TW201406351A - 人工植體覆蓋式義齒系統及人工植體 - Google Patents

Abstract

人工植體覆蓋式義齒系統(1)，是用以藉由人工植體(10)將人工植體覆蓋式義齒(3)固定於顎堤(8)。人工植體覆蓋式義齒(3)，具有：人工齒(31)、義齒齒床(32)、以及磁石構造體(4)。人工植體(10)，具有：人工植體本體部(11)、以及保持件(2)。位在保持件(2)之被吸附面之外形上的外接圓，其最大直徑d1是設定為□　1.8 mm以上，人工植體本體部(11)的最大直徑d2是設定為□　1.2 mm以上且□　3.5 mm以下，並且具有d1/d2≦1.5的關係。

Description

人工植體覆蓋式義齒系統及人工植體

本發明，是關於藉由人工植體而將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤之人工植體覆蓋式義齒系統及使用此系統之人工植體。

在齒科領域中，作為用以在口腔內安定地固定人工植體覆蓋式義齒之構造者，周知有人工植體覆蓋式義齒系統。人工植體覆蓋式義齒系統，是透過埋設於顎堤的人工植體，將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤的構造。

人工植體，係具有：埋設於顎堤的人工植體本體部、以及配置於人工植體本體部之一端並露出於口腔內的人工植體側接連部。

人工植體覆蓋式義齒，係具有：複數顆人工齒、以及用以固定此等人工齒並且覆蓋顎堤的義齒齒床，且具有於義齒齒床內可與人工植體側接連部進行連結的義齒側接連部。

作為人工植體側接連部與義齒側接連部之連結構造者，被提案有如後述之利用磁力者，以及利用機械性卡合 者。

於歷來的人工植體覆蓋式義齒系統所使用的人工植體中，依據日本藥事法的基準，其中有：在一般上被稱之為「人工植體」之位於人工植體本體部的直徑為3.0mm以上且7mm以下之較大型者、以及被稱之為「迷你人工植體」之位於人工植體本體部的直徑為未滿3.0mm之較上述人工植體小型者。

於專利文獻1，是使用上述之較大型的人工植體，並揭示出藉由磁力將人工植體與人工植體覆蓋式義齒予以固定的構造。其中人工植體側接連部，是由藉由磁性體所形成的保持件所構成，而義齒側接連部，是由埋設於義齒齒床的磁石構造體所構成。人工植體覆蓋式義齒與人工植體，是藉由利用磁石構造體之磁力來吸附保持件而固定。

又，作為使用上述之迷你人工植體與人工植體覆蓋式義齒之人工植體覆蓋式義齒系統者，周知有以機械式固定兩者之構造者。其中，人工植體側接連部，是大致成為圓柱狀，並具有：於其前端部側所形成的頭部、以及在頭部與人工植體本體部之交界處所形成的凹溝部。又，義齒側接連部，係具有：具備可容納頭部之容納部的空腔、以及配設在凹溝部與容納部之間的O型環。人工植體覆蓋式義齒與迷你人工植體，是藉由將頭部配置在容納部的內側，並利用O型環所產生的緊束力所固定。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開平7-136190號公報

然而，於專利文獻1所揭示之人工植體覆蓋式義齒系統，是存在有以下的問題。

於專利文獻1所揭示之人工植體覆蓋式義齒系統，由於是使用磁力來固定人工植體覆蓋式義齒與人工植體，雖然可以使人工植體覆蓋式義齒容易裝卸，不過另一方面，為了得到用於固定人工植體覆蓋式義齒所必要的磁性吸附力，所以必須確保保持件及磁石構造體的吸附面積。因此，必須採用自歷來所使用之比較大型的人工植體。

歷來的人工植體，是先將人工植體埋設於顎堤，至能夠作為人工植體覆蓋式義齒系統來使用為止有時必須進行3次左右的手術。具體而言，於第1次的手術是進行對顎骨進行開孔與人工植體的植入，於第2次的手術是進行齒肉打孔(開孔)及齒肉孔的形成。然後，於第3次的手術是將作為補綴物的人工植體覆蓋式義齒配設於人工植體。此等手術所需要的期間，由於要長達大約6個月，因此於手術所花費的費用容易變高額。(以下，於本專利說明書中，將上述之此種歷來的人工植體所使用的手術方法，適當地稱之為「歷來法」)。

又，將上述之迷你人工植體與人工植體覆蓋式義齒以機械式進行固定之人工植體覆蓋式義齒系統，藉由使用迷 你人工植體來與歷來的人工植體作比較，是可以大幅地減少手術的次數、期間、費用。具體而言，是在1次的手術中進行顎骨及齒肉的開孔、人工植體之植入、以及配設人工植體覆蓋式義齒。(以下，於本專利說明書中，將上述之此種迷你人工植體手術方法，適當地稱之為「迷你人工植體法」)。

不過，對於迷你人工植體，由於其直徑比歷來的人工植體還小，難以實施成採用專利文獻1之磁力的構造，因而選擇以機械式的固定構造。機械式的固定構造，相較於使用磁力的構造，有裝卸不易、以及保養維修性的問題。

又，迷你人工植體，如上所述，由於直徑較小，所以強度上較歷來的人工植體差。對於迷你人工植體，在從與軸向交叉的側面施力的情形時，於迷你人工植體會產生旋轉力矩。在此，對於迷你人工植體所要埋設的顎骨構造、以及對埋設於該顎骨之迷你人工植體施加旋轉力矩之原理加以說明。

迷你人工植體所要埋設之顎堤的顎骨，是由形成於其表面的緻密骨、以及形成於該緻密骨之內側的海綿骨所構成。

緻密骨，是從顎骨的表面大約形成有1mm左右的厚度，具有質地緻密之較硬的骨質組織。又，海綿骨，相較於緻密骨，是具有質地較軟的多孔骨質組織。

當從側方對被固定於上述顎骨之迷你人工植體施力時，藉由緻密骨以保持部位附近為支點，於迷你人工植體 產生旋轉力矩。此時，海綿骨，雖質地較緻密骨還軟但仍產生阻止迷你人工植體旋轉的反作用力。如此地，由於於迷你人工植體被施加旋轉力矩以及反作用力，而於迷你人工植體產生應力。受到該應力，會對迷你人工植體產生變形等，有時便需要進行修正或再調整。

本發明，是有鑑於上述背景而發明，其目的在於提供一種可減低對手術的負擔，同時容易裝卸且易於進行維修保養的人工植體覆蓋式義齒系統、以及可以用於該系統之能夠防止強度降低的人工植體。

