TW201309764A - 硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置 - Google Patents

硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201309764A
TW201309764A TW101126596A TW101126596A TW201309764A TW 201309764 A TW201309764 A TW 201309764A TW 101126596 A TW101126596 A TW 101126596A TW 101126596 A TW101126596 A TW 101126596A TW 201309764 A TW201309764 A TW 201309764A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
hard coat
film
coat layer
ring structure
composition
Prior art date
Application number
TW101126596A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Tsunekawa
Seiichi Isojima
Toshiki Iwasaki
Original Assignee
Dainippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=48012694&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TW201309764(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Dainippon Printing Co Ltd filed Critical Dainippon Printing Co Ltd
Publication of TW201309764A publication Critical patent/TW201309764A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/06—Coating with compositions not containing macromolecular substances
    • C08J7/065—Low-molecular-weight organic substances, e.g. absorption of additives in the surface of the article
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/16—Applications used for films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本發明提供一種基材膜與硬塗層之密合性優異並且不產生干涉條紋，進而耐濕熱性、平滑性優異且可較佳地防止皺褶產生的硬塗膜。本發明之硬塗膜之特徵在於：具有由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜、與形成於上述基材膜之一面上之硬塗層者，且上述硬塗層係使用含有具五員環結構的環結構成分之硬塗層用組成物而形成，該五員環結構含有碳原子以外之原子。

Description

硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置
本發明係關於一種硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD，Electroluminescence Display)、電子紙、觸控面板、平板PC、有機發光二極體(OLED)等影像顯示裝置中，通常於最表面設置有用以抗反射之光學積層體。此種抗反射用之光學積層體藉由光之散射或干涉，而抑制影像之映入或降低反射率。
先前，作為此種光學積層體，已知有於三醋酸纖維素(TAC，Triacetyl Cellulose)基材之表面形成有硬塗層之硬塗膜。
然而，三醋酸纖維素基材之耐濕熱性較差，若於高溫多濕之環境下將硬塗膜用作偏光板保護膜，則存在會使偏光功能或色相等偏光板功能降低之缺點。
對於上述問題，提出有使用以丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂為主成分之透明塑膠基材。
然而，於以丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂為主成分之透明塑膠基材之單面或雙面上形成有硬塗層時，存在基材與硬塗層之密合性差之問題。
針對上述問題，例如，專利文獻1中揭示有如下內容： 使用含有多元醇丙烯酸酯及多元醇甲基丙烯酸酯中至少一種成分的材料，使硬塗膜之乾燥溫度為80~120℃來進行時間為1~10分鐘之乾燥，藉此實現基材膜與硬塗層之密合性提高。
又，例如，非專利文獻1中揭示有如下內容：使用(甲基)丙烯酸酯系光硬化型樹脂，於塗敷該樹脂後、照射紫外線前，以60℃、10分鐘進行預加熱，藉此實現基材膜與硬塗層之密合性提高。
進而，專利文獻2中揭示有如下內容：除對基材膜進行電暈放電處理、氧化處理等物理性處理以外，亦進行塗布被稱為錨固劑(anchor agent)或底漆劑(primer agent)之塗料後，形成硬塗層，藉此實現基材膜與硬塗層之密合性提高。
然而，專利文獻1中揭示之方法，由於乾燥溫度高，故而存在硬塗膜之製造成本增高之問題，又，非專利文獻1中揭示之方法中，由於加熱時間(乾燥時間)延長，故而存在硬塗膜之製造需要長時間、又製造成本增高之問題，而任一種方法均會使生產變差。
又，專利文獻2中揭示之方法，由於硬塗膜之製造所需步驟增加，必需進行特別處理，故而仍然會使生產性變差。
進而，於使用以丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂為主成分之基材膜的硬塗膜中，於基材膜與硬塗層之間產生有折射率差，當使用該硬塗膜形成偏光板時，亦存在產 生干涉條紋而外觀不良之問題。
[專利文獻1]日本特開2009-185282號公報
[專利文獻2]日本特開2011-81359號公報
