TW201338921A - 玻璃板之端面處理方法 - Google Patents

Abstract

本發明係以提供一種玻璃板之端面處理方法為目的，該玻璃板之端面處理方法係可效率良好地研磨玻璃之端面，且使玻璃板之端面強度提升。一種玻璃板之端面處理方法，係積層多片玻璃板以形成積層體，並一邊供給該積層體之外周部研磨液一邊使旋轉之研磨刷抵接，來刷磨玻璃板之端面。此時，一邊使研磨刷沿著玻璃板之積層方向來回移動一邊進行研磨。藉此，可高品質地研磨玻璃板之端面，且可使端面之強度(特別是彎曲強度)提升。

Description

玻璃板之端面處理方法 發明領域

本發明係有關於玻璃板之端面處理方法。

發明背景

用於智慧型手機及輸入板電腦等之靜電容量型觸控面板，一般而言係將透光性之輸入位置檢測用電極等形成於玻璃板上，再於其上配置由強化玻璃做成之蓋玻璃所構成。

近來，在所述之靜電容量型觸控面板中，為謀求零件個數之再削減及薄型化，而提案有於蓋玻璃上直接形成輸入位置檢測用電極等(例如，參照專利文獻1)。

為製得所述之形成有輸入位置檢測用電極等的蓋玻璃(以下，亦稱「感測器一體型蓋玻璃」)，就生產性的觀點而言理想的方法係於可取多片所需尺寸之蓋玻璃板的素板(即，為統一製造個個蓋玻璃板所用之大尺寸的玻璃板)上，進行成膜步驟及圖案成形步驟等來形成輸入位置檢測用電極等，之後再將之分割為製品之尺寸。

但是，若使用強化玻璃作為素板的話，則於業經切割之玻璃板的端面會露出拉伸應力層，而一旦於其端面 產生傷痕，將有玻璃以傷痕為起點產生龜裂的問題。

有效防止所述之龜裂的對策係於切割後將端面予以研磨，去除成為龜裂原因的傷痕，使端面之強度(特別是彎曲強度)提升。

於專利文獻2中，提出一種研磨玻璃板之端面的方法，係積層多片玻璃板以形成積層體，並使旋轉之研磨刷抵接於該積層體之外周部，而統一研磨多片玻璃板之端面。

先行技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本特開2011-197708號公報

專利文獻2：日本特開2010-269389號公報

發明概要

然而，專利文獻2之研磨方法因使用研磨刷之同一部位研磨玻璃板之端面，故若研磨刷之一部分產生缺陷的話，會有玻璃板之端面部分研磨不良的缺點。

又，若玻璃板之端面被去角，則於業已積層多片該玻璃板時，其積層體的外周部會形成凹凸，但以專利文獻2之研磨方法則會有無法充分研磨成為外周部之凹部的部分(即，業經積層之玻璃板與玻璃板之間的部分)之缺點。

進而言之，作為靜電容量型觸控面板之蓋玻璃使用之玻璃板上形成有遮光膜，但以專利文獻2之方法，則亦 有研磨刷之刷毛進入業經積層之玻璃板與玻璃板之間而將遮光膜刮掉的缺點。

本發明係有鑑於所述情事而完成者，以提供一種玻璃板之端面處理方法為目的，該玻璃板之端面處理方法係可效率良好地研磨玻璃板之端面，且使玻璃板之端面的強度提升。

用以解決前述課題之手段如下。

第1態樣，係具有以下步驟者：積層多片玻璃板以形成積層體之步驟；及一邊使於軸部外周經放射狀植入有刷毛的研磨刷旋轉且一邊使之抵接於前述積層體之外周部，並於前述研磨刷與前述積層體之抵接部分供給研磨液來研磨前述玻璃板之端面的步驟；又該研磨玻璃板之端面的步驟係使前述研磨刷之軸方向與前述玻璃板之積層方向一致，並於使前述研磨刷旋轉之同時，一邊使前述研磨刷與前述積層體沿著前述玻璃板之積層方向相對地移動，且一邊使前述研磨刷抵接於前述積層體之外周部來研磨前述玻璃板之端面。

於本態樣，係積層多片玻璃板以形成積層體，並一邊供給研磨液，一邊使旋轉之研磨刷抵接於其積層體之外周部，來刷磨玻璃板之端面。此時，係使研磨刷之軸方向與玻璃板之積層方向一致，使研磨刷抵接於積層體之外周部，並且，於使研磨刷旋轉之同時，使研磨刷與積層體沿著玻璃板之積層方向相對地移動(包含來回移動)來進行 研磨。藉此，可防止以研磨刷之同一個地方連續地接觸研磨，而可將各玻璃板之端面均勻地研磨。即，假定研磨刷有一部分不良，亦可防止該不良處經常接觸玻璃板側之同一個地方，而可以整體均勻地研磨。並且，藉由使積層體與研磨刷相對地移動，可效率良好地研磨端面業經去角之玻璃板。即，若積層端面業經去角之玻璃板，則雖於積層體之外周部會形成凹凸，但藉由使積層體與研磨刷相對地移動，可使研磨刷之刷毛的前端部效率良好地接觸成為前述凹部之去角部分，而可效率良好地研磨端面全體。藉此，可高品質地研磨玻璃板之端面，且可使端面的強度(特別是彎曲強度)提升。