本發明的第一態樣，是用以藉由人工植體將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤的人工植體覆蓋式義齒系統，其特徵為：上述人工植體覆蓋式義齒，具有：複數顆人工齒、及固定該複數顆人工齒並且覆蓋顎堤的義齒齒床、以及配置在該義齒齒床之複數個磁石構造體，上述人工植體，具有：由埋設於顎堤之非磁性體所構成的人工植體本體部、以及以從顎堤露出之方式配置在人工植體之一端並與上述磁石構造體一起構成磁迴路之由磁性體所構成的保持件，位在藉由上述磁石構造體所吸附之上述保持件之被吸附面之外形上的外接圓，其最大直徑d1是設定為 1.8mm以上，上述人工植體本體部的最大直徑d2是設 定為 1.2mm以上且 3.5mm以下，並且上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，具有d1/d2≦1.5的關係。

本發明的第2態樣，是用以將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤的人工植體，其特徵為：具有：由埋設於顎堤之非磁性體所構成的人工植體本體部、以及從顎堤露出並且與配置在上述人工植體覆蓋式義齒的磁石構造體一起構成磁迴路之由磁性體所構成的保持件，人工植體本體部，具有：有螺紋峰並埋入於顎堤的螺紋部、以及從該螺紋部的基端所突出形成的插入部；上述保持件，具有能夠配置上述插入部的插入凹部，上述人工植體本體部的最大直徑d2，是設定為 1.2mm以上且 3.5mm以下，並將上述插入部配置於上述插入凹部，來固定上述人工植體本體部與上述保持件。

歷來的迷你人工植體，由於人工植體本體部的最大直徑較小，所以施工容易之反面，在使用磁力作為將人工植體覆蓋式義齒與上述人工植體予以固定之構造下，具有難以取得用以固定人工植體覆蓋式義齒所必須之磁性吸附力的問題。為了增大磁性吸附力，亦思及在構造上得加大位於保持件之被吸附面的外形。

但是，為了加大位於磁石構造體與保持件之間的磁性吸附力而增大保持件的外徑時，保持件的外周部會偏移在 比人工植體本體部的外周緣更外側的位置。在該偏移的部位，當施加有與被吸附面呈交叉之方向的力時，以藉由緻密骨所保持的部位近旁作為支點產生旋轉力矩。

又，上述之旋轉力矩，由於會隨被吸附面的偏移量的變大而增大，所以如果單純增大保持件，可能會無法確保作為人工植體所必須的強度，因而被認為難以實現藉由使用磁力之由迷你人工植體所構成的人工植體覆蓋式義齒系統。

在上述第一態樣中，是將位在上述保持件之被吸附面之外形上的外接圓的最大直徑d1設定為 1.8mm以上，將上述人工植體本體部的最大直徑d2設定為 1.2mm以上且 3.5mm以下，並且上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，具有d1/d2≦1.5的關係。如此地，相對於上述人工植體本體部，藉由將上述保持件以適當的尺寸予以擴徑，可以一面降低來自於上述保持件之外周緣中之上述人工植體本體部的偏移量，同時可以增大磁力。因此，可以一邊確保上述人工植體的強度，一邊增大位在上述保持件與上述人工植體本體部之間的磁性吸附力。

又，藉由利用磁力將上述人工植體覆蓋式義齒與上述人工植體予以固定，即使有側方的力量施加於上述人工植體覆蓋式義齒時，由於在磁石構造體與保持件之間會產生滑動，所以可以防止過大的側方力量傳達至上述人工植體。藉此，可以防止上述人工植體的變形或是損傷。

又，將上述人工植體本體部的最大直徑d2設定為如 上所述之 1.2mm以上且 3.5mm以下。其中，上述最大直徑d2在 3.0mm以上且 3.5mm以下的範圍內時，雖然在日本藥事法中是被歸類為歷來的人工植體，不過在本發明中可以與迷你人工植體相同樣地可以以1次手術進行施作。

又，上述最大直徑d2在 1.2mm以上且未滿 3.0mm的範圍內時，上述人工植體，一般上是被歸類為迷你人工植體，可以以1次手術進行施作。如此地，將上述最大直徑d2設為 1.2mm以上且 3.5mm以下的範圍，由於可以將施於上述人工植體的手術，與迷你人工植體法相同樣地施作1次即可，故相較於歷來的人工植體，是能夠減低手術的次數、期間、以及費用。

又，於上述人工植體覆蓋式義齒系統中，如上所述，是藉由將上述人工植體的數量，於上述人工植體覆蓋式義齒的固定上，以最適當的數量來實施，因而於上述人工植體上，能夠安定地固定上述人工植體覆蓋式義齒。

亦即，藉由配設複數個上述人工植體，以增補1個上述人工植體有所不足的磁力，而可以取得在用以固定上述人工植體覆蓋式義齒所必須的充分磁性吸附力。

如此地，依據上述人工植體覆蓋式義齒系統，將被認為十分困難之歷來的迷你人工植體，藉由如上所述對人工植體的尺寸、數量以及配置予以最佳化，而能夠使得使用磁力之人工植體與人工植體覆蓋式義齒的固定成為實用化。

藉此，可以同時兼顧作為歷來之迷你人工植體的優點，即降低於施作時所須之手術的次數、期間、費用，以及作為藉由磁力將人工植體覆蓋式義齒固定在人工植體之構造上的優點，即裝卸容易以及伴隨於此之保養維修性的提升。

又，對於上述第2態樣所示的上述人工植體，藉由將上述人工植體本體部的上述插入部配置於上述保持件的上述插入凹部內，來使上述人工植體本體部與上述保持件相互固定。藉此，相較於上述人工植體本體部之外形雖相同，但是將上述插入凹部設置在上述人工植體本體部側之情形，可以防止強度的降低。

亦即，如上所述，在縮小上述人工植體本體部之直徑的情形下，若是將插入凹部設置在上述人工植體本體部側時，就易於造成其壁厚變較小，而易導致強度降低。

相對於此，上述保持件，由於是從顎堤露出而配設的部分，所以不易對埋設上述人工植體的手術產生影響。另外，若從與產生在上述磁石構造體之間的磁性吸附力的觀點來說，上述保持件，是從軸向所見之外徑較大者較為有利。因此，從軸向觀察時，上述保持件的外形，在與上述人工植體本體部之間的強度上可以取得均衡配合的範圍內，可以設定得比上述人工植體本體部的外形還大。因此，即使將上述插入凹部設置於上述保持件，仍可以確保該壁厚。

