TW201509674A - 光學構件之製造方法及用於其之紫外線硬化型樹脂組成物 - Google Patents

光學構件之製造方法及用於其之紫外線硬化型樹脂組成物 Download PDF

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Takafumi Mizuguchi
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Nippon Kayaku Kk
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Abstract

一種光學構件之製造方法,其係貼合有至少2個光學基材之光學構件之製造方法,包括以下步驟:(1)於至少1個光學基材塗布特定之紫外線硬化型樹脂組成物而形成塗布層,於已規定特定之2個波長範圍之照度比之條件下照射紫外線,而獲得具有硬化部分與未硬化部分之光學基材;(2)於所獲得之光學基材之未硬化部分貼合其他光學基材等;(3)藉由照射紫外線而使所貼合之光學基材之未硬化部分硬化。

Description

光學構件之製造方法及用於其之紫外線硬化型樹脂組成物
本發明係關於一種將具有遮光部之光學基材與其他光學基材貼合而製造光學構件之方法及用於其之紫外線硬化型樹脂組成物。
近年來,於液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等顯示裝置之顯示畫面貼合觸控面板,而實現畫面輸入之顯示裝置正被廣泛利用。該觸控面板具有如下構造:將形成有透明電極之玻璃板或樹脂製膜空開少許間隙地對向貼合,並視需要於其觸控面上貼合玻璃或樹脂製之透明保護板。
於觸控面板中之形成有透明電極之玻璃板或膜與玻璃或樹脂製之透明保護板之貼合、或者觸控面板與顯示體單元之貼合中,有使用雙面黏著片材之技術。然而,若使用雙面黏著片材,則有氣泡容易進入之問題。作為代替雙面黏著片材之技術,提出有利用具有柔軟性之紫外線硬化型樹脂組成物進行貼合之技術。
另一方面,為提高顯示影像之對比度,而於透明保護板之最外緣形成有帶狀之遮光部。於利用紫外線硬化型樹脂組成物貼合形成有遮光部之透明保護板之情形時,由於該遮光部,而未使充分之紫外線到達紫外線硬化型樹脂中之成為該遮光部之陰影之遮光區域,從而樹脂之硬化變得不充分。若樹脂之硬化不充分,則產生遮光部附近之顯示不均等問題。
作為使遮光區域中之樹脂之硬化度提高之技術,於專利文獻 1中揭示有使有機過氧化物含於紫外線硬化型樹脂中,於紫外線照射後進行加熱而使遮光部部分之樹脂硬化之技術。然而,關於加熱步驟,有對液晶顯示裝置等造成損害之顧慮。進而,為使樹脂為充分之硬化狀態,通常必需60分鐘以上之加熱步驟,因此有缺乏生產性之問題。又,於專利文獻2中,揭示有自遮光部之形成面之外側面側照射紫外線,而使遮光部之樹脂硬化之技術。然而,根據液晶顯示裝置之形狀,難以自側面照射紫外線,因此該方法存在限制。又,於專利文獻3中,亦揭示有利用陽離子聚合性之紫外線硬化型樹脂之遲效性之技術,但硬化後之樹脂之柔軟性差。
又,於專利文獻4中,提出有僅於光聚合製程使遮光部之樹 脂充分硬化之技術。然而,於光學基材塗布紫外線硬化型樹脂組成物,且對該塗布層照射紫外線後貼合光學基材,進而照射紫外線而獲得之光學構件有接著強度差之問題。
專利文獻1:日本專利第4711354號
專利文獻2:日本特開2009-186954號公報
專利文獻3:日本特開2010-248387號公報
專利文獻4:日本專利第5138820號
本發明之目的在於提供一種光學構件之製造方法及用於其之紫外線硬化型樹脂組成物,其對光學基材之損害少,且生產性良好,可獲得硬化性及密接性良好之顯示體單元等光學構件,樹脂之硬化度高,進而,即便於在光學基材塗布紫外線硬化型樹脂組成物,且對該塗布層照射紫外線後貼合光學基材,進而照射紫外線而獲得光學構件之情形時,亦可 獲得接著強度高之光學構件。
本發明人等為解決上述課題而進行努力研究,結果完成本發明。即,本發明係關於下述(1)~(9)。
(1)一種光學構件之製造方法,其係貼合有至少2個光學基材之光學構件之製造方法,具有下述步驟1~3,下述步驟1中照射至塗布層之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200nm~320nm之範圍之最大照度的比率(照度比)為30以下,[步驟1]於至少1個光學基材,塗布含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物而形成塗布層,對該塗布層照射紫外線,藉此獲得具有下述硬化物層之光學基材,該硬化物層具有存在於該塗布層之光學基材側之硬化部分、與存在於與光學基材側相反之側之未硬化部分;[步驟2]對於步驟1中獲得之光學基材之未硬化部分,貼合其他光學基材、或步驟1中獲得之其他光學基材之未硬化部分;[步驟3]通過光學基材對步驟2中所貼合之光學基材之具有未硬化部分的硬化物層照射紫外線,而使該硬化物層硬化。
(2)如(1)之光學構件之製造方法,其中,步驟1中所使用之光學基材中之至少1個具有遮光部。
(3)如(1)或(2)之光學構件之製造方法,其中,步驟1中照射至塗布層之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200nm~320nm之範圍之最大照度(照度比)為10以下。
(4)如(1)至(3)中任一項之光學構件之製造方法,其中,步驟1中,紫外線之照射量為5~2000mJ/cm2
(5)一種紫外線硬化型樹脂組成物,用於(1)至(4)中任一項之光 學構件之製造方法,含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)。
(6)如(5)之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,(甲基)丙烯酸酯(A)為選自由胺酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)、具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸酯單體組成之群中之1種以上的(甲基)丙烯酸酯。
(7)如(5)或(6)之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,於乙腈或甲醇中測得之光聚合起始劑(B)之莫耳吸光係數,於302nm或313nm為300ml/(g‧cm)以上,於365nm為100ml/(g‧cm)以下。
(8)如(5)至(7)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,光學基材由選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板、形成有遮光部與透明電極之玻璃基板、於具有遮光部之透明基板貼合有形成有透明電極之玻璃基板或膜之基板、液晶顯示單元、電漿顯示單元及有機EL顯示單元組成之群中的1種以上構成。
(9)如(5)至(8)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,光學構件為觸控面板。
1‧‧‧液晶顯示單元
2‧‧‧具有遮光部之透明基板
3‧‧‧透明基板
4‧‧‧遮光部
5‧‧‧紫外線硬化型樹脂組成物層
6‧‧‧具有未硬化部分之硬化物層
7‧‧‧樹脂硬化物層
8‧‧‧紫外線
9‧‧‧短波長紫外線截止濾光片或玻璃板
10‧‧‧兩面實施過易接著處理之PET膜(透明基材)
圖1係表示本發明之製造方法之第1實施形態之步驟圖。
圖2係表示本發明之製造方法之第2實施形態之步驟圖。
圖3係表示本發明之製造方法之第3實施形態之步驟圖。
圖4係表示實施例1及實施例2之製造步驟之步驟圖。
圖5係表示實施例3之製造步驟之步驟圖。
圖6係表示比較例1之製造步驟之步驟圖。
圖7係表示比較例2之製造步驟之步驟圖。
圖8係表示藉由本發明而獲得之光學構件之一態樣之概略圖。
首先,對本發明之光學構件之製造方法進行說明。
本發明之光學構件之製造方法之特徵在於:藉由下述[步驟1]~[步驟3]而貼合至少2個光學基材。
[步驟1]對於至少1個光學基材塗布含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物而形成塗布層,對該塗布層照射紫外線,藉此獲得具有下述硬化物層之光學基材,該硬化物層具有存在於該塗布層之光學基材側(塗布層之下部側)之硬化部分(以下,稱為「硬化物層之硬化部分」或僅稱為「硬化部分」)、與存在於與光學基材側相反之側(塗布層之上部側,通常為大氣側)之未硬化部分(以下,稱為「硬化物層之未硬化部分」或僅稱為「未硬化部分」)。
[步驟2]對於步驟1中獲得之光學基材之硬化物層之未硬化部分貼合其他光學基材,或貼合藉由步驟1而獲得之其他光學基材之硬化物層之未硬化部分。
[步驟3]通過光學基材對步驟2中所貼合之光學基材之具有未硬化部分的硬化物層照射紫外線,而使該硬化物層硬化。
以下,關於經過步驟1~步驟3之本發明之光學構件之製造方法的具體實施形態,參照圖式以液晶顯示單元與具有遮光部之透明基板之貼合為例進行說明。
(第1實施形態)
圖1係表示本發明之光學構件之製造步驟之第1實施形態之步驟圖。
該方法係藉由將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2貼合而獲得光學構件(具有遮光部之液晶顯示單元)之方法。
液晶顯示單元1係指於在形成有電極之一對基板間封入有液晶材料者中具備偏光板、驅動用電路、訊號輸入纜線、背光單元者。
具有遮光部之透明基板2係玻璃板、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板、聚碳酸酯(PC)板、脂環式聚烯烴聚合物(COP)板等透明基板。
此處,透明基板2可較佳地使用於透明基板3之表面上具有黑色框狀之遮光部4者,遮光部4係藉由膠帶之貼附或塗料之塗布或印刷等而形成。再者,本發明亦可應用於不具有遮光部4者,但於以下之第1~3之實施形態之說明中,以具備遮光部4之情形為具體例進行說明。於不具有遮光部4之情形時,只要將「具有遮光部之透明基板」換成「透明基板」這一措詞,則可直接視為不具有遮光部之情形之例。
[步驟1]
