TW201429896A - 用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具 - Google Patents

用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具 Download PDF

Info

Publication number
TW201429896A
TW201429896A TW103102002A TW103102002A TW201429896A TW 201429896 A TW201429896 A TW 201429896A TW 103102002 A TW103102002 A TW 103102002A TW 103102002 A TW103102002 A TW 103102002A TW 201429896 A TW201429896 A TW 201429896A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
mole
glass
substrate
mold
nickel
Prior art date
Application number
TW103102002A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI619683B (zh
Inventor
Kristen Marie Horn
David Myron Lineman
Kevin Thomas Morris
Wenchao Wang
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of TW201429896A publication Critical patent/TW201429896A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI619683B publication Critical patent/TWI619683B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/0013—Re-forming shaped glass by pressing
    • C03B23/002—Re-forming the rim portions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/025—Re-forming glass sheets by bending by gravity
    • C03B23/0252—Re-forming glass sheets by bending by gravity by gravity only, e.g. sagging
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/03—Re-forming glass sheets by bending by press-bending between shaping moulds
    • C03B23/0302—Re-forming glass sheets by bending by press-bending between shaping moulds between opposing full-face shaping moulds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/035—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending
    • C03B23/0352—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet
    • C03B23/0355—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet by blowing without suction directly on the glass sheet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/035—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending
    • C03B23/0352—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet
    • C03B23/0357—Re-forming glass sheets by bending using a gas cushion or by changing gas pressure, e.g. by applying vacuum or blowing for supporting the glass while bending by suction or blowing out for providing the deformation force to bend the glass sheet by suction without blowing, e.g. with vacuum or by venturi effect
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C03B40/02—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/10—Oxidising
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

本揭示案係關於用於形成三維玻璃基板之高純度鎳模具以及用於製造三維玻璃基板之方法。該模具之組成物最小化該等經形成玻璃基板之缺陷，從而提供用於電子設備應用之光學品質成形玻璃製品。

Description

用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具 【相關申請案之交叉引用】
本申請案根據專利法主張2013年1月21日提出申請之美國臨時申請案第61/754,798號之優先權權益，且本申請案有關於同時在2014年1月17日提出申請且亦根據專利法主張2013年1月21提出申請之美國臨時申請案第61/754,798號之優先權的待決美國申請案「Molds for Shaping Glass and Methods for Making the Same」，兩個申請案之內容為本案之依據並且全部以引用之方式併入本文。
本說明書係關於用於形成三維玻璃基板之模具及用於形成三維玻璃基板之方法。
在現代電子裝置中對具有極高位準表面品質之薄三維玻璃基板之當前需求引起需要找到在商業上能夠提供無缺陷成形玻璃基板之新材料及製程。成形玻璃的形成大體上係指高溫度製程，該等製程包含將待形成之玻璃加熱至玻璃可受操縱之溫度以及隨後使玻璃符合模具以獲得設計之形狀。 成形玻璃基板之傳統方法包括電視顯像管形成(其中軟化玻璃膏球壓制於凸模與凹模之間)及瓶形成(其中玻璃經吹制在一對中空模具中)。
在成形操作中，模具材料選擇通常為成功之關鍵。為了最佳化形成的玻璃製品之形狀及表面品質，模具材料必須：1)在製程溫度下具有優良抗氧化性及抗腐蝕性；2)與玻璃具有最少的反應(無黏附)；及3)在製程溫度下足夠堅固以抵抗由於形成力的變形及扭曲。
實際上，可能難以選擇滿足所有上述要求的一種材料。一種解決方案為在模具表面上塗覆塗層以組合各種材料的優點，從而使形成成功。現今，經塗佈的模具最常用於玻璃形成工業中。未經塗佈的模具(或裸模具)很少使用且限於低端玻璃產品，諸如瓶子及某種不要求高表面品質的玻璃器皿。若使用裸模具，則一般施用某一位準之潤滑以有助於形成製程及保持表面品質。該等潤滑劑難以一致塗覆且需要二次清潔步驟以移除。對於高端產品，尤其是光學品質產品，諸如壓制形成的相機鏡頭，吾人認為塗層是必不可少的。