[非專利文獻1](甲基)丙烯酸酯系硬化型樹脂之密合性(東亞合成集團研究年報，2006-9號)
鑒於上述現狀，本發明之目的在於提供一種基材膜與硬塗層之密合性優異並且不產生干涉條紋，進而耐濕熱性、平滑性優異且可較佳地防止皺褶產生的硬塗膜；使用該硬塗膜之偏光板及前板，以及影像顯示裝置。
本發明人等進行了銳意研究，結果發現：藉由使用含有單元結構中具有五員環結構的環結構成分，該五員環結構含有碳原子以外之原子，以作為形成硬塗層之硬塗層形成用組成物，而上述基材膜即便為由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成，該基材膜與硬塗層亦具有優異之密合性，進而可防止於該等層間產生干涉條紋，從而完成本發明。
即，本發明係一種硬塗膜，係具有由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜、與形成於上述基材膜之一面上之硬塗層者，且其特徵在於：上述硬塗層係使用含有具五員環結構的環結構成分之硬塗層用組成物而形成，該五員環結構含有碳原子以外之原子。
於本發明之硬塗膜中，較佳為，上述碳以外之原子為氮原子及/或氧原子。
又，本發明之硬塗膜較佳為於上述基材膜之硬塗層側 之界面附近形成有由構成上述基材膜之材料與構成上述硬塗層之材料相溶而成的相溶層。
又，較佳為於上述硬塗層形成用組成物所含之黏合劑樹脂固形物成分100質量份中以30~70質量份之比率含有上述環結構成分。
又，本發明之硬塗膜較佳為於上述環結構成分之五員環結構中含有至少一個氮原子及/或氧原子。
較佳為，上述環結構成分選自由含馬來亞醯胺(maleimide)基之丙烯酸系聚合物、含馬來亞醯胺基之丙烯酸系單體、唑啶酮丙烯酸酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮及γ-丁內酯丙烯酸酯所組成群中之至少一種。
又，本發明亦為一種硬塗膜之製造方法，其具有如下步驟：於由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜上塗佈含有具五員環結構的環結構成分之硬塗層用組成物而形成塗膜之步驟，該五員環結構含有碳原子以外之原子，及使上述塗膜硬化而形成硬塗層之步驟；於形成上述硬塗層之步驟中，於上述基材膜之硬塗層側之界面附近形成由構成上述基材膜之材料與構成上述硬塗層之材料相溶而成的相溶層。
又，本發明亦為一種偏光板，係具備偏光元件而成者，且其特徵在於：於上述偏光元件之表面具備本發明之硬塗膜。
又，本發明亦為一種前板，其將本發明之硬塗膜保持於表面。
進而，本發明亦為一種影像顯示裝置，其具備本發明之硬塗膜、或者本發明之偏光板、或本發明之前板。
以下，詳細地說明本發明。
本發明係一種硬塗膜，其具有由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜、與形成於該基材膜之一面上之硬塗層。
具備由上述(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜的本發明之硬塗膜與具備由TAC所構成之基材膜之硬塗膜相比，耐濕熱性及平滑性優異，並且可較佳地防止皺褶之產生。
再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸」係指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
於本發明中，上述基材膜係由丙烯酸系樹脂所構成。
作為構成此種基材膜之丙烯酸系樹脂，較佳為例如具有環結構之丙烯酸系樹脂。
作為具有上述環結構之丙烯酸系樹脂，並無特別限定，可較佳地使用例如具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、或具有醯亞胺環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。由該等(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜與由TAC所構成之基材膜相比，機械強度及平滑性優異，又，透濕度低，於高溫環境下之耐熱性、於高濕環境下之耐濕性等耐久性優異。
上述基材膜之厚度較佳為20~300 μm，更佳上限為200 μm、下限為30 μm。若上述基材膜之厚度未達20 μm，則有於本發明之硬塗膜產生皺褶之情形，另一方面，若超過300 μm，則有本發明之硬塗膜變厚、而透光性等光學特性差之 情形。
本發明之硬塗膜中，於上述基材膜之一面上具有硬塗層。
上述硬塗層係使用含有具五員環結構的環結構成分的硬塗層用組成物而形成，該五員環結構含有碳原子以外之原子。
藉由上述硬塗層用組成物含有上述環結構成分，本發明之硬塗膜的基材膜與硬塗層之密合性優異，又，可較佳地防止由該等層間之折射率差而導致產生干涉條紋。一般認為其原因在於：藉由將含有上述環結構成分之硬塗層用組成物塗佈於基材膜之一面上而形成硬塗層，而於該基材膜之硬塗層側之界面附近形成後述之構成基材膜之材料與構成硬塗層之材料相溶而成的相溶層。再者，於使用不含五員環結構者(例如具有六員環結構者)、或即使具有五員環結構，但於單元結構中亦不含碳原子以外原子者作為上述環結構成分時，與本發明相比，基材膜與硬塗層之密合性較差。
較佳為於上述硬塗層用組成物所含之黏合劑樹脂固形物成分100質量份中以30~70質量份之比率含有上述環結構成分。若未達30質量份，則有本發明之硬塗膜之基材膜與硬塗層之密合性及干涉條紋防止性不足之情形。另一方面，若超過70質量份，則有鉛筆硬度、耐擦傷性等作為硬塗膜之硬度變得不足之情形。
於本發明之硬塗膜中，較佳為上述環結構成分所含之 碳原子以外之原子為氮原子及/或氧原子。
作為此種環結構成分，尤其較佳為於五員環結構中含有至少一個氮原子及/或氧原子，即於構成五員環結構之原子含有氮原子及/或氧原子。作為此種環結構成分，具體而言，例如可較佳地列舉：含馬來亞醯胺基之丙烯酸系聚合物、含馬來亞醯胺基之丙烯酸系單體、唑啶酮丙烯酸酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、γ-丁內酯丙烯酸酯、聚乙烯吡咯啶酮等。
藉由使用含該等化合物之硬塗層用組成物來形成硬塗層，而使本發明之硬塗膜中上述基材膜與硬塗層之密合性極優異。
上述環結構成分可單獨使用，亦可併用兩種以上。
較佳為，上述硬塗層用組成物含有上述環結構成分以外之黏合劑樹脂(以下亦稱為其他黏合劑樹脂)。