首先,如圖1(a)所示,將含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物塗布於液晶顯示單元1之顯示面與具有遮光部之透明基板2之形成有遮光部4之面的表面。作為塗布之方法,可列舉:狹縫式塗布法、輥式塗布法、旋轉塗布法、網版印刷法等。此處,對液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2之表面塗布之紫外線硬化型樹脂組成物可相同,亦可使用不同之紫外線硬化型樹脂組成物。通常較佳為兩者為相同之紫外線硬化型樹脂組成物。
關於各紫外線硬化型樹脂之硬化物之膜厚,以貼合後之樹脂硬化物層7成為較佳為50~500μm,更佳為50~350μm,進而較佳為100~350μm之方式進行調整。此處,存在於具有遮光部之透明基板2之表面上之紫外線硬化型樹脂之硬化物層的膜厚雖亦取決於上述膜厚,但通常較佳為與存在於液晶顯示單元1之表面上之紫外線硬化型樹脂之硬化物層的膜厚為相同程度或者較其厚。其目的在於:使下述步驟3中照射紫外線後亦未硬化而殘留之部分為最小限度,而消除硬化不良之擔憂。
對塗布後之紫外線硬化型樹脂組成物層5照射紫外線8,而 獲得具有存在於塗布層之下部側(自紫外線硬化型樹脂組成物觀察時為液晶顯示單元側或透明基板側)之硬化部分(圖中未顯示)與存在於塗布層之上部側(與液晶顯示單元側相反之側或者與透明基板側相反之側)(於大氣中進行時為大氣側)之未硬化部分(圖中未顯示)的硬化物層6。照射量較佳為5~2000mJ/cm2,尤佳為10~1000mJ/cm2。若照射量過少,則有最終貼合之光學構件之樹脂之硬化度變得不充分之虞,若照射量過多,則有未硬化成分變少,而液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2之貼合變得不良之虞。
本發明中,所謂「未硬化」係顯示於25℃環境下具有流動性之狀態。 又,於紫外線照射後用手指接觸樹脂組成物層,液狀成分會附著於手指之情形時,判斷為具有未硬化部分者。
於利用紫外~近紫外之紫外線照射之硬化中,只要為照射紫 外~近紫外之光線之燈,則可為任意光源。例如可列舉:低壓、高壓或超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、(脈衝)氙氣燈、或無電極燈等。
於本發明之步驟1中,照射至紫外線硬化型樹脂組成物之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度的比率(照度比)為30以下,尤佳為於200~320nm之照度為10以下。若將於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度的比率(照度比)高於30,則最終獲得之光學構件之接著強度差。認為其原因在於:若低波長下之照度高,則步驟1中之硬化時紫外線硬化型樹脂組成物之硬化會過度進行,從而對於步驟3中之紫外線照射下之硬化時之密接性的幫助減少。再者,作為照度,通常於各波長(例如,365nm)下例如為30~1000mW/cm2
此處,關於以成為上述照度比率之方式照射紫外線之方法, 例如為應用滿足該照度比率之條件之燈作為照射紫外~近紫外之光線之燈的方法;或者即便於燈本身不滿足該照度之條件之情形時,亦可藉由於步驟1之照射時使用將短波長之紫外線截止之基材(例如,短波紫外線截止濾光片、玻璃板、膜等),而以上述照度比率進行照射。作為調整紫外線之照度比率之基材,並無特別限定,例如可列舉:實施過短波紫外線截止處理之玻璃板、鈉鈣玻璃、PET膜等。
步驟1中,紫外線之照射通常較佳為於大氣中自塗布側之上部側表面(自紫外線硬化型樹脂組成物層觀察時為與液晶顯示單元側相反之側或者與透明基板側相反之側)(通常為大氣面)進行照射。又,亦可於成為真空後對塗布層之上面表面一面噴霧硬化抑制性之氣體,一面照射紫外線。於大氣中使樹脂組成物硬化之情形時,與液晶顯示單元側相反之側或與透明基板側相反之側成為大氣側。
於紫外線照射時,可藉由對紫外線硬化型樹脂層(塗布層)表面吹送氧氣或臭氧而調整未硬化部分之狀態或未硬化部分之膜厚。
即,藉由對塗布層之表面吹送氧氣或臭氧,而於該表面產生紫外線硬化型樹脂組成物之硬化之氧抑制,因此可確保該表面之未硬化部分,或者使未硬化部分之膜厚變厚。
[步驟2]
繼而,如圖1(b)所示,將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2以未硬化部分彼此對向之形態貼合。貼合可於大氣中進行,亦可於真空中進行。
此處,為了於貼合時變得容易防止氣泡產生,較佳為於真空中進行貼合。
如上所述,若獲得具有硬化部分及未硬化部分之紫外線硬化型樹脂之硬化物後分別貼合於液晶顯示單元及透明基板,則可期待接著力之提高。
[步驟3]
繼而,如圖1(c)所示,針對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件,自具有遮光部之透明基板2側照射紫外線8,而使紫外線硬化型樹脂組成物(塗布層)硬化。
紫外線之照射量以累計光量計較佳為約100~4000mJ/cm2,尤佳為200~3000mJ/cm2左右。關於利用紫外~近紫外之光線照射之硬化所使用之光源,只要為照射紫外~近紫外之光線之燈,則可為任意光源。例如可列舉:低壓、高壓或超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、(脈衝)氙氣燈、或無電極燈等。
以上述方式可獲得圖8所示之光學構件。
(第2實施形態)
除第1實施形態外,亦可藉由如下述之變形之第2實施形態而製造本發明之光學構件。
[步驟1]
首先,如圖2(a)所示,將含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂塗布於具有遮光部之透明基板2上之形成有遮光部4之面後,對獲得之塗布層(紫外線硬化型樹脂組成物層5)照射紫外線8,而獲得具有存在於塗布層之下部側(自上述紫外線硬化型樹脂組成物觀察時為透明基板側)之硬化部分與存在於塗布層之上部側(與透明基板側相反之側)之未硬化部分的硬化物層6。
此時,照射至紫外線硬化型樹脂組成物之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度的比率為30以下,尤佳為於200~320nm之照度為10以下。若將於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度的比率高於30,則最終獲得之光學構件之接著強度較差。
[步驟2]
繼而,如圖2(b)所示,將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2以獲得之硬化物層6之未硬化部分與液晶顯示單元1的顯示面對向之形態進行貼合。貼合可於大氣中進行,亦可於真空中進行。
[步驟3]
繼而,如圖2(c)所示,針對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件,自具有遮光部之透明基板2側照射紫外線8,而使具有紫外線硬化型樹脂組成物之未硬化部分之硬化物層6硬化。
以上述方式可獲得圖8所示之光學構件。
(第3實施形態)
圖3係表示使用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之光學構件之製造方法之第3實施形態的步驟圖。
再者,關於與上述第1實施形態中之構成構件相同之構件,圖中附上相同之符號,且其說明於此處不重複。
[步驟1]
首先,如圖3(a)所示,將含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂塗布於液晶顯示單元1之表面。其後,對紫外線硬化型樹脂組成物層5照射紫外線8,而獲得具有存在於塗布層之下部側(自上述紫外線硬化型樹脂組成物觀察時為透明基板側)之硬化部分、與存在於塗布層之上部側(與透明基板側相反之側)之未硬化部分的硬化物層6。
此時,照射至紫外線硬化型樹脂組成物之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度為30以下,尤佳為於200~320nm之照度為10以下。若將於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之最大照度高於30,則最終獲得之光學構件之接著強度較差。
[步驟21]
繼而,如圖3(b)所示,將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2以獲得之硬化物層6之未硬化部分與具有遮光部之透明基板2上的形成有遮光部之面對向之形態貼合。貼合可於大氣中進行,亦可於真空中進行。
[步驟3]
繼而,如圖3(c)所示,針對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件,自具有遮光部之透明基板2側照射紫外線8,而使具有紫外線硬化型樹脂組成物之未硬化部分之硬化物層6硬化。
以上述方式可獲得圖8所示之光學構件。
上述各實施形態係以一個具體之光學基材對本發明之光學構件之製造方法的若干實施態樣進行說明者。於各實施形態中,使用液晶顯示單元及具有遮光部之透明基板進行說明,但於本發明之製造方法中,可代替液晶顯示單元而使用作為光學基材之下述之各種構件,關於透明基板,亦可使用作為光學基材之下述之各種構件。
不僅如此,作為液晶顯示單元及透明基板等光學基材,該等各種構件中亦可進而使用其他光學基材層(例如,積層有利用紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物層貼合之膜或其他光學基材層者)。
進而,第1實施形態之項所記載之紫外線硬化型樹脂組成物之塗布方法、樹脂硬化物之膜厚、紫外線照射時之照射量及光源、及藉由向紫外線硬化型樹脂層表面吹送氧氣或臭氧而調整未硬化部分之膜厚之方法等均並非僅適用於上述實施形態者,亦可適用於本發明所包含之任意製造方法。
於以下表示亦包含上述液晶顯示單元,且可以上述之第1~第3實施形態製造之光學構件的具體態樣。
(i)係如下態樣:具有遮光部之光學基材為選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板、及形成有遮光部與透明電極之玻璃基板所組成之群中之至少1個光學基材,與其貼合之光學基材為選自由液 晶顯示單元、電漿顯示單元及有機EL單元所組成之群中之至少1個顯示體單元,獲得之光學構件為擁有該具有遮光部之光學基材之顯示體單元。