如此地，藉由將上述插入凹部設置於上述保持件，可 以一邊確保上述保持件所必要的強度，一邊能夠防止上述人工植體本體部之強度的降低，而可以防止上述人工植體整體上的強度降低。

又，將上述人工植體本體部的最大直徑d2設定為如上所述之 1.2mm以上且 3.5mm以下。其中，上述最大直徑d2在 3.0mm以上且 3.5mm以下時，雖然在日本藥事法中是被歸類為歷來之人工植體，不過在本發明中可以與迷你人工植體相同樣地以1次手術進行施作。

又，上述最大直徑d2在 1.2mm以上且未滿 3.0mm的範圍內時，上述人工植體，一般上是被歸類為迷你人工植體，可以以1次手術進行施作。如此地，將上述最大直徑d2設為 1.2mm以上且 3.5mm以下的範圍，由於可以將施於上述人工植體的手術，與迷你人工植體法相同樣地施作1次即可，故相較於歷來的人工植體，是能夠減低手術的次數、期間、以及費用。

藉此，能夠兼顧實現保有歷來迷你人工植體的優點，即減少手術次數、期間、費用，以及能夠確保歷來的迷你人工植體在強度上的問題之雙方。

如以上所述，本案發明是可以提供一種能夠減低手術上的負擔，同時容易裝卸且易於進行維修保養之上述人工植體覆蓋式義齒系統、以及能夠防止強度降低的人工植體。

1‧‧‧人工植體覆蓋式義齒系統

2‧‧‧保持件

21‧‧‧保持件上面部

22‧‧‧保持件側壁部

221‧‧‧插入凹部

222‧‧‧內周鍔部

225‧‧‧被吸附面

226‧‧‧外周側面

3‧‧‧人工植體覆蓋式義齒

31‧‧‧人工齒

311、801‧‧‧正門牙

312、802‧‧‧側門牙

313、803‧‧‧犬齒

314、804‧‧‧第一小臼齒

315、805‧‧‧第二小臼齒

316、806‧‧‧第一大臼齒

317、807‧‧‧第二大臼齒

32‧‧‧義齒齒床

321‧‧‧頂部

322‧‧‧側壁部

323‧‧‧退避凹部

4、40‧‧‧磁石構造體

41、401‧‧‧永久磁石

42、402‧‧‧軛部

404‧‧‧屏壁蓋

405‧‧‧鍔部

421‧‧‧軛部本體部

422‧‧‧配置凹部

423‧‧‧鍔部

424‧‧‧蓋體

43‧‧‧吸附面

51‧‧‧罩蓋構件

511‧‧‧罩蓋本體部

512‧‧‧罩蓋側保持部

513‧‧‧保持鍔部

52‧‧‧套筒

521‧‧‧保持件配置凹部

8‧‧‧顎堤

81‧‧‧齒肉

82‧‧‧顎骨

10‧‧‧人工植體

11‧‧‧人工植體本體部

111‧‧‧螺紋部

112‧‧‧鍔部

12‧‧‧插入部

121‧‧‧凹溝部

d1‧‧‧被吸附面之外接圓的最大直徑

d2‧‧‧人工植體本體部的最大直徑

第1圖是於實施例1中之人工植體覆蓋式義齒系統的說明圖。

第2圖是於實施例1中之人工植體的斷面圖。

第3圖是於實施例1中之人工植體本體部的外觀圖。

第4圖是於實施例1中，(a)是顯示保持件之構造的斷面圖；(b)是顯示保持件之上視觀察的說明圖。

第5圖是於實施例1中，(a)是顯示磁石構造體之構造的斷面圖；(b)是顯示磁石構造體之下視觀察的說明圖。

第6圖是於實施例1中之人工植體覆蓋式義齒系統的上視圖。

第7圖是於實施例2中，(a)是顯示人工植體本體部的外觀圖；(b)是顯示保持件之斷面的說明圖。

第8圖是於實施例3中之人工植體覆蓋式義齒系統的斷面圖。

第9圖是於實施例3中，(a)是顯示磁石構造體之構造於平面方向的斷面圖；(b)是顯示磁石構造體之構造於垂直面方向的斷面圖。

第10圖是於實施例4中，具備有罩蓋構件之人工植體覆蓋式義齒系統的斷面圖。

第11圖是於實施例5中，具備有套筒之人工植體覆蓋式義齒系統的斷面圖。

第12圖是於實施例6中，其抵接面為具備有球面形狀之人工植體覆蓋式義齒系統的斷面圖。

第13圖是於實施例6中，(a)是顯示磁石構造體的斷面圖；(b)是顯示保持件的部分斷面圖。

第14圖是顯示人工植體及磁石構造體之配置例的說明圖。

第15圖是顯示人工植體及磁石構造體之其他配置例的說明圖。

第16圖是於實施例7中，人工植體覆蓋式義齒系統的說明圖。

第17圖是於實施例8中，人工植體覆蓋式義齒系統的說明圖。

於上述人工植體覆蓋式義齒系統中，位於上述保持件之被吸附面之外形上，外接圓之上述最大直徑d1，為 2.5mm以上較佳。又，上述最大直徑d1，為 3.0mm以上更佳。在此情形下，與具備有上述人工植體覆蓋式義齒之上述磁石構造體之間，可以更加確實地產生充分的磁性吸附力。

又，若將上述最大直徑d1設為未滿 1.8mm時，則與上述磁石構造體之間所產生的磁性吸附力會有不足的情形。

又，上述最大直徑d1的最大值，乃依據於上述人工植體本體部之上述最大直徑d2，以滿足d1/d2≦1.5之關係而決定。若d1/d2超過1.5時，則相對於上述人工植體 本體部，會增大位於上述保持件之外周的偏移量。因此，在對該偏移之部位施加與上述保持件之被吸附面呈交叉的力時，會有對人工植體本體部產生過大旋轉力矩的情形。

又，上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，以具有d1/d2≦1.3的關係較佳。又，上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，以具有d1/d2≦1.2的關係更佳。於此情形時，可以使上述最大直徑d1與上述最大直徑d2的均衡配合更為適切。

於上述人工植體覆蓋式義齒系統與上述人工植體中，上述人工植體本體部的上述最大直徑d2，為 2.0mm以上且為 3.3mm以下較佳。又，上述最大直徑d2，為 2.5mm以上且為 3.0mm以下更佳。於此情形時，可以更確實地取得上述人工植體之強度提升效果，以及降低手術次數、期間、費用的效果。