作為上述其他黏合劑樹脂，較佳為具有透明性者，例如可列舉：經紫外線或電子束而硬化之樹脂即游離輻射硬化型樹脂、游離輻射硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂(熱塑性樹脂等，只需於塗敷時使用以調整固形物成分而添加之溶劑乾燥即可形成被膜之樹脂)之混合物、或熱硬化型樹脂。更佳為游離輻射硬化型樹脂。
再者，於本說明書中，「樹脂」為亦包括單體、寡聚物等樹脂成分之概念。
作為上述游離輻射硬化型樹脂，例如可列舉具有丙烯酸酯系官能基之化合物等具有1個或2個以上之不飽和鍵 的化合物。作為具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯等。作為具有2個以上之不飽和鍵之化合物，例如可列舉：聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物，或上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等之反應生成物(例如多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯)等。
除上述化合物以外，亦可將具有不飽和雙鍵之分子量相對低之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂(spiroacetal resin)、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂等用作上述游離輻射硬化型樹脂。
上述游離輻射硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂併用而使用。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，而可有效地防止塗佈面之被膜缺陷。作為可與上述游離輻射硬化型樹脂併用而使用之溶劑乾燥型樹脂，並無特別限定，通常可使用熱塑性樹脂。
作為上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯基醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、 聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂較佳為非結晶性，且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共用溶劑)。就成膜性、透明性或耐候性之觀點而言，尤佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
作為可用作上述其他黏合劑樹脂之熱硬化性樹脂，可列舉：酚系樹脂、脲樹脂、二烯丙基酞酸(diallylphthalate)樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺(guanamine)樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
較佳為，上述硬塗層用組成物進而含有調平劑。
藉由含有上述調平劑，而可使硬塗層之平面性良好，且可防止硬塗膜之結塊。
作為上述調平劑，例如可列舉：氟系調平劑、聚矽氧系調平劑、丙烯酸系調平劑等公知者。其中，就能夠以較少添加量確保之油墨之穩定性、塗敷面之穩定性方面而言，較佳為氟系調平劑。
上述調平劑之含量較佳為相對於硬塗層用組成物之黏合劑樹脂固形物成分100質量份為0.1~1質量份。若未達0.1質量份，則有硬塗層之平面性變差、容易產生霧化(haze)或不均、抗結塊性未充分發揮之虞。另一方面，若超過1質量份，則有硬塗層用組成物之分散性或適用期容易變差，因後述抗結塊劑之凝聚或對塗膜之不良影響而使得硬 塗層之霧度有變高之虞。
又，上述硬塗層用組成物亦可含有抗結塊劑。
作為上述抗結塊劑，可列舉不具有反應基且平均一次粒徑為100~600 nm之矽或苯乙烯等粒子。
若上述平均一次粒徑未達100 nm，則有未發揮抗結塊性之虞。若超過600 nm，則有霧度變高之虞。上述平均一次粒徑更佳為100~350 nm。
再者，上述平均一次粒徑係於甲基異丁基酮5重量%分散液之狀態下利用雷射繞射散射法粒度分佈測定裝置進行測定所獲得的值。
上述抗結塊劑之含量較佳為相對於硬塗層用組成物之黏合劑樹脂固形物成分100質量份為0.5~3質量份。若未達0.5質量份，則有無法發揮抗結塊性之虞。若超過3質量份，則由如下之虞：分散性明顯惡化而導致凝聚/凝膠化，結果會使本發明之硬塗膜表面之外觀上之缺點或霧度上升有關。
上述硬塗層用組成物較佳為進而含有光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑，只要為公知者則並無特別限定，例如可列舉：苯乙酮類(例如，商品名Irgacure 184，Ciba Specialty Chemicals公司製造之1-羥基-環己基-苯基-酮；商品名Irgacure 907，Ciba Specialty Chemicals公司製造之2-甲基-1[4-(甲硫基)苯基]-2-啉丙烷-1-酮)、二苯基酮類、噻噸酮(thioxanthone)類、安息香、安息香甲醚、芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、 安息香磺酸酯等。其中，較佳為苯乙酮類。
上述光聚合起始劑之含量較佳為相對於硬塗層用組成物中之黏合劑樹脂固形物成分100質量份為1~7質量份。若未達1質量份，則光聚合起始劑之量不足而有硬化不足之虞。若超過7質量份，則有如下之虞：光聚合起始劑過剩，而由過剩而導致光聚合反應產生差錯，反而引起硬度不足並產生由溶解殘留所致之缺點。
上述光聚合起始劑之含量更佳為相對於上述樹脂固形物成分100質量份為2~5質量份。
上述硬塗層用組成物除上述成分以外，亦可視需要進而含有其他成分。
作為上述其他成分，可列舉：熱聚合起始劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、抗靜電劑、抗氧化劑、防污劑、滑澤劑、折射率調整劑、分散劑等。該等可使用公知者。
上述硬塗層用組成物中，較佳為總固形物成分為20~50%。若低於20%，則有殘餘溶劑殘留或產生白化之虞。若超過50%，則有硬塗層用組成物之黏度升高、塗敷性下降而於表面出現不均或條紋，或產生干涉條紋之虞。上述固形物成分更佳為30~45%。