(ii)係如下態樣:一個光學基材為具有遮光部之保護基材, 與其貼合之其他光學基材為觸控面板或具有觸控面板之顯示體單元,貼合有至少2個光學基材之光學構件為擁有具有遮光部之保護基材之觸控面板或具有其之顯示體單元。
於該情形時,於步驟1中,較佳為於具有遮光部之保護基材之設置有遮光部之面或觸控面板之觸控面中之任一面、或者上述兩面塗布上述紫外線硬化型樹脂組成物。
(iii)係如下態樣:一個光學基材為具有遮光部之光學基材, 與其貼合之其他光學基材為顯示體單元,貼合有至少2個光學基材之光學構件為擁有具有遮光部之光學基材之顯示體單元。
於該情形時,於步驟1中,較佳為於具有遮光部之光學基材之設置有遮光部之側之面或顯示體單元的顯示面中之任一面、或者上述兩面塗布上述紫外線硬化型樹脂組成物。
作為具有遮光部之光學基材之具體例,例如可列舉:具有遮光部之顯示畫面用之保護板、或設置有具有遮光部之保護基材之觸控面板等。
所謂具有遮光部之光學基材之設置有遮光部之側之面,例如於具有遮光部之光學基材為具有遮光部之顯示畫面用之保護板時,係該保護板之設置有遮光部之側之面。又,於具有遮光部之光學基材為擁有具有遮光部之保護基材之觸控面板時,具有遮光部之保護基材由於具有遮光部之面貼合於觸控面板之觸控面,故所謂具有遮光部之光學基材之設置有遮光部之側之面,意指與該觸控面板之觸膜面相反之觸控面板之基材面。
具有遮光部之光學基材之遮光部可設置於光學基材之任意處,但通常於透明板狀或片狀之光學基材之周圍製作成框狀,其寬度較佳為0.5~10 mm左右,更佳為1~8mm左右,進而較佳為2~8mm左右。
繼而,對用於本發明之製造方法之紫外線硬化型樹脂組成物進行說明。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)。又,可含有可添加於用於光學用之紫外線硬化型樹脂組成物中之其他成分作為任意成分。
再者,所謂「可添加於用於光學用之紫外線硬化型樹脂組成物」,意指不含有使硬化物之透明性降低至無法用於光學用之程度之添加物。
利用本發明所使用之紫外線硬化型樹脂組成物製作硬化後之厚度成為200μm之硬化物的片材時,該片材於400~800nm之波長之光下之較佳平均透射率較佳為90%以上。
關於該紫外線硬化型樹脂組成物之較佳組成比例,相對於該紫外線硬化型樹脂組成物之總量,(甲基)丙烯酸酯(A)為25~90重量%,光聚合起始劑(B)為0.2~5重量%,其他成分為剩餘部分。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,作為光聚合起始劑(B),通常所使用之光聚合起始劑均可使用。
作為本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中之(甲基)丙烯酸 酯(A),並無特別限定,較佳為使用選自由胺酯(甲基)丙烯酸酯、具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯單體所組成之群中之任一種。更佳為含有(i)胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯中之至少任一者、及(ii)(甲基)丙烯酸酯單體兩者的態樣。
再者,於本說明書中,所謂「(甲基)丙烯酸酯」意指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯中之任一者或兩者。關於「(甲基)丙烯酸」等亦相同。
上述胺酯(甲基)丙烯酸酯係藉由使多元醇、聚異氰酸酯及 含有羥基之(甲基)丙烯酸酯反應而獲得。
作為多元醇,例如可列舉:新戊二醇、3-甲基-1,5-戊二 醇、乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇等碳數1~10之伸烷基(alkylene)二醇、三羥甲基丙烷、新戊四醇等三醇、二羥甲基三環癸烷(tricyclodecane dimethylol)、雙-[羥基甲基]-環己烷等具有環狀骨架之醇等;及藉由該等多元醇與多元酸(例如,丁二酸、鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸酐、對苯二甲酸、己二酸、壬二酸、四氫鄰苯二甲酸酐等)之反應而獲得之聚酯多元醇、藉由多元醇與ε-己內酯之反應而獲得之己內酯醇、聚碳酸酯多元醇(例如藉由1,6-己二醇與碳酸二苯酯之反應而獲得之聚碳酸酯二醇等)、聚醚多元醇(例如聚乙二醇、聚丙二醇、聚伸丁二醇、環氧乙烷改質雙酚A等)、氫化聚丁二烯二醇等聚烯烴多元醇等。就與其他(A)成分之相溶性之觀點而言,作為上述多元醇,較佳為聚丙二醇、氫化聚丁二烯二醇,就對基材之密接性之觀點而言,尤佳為重量平均分子量為2000以上之聚丙二醇及氫化聚丁二烯二醇。此時之重量平均分子量之上限並無特別限定,較佳為10000以下,更佳為5000以下。
作為有機聚異氰酸酯,例如可列舉:異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯或異氰酸雙環戊酯等。
又,作為含有羥基之(甲基)丙烯酸酯,例如可使用(甲基) 丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯等(甲基)丙烯酸羥基C2~C4烷基酯、二羥甲基環己基單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥基己內酯、羥基末端聚伸烷基二醇(甲基)丙烯酸酯等。
用以獲得上述胺酯(甲基)丙烯酸酯之反應例如以下述方式 進行。即,於多元醇中以其羥基每1當量,有機聚異氰酸酯之異氰酸酯基成為較佳為1.1~2.0當量,進而較佳為1.1~1.5當量的方式混合有機聚異氰 酸酯,於反應溫度較佳為70~90℃進行反應,而合成胺酯(urethane)低聚物。繼而,以胺酯低聚物之異氰酸酯基每1當量,羥基(甲基)丙烯酸酯化合物之羥基成為較佳為1~1.5當量的方式混合羥基(甲基)丙烯酸酯化合物,於70~90℃進行反應,可獲得設為目標之胺酯(甲基)丙烯酸酯。
作為上述胺酯(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量,較佳為 7000~25000左右,更佳為10000~20000。若重量平均分子量小於7000,則有收縮變大之傾向,若重量平均分子量大於25000,則有硬化性變不足之傾向。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,胺酯(甲基)丙烯 酸酯可以任意比例混合1種或2種以上使用。胺酯(甲基)丙烯酸酯於本發明之光硬化型透明接著劑組成物中之重量比例通常較佳為20~80重量%,更佳為30~70重量%。
上述具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯係於聚異戊二 烯分子之末端或支鏈具有(甲基)丙烯醯基。具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯可由「UC-203」(可樂麗公司製造)獲取。具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯之聚苯乙烯換算之數量平均分子量較佳為1000~50000,更佳為25000~45000左右。
具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯於本發明之光硬化型透明接著劑組成物中之重量比例通常較佳為20~80重量%,更佳為30~70重量%。
作為上述(甲基)丙烯酸酯單體,可較佳地使用分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯。
此處,所謂(甲基)丙烯酸酯單體,係表示除上述胺酯(甲基)丙烯酸酯、下述環氧(甲基)丙烯酸酯及上述具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯以外之(甲基)丙烯酸酯。
作為分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯, 具體而言,可列舉:(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯等碳數5~20之(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、丙烯醯啉、(甲基)丙烯酸苯基環氧丙酯、三環癸烷(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯、丙烯酸1-金剛烷基酯、丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯、丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯、甲基丙烯酸1-金剛烷基酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯、(甲基)丙烯酸二環戊二烯氧基乙酯等具有環狀骨架之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等具有羥基之碳數1~5之(甲基)丙烯酸烷基酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯等聚伸烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質苯氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質丁氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯及環氧乙烷改質辛氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯等。其中,較佳為碳數10~20之(甲基)丙烯酸烷基酯、2-乙基己基卡必醇丙烯酸酯、丙烯醯啉、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯,尤其是就樹脂之柔軟性之觀點而言,較佳為碳數10~20之(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯。
另一方面,就提高對玻璃之密接性之觀點而言,較佳為具有 羥基之碳數1~5之(甲基)丙烯酸烷基酯、丙烯醯啉,尤佳為丙烯醯啉。