儘管塗層有助於面對玻璃形成製程中之挑戰，但塗層產生新的問題。舉例而言，塗層可增加大量成本及增加管理製程的新變量。更重要的是，塗層常常在操作中退化且喪失功能，從而限制模具之使用壽命及迫使頻繁的重新塗佈。因此，在高端、高品質玻璃基板領域，存在對獲得在商業上能夠提供無缺陷成形玻璃基板的較佳模具材料的未滿足需求。
第一態樣包含用於成形玻璃之基板，該基板包含：具有成形表面之模具，其中該模具包含大於93%之鎳；在成形表面上之氧化鎳層，其中該氧化鎳層具有約200nm至約20μm之厚度。在替代方案中，氧化鎳層可具有約500nm至約20μm或約2μm至約8μm之平均厚度。在一些實施例中，模具包含至少約97%之鎳，或替代地包含約93%至約99.99%之鎳。在一些態樣中，模具之成形表面在1cm之評估長度內可具有約1nm至約3μm或替代地小於3μm、1μm或500nm之均方根表面粗糙度(RRMS)。在其他所實施態樣中，模具之成形表面在1cm之評估長度內具有小於100nm、40nm或20nm之波紋高度(Wa)。
另外，本文中所實施基板可進一步包含小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者、小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti、小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者，或小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti。
另一態樣包含一種成形玻璃板之方法，該方法包含：將玻璃板置放在基板上，該基板包含：具有成形表面之模具，其中該模具包含大於93%之鎳；及成形表面上之氧化鎳層，其中該氧化鎳層具有約200nm至約20μm之厚度；將玻璃板及/或基板加熱到足以允許成形玻璃板之溫度；及施加負壓、正壓、負力或正力至玻璃板以產生成形玻璃板。在一 些實施例中，足以允許成形玻璃板之溫度對應於玻璃板具有107泊至1011泊之黏度之溫度或介於玻璃之退火點及軟化點之間的溫度。在一些實施例中，玻璃板之溫度為約20℃或大於向玻璃板施加負壓、正壓、負力或正力以產生成形玻璃板時基板之溫度。在一些實施例中，玻璃板之溫度為約50℃至約250℃，該溫度大於向玻璃板施加負壓、正壓、負力或正力以產生成形玻璃板時基板之溫度。
在一些所實施方法中，玻璃板包含硼矽酸鹽玻璃、鹼石灰玻璃或鋁矽酸鹽玻璃。在該等實施例中之一些實施例中，玻璃為鋁矽酸鹽玻璃且包含約50莫耳%至約75莫耳%之SiO2、約5莫耳%至約30莫耳%之Al2O3及約10莫耳%至約25莫耳%之Na2O。在其他實施例中，鋁矽酸鹽玻璃進一步包含約7莫耳%至約26莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約9莫耳%之B2O3、約11莫耳%至約25莫耳%之Na2O、0莫耳%至約2.5莫耳%之K2O、0莫耳%至約10莫耳%之MgO及0莫耳%至約5莫耳%之CaO。在一些實施例中，鋁矽酸鹽玻璃包含約60莫耳%至約70莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約14莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約15莫耳%之B2O3、0莫耳%至約15莫耳%之Li2O、0莫耳%至約20莫耳%之Na2O、0莫耳%至約10莫耳%之K2O、0莫耳%至約8莫耳%之MgO、0莫耳%至約10莫耳%之CaO、0莫耳%至約5莫耳%之ZrO2、0莫耳%至約1莫耳%之SnO2、0莫耳%至約1莫耳%之CeO2、小於約50ppm之As2O3及小於約50ppm之Sb2O3，其中12莫耳%≦Li2O+Na2O+K2O≦20莫耳%且0莫耳%≦MgO+CaO ≦10莫耳%。
上文描述之所實施方法中使用的基板可替代地包含氧化鎳層，該氧化鎳層具有約500nm至約20μm或約2μm至約8μm之平均厚度。在一些所實施方法中，模具包含至少約97%之鎳或替代地包含約93%至約99.99%之鎳。在其他方法中，模具之成形表面在1cm之評估長度內可具有約1nm至約3μm或替代地小於3μm、1μm或500nm之均方根表面粗糙度(RRMS)。在其他所實施方法中，模具之成形表面在1cm之評估長度內具有小於100nm、40nm或20nm之波紋高度(Wa)。另外，所描述方法中使用的基板可進一步包含小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者、小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti、小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者，或小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti。
另一態樣包含藉由上文製程中之任一製程製造的成形玻璃製品。
應理解，以上一般描述與以下詳細描述兩者僅為本發明之示例，且意欲提供用於理解所請求之本發明之本質與特徵的概覽或框架。包括隨附圖式以提供對本發明的進一步理解，且隨附圖式併入本說明書中並構成本說明書之一部分。圖式圖示本發明之各種實施例且與描述一起用於解釋本發明之原理及操作。
下文為對隨附圖式中之圖式的描述。圖式不必按比例繪製，且圖式之某些特徵及某些視圖可為清晰與簡潔起見按比例誇示或示意性地圖示。
第1圖為一個實施例之圖式，在該實施例中，鎳模具在表面上包含氧化鎳層。氧化鎳可經由高溫度形成操作形成。鎳-氧化鎳模具具有優良防黏附特徵，該特徵為形成之玻璃提供優越表面品質。
第2圖圖示比較具有各種組成物之鎳模具的顯微圖。第2A圖為Ni201(與Ni200類似)之顯微圖，該顯微圖圖示表面上之夾雜物。第2B圖為Ni270(較純的Ni)之顯微圖，該顯微圖具有較少夾雜物且觀測到之夾雜物具有小得多的尺寸。
可參考以下具體描述、圖式、實例及申請專利範圍及以上各者之先前描述及以下描述更容易地理解本實施例。然而，在揭示及描述本文組成物、製品、裝置及方法之前，應理解，除非另有說明，本說明書並不限於所揭示之特定組成物、製品、裝置及方法，因為此等組成物、製品、裝置及方法無疑是可變化的。亦應理解，本文中所用術語僅用於描述特定態樣之目的且不意欲用於限制。
以下描述經提供用作可行教示。為此，相關領域之技術人員將認識到且瞭解，可對本文中描述之各種實施例作出許多改變，同時仍獲得有益結果。亦將顯而易見的是，所要益處中的一些益處可藉由選擇一些特徵而不使用其他特徵 來獲得。因此，此技術領域中之工作人員將認識到，對本實施例之許多修改及改編在某些情況下係可能的且甚至可為合意的，且該等修改及改編為本說明書之一部分。因此，以下描述經提供作為說明且不應被視為限制。
揭示材料、化合物、組成物及組分，該等材料、化合物、組合物及組分可用於、可共同用於、可準備用於所揭示方法及組成物或為所揭示方法及組成物之實施例。本文揭示該等材料及其他材料，且應理解，當揭示該等材料之組合、子集、相互作用、群組等而可能未明確揭示該等化合物之每一、各種、各別及共同組合及排列之特定參考時，本文特定設想並描述每一者。因此，若揭示一類取代物A、取代物B及取代物C且揭示一類取代物D、取代物E及取代物F以及組合實施例A-D之實例，則個別地及共同地設想每一者。因此，在此實例中，特定地設想組合A-E、組合A-F、組合B-D、組合B-E、組合B-F、組合C-D、組合C-E及組合C-F中之每一組合且應將每一組合考慮為自A、B及C之揭示內容、D、E及F之揭示內容以及示例性組合A-D之揭示內容揭示。同樣，亦特定地設想及揭示該等材料中之任何子集或組合。因此，舉例而言，特定地設想A-E、B-F及C-E之子群組，且該子群組應考慮為自A、B及C之揭示內容、D、E及F之揭示內容以及示例性組合A-D之揭示內容揭示。此概念適用於本揭示案之所有態樣，包括(但不限於)組成物之任何組分及製造所揭示組成物及使用所揭示組成物之方法中的步驟。因此，若存在各種可執行之額外步驟，則應理解，該等額外步 驟中之每一步驟可由所揭示方法之任何特定實施例或實施例之組合實施，且應理解，特定地設想每一此組合且應將每一此組合考慮為已揭示。
在此說明書中且在以下申請專利範圍中，將參考眾多術語，該等術語將界定為具有本文詳細說明之意義。