上述硬塗層用組成物可使上述黏合劑樹脂及調平劑、抗結塊劑、光聚合起始劑、以及其他成分混合分散於溶劑中而製備。
上述混合分散可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機等 公知之裝置而進行。
作為上述溶劑，可列舉：水、醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME、乙二醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙酮)、脂肪族烴(例如己烷、環己烷)、鹵化烴(例如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮)、醚(例如二乙醚、二烷、四氫呋喃)、醚醇(例如1-甲氧基-2-丙醇)等。
其中，甲基異丁基酮、環己酮、二甲基甲醯胺由於可於基材膜良好地形成後述之相溶層，故而特別適合使用。
將上述硬塗層用組成物塗佈於上述基材膜上而形成塗膜，並視需要使之乾燥後，使上述塗膜硬化，藉此可形成硬塗層，而可製造本發明之硬塗膜。
此處，由於上述硬塗層用組成物含有上述環結構成分，故而於上述基材膜上形成硬塗層，藉此於該基材膜之硬塗層側之界面附近形成有由構成基材膜之材料與構成硬塗層之材料相溶而成的相溶層。其理由推測如下。
即，推測為：於本發明中，構成基材膜之(甲基)丙烯酸系樹脂可較佳地使用具有內酯環或醯亞胺環等五員環結構者，若於由具有此種環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜上塗佈上述硬塗層用組成物，則藉由上述硬塗層用組成物所含之環結構成分，而由上述(甲基)丙烯酸系樹脂所 構成之基材膜之表面會經腐蝕、溶解。並且，具有與上述(甲基)丙烯酸系樹脂中之環結構相近結構的上述環結構成分滲透至上述基材膜，其結果會形成有構成基材膜之(甲基)丙烯酸系樹脂與環結構成分相溶而成之相溶層。
藉由形成上述相溶層，而本發明之硬塗膜之基材膜與硬塗層之密合性優異，又，可防止由該等層間之折射率差導致之干涉條紋產生。
上述相溶層較佳為厚度為100 nm~1 μm。若未達100 nm，則有無法充分地獲得上述本發明之效果的情形，另一方面，若超過1 μm，則有引起鉛筆硬度等硬塗性下降、霧度上升等情形。
再者，本發明之硬塗膜，構成硬塗層之黏合劑樹脂之環結構成分滲透至上述基材膜中而形成相溶層。因此，本發明之硬塗膜於其厚度方向上形成有環結構成分之濃度梯度。
作為塗佈上述硬塗層用組成物而形成塗膜之方法，例如可列舉：旋塗法、浸漬法、噴霧法、模塗法、棒塗法、輥式塗佈機法、彎月形塗佈機法、軟板印刷法、網版印刷法、液滴塗佈機法等公知之各種方法。
又，上述硬塗層用組成物之塗佈量(乾燥塗佈量)較佳為5~15 g/m2。若未達5 g/m2，則有無法獲得所需硬度之硬塗層之虞。若超過15 g/m2，則有捲曲或損傷之防止不足之虞。上述塗佈量更佳為6~10 g/m2。
作為上述乾燥之方法，並無特別限定，通常可於乾燥 溫度30~80℃、乾燥時間3~120秒進行。若上述乾燥溫度未達30℃，則有硬塗膜之製造需要長時間，又會有製造成本增高之情形。另一方面，若上述乾燥溫度超過80℃，則有硬塗膜之製造成本增高之問題，且有起始劑、溶劑等附著於乾燥爐內等而使外觀惡化之虞。
又，若上述乾燥時間未達3秒，則有無法形成足夠厚度之相溶層而基材膜與硬塗層之密合性較差，或產生干涉條紋之情形。另一方面，若上述乾燥時間超過120秒，則有上述塗膜之乾燥需要較長時間而製造成本增高之情形。
作為使上述塗膜硬化之方法，只要視上述硬塗層用組成物之內容等適當地選擇公知之方法即可。例如，若上述硬塗層用組成物所含之黏合劑樹脂為紫外線硬化型者，則只要藉由對塗膜照射紫外線而使之硬化即可。
於上述照射紫外線之情形時，紫外線照射量較佳為80 mJ/cm2以上，更佳為100 mJ/cm2以上，進而更佳為130 mJ/cm2以上。
上述硬塗層較佳為層厚為5~15 μm。
若未達5 μm，則有硬度不足之虞。若超過15 μm，則有殘餘溶劑殘留或塗膜密合性下降之虞。上述硬塗層之層厚更佳為下限為5~10 μm。
上述層厚係藉由以電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM))觀察硬塗層之剖面而進行測定所得之值。
本發明之硬塗膜之硬度較佳為於依據JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重4.9 N)中為3 H以上，更 佳為4 H以上。
本發明之硬塗膜較佳為總透光率為90%以上。若未達90%，則當安裝於顯示器表面時有損害色再現性或視認性之虞，除此以外，亦有無法獲得所需對比度之虞。上述總透光率更佳為91%以上。
上述總透光率可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法而測定。
又，本發明之硬塗膜較佳為霧度為1%以下。若超過1%，則無法獲得所需之光學特性，且於將本發明之硬塗膜設置於影像顯示裝置表面上時視認性會下降。
上述霧度可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法而測定。
又，本發明之硬塗膜可於不損及本發明之效果之範圍內，視需要而適當地形成1層或2層以上之其他層(防眩層、抗靜電層、低折射率層、防污層、接著劑層、其他硬塗層等)。其中，較佳為具有防眩層、抗靜電層、低折射率層及防污層中之至少1層。該等層亦可採用與公知之抗反射用積層體同樣者。
上述本發明之硬塗膜之製造方法亦為本發明之一。
即，本發明之硬塗膜之製造方法的特徵在於：其具有如下步驟：於由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜上塗佈含有具五員環結構且含碳以外原子之環結構成分的硬塗層用組成物而形成塗膜的步驟，及使上述塗膜硬化而形成硬 塗層之步驟；形成上述硬塗層之步驟中，於上述基材膜之硬塗層側之界面附近形成由構成上述基材膜之材料與構成上述硬塗層之材料相溶而成的相溶層。
於本發明之硬塗膜之製造方法中，形成上述塗膜之步驟、形成硬塗層之步驟、及形成相溶層之方法可列舉與上述本發明之硬塗膜中之硬塗層處所說明之方法同樣者。
本發明之硬塗膜可較佳地用於偏光板。
使用本發明之硬塗膜之偏光板，係具備偏光元件而成者，可列舉於上述偏光元件之表面具備本發明之硬塗膜者。
此種使用本發明之硬塗膜之偏光板亦為本發明之一。
