CN110520765B - 光学层叠体、偏振片及图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种充分地赋予了表面处理层的功能的光学层叠体。本发明的光学层叠体包含基材膜和形成于基材膜的单侧的表面处理层,其中,基材膜含有丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子,基材膜的弹性模量为4.0GPa以上,构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%。
Description
技术领域
本发明涉及光学层叠体、偏振片及图像显示装置。
背景技术
近年来,已知有在由丙烯酸系树脂制成的基材膜的单侧形成有硬涂层、防眩层、抗反射层等功能性层(表面处理层)的光学层叠体(专利文献1)。这样的光学层叠体例如可用作起偏器的保护膜或图像显示装置的前面板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-218478号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,如上所述的以往的光学层叠体存在未充分地赋予表面处理层的功能的情况。
本发明是为了解决上述以往的课题而进行的,其主要目的在于提供一种充分地赋予了表面处理层的功能的光学层叠体、具备这样的光学层叠体的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
用于解决课题的手段
本发明的光学层叠体包含基材膜和形成于上述基材膜的单侧的表面处理层,其中,上述基材膜含有丙烯酸系树脂和分散于上述丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子,上述基材膜的弹性模量为4.0GPa以上,构成从上述基材膜侧起沿上述表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至上述表面处理层的上述丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%。
在一实施方式中,在将上述基材膜的折射率设为R1,将从上述基材膜侧起沿上述表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置处的折射率设为R3时,满足R3>0.2R1+0.8R2(其中,设为R1<R2)。
在一实施方式中,上述表面处理层的厚度为3μm~20μm。
在一实施方式中,上述基材膜相对于上述丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~20重量份的上述芯壳型粒子。
在一实施方式中,上述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
在一实施方式中,上述表面处理层是涂布于上述基材膜上的树脂的硬化层。
在一实施方式中,上述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
根据本发明的另一方面,提供一种偏振片。该偏振片包含起偏器和配置于上述起偏器的单侧的保护层,且上述保护层为上述光学层叠体。
根据本发明的另一方面,提供一种图像显示装置。该图像显示装置具备上述偏振片。
发明效果
根据本发明,通过基材膜的弹性模量为4.0GPa以上,构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分低于20%,可提供一种充分地赋予了表面处理层的功能的光学层叠体、具备这样的光学层叠体的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
附图说明
图1是基于本发明的一实施方式的光学层叠体的概略截面图。
具体实施方式
以下,对本发明的实施方式进行说明,但本发明并不限定于这些实施方式。
A.光学层叠体的整体构成
图1是基于本发明的一实施方式的光学层叠体的概略截面图。光学层叠体100包含基材膜10和形成于基材膜10的单侧的表面处理层20。基材膜10包含丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。基材膜10的弹性模量为4.0GPa以上。构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%。所谓从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置,代表性而言为从基材膜与表面处理层的界面起沿表面处理层侧的方向离开3.0μm的位置。上述“3μm深度的位置”的丙烯酸系树脂的成分的比例代表性而言通过下述方法导出。
丙烯酸系树脂成分的算出位置(距表面处理侧的位置)=表面处理层厚度(PET基材硬涂层厚度)-(3μm)
例如,在(PET基材硬涂层厚度)为15μm的情况下,测定距表面处理侧12μm位置的丙烯酸系树脂成分的比例。表面处理层厚度(硬涂层厚度)代表性而言通过以下的步骤导出。第一,使用PET基材(Toray公司制造,商品名:U48-3,折射率:1.60)作为基材膜,在涂布层的加热温度70℃下进行干燥并且进行UV硬化,由此获得形成有硬涂层的光学层叠体。介由厚度为20μm的丙烯酸系粘合剂将黑色丙烯酸系树脂板(Mitsubishi Rayon公司制造,厚度为2mm)粘贴在所获得的光学层叠体的基材层侧。接着,使用瞬间多信道测光系统(大冢电子公司制造,商品名:MCPD3700),在以下的条件下测定硬涂层的反射光谱。由于硬涂层形成用组合物不会渗透至这些层叠体所使用的PET基材中,因此根据由层叠体获得的FFT(FastFourier transform,快速傅立叶变换)光谱的峰位置,测定出仅硬涂层的厚度。
·反射光谱测定条件
参考:反射镜
算法:FFT法
计算波长:450nm~850nm
·检测条件
曝光时间:20ms
灯增益(LampGain):正常
累计次数:10次
·FFT法
膜厚值的范围:2~15μm
膜厚分辨率:24nm
在上述比例为20%以上的情况下,存在未充分地赋予表面处理层的功能(在表面处理层为硬涂层的情况下,代表性而言为耐擦伤性)的情况,另外,存在基材膜与表面处理层的密合性降低的情况。构成从基材膜10侧起沿表面处理层20的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例例如可通过棱镜耦合法进行测定。具体而言,在将基材膜的折射率设为R1,将表面处理层的折射率设为R2,将通过棱镜耦合法测定的从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置处的折射率设为R3时,构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例X(%)以如下的式子表示。
X(%)=(R3-R2)×100/(R1-R2)