此處,所謂(甲基)丙烯酸酯單體,係表示除胺酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯以外之(甲基)丙烯酸酯。
於本發明之組成物中,可於不損害本發明之特性之範圍內含 有具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯以外之(甲基)丙烯酸酯。例如可列舉:二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚伸丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質雙酚A型二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及環氧乙烷改質磷酸二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基辛烷三(甲基)丙烯酸酯等三羥甲基C2~C10烷烴三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯等三羥甲基C2~C10烷烴聚烷氧基三(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等環氧烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇聚乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇聚丙氧基四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
本發明中,於進行併用之情形時,為了抑制硬化收縮,較佳為使用1或2官能之(甲基)丙烯酸酯。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,該等(甲基)丙烯酸酯單體成分可以任意比例混合1種或2種以上使用。(甲基)丙烯酸酯單 體於本發明之光硬化型透明接著劑組成物中之重量比例通常較佳為5~70重量%,更佳為10~50重量%。若少於5重量%,則有硬化性變不足之傾向,若多於70重量%,則有收縮變大之傾向。
於該紫外線硬化型樹脂組成物之包含(i)胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯中之至少任一者、及(ii)(甲基)丙烯酸酯單體兩者的態樣中,(i)及(ii)兩者之合計含量相對於該樹脂組成物之總量,通常較佳為25~90重量%,更佳為40~90重量%,進而較佳為40~80重量%。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,可於不損害本發明 之特性之範圍內使用環氧(甲基)丙烯酸酯。環氧(甲基)丙烯酸酯有提高硬化性或提高硬化物之硬度或硬化速度之功能。又,作為環氧(甲基)丙烯酸酯,只要為藉由使環氧丙基醚型環氧化合物與(甲基)丙烯酸反應而獲得者,則均可使用,作為較佳使用之用以獲得環氧(甲基)丙烯酸酯之環氧丙基醚型環氧化合物,可列舉:雙酚A或其環氧烷加成物之二環氧丙基醚、雙酚F或其環氧烷加成物之二環氧丙基醚、氫化雙酚A或其環氧烷加成物之二環氧丙基醚、氫化雙酚F或其環氧烷加成物之二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、丁二醇二環氧丙基醚、己二醇二環氧丙基醚、環己烷二甲醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚等。
環氧(甲基)丙烯酸酯係藉由使該等環氧丙基醚型環氧化合 物與(甲基)丙烯酸於如下述之條件下進行反應而獲得。
相對於環氧丙基醚型環氧化合物之環氧基1當量,使(甲基) 丙烯酸以0.9~1.5莫耳,更佳為0.95~1.1莫耳之比率進行反應。反應溫度較佳為80~120℃,反應時間為10~35小時左右。為了促進反應,例如較佳為使用三苯基膦、TAP、三乙醇胺、四乙基氯化銨等觸媒。又,反應中, 為了防止聚合,例如亦可使用對甲氧基苯酚、甲基對苯二酚等作為聚合抑制劑。
作為本發明中可較佳使用之環氧(甲基)丙烯酸酯,為自雙 酚A型之環氧化合物獲得之雙酚A型環氧(甲基)丙烯酸酯。作為環氧(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量,較佳為500~10000。
環氧(甲基)丙烯酸酯於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中之重量比例通常為1~80重量%,較佳為5~30重量%。
作為本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中之(甲基)丙烯酸 酯(A)之含有比例,相對於紫外線硬化型樹脂組成物之總量,較佳為25~90重量%,更佳為40~90重量%,進而較佳為40~80重量%。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,較佳為含有選自由上述胺酯(甲基)丙烯酸酯、上述具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯及上述(甲基)丙烯酸酯單體所組成之群中之至少1種作為(甲基)丙烯酸酯(A)。關於上述胺酯(甲基)丙烯酸酯之含有比例,較佳為20~80重量%,更佳為30~70重量%,關於上述具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯之含有比例,較佳為20~80重量%,更佳為30~70重量%,關於上述(甲基)丙烯酸酯單體之含有比例,較佳為5~70重量%,更佳為10~50重量%。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,含有上述胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯作為(甲基)丙烯酸酯(A),其含有比例為20~80重量%,較佳為30~70重量%,且含有(甲基)丙烯酸酯單體作為(甲基)丙烯酸酯(A),其含有比例為5~70重量%,較佳為10~50重量%時,進而較佳。
作為本發明之組成物所含有之光聚合起始劑(B),並無特別限定,例如可列舉:2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基乙氧基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、 雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦、1-羥基環己基苯基酮(Irgacure(商品名)184;BASF製造)、2-羥基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇低聚物(Esacure(商品名)ONE;Lamberti製造)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(Irgacure2959;BASF製造)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(Irgacure127;BASF製造)、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(Irgacure651;BASF製造)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(Darocure(商品名)1173;BASF製造)、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基丙烷-1-酮(Irgacure907;BASF製造)、氧基-苯基-乙酸2-[2-側氧基-2-苯基-乙醯氧基-乙氧基]-乙酯與氧基-苯基-乙酸2-[2-羥基-乙氧基]-乙酯之混合物(Irgacure754;BASF製造)、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-氯9-氧硫、2,4-二甲基9-氧硫、2,4-二異丙基9-氧硫、異丙基9-氧硫等。
本發明中,關於上述光聚合起始劑(B),較佳為使用於乙 腈或甲醇中測得之於302nm或313nm之莫耳吸光係數為300ml/(g‧cm)以上,且於365nm之莫耳吸光係數為100ml/(g‧cm)以下之光聚合起始劑。藉由使用此種光聚合起始劑,可有助於提高接著強度。藉由於302nm或313nm之莫耳吸光係數為300ml/(g‧cm)以上,從而步驟3中之硬化時之硬化變得更為充分。另一方面,藉由於365nm之莫耳吸光係數為100ml/(g‧cm)以下,可適當抑制於步驟1中之硬化時過度硬化,而可使密接性更為提高。
作為此種光聚合起始劑(B),例如可列舉:1-羥基環己基苯基酮(Irgacure184;BASF製造)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(Darocure1173;BASF製造)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基 -2-甲基-1-丙烷-1-酮(Irgacure2959;BASF製造)、苯基乙醛酸甲酯(Darocure MBF;BASF製造)等。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,該等光聚合起始劑 (B)可以任意比例混合1種或2種以上使用。光聚合起始劑(B)於本發明之光硬化型樹脂組成物中之重量比例通常較佳為0.2~5重量%,更佳為0.3~3重量%。若多於5重量%,則有獲得具有硬化部分與存在於與光學基材側相反側之未硬化部分的硬化物層時,無法形成未硬化部分,或樹脂硬化物層之透明性變差之虞。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物除含有上述(甲基)丙烯 酸酯(A)及上述光聚合起始劑(B)以外,可含有下述之光聚合起始助劑、下述之具有通式(1)所示之結構之化合物、下述之柔軟化成分、及下述之添加劑等作為其他成分。關於其他成分相對於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之總量之含有比例,係自總量減去上述(甲基)丙烯酸酯(A)及上述光聚合起始劑(B)之合計量而獲得之剩餘部分。具體而言,其他成分之總量相對於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之總量,較佳為0~74重量%,更佳為5~70重量%左右。