除非另有規定，術語「約」涉及範圍中之所有術語。舉例而言，約1、2或3等效於約1、約2或約3，且進一步包含約1至3、約1至2及約2至3。所揭示之用於組成物、組分、成分、添加劑及相似態樣之特定及較佳值以及該等值之範圍僅用於說明；該等值及該等範圍不排除其他所界定之值或所界定範圍內之其他值。本揭示案之組成物及方法包括具有本文所描述之值、特定值、更特定之值及較佳值中之任何值或任何組合的各者。
除非另有說明，本文所使用之不定冠詞「一」及不定冠詞相應定冠詞「該」意謂至少一個或一或更多個。
如本文所使用，術語「基板」描述可形成為三維結構的玻璃板。
本文的實施例包含基於鎳金屬的模具，該等模具可用於形成三維玻璃基板。玻璃基板可用作用於電子裝置(諸如電話、電子板、電視等)之前蓋板及/或後蓋板。在該等電子設備應用中，玻璃基板之形狀及表面品質需要處於極嚴格容限內，以不僅提供美學吸引力，還最小化玻璃表面之弱點、潛在電子設備問題並且最小化成本。
第一態樣包含具有高純度之鎳模具(諸如商業用純 鎳)以用於形成三維玻璃基板。如下文所描述，高純度及超高純度鎳金屬具有優良的抗高溫氧化性和抗高溫腐蝕性，以及與軟化玻璃接觸時的優良的防黏附性。高純度及超高純度鎳相對較軟且因此被認為對於傳統玻璃形成操作而言不夠堅固。然而，因為所實施製程不在模具上施加大力，所以允許以新穎之方式使用該等材料。
在一個實施例中，鎳模具包含高純度鎳。高純度鎳模具使得形成光學品質玻璃製品成為可能。如本文中所使用，高純度鎳模具包含具有以下組成物之模具：該組成物包含至少93%、95%、97%、98%、99%、99.5%、99.9%、99.95%或99.99%之鎳。在一些實施例中，高純度鎳模具包含具有以下組合物之模具：該組合物包含約93%至約99.99%之鎳、約95%至約99.99%之鎳、約97%至約99.99%之鎳、約98%至約99.99%之鎳、約99%至約99.99%之鎳、約99.5%至約99.99%之鎳、約99.9%至約99.99%之鎳、約95%至約99.95%之鎳、約97%至約99.95%之鎳、約98%至約99.95%之鎳、約99%至約99.95%之鎳、約99.5%至約99.95%之鎳、約99.9%至約99.95%之鎳、約99.9%至約99.95%之鎳、約95%至約99.9%之鎳、約97%至約99.9%之鎳、約98%至約99.9%之鎳、約99%至約99.9%之鎳、約99.5%至約99.9%之鎳、約95%至約99.5%之鎳、約97%至約99.5%之鎳、約98%至約99.5%之鎳、約99%至約99.5%之鎳、約95%至約99%之鎳、約97%至約99%之鎳、約98%至約99%之鎳、約95%至約98%之鎳、約97%至約98%之鎳或約95%至約97%之鎳。
在一些實施例中，模具包含超高純度鎳。如本文中所使用，超高純度鎳模具包含具有以下組成物之模具：該組成物包含至少99%、99.5%、99.9%、99.95%或99.99%之鎳。在一些實施例中，超高純度鎳模具包含具有以下組成物之模具：該組成物包含約99%至約99.99%之鎳、約99.5%至約99.99%之鎳、約99.9%至約99.99%之鎳、約99%至約99.95%之鎳、約99.5%至約99.95%之鎳、約99.9%至約99.95%之鎳、約99.9%至約99.95%之鎳、約99%至約99.9%之鎳、約99.5%至約99.9%之鎳或約99%至約99.5%之鎳。
本文中可使用之鎳組成物之實例包括但不限於商用之等級為200之純鎳(99.6%之Ni、0.04%之C)、等級為201之純鎳(99.6%之Ni、最多0.02%之C)、等級為205之純鎳(99.6%之Ni、0.04%之C、0.04%之Mg)、等級為212之純鎳(97.0%之Ni)、等級為222之純鎳(99.0%之Ni)、等級為233之純鎳(99%之Ni)及等級為270之純鎳(99.97%之Ni)(參見例如ASM SPECIALTY HANDBOOK：NICKEL,COBALT AND THEIR ALLOYS,#06178G(ASM International 2000)中之Special-Purpose Nickel Alloys，該文章全文以引用之方式併入本文中)。
在另一態樣中，鎳模具進一步包含氧化鎳塗層。形成在鎳模具上的氧化鎳塗層具有約200nm至約20μm、約500nm至15μm、約1μm至12μm、約2μm至10μm或約3μm至5μm之厚度。在一些實施例中，形成在鎳模具上的氧化鎳塗層具有100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、750nm、 1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、12μm、15μm、18μm或20μm之厚度。
鎳模具具有三維成形結構。模具之表面結構可顯示變化或缺陷。表面結構之可能分量描述於Surface Texture (Surface Roughness,Waviness,and Lay)，ASME B46-1-2003(ASME,2003)中。詳言之，實際表面可包含形狀誤差、裂紋、花紋、粗糙度、表面紋理及/或波紋。表面紋理為表面典型的某些偏差(諸如粗糙度及波紋)的複合物。粗糙度一般描述為表面紋理的「更精細不規則性」，該等不規則性通常由生產製程或材料條件之固有動作，諸如拋光或研磨。本文的實施例可具有經由使用600、700、800、1000、1200、1500、1800或2000砂磨料拋光而修整的表面。在一些實施例中，磨料為SiC或Al2O3。可藉由下式描述以評估長度L自中線量測之輪廓高度偏差的均方根平均值：
就大波紋背景而言，可篩選輪廓以減弱輪廓之波紋態樣，從而獲得可用以決定均方根粗糙度之粗糙度輪廓。在一些實施例中，如經由3D光學表面儀(例如，ZYGO® ZEMAPPERTM光學表面儀)量測，模具表面之均方根粗糙度(RRMS)在1、2、5或10cm之評估長度內為約1nm至約3μm。在一些實施例中，RRMS在1cm之評估長度內小於約0.5nm、1nm、2nm、5nm、10nm、20nm、50nm、100nm、200nm、500nm、0.75μm、1μm、2μm或3μm。
或者，波紋描述表面紋理之大間隔分量，該分量在結構上可為週期性的，亦即，在外觀上為正弦曲線的。波紋高度Wa描述經修改表面輪廓之峰穀高度，藉由篩選、平滑化等自該經修改表面輪廓移除粗糙度及部分形狀。在一些實施例中，Wa在1cm之評估長度內為約1nm至約100nm。在一些實施例中，Wa在1cm之評估長度內為小於約1nm、2nm、5nm、10nm、20nm、40nm、60nm、80nm或100nm。
本文所描述組成物使得用未經塗佈模具形成光學品質玻璃製品成為可能。在一些實施例中，高純度鎳模具及超高純度鎳模具為未經塗佈的且以未經塗佈形式用於本文所描述製程中。
在另一態樣中，使用高純度鎳模具及超高純度鎳模具形成之基板具有減小數目之缺陷。理想地，部件之形成狀態品質將與形成部件之玻璃板一樣良好。對於最經濟之製程而言，需要在無需形成狀態表面之進一步改進或拋光的情況下達成該表面品質。如本文中所使用，缺陷包括但不限於凹痕(玻璃表面中之凹陷)、表面裂縫/裂紋、氣泡、碎屑、凸紋、碎粒、可觀測之晶體、褶皺、顆粒、結石及條紋。在一些實施例中，存在小於50、40、30、20、10、5、4、3、2或1之平均值之缺陷，該等缺陷在任何表面上之25mm×25mm之區域內在1000 lux下可由肉眼觀測到。在一些實施例中，存在小於50、40、30、20、10、5、4、3、2或1之平均值之缺陷，該等缺陷在任何表面上之25mm×25mm之區域內的最大尺寸為150μm(在1000 lux下由光學顯微鏡量測)。在 一些實施例中，缺陷之最大尺寸為1、2、3、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、125或150μm。
在另一態樣中，使用高純度鎳模具及超高純度鎳模具形成之基板基本上無缺陷。「基本上無缺陷」意謂在表面中不存在直徑大於150μm(由光學顯微鏡技術量測)之壓痕(或凹痕)。在一些實施例中，存在小於50、40、30、20、10、5、4、3、2或1之平均值之壓痕(或凹痕)，該等壓痕(凹痕)在任何表面上之25mm×25mm之區域內的最大尺寸中的直徑為大於150μm(由光學顯微鏡量測)。在一些實施例中，凹痕大小的最大尺寸大於1、2、3、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、125或150μm。