承前述第1態樣，第2態樣係將強化後業經切割之玻璃板積層，來形成積層體者。

依據本態樣，係將強化後業經切割之玻璃板作為處理對象。強化後業經切割之玻璃板，一旦拉伸應力層露出於端面且於端面產生傷痕，則會有以該傷痕為起點而龜裂的情形。將積層有多片強化後業經切割之玻璃板的積層體，藉由前述第1態樣研磨端面，則可高品質地研磨玻璃板之端面，且可有效率地去除成為龜裂原因的傷痕。藉此，可使強化後業經切割之玻璃板的強度提升。

此處，「業經強化之玻璃板(所謂強化玻璃)」係於表裏之主面上形成有具有壓縮應力層之表層的玻璃板，且為使應力平衡，於厚度方向的內部形成拉伸應力層。而作為強化玻璃之製造方法，為人所知的有利用加熱與冷卻 造成玻璃膨脹與收縮之物理強化法(風冷強化法)，與將玻璃中之鹼離子與離子半徑較大的其他鹼離子進行離子交換之化學強化法(即，離子交換強化法)。以蓋玻璃等薄玻璃而言，一般係適用化學強化法。

承前述第1或2態樣，第3態樣係積層端面經去角之玻璃板，來形成積層體者。

依據本態樣，係將端面經去角之玻璃板作為處理對象。如前述，若積層端面經去角之玻璃板，則雖於積層體之外周部會形成凹凸，但藉由使積層體與研磨刷相對地移動，可使研磨刷之刷毛的前端部效率良好地接觸成為凹部之去角部分，而可效率良好地研磨端面全體。藉此，可高品質地研磨玻璃板之端面，且可使端面的強度(特別是彎曲強度)提升。

另外「端面之去角」，係指將玻璃板表裏之主面與端面之間的稜角部分予以研削，並稱研削而成之該面為「去角面」。

承前述第1至3態樣中之任一態樣，第4態樣係令積層體之積層方向上之刷毛前端之寬度為W，且令業經積層之玻璃板之積層方向的間隔為G時，以使滿足W≧G之條件的方式，隔著間隔調整構件來積層玻璃板，以形成積層體者。

依據本態樣，係於令積層體之積層方向上之刷毛前端之寬度為W，且令業經積層之玻璃板與玻璃板間之間隔為G時，以使滿足W≧G之條件的方式，將玻璃板隔著間 隔調整構件積層。藉此，可防止刷毛進入玻璃板與玻璃板之間而使玻璃板之表裏的主面被研磨至所需以上的情形。舉例而言，當玻璃板之主面形成有膜(例如，遮光膜)等之情況時，可有效防止該膜因研磨而被削去的情形。

承前述第1至4態樣中之任一態樣，第5態樣係將研磨刷與積層體沿著玻璃板之積層方向相對地移動時之相對移動速度設為500mm/min以下者。

依據本態樣，於使研磨刷與積層體沿著玻璃板之積層方向相對地移動時，其移動速度係設定為500mm/min以下。如前述，於使旋轉之研磨刷抵接於積層體之外周部以研磨玻璃板之端面時，藉由使研磨刷與積層體沿著玻璃板之積層方向相對地移動可效率良好地研磨端面。藉此，可使玻璃板的強度有效提升。此時，藉由將相對移動速度設定為500mm/min以下之低速度來研磨，可效率良好地研磨玻璃板表裏之主面與去角面間之邊界部分。即，藉由降低研磨刷與積層體之相對移動速度，可將研磨刷刷毛接觸玻璃板表裏之主面與去角面間之邊界部分的時間增長，而可更有效率地研磨該區域。然後，藉由高品質地研磨該區域，可使玻璃板端面的強度更加提升。

承前述第1至5態樣中之任一態樣，第6態樣係令研磨刷之刷毛長度為L，且令自研磨刷之軸部的外周起至積層體之外周部為止之距離為S時，以滿足5mm≦L≦40mm且3mm≦L-S≦20mm之條件的方式，使研磨刷抵接於積層體之外周部者。