進而,亦可將可成為光聚合起始助劑之胺類等與上述光聚合起始劑進行併用。作為可使用之胺類等,可列舉:苯甲酸2-二甲胺基乙酯、二甲胺基苯乙酮、對二甲胺基苯甲酸乙酯或對二甲胺基苯甲酸異戊酯等。於使用該胺類等光聚合起始助劑之情形時,其於本發明之接著用樹脂組成物中之含量通常較佳為0.005~5重量%,更佳為0.01~3重量%。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物可視需要,含有具有通式(1)所示之結構之化合物。
(式中,n表示0~40之整數,m表示10~50之整數。R1及R2可相同亦可不同。R1及R2為碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基、碳數1~18之炔基或碳數5~18之芳基)。
具有通式(1)所示之結構之化合物例如可由日油股份有限公司製造之Unisafe(商品名)PKA-5017(聚乙二醇-聚丙二醇烯丙基丁基醚)等獲取。
使用具有通式(1)所示之結構之化合物時,該化合物於紫外線硬化型樹脂組成物中之重量比例通常較佳為10~80重量%,更佳為10~70重量%。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,可視需要使用柔軟化成分。作為可使用之柔軟化成分之具體例,除上述(甲基)丙烯酸酯及具有通式(1)所示之結構之化合物外,亦可列舉:聚合物或低聚物、鄰苯二甲酸酯類、磷酸酯類、二醇酯類、檸檬酸酯類、脂肪族二元酸酯類、脂肪酸酯類、環氧系塑化劑、蓖麻油類、萜烯系氫化樹脂等。作為上述低聚物、聚合物之例,可列示具有聚異戊二烯骨架、聚丁二烯骨架、聚丁烯骨架或二甲苯骨架之低聚物或聚合物及其酯化物,較佳為視情形,使用具有聚丁二烯骨架之聚合物或低聚物及其酯化物。作為具有聚丁二烯骨架之聚合物或低聚物及其酯化物之具體例,可列舉:丁二烯均聚物、環氧改質聚丁二烯、丁二烯-苯乙烯無規共聚物、馬來酸改質聚丁二烯及末端經羥基改質之液狀聚丁二烯或液狀氫化聚丁二烯。
該柔軟化成分於紫外線硬化型樹脂組成物中之重量比例通常較佳為10~80重量%,更佳為10~70重量%。
於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物中,亦可視需要添加抗氧化劑、有機溶劑、矽烷偶合劑、聚合抑制劑、調平劑、抗靜電劑、表面 潤滑劑、螢光增白劑、光穩定劑(例如受阻胺化合物等)、填充劑等添加劑。
作為抗氧化劑之具體例,例如可列舉:BHT、2,4-雙-(正 辛硫基)-6-(4-羥基-3,5-二-三級丁基苯胺基)-1,3,5-三、新戊四醇基(pentaerythrityl)-四[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2-硫基-二伸乙基雙[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙[3-(3-三級丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇-雙[3-(3-三級丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、十八烷基-3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、N,N-六亞甲基雙(3,5-二-三級丁基-4-羥基-苯丙醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)苯、三-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)-三聚異氰酸酯、辛基化二苯胺、2,4-雙[(辛硫基)甲基-鄰甲酚、異辛基-3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、二丁基羥基甲苯等。
作為有機溶劑之具體例,例如可列舉:甲醇、乙醇、異丙醇等醇類、二甲基碸、二甲基亞碸、四氫呋喃、二烷、甲苯、二甲苯等。
作為矽烷偶合劑之具體例,例如可列舉:3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、N-(2-(乙烯基苄基胺基)乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷鹽酸鹽、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷等矽烷系偶合劑;異丙基(N-乙基胺基乙基胺基)鈦酸酯、三異硬脂醯基鈦酸異丙酯、二(二辛基焦磷酸)羥基乙酸酯鈦、四異丙基 二(二辛基亞磷醯氧基)鈦酸酯、新烷氧基三(對N-(β-胺基乙基)胺基苯基)鈦酸酯等鈦系偶合劑;乙醯丙酮酸鋯、甲基丙烯酸鋯、丙酸鋯、新烷氧基鋯酸酯、新烷氧基三新癸醯基鋯酸酯、新烷氧基三(十二碳醯基)苯磺醯基鋯酸酯、新烷氧基三(伸乙基二胺基乙基)鋯酸酯、新烷氧基三(間胺基苯基)鋯酸酯、碳酸鋯銨、乙醯丙酮酸鋁、甲基丙烯酸鋁、丙酸鋁等鋯或鋁系偶合劑等。
作為聚合抑制劑之具體例,可列舉:對甲氧基苯酚、甲基對 苯二酚等。
作為光穩定劑之具體例,例如可列舉:1,2,2,6,6-五甲基-4 -哌啶醇、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶醇、1,2,2,6,6-五甲基-4-(甲基)丙烯酸哌啶酯(ADEKA(股)製造,LA-82)、四(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四羧酸酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四羧酸酯、1,2,3,4-丁烷四羧酸與1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇及3,9-雙(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷之混合酯化物、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、碳酸雙(1-十一烷氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)酯、甲基丙烯酸2,2,6,6,-四甲基-4-哌啶基酯、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、癸二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯、4-苯甲醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1-[2-[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]乙基]-4-[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]-2,2,6,6-四甲基哌啶、1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基-甲基丙烯酸酯、丙二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[[3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基]甲基]丁酯、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1(辛氧基)-4-哌啶基)酯,1,1-二甲基乙基過氧化氫與辛烷之反應產物、N,N',N",N'''-四-(4,6-雙-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)-三-2-基)-4,7-二氮癸烷 -1,10-二胺、二丁胺-1,3,5-三-N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1,6-己二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁胺之縮聚物、聚[[6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三-2,4-二基][(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺]六亞甲基[(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺]]、琥珀酸二甲酯與4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物、2,2,4,4-四甲基-20-(β-月桂基氧基羰基)乙基-7--3,20-二氮二螺[5,1,11,2]二十一烷-21-酮、β-丙胺酸,N,-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-十二烷基酯/十四烷基酯、N-乙醯基-3-十二烷基-1-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)吡咯啶-2,5-二酮、2,2,4,4-四甲基-7--3,20-二氮二螺[5,1,11,2]二十一烷-21-酮、2,2,4,4-四甲基-21--3,20-二氮二環-[5,1,11,2]-二十一烷-20-丙酸十二烷基酯/十四烷基酯、丙二酸-[(4-甲氧基苯基)-亞甲基]-雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶醇之高級脂肪酸酯、1,3-苯二羧醯亞胺,N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶)等受阻胺系、八苯酮等二苯甲酮系化合物、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚、2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑、2-(3-三級丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2-羥基-3,5-二-三級戊基苯基)苯并三唑、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-三級丁基-4-羥基苯基)丙酸酯與聚乙二醇之反應產物、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚等苯并三唑系化合物、2,4-二-三級丁基苯基-3,5-二-三級丁基-4-羥基苯甲酸酯等苯甲酸酯系、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧基]苯酚等三系化合物等,尤佳為受阻胺系化合物。
