為10重量%~40重量%，更佳為12重量%~35重量%，進而較佳為15重量%~30重量%。若單官能單體(C)之含有比率為上述範圍內，則可較低設定硬塗層形成時之加熱溫度，較短設定加熱時間，而可高效率地生產由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體。
上述硬化性化合物(A)與單官能單體(C)之合計相對於硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率較佳為20重量%~70重量%，更佳為30重量%~65重量%，進而較佳為40重量%~60重量%。
上述硬塗層形成用組合物較佳為包含任意適當之光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，例如可列舉：2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧蔥酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、安息香丙醚、苯偶醯二甲基縮酮、N,N,N',N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、9-氧硫系化合物等。
於一實施形態中，硬塗層之與基材層相反側之表面具有凹凸構 造。若硬塗層之表面為凹凸構造，則可向光學積層體賦予防眩性。作為形成此種凹凸構造之方法，例如可列舉：使硬塗層形成用組合物含有微粒子之方法。微粒子可為無機微粒子，亦可為有機微粒子。作為無機微粒子，例如可列舉：氧化矽微粒子、氧化鈦微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鋅微粒子、氧化錫微粒子、碳酸鈣微粒子、硫酸鋇微粒子、滑石微粒子、高嶺石微粒子、硫酸鈣微粒子等。作為有機微粒子，例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA微粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟化乙烯樹脂粉末等。該等微粒子可單獨使用，亦可組合複數種使用。
上述微粒子之形狀可採用任意適當之形狀。較佳為大致球形，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形。微粒子之重量平均粒徑較佳為1μm~30μm，更佳為2μm~20μm。微粒子之重量平均粒徑例如可藉由庫爾特計數法而進行測定。
於上述硬塗層形成用組合物包含上述微粒子之情形時，關於上述微粒子之含有比率，相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，較佳為1重量%~60重量%，更佳為2重量%~50重量%。
上述硬塗層形成用組合物可進而包含任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可列舉：調平劑、抗黏連劑、分散穩定劑、觸變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、抗靜電劑等。
作為上述調平劑，例如可列舉：氟系或聚矽氧系之調平劑，較佳為聚矽氧系調平劑。作為上述聚矽氧系調平劑，例如可列舉：反應性聚矽氧、聚二甲基矽氧烷、聚醚改性聚二甲基矽氧烷、聚甲基烷基 矽氧烷等。其中，較佳為反應性聚矽氧。若添加反應性聚矽氧，則向硬塗層表面賦予滑動性，從而耐擦傷性長期持續。關於上述調平劑之含有比率，相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，較佳為5重量%以下，更佳為0.01重量%~5重量%。
上述硬塗層形成用組合物可含有溶劑，亦可不含有溶劑。作為溶劑，例如可列舉：二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二烷、1,3-二氧戊環、1,3,5-三烷、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮(CPN)、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、環己醇、異丙醇(IPA)、乙酸異丁酯、甲基異丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚等。該等可單獨使用，亦可組合複數種使用。
根據本發明，即便使用不含有溶劑之硬塗層形成用組合物、或僅含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成材料之不良溶劑作為溶劑之硬塗層形成用組合物，硬塗層形成用組合物亦可向(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透，而形成具有所需之厚度之滲透層。
上述硬塗層之厚度較佳為1μm以上，更佳為3μm以上，進而較佳為4μm~10μm。若為上述範圍，則可獲得硬度優異之光學積層體。又，本發明之光學積層體如上述般抑制(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分向硬塗層(硬塗層形成用組合物)之擴散，因此即便使硬塗層之厚度變薄，硬度亦優異。