依據本態樣，係於令研磨刷之刷毛長度為L，且令自研磨刷之軸部的外周起至積層體之外周部為止之距離為S時，以使滿足5mm≦L≦40mm且3mm≦L-S≦20mm之條件的方式，將研磨刷抵接於積層體之外周部。刷毛若過短的話，則剛性會變得過高，刷子容易於被研磨面造成傷痕。並且，因軸部震動的影響會使之變得無法精確地抵接於積層體之外周部。即，會變得無法使研磨刷以所需之抵接壓來抵接。另一方面，刷毛若過長的話，則會變得施壓困難，而難以所需之抵接壓使研磨刷抵接於積層體之外周部。雖然藉由增大壓入量(L-S)可確保抵接壓，但會有磨耗加劇的問題。因此，藉由以滿足前述條件之方式來構成研磨刷，並使研磨刷抵接於積層體之外周部，將可以適宜的壓力抵接，而可高品質地研磨玻璃板之端面。並且，亦可延長研磨刷的壽命。

承前述第1至6態樣中之任一態樣，第7態樣係將研磨刷之外徑R設為150mm~350mm者。

依據本態樣，係設定研磨刷之外徑R為150mm~350mm，來研磨玻璃板之端面。為更有效率地研磨端面，乃要求以預定之周速度使研磨刷旋轉並抵接於積層體之外周部。若將研磨刷之外徑縮小則會有研磨刷之磨耗加劇的問題。並且，為獲得所需之周速度，必須提高研磨刷之旋轉數，亦有裝置之負荷變高的問題。另一方面，若將研磨刷之外徑增大，則會有軸部之震動變大而無法精確地進行研磨之問題。藉由將研磨刷之外徑設定成 150mm~350mm，將可解決該等問題，並可對玻璃板的端面進行效率良好且高品質的研磨。

承前述第7態樣，第8態樣係將研磨刷之旋轉數設為100rpm~900rpm者。

依據本態樣，係設定研磨刷之外徑為150mm~350mm，且設定研磨刷之旋轉數為100rpm~900rpm，來研磨玻璃板之端面。藉由將研磨刷之外徑設為150mm~350mm，且將研磨刷之旋轉數設為100rpm~900rpm，則可一邊防止研磨刷之磨耗，同時並可效率良好地研磨玻璃板之端面。又，可高品質地研磨玻璃板之端面。

承前述第1至8態樣中之任一態樣，第9態樣係將研磨液之比重設為1.1~1.4者。

依據本態樣，係設定研磨液之比重為1.1~1.4，來研磨玻璃板之端面。藉由將研磨液之比重設為1.1~1.4，可效率良好地研磨玻璃板的端面。並且，可高品質地研磨玻璃板之端面。研磨液係含有研磨粒與分散媒(dispersion medium)所構成。而研磨粒，舉例而言係以氧化鈰構成且平均粒徑為2μm以下。

依據本發明，可有效率地研磨玻璃板的端面，且可提高玻璃板之端面的強度。且對於強化後業經切割之玻璃板端面的研磨尤為有用，可有效率地去除成為玻璃板端面之龜裂原因之傷痕。

1‧‧‧感測器一體型蓋玻璃

10‧‧‧玻璃板

11‧‧‧去角面

12‧‧‧輸入位置檢測用電極

14‧‧‧遮光層

16‧‧‧周邊配線

18‧‧‧保護層

20‧‧‧積層體

22‧‧‧間隔調整構件

22A‧‧‧保護膜

22B‧‧‧間隔物構件

24‧‧‧空隙(凹部)

30‧‧‧刷磨裝置

32‧‧‧積層體保持手段

34‧‧‧研磨刷

34A‧‧‧軸桿(軸部)

34B‧‧‧刷毛

36‧‧‧研磨液供給手段

38‧‧‧研磨液

A‧‧‧玻璃板之積層方向

B‧‧‧軸向

C‧‧‧去角面之積層方向之寬度

G‧‧‧玻璃板間之間隔

L‧‧‧刷毛長度

R‧‧‧研磨刷之外徑

S‧‧‧自研磨刷之軸部外周起至積層體之外周部為止之距離

S1‧‧‧化學強化步驟

S2‧‧‧感測器形成步驟

S3‧‧‧切割步驟

S4‧‧‧去角步驟

S5‧‧‧端面研磨步驟

圖1係概略地顯示感測器一體型蓋玻璃之構造例的截面圖

圖2係顯示感測器一體型蓋玻璃之製造步驟之一例的流程圖

圖3係說明玻璃板之研磨方法的說明圖

圖4係說明玻璃板之積層方法的說明圖

圖5係說明玻璃板之積層方法的說明圖

圖6係說明玻璃板之積層方法的說明圖

圖7係說明玻璃板之間隔調整方法的說明圖

用以實施發明之形態

以下，將依照所附圖式就本發明之理想實施形態予以說明。

另外，此處係以處理構成智慧型手機或輸入板電腦等靜電容量型觸控面板的輸入操作面的蓋玻璃，特別是處理感測器一體型蓋玻璃的情況為例來進行說明。

《感測器一體型蓋玻璃》

首先，就感測器一體型蓋玻璃進行概略說明。

圖1係概略地顯示感測器一體型蓋玻璃之構造例的截面圖。

感測器一體型蓋玻璃1係兼具作為構成靜電容量型觸控面板之輸入操作面之蓋玻璃的機能與作為用以形成輸入位置檢測用電極等之感測器基板的機能。

感測器一體型蓋玻璃1係於玻璃板10之一方的主面(即，與輸入操作面為相反側的面)上設置輸入位置檢測用電極12、黑色的遮光層14、周邊配線16及保護層18等所構成。

玻璃板10係以強化玻璃構成。玻璃板10之厚度通常為0.3~1.5mm左右，且宜為0.5~1.1mm。玻璃板10依所需可對其端面進行去角加工。即，對玻璃板表裏之主面與端面之間的稜角部分進行研削，於表裏主面之周緣部形成預定寬度之去角面11。