作為填充劑之具體例,例如可列舉:結晶二氧化矽、熔融二 氧化矽、氧化鋁、鋯英石、矽酸鈣、碳酸鈣、碳化矽、氮化矽、氮化硼、氧化鋯、橄欖石、塊滑石、尖晶石、氧化鈦、滑石等粉體或使該等球形化而成之顆粒等。
各種添加劑存在於組成物中之情形時,各種添加劑於光硬化 型透明接著劑組成物中之重量比例較佳為0.01~3重量%,更佳為0.01~1重量%,進而較佳為0.02~0.5重量%。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物可將上述各成分於常溫 ~80℃進行混合溶解而獲得,亦可視需要,藉由過濾等操作而將夾雜物去除。本發明之接著用樹脂組成物較佳為考慮塗布性,以25℃時之黏度成為300~15000mPa‧s之範圍之方式適當調節成分之摻合比。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物係用於如下方法,即藉由 上述[步驟1]~[步驟3],將作為至少1個具有遮光部之光學基材之至少2個光學基材貼合,而製造光學構件。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物之硬化收縮率較佳為3.0%以下,尤佳為2.0%以下。藉此,於紫外線硬化型樹脂組成物硬化時,可減少樹脂硬化物所蓄積之內部應力,而可有效地防止於基材與由紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物所構成之層的界面產生變形。
又,於玻璃等基材較薄之情形時,於硬化收縮率較大之情形時,硬化時之翹曲變大,因此對顯示性能造成較大之不良影響,故就該觀點而言,亦硬化收縮率較少者較佳。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物於400nm~800nm之透射率較佳為90%以上。於透射率未達90%之情形時,有光難以透射,而於用於顯示裝置之情形時視認性降低之虞。
又,若硬化物於400~450nm之透射率高,則可期待視認性進一步提高,因此於400~450nm之透射率較佳為90%以上。
關於本發明之製造方法所使用之含有(甲基)丙烯酸酯(A) 及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物,於下述記載若干較佳之態樣。各成分之含量之「重量%」係表示相對於本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之總量的含有比例。
(A1)
如上述(5)之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸酯(A)為選自由胺酯(甲基)丙烯酸酯、具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸酯單體所組成之群中之至少1種(甲基)丙烯酸酯。
(A2)
如上述(5)或上述(A1)之紫外線硬化型樹脂組成物,其含有
(i)胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯中之至少任一者、及(ii)(甲基)丙烯酸酯單體
此兩者作為上述(甲基)丙烯酸酯(A)。
(A3)
如上述(5)或上述(A1)之紫外線硬化型樹脂組成物,其含有
(i)藉由聚C2-C4伸烷基二醇、二異氰酸酯及(甲基)丙烯酸羥基C2-C4烷基酯之反應而獲得之胺酯(甲基)丙烯酸酯、及(ii)(甲基)丙烯酸酯單體
此兩者作為上述(甲基)丙烯酸酯(A)。
(A4)
如上述(A1)至(A3)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,胺酯(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量為7000~25000。
(A5)
一種紫外線硬化型樹脂組成物,其係含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)者,且含有醯基氧化膦化合物作為光聚合起始劑(B),或者如上述(A1)至(A4)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其含有醯基氧化膦化合物作為光聚合起始劑(B)。
(A6)
如上述(A5)之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,醯基氧化膦化合物為選自由2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基乙氧基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦及雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦所組成之群中之至少1種化合物。
(A7)
一種紫外線硬化型樹脂組成物、或如上述(A1)至(A6)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物除含有(A)成分及(B)成分以外,進而含有其他成分。
(A8)
如上述(A7)之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,(甲基)丙烯酸酯(A)為25~90重量%,光聚合起始劑(B)為0.2~5重量%,其他成分為剩餘部分。
(A9)
如上述(A8)之紫外線硬化型樹脂組成物,其含有(i)胺酯(甲基)丙烯酸酯或聚異戊二烯(甲基)丙烯酸酯中之至少一者20~80重量%及(ii)(甲基)丙烯酸酯單體5~70重量%作為(甲基)丙烯酸酯(A),且兩者之合計為40~90重量%。
(A10)
如上述(A7)至(A9)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其含有通式(1)所表示之化合物10~80重量%作為其他成分。
(A11)
一種含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物、或如上述(A1)~(A10)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物之硬化收縮率為3%以下。
(A12)
一種含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物、或如上述(A1)至(A11)中之任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,關於200μm之厚度之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物之片材,於400~450nm之波長區域中之平均透射率至少為90%,且於400~800nm之波長區域中之平均透射率至少為90%。
本發明之紫外線硬化型樹脂組成物可較佳地用作用以藉由上述[步驟1]~[步驟3],將複數個光學基材貼合而製造光學構件之接著劑。
作為於本發明之光學構件之製造方法中使用之光學基材,可列舉:透明板、片材、觸控面板、及顯示體單元等。
本發明中,所謂「光學基材」,意指表面不具有遮光部之光學基材、與表面具有遮光部之光學基材兩者。於本發明之光學構件之製造方法中,複數個所使用之光學基材中至少一個為具有遮光部之光學基材。
上述具有遮光部之光學基材中之遮光部之位置並無特別限定。作為較佳之態樣,可列舉如下情形,即於該光學基材之周邊部形成寬度0.05~20mm,較佳為具有0.05~10mm左右,更佳為具有0.1~6mm左右之寬度之帶狀的遮光部。光學基材上之遮光部可藉由膠帶之貼附或塗料之塗布或印刷等而形成。
作為本發明所使用之光學基材之材質,可使用各種材料。具 體而言,可列舉:PET、PC、PMMA、PC與PMMA之複合體、玻璃、COC、COP、塑膠(丙烯酸樹脂等)等樹脂。作為本發明所使用之光學基材,例如透明板或片材,可使用將偏光板等膜或片材複數積層而成之片材或透明板、無積層之片材或透明板、及由無機玻璃製作而成之透明板(無機玻璃板及其加工品,例如透鏡、稜鏡、ITO玻璃)等。
又,本發明所使用之光學基材除包括上述偏光板等外,亦包括觸控面板(觸控面板輸入感測器)或下述之顯示單元等由複數之功能板或片材所構成之積層體(以下,亦稱為「功能性積層體」)。
作為可用作本發明所使用之光學基材之片材,可列舉:圖符 片材(icon sheet)、裝飾片材、保護片材。作為可用於本發明之光學構件之製造方法之板(透明板),可列舉裝飾板、保護板。作為該等片材或板之材質,可應用作為透明板之材質進行列舉者。
作為可用作本發明所使用之光學基材之觸控面板表面之材質,可列舉:玻璃、PET、PC、PMMA、PC與PMMA之複合體、COC、COP。
透明板或片材等板狀或片狀之光學基材之厚度並無特別限制,通常為5μm左右至5cm左右,較佳為10μm左右至10mm左右,更佳為50μm~3mm左右之厚度。
作為利用本發明之製造方法獲得之較佳光學構件,可列舉: 利用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物將具有遮光部之板狀或片狀之透明光學基材、與上述功能性積層體貼合而成之光學構件。