若將上述最大直徑d2設為未滿 1.2mm時，則上述人工植體本體部的強度會有不足的情形。

又，若將上述最大直徑d2超過 3.5mm時，則會有無法以一次手術來完成上述人工植體覆蓋式義齒系統之施作的情形。

又，上述磁石構造體，亦可以被配置在位於上述人工植體覆蓋式義齒之左右對稱的位置。於此情形時，可以將施加於上述人工植體覆蓋式義齒的咬合壓力，透過上述人工植體而均等地分散至顎堤。藉此，可以安定地將上述人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤。

又，於上述人工植體覆蓋式義齒系統中，上述磁石構造體及上述人工植體的配設數量，可以是2~4個。於此情形時，可以一面取得用以固定上述人工植體覆蓋式義齒所必要的磁性吸附力，同時可以均衡配合良好地配置上述人工植體。藉此，可以安定地固定上述人工植體覆蓋式義齒。

上述磁石構造體及上述人工植體的配設數量未滿2個之情形時，可能會有用以固定上述人工植體覆蓋式義齒的磁力不足而無法充分取得磁性吸附力的情形。

上述磁石構造體及上述人工植體的配設數量超過4個之情形時，則會有手術所花時間或費用增大的情形。

又，上述人工植體覆蓋式義齒，亦可以是與下顎之顎堤對應地形成，以將上述人工植體覆蓋式義齒固定在下顎顎堤所配設的上述人工植體之方式來構成。於此情形時，由於使下顎從下方支撐上述人工植體覆蓋式義齒，相較於上顎，較易於保持上述人工植體覆蓋式義齒。如此地，藉由將上述人工植體覆蓋式義齒特定成下顎專用而可以更加安定地固定。

又，於藉由上述磁石構造體所吸附之上述保持件之被吸附面的外形，其外接圓的最大直徑d1，為 1.8mm以上，該最大直徑d1與上述最大直徑d2，以具有d1/d2≦1.5的關係為佳。於此情形時，可以將上述最大直徑d1與上述最大直徑d2均衡配合良好地設定。藉此，一面確保在上述磁石構造體與上述保持件之間有充分的磁性吸附 力，同時在上述保持件之上述被吸附面上施加有與該被吸附面呈交叉方向的力時，可以防止對上述人工植體產生過大的旋轉力矩。

又，上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，以具有d1/d2≦1.3的關係為較佳。又，上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，以具有d1/d2≦1.2的關係為更佳。於此情形時，可以使上述最大直徑d1與上述最大直徑d2的均衡配合更為適切。

又，上述人工植體，亦可以是藉由將上述插入部壓入於上述插入凹部，來固定上述人工植體本體部與上述保持件而構成。於此情形時，可以容易且有效率地將上述人工植體本體部與上述保持件予以固定，來提升生產性。

又，上述插入部，亦可以是在其外周側面構成有形成螺紋的公螺紋部，上述插入凹部，是在其內周側面構成有形成螺紋的母螺紋部，並藉由螺鎖上述公螺紋部與上述母螺紋部，來固定上述人工植體本體部與上述保持件而構成。於此情形時，可以容易地從上述人工植體本體部將上述保持件取下。藉此，可以更加提升上述人工植體的保養維修性。又，上述保持件，由於是磁性體，所以在使用MRI等時會攝像掃描成陰影，藉由如上述地能夠將之拆卸下來，故可以防止攝像掃描成陰影。

又，至少於上述保持件的外周側面，亦可以形成氮化鈦皮膜。於此情形時，即使患者對上述保持件之材料有金屬性過敏體質，也可以防止上述保持件與齒肉接觸而出現 過敏症狀。

[實施例] (實施例1)

對於人工植體覆蓋式義齒系統及使用此系統之人工植體的實施例，參照第1圖~第6圖予以說明。

如第1圖所示，人工植體覆蓋式義齒系統1，是藉由人工植體10用以將人工植體覆蓋式義齒3固定於顎堤8者。

人工植體覆蓋式義齒3，係具有：複數顆人工齒31、及固定該複數顆人工齒31並且覆蓋顎堤8之齒肉81的義齒齒床32、以及配設在該義齒齒床32的複數個磁石構造體4。

如第2圖所示，人工植體10，係具有：由埋設於顎堤8之非磁性體所構成的人工植體本體部11、以及由該人工植體本體部11的一端以從顎堤8露出之方式所配設並與磁石構造體4一起構成磁迴路之磁性體所構成的保持件2。

如第3圖及第4圖所示，位在藉由磁石構造體4所吸附之保持件2之被吸附面225之外形上，其外接圓的最大直徑d1是設定為 3.0mm。又，位在人工植體本體部11之埋設部分的最大直徑d2是設定為 2.5mm。因此，最大直徑d1與最大直徑d2，具有d1/d2≦1.5的關係。

以下，更加詳細地予以說明。

如第1圖及第6圖所示，本例之人工植體覆蓋式義齒系統1，係具備有：埋設於上述顎堤8的2個人工植體10、以及固定於人工植體10的人工植體覆蓋式義齒3。

如第1圖所示，位在下顎之無齒顎的顎堤8，是由於其表面所形成的齒肉81、以及由齒肉81所覆蓋的顎骨82所組成。顎堤8，從上方觀視大致形成U字型，其斷面形狀大致呈山型。

人工植體覆蓋式義齒3，是以覆蓋顎堤8之方式所配設，並具備有：複數顆人工齒31、及用以固定人工齒31的義齒齒床32、以及與人工植體10的保持件2一起構成磁迴路的磁石構造體4。

如第1圖及第6圖所示，義齒齒床32，從上方觀視大致形成U字型，其斷面形狀，是由配設於上方的頂部321、以及從頂部321之側方兩端部朝向斜下方所延伸設置的側壁部322所構成。亦即，義齒齒床32的斷面形狀，是呈朝向下方開口之大致山型。又，義齒齒床32之內側面的形狀，是對顎堤8進行取模所形成，故具有與顎堤8相對應的形狀。

如第6圖所示之配設於義齒齒床32的複數顆人工齒31，是呈分別對應於正門牙311、側門牙312、犬齒313、第一小臼齒314、第二小臼齒315、第一大臼齒316、以及第二大臼齒317的形狀。各人工齒31，是於義齒齒床32之頂部321上面，於大致左右對稱位置分別各配設2顆，在1個義齒齒床32，配設有合計14顆的人工 齒31。