如上所述，形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂亦 可向硬塗層形成用組合物溶出，而於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。於本發明中，由包含多官能之硬化性化合物(B)之硬塗層形成用組合物而形成硬塗層，因此可抑制該(甲基)丙烯酸系樹脂向硬塗層之表面側移動。於一實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向硬塗層連續地變低。於此種實施形態中，藉由(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化，即不形成原因在於(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化之界面，而可抑制界面反射，而可獲得干涉斑較少之光學積層體。於另一實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂與硬塗層形成用組合物相分離，於硬塗層之與滲透層相反側形成阻擋層。即便於此種實施形態中，亦較佳為該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向除阻擋層外之硬塗層連續地變低。
阻擋層之厚度較佳為1μm~10μm，進而較佳為2μm~5μm。再者，阻擋層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜、或利用SEM、TEM等電子顯微鏡之觀察而進行測定。
E.其他層
本發明之光學積層體可視需要而於硬塗層之外側配置任意適當之其他層。作為代表例，可列舉：抗反射層及防眩層。作為抗反射層及防眩層，可採用業界所通常使用之抗反射層及防眩層。
F.光學積層體之製造方法
本發明之光學積層體之製造方法包括：於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上塗佈硬塗層形成用組合物而形成塗佈層，並將該塗佈層進行加熱。較佳為硬塗層係對加熱後之塗佈層進行硬化處理而形成。
作為硬塗層形成用組合物之塗佈方法，可採用任意適當之方法。例如可列舉：棒式塗佈法、輥塗法、凹版塗佈法、桿式塗佈法、孔縫式塗佈法、淋幕式塗佈法、噴注式塗佈法、缺角輪塗佈法。
上述塗佈層之加熱溫度可視硬塗層形成用組合物之組成而設定 為適當之溫度，較佳為設定為(甲基)丙烯酸系樹脂膜所含有之樹脂之玻璃轉移溫度以下。若於(甲基)丙烯酸系樹脂膜所含有之樹脂之玻璃轉移溫度以下之溫度下進行加熱，則可獲得由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體。上述塗佈層之加熱溫度例如為50℃以上且未達100℃，較佳為50℃以上且未達80℃，更佳為50℃~75℃。若於上述範圍之溫度下進行加熱，則硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及/或預聚物(尤其是單官能單體(C))向(甲基)丙烯酸系樹脂膜中良好地滲透及擴散。經過該加熱、其後之硬化處理，而由滲透之硬塗層形成用組合物及(甲基)丙烯酸系樹脂膜之形成材料形成上述C項中所說明之滲透層。其結果為，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密接性優異，且干涉斑得到抑制之光學積層體。再者，於硬塗層形成用組合物包含溶劑之情形時，可藉由該加熱而使所塗佈之硬塗層形成用組合物乾燥。
於一實施形態中，上述加熱溫度可視硬化性化合物(A)及單官能單體(C)之含有比率而設定。例如若上述硬化性化合物(A)與單官能單體(C)之合計相對於硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為20重量%~70重量%，則可於未達80℃之加熱溫度下獲得密接性及硬度優異，且干涉斑及由加熱引起之變形得到抑制之光學積層體，而成為環境負荷較小且效率良好之製造製程。
作為上述硬化處理，可採用任意適當之硬化處理。代表而言，硬化處理係藉由紫外線照射而進行。紫外線照射之累積光量較佳為200mJ~400mJ。
[實施例]
以下，藉由實施例而對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。實施例中之評價方法係如下所述。又，於實施例中，只要沒有特別標明，則「份」及「%」係重量基準。
(1)鉛筆硬度
針對實施例及比較例中所獲得之光學積層體之硬塗層側表面，依據JIS K 5400(荷重500g)而測定鉛筆硬度，並以下述基準進行評價。
￮：鉛筆硬度為2H以上
×：鉛筆硬度為H以下
(2)硬塗層之密接性
依據JIS K-5400之棋盤格剝離試驗(基板棋盤格數：100個)而測定硬塗層對基材膜之密接性，並以下述基準進行評價。
￮：剝離數為0
×：剝離數為1以上
(3)干涉斑
於實施例及比較例中所獲得之光學積層體之基材膜側，經由丙烯酸系黏著劑而貼著黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2mm)後，於3波長螢光燈下，對干涉斑進行目視觀察，並以下述基準進行評價。
￮：干涉斑未產生
×：發現干涉斑之產生
(4)滲透層之厚度
於實施例及比較例中所獲得之光學積層體之基材層側，經由厚度20μm之丙烯酸系黏著劑而貼著黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2mm)。繼而，使用Intensified Multichannel Photodetector(大塚電子公司製造，商品名：MCPD3700)，於以下之條件下對硬塗層之反射光譜進行測定，根據FFT(Fast Fourier Transformation，快速傅立葉轉換)光譜之峰位置而評價(硬塗層+滲透層)之厚度。再者，折射率係使用Atago公司製造之阿貝折射率計(商品名：DR-M2/1550)，並選擇單 溴萘作為中間液而進行測定。
‧反射光譜測定條件
參考：鏡
演算法：FFT法
計算波長：450nm~850nm
‧檢測條件
曝光時間：20ms
燈增益：普通
累計次數：10次
‧FFT法
膜厚值之範圍：2~15μm
膜厚分解能力：24nm
又，硬塗層之厚度係藉由針對下述積層體(R)之上述反射光譜測定而評價。