因此,光学层叠体100与基材膜的折射率R1、表面处理层的折射率R2及从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置处的折射率R3有关,优选满足以下的不等式。
R3>0.2R1+0.8R2(R1<R2)
表面处理层的厚度优选为3μm~20μm,更优选为5μm~15μm。基材膜10优选相对于丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~20重量份的芯壳型粒子。丙烯酸系树脂优选具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。表面处理层20代表性而言为涂布于基材膜10上的树脂组合物的硬化层。表面处理层20优选为选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。根据上述光学层叠体100,基材膜10所含的丙烯酸系树脂向表面处理层20的溶出量充分地少。由此,可抑制由丙烯酸系树脂溶出至表面处理层20而引起的表面处理层的功能性的降低。具体而言,在表面处理层为硬涂层的情况下,可抑制硬涂层的耐擦伤性的降低,在表面处理层为防眩层的情况下,可抑制防眩层的防眩性的降低,在表面处理层为抗反射层的情况下,可抑制抗反射层的抗反射性的降低。进而,可提高基材膜10与表面处理层20的密合性。
B.基材膜
B-1.基材膜的特性
基材膜如上所述含有丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。基材膜的厚度优选为5μm~150μm,更优选为10μm~100μm。基材膜的弹性模量如上所述为4.0GPa以上。基材膜在形成下文所述的表面处理层时,丙烯酸系树脂可溶出至表面处理层。构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中,丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%。
基材膜优选为实质上具有光学各向同性。在本说明书中,所谓“实质上具有光学各向同性”是指面内相位差Re(550)为0nm~10nm且厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm~+10nm。面内相位差Re(550)更优选为0nm~5nm,进一步优选为0nm~3nm,特别优选为0nm~2nm。厚度方向的相位差Rth(550)更优选为-5nm~+5nm,进一步优选为-3nm~+3nm,特别优选为-2nm~+2nm。若基材膜的Re(550)及Rth(550)为这样的范围,则在将光学层叠体应用于图像显示装置的情况下可防止对显示特性的不良影响。需要说明的是,Re(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的面内相位差。Re(550)可通过式:Re(550)=(nx-ny)×d求出。Rth(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的厚度方向的相位差。Rth(550)可通过式:Rth(550)=(nx-nz)×d求出。其中,nx是面内的折射率成为最大的方向(即,慢轴方向)的折射率,ny是在面内与慢轴正交的方向(即,快轴方向)的折射率,nz是厚度方向的折射率,d是膜的厚度(nm)。
基材膜的厚度为40μm时的380nm下的光线透射率越高越优选。具体而言,光线透射率优选为85%以上,更优选为88%以上,进一步优选为90%以上。若光线透射率为这样的范围,则可确保所期望的透明性。光线透射率例如可通过依据ASTM-D-1003的方法而测定。
基材膜的雾度越低越优选。具体而言,雾度优选为5%以下,更优选为3%以下,进一步优选为1.5%以下,特别优选为1%以下。若雾度为5%以下,则可对膜赋予良好的透明感。进而,即使在将光学层叠体用作图像显示装置的目视确认侧偏振片的保护层的情况下,也可良好地目视确认显示内容。
基材膜的厚度为40μm时的YI(Yellowness Index,黄度指数)优选为1.27以下,更优选为1.25以下,进一步优选为1.23以下,特别优选为1.20以下。若YI超过1.3,则存在光学透明性变得不充分的情况。需要说明的是,YI例如可根据由使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C:村上色彩技术研究所制造)的测定所获得的颜色的三刺激值(X、Y、Z),通过下式而求出。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
基材膜的厚度为40μm时的b值(依据汉特(Hunter)表色系统的色相的尺度)优选为低于1.5,更优选为1.0以下。在b值为1.5以上的情况下,存在出现并非所期望的色调的情况。需要说明的是,b值例如可通过将基材膜样品裁断为3cm见方,使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C:村上色彩技术研究所制造)测定色相,并依据汉特表色系统评价该色相而获得。
基材膜的透湿度优选为300g/m2·24小时以下,更优选为250g/m2·24小时以下,进一步优选为200g/m2·24小时以下,特别优选为150g/m2·24小时以下,最优选为100g/m2·24小时以下。若基材膜的透湿度为这样的范围,则在用作起偏器的保护层的情况下,可获得耐久性及耐湿性优异的偏振片。
基材膜的抗拉强度优选为10MPa以上且低于100MPa,更优选为30MPa以上且低于100MPa。在低于10MPa的情况下,存在无法表现出充分的机械强度的情况。若超过100MPa,则有可能加工性变得不充分。抗拉强度例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜的拉伸伸长率优选为1.0%以上,更优选为3.0%以上,进一步优选为5.0%以上。拉伸伸长率的上限例如为100%。在拉伸伸长率低于1%的情况下,存在韧性变得不充分的情况。拉伸伸长率例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜的拉伸弹性模量为4GPa以上,优选为4.5GPa以上。拉伸弹性模量的上限例如为20GPa。拉伸弹性模量例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜也可以根据目的含有任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例子,可列举出紫外线吸收剂;受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化剂;耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂;玻璃纤维、碳纤维等补强材;近红外线吸收剂;磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化锑等阻燃剂;阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂;无机颜料、有机颜料、染料等着色剂;有机填料或无机填料;树脂改质剂;有机填充剂或无机填充剂;增塑剂;润滑剂等。添加剂可在丙烯酸系树脂的聚合时添加,也可在膜形成时添加。添加剂的种类、数量、组合、添加量等可根据目的而适当设定。