如第1圖及第5圖所示，配設於義齒齒床32之大致圓板狀的磁石構造體4，係具有：永久磁石41、以及覆蓋該永久磁石41的軛部42。

磁石構造體4的永久磁石41，是呈大致圓板狀，其周圍全周由軛部42所覆蓋。軛部42，具有：由軟磁性的不鏽鋼所組成且具有朝向下方呈開口之配置凹部422的軛部本體部421、以及用以將配置凹部422之開口部予以覆蓋的蓋體424。軛部本體部421，係具備由從其上端部向外周側延伸設置的鍔部423。鍔部423，是呈從上下方向觀察時為橢圓形狀，具有在將磁石構造體4埋設於義齒齒床32之後，防止脫落及旋轉的作用。軛部42，是用以將永久磁石41配置在軛部本體部421的配置凹部422內，並且以蓋體424封止該開口部，藉此將永久磁石41予以內包。

如第1圖及第5圖所示，磁石構造體4的下面，成為由圓形且平滑之平面所構成的吸附面43，位於吸附面43的最大外接圓d3，設定為 3.0mm。磁石構造體4，是分別僅露出吸附面43地被埋設在：義齒齒床32之頂部321的內面，且與配設於顎堤8之2個人工植體10相對應的位置處。

如第1圖及第2圖所示，用以將義齒齒床32固定於顎堤8的人工植體10，係具有：由埋設於顎堤8之非磁性體所構成的人工植體本體部11、以及配設於人工植體 本體部11之上端的保持件2。

如第2圖及第3圖所示，人工植體本體部11，是由鈦合金所組成，具有：於外周側面具有螺紋峰的螺紋部111、及從螺紋部111之基端朝向外周側延伸設置的鍔部112、以及突出形成於鍔部112上表面的插入部12。

如第3圖所示，螺紋部111，於其外周側面具有沿著軸向形成螺旋狀的螺紋峰，並且呈隨著朝向前端，慢慢地縮小外徑的錐狀。

從鍔部112的上表面朝向上方立設的插入部12，若從軸向觀察時，為呈六角形的多角柱形狀，在與鍔部112的交界部，形成有縮小直徑的凹溝部121。又，在本例中，人工植體本體部11的最大直徑d2，是設定為 2.5mm。

如第4圖所示，配設於插入部12的保持件2，是由軟磁性不鏽鋼所組成，從上方觀察時，是呈由4個邊與連接各邊的4個圓弧所形成之大致四角形狀，並具備有：大致板狀的保持件上面部21、以及從保持件上面部21的外周緣部朝向下方而垂下之大致圓筒狀的保持件側壁部22。

保持件上面部21，於其上表面，具有：從上方觀察時呈圓形，並且由平滑的平面所構成的被吸附面225，於比被吸附面225更外周側，形成有隨著朝向外側而向下方傾斜的錐面。

在此，位於上述之磁石構造體4的吸附面43與保持 件2的被吸附面22，是同為由平面所形成。因此，可以使磁石構造體4與保持件2相互緊密貼合。藉此，使磁迴路的空氣間隙最小化，而可以取得充分的磁性吸附力。

位於被吸附面225之外接圓的最大直徑d1，是與位於磁石構造體4的吸附面43同樣地設為 3.0mm。因此，位於被吸附面225之外接圓的最大直徑d1與人工植體本體部的最大直徑d2，係具有d1/d2=1.2的關係。

又，在本例中，雖是將被吸附面225與吸附面43設為同一形狀，但並非侷限於此者，也可以設成不同的形狀及大小。

如第2圖及第4圖所示，保持件側壁部22的內周，是成為與插入部12相對應的插入凹部221。插入凹部221，是具有從其軸向觀察時大致為六角形狀的內周面，並於其開口端部形成有朝向內側延伸設置的內周鍔部222。該內周鍔部222，係構成為能夠卡合於插入部12的凹溝部121。又，於保持件側壁部22的外周側面226，形成有氮化鈦皮膜。

如第2圖所示，上述之人工植體本體部11及保持件2，係形成人工植體10。人工植體本體部11與保持件2，是藉由將插入部12壓入嵌合於插入凹部221的內側而相互地固定。

如第6圖所示，人工植體10，於顎堤8，是對應於：人工植體覆蓋式義齒3中之相當於一對犬齒313的人工齒31所配設的位置。亦即，人工植體10，是在顎堤8之大 致左右對稱的位置處分別各配設一個。又，在此之左右對稱，是指相對於正中線以配設在大致線對稱的位置即可。並且，藉由使在人工植體覆蓋式義齒3所配設之磁石構造體4的吸附面43，吸附於人工植體10之保持件2的被吸附面225，來將人工植體覆蓋式義齒3固定於顎堤8。

其次對本例中之作用效果進行說明。

於本例之人工植體覆蓋式義齒系統1中，是將位在保持件2之被吸附面225的外形上之外接圓的最大直徑d1，設定為 3.0mm，並將人工植體本體部11的最大直徑d2，設定為 2.5mm，最大直徑d1與最大直徑d2，具有d1/d2=1.2的關係。如此地，藉由以適當的尺寸使保持件2擴徑，可以一面降低位在保持件2之外周緣的人工植體本體部11的偏移量，同時使磁力增大。因而，可以一邊確保人工植體10的強度，同時使位在保持件2與人工植體本體部11之間的磁性吸附力增大。

又，藉由利用磁力來固定人工植體覆蓋式義齒3與人工植體10，即使對人工植體覆蓋式義齒3施加來自側面的力，在磁石構造體4與保持件2之間會產生滑動。因此，可以防止來自側面之較大的力朝向人工植體10傳遞。藉此，可以防止人工植體10的變形或損傷。

又，將人工植體本體部11的最大直徑d2，以如上述之方式設定，可以使埋設人工植體10所須處理的手術，與迷你人工植體法同樣施行1次即可。因此，相較於歷來的人工植體，能夠降低手術的次數、期間、以及費用。

又，如上述地，將人工植體10的數量，設定成最適切於人工植體覆蓋式義齒3之固定的數量，藉此，於人工植體10上，能夠將人工植體覆蓋式義齒3安定地進行固定。

亦即，藉由配設2個人工植體10，可以一面取得用以固定人工植體覆蓋式義齒3所必須的磁性吸附力，一面均衡配合良好地配置人工植體10。藉此，可以安定地固定人工植體覆蓋式義齒3。

如此地，根據人工植體覆蓋式義齒系統1，藉由將人工植體10的尺寸、數量、以及配置進行如上所述的最佳化，便能夠使被認為難以在歷來之迷你人工植體上使用磁力之人工植體10與人工植體覆蓋式義齒3的固定，成為實用化。