‧積層體(R)：使用PET(聚對苯二甲酸乙二酯，polyethylene terephthalate)基材(東麗公司製造，商品名：U48-3，折射率：1.60)作為基材膜，並將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得。
再者，對於上述積層體所使用之PET基材而言，因硬塗層形成用組合物未滲透，故而根據自積層體(R)獲得之FFT光譜之峰位置，而測定僅硬塗層之厚度。該評價之結果為，硬塗層之厚度為5.3μm。
將由((硬塗層+滲透層)之厚度)-((硬塗層)之厚度)算出之正值設為滲透層之厚度。
<製造例1>基材膜A之製作
利用雙軸混練機，於220℃下將日本專利特開2010-284840號公報之製造例1所記載之醯亞胺化MS樹脂(重量平均分子量：105,000)100 重量份及三系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，商品名：T-712)0.62重量份進行混合，而製作樹脂顆粒。使所獲得之樹脂顆粒於100.5kPa、100℃下進行12小時乾燥，利用單軸擠出機，於模具溫度270℃下自T型模頭擠出而膜狀地成形(厚度160μm)。進而，將該膜於150℃之環境下向其搬送方向進行延伸(厚度80μm)，繼而於150℃之環境下向與膜搬送方向正交之方向進行延伸，而獲得厚度40μm之基材膜A((甲基)丙烯酸系樹脂膜)。所獲得之基材膜A之波長380nm之光之透過率為8.5%，面內相位差Re為0.4nm，厚度方向相位差Rth為0.78nm。又，所獲得之基材膜A之透濕度為61g/m2‧24hr。再者，關於光透過率，係使用日立高新技術(股)公司製造之分光光度計(裝置名稱；U-4100)，於波長範圍200nm~800nm下對透過率光譜進行測定，並讀取波長380nm下之透過率。又，關於相位差值，係使用王子計測機器(股)製造之商品名「KOBRA21-ADH」，於波長590nm、23℃下進行測定。透濕度係藉由依據JIS K 0208之方法，於溫度40℃且相對濕度92%之條件下進行測定。
<實施例1>
將作為硬化性化合物(A)之酚系酚醛清漆系丙烯酸酯(日立化成公司製造，製品名「HITALOID UV251」)30份、作為硬化性化合物(B)之丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物(Mw=2300，官能基數：15)與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)70份、作為單官能單體(C)之丙烯酸羥基丁酯(大阪有機化學公司製造，製品名「4-HBA」)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：PC4100)0.5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份進行混合，以固形物成分濃度成為50%之方式利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
於製造例1中所獲得之基材膜A上塗佈所獲得之硬塗層形成用組 合物而形成塗佈層，並將該塗佈層於75℃下加熱1分鐘。利用高壓水銀燈，對加熱後之塗佈層照射累積光量300mJ/cm2之紫外線而使塗佈層硬化，形成基材層、硬塗層及滲透層而獲得光學積層體。
<實施例2>
使用含茀丙烯酸酯之低聚物(Osaka Gas Chemicals公司製造，製品名「EA-HR034」)30份作為硬化性化合物(A)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<實施例3>
使用含茀丙烯酸酯之低聚物(共榮社化學公司製造，製品名「HIC-GL」)30份作為硬化性化合物(A)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<實施例4>
使用乙氧化鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯(新中村化學公司製造，製品名「A-LEN-10」)30份作為硬化性化合物(A)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<實施例5>
將酚系酚醛清漆系丙烯酸酯(日立化成公司製造，製品名「HITALOID UV251」)之調配量設為50份，將硬化性化合物(B)(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)之調配量設為50份，及將加熱溫度設為65℃，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<實施例6>
使用含茀丙烯酸酯之低聚物(Osaka Gas Chemicals公司製造，製品名「EA-HR034」)50份作為硬化性化合物(A)，將硬化性化合物(B)(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)之調配量設為50份，及將加熱溫度設為65℃，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光 學積層體。
<實施例7>
使用丙烯醯嗎啉(興人公司製造，製品名「ACMO」)30份作為單官能單體(C)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<實施例8>
使用環己烷二甲醇單丙烯酸酯(日本化成公司製造，製品名「CHDMMA」)30份作為單官能單體(C)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例1>
不添加硬化性化合物(A)，及將硬化性化合物(B)(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)之調配量設為100份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例2>