B-2.丙烯酸系树脂
B-2-1.丙烯酸系树脂的构成
作为丙烯酸系树脂,可采用任意适当的丙烯酸系树脂。丙烯酸系树脂中,代表性而言,作为单体单元,含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分。在本说明书中,所谓“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。作为构成丙烯酸系树脂的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯,可例示出直链状或支链状的烷基的碳数为1~18的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们可单独使用或组合而使用。进而,也可以通过共聚在丙烯酸系树脂中导入任意适当的共聚单体。这样的共聚单体的种类、数量、共聚比等可根据目的而适当设定。关于丙烯酸系树脂的主骨架的构成成分(单体单元),下文参照通式(2)进行描述。
丙烯酸系树脂优选具有选自戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元中的至少一种。具有内酯环单元的丙烯酸系树脂例如记载在日本特开2008-181078号公报中,该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。戊二酰亚胺单元优选以下述通式(1)表示:
在通式(1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或碳数为1~8的烷基,R3表示氢原子、碳数为1~18的烷基、碳数为3~12的环烷基、或碳数为6~10的芳基。在通式(1)中,优选R1及R2分别独立地为氢原子或甲基,且R3为氢原子、甲基、丁基或环己基。更优选R1为甲基,R2为氢原子,且R3为甲基。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性而言以下述通式(2)表示:
在通式(2)中,R4表示氢原子或甲基,R5表示氢原子、或者可经取代的碳数为1~6的脂肪族或脂环式烃基。作为取代基,例如可列举出卤素、羟基。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例子,可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯。在通式(2)中,R5优选为氢原子或甲基。因此,特别优选的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的戊二酰亚胺单元,也可含有上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多种戊二酰亚胺单元。
上述丙烯酸系树脂中的戊二酰亚胺单元的含有比例优选为2摩尔%~50摩尔%,更优选为2摩尔%~45摩尔%,进一步优选为2摩尔%~40摩尔%,特别优选为2摩尔%~35摩尔%,最优选为3摩尔%~30摩尔%。若含有比例少于2摩尔%,则有可能不会充分地发挥来源于戊二酰亚胺单元而表现出的效果(例如较高的光学特性、较高的机械强度、与起偏器的优异的粘接性、薄型化)。若含有比例超过50摩尔%,则有可能例如耐热性、透明性变得不充分。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的(甲基)丙烯酸烷基酯单元,也可含有上述通式(2)中的R4及R5不同的多种(甲基)丙烯酸烷基酯单元。
上述丙烯酸系树脂中的(甲基)丙烯酸烷基酯单元的含有比例优选为50摩尔%~98摩尔%,更优选为55摩尔%~98摩尔%,进一步优选为60摩尔%~98摩尔%,特别优选为65摩尔%~98摩尔%,最优选为70摩尔%~97摩尔%。若含有比例少于50摩尔%,则有可能不会充分地发挥来源于(甲基)丙烯酸烷基酯单元而表现出的效果(例如较高的耐热性、较高的透明性)。若上述含有比例多于98摩尔%,则有可能树脂变脆而容易开裂,无法充分地发挥出较高的机械强度,生产率差。
上述丙烯酸系树脂也可含有戊二酰亚胺单元及(甲基)丙烯酸烷基酯单元以外的单元。
在一实施方式中,丙烯酸系树脂可含有未参与下文所述的分子内酰亚胺化反应的不饱和羧酸单元例如0~10重量%。不饱和羧酸单元的含有比例优选为0~5重量%,更优选为0~1重量%。若含量为这样的范围,则可维持透明性、滞留稳定性及耐湿性。
在一实施方式中,丙烯酸系树脂可含有上述以外的可进行共聚的乙烯基系单体单元(其他乙烯基系单体单元)。作为该其他乙烯基系单体,例如可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基缩水甘油醚、马来酸酐、衣康酸酐、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸丙基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙酰基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基噁唑啉、2-丙烯酰基噁唑啉、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基噁唑啉等。它们可单独使用,也可并用。优选为苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体。其他乙烯基系单体单元的含有比例优选为0~1重量%,更优选为0~0.1重量%。若为这样的范围,则可抑制并非所期望的相位差的表现及透明性的降低。
上述丙烯酸系树脂中的酰亚胺化率优选为2.5%~20.0%。若酰亚胺化率为这样的范围,则可获得耐热性、透明性及成型加工性优异的树脂,可防止膜成型时的烧焦的产生或机械强度的降低。在上述丙烯酸系树脂中,酰亚胺化率以戊二酰亚胺单元与(甲基)丙烯酸烷基酯单元之比表示。该比例如可根据丙烯酸系树脂的NMR(Nuclear magneticresonance,核磁共振)光谱、IR(Infrared,红外线)光谱等而获得。在本实施方式中,酰亚胺化率可使用1HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz),通过树脂的1H-NMR测定而求出。更具体而言,将3.5至3.8ppm附近的来源于(甲基)丙烯酸烷基酯的O-CH3质子的峰面积设为A,将3.0至3.3ppm附近的来源于戊二酰亚胺的N-CH3质子的峰面积设为B,通过下式而求出。
酰亚胺化率Im(%)={B/(A+B)}×100