作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可使用經碘等進行染色並經拉伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光元件與本發明之硬塗膜之層壓處理中，較佳為對透光性基材進行皂化處理。藉由皂化處理，而接著性變好且亦可獲得抗靜電效果。
本發明亦為具備本發明之硬塗膜、或者本發明之偏光板、或本發明之前板而成之影像顯示裝置。
上述影像顯示裝置可列舉：LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、觸控面板、電子紙等。
上述LCD係具備透過性顯示體、與自背面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該透過性顯示體之表面形成本發明之硬塗膜、偏光板、或前板而成。
於本發明為具有上述硬塗膜之液晶顯示裝置時，光源裝置之光源係自硬塗膜之下側(基材側)進行照射。再者，於STN型液晶顯示裝置中，可將相位差板插入液晶顯示元件與偏光板之間。視需要可於該液晶顯示裝置之各層間設置接著劑層。
上述PDP係具備表面玻璃基板、及背面玻璃基板而成者，該背面玻璃基板係與該表面玻璃基板對向並於兩者間封入放電氣體來配置而成。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦係於上述表面玻璃基板之表面或其前板(玻璃基板或膜基板)具備上述硬塗膜而成。
再者，此種將本發明之硬塗膜保持於表面而成之前板亦為本發明之一。
其他影像顯示裝置亦可為，若施加電壓即發光之硫化鋅、二胺類物質等發光體蒸鍍於玻璃基板並控制施加於基板之電壓而進行顯示的ELD裝置、或將電訊號轉換為光而產生人眼可見之像的CRT等影像顯示裝置。於該情形時，係於如上所述之各顯示裝置之表面或其前板之表面具備上述硬塗膜。
本發明之硬塗膜於任一情形時均可用於電視、電腦等顯示器之表面。尤其是，可較佳地用於液晶面板、PDP、ELD、觸控面板、電子紙等高精細影像用顯示器之表面。
本發明之硬塗膜中，設置於基材膜之一面上的硬塗層係使用上述含有環結構成分之硬塗層用組成物而形成者， 因此基材膜與硬塗層之密合性優異，又，可較佳地防止由該等層間之折射率差而導致干涉條紋產生。因此，本發明之硬塗膜可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、電子紙等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
以下，列舉實施例及比較例對本發明更詳細地進行說明，但本發明並不僅限定於該等實施例及比較例。
再者，文中有「份」或「%」，只要未特別說明，則為質量基準。
(實施例1)
將Irgacure 184(光聚合起始劑，BASF JAPAN公司製造)4質量份添加至甲基異丁基酮(MIBK)15質量份中進行攪拌使之溶解，而製成最終固形物成分為40質量%之溶液。
於該溶液中，作為樹脂成分，將新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以固形物成分比計為PETA：UVT-302=70質量份：30質量份之方式進行添加並攪拌。
於該溶液中，添加以固形物成分比計為0.2質量份之調平劑(製品名：MEGAFAC F-477，DIC公司製造)並攪拌，進而，添加以固形物成分比計為2質量份之二氧化矽微粒子(SIRMIBK 15WT%-E65，CIK NanoTek公司製造)並攪拌，而製成硬塗層用組成物。
藉由狹縫式反向塗佈將該硬塗層用組成物以乾燥塗佈量為8 g/m2之方式塗佈於丙烯酸系基材(厚度40 μm，Tg=125℃)上而形成塗膜。將所得之塗膜於70℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量150 mJ/cm2照射紫外線使塗膜硬化，形成厚度7 μm之硬塗層，而獲得實施例1之硬塗膜。
(實施例2)
除使新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)之調配量以固形物成分比計為PETA：UVT-302=50質量份：50質量份以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例2之硬塗膜。
(實施例3)
除使新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)之調配量以固形物成分比計為PETA：UVT-302=30質量份：70質量份以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例3之硬塗膜。
(實施例4)
除使用NVP(日本觸媒公司製造，N-乙烯基-2-吡咯啶酮)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1 同樣之方式獲得實施例4之硬塗膜。
(實施例5)
除使用NVP(日本觸媒公司製造，N-乙烯基-2-吡咯啶酮)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例5之硬塗膜。
(實施例6)
除使用NVP(日本觸媒公司製造，N-乙烯基-2-吡咯啶酮)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例3同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例6之硬塗膜。
(實施例7)
除使用甲基異丁基酮(MIBK)12質量份及二甲基甲醯胺(DMF)3質量份之混合溶劑作為硬塗層用組成物之溶劑以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例7之硬塗膜。
(實施例8)
除使用M145(東亞合成公司製造，馬來亞醯胺丙烯酸酯)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1 同樣之方式獲得實施例8之硬塗膜。
(實施例9)
除使用MT1000(東亞合成公司製造，唑啶酮丙烯酸酯)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例9之硬塗膜。
(實施例10)
除使用二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)代替新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得實施例10之硬塗膜。