藉此，可以兼顧作為歷來之迷你人工植體的優點，即降低於施作時所須之手術的次數、期間、費用，以及作為藉由磁力將人工植體覆蓋式義齒固定在人工植體上之構造上的優點，即裝卸容易以及伴隨於此之保養維修性的提升。

又，磁石構造體4，是配設在位於人工植體覆蓋式義齒3之左右對稱位置。因此，可以使施加於人工植體覆蓋式義齒3的咬合壓力，透過人工植體10而均等地分散於顎堤8。藉此，可以安定地將人工植體覆蓋式義齒3固定於顎堤8。

又，人工植體覆蓋式義齒3，是與下顎的顎堤8相對 應地形成，並以使人工植體覆蓋式義齒3固定在下顎之顎堤8所配設的人工植體10之方式所構成。因此，由於使下顎從下方支撐人工植體覆蓋式義齒3，所以相較於上顎，更易於保持人工植體覆蓋式義齒3。如此地，藉由使人工植體覆蓋式義齒3特定為下顎專用，而可以更加安定地予以固定。

又，人工植體10，藉由將人工植體本體部11的插入部12配置於保持件2的插入凹部221內，來使人工植體本體部11與保持件2相互固定。藉此，相較於人工植體本體部11之外形雖相同，但是將插入凹部221設置在人工植體本體部11側之情形，可以防止強度的降低。

亦即，如上所述，在縮小人工植體本體部11之直徑的情形下，若是將插入凹部221設置在人工植體本體部11側時，就易於造成其壁厚變較小，而易導致強度降低。

相對於此，保持件2，由於是從顎堤8露出而配設的部分，所以不易對埋設人工植體10的手術產生影響。另外，若從產生在磁石構造體4之間的磁性吸附力的觀點來說，保持件2，是從軸向所見之外徑較大者較為有利。因此，從軸向觀察時，保持件2的外形，在與人工植體本體部11之間的強度上可以取得均衡配合的範圍中，可以設定得比人工植體本體部11的外形還大。因此，即使將插入凹部221設置於保持件2，仍可以確保該壁厚。

如此地，藉由將插入凹部221設置於保持件2，可以 一邊確保保持件2其所必要的強度，一邊能夠防止人工植體本體部11之強度的降低，而可以防止人工植體10整體上的強度降低。

又，人工植體10，是藉由將插入部12壓入於插入凹部221，來固定人工植體本體部11與保持件2而構成。因此，容易且效率良好地固定人工植體本體部11與保持件2，而可以提升生產性。

又，保持件2之至少於外周側面，形成有氮化鈦皮膜。因此，即使患者對於保持件2的材料會有金屬性過敏，亦可以使得保持件2與齒肉接觸時，防止過敏症狀出現。

又，於本例所示的人工植體10，是將人工植體本體部11與保持件2相互地壓入固定後，螺鎖在於顎堤8所形成的導孔中。此時，如上所述，將人工植體本體部11的插入部12，從其軸向來觀察時，藉由將之設成呈六角形的多角柱形狀，於螺鎖時可以防止人工植體本體部11與保持件2相對性地旋轉，而可以使兩者一體地旋轉。

以上所述，本發明可以提供減少對手術所施加的負擔，並且裝卸容易可提升保養維修性的人工植體覆蓋式義齒系統1、以及能夠防止強度降低的人工植體10。

(實施例2)

本例，是將實施例1中之人工植體10的插入部12及插入凹部221的形狀予以變更的例子。

如第7圖(a)所示，人工植體本體部11的插入部12，從上方觀察時，是具有：呈正六角形的鎖結卡合部123、以及於鎖結卡合部123之上面所形成的公螺紋部122。公螺紋部122，是呈圓筒狀，並且於其外周側面形成有螺紋峰。

如第7圖(b)所示，於保持件2之插入凹部221的內周面，形成有與公螺紋部122對應的母螺紋部223。又，於插入凹部221的開口端部，形成有能夠內包住插入部12之鎖結卡合部123的擴大開口部224。

於本例，在將人工植體10配設於顎堤8時，是使工具卡合於鎖結卡合部123地將人工植體本體部11預先埋設於顎堤8之後，藉由將保持件2螺合於從顎堤8所露出的公螺紋部122，而形成人工植體10。

其他的構成則與實施例1相同。

於本例之人工植體覆蓋式義齒系統1中，插入部12，是由在其外周側面形成螺紋峰的公螺紋部122所構成，插入凹部221，是由在其內周側面形成螺紋峰的母螺紋部223所構成，藉由螺合公螺紋部122與母螺紋部223，來固定人工植體本體部11與保持件2而構成。因此，可以從人工植體本體部11容易地裝卸保持件2。藉此，可以更加提升人工植體10的保養維修性。又，保持件2，由於是磁性體，故使用MRI等時會被掃描成為陰影，藉由如上所述可以將之卸下，而可以防止被掃描進去。

(實施例3)

本例，是將實施例1之人工植體覆蓋式義齒系統1中的磁石構造體40的構成予以變更的例子。

如第8圖及第9圖所示，磁石構造體40，係具有：永久磁石401、及配設於永久磁石401之側方兩側的一對軛部402、以及將配設有一對軛部402之部位以外的永久磁石401的表面予以覆蓋的屏蔽蓋404。

如第9圖所示，永久磁石401，其磁極(N極及S極)的方向(圖中的箭頭方向)，是以使一對軛部402與永久磁石401成並列方向之方式磁化。永久磁石401，從並列方向觀察是呈六角形狀的塊狀。

屏蔽殼404，是由非磁性的材料所組成，用以將與並列方向呈垂直相交之方向上所配設之永久磁石401的表面予以覆蓋。藉此，使永久磁石401的磁性，不會洩漏於並列方向以外的方向。

一對軛部402，是由軟磁性不鏽鋼所形成。各軛部402從並列方向觀察，是呈：與於永久磁石401配設有屏蔽蓋404時之外形相對應的六角形狀。又，從上方觀察軛部402時，配設於與永久磁石401為相反側的外側面是呈圓弧狀。又，於外側面，係具有朝向外側延伸設置的鍔部405，其具有在將磁石構造體40配設於義齒齒床32時防止脫落的作用。

其他的構成則與實施例1相同。

磁石構造體40在吸附保持件2時，會藉由磁石構造體40與保持件2，形成循環於此兩者的磁性迴路L。該磁性迴路L，是從永久磁石401的N極，通過一對軛部402及保持件2，再朝向永久磁石401的S極而循環。依據如此所形成的磁性迴路L，產生強磁力而可以取得大的磁性吸附力。藉此，能夠以有限的吸附面積來提升磁性吸附力，而可以更加安定地固定人工植體覆蓋式義齒3。又，磁石構造體40，相較於歷來的磁石構造體，由於容易使高度方向的尺寸較大，所以以配設在高度方向的空間上較有餘裕的前齒部分較佳。