在不意欲遵循特定理論的情況下，鹹信在使用高純度鎳模具及超高純度鎳模具的形成狀態玻璃表面上缺陷位準的降低是歸因於至少兩個原因。首先，鎳及氧化鎳呈現為與玻璃不反應。詳言之，鋁矽酸鹽玻璃呈現為高度不反應的。不反應的意欲意謂玻璃不輕易黏附至Ni模具材料，且玻璃或玻璃揮發物之間無明顯化學反應，該化學反應致使材料堆積在模具表面上。
使用高純度鎳及超高純度鎳的形成狀態玻璃表面上缺陷位準的降低的第二個原因為鎳中之雜質及夾雜物位準的降低。該等雜質可包含以下中之一或更多者：Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti。該等雜質通常存在於基於Ni的合金中，諸如氧化物、硫化物及碳化物。在許多情況下(即使並非在多數情況下)，氧化物、硫化物及碳化物作為不同相 存在於Ni合金的微觀結構中，通常被稱為夾雜物，該夾雜物隨機分佈在合金中。某一百分率之該等夾雜物將停止在模具之經機械加工及拋光表面上。在玻璃形成製程期間，在模具表面處或接近模具表面之該等夾雜物可與玻璃反應且黏附至玻璃，或者該等夾雜物以不同於整體金屬之比率氧化及反應，且因而在模具表面上形成突出物。在一些實施例中，鎳模具實質上不含Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti，其中「實質上不含」意謂存在小於1莫耳%之該元素。在一些實施例中，鎳模具高度地實質上不含Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti，其中「高度地實質上不含」意謂存在小於0.5莫耳%之該元素。
該等兩種情況導致模具表面上可黏附至玻璃之局部區域，或導致在形成製程期間橫跨玻璃表面拖曳的高壓點，且在形成狀態表面中導致缺陷。因此，隨著高純度鎳模具及超高純度鎳模具越來越純，金屬中的夾雜物之數目減小且夾雜物貫穿經機械加工模具表面的頻率減小。形成表面上減少的夾雜物引起形成狀態玻璃表面上減小的缺陷發生率。
本文所實施之高純度鎳模具及超高純度鎳模具可經由澆注製程或機械加工製程形成。後續修整步驟(諸如，機械加工、拋光等)可用於提供平滑表面。在一些實施例中，高純度鎳模具或超高純度鎳模具暴露至大於300℃、400℃、500℃、600℃、700℃、800℃、900℃或1000℃之溫度。在一些實施例中，高純度鎳模具及超高純度鎳模具暴露至以下溫度：約300℃至約1000℃、約400℃至約1000℃、約500℃至 約1000℃、約600℃至約1000℃、約700℃至約1000℃、約800℃至約1000℃、約900℃至約1000℃、約300℃至約900℃、約400℃至約900℃、約500℃至約900℃、約600℃至約900℃、約700℃至約900℃、約800℃至約900℃、約300℃至約800℃、約400℃至約800℃、約500℃至約800℃、約600℃至約800℃、約700℃至約800℃、約300℃至約700℃、約400℃至約700℃、約500℃至約700℃、約600℃至約700℃、約300℃至約600℃、約400℃至約600℃、約500℃至約600℃、約300℃至約500℃、約400℃至約500℃或約300℃至約400℃。在一些實施例中，高純度鎳模具或超高純度鎳模具暴露至上列溫度達約1分鐘至約24小時的時段。在一些實施例中，高純度鎳模具或超高純度鎳模具暴露至上列溫度達以下時段：該時段大於1min、5min、10min、30min、1hr、2hr、3hr、4hr、5hr、6hr、7hr、8hr、9hr、10hr、15hr、18hr或24hr。
本文所描述模具之實施例可用於任何適當3D玻璃形成製程中。當與美國申請案第13/480,172號及第13/709,594號中所描述之方法及裝置組合使用時，模具尤其可用於形成3D玻璃基板。在美國申請案第13/480,172號及第13/709,594號中實施之製程使用相當接近玻璃溫度之模具溫度，意謂模具在範圍為600℃至700℃之溫度下操作。玻璃在形成製程期間黏附至模具之問題眾所周知為隨著增加的模具/金屬溫度而增加。該等模具溫度比壓制製程中使用之模具的典型溫度高至少100℃至200℃。進行所描述之真空形成的操作範圍包含 發生模具至玻璃黏附及引起玻璃中之表面及結構缺陷形成的區域。所實施的高純度鎳模具及超高純度鎳模具提供解決該黏附或黏著問題之新穎手段且提供具有極少甚至無表面缺陷或瑕疵的玻璃基板。
在一些實施例中，鎳模具可用於以下製程中：典型熱重組製程包含當2D玻璃板處於模具之頂部時，將2D玻璃板加熱至形成溫度，例如在對應於107泊至1011泊之玻璃黏度的溫度範圍內或在玻璃之退火點與軟化點之間的溫度。經加熱2D玻璃板一旦經加熱即可能開始下垂。通常，隨後在玻璃板與模具之間施加真空，以使玻璃板符合模具表面且藉此將玻璃形成為3D玻璃製品。或者，可使用正壓、真空與正壓之組合或壓制裝置以成形玻璃板。在形成3D玻璃製品之後，3D玻璃製品經冷卻至低於玻璃之應變點的溫度，該溫度將允許搬運3D玻璃製品。
在一些實施的製程中，可能有利的是以以下方式加熱玻璃及模具：玻璃及模具在成形步驟期間處於不同溫度，該下垂步驟期間意謂當玻璃經受真空、正壓、實體壓制或以上之組合開始下垂時，或者替代地當玻璃板具有107泊至1011泊之黏度或在玻璃之退火點與軟化點之間時。在該等實施例中，模具與玻璃之間的溫度差可為約20℃至約300℃、約50℃至約250℃或約50℃至約200℃。替代地，模具與玻璃之間的溫度差可為10℃或更大、20℃或更大、40℃或更大、60℃或更大、80℃或更大或100℃或更大。在一些實施例中，優先加熱玻璃以使得玻璃比模具熱。
經由本文之實施例形成的玻璃基板可藉由美國臨時申請案第61/653,476號所描述。三維(3D)基板可用於覆蓋具有顯示器之電子裝置，例如作為裝置之前面、後面及/或側面之部分或全部。3D蓋板玻璃可保護顯示器，同時允許觀看顯示器及與顯示器交互。若用作前蓋板，則基板可具有用於覆蓋電子裝置之前側的前蓋板玻璃部分(顯示器定位在該部分)及用於包裹在電子裝置之周邊側的一或更多個側蓋板玻璃部分。前蓋板玻璃部分可與一或更多個側蓋板玻璃部分連續的製成。
用於本文所描述製程中的玻璃基板通常作為二維(2D)玻璃板開始。2D玻璃板可藉由熔合製程或浮法製程製成。在一些實施例中，2D玻璃板係自藉由熔合製程形成的原始玻璃板提取。玻璃之原始性質可經維持直至玻璃經受強化製程，諸如離子交換化學強化製程。用於形成2D玻璃板之製程為本領域已知的，且高品質2D玻璃板描述於(例如)美國專利第5,342,426號、第6,502,423號、第6,758,064號、第7,409,839號、第7,685,840號、第7,770,414號及第8,210,001號中。
可用作使用本文所描述模具的玻璃板的玻璃組成物包括顯示與模具表面的幾乎無反應性的所有組成物。該等組成物包括鹼石灰玻璃、低熔點鋁矽酸鋰類型玻璃、硼矽酸鹽玻璃及鋁矽酸鹽玻璃。
在一個實施例中，基板由鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物製成。在一些實施例中，鋁矽酸鹽包含約50莫耳%至約75 莫耳%之SiO2、約5莫耳%至約30莫耳%之Al2O3及約10莫耳%至約25莫耳%之Na2O。示例性鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物包含至少約50莫耳%之SiO2及至少約11莫耳%之Na2O，且壓縮應力為至少約900MPa。在一些實施例中，玻璃進一步包含Al2O3以及B2O3、K2O、MgO及ZnO中之至少一者，其中-340+27.1．Al2O3-28.7．B2O3+15.6．Na2O-61.4．K2O+8.1．(MgO+ZnO)≧0莫耳%。在特定實施例中，玻璃包含：約7莫耳%至約26莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約9莫耳%之B2O3、約11莫耳%至約25莫耳%之Na2O、0莫耳%至約2.5莫耳%之K2O、0莫耳%至約8.5莫耳%之MgO及0莫耳%至約1.5莫耳%之CaO。示例性玻璃描述於Matthew J.Dejneka等人於2011年7月1日提出申請之題為「Ion Exchangeable Glass with High Compressive Stress」之美國臨時專利申請案第61/503,734號中。