(實施例11)
除使用甲基異丁基酮(MIBK)12質量份及二甲基甲醯胺(DMF)3質量份之混合溶劑作為硬塗層用組成物之溶劑以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例10同樣之方式獲得實施例11之硬塗膜。
(參考例1)
除使新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)之調配量以固形物成分比計為PETA：UVT-302=80質量份：20質量份以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲 得參考例1之硬塗膜。
(參考例2)
除使新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)之調配量以固形物成分比計為PETA：UVT-302=20質量份：80質量份以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得參考例2之硬塗膜。
(比較例1)
除使用BS577(荒川化學工業公司製造，IPDI(異佛爾酮二異氰酸酯)衍生物6官能胺基甲酸酯丙烯酸酯)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例1之硬塗膜。
(比較例2)
除使用U-15HA(新中村化學公司製造，含異三聚氰酸骨架之15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例2之硬塗膜。
(比較例3)
除使用ACMO(興人公司製造，丙烯醯基嗎啉(acryloyl morpholine))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例2同樣之方式獲得比較例3之硬塗膜。
(比較例4)
除僅添加新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)10質量份作為樹脂成分，並使用甲基異丁基酮(MIBK)12質量份及二甲基甲醯胺(DMF)3質量份之混合溶劑作為溶劑以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例4之硬塗膜。
(比較例5)
除僅添加二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)10質量份作為樹脂成分，並使用甲基異丁基酮(MIBK)12質量份及二甲基甲醯胺(DMF)3質量份之混合溶劑作為溶劑以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例5之硬塗膜。
(比較例6)
使用新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與D41(日立化成公司製造，丙烯酸丙烯酸酯聚合物)作為樹脂成分，且使該等之調配量以固形物成分比計為PETA：D41=70質量份：30質量份，並使用甲基異丁基酮(MIBK)12質量份及甲基乙基酮(MEK)3質量份之混合溶劑作為溶劑，除此 以外，以與實施例1同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例6之硬塗膜。
(比較例7)
除使用FA-511AS(日立化成公司製造，丙烯酸二環戊烯酯(dicyclopentenyl acrylate))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例7之硬塗膜。
(比較例8)
除使用FA-512AS(日立化成公司製造，丙烯酸雙環戊烯氧化乙酯(dicyclopentenyl oxyethyl acrylate))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例8之硬塗膜。
(比較例9)
除使用FA-BZA(日立化成公司製造，丙烯酸苄酯)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例9之硬塗膜。
(比較例10)
除使用DMAA(興人公司製造，二甲基丙烯醯胺)代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例10之硬塗膜。
(比較例11)
除使用DMAPAA(興人公司製造，二甲胺基丙基丙烯醯胺(dimethylamino propylacrylamide))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例11之硬塗膜。
(比較例12)
除使用NIPAM(興人公司製造，異丙基丙烯醯胺(isopropyl acrylamide))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例12之硬塗膜。
(比較例13)
除使用HEAA(興人公司製造，羥乙基丙烯醯胺(hydroxyethyl acrylamide))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例13之硬塗 膜。
(比較例14)
除使用PPZ(共榮社化學公司製造，2,2,4,4,6,6-六{2-(甲基丙烯醯氧基)-乙氧基}-1,3,5-三氮雜-2,4,6-三磷(2,2,4,4,6,6-hexa{2-(methacryloyloxy)-ethoxy}-1,3,5-triaza-2,4,6-triphosphorine))代替ARONIX UVT-302(東亞合成公司製造，含馬來亞醯胺基之聚合物)以外，以與實施例2同樣之方式製備硬塗層用組成物，並使用該硬塗層用組成物以與實施例1同樣之方式獲得比較例14之硬塗膜。
對於所得之硬塗膜，於下述項目中進行評價。將評價結果示於表1中。
(相溶層之厚度)
藉由硬塗層之剖面STEM觀察而測出形成於基材膜之硬塗層側界面上的相溶層之厚度。STEM剖面觀察係以樹脂包埋硬塗膜後使用切片機(microtome)進行切割而製作切片樣品，為了明確地分辨相溶層而利用四氧化鋨對樣品進行染色處理，為了使樣品表面具有導電性而實施碳蒸鍍處理，其後使用日立先端科技股份有限公司製造之掃描穿透型電子顯微鏡(S-4800)，以倍率2萬倍進行STEM剖面觀察，並拍攝照片。
(密合性)