不添加硬化性化合物(A)，將硬化性化合物(B)(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)之調配量設為100份，及將丙烯酸羥基丁酯(大阪有機化學公司製造，製品名「4-HBA」)之調配量設為50份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例3>
不添加單官能單體(C)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例4>
將酚系酚醛清漆系丙烯酸酯(日立化成公司製造，製品名「HITALOID UV251」)之調配量設為50份，將硬化性化合物(B)(新中村化學公司製造，製品名「UA53H」)之調配量設為100份，及不添加單官能單體(C)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例5>
使用含茀丙烯酸酯之低聚物(Osaka Gas Chemicals公司製造，製品名「EA-HR034」)30份作為硬化性化合物(A)，及不添加單官能單體(C)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
<比較例6>
將酚系酚醛清漆系丙烯酸酯(日立化成公司製造，製品名「HITALOID UV251」)之調配量設為100份，及不添加硬化性化合物(B)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
對上述實施例及比較例中所獲得之光學積層體之各種特性進行評價。將評價結果與硬塗層形成用組合物之組成一併示於表1。
自表1亦明確，實施例之光學積層體於未達80℃之加熱溫度下較佳地形成滲透層，而未發現干涉斑。進而，硬塗層與基材層之密接性優異，且硬度亦優異。另一方面，對於使用不包含含有芳香環之硬化性化合物(A)之硬塗層形成用組合物而獲得之比較例1及2之光學積層體而言，雖形成滲透層而未發現干涉斑，但密接性不充分。又，對於 使用不包含單官能單體(C)之比較例3~5之硬塗層形成用組合物而獲得之光學積層體而言，滲透層之形成並不充分，其結果為，於密接性與干涉斑上存在問題。又，對於使用不包含多官能硬化性化合物(B)之硬塗層形成用組合物而獲得之比較例6之光學積層體而言，鉛筆硬度為H以下。
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可較佳地用於圖像顯示裝置。本發明之光學積層體可較佳地用作圖像顯示裝置之前面板或偏光元件之保護材料，尤其是可較佳地用作液晶顯示裝置(其中，三維液晶顯示裝置)之前面板。
10、10'‧‧‧基材層
20‧‧‧滲透層
30、30'‧‧‧硬塗層
100、200‧‧‧光學積層體
A‧‧‧交界
B‧‧‧交界

Claims (13)

  1. 一種光學積層體，其具備：基材層，其係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成；硬塗層，其係於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物而形成；及滲透層，其係該硬塗層形成用組合物向該(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成於該基材層與該硬塗層之間；且該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬化性化合物(A)相對於上述硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為10重量%~60重量%。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬化性化合物(A)與單官能單體(C)之合計相對於上述硬塗層形成用組合物中之全部硬化性化合物之含有比率為20重量%~70重量%。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物包含含有9個以上之自由基聚合性不飽和基之硬化性化合物(B1)作為上述硬化性化合物(B)。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中上述單官能單體(C)之重量平均分子量為500以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中上述單官能單體(C)具有羥基。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正雙折射之結構單元與表現負雙 折射之結構單元。
  8. 如請求項1之光學積層體，其中形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為10000~500000。
  9. 如請求項1之光學積層體，其中於上述硬塗層之與上述滲透層相反側之表面具有凹凸構造。
  10. 如請求項1之光學積層體，其中於上述硬塗層之與上述滲透層相反側進而具備抗反射層。
  11. 一種偏光膜，其包含如請求項1至10中任一項之光學積層體。
  12. 一種圖像顯示裝置，其包含如請求項1至10中任一項之光學積層體。
  13. 一種如請求項1至10中任一項之光學積層體之製造方法，其包括：於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上塗佈硬塗層形成用組合物而形成塗佈層，並將該塗佈層於50℃以上且未達100℃之溫度下進行加熱，且該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。
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