並且，可以取得與實施例1相同的作用效果。

(實施例4)

本例，是人工植體覆蓋式義齒系統1中之構成上的一例。

如第10圖所示，人工植體覆蓋式義齒系統1，是透過罩蓋構件51將磁石構造體4配設於人工植體覆蓋式義齒3的義齒齒床32。

罩蓋構件51，是由合成樹脂所組成，具有：圓板狀的罩蓋本體部511、以及從罩蓋本體部511的外周緣朝向下方所形成之圓筒狀的罩蓋側保持部512。於罩蓋側保持部512的開口端部，具有朝向內側延伸設置的保持鍔部513，能夠與磁石構造體4所具有的鍔部423卡合而構成。

又，罩蓋側保持部512在軸向的長度尺寸，是設定成比鍔部423的厚度還大，使磁石構造體4，於其軸向方向上，能夠移動在：位於罩蓋側保持部512之內側的罩蓋本體部511的下表面與保持鍔部513之間而構成。

其他的構成則與實施例1相同。

本例之人工植體覆蓋式義齒系統1，如上所述，是使透過罩蓋構件51而配設於義齒齒床32的磁石構造體4，能夠於其軸向方向移動地配置。因此，對於埋設有罩蓋構件51的人工植體覆蓋式義齒3而言，是可以使包含罩蓋構件51之人工植體覆蓋式義齒3整體，相對於用以將之固定的人工植體10進行移動。

藉此，即使保持件2與磁石構造體4的抵接位置為一定，仍可以使包持有罩蓋構件51之人工植體覆蓋式義齒3整體，相對於保持件2，在配設有罩蓋本體部511的下表面及保持鍔部513的範圍內進行相對性的位置改變。故當牙齦的形狀變化等產生了時間性變化之情形時，也可以追隨該時間性變化來改變裝配位置。藉此，可以減少人工植體覆蓋式義齒3的再調整或修正的必要性。

並且，可以取得與實施例1相同的作用效果。

(實施例5)

本例，是人工植體覆蓋式義齒系統1中之多樣變化的其他例。

如第11圖所示，本例的人工植體覆蓋式義齒系統 1，是將由非磁性之不鏽鋼等金屬所形成的套筒52配設於人工植體覆蓋式義齒3的義齒齒床32。

套筒52，其整體形狀呈大致圓筒狀，一方的開口端部以覆蓋於磁石構造體4之外周側面的方式所配設。位於套筒52之另一方的開口端部，是比磁石構造體4中的吸附面43還突出地形成，將人工植體覆蓋式義齒3配設於顎堤8時，於套筒52內側形成能夠配置保持件2的保持件配置凹部521。

其他的構成則與實施例1相同。

本例的人工植體覆蓋式義齒系統1，是於磁石構造體4裝著有套筒52的狀態下被埋設於人工植體覆蓋式義齒3的義齒齒床32內。並且，保持件2是被配設在由套筒52與吸附面43所包圍的保持件配置凹部521，使位在磁石構造體4之前端的吸附面43與保持件2的被吸附面225抵接而固定。於此狀態下，使套筒52成為圍住保持件2之外周側面的狀態。

在此，套筒52，如上所述是由金屬所成。因此，即使在保持件2與磁石構造體4的抵接面(吸附面43與被吸附面225)之間，朝於斜向拉開方向產生相對性的旋轉力時，將保持件2的外周側面予以圍住的套筒52可阻止該動作。因此，可以比以往更加抑制人工植體覆蓋式義齒3的脫落。

又，套筒52，也可以由具有可撓性的材料所形成。此情形下，當相對於人工植體覆蓋式義齒3被施予來自側 面的力量時，可以在套筒52與保持件2之間的間隙量以及套筒52進行彈性變形的範圍內容許磁石裝置與保持件2的橫向滑移，而能夠緩和來自側面的力量。

並且，可以取得與實施例1相同的作用效果。

(實施例6)

本例，是實施例1之人工植體覆蓋式義齒系統1中，將保持件2的被吸附面225及磁石構造體4之吸附面43的形狀予以變更的例子。

如第12圖及第13圖(b)所示，保持件2的被吸附面225，是呈凸球面形狀。

又，磁石構造體4的吸附面43，是呈與保持件2的被吸附面225相對應的凹球面形狀。

其他的構成則與實施例1相同。

於本例的人工植體覆蓋式義齒系統1中，磁石構造體4的吸附面43是呈與保持件2之球面狀的被吸附面225相對應的凹球面狀。因此，可以使磁石構造體4與保持件2相互緊密貼合。藉此，使位在磁迴路的空氣間隙最小化，而可取得充分的磁性吸附力。

又，藉由具有：球面狀的被吸附面225、以及與之相對應之凹球面上的吸附面43，而可以在磁石構造體4與保持件2之間賦予旋動功能。因此，人工植體覆蓋式義齒3相對於保持件2有所擺動、旋動時，磁石構造體4與保持件2之間不會產生間隙，而能夠進行伴隨咬合之人工植 體覆蓋式義齒3的擺動、旋動。

並且，可以取得與實施例1相同的作用效果。

於上述的實施例1~實施例6中，雖是將人工植體10及磁石構造體4的數量設為2個，但也可以是2個以上。於第14圖及第15圖，是顯示將人工植體10及磁石構造體4的數量設為3個或是4個來配置的配置例。

如第14圖所示，人工植體10及磁石構造體4的數量為分別3個之情形時，可以是在相當於2顆正門牙311之間的位置配置1個，其餘的2個，是分別配置在相當於左右之第一小臼齒314的位置。如此地，在人工植體10及磁石構造體4的數量為奇數個的情形時，以在成為大致中央位置的2顆正門牙之間配置1個，其餘者以配置成左右對稱為佳。

如第15圖所示，人工植體10及磁石構造體4的數量為分別4個之情形時，可以分別配置在相當於左右之側門牙312的位置以及相當於第一小臼齒314的位置。

又，於與第二小臼齒~第二大臼齒相對應之位置的顎堤，由於有許多神經通過，所以人工植體，以埋設在與正門牙~第一小臼齒相對應之位置的顎堤為佳。其中，又以埋設在與正門牙~犬齒相對應之位置的顎堤更佳。