依據JIS K5600，使用Cross-Cut CCJ-1(Cotec公司製造)，於硬塗層之表面劃出方格狀之切痕而製作100個1 mm之方格。將Nichiban公司製造之工業用24 mm寬之Sellotape (註冊商標)貼於柵格上，自其上以刮刀往返刮擦10次使之密著，再於150°方向上進行急速剝離，重複同樣動作5次，計算剩餘之方格數。將剩餘方格之數量設為分子，將方格之總個數設為分母，藉由以下基準進行評價。
A：100/100
B：50/100~99/100
C：0/100~49/100
(干涉條紋)
於各硬塗膜之背面(基材膜側之與硬塗層相反側之表面)貼合黑膠帶，於暗室螢光燈下確認干涉條紋，並藉由以下基準進行評價。
◎：未觀察到干涉條紋
○：觀察到少量干涉條紋
×：觀察到干涉條紋
(鉛筆硬度試驗)
將各硬塗膜於溫度25℃、相對濕度60%之條件下進行2小時濕度控制後，使用JIS-S-6006所規定之試驗用鉛筆，根據JIS K5600-5-4(1999)所規定之鉛筆硬度評價方法，以4.9 N之荷重，測定形成有硬塗層表面之鉛筆硬度，並藉由以下基準進行評價。
○：鉛筆硬度為B以上
×：鉛筆硬度未達B
根據表1，實施例之硬塗膜均於基材膜之硬塗層側界面附近形成有相溶層，密合性、干涉條紋防止性優異，進而表面硬度亦優異。再者，將實施例1~3之硬塗膜之剖面顯微鏡照片分別示於圖1~3中。
關於比較例1~3之硬塗膜，由於硬塗層中具有含環結 構之環結構成分，該環結構係於單元結構中含有氮原子及/或氧原子、或以極鄰接之形式存在氮原子的環結構，故而雖形成有相溶層且干涉條紋防止方面優異，但由於該環結構成分為六員環結構，故而形成之相溶層較少，密合性較差。
又，關於比較例4~5之硬塗膜，於硬塗層中不具有單元結構中含碳原子以外之原子之環結構的環結構成分，但使用DMF，因此密合性稍稍優異，但於基材膜之硬塗層側界面附近未形成相溶層，干涉條紋之防止性較差。再者，將比較例4之硬塗膜之剖面顯微鏡照片示於圖4中。
關於比較例6之硬塗膜，由於硬塗層中不具有單元結構中含碳原子以外原子之環結構的環結構成分，故而於基材膜之硬塗層側界面附近未形成有相溶層，密合性及干涉條紋之防止性較差。
關於比較例7~8之硬塗膜，於硬塗層中具有僅含有由碳原子形成之五員環的環結構成分，但不具有單元結構中含碳原子以外原子之五員環結構的環結構成分，因此於基材膜之硬塗層側界面附近未形成有相溶層，密合性及干涉條紋防止性較差。
關於比較例9之硬塗膜，於硬塗層中具有僅含有由碳原子形成之六員環(苯環)之環結構成分，但不具有單元結構中含碳原子以外原子之五員環結構的環結構成分，因此於基材膜之硬塗層側界面附近未形成有相溶層，密合性、干涉條紋防止性較差。
關於比較例10~13之硬塗膜，於硬塗層之單元結構中含有氮原子及/或氧原子但不具有環結構成分，因此於基材膜之硬塗層側界面附近未形成有相溶層，密合性及干涉條紋防止性較差。
關於比較例14之硬塗膜，具有單元結構中僅含有由氮原子及磷原子形成之六員環結構之環結構成分，但不含五員環結構成分，因此於基材膜之硬塗層側界面附近未形成有相溶層，密合性及干涉條紋防止性較差。
又，關於參考例1之硬塗膜，硬塗層中包含具有五員環結構且單元結構中含有氮原子及/或氧原子之環結構成分，因此形成有相溶層，又，藉由足夠含量之PETA而鉛筆硬度優異，但上述環結構成分之含量少而形成之相溶層較少，密合性較差。
又，關於參考例2之硬塗膜，硬塗層中具有五員環結構且單元結構中含有氮原子及/或氧原子之環結構成分之含量較多，而形成足夠之相溶層而密合性及干涉條紋防止性優異，但PETA之含量較少，鉛筆硬度較差。
[產業上之可利用性]
本發明之硬塗膜可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
圖1係實施例1之硬塗膜之剖面顯微鏡照片。
圖2係實施例2之硬塗膜之剖面顯微鏡照片。
圖3係實施例3之硬塗膜之剖面顯微鏡照片。
圖4係比較例1之硬塗膜之剖面顯微鏡照片。

Claims (10)

  1. 一種硬塗膜，係具有由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜、與形成於該基材膜之一面上之硬塗層者，且其特徵在於：該硬塗層係使用含有具五員環結構之環結構成分的硬塗層用組成物而形成，該五員環結構含有碳以外的原子。
  2. 如申請專利範圍第1項之硬塗膜，其中，碳以外之原子為氮原子及/或氧原子。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之硬塗膜，其中，於基材膜之硬塗層側界面附近形成有由構成該基材膜之材料與構成該硬塗層之材料相溶而成的相溶層。
  4. 如申請專利範圍第1項、第2項或第3項之硬塗膜，其中，於硬塗層形成用組成物所含之黏合劑樹脂固形物成分100質量份中以30~70質量份之比率含有環結構成分。
  5. 如申請專利範圍第1項、第2項、第3項或第4項之硬塗膜，其中，於環結構成分之五員環結構中含有至少一個氮原子及/或氧原子。
  6. 如申請專利範圍第1項、第2項或第3項之硬塗膜，其中，環結構成分為選自由含馬來亞醯胺基之丙烯酸系聚合物、含馬來亞醯胺基之丙烯酸系單體、唑啶酮丙烯酸酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮及γ-丁內酯丙烯酸酯所組成之群中之至少一種。
  7. 一種硬塗膜之製造方法，具有如下步驟：於由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之基材膜上塗佈含有 具五員環結構的環結構成分之硬塗層用組成物而形成塗膜之步驟，該五員環結構含有碳原子以外之原子，及使該塗膜硬化而形成硬塗層之步驟，且於形成該硬塗層之步驟中，於該基材膜之硬塗層側界面附近形成由構成該基材膜之材料與構成該硬塗層之材料相溶而成的相溶層。
  8. 一種偏光板，係具備偏光元件而成者，且其特徵在於：於該偏光元件之表面具備如申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之硬塗膜。
  9. 一種前板，係將申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之硬塗膜保持於表面。
  10. 一種影像顯示裝置，係具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之硬塗膜，或者申請專利範圍第8項之偏光板，亦或申請專利範圍第9項之前板。