輸入位置檢測用電極12係以ITO(Indium Tin Oxide：氧化銦錫)膜等之透光性導電膜形成於玻璃板10之一方的主面中央區域(即，液晶顯示面板等顯示手段的有效畫素區域)。用以形成輸入位置檢測用電極12之透光性導電膜的厚度係20~100nm左右。

遮光層14之形成係為完全控制入射於液晶顯示面板的光，且形成於已形成有輸入位置檢測用電極12之中央區域的周圍區域，即形成於周邊區域。遮光層14舉例而言係由含鈦系絕緣性黑色顏料(Black Titanium Oxide)等之黑色感光性樹脂(光阻劑；photoresist)所形成。遮光層14之厚度係1~2μn左右。此外，遮光層14亦可藉由網印法(screen printing)等來形成。但是，使用印刷法時，遮光層14的厚度會厚達10~30μn左右，故遮光層14宜使用光阻劑。

周邊配線16係於遮光層14上，由例如Mo-Nb合金/Al/Mo-Nb合金、Mo-Nb合金/Al-Nd合金/Mo-Nb合金等金屬 構成的膜所形成。形成周邊配線16之金屬膜的厚度係0.3~0.5μn左右。

保護層18係主要以保護輸入位置檢測用電極 12、遮光層14及周邊配線16為目的而以覆蓋輸入位置檢測用電極12、遮光層14及周邊配線16之方式形成。保護層18舉例而言係由透光性之光阻劑所形成。保護層18的厚度係1~2μn左右。

《感測器一體型蓋玻璃之製造方法》

圖2係顯示感測器一體型蓋玻璃之製造步驟之一例的流程圖。

如前述，由生產性的觀點而言，感測器一體型蓋玻璃宜採於可取多片所需尺寸之玻璃板的素板(即，大尺寸玻璃板)上形成輸入位置檢測用電極等，之後再將之分割為製品之尺寸的方法製造。

此時，素板係使用強化玻璃。且如前述，作為強化玻璃之製造方法，為人所知的有利用加熱與冷卻造成玻璃膨脹與收縮之物理強化法(風冷強化法)，與將玻璃中之鹼離子與離子半徑較大的其他鹼離子進行離子交換之化學強化法。對於蓋玻璃而言，一般係適用化學強化法。

因此，於製造感測器一體型蓋玻璃1之際，首先係進行將未強化之素板予以化學強化之處理(步驟S1：化學強化步驟)。

其次，於素板之一方的主面上形成輸入位置檢測用電極12、遮光層14、周邊配線16及保護層18等，並於素 板上按製品單位來形成感測器類(步驟S2：感測器形成步驟)。關於形成該等感測器類之方法，因係公知之技術，故將其具體之說明予以省略。

其次，切割素板，以取多片製品尺寸之玻璃板10(步驟S3：切割步驟)。素板之切割係可利用例如劃線(scribe)‧裂片(break)法及雷射切割法等來進行。

劃線(scribe)‧裂片(break)法係以劃線刀具沿著割斷預定線於玻璃板的主面形成劃割線(溝線)，之後再藉由彎折玻璃板來進行切割之方法。

雷射切割法係沿著割斷預定線於玻璃板的表面照射雷射光，以熱應力割斷之方法。熱源方面，亦可使用放電電極來取代雷射光。

另外，於切割時，每個玻璃板10通常係被切割成相同的尺寸。

切割後，於玻璃板10之端面施行去角加工(步驟S4：去角步驟)。舉例而言，去角加工係藉由使旋轉之磨輪接觸玻璃板10之端面，來研削並去除玻璃板10表裏的主面與端面之間的稜角部分來進行之。但是，亦可利用除此以外之方法施行去角加工。

另外，該去角加工步驟係選擇性進行的步驟。即，切割後之去角加工並非必須實施之處理，而係依所需而選擇性地進行的處理。但是，藉由施行該去角加工，可有效防止邊緣部分之龜裂，並可提高玻璃板10之強度。

再者，如前述，玻璃板10係切割業經化學強化的 素板而獲得。如此一來，強化後，經切割之玻璃板10會於端面露出拉伸應力層。而且，如所述於已露出拉伸應力層之端面若有傷痕的話，則玻璃板10會有以該傷痕為起點而龜裂的情形。