又,於本發明之製造方法中,使用液晶顯示裝置等顯示單元作為一光學基材,且使用光學功能材料作為其他光學基材,藉此可製造附光學功能材料之顯示體單元(以下,亦稱為顯示面板)。作為上述之顯示單元,例如可列舉:於玻璃上貼附有偏光之LCD、EL顯示器、EL照明、電子紙或電漿顯示器等顯示裝置。又,作為光學功能材料,可列舉:丙烯酸板、PC板、 PET板、PEN板等透明塑膠板、強化玻璃、觸控面板輸入感測器。
於使用光學基材作為貼合之接著材之情形時,為了提高視認 性,於硬化物之折射率為1.45~1.55時,顯示影像之視認性進一步提高,故而較佳。
只要為該折射率之範圍內,則可減少與用作光學基材之基材之折射率之差,而可抑制光之漫反射從而減少光損耗。
作為利用本發明之製造方法獲得之光學構件之較佳態樣,可列舉:下述(i)~(vii)。
(i)一種光學構件,其係使用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物,將具有遮光部之光學基材與上述功能性積層體貼合而成。
(ii)如上述(i)之光學構件,其中,具有遮光部之光學基材為選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板、及形成有遮光物與透明電極之玻璃基板所組成之群中之光學基材,功能性積層體為顯示體單元或觸控面板。
(iii)如上述(ii)之光學構件,其中,顯示體單元為液晶顯示體單元、電漿顯示體單元及有機EL顯示單元中之任一種。
(iv)一種觸控面板(或觸控面板輸入感測器),其係使用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物,將具有遮光部之板狀或片狀之光學基材貼合於觸控面板之觸控面側之表面而成。
(v)一種顯示面板,其係使用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物之硬化物,將具有遮光部之板狀或片狀之光學基材貼合於顯示體單元之顯示畫面上而成。
(vi)如上述(v)之顯示面板,其中,具有遮光部之板狀或片狀之光學基材為用以保護顯示體單元之顯示畫面之保護基材或觸控面板。
(vii)如上述(i)至(vi)中任一項之光學構件、觸控面板或顯示面板, 其中,紫外線硬化型樹脂組成物為上述(A1)至(A12)中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物。
使用本發明之紫外線硬化型樹脂組成物,利用上述步驟1~ 3所記載之方法,將選自上述各光學基材之複數個光學基材進行貼合,藉此獲得本發明之光學構件。於上述步驟1中,紫外線硬化型樹脂組成物可僅塗布於貼合之2個光學基材中之隔著硬化物層而對向之面中之一面,亦可塗布於兩面。
例如,於上述功能性積層體為觸控面板或顯示體單元之上述(ii)之光學構件的情形時,於步驟1中,可將該樹脂組成物僅塗布於具有遮光部之保護基材之任一面、較佳為設有遮光部之面、及觸控面板之觸控面或顯示體單元之顯示面中之任一面,亦可塗布於上述兩面。
又,於將用以保護顯示體單元之顯示畫面之保護基材或觸控面板與顯示體單元貼合而成之上述(vi)之光學構件的情形時,於步驟1中,可將該樹脂組成物僅塗布於保護基材之設置有遮光部之面或觸控面板之與觸控面相反之基材面、及顯示體單元之顯示面中之任一面,亦可塗布於上述兩面。
藉由本發明之製造方法而獲得之包含顯示體單元與具有遮光部之光學基材的光學構件例如可裝入電視、小型遊戲機、行動電話、電腦等電子機器。
實施例
以下,藉由實施例對本發明進一步具體地進行說明,但本發明並不受該等實施例任何限制。
紫外線硬化型樹脂組成物之製備
將胺酯丙烯酸酯(氫化聚丁二烯二醇(分子量3000)、異佛爾酮二異氰酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯之3成分(莫耳比1:1.2:2)反應物)16重量份、Gl-2000(兩末端羥基氫化聚丁二烯,日本曹達(股)公司製造)18 重量份、日石聚丁烯LV-100(液狀聚丁烯,JX Nippon Oil & Energy(股)公司製造)13份、Clearon(商品名)M105(芳香族改質氫化萜烯樹脂,Yasuhara Chemical(股)公司製造)16份、LA(丙烯酸月桂酯,大阪有機化學工業(股)公司製造)11重量份、S-1800A(丙烯酸異硬脂酯,新中村化學(股)公司製造)25份、SPEEDCURE(商品名)TPO(2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦,LAMBSON公司製造)0.5重量份、Irgacure(商品名)184D(BASF公司製造)0.5份加熱混合而進行製備(紫外線硬化型樹脂組成物A)。25℃時之黏度為4000mPa‧s。
使用獲得之本發明之紫外線硬化型樹脂組成物而進行以下 之評價。
實施例1
如圖4(a)所示,於寬度3cm、長度15cm之兩面實施有易接著處理之為PET膜之透明基材10上,將紫外線硬化型樹脂組成物A以寬度成為2cm、長度成為15cm、膜厚成為250μm之方式進行塗布。其後,使用無電極紫外線燈(Heraeus Noblelight Fusion UV公司製造,D bulb),隔著遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片9,自大氣側對獲得之塗布層5照射累計光量100mJ/cm2之紫外線8,而形成具有存在於塗布層之下部側(透明基板側)之硬化部分與存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分的硬化物層6。再者,此時照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為3。
進而,如圖4(b)所示,以PET膜上之存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分、與10英吋之液晶顯示單元之一面對向之形態,如圖4(b)所示般將透明基材10與液晶顯示單元1貼合。最後,如圖4(c)所示般,利用超高壓水銀燈(TOSCURE(商品名)752,Harrison Toshiba lighting 公司製造),自PET膜側(透明基材10側)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線8,藉此使樹脂硬化物層硬化,而獲得PET膜與液晶顯示單元之接合體。
實施例2
將遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片變更為厚度0.5mm之玻璃板,除此以外,以與實施例1相同之方式於PET膜上形成具有存在於塗布層之下部側(透明基板側)之硬化部分與存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分的硬化物層6。再者,此時照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為21。
進而,如圖4(b)所示,以PET膜上之存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分、與10英吋之液晶顯示單元之一面對向之形態,如圖4(b)所示般將透明基材10與液晶顯示單元1貼合。最後,如圖4(c)所示般,利用超高壓水銀燈(TOSCURE752,Harrison Toshiba lighting公司製造),自PET膜側(透明基板3側)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線8,藉此使樹脂硬化物層硬化,而獲得PET膜與液晶顯示單元之接合體。
實施例3
如圖5(a)所示,於10英吋之液晶顯示單元1之顯示面、及寬度3cm、長度15cm之兩面實施有易接著處理之PET膜(透明基材10)的表面上,將所製備之紫外線硬化型樹脂組成物A以於各基材上寬度成為2cm、長度成為15cm、膜厚成為125μm之方式進行塗布。其後,使用無電極紫外線燈(Heraeus Noblelight Fusion UV公司製造,D bulb),隔著遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片,自大氣側對獲得之各塗布層5照射累計光量100mJ/cm2之紫外線8,而形成具有存在於塗布層之下部側(顯示體單元側或透明基板側)之硬化部分與存在於大氣側(塗布層之上部側)之未硬 化部分的硬化物層6。再者,此時照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為3。
進而,如圖5(b)所示,以未硬化部分對向之形態將液晶顯示單元與PET膜10(透明基材)貼合。最後,如圖5(c)所示般,利用超高壓水銀燈(TOSCURE752,Harrison Toshiba lighting公司製造)自PET膜10側(透明基材側)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線,藉此使樹脂硬化物層硬化,而獲得PET膜與液晶顯示單元之接合體。
比較例1
如圖6(a)所示,不使用遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片,除此以外,以與實施例1相同之方式於PET膜上形成具有存在於塗布層之下部側(透明基板側)之硬化部分與存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分的硬化物層6。再者,此時照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為45。
進而,如圖6(b)所示,以PET膜上之存在於塗布層之上部側(大氣側)之未硬化部分、與10英吋之液晶顯示單元之一面對向之形態,如圖6(b)所示般將透明基材10與液晶顯示單元1貼合。最後,如圖6(c)所示般,利用超高壓水銀燈(TOSCURE752,Harrison Toshiba lighting公司製造)自PET膜側(透明基材10側)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線8,藉此使樹脂硬化物層硬化,而獲得PET膜與液晶顯示單元之接合體。
比較例2