上述丙烯酸系树脂的酸值优选为0.10mmol/g~0.50mmol/g。若酸值为这样的范围,则可获得耐热性、机械物性及成型加工性的平衡优异的树脂。若酸值过小,则存在产生因使用用于调整为所期望的酸值的改性剂引起的成本提高、因改性剂的残存引起的凝胶状物的产生等问题的情况。若酸值过大,则有变得容易引起膜成型时(例如熔融挤出时)的发泡而导致成型品的生产率降低的倾向。关于上述丙烯酸系树脂,酸值是该丙烯酸系树脂中的羧酸单元及羧酸酐单元的含量。在本实施方式中,酸值例如可通过WO2005/054311或日本特开2005-23272号公报所记载的滴定法而算出。
上述丙烯酸系树脂的重均分子量优选为1000~2000000,更优选为5000~1000000,进一步优选为10000~500000,特别优选为50000~500000,最优选为60000~150000。重均分子量例如可使用凝胶渗透色谱仪(GPC系统,Tosoh制造),通过聚苯乙烯换算而求出。需要说明的是,可使用四氢呋喃作为溶剂。
上述丙烯酸系树脂的Tg(玻璃化转变温度)优选为110℃以上,更优选为115℃以上,进一步优选为120℃以上,特别优选为125℃以上,最优选为130℃以上。若Tg为110℃以上,则含有由这样的树脂获得的基材膜的偏振片容易成为耐久性优异的偏振片。Tg的上限值优选为300℃以下,更优选为290℃以下,进一步优选为285℃以下,特别优选为200℃以下,最优选为160℃以下。若Tg为这样的范围,则成型性会优异。
B-2-2.丙烯酸系树脂的聚合
上述丙烯酸系树脂例如可通过以下的方法制造。该方法包括:(I)将与通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸烷基酯单元相对应的(甲基)丙烯酸烷基酯单体与不饱和羧酸单体和/或其前体单体进行共聚而获得共聚物(a);及(II)利用酰亚胺化剂处理该共聚物(a),由此进行该共聚物(a)中的(甲基)丙烯酸烷基酯单体单元与不饱和羧酸单体和/或其前体单体单元的分子内酰亚胺化反应,将通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元导入至共聚物中。
作为不饱和羧酸单体,例如可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸。作为其前体单体,例如可列举出丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等。它们可单独使用,也可并用。优选的不饱和羧酸单体为丙烯酸或甲基丙烯酸,优选的前体单体为丙烯酰胺。
作为利用酰亚胺化剂对共聚物(a)进行处理的方法,可使用任意适当的方法。作为具体例子,可列举出使用挤出机的方法、使用分批式反应槽(压力容器)的方法。使用挤出机的方法包括使用挤出机将共聚物(a)加热熔融,并利用酰亚胺化剂对其进行处理。在该情况下,作为挤出机,可使用任意适当的挤出机。作为具体例子,可列举出单螺杆挤出机、双螺杆挤出机、多螺杆挤出机。使用分批式反应槽(压力容器)的方法中可使用任意适当的分批式反应槽(压力容器)。
作为酰亚胺化剂,只要可生成上述通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元,则可使用任意适当的化合物。作为酰亚胺化剂的具体例子,可列举出甲胺、乙胺、正丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、正己胺等含有脂肪族烃基的胺;苯胺、苄胺、甲苯胺、三氯苯胺等含有芳香族烃基的胺;环己胺等含有脂环式烃基的胺。进而,例如也可使用通过加热而产生这样的胺的脲系化合物。作为脲化合物,例如可列举出脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二丙基脲。酰亚胺化剂优选为甲胺、氨、环己胺,更优选为甲胺。
在酰亚胺化中,除了上述酰亚胺化剂以外,也可根据需要添加闭环促进剂。
酰亚胺化中的酰亚胺化剂的使用量相对于共聚物(a)100重量份,优选为0.5重量份~10重量份,更优选为0.5重量份~6重量份。若酰亚胺化剂的使用量少于0.5重量份,则未达成所期望的酰亚胺化率的情况较多。其结果是,存在所获得的树脂的耐热性变得极不充分而诱发成型后的烧焦等外观缺陷的情况。若酰亚胺化剂的使用量超过10重量份,则存在树脂中残存酰亚胺化剂而由该酰亚胺化剂诱发成型后的烧焦等外观缺陷或发泡的情况。
本实施方式的制造方法除了上述酰亚胺化以外根据需要也可包括利用酯化剂所进行的处理。
作为酯化剂,例如可列举出碳酸二甲酯、2,2-二甲氧基丙烷、二甲基亚砜、原甲酸三乙酯、原乙酸三甲酯、原甲酸三甲酯、碳酸二苯酯、硫酸二甲酯、甲苯磺酸甲酯、三氟甲磺酸甲酯、乙酸甲酯、甲醇、乙醇、异氰酸甲酯、异氰酸对氯苯酯、二甲基碳二酰亚胺、二甲基叔丁基甲硅烷基氯、乙酸异丙烯酯、二甲基脲、氢氧化四甲基铵、二甲基二乙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、亚磷酸二甲酯(三甲基硅烷)酯、亚磷酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、重氮甲烷、环氧乙烷、环氧丙烷、环氧环己烷、2-乙基己基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、苄基缩水甘油醚。它们中,从成本及反应性等观点出发,优选为碳酸二甲酯。
酯化剂的添加量可以丙烯酸系树脂的酸值成为所期望的值的方式设定。
B-2-3.其他树脂的并用
在本发明的实施方式中,可将上述丙烯酸系树脂与其他树脂并用。即,可将构成丙烯酸系树脂的单体成分与构成其他树脂的单体成分进行共聚,并将该共聚物供于下文B-4项所述的膜形成;也可将丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物供于膜形成。作为其他树脂,例如可列举出苯乙烯系树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚缩醛、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等其他热塑性树脂;酚系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、有机硅系树脂、环氧系树脂等热硬化性树脂。所并用的树脂的种类及配合量可根据目的及对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。例如,苯乙烯系树脂(优选为丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作为相位差控制剂而并用。
在将丙烯酸系树脂与其他树脂并用的情况下,丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物中的丙烯酸系树脂的含量优选为50重量%~100重量%,更优选为60重量%~100重量%,进一步优选为70重量%~100重量%,特别优选为80重量%~100重量%。在含量低于50重量%的情况下,有可能无法充分地反映出丙烯酸系树脂本来具有的较高的耐热性、较高的透明性。
B-3.芯壳型粒子