因此，本實施形態中，乃於玻璃板10之端面施以研磨處理(步驟S5：端面研磨步驟)。藉由施行研磨處理可去除成為龜裂原因的傷痕，且可提高玻璃板10之強度。

此處，本發明中，玻璃板之「端面」係指將素板予以切割後之切割面，且當切割後施行了去角加工的情況時，則包含去角面11。

《玻璃板之端面之研磨方法》

圖3係說明玻璃板之研磨方法的說明圖。

〈積層體之形成〉

如同圖所示，於本實施形態之研磨方法，係積層多片(例如200片)玻璃板10形成積層體20，並以研磨刷34刷磨其積層體20之外周部，以統一研磨各個玻璃板10之端面。

形成積層體20時，係使玻璃板10隔著間隔調整構件22進行積層，且積層方向之間隔G調整為預定值。

間隔調整構件22係如圖3所示，於玻璃板10之兩主面設置保護膜22A時，可將該保護膜22A作為間隔調整構件使用。即，為防止玻璃板10損傷，會有於其兩主面設置可去除之保護膜22A的情形，設有該保護膜22A時，可將該保護膜22A作為間隔調整構件22使用。

保護膜22A係可使用例如由樹脂等構成的膜。 又，亦可藉由於玻璃板10之主面上塗佈液狀的硬化性樹脂並使之硬化來形成。

將保護膜22A作為間隔調整構件來使用時，藉由 調整保護膜22A的厚度可調整間隔G。另外，保護膜22之厚度為10~30μm左右。

又，間隔調整構件22亦可如圖5所示，以具有預 定厚度之板狀間隔物構件22B來構成。舉例而言，間隔物構件22B可以PET(聚對苯二甲酸乙二酯)等之樹脂構成。另外，間隔物構件22B亦可於表面形成黏著層，以使其可貼附於玻璃板10。

進而言之，間隔調整構件22亦可如圖6所示，由保 護膜22A與間隔物構件22B構成。如前述，保護膜22A因厚度為10~30μm左右故其可調整之範圍會受到限制。因此，當僅使用保護膜22A無法作間隔G之調整時，會併用間隔物構件22B，以使滿足積層方向之玻璃板10之間隔G的條件。

隔著間隔調整構件22所積層之玻璃板10，係藉由 夾子等夾具(無圖示)由積層方向之兩側挾持固定。另外，亦可不用夾具而使用接著劑進行固定。此時，則使用可去除之接著劑，譬如使用熱軟化性的樹脂來接著。

另外，於積層之際，玻璃板10係使外周之端面對 齊來進行積層。並且，間隔調整構件22係以較玻璃板10的尺寸更小的尺寸來形成，並配置於玻璃板10之外周以內，以使不超出於玻璃板10之各邊。因此，於所形成之積層體20之外周部，會於玻璃板10與玻璃板10之間形成有一溝狀 之空隙(即，凹部)24。

就前述積層體的形成而言，各個玻璃板10的板厚宜設為相同厚度之規格，並且間隔調整構件22之厚度亦以設為相同厚度之規格為宜。

(刷磨裝置〉

刷磨裝置30係如圖4所示，主要係具備積層體保持手段32、研磨刷34、驅動研磨刷34之研磨刷驅動手段(無圖示)及供給研磨液38之研磨液供給手段36所構成。

積層體保持手段32係將積層體20作可拆卸式保持。於同圖所示之例中，係從積層方向的兩側挾持保持著積層體20。

研磨刷34係由軸桿(shaft)(亦稱「軸部」)34A，與於該軸桿34A之外周經放射狀植入有多數之刷毛34B所構成。軸桿34A係形成為具有預定之外徑的圓筒狀。刷毛34B係藉由將經植入為帶狀體者(所謂的螺旋刷(channel brush))螺旋狀地纒繞於軸桿34A之外周，而設置於軸桿34A之外周所構成者，即所謂的螺旋滾子刷(channel roller brush)。刷毛34B係由例如聚醯胺樹脂等做成之可撓性之線材所構成。而於該線材中，亦可含有氧化鋁(Al₂O₃)、碳化矽(SiC)及金剛石等之粒子。

研磨刷34係沿著構成積層體20之玻璃板10之積層方向作配置。即，係配置成玻璃板10之積層方向A與軸桿34A之軸向B一致，且玻璃板10之積層方向A與軸桿34A之軸向B係平行的。

並且，研磨刷34係形成為其軸向之長度較積層體 20之積層方向長度更長。而，示於圖3之研磨刷34與積層體20，以研磨處理之初始位置而言，係配置成研磨刷34抵接於構成積層體20之各玻璃板10之端面。

研磨刷驅動手段主要係以下述手段構成：旋轉驅 動手段(無圖示)，係使研磨刷34旋轉者；Z方向移動手段(無圖示)，係使研磨刷34於軸向(圖3中Z方向)來回移動者；X方向移動手段(無圖示)，係使研磨刷34朝積層體20之方向(圖3中X方向)進退移動者；及Y方向移動手段(無圖示)，係使研磨刷34於與積層體20之方向垂直相交的方向(圖3中垂直相交於X-Z平面之方向：Y方向)上來回移動者。