另一示例性鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物包含約60莫耳%至約70莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約14莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約15莫耳%之B2O3、0莫耳%至約15莫耳%之Li2O、0莫耳%至約20莫耳%之Na2O、0莫耳%至約10莫耳%之K2O、0莫耳%至約8莫耳%之MgO、0莫耳%至約10莫耳%之CaO、0莫耳%至約5莫耳%之ZrO2、0莫耳%至約1莫耳%之SnO2、0莫耳%至約1莫耳%之CeO2、小於約50ppm之As2O3及小於約50ppm之Sb2O3，其中12莫耳%≦Li2O+Na2O+K2O≦20莫耳%且0莫耳%≦MgO+CaO≦10莫耳%。該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃描述於美國專利第 8,158,543號中。
除上文提及的該等組成物及鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物之外的其他類型之玻璃組成物可用於3D蓋板玻璃。舉例而言，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃組成物或鋁矽酸鋰玻璃組成物可用於3D蓋板玻璃。較佳地，所使用之玻璃組成物為離子交換玻璃組成物，該等玻璃組成物一般為含有小的鹼金屬或鹼土金屬離子之玻璃組成物，該等小的鹼金屬或鹼土金屬離子可與大的鹼金屬或鹼土金屬離子交換。離子交換玻璃組成物之額外實例可在美國專利第7,666,511號、第4,483,700號及美國專利第5,674,790號以及美國專利申請第12/277,573號(Dejneka等人；2008年11月25日)、第12/392,577號(Gomez等人；2009年2月25日)、第12/856,840號(Dejneka等人；2010年8月10日)、第12/858,490號(Barefoot等人；2010年8月18日)及第13/305,271號(Bookbinder等人；2010年11月28日)中找到。
另外，因為玻璃不黏附至模具，因此可使用極薄之玻璃板，且仍可獲得幾乎不具有扭曲及/或缺點之成形玻璃製品，該等扭曲及/或缺點由玻璃-模具相互作用導致。在一些實施例中，玻璃板具有約0.1μm至約2.0mm或約0.3μm至約1.8mm之厚度。在其他實施例中，玻璃板具有約0.5μm至約1.5mm之厚度。
儘管已關於受限數目之實施例描述本發明，但得益於本揭示案，熟悉此項技術者將瞭解，可設計不背離本文所揭示之本發明之範疇的其他實施例。因此，本發明之範疇將 僅受限於所附申請專利範圍。本文參考之所有專利、公開及未公開申請案及文章全部以引用之方式併入。
實例
實例1：模具可由高純度鎳或超高純度鎳機械加工，該高純度鎳或超高純度鎳諸如Nickel200(純度為99.0%)、Nickel201(純度為99.0%)、雙重認證等級Nickel200/201或Nickel270(純度為99.9%)。表面隨後可拋光為所要修整度。模具可在裸露狀態下使用而無需任何塗層。在可在約500℃至約650℃下進行的形成操作期間，鎳模具將氧化，從而在表面上形成氧化鎳層(第1圖)。該層提供所要防黏附功能。
實例2：高純度鎳等級及超高純度鎳等級可形成防黏附氧化鎳層且因此可在無塗層的情況下具有良好效能。在上列三個等級中，Ni270歸因於Ni270之最高純度而呈現最佳效能(第2B圖)，而Ni201顯示較高位準之缺陷(第2A圖)。Ni270亦為最昂貴之材料，且相較於Ni200及Ni201，Ni270一般較不容易獲得。Ni201為Ni200之低碳版本，因此Ni201之表現可比Ni200略佳。市場上之最易獲得的等級為在效能上可與Ni201等效的雙重認證Ni200/201。
實例3(比較)：由其他金屬(諸如碳鋼、不銹鋼、銅合金及鎳合金)製成之模具可在高溫度下形成氧化物層，但該等氧化物層將不具有防黏附功能。舉例而言，氧化鐵(來自碳鋼)、氧化鉻(來自不銹鋼)及氧化銅(來自銅合金)將全部黏附至玻璃。具有較低純度之鎳合金亦可顯示黏附至 玻璃之傾向，可能至少部分因為鎳合金之氧化鎳層通常與可與玻璃熔合之其他雜質氧化物混合，該等其他雜質氧化物諸如氧化鎂、氧化鋁、氧化鈣及氧化矽。
實例4：塗佈有TiAlN或TiN之Inconel718模具與未經塗佈的Ni201模具進行比較。Ni201模具之效能優於Inconel718模具。Inconel718模具具有100個週期至150個週期之平均壽命。之後，塗層退化，且模具必須重新磨光。相反，Ni201模具顯示大於1000個週期之平均壽命且維持優良效能。

Claims (25)

  1. 一種用於成形玻璃之基板，該基板包含：a.一模具，該模具具有一成形表面，其中該模具包含大於93%之鎳；及b.一氧化鎳層，該氧化鎳層在該成形表面上，其中該氧化鎳層具有約200nm至約20m之一厚度。
  2. 如請求項1所述之基板，其中該模具包含至少約97%之鎳。
  3. 如請求項2所述之基板，其中該模具包含小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者。
  4. 如請求項3所述之基板，其中該模具包含小於1莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti。
  5. 如請求項3所述之基板，其中該模具包含小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al或Ti中之一或更多者。
  6. 如請求項5所述之基板，其中該模具包含小於0.5莫耳%之Cu、Fe、Mn、C、Si、S、Mg、Al及Ti。
  7. 如請求項1所述之基板，其中該氧化鎳層具有約500nm至約20μm之一平均厚度。
  8. 如請求項7所述之基板，其中該氧化鎳層具有約2μm至約8μm之一平均厚度。
  9. 如請求項1所述之基板，其中該模具表面之波紋高度(Wa)在1cm之一評估長度內為小於100nm。
  10. 如請求項9所述之基板，其中該模具表面之該波紋高度(Wa)在1cm之一評估長度內為小於40nm。
  11. 如請求項10所述之基板，其中該模具表面之該波紋高度(Wa)在1cm之一評估長度內為小於20nm。
  12. 如請求項1所述之基板，其中該模具表面之均方根粗糙度(RRMS)在1cm之一評估長度內為小於3μm。
  13. 如請求項12所述之基板，其中該模具表面之該均方根粗糙度(RRMS)在1cm之一評估長度內為小於1μm。
  14. 如請求項13所述之基板，其中該模具表面之該均方根粗糙度(RRMS)在1cm之一評估長度內為小於500nm。
  15. 一種成形一玻璃板之方法，該方法包含以下步驟：a.將一玻璃板置放在請求項1之該基板之頂部； b.將該玻璃板及/或基板加熱至足以允許成形該玻璃板之一溫度；及c.施加負壓、正壓、一負力或一正力至該玻璃板以產生一成形玻璃板。
  16. 如請求項15所述之方法，其中足以允許成形該玻璃板之該溫度對應於該玻璃板具有107泊至1011泊之一黏度之該溫度或介於該玻璃之一退火點及軟化點之間的該溫度。
  17. 如請求項15所述之方法，其中該玻璃板之該溫度為約20℃或大於向該玻璃板施加負壓、正壓、一負力或一正力以產生該成形玻璃板時該基板之該溫度。
  18. 如請求項17所述之方法，其中該玻璃板之該溫度為約50℃至約250℃，該溫度大於向該玻璃板施加負壓、正壓、一負力或一正力以產生該成形玻璃板時該基板之該溫度。
  19. 如請求項15所述之方法，其中該溫度為約300℃至約900℃。
  20. 如請求項19所述之方法，其中該玻璃板包含一硼矽酸鹽玻璃、一鹼石灰玻璃或一鋁矽酸鹽玻璃。
  21. 如請求項20所述之方法，其中該玻璃為一鋁矽酸鹽玻璃 且包含約50莫耳%至約75莫耳%之SiO2、約5莫耳%至約30莫耳%之Al2O3及約10莫耳%至約25莫耳%之Na2O。