在上述基材膜中,芯壳型粒子相对于丙烯酸系树脂100重量份,而配合优选为5重量份~20重量份,更优选为5重量份~13重量份。由此,可获得具有所期望的弹性模量并且丙烯酸系树脂向表面处理层的溶出得以抑制的基材膜。其结果是,可抑制在基材膜形成表面处理层的情况下的表面处理层的功能性的降低,进而可提高基材膜与表面处理层的密合性。
芯壳型粒子代表性而言具有由橡胶状聚合物构成的芯及由玻璃状聚合物构成且覆盖该芯的覆盖层。芯壳型粒子也可以具有一层以上由玻璃状聚合物构成的层作为最内层或中间层。
构成芯的橡胶状聚合物的Tg优选为20℃以下,更优选为-60℃~20℃,进一步优选为-60℃~10℃。若构成芯的橡胶状聚合物的Tg超过20℃,则有可能丙烯酸系树脂的机械强度的提高不充分。构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)的Tg优选为50℃以上,更优选为50℃~140℃,进一步优选为60℃~130℃。若构成覆盖层的玻璃状聚合物的Tg低于50℃,则有可能丙烯酸系树脂的耐热性降低。
芯壳型粒子中的芯的含有比例优选为30重量%~95重量%,更优选为50重量%~90重量%。芯中的玻璃状聚合物层的比例相对于芯的总量100重量%为0~60重量%,优选为0~45重量%,更优选为10重量%~40重量%。芯壳型粒子中的覆盖层的含有比例优选为5重量%~70重量%,更优选为10重量%~50重量%。
在一实施方式中,分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子可具有扁平形状。芯壳型粒子可通过下文B-4项所述的拉伸而扁平化。经扁平化的芯壳型粒子的长度/厚度之比为7.0以下。长度/厚度之比优选为6.5以下,更优选为6.3以下。另一方面,长度/厚度之比优选为4.0以上,更优选为4.5以上,进一步优选为5.0以上。在本说明书中,所谓“长度/厚度之比”是指芯壳型粒子的俯视形状的代表长度与厚度之比。其中,所谓“代表长度”,在俯视形状为圆形的情况下是指直径,在椭圆形的情况下是指长径,在矩形或多边形的情况下是指对角线的长度。该比例如可按照以下的步骤求出。利用透射型电子显微镜(例如加速电压为80kV、RuO4染色超薄切片法)对所获得的膜截面进行拍摄,从存在于所获得的照片中的芯壳型粒子中较长的粒子(获得接近代表长度的截面的粒子)中依次选取30个,算出(长度的平均值)/(厚度的平均值),由此可获得该比。
构成芯壳型粒子的芯的橡胶状聚合物、构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)、它们的聚合方法及其他构成的详细内容例如记载在日本特开2016-33552号公报中。该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。
B-4.基材膜的形成
基于本发明的实施方式的基材膜代表性而言可通过包括将含有上述丙烯酸系树脂(在并用其他树脂的情况下为与该其他树脂的共混物)及芯壳型粒子的组合物形成膜的方法而形成。进而,形成基材膜的方法可包括将上述膜进行拉伸。
膜形成所使用的芯壳型粒子的平均粒径优选为1nm~500nm。芯的平均粒径优选为50nm~300nm,更优选为70nm~300nm。
作为形成膜的方法,可采用任意适当的方法。作为具体例子,可列举出流延涂装法(例如流延法)、挤出成型法、注射成型法、压缩成型法、传递模塑法、吹塑成型法、粉末成型法、FRP(Fiber Reinforced Plastic,纤维强化塑料)成型法、压延成型法、热压法。优选为挤出成型法或流延涂装法。其原因在于:可提高所获得的膜的平滑性,可获得良好的光学均一性。特别优选为挤出成型法。其原因在于无需考虑因残存溶剂引起的问题。其中,使用T模的挤出成型法从膜的生产率及以后的拉伸处理的容易性的观点出发优选。成型条件可根据所使用的树脂的组成或种类、对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。
作为拉伸方法,可采用任意适当的拉伸方法、拉伸条件(例如拉伸温度、拉伸倍率、拉伸速度、拉伸方向)。作为拉伸方法的具体例子,可列举出自由端拉伸、固定端拉伸、自由端收缩、固定端收缩。它们可单独使用,也可同时使用,也可逐步使用。通过在合适的拉伸条件下对已适当调整芯壳型粒子相对于丙烯酸系树脂的配合量的膜进行拉伸,可获得具有所期望的弹性模量并且丙烯酸系树脂向表面处理层的溶出得以抑制的基材膜。其结果是,可抑制在基材膜形成表面处理层的情况下的表面处理层的功能性的降低,进而可提高基材膜与表面处理层的密合性。
拉伸方向可根据目的而采用合适的方向。具体而言,可列举出长度方向、宽度方向、厚度方向、倾斜方向。拉伸方向可为一方向(单轴拉伸),也可为两方向(双轴拉伸),也可为三方向以上。在本发明的实施方式中,代表性而言,可采用长度方向的单轴拉伸、长度方向及宽度方向的同时双轴拉伸、长度方向及宽度方向的逐步双轴拉伸。优选为双轴拉伸(同时或逐步)。其原因在于:容易控制面内相位差,而容易实现光学各向同性。
拉伸温度可根据对基材膜所期望的光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸倍率、拉伸速度等而变化。具体而言,拉伸温度优选为Tg~Tg+50℃,进一步优选为Tg+15℃~Tg+50℃,最优选为Tg+35℃~Tg+50℃。通过在这样的温度下进行拉伸,可获得具有合适的特性的基材膜。具体的拉伸温度例如为110℃~200℃,优选为120℃~190℃。若拉伸温度为这样的范围,则通过适当调整拉伸倍率及拉伸速度,可获得具有所期望的弹性模量并且丙烯酸系树脂向表面处理层的溶出得以抑制的基材膜。其结果是,可抑制在基材膜形成表面处理层的情况下的表面处理层的功能性的降低,进而可提高基材膜与表面处理层的密合性。
另外,拉伸倍率也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸速度等而变化。在采用双轴拉伸的情况下,宽度方向(TD)的拉伸倍率与长度方向(MD)的拉伸倍率之比(TD/MD)优选为1.0~1.5,更优选为1.0~1.4,进一步优选为1.0~1.3。另外,采用双轴拉伸的情况下的面倍率(长度方向的拉伸倍率与宽度方向的拉伸倍率之积)优选为2.0~6.0,更优选为3.0~5.5,进一步优选为3.5~5.2。若拉伸倍率为这样的范围,则通过适当调整拉伸温度及拉伸速度,可获得具有所期望的弹性模量并且丙烯酸系树脂向表面处理层的溶出得以抑制的基材膜。其结果是,可抑制在基材膜形成表面处理层的情况下的表面处理层的功能性的降低,进而可提高基材膜与表面处理层的密合性。
另外,拉伸速度也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸倍率等而变化。拉伸速度优选为3%/秒~20%/秒,更优选为3%/秒~15%/秒,进一步优选为3%/秒~10%/秒。在采用双轴拉伸的情况下,一方向的拉伸速度与另一方向的拉伸速度可相同也可不同。若拉伸速度为这样的范围,则通过适当调整拉伸温度及拉伸倍率,可获得具有所期望的弹性模量并且丙烯酸系树脂向表面处理层的溶出得以抑制的基材膜。其结果是,可抑制在基材膜形成表面处理层的情况下的表面处理层的功能性的降低,进而可提高基材膜与表面处理层的密合性。