旋轉驅動手段，係以例如馬達構成，且連接於軸 桿34A，使軸桿34A進行軸轉。

Z方向移動手段，係以例如用馬達驅動之進給螺 旋機構所構成，且與旋轉驅動手段一同使研磨刷34於軸方向上來回移動。

X方向移動手段，係以例如用馬達驅動之進給螺 旋機構所構成，且與旋轉驅動手段及Z方向移動手段一同使研磨刷34朝著積層體20進退移動。

Y方向移動手段，係以例如用馬達驅動之進給螺 旋機構所構成，且與旋轉驅動手段、Z方向移動手段及X方向移動手段一同使研磨刷34沿著積層體20的邊緣來回移動。

研磨液供給手段36，係於研磨刷34與積層體20 之接觸部供給研磨液。研磨液38係含有研磨材與分散媒，且被調整成預定之比重。作為研磨材者可使用例如氧化鈰及氧化鋯等。研磨材(即，研磨粒)之平均粒徑(D50)例如為5μm以下，且宜為2μm以下。研磨液之比重宜設為1.1~1.4。

研磨刷驅動手段及研磨液供給手段36之驅動，係 由控制手段(無圖示)所控制。控制手段係依預定之控制程式來控制研磨刷驅動手段及研磨液供給手段36之驅動，且控制研磨刷之動作(旋轉、移動)及研磨液之供給。

〈研磨方法〉

玻璃板10之端面的研磨係依下述方式進行。

首先，以一定之旋轉速度(旋轉數)使研磨刷34旋轉。

其次，使研磨刷34朝著積層體20移動(即，使之往圖3中箭頭記號所示之X軸方向移動)，且使研磨刷34以推壓積層體20之外周部之方式抵接。此時，係使研磨刷34在以預定之壓入量進行抵接之情形下移動。

接著，自研磨液供給手段36以預定之供給量，於研磨刷34與積層體20之抵接部供給研磨液。

接下來，使研磨刷34以預定之速度於軸向(即，玻璃板10之積層方向。圖3中以箭頭記號表示之Z軸方向)來回移動。

於該狀態下進行研磨。即，一邊使旋轉之研磨刷34於軸向A(玻璃板10之積層方向)上來回移動，一邊使研磨刷34以推壓之方式抵接於積層體20之外周部，來研磨構成 積層體20之各個玻璃板10之端面。藉此，可將多片玻璃板10統一進行研磨處理。

又，藉由不只將旋轉之研磨刷34推貼於積層體20之外周部，更使之於玻璃板10之積層方向(圖3中以箭頭記號表示之Z軸方向)來回移動進行研磨，可更有效地研磨端面。即，積層體20之外周部雖於於玻璃板10與玻璃板10之間形成溝狀空隙(凹部)24，但藉由使研磨刷34一邊於玻璃板10之積層方向上來回移動且一邊進行研磨，可使刷毛34B適當地抵接於空隙24的部分，且可效率良好地研磨端面。藉此，可高品質地研磨玻璃板10之端面，且可使端面之強度(特別是彎曲強度)提升。

又，藉由使之於玻璃板10之積層方向上來回移動進行研磨，則即便是譬如研磨刷34之一部分有缺點時，亦可勻均地研磨全體。即，並非經常由同一地方研磨，故可將全體勻均地研磨。

〈加工條件〉 [軸方向之移動速度]

如前述，藉由使研磨刷34一邊於玻璃板10之積層方向來回移動且一邊進行研磨，可效率良好且高品質地研磨各玻璃板10之端面。

但是，一旦研磨刷34之軸向(B)之移動速度太快，則難以研磨玻璃板10之表裏主面與去角面11之邊界部分。

因此，研磨刷34之軸向(B)之移動速度宜盡可能 設低。具體而言，宜設在500mm/min以下，設為100mm/min以下更佳。藉此，可增長刷毛34B接觸表裏之主面與去角面11之邊界部分的時間，且可效率良好地研磨該區域。而結果，可更高品質地研磨玻璃板10之端面，且可使端面之強度(特別是彎曲強度)更加提升。

[玻璃板之間隔G]

如前述，玻璃板10係隔著間隔調整構件22來進行積層，且可調整鄰接玻璃板10與玻璃板10之間之間隔G。該間隔G如圖7所示，係設定成研磨刷34之刷毛34B前端之寬度以下的值。即，令研磨刷34之刷毛34B(獨立之線材)之前端之寬度為W時，調整間隔G使滿足W≧G之條件。

藉由依所述方式來調整間隔G，可防止研磨刷34之前端進入玻璃板10與玻璃板10之間，而使玻璃板之表裏的主面被研磨至所需以上的情形。且藉此，可防止形成於玻璃板10之周緣部之遮光層14因研磨而被削去的情形。