又，於上述各實施例中所示的人工植體10及磁石構造體4的配置僅是例子，除了上述以外亦可以進行各種的配置。又，所謂左右對稱，是指相對於正中線只要是配設在大致線對稱的位置即是。

(實施例7)

本例，是於顎堤8有殘存齒之情形時之人工植體覆蓋式義齒系統1的例子。

如第16圖所示，於顎堤8，有左側的側門牙802、犬齒803等2顆殘存齒。

如第16圖所示，人工植體覆蓋式義齒3之義齒齒床32，係具有：切空出與殘存齒(802、803)相對應之位置所形成的退避凹部323。因此，於義齒齒床32，並沒有配設左側的側門牙312及犬齒313的人工齒31。退避凹部323，是朝向外側呈開口，使其內側形成為能夠配置殘存齒(802、803)。

如第16圖所示，是在義齒齒床32之人工齒31中之與右側的正門牙311、犬齒313相對應的位置，分別埋設磁石構造體4。於本例中，是相對於存在有殘存齒之左側的側門牙802及犬齒803，而於大致左右對稱的位置配設有磁石構造體4。

如第16圖所示，於顎堤8，是在與人工植體覆蓋式義齒3所埋設之磁石構造體4相對應的位置處，分別配設有人工植體10。

其他的構成則與實施例1相同。

於本例中亦是可以取得與實施例1相同的作用效果。

(實施例8)

本例，是局部性地應用人工植體覆蓋式義齒系統1的例子。

如第17圖所示，於顎堤8，存在有右側的正門牙801、側門牙802、犬齒803、第一小臼齒804、第二小臼齒805、第一大臼齒806、第二大臼齒807以及左側的正門牙801、側門牙802、犬齒803等10顆的殘存齒。

如第17圖所示，人工植體覆蓋式義齒3的義齒齒床32，是以覆蓋在顎堤8中沒有殘存齒的部分之方式所形成，具備有：第一小臼齒314、第二小臼齒315、第一大臼齒316、第二大臼齒317等4顆人工齒31。又，於義齒齒床32，在與人工齒31中之右側的第二小臼齒315以及第一大臼齒316相對應的位置，分別埋設有磁石構造體4。

如第17圖所示，於顎堤8，是在與人工植體覆蓋式義齒3所埋設之磁石構造體4相對應的位置處，分別配設有人工植體10。

於本例中，磁石構造體4及人工植體10，是以通過位在人工植體覆蓋式義齒3之長邊方向的大致中央位置，且與長邊方向垂直相交的直線作為基準線，配設在相對於基準線為線對稱的位置。

其他的構成則與實施例1相同。

於本例中亦是可以取得與實施例1相同的作用效果。

1‧‧‧人工植體覆蓋式義齒系統

2‧‧‧保持件

3‧‧‧人工植體覆蓋式義齒

31‧‧‧人工齒

32‧‧‧義齒齒床

321‧‧‧頂部

322‧‧‧側壁部

4‧‧‧磁石構造體

8‧‧‧顎堤

81‧‧‧齒肉

82‧‧‧顎骨

10‧‧‧人工植體

11‧‧‧人工植體本體部

Claims (10)

1. 一種人工植體覆蓋式義齒系統，是用以藉由人工植體將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤的人工植體覆蓋式義齒系統，其特徵為：上述人工植體覆蓋式義齒，具有：複數顆人工齒、及固定該複數顆人工齒並且覆蓋顎堤的義齒齒床、以及配置在該義齒齒床之複數個磁石構造體，上述人工植體，具有：由埋設於顎堤之非磁性體所構成的人工植體本體部、以及以從顎堤露出之方式配置在人工植體本體部之一端並與上述磁石構造體一起構成磁迴路之由磁性體所構成的保持件，位在藉由上述磁石構造體所吸附之上述保持件之被吸附面之外形上的外接圓，其最大直徑d1是設定為 1.8mm以上，上述人工植體本體部的最大直徑d2是設定為 1.2mm以上且 3.5mm以下，並且上述最大直徑d1與上述最大直徑d2，具有d1/d2≦1.5的關係。
2. 如申請專利範圍第1項所述的人工植體覆蓋式義齒系統，其中，上述磁石構造體，是被配置在：位於人工植體覆蓋式義齒之左右對稱的位置。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述的人工植體覆蓋式義齒系統，其中，上述磁石構造體與上述人工植體的配設數量，為2至4個。
4. 如申請專利範圍第1或2項所述的人工植體覆蓋式義齒系統，其中，上述人工植體覆蓋式義齒，是與下顎 顎堤對應地形成，以將上述人工植體覆蓋式義齒固定在：被配置於下顎顎堤之上述人工植體而構成。
5. 如申請專利範圍第3項所述的人工植體覆蓋式義齒系統，其中，上述人工植體覆蓋式義齒，是與下顎顎堤對應地形成，以將上述人工植體覆蓋式義齒固定在：被配置於下顎顎堤之上述人工植體而構成。
6. 一種人工植體，是用以將人工植體覆蓋式義齒固定於顎堤的人工植體，其特徵為：具有：由埋設於顎堤之非磁性體所構成的人工植體本體部、以及從顎堤露出並且與配置在上述人工植體覆蓋式義齒的磁石構造體一起構成磁迴路之由磁性體所構成的保持件，上述人工植體本體部，具有：有螺紋峰並埋入於顎堤的螺紋部、以及從該螺紋部的基端所突出形成的插入部；上述保持件，具有能夠配置上述插入部的插入凹部，上述人工植體本體部的最大直徑d2，是設定為 1.2mm以上且 3.5mm以下，並將上述插入部配置於上述插入凹部內，來固定上述人工植體本體部與上述保持件。
7. 如申請專利範圍第6項所述的人工植體，其中，位在藉由上述磁石構造體所吸附之上述保持件之被吸附面之外形上的外接圓，其最大直徑d1是設定為 1.8mm以上，且該最大直徑d1與上述最大直徑d2，具有d1/d2≦1.5的關係。
8. 如申請專利範圍第6或7項所述的人工植體，其中，藉由將上述插入部壓入於上述插入凹部，來固定上述人工植體本體部與上述保持件。
9. 如申請專利範圍第6或7項所述的人工植體，其中，上述插入部，是於其外周側面構成形成有螺紋峰的公螺紋部，上述插入凹部，是於其內周側面構成形成有螺紋峰的母螺紋部，藉由螺合上述公螺紋部與母螺紋部來固定上述人工植體本體部與上述保持件。
10. 如申請專利範圍第6或7項所述的人工植體，其中，於上述保持件的至少外周側面，形成有氮化鈦皮膜。