  22. 如請求項21所述之方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃進一步包含約7莫耳%至約26莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約9莫耳%之B2O3、約11莫耳%至約25莫耳%之Na2O、0莫耳%至約2.5莫耳%之K2O、0莫耳%至約10莫耳%之MgO及0莫耳%至約5莫耳%之CaO。
  23. 如請求項21所述之方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃包含約60莫耳%至約70莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約14莫耳%之Al2O3、0莫耳%至約15莫耳%之B2O3、0莫耳%至約15莫耳%之Li2O、0莫耳%至約20莫耳%之Na2O、0莫耳%至約10莫耳%之K2O、0莫耳%至約8莫耳%之MgO、0莫耳%至約10莫耳%之CaO、0莫耳%至約5莫耳%之ZrO2、0莫耳%至約1莫耳%之SnO2、0莫耳%至約1莫耳%之CeO2、小於約50ppm之As2O3及小於約50ppm之Sb2O3，其中12莫耳%≦Li2O+Na2O+K2O≦20莫耳%且0莫耳%≦MgO+CaO≦10莫耳%。
  24. 如請求項15所述之方法，其中該玻璃板具有約0.1μm至約2.0mm之一厚度。
  25. 一種藉由請求項15之該方法製造之成形玻璃製品。
TW103102002A 2013-01-21 2014-01-20 用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具 TWI619683B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361754798P 2013-01-21 2013-01-21
US61/754,798 2013-01-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201429896A true TW201429896A (zh) 2014-08-01
TWI619683B TWI619683B (zh) 2018-04-01

Family

ID=51206657

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103102002A TWI619683B (zh) 2013-01-21 2014-01-20 用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具
TW103102137A TWI529144B (zh) 2013-01-21 2014-01-21 用於成形玻璃之模具及其製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103102137A TWI529144B (zh) 2013-01-21 2014-01-21 用於成形玻璃之模具及其製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (3) US9145323B2 (zh)
EP (2) EP2945916B1 (zh)
JP (4) JP6480871B2 (zh)
KR (2) KR20150113030A (zh)
CN (2) CN105102663B (zh)
TW (2) TWI619683B (zh)
WO (2) WO2014113779A2 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9145323B2 (en) * 2013-01-21 2015-09-29 Corning Incorporated Molds for shaping glass and methods for making the same
CN105121367B (zh) * 2013-04-10 2018-05-04 日本电气硝子株式会社 具有曲面形状的玻璃板的制造方法和具有曲面形状的玻璃板
TWI687375B (zh) 2015-03-20 2020-03-11 美商康寧公司 用於成形基於玻璃的材料之模具與製作該模具之方法
US10351459B2 (en) 2015-08-14 2019-07-16 Corning Incorporated Molds and methods to control mold surface quality
WO2017087204A1 (en) 2015-11-18 2017-05-26 Corning Incorporated Powder, process of making the powder, and articles made therefrom
US11097973B2 (en) * 2016-04-05 2021-08-24 Corning Incorporated Mold stack for forming 3D glass-based articles
JP2018020958A (ja) * 2016-07-22 2018-02-08 旭硝子株式会社 成形型、成形装置、及び屈曲ガラスの製造方法
US11673824B2 (en) * 2017-10-06 2023-06-13 Corning Incorporated Process and system for forming curved glass via differential heating of edge region
CN109354392A (zh) * 2018-11-19 2019-02-19 全鸿精研（淮北）有限公司 一种曲面玻璃及其制备方法
TWI841629B (zh) * 2018-11-29 2024-05-11 美商康寧公司 用於抬頭顯示系統之反曲率非球面鏡及其形成方法
JP7259161B2 (ja) 2019-01-30 2023-04-18 東芝情報システム株式会社 画像処理装置及び画像処理プログラム
US10914018B2 (en) * 2019-03-12 2021-02-09 Infineon Technologies Ag Porous Cu on Cu surface for semiconductor packages
CN112374736A (zh) * 2020-11-09 2021-02-19 江苏铁锚玻璃股份有限公司 多曲面、大拱高硅酸盐玻璃的物理强化方法及成型模具

Family Cites Families (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE132711C (zh)
US1575122A (en) 1919-06-25 1926-03-02 Madsenell Corp Mold, die, and the like and method of making the same
US2746209A (en) 1949-08-20 1956-05-22 Libbey Owens Ford Glass Co Equipment for bending glass sheets
JPS5130528A (ja) * 1974-09-10 1976-03-15 Citizen Watch Co Ltd Garasunetsukanseikeigatayogokin
JPS5952715B2 (ja) * 1977-09-05 1984-12-21 ソニー株式会社 メツキ方法
US4405670A (en) 1982-05-28 1983-09-20 Rca Corporation Capacitance electronic disc stamper having improved stain resistance and method for the manufacture thereof
DE3322523C2 (de) * 1983-06-23 1985-05-15 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Vorrichtung zum Ausformen von aus Glas bestehenden optischen Bauelementen hoher Oberflächengüte