如圖7(a)所示,不使用遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片,除此以外,以與實施例3相同之方式於液晶顯示單元1之顯示面、及PET膜10(透明基材)之表面上形成具有硬化部分與存在於大氣側之未硬化部 分之硬化物層。再者,此時照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為45。
進而,如圖7(b)所示,以硬化部分對向之形態貼合液晶顯示單元與PET膜10(透明基材)。最後,如圖7(c)所示般,利用超高壓水銀燈(TOSCURE752,Harrison Toshiba lighting公司製造)自PET膜10側(透明基材側)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線8,藉此使樹脂硬化物層硬化,而獲得PET膜與液晶顯示單元之接合體。
(接著強度)
針對於實施例1~3及比較例1~2中獲得之PET膜與液晶顯示單元之接合體,利用依據JISZ0237之方法測定密接性。將PET膜與液晶顯示單元之接合體,即以PET膜成為上表面之方式將液晶顯示單元水平固定,對自PET膜之端部沿垂直方向(90°上方)進行剝離時所必需之力進行測定。將結果示於下述表1。
根據上述結果,藉由本發明之製造方法而製作之光學構件,係於貼合基材前對紫外線硬化型樹脂組成物照射紫外線,進行貼合後再次照射紫外線進行硬化而製造者,具有高接著強度。
又,使用獲得之本發明之紫外線硬化型樹脂組成物A,進行以下評價。
(硬化性)
準備厚度1mm之載玻片玻璃2片,於其中1片上將獲得之紫外線硬化 型樹脂組成物以膜厚成為200μm之方式進行塗布。於該塗布面上貼合另一片載玻片玻璃。隔著玻璃,利用高壓水銀燈(80W/cm,無臭氧)向該樹脂組成物照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線。確認硬化物之硬化狀態,結果完全硬化。
(硬化收縮率)
準備塗布有氟系脫模劑之厚度1mm之載玻片玻璃2片,於其中1片之脫模劑塗布面將獲得之紫外線硬化型樹脂組成物以膜厚成為200μm之方式進行塗布。其後,將2片載玻片玻璃以各自之脫模劑塗布面相互對向之方式進行貼合。隔著玻璃,利用高壓水銀燈(80W/cm,無臭氧)向該樹脂組成物照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線,而使該樹脂組成物硬化。其後,將2片載玻片玻璃剝離,製作膜比重測定用之硬化物。依據JIS K7112 B法,對硬化物之比重(DS)進行測定。又,對25℃時樹脂組成物之液比重(DL)進行測定。根據DS及DL之測定結果,自下式算出硬化收縮率,結果未達2.5%。
硬化收縮率(%)=(DS-DL)÷DS×100
(耐熱、耐濕接著性)
準備厚度0.8mm之載玻片玻璃與厚度0.8mm之丙烯酸板,於一者上將獲得之紫外線硬化型樹脂組成物以膜厚成為200μm之方式進行塗布後,於其塗布面上貼合另一者。隔著玻璃,利用高壓水銀燈(80W/cm,無臭氧)向該樹脂組成物照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線,使該樹脂組成物硬化,而製作接著性評價用樣品。將其放置於85℃、85%RH環境下250小時。針對該評價用樣品,利用目視對載玻片玻璃或丙烯酸板之自樹脂硬化物之剝離進行確認,未發現剝離。
(柔軟性)
使獲得之紫外線硬化型樹脂組成物充分硬化,藉由依據JIS K7215之方 法,使用Durometer硬度計(類型E),對硬度計E硬度進行測定,而評價柔軟性。更具體而言,使紫外線硬化型樹脂組成物以膜厚成為1cm之方式流入圓柱狀之模具中,照射紫外線而使該樹脂組成物充分硬化。利用Durometer硬度計(類型E)對獲得之硬化物之硬度進行測定。其結果,測定值未達10,柔軟性優異。
(透明性)
準備塗布有氟系脫模劑之厚度1mm之載玻片玻璃2片,於其中1片之脫模劑塗布面將獲得之紫外線硬化型樹脂組成物以硬化後之膜厚成為200μm之方式進行塗布。其後,將2片載玻片玻璃以各自之脫模劑塗布面相互對向之方式進行貼合。隔著玻璃,利用高壓水銀燈(80W/cm,無臭氧)照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線,而使該樹脂組成物硬化。其後,將2片載玻片玻璃剝離,製作透明性測定用之硬化物。關於獲得之硬化物之透明性,使用分光光度計(U-3310,Hitachi High-Technologies(股)),對400~800nm及400~450nm之波長區域中之透射率進行測定。其結果,400~800nm之透射率為90%以上,且400~450nm之透射率為90%以上。
(遮光部下之樹脂之硬化性)
於面積為3.5英吋之液晶顯示單元之顯示面、及於外周部具有遮光部(寬度5mm)之透明基板上之形成有遮光部的面上,將紫外線硬化型樹脂組成物A以於各基板上膜厚成為125μm之方式進行塗布。繼而,使用無電極紫外線燈(Heraeus Noblelight Fusion UV公司製造,D bulb),隔著遮斷320nm以下之波長之紫外線截止濾光片,自大氣側對獲得之塗布層照射累計光量100mJ/cm2之紫外線,而形成具有硬化部分與存在於大氣側之未硬化部分之硬化物層。再者,照射至紫外線硬化型樹脂組成物A之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200~320nm之範圍之最大照度的比率為3。
其後,以未硬化部分對向之形態將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板3貼合。最後,利用超高壓水銀燈(TOSCURE752,Harrison Toshiba lighting公司製造),自具有遮光部之玻璃基板側照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線8,藉此使樹脂硬化物層硬化,而製作光學構件。自獲得之光學構件取下透明基板,利用庚烷將遮光部分之樹脂硬化物層沖洗後,確認硬化狀態。沒有未硬化之樹脂組成物被去除之痕跡,遮光部之樹脂充分硬化。
已詳細且參照特定之態樣對本發明進行說明,但對本行業者而言,自可不脫離本發明之精神及範圍而進行各種變更或修正。
再者,本申請案係基於2013年9月9日提出申請之日本專利申請(2013-186259),且其整體藉由引用而被援用。又,此處所引用之全部參照係作為整體被引入。
產業上之可利用性
本發明之光學構件之製造方法係對光學基材之損害少,且生產性良好,可獲得硬化性及密接性良好之顯示體單元等光學構件者。藉由本發明而獲得之光學構件可較佳地裝入液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等顯示裝置。
1‧‧‧液晶顯示單元
2‧‧‧具有遮光部之透明基板
3‧‧‧透明基板
4‧‧‧遮光部
5‧‧‧紫外線硬化型樹脂組成物層
6‧‧‧具有未硬化部分之硬化物層
7‧‧‧樹脂硬化物層
8‧‧‧紫外線

Claims (9)

  1. 一種光學構件之製造方法,其係貼合有至少2個光學基材之光學構件之製造方法,具有下述步驟1~3,下述步驟1中照射至塗布層之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200nm~320nm之範圍之最大照度的比率(照度比)為30以下,[步驟1]於至少1個光學基材,塗布含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型樹脂組成物而形成塗布層,對該塗布層照射紫外線,藉此獲得具有下述硬化物層之光學基材,該硬化物層具有存在於該塗布層之光學基材側之硬化部分、與存在於與光學基材側相反之側之未硬化部分;[步驟2]對於步驟1中獲得之光學基材之未硬化部分,貼合其他光學基材、或步驟1中獲得之其他光學基材之未硬化部分;[步驟3]通過光學基材對步驟2中貼合之光學基材之具有未硬化部分的硬化物層照射紫外線,而使該硬化物層硬化。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學構件之製造方法,其中,步驟1中使用之光學基材中之至少1個具有遮光部。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學構件之製造方法,其中,步驟1中照射至塗布層之紫外線,於將其於320nm~450nm之範圍之最大照度設為100時,於200nm~320nm之範圍之最大照度(照度比)為10以下。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學構件之製造方法,其中,步驟1中,紫外線之照射量為5~2000mJ/cm2
  5. 一種紫外線硬化型樹脂組成物,用於申請專利範圍第1至4項中任一項之光學構件之製造方法,含有(甲基)丙烯酸酯(A)及光聚合起始 劑(B)。
  6. 如申請專利範圍第5項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,(甲基)丙烯酸酯(A)為選自由胺酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)、具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸酯單體組成之群中之1種以上的(甲基)丙烯酸酯。
  7. 如申請專利範圍第5或6項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,於乙腈或甲醇中測得之光聚合起始劑(B)之莫耳吸光係數,於302nm或313nm為300ml/(g‧cm)以上,於365nm為100ml/(g‧cm)以下。
  8. 如申請專利範圍第5至7項中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,光學基材由選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板、形成有遮光部與透明電極之玻璃基板、於具有遮光部之透明基板貼合有形成有透明電極之玻璃基板或膜的基板、液晶顯示單元、電漿顯示單元及有機EL顯示單元組成之群中的1種以上構成。
  9. 如申請專利範圍第5至8項中任一項之紫外線硬化型樹脂組成物,其中,光學構件為觸控面板。
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