以上述方式可形成基材膜。
C.表面处理层
表面处理层是根据对光学层叠体要求的功能而形成于基材膜的单侧的任意适当的功能层。作为表面处理层的具体例子,可列举出硬涂层、防眩层及抗反射层等。表面处理层的厚度优选为3μm~20μm,更优选为5μm~15μm。
表面处理层代表性而言为形成于基材膜上的树脂组合物的硬化层。形成表面处理层的工序可包括:在基材膜上涂布表面处理层形成用的树脂组合物而形成涂布层;及将上述涂布层进行干燥并使其硬化而制成表面处理层。将上述涂布层进行干燥并使其硬化可包括加热上述涂布层。
作为树脂组合物的涂布方法,可采用任意适当的方法。例如可列举出棒涂法、辊涂法、凹版涂布法、杆式涂布法、孔缝式涂布法、帘式涂布法、喷注式涂布法、逗号涂布法。从使涂布变得容易的观点出发,树脂组合物优选含有稀释用的溶剂。
涂布层的加热温度可设定为与树脂组合物的组成相应的任意适当的温度,优选设定为基材膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下。若在基材膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下的温度下进行加热,则可获得加热引起的变形得以抑制的光学层叠体。涂布层的加热温度例如为50℃~140℃,优选为60℃~100℃。通过在这样的加热温度下进行加热,可获得基材膜与表面处理层的密合性优异的光学层叠体。
C-1.硬涂层
硬涂层是对基材膜的表面赋予耐擦伤性及耐化学品性等的层。硬涂层在铅笔硬度试验中具有优选为H以上、更优选为3H以上的硬度。铅笔硬度试验可依据JIS K 5400而测定。硬涂层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。硬涂层及硬涂层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2014-240955号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-2.防眩层
防眩层是用于通过使光散射并反射而防止外界光的映入的层。防眩层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。防眩层代表性而言在表面具有微细凹凸形状。作为形成这样的微细凹凸形状的方法,例如可列举出使上述硬化性化合物含有微粒的方法。防眩层及防眩层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2017-32711号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-3.抗反射层
抗反射层是用于防止外界光的反射的层。抗反射层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。抗反射层可为仅由1层构成的单层,也可为包含2层以上的多层。抗反射层及抗反射层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2012-155050号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
D.偏振片
上述A至C项所记载的光学层叠体可应用于偏振片。因此,本发明也包含使用这样的光学层叠体的偏振片。代表性而言,偏振片具有起偏器和配置于起偏器的单侧的本发明的光学层叠体。光学层叠体是其基材膜侧与起偏器贴合,可作为起偏器的保护层而发挥功能。
作为起偏器,可采用任意适当的起偏器。例如,形成起偏器的树脂膜可为单层的树脂膜,也可为两层以上的层叠体。
作为由单层的树脂膜构成的起偏器的具体例子,可列举出对聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施利用碘或二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而得到的起偏器;PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。从光学特性优异的方面出发,优选使用以碘将PVA系膜进行染色并进行单轴拉伸而获得的起偏器。
上述利用碘的染色例如通过将PVA系膜浸渍在碘水溶液中而进行。上述单轴拉伸的拉伸倍率优选为3~7倍。拉伸可在染色处理后进行,也可一边染色一边进行。另外,也可在拉伸后进行染色。根据需要对PVA系膜实施溶胀处理、交联处理、洗涤处理、干燥处理等。例如,通过在染色前将PVA系膜浸渍在水中进行水洗,不仅可洗涤掉PVA系膜表面的污垢或抗粘连剂,而且可使PVA系膜溶胀而防止染色不均等。
作为使用层叠体而获得的起偏器的具体例子,可列举出使用树脂基材与层叠于该树脂基材上的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体、或树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器例如可通过以下方法制作:将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材上,进行干燥而在树脂基材上形成PVA系树脂层,从而获得树脂基材与PVA系树脂层的层叠体;将该层叠体进行拉伸及染色而将PVA系树脂层制成起偏器。在本实施方式中,拉伸代表性而言包括将层叠体浸渍在硼酸水溶液中进行拉伸。进而,拉伸可根据需要进一步包括在硼酸水溶液中的拉伸前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。所获得的树脂基材/起偏器的层叠体可直接使用(即,可将树脂基材设为起偏器的保护层),也可将树脂基材从树脂基材/起偏器的层叠体剥离,在该剥离面层叠与目的相应的任意适当的保护层而使用。这样的起偏器的制造方法的详细内容例如记载在日本特开2012-73580号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
起偏器的厚度例如为1μm~80μm。在一实施方式中,起偏器的厚度优选为2μm~30μm,进一步优选为3μm~25μm。
E.图像显示装置
上述D项所记载的偏振片可应用于图像显示装置。因此,本发明也包含使用这样的偏振片的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例,可列举出液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置。图像显示装置可采用业界所周知的构成,因此省略详细的说明。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行具体说明,但本发明并不限定于这些实施例。各特性的测定方法如下所述。需要说明的是,只要无特别明确记载,则实施例中的“份”及“%”为重量基准。
(1)溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例