因此，舉例而言，當刷毛34B前端之寬度W為0.2mm(φ 0.2mm)時，宜將玻璃板10之間隔G調整成0.2mm以下(例如0.15mm)。又，例如刷毛34B前端之寬度W為0.3mm(φ 0.3mm)時，則將玻璃板10之間隔G調整成0.3mm以下(例如0.25mm)。另外，前述之「刷毛34B前端之寬度W」係指刷毛34B前端之寬度的平均值，且間隔G亦指平均值。

另外，當刷毛34B前端部之截面形狀為圓形時，刷毛34B前端之寬度W係指其直徑，而當前端部之截面形狀為橢圓等之特異形狀時，則係指與積層體20相對向時之積 層方向上之直徑。另外，因研磨而導致刷毛34B之前端形狀產生變化時，亦將刷毛34B前端之寬度W作同樣地解釋。

刷毛34B前端之寬度W宜為0.1~0.5mm。若寬度W小於0.1mm，則研磨效率會變差，而若超過0.5mm的話則研磨品質會不平均。更理想之範圍為0.15~3mm。

又，當於玻璃板10之端面施行有去角加工處理時，包含去角面11之積層方向上寬度在內之間隔宜設為刷毛34B前端之寬度以下。即，如圖7所示，當令玻璃板10之間隔為G，且令去角面11之積層方向上之寬度為C時，調整間隔G使滿足W≧G+2C之條件。

玻璃板10之間隔G之調整方法係如前述，當於玻璃板10之兩主面上設有保護膜22A時，可藉由該保護膜22A之厚度來進行調整(參照圖4)。又，使間隔物構件22B介於玻璃板10之間，即可藉由該間隔物構件22B之厚度來進行調整(參照圖5)。且可更進一步藉由保護膜22A與間隔物構件22B雙方的厚度來進行調整(參照圖6)。

[研磨刷之壓入量]

研磨時研磨刷34之壓入量之設定，於令刷毛34B之長度(自軸桿34A之外周起至刷毛34B之前端為止之長度)為L，且令自研磨刷34之軸桿34A外周起至積層體20外周部為止之距離為S時，宜滿足5mm≦L≦40mm且3mm≦L-S≦20mm之條件。另外，圖3所示者係使研磨刷34朝積層體20之方向移動前之狀態，故為L<S。當研磨刷34之前端接觸積層體20之外周時為L=S，而若更進一步進行壓入的話則變為L> S(即，L-S>0)。

刷毛34B若太短則剛性會變得過高，故刷子容易於被研磨面造成傷痕。並且，因軸部震動之影響而變得無法精確地抵接於積層體之外周部(即，會變得無法使之以所需之抵接壓來抵接)。

另一方面，刷毛34B若太長則會變得施壓困難，因而難以所需之抵接壓使研磨刷抵接積層體之外周部。

另外，關於抵接壓，雖然藉由增大壓入量(L-S)(即，縮短距離S)可確保某程度之壓力，但會有磨耗加劇之問題。

因此，藉由以滿足前述條件之方式來構成研磨刷34，並使其抵接於積層體20之外周部，則可以適當的壓力進行抵接，且可高品質地研磨玻璃板10之端面。並且，亦可延長研磨刷34之壽命。

另外，更理想的範圍設定宜滿足10mm≦L≦30mm且4mm≦L-S≦10mm之條件。

[研磨刷之構造]

如前述，研磨刷34係宜將刷毛34B之長度L設定在5mm≦L≦40mm之範圍。

此外，研磨刷34係宜將其外徑R設定在150mm~350mm之範圍。

為更有效率地研磨玻璃板10之端面，而要求以預定之圓周速度來使研磨刷34旋轉，並使其高精度地抵接於積層體20之外周部。若將研磨刷34之外徑縮小則會有研磨 刷34之磨耗加劇之問題。又，為獲得所需之圓周速度，則必須提高研磨刷34之旋轉數，亦有裝置之負荷變高之問題。另一方面，若將研磨刷34之外徑增大，則軸桿34A之震動會變大，從而有無法精確地進行研磨之問題。

因此，研磨刷34宜設定為前述範圍之外徑，即宜設定外徑為150mm~350mm。

又，依所述方式構成之研磨刷34宜將旋轉數設定在100rpm~900rpm之範圍來進行研磨。藉此，可防止研磨刷34之磨耗，且同時效率良好地研磨端面。

舉一例來說，可將研磨刷34之外徑設為290mm，且將旋轉數設定為600rpm來進行研磨。

另外，如前述，刷毛34B係以由聚醯胺樹脂等做成之可撓性之線材所構成為宜。

[研磨液之構成]