TW101126596A 2011-08-31 2012-07-24 硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置 TW201309764A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011189446A JP5961947B2 (ja) 2011-08-31 2011-08-31 ハードコートフィルム、偏光板、前面板及び画像表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201309764A true TW201309764A (zh) 2013-03-01

Family

ID=48012694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101126596A TW201309764A (zh) 2011-08-31 2012-07-24 硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5961947B2 (zh)
KR (1) KR101809757B1 (zh)
TW (1) TW201309764A (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
JP2014095731A (ja) * 2012-10-12 2014-05-22 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板ならびに液晶表示装置
JP6238684B2 (ja) 2013-11-07 2017-11-29 日東電工株式会社 光学積層体
KR102648216B1 (ko) * 2016-07-06 2024-03-15 삼성디스플레이 주식회사 윈도우, 이를 포함하는 표시 장치, 및 윈도우 제조 방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003131007A (ja) * 2001-10-29 2003-05-08 Toppan Printing Co Ltd 光学フィルム及びその製造方法
JP2003344607A (ja) * 2002-05-30 2003-12-03 Toyo Ink Mfg Co Ltd 反射防止体およびその製造方法
JP2004054113A (ja) * 2002-07-23 2004-02-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光学部材およびその製造方法
JP2004309932A (ja) * 2003-04-09 2004-11-04 Dainippon Printing Co Ltd 表示素子用基材、表示パネル、表示装置及び表示素子用基材の製造方法
JP2008012675A (ja) * 2006-06-30 2008-01-24 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、及びその製造方法
JP5343338B2 (ja) * 2007-09-28 2013-11-13 大日本印刷株式会社 防眩フィルム
US20110116024A1 (en) * 2008-07-17 2011-05-19 Toray Advanced Film Co., Ltd Filter for display

Also Published As

Publication number Publication date
KR101809757B1 (ko) 2017-12-15
KR20130024848A (ko) 2013-03-08
JP2013050641A (ja) 2013-03-14
JP5961947B2 (ja) 2016-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI541130B (zh) Hard coating, polarizing plate and image display device
TWI609791B (zh) 硬塗膜、偏光板、前面板及影像顯示裝置
TWI550001B (zh) Optical continuum
TWI652298B (zh) 光學膜、防眩性膜及偏光板
TWI531600B (zh) Optical continuum
TWI551881B (zh) Optical continuum
US20130115469A1 (en) Curable resin composition for hard coat layer, method for producing hard coat film, hard coat film, polarizing plate and display panel
CN102981203A (zh) 光学层积体、偏振片和图像显示装置
TW201226960A (en) Optical layered product, polarizer, and image display device
TWI564153B (zh) Optical continuum
WO2016117706A1 (ja) ハードコートフィルム
TWI542466B (zh) An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device
JP6453689B2 (ja) ハードコートフィルム
TWI607879B (zh) 光學積層體、使用其之偏光板及影像顯示裝置
JP5899663B2 (ja) ハードコート層用組成物、ハードコートフィルム、偏光板及び画像表示装置
TW201309764A (zh) 硬塗膜、硬塗膜之製造方法、偏光板、前板及影像顯示裝置
TWI482705B (zh) 抗靜電層用硬化性樹脂組成物、光學薄膜、偏光板及顯示面板
JP6192255B2 (ja) ハードコートフィルムの製造方法
JP6155657B2 (ja) ハードコートフィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2017187784A (ja) ハードコートフィルム、偏光板、前面板及び画像表示装置
JP6769017B2 (ja) 積層体、画像表示装置、積層体の製造方法及び保護層の転写方法