US4483700A (en) 1983-08-15 1984-11-20 Corning Glass Works Chemical strengthening method
DE3542285C1 (de) 1985-11-29 1986-08-21 Oloid Ag, Basel Vorrichtung zum Antrieb eines Koerpers,der eine taumelnde und rotierende Bewegung ausfuehrt
DE3719200A1 (de) 1987-06-09 1988-12-29 Ibm Deutschland Optische speicherplatte und verfahren zu ihrer herstellung
JP2662286B2 (ja) * 1989-02-09 1997-10-08 オリンパス光学工業株式会社 光学素子成形用型の製造方法
US5037070A (en) 1990-09-20 1991-08-06 General Motors Corporation Melt containment apparatus with protective oxide melt contact surface
US5756130A (en) * 1993-05-20 1998-05-26 Hitaci Maxell, Ltd. Stamper for producing recording medium
US5342426A (en) 1993-07-16 1994-08-30 Corning Incorporated Making glass sheet with defect-free surfaces and alkali metal-free soluble glasses therefor
JPH0826739A (ja) * 1994-07-15 1996-01-30 Canon Inc ガラス素子の製造方法及び装置
US5656104A (en) 1994-10-14 1997-08-12 Nippon Steel Corporation Metal mold for glass forming
JPH08133760A (ja) * 1994-11-01 1996-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学ガラス素子のプレス成形用型及びその製造方法並びに光学ガラス素子のプレス成形方法
US5674790A (en) 1995-12-15 1997-10-07 Corning Incorporated Strengthening glass by ion exchange
JPH10330123A (ja) * 1997-05-27 1998-12-15 Asahi Glass Co Ltd ガラス成形用金型及びガラス成形方法
US6207247B1 (en) * 1998-03-27 2001-03-27 Nikon Corporation Method for manufacturing a molding tool used for sustrate molding
DE19918936A1 (de) 1999-04-27 2000-11-02 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einzelglasscheiben
JP3586142B2 (ja) 1999-07-22 2004-11-10 エヌエッチ・テクノグラス株式会社 ガラス板の製造方法、ガラス板の製造装置、及び液晶デバイス
JP2008024000A (ja) * 2000-04-10 2008-02-07 Konica Minolta Holdings Inc 光学素子成形用金型、光学素子の製造方法及び光学素子
MY128559A (en) * 2000-07-21 2007-02-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Molded glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing the same
JP2002226221A (ja) * 2000-11-30 2002-08-14 Ngk Insulators Ltd ガラスプレス用金型及びその製造方法
GB0120263D0 (en) 2001-08-21 2001-10-10 Alphatex Hyperformance Coating Coating composition
JP2003212569A (ja) * 2002-01-23 2003-07-30 Olympus Optical Co Ltd 光学素子およびその製造方法
TW200511296A (en) * 2003-09-01 2005-03-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing stamper, stamper and optical recording medium
DE10351718A1 (de) 2003-10-31 2005-06-16 Schott Ag Verfahren zur Herstellung einer genoppten Platte aus einem Glas oder einer Glaskeramik, damit hergestellte Platte und hierzu eingesetztes Werkzeug
US7231786B2 (en) 2004-07-29 2007-06-19 Corning Incorporated Process and device for manufacturing glass sheet
CN100347332C (zh) 2004-08-11 2007-11-07 江门市威霖贸易有限公司 一种用于玻璃模具和铸铁火焰喷焊的镍基合金粉末
JP2007181882A (ja) * 2004-12-06 2007-07-19 Konica Minolta Opto Inc 転写光学面の加工方法、光学素子用成形金型及び光学素子
JP4584754B2 (ja) * 2005-04-06 2010-11-24 株式会社日立産機システム ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法
US7409839B2 (en) 2005-04-29 2008-08-12 Corning Incorporated Method and apparatus for making a glass sheet
US7685840B2 (en) 2006-03-24 2010-03-30 Corning Incorporated Method of minimizing distortion in a sheet of glass
DE112007003026B4 (de) 2006-12-14 2011-03-24 Toshiba Kikai K.K. Verfahren zur Herstellung eines Glas-Formwerkzeugs
KR101073717B1 (ko) 2007-04-10 2011-10-13 도시바 기카이 가부시키가이샤 글래스 성형용 금형 및 그 제조 방법
US7666511B2 (en) 2007-05-18 2010-02-23 Corning Incorporated Down-drawable, chemically strengthened glass for cover plate
JP2011505323A (ja) 2007-11-29 2011-02-24 コーニング インコーポレイテッド 改良された強靭性および引っかき抵抗性を有するガラス