如前述，研磨液38係含有研磨材與分散媒(dispersion medium)，且調整成預定之比重。

而作為研磨材，譬如可使用氧化鈰及氧化鋯等。研磨材(即，研磨粒)之平均粒徑(D50)舉例而言係5μm以下，且宜為2μm以下。研磨液之比重宜設定為1.1~1.4。

《其他之實施形態》

本發明並不侷限於以上說明之實施形態的記載內容，且在不脫離本發明之要旨之範圍內可適當地進行變更，自不待言。

舉例而言，於前述實施形態中，雖以處理感測器 一體型蓋玻璃的情況為例進行了說明，但亦可適用於處理未形成有感測器之通常之蓋玻璃的情況。並且，亦可適用於處理蓋玻璃以外之用途的玻璃板的情況。

又，於前述實施形態中，雖以處理端面業已施行去角加工之玻璃板的情況為例進行了說明，但本發明亦可適用於處理端面未經施行去角加工之玻璃板的情況。

又，於前述實施形態中，雖以處理將強化玻璃切割而成之玻璃板的端面的情況為例進行了說明，但同樣可適用於處理切割後再強化之玻璃板之端面的情況。

進而言之，同樣亦可適用於非強化玻璃之玻璃板之端面的情況。

又，於前述實施形態中，雖以使研磨刷側沿著軸向(即，玻璃板10之積層方向)來回移動作研磨之例子來作說明，但亦可設為使積層體側沿著玻璃板之積層方向來回移動作研磨之構成。又，亦可設為使研磨刷與積層體雙方移動作研磨之構成。

進而言之，於前述實施形態中，雖使研磨刷34沿著軸向(即，玻璃板10之積層方向)來回移動並進行研磨，但亦可設為僅朝一方向移動來進行研磨之構成。

產業上之可利用性

依據本發明，可效率良好地研磨玻璃板之端面，且可提升玻璃板之端面的強度，特別是對於強化後經切割而成之玻璃板之端面的研磨係有用的，且可效率良好地去除成為玻璃板之端面龜裂原因的傷痕。本發明對於感測器 一體型蓋玻璃、其他各種的蓋玻璃及其他用途之玻璃板之端面的研磨處理係有用的。

另外，在此援引已於2012年2月22日提出申請之日本專利申請案第2012-036553號之說明書、申請專利範圍、圖式及摘要之全部內容，將其納入以作為本發明之揭示

10‧‧‧玻璃板

20‧‧‧積層體

22‧‧‧間隔調整構件

30‧‧‧刷磨裝置

32‧‧‧積層體保持手段

34‧‧‧研磨刷

34A‧‧‧軸桿(軸部)

34B‧‧‧刷毛

36‧‧‧研磨液供給手段

38‧‧‧研磨液

A‧‧‧玻璃板之積層方向

B‧‧‧軸向

L‧‧‧刷毛長度

R‧‧‧研磨刷之外徑

S‧‧‧自研磨刷之軸部外周起至積層體之外周部為止之距離

Claims (9)

1. 一種玻璃板之端面處理方法，具有以下步驟：積層多片玻璃板以形成積層體之步驟；及一邊使於軸部外周呈放射狀植入有刷毛的研磨刷旋轉且一邊使之抵接於前述積層體之外周部，並於前述研磨刷與前述積層體之抵接部分供給研磨液來研磨前述玻璃板之端面的步驟；又該研磨玻璃板之端面的步驟係使前述研磨刷之軸方向與前述玻璃板之積層方向一致，並於使前述研磨刷旋轉之同時，一邊使前述研磨刷與前述積層體沿著前述玻璃板之積層方向相對地移動，且一邊使前述研磨刷抵接於前述積層體之外周部來研磨前述玻璃板之端面。
2. 如申請專利範圍第1項之玻璃板之端面處理方法，其係將強化後業經切割之前述玻璃板積層，來形成前述積層體。
3. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃板之端面處理方法，其係積層端面經去角之前述玻璃板，來形成前述積層體。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之玻璃板之端面處理方法，其係令前述積層體之積層方向上之前述刷毛前端之寬度為W，且令業經積層之前述玻璃板之積層方向的間隔為G時，以使滿足W≧G之條件的方式，隔著間隔調整構件來積層前述玻璃板，以形成前述積層體。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之玻璃板之端面處 理方法，其係將前述研磨刷與前述積層體之相對移動速度設為500mm/min以下。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之玻璃板之端面處理方法，其係令前述研磨刷之前述刷毛長度為L，且令自前述研磨刷之前述軸部之外周起至前述積層體之外周部為止之距離為S時，以滿足5mm≦L≦40mm且3mm≦L-S≦20mm之條件的方式，使前述研磨刷抵接於前述積層體之外周部來進行研磨。
7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之玻璃板之端面處理方法，其係將前述研磨刷之外徑設為150mm~350mm。
8. 如申請專利範圍第7項之玻璃板之端面處理方法，其係將前述研磨刷之旋轉數設為100rpm~900rpm。
9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之玻璃板之端面處理方法，其係將前述研磨液之比重設為1.1~1.4。