通过使用三维光折射率/膜厚测定装置棱镜耦合器(Metricon公司制造,Metricon2010/M)的方法,测定溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例。使用棱镜耦合器的折射率的测定在以下的条件下实施。
·测定条件
光源:594nm
模式:TE(Transverse electric,横向电场)
扫描(Scan):300~-300
(1-1)基材膜的折射率R1
测量类型(Measurement type):块体/基板(Bulk/Substrate)
通过基材膜的测定来检测模式(称为Knee)。将通过测定而获得的折射率设为R1。
(1-2)表面处理层的折射率R2
Measurement type:单层膜(Single Film)(棱镜耦合(Prism couple))
使用PET基材(Toray公司制造,商品名:U48-3,折射率:1.60)作为基材膜,将涂布层的加热温度设定为60℃,除此以外,以与各实施例同样的方式,获得与各实施例相同厚度的层叠体。通过以Single Film模式测定该层叠体,而检测出多种模式。将通过测定而获得的折射率设为R2。
(1-3)从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置处的折射率R3
Measurement type:Single Film(Prism couple)
解析方法:折射率梯度(Index Gradient)
在于光学层叠体中折射率沿深度方向变化的情况下,通过上述使用棱镜耦合器的方法,可定量地求出相对于深度方向的折射率变化。
通过光学层叠体的测定,检测出多种模式,通过Index Gradient解析,算出相对于深度方向的折射率变化。基于以下的式子确定从基材膜侧起沿表面处理层的方向“3.0μm深度的位置”,将所获得的折射率设为R3。
“3.0μm深度的位置”(距表面处理侧的位置)=表面处理层厚度(PET基材硬涂层厚度)-(3μm)
(1-4)构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例X
通过以下的式子,算出构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的丙烯酸系树脂的成分的比例X(%)。
X(%)=(R3-R2)×100/(R1-R2)
(2)基材膜的弹性模量
基材膜的弹性模量测定中使用了TI900 TriboIndenter(Hysitron公司制造)。将基材膜裁断为10mm×10mm的尺寸,并固定在附带有TriboIndenter的支撑体上,通过纳米压痕法进行压缩弹性模量的测定。此时,以使用压头压入透明层的中心部附近的方式调整位置。以下示出测定条件。
使用压头:Berkovich(三角锥型)
测定方法:单一压入测定
测定温度:25℃
压入深度:500nm
压入速度:100nm/秒
(3)表面处理层的功能性评价
将实施例及比较例中获得的光学层叠体切断为宽度11mm、长度100mm的大小,将基材膜朝下载置在玻璃板上。接着,在该光学层叠体的表面处理层(硬涂层)侧表面上,使安装在直径11mm圆柱的截面的钢丝棉#0000以载荷800g或600g、100mm/秒往复10次。目视观察其后的硬涂层侧表面,按照以下的基准进行评价。
〇:完全无损伤
△:略有损伤
×:损伤显著
(4)密合性评价
依据JIS K-5400的棋盘格子剥离试验(棋盘格子数:100个)对表面处理层相对于基材膜的密合性进行评价,通过以下的指标进行判定。
〇:棋盘格子剥离数为0个
×:棋盘格子剥离数为1个以上
<实施例1>
1.基材膜的制作
利用单甲基胺将MS树脂(MS-200;甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(摩尔比)=80/20的共聚物,新日铁化学株式会社制造)进行酰亚胺化(酰亚胺化率:5%)。所获得的酰亚胺化MS树脂具有通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元(R1及R3为甲基,R2为氢原子)、通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸酯单元(R4及R5为甲基)及苯乙烯单元。需要说明的是,上述酰亚胺化中使用了口径为15mm的啮合型同方向旋转式双螺杆挤出机。将挤出机的各调温区的设定温度设定为230℃,将螺杆转速设定为150rpm,以2.0kg/小时供给MS树脂,单甲基胺的供给量相对于MS树脂100重量份设定为2重量份。从料斗投入MS树脂,通过捏合段使树脂熔融及充满后,从喷嘴注入单甲基胺。在反应区的末端装入密封圈使树脂充满。将排气口的压力减压为-0.08MPa而将反应后的副产物及过量的甲基胺去除挥发物。以线料形式从设置在挤出机出口的模具排出的树脂在水槽中冷却后,通过造粒机进行颗粒化。所获得的酰亚胺化MS树脂的酰亚胺化率为5.0%,酸值为0.5mmol/g。
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子5重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度140℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作厚度为30μm的基材膜A。
2.光学层叠体的制作
以硬化后的厚度成为6μm的方式,在上述基材膜A的单侧涂布UV硬化性树脂(将4-HBA(4-hydroxybutyl acrylate,丙烯酸4-羟基丁酯)(大阪有机化学工业株式会社制造)16重量份、NK OLIGO UA-53H-80BK(新中村化学工业株式会社制造)32重量份、Viscoat#300(大阪有机化学工业株式会社制造)48重量份、A-GLY-9E(新中村化学工业株式会社制造)4重量份及IRGACURE 907(BASF制造)2.4重量份进行混合,分别通过MIBK(methyl isobutylketone,甲基异丁基酮):PGM(Propylene Glycol monomethylether,丙二醇单甲醚)=50:50的溶剂以固体成分浓度成为42.0%的方式稀释而得到的树脂)而形成涂布层。接着,将上述涂布层在70℃下进行干燥,并且进行UV硬化,由此获得在基材膜A的单侧形成有硬涂层的光学层叠体1。将上述光学层叠体1供于各评价。将结果示于表1中。
<实施例2>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为10重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为150℃,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材膜B。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜B以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜B的单侧形成有硬涂层的光学层叠体2。将上述光学层叠体2供于各评价。将结果示于表1中。
<实施例3>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为10重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为160℃,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材膜C。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜C以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜C的单侧形成有硬涂层的光学层叠体3。将上述光学层叠体3供于各评价。将结果示于表1中。
<实施例4>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为13重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为152℃,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材膜D。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜D以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜D的单侧形成有硬涂层的光学层叠体4。将上述光学层叠体4供于各评价。将结果示于表1中。
<比较例1>
1.基材膜的制作
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子15重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度152℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作厚度为40μm的基材膜E。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜E以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜E的单侧形成有硬涂层的光学层叠体5。将上述光学层叠体5供于各评价。将结果示于表1中。
<比较例2>
1.基材膜的制作
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子23重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度137℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作厚度为40μm的基材膜F。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜F以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜F的单侧形成有硬涂层的光学层叠体6。将上述光学层叠体6供于各评价。将结果示于表1中。
<比较例3>
1.基材膜的制作
不配合芯壳型粒子,并且将挤出膜的拉伸温度设定为130℃,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材膜G。
2.光学层叠体的制作
除了使用上述基材膜G以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜G的单侧形成有硬涂层的光学层叠体7。将上述光学层叠体7供于各评价。将结果示于表1中。
[表1]
如由表1表明的那样,使用弹性模量为4GPa以上且构成从基材膜侧起沿表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至表面处理层的上述丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%的基材膜的实施例1~4的光学层叠体的耐擦伤性及密合性优异。
产业上的可利用性
本发明的光学层叠体可适宜地用作起偏器的保护层。具有本发明的光学层叠体作为保护层的偏振片可适宜地用于图像显示装置。如上所述的图像显示装置可用于:便携信息终端(PDA,portable information terminal)、智能型手机、移动电话、时钟、数码相机、便携游戏机等便携设备;计算机显示器、笔记本电脑、复印机等OA设备;摄录像机、电视、微波炉等家庭用电气设备;后部监视器、汽车导航系统用监视器、汽车音响等车载用设备;数字标牌、商业店铺用信息用监视器等展示设备;监视用监视器等警备设备;护理用监视器、医疗用监视器等护理、医疗设备等各种用途。
符号说明
10 基材膜
20 表面处理层
100 光学层叠体
Claims (9)
1.一种光学层叠体,其包含基材膜和形成于该基材膜的单侧的表面处理层,其中,
所述基材膜含有丙烯酸系树脂和分散于该丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子,
所述基材膜的弹性模量为4.0GPa以上,
构成从所述基材膜侧起沿所述表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置的成分中溶出至所述表面处理层的所述丙烯酸系树脂的成分的比例低于20%。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在将所述基材膜的折射率设为R1,将所述表面处理层的折射率设为R2,将从所述基材膜侧起沿所述表面处理层的方向的深度为3.0μm的位置处的折射率设为R3时,满足:
R3>0.2R1+0.8R2,其中,设为R1<R2。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述表面处理层的厚度为3μm~20μm。
4.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述基材膜相对于所述丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~20重量份的所述芯壳型粒子。
5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
6.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述表面处理层是涂布于所述基材膜上的树脂的硬化层。
7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
8.一种偏振片,其包含起偏器和配置于该起偏器的单侧的保护层,其中,所述保护层是权利要求1至7中任一项所述的光学层叠体。
9.一种图像显示装置,其具备权利要求8所述的偏振片。
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