EP2262741B1 (en) * 2008-02-26 2017-05-24 Corning Incorporated Fining agents for silicate glasses
US9010153B2 (en) 2008-07-02 2015-04-21 Corning Incorporated Method of making shaped glass articles
JP5470805B2 (ja) * 2008-11-07 2014-04-16 コニカミノルタ株式会社 金型部材、金型部材の製造方法、及び、金型
CN101413102A (zh) * 2008-12-05 2009-04-22 长春理工大学 两步制备NiO透明导电薄膜的方法
US8341976B2 (en) 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
JP5099053B2 (ja) 2009-03-13 2012-12-12 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 ガラス成形用金型の製造方法及びガラス成形体の製造方法
CN101549946B (zh) 2009-05-11 2010-12-29 苏州东方枫晟科技有限公司 硅铜合金为母材基体的玻璃模具型腔内填充镍基合金的方法
US8802581B2 (en) 2009-08-21 2014-08-12 Corning Incorporated Zircon compatible glasses for down draw
CN102167507B (zh) 2010-02-26 2016-03-16 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于3d紧密模压的薄锂铝硅玻璃
US8887532B2 (en) * 2010-08-24 2014-11-18 Corning Incorporated Glass-forming tools and methods
US8210001B2 (en) 2010-11-10 2012-07-03 Corning Incorporated Method of producing uniform light transmission fusion drawn glass
US9346703B2 (en) 2010-11-30 2016-05-24 Corning Incorporated Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold
JP5303725B2 (ja) * 2010-12-27 2013-10-02 トーカロ株式会社 溶融ガラス塊成形用金型およびその製造方法
CN102248358A (zh) 2011-04-18 2011-11-23 常熟市建华模具有限责任公司 铸铁合金为母材基体的玻璃模具型腔内填充镍基合金的方法
US8783066B2 (en) 2011-05-27 2014-07-22 Corning Incorporated Glass molding system and related apparatus and method
TWI591039B (zh) * 2011-07-01 2017-07-11 康寧公司 具高壓縮應力的離子可交換玻璃
CN102501047A (zh) 2011-11-30 2012-06-20 苏州东方模具科技股份有限公司 玻璃模具杯挺模模腔填充镍基焊材的方法
CN102560265A (zh) 2012-03-06 2012-07-11 常熟市精工模具制造有限公司 1Cr17Ni2Mo玻璃模具
CN102626847A (zh) 2012-04-06 2012-08-08 常熟市建华模具有限责任公司 玻璃模具用的冲头的加工方法
US9512029B2 (en) 2012-05-31 2016-12-06 Corning Incorporated Cover glass article
CN102730943B (zh) 2012-06-27 2014-03-26 常熟建华模具科技股份有限公司 制造玻璃容器用的玻璃模具的口模结构
CN102775047B (zh) * 2012-07-31 2014-06-04 苏州东方模具科技股份有限公司 玻璃模具的双金属口模及其制备方法
US9145323B2 (en) * 2013-01-21 2015-09-29 Corning Incorporated Molds for shaping glass and methods for making the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP6480871B2 (ja) 2019-03-13
JP6054548B2 (ja) 2016-12-27
US9266768B2 (en) 2016-02-23
CN105102663A (zh) 2015-11-25
CN105164075A (zh) 2015-12-16
EP2946026A2 (en) 2015-11-25
JP2016510298A (ja) 2016-04-07
US20140206523A1 (en) 2014-07-24
TWI529144B (zh) 2016-04-11
WO2014113779A3 (en) 2014-11-13
JP2019206477A (ja) 2019-12-05
KR20150113030A (ko) 2015-10-07
JP2016507460A (ja) 2016-03-10
TW201431802A (zh) 2014-08-16
CN105164075B (zh) 2018-01-30
US20140202211A1 (en) 2014-07-24
TWI619683B (zh) 2018-04-01
WO2014113779A2 (en) 2014-07-24
EP2945916A1 (en) 2015-11-25
US9145323B2 (en) 2015-09-29
WO2014113776A1 (en) 2014-07-24
CN105102663B (zh) 2019-03-15
US20150360993A1 (en) 2015-12-17
KR20150110696A (ko) 2015-10-02
US9475723B2 (en) 2016-10-25
JP2017048109A (ja) 2017-03-09
EP2945916B1 (en) 2018-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI619683B (zh) 用於光學品質玻璃之形成上的高純度鎳模具
TWI687375B (zh) 用於成形基於玻璃的材料之模具與製作該模具之方法
TWI640489B (zh) 可化學性回火的玻璃片
US20180022630A1 (en) Mold, molding apparatus, and production method of bent glass
TW201609575A (zh) 成形玻璃物件及其形成方法
CN110914205B (zh) 用于形成使用分离材料形成的曲面玻璃层压制品的工艺
TW201720581A (zh) 模具與控制模具表面品質的方法
JP5657586B2 (ja) 電子機器用カバーガラスブランクの製造方法および電子機器用カバーガラスの製造方法
JP2005213091A (ja) ガラス光学素子の製造方法
JP5449938B2 (ja) ガラスブランク、ガラスブランク製造方法、情報記録媒体用基板製造方法および情報記録媒体製造方法
JP5330307B2 (ja) ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法
JP5386429B2 (ja) ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法
JP2017171557A (ja) カバーガラス

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees