TW201303440A - 偏光板及液晶顯示裝置 - Google Patents

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polarizing plate
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Hirohiko Yakabe
Hideki Matsuhisa
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Sumitomo Chemical Co
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Abstract

本發明提供一種偏光板，係於聚乙烯醇系樹脂所成的偏光薄膜之兩面介由接著劑層使保護薄膜積層而成者，其中，一面之保護薄膜係由含有紫外線吸收劑且波長380nm中之光線透過率為10%以下之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所構成；另一面保護膜在波長320nm中之光線透過率為60%以上；接著劑層係由含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所構成。藉由本發明，可提供具有優良紫外線吸收能，同時偏光薄膜及其保護薄膜之密著性優良，耐濕熱性高，且無損外觀下之生產性亦優良之偏光板。

Description

偏光板及液晶顯示裝置
本發明係關於偏光板及使用偏光板之液晶顯示裝置。
近年，耗電低，以低電壓作動，為輕量且薄型之液晶顯示裝置，如行動電話、個人數位助理(PDA)、電腦用監視器、及電視等作為資訊用顯示裝置正在急速普及。更且，伴隨液晶技術的發展而提案各種型式的液晶顯示裝置，直到目前，應答速度、對比、及視野角等液晶顯示裝置的問題點已陸續被解決消除。
一方面，受到強烈市場要求期望液晶顯示裝置進一步薄型輕量化，構成液晶顯示裝置之液晶面板、擴散板、背光單元、及驅動IC等正進行著薄型化及小型化。此種狀況下，構成液晶面板構件之偏光板亦以10μm單位追求薄型化。因此，一般作為偏光板之保護薄膜使用之三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)薄膜，係正被更換為比向來之80μm至120μm者更薄之薄膜。
但是，三乙醯纖維素薄膜當作保護薄膜之偏光板，經常耐濕熱性及耐冷熱衝擊性低劣，特別是如上述由薄膜化之保護薄膜形成者，在高溫多濕或高低溫反覆等嚴苛的環境下會有引起偏光性能劣化，或偏光薄膜受到損傷的情況。
偏光板經常耐濕熱性等低劣之理由，可舉出其構成要素之三乙醯纖維素薄膜之透濕度及吸水率高的原因。因此，亦探討一種可取代三乙醯纖維素薄膜，並可對應上述 薄型化之透濕性較低且為低吸水性之延伸聚對酞酸乙二酯(polyethylene terephthalate)薄膜作為保護薄膜(例如JP2009-157348-A)。
然而，用於偏光板之光學薄膜中，為防止液晶或偏光薄膜因紫外線而劣化之目的，必要有紫外線吸收性能，但一般的聚對酞酸乙二酯薄膜，在作為偏光板用保護薄膜時會有紫外線吸收能不夠充分之情況。
因此，本發明目的係提供一種偏光板，其以延伸聚對酞酸乙二酯薄膜作為保護薄膜時，除了具有優良的紫外線吸收能，同時偏光薄膜與其之保護薄膜之密著性優良，耐濕熱性高，且在無損外觀下生產性亦優良。再者，本發明之另一目的係提供一種使用該偏光板之耐環境性優良之液晶顯示裝置。
本發明，包含下述內容。
[1]一種偏光板，係包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)系樹脂所成之偏光薄膜，及該偏光薄膜之兩面介由接著劑層而積層之保護薄膜者，其中，一面之保護薄膜係由含有紫外線吸收劑且波長380nm中之光線透過率為10%以下之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所構成；另一面保護膜在波長320nm中之光線透過率為60%以上；接著劑層係由含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所構成。
[2]如[1]所述之偏光板，其中上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜具有防眩性，或者，在上述延伸聚對酞酸乙二酯薄 膜與上述偏光薄膜接著之面的相反側之面積層著防眩層。
[3]如[1]或如[2]所述之偏光板，其中積層在上述偏光薄膜之與上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜為相反側的保護薄膜為光學補償薄膜。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其中積層在上述偏光薄膜之與上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜為相反側之保護薄膜，在積層於上述偏光薄膜之面的相反側之面具備黏著劑層。
[5]一種液晶顯示裝置，係具備：如[4]所述之偏光板係介由其黏著劑層貼合於液晶胞之液晶面板。
依據本發明，係可提供具有優良紫外線吸收能，同時偏光薄膜與由延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所成的保護薄膜之密著性及嚴苛環境下的耐久性優良，同時在無損外觀下生產性亦優良之偏光板。再者，依據本發明，係可提供使用該偏光板之耐環境性優良之液晶顯示裝置。
<偏光板>
本發明之偏光板係包含：聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜，及在其兩面介由含有環氧化合物的紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所成的接著劑層積層而成的保護薄膜，其中一面的保護薄膜，係由延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所成者。此延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，為含有紫外線吸收劑且波長380nm中之光線透過率為10%以下。再者，另一面具有波長320nm中之光線透過率為60%以上之保護薄 膜。以下，具體說明本發明之偏光板。
(偏光薄膜)
本發明中使用之偏光薄膜，通常係藉由眾所周知之方法製造，該方法包括：將聚乙烯醇系樹脂薄膜進行單軸延伸之步驟，將聚乙烯醇系樹脂薄膜以二色性色素染色使吸附二色性色素之步驟，吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂薄膜以硼酸水溶液處理之步驟，及經硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂者，可使用聚乙酸乙烯酯(polyvinyl acetate)系樹脂經皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂者，除了乙酸乙烯酯之單聚合體之聚乙酸乙烯酯以外，舉出與可與乙酸乙烯酯共聚的其他單體之共聚合體。可與乙酸乙烯酯共聚的其它單體可例如：不飽和碳酸類、烯烴(olefin)類、乙烯醚(vinyl ether)類、不飽和磺酸(sulfonic acid)類、含有銨基之丙烯醯胺(acrylamide)類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度，一般為85至100mol%左右，以98mol%以上為佳。此聚乙烯醇系樹脂可經變性，可使用如，以醛類變性之聚乙烯甲醛(polyvinyl formal)、聚乙烯縮醛等。再者，聚乙烯醇系樹脂之聚合度，一般為1,000至10,000左右，1,500至5,000左右為佳。
將如此聚乙烯醇系樹脂所製之膜，可使用作為偏光薄膜之原材料薄膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法，無特別限定，可採用周知方法。聚乙烯醇系原材料薄膜之膜厚，例如可為10μm至150μm左右。
聚乙烯醇系樹脂薄膜之單軸延伸，可在二色性色素之染色前，染色同時，或染色後進行。將單軸延伸在染色後進行時，此單軸延伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。再者，亦可以此等之複數階段進行單軸延伸。
對於單軸延伸，係可在周速相異的輥間進行單軸延伸，亦可使用熱輥進行單軸延伸。再者，單軸延伸係可在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可使用溶劑使聚乙烯醇系樹脂薄膜在膨潤狀態進行延伸之濕式延伸。延伸倍率，一般為3至8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂薄膜以二色性色素染色之方法，係採用如，將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中之方法。二色性色素，具體而言，係使用碘或二色性染料。尚且，聚乙烯醇系樹脂薄膜，以在染色處理之前預先於水中施行浸漬處理為佳。
使用碘作為二色性色素時，通常係採用於含有碘及碘化鉀之水溶液中，浸漬聚乙烯醇系樹脂薄膜而染色之方法。此水溶液中之碘含有量，通常，相對於水100重量份而為0.01至1重量份左右。再者，碘化鉀之含有量，通常，相對於水100重量份而為0.5至20重量份左右。用於染色之水溶液溫度，一般為20至40℃左右。
再者，對此水溶液之浸漬時間(染色時間)，一般為20至1,800秒左右。
一方面，在使用二色性染料作為二色性色素時，通常係採用於含有水溶性二色性染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇 系樹脂薄膜而染色之方法。此水溶液中之二色性染料之含有量，通常，相對於水100重量份而為1×10-4至10重量份左右，以1×10-3至1重量份左右為佳。此水溶液，亦可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色用之二色性染料水溶液之溫度，一般為20至80℃左右。再者，對此水溶液之浸漬時間(染色時間)，一般為10至1,800秒左右。
藉由二色性色素染色後之硼酸處理，通常，可將經染色之聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有硼酸水溶液而進行。
含有硼酸之水溶液中的硼酸量，通常，相對於水100重量份，為2至15重量份左右，以5至12重量份為佳。在使用碘作為二色性色素時，此含有硼酸之水溶液以含有碘化鉀為佳。含有硼酸之水溶液中的碘化鉀量，通常，相對於水100重量份而為0.1至15重量份左右，以5至12重量份左右為佳。對含有硼酸之水溶液的浸漬時間，一般為60至1,200秒左右，150至600秒左右為佳，以200至400秒左右更佳。含有硼酸之水溶液溫度，一般為50℃以上，以50至85℃為佳，以60至80℃更佳。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂薄膜，通常係進行水洗處理。水洗處理，係可將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於水中而進行。水洗處理中之水溫，一般為5至40℃左右。再者，浸漬時間，一般為1至120秒左右。
水洗後施行乾燥處理而獲得偏光薄膜。偏光薄膜之厚度，一般為5至40μm左右。乾燥處理係可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器。乾燥處理之溫度，一般為30至100 ℃左右，以50至80℃為佳。乾燥處理之時間，一般為60至600秒左右，以120至600秒左右為佳。
藉由乾燥處理，使偏光薄膜之水分率減低至實用程度。其水分率，一般為5至20重量%，以8至15重量%為佳。水分率低於5重量%時，偏光薄膜失去可撓性，偏光薄膜於乾燥後會有損傷，斷裂之情況。再者，水分率超出20重量%時，偏光薄膜之熱安定性會有劣化之情況。
(延伸聚對酞酸乙二酯薄膜)
延伸聚對酞酸乙二酯薄膜可採用將一種以上聚對酞酸乙二酯系樹脂藉由熔融壓出而製膜，其後接續進行縱向延伸，其次進行橫向延伸形成一層以上之二軸延伸薄膜，或者將一種以上聚對酞酸乙二酯系樹脂藉由熔融壓出而製膜，進行橫向延伸形成一層以上之單軸延伸薄膜。
聚對酞酸乙二酯薄膜，意指以重複單位之80mol%以上為對酞酸乙二酯所構成之樹脂，亦可含有其它二羧酸成分及二醇成分。其它二羧酸成分者，例如，間酞酸(isophthalic acid)、4,4’-二羧二苯、4,4’-二羧二苯甲酮(4,4’-dicarboxy benzophenone)、雙(4-羧苯基)乙烷、己二酸、癸二酸(sebacic acid)、1,4-二羧環己烷等。
其它二醇成分可例如，丙二醇(propylene glycol)、丁二醇、新戊二醇(neopentyl glycol)、二乙二醇(diethylene glycol)、環己二醇，雙酚A之環氧乙烷(ethylene oxide)加成物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚伸丁二醇(polytetramethylene glycol)等。
此等其它之二羧酸成分及其它之二醇成分可各自單獨使用，亦可與其他1種以上併用。再者，亦可併用p-羥苯甲酸(p-hydroxy benzoic acid)、p-β-羥乙氧苯甲酸等羥羧酸。再者，其它共聚合成分者，亦可使用含有少量之醯胺鍵(-NHCO-等)、胺甲酸酯鍵(-NHCOO-等)、醚鍵(-O-)、及碳酸酯鍵(-OCOO-)等之二羧酸成分，或二醇成分。
聚對酞酸乙二酯系樹脂之製造方法，可採用使對酞酸及乙二醇(同時視必要之其它二羧酸或其它二醇)直接縮聚之方法，使對酞酸之二烷酯及乙二醇(同時視必要之其它二羧酸的二烷酯或其它之二醇)進行酯交換反應後使縮聚之方法，將對酞酸(與視必要之其它二羧酸)之乙二醇酯(與視必要之其它二醇酯)使縮聚之方法等。
聚對酞酸乙二酯系樹脂之分子量，將樹脂溶解至酚/四氯乙烷=50/50(重量比)之混合溶媒中，以30℃測定之極限黏度表示時，一般為0.45至1.0dL/g，以0.50至1.0dL/g為佳，以0.52至0.80dL/g為更佳。極限黏度未達0.45dL/g時，則有薄膜製造時之生產性降低，或薄膜的機械強度降低之情況。再者，極限黏度超過1.0dL/g時，則有薄膜製造中的聚合物之熔融壓出安定性劣化之情況。
在本發明偏光板，於偏光薄膜介由接著劑層積層之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜係為了防止紫外線引起偏光薄膜的劣化而含有紫外線吸收劑且380nm中之光線透過率為10%以下，以5%以下為佳。積層之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜在380nm中之光線透過率超過10%，則恐有不能發揮充分 的紫外線吸收能。
本發明使用之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜中含有之紫外線吸收劑並無特別限定者，主要可列舉有機系紫外線吸收劑及無機系紫外線吸收劑。
有機系紫外線吸收劑可列舉柳酸系紫外線吸收劑，例如：柳酸苯酯(phenyl salicylate)、柳酸對第三丁基苯酯、柳酸對辛基苯酯等；二苯甲酮(benzophenone)系紫外線吸收劑，例如：2-羥基-4-苄氧二苯甲酮(2-hydroxy-4-benzyloxy benzophenone)、2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧二苯甲酮、2-羥基辛氧二苯甲酮、2-羥基-4-十二烷氧二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧二苯甲酮等；苯并三唑(benzotriazole)系紫外線吸收劑，例如：2-(2’-羥基-5’-第三辛苯基)-苯并三唑(2-(2’-hydroxy-5’-t-octylphenyl)-benzotriazole)、2-(2’-羥基-5’-第三辛苯基苯并三唑、2-(2’-羥基-5’-甲苯基)-苯并三唑、2-(2’-羥基-3’5’-二-第三丁苯基)-苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-第三丁基-5’-甲苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-3’5’-二-第三丁苯基)-5-氯苯并三唑等；天然物系紫外線吸收劑，例如：穀醇(oryzanol)、牛油樹油脂(Shea butter)、黃芩苷(baicalin)等，生體系紫外線吸收劑，例如：角質細胞、黑色素、4-咪唑丙烯酸(urocanic acid)等。此等有機系紫外線吸收劑，可使用1種類，或併用2種類以上。此等有機系紫外線吸收劑中作為紫外線安定 劑，可併用受阻胺(hindered amine)系化合物。
無機系紫外線吸收劑者，可列舉，氧化鈦、氧化鋅、氧化銦(indium oxide)、氧化錫、滑石(talc)、高嶺土、碳酸鈣、氧化鈦系複合氧化物、氧化鋅系複合氧化物、ITO(摻錫(tin-doped)氧化銦)、ATO(摻銻氧化錫)等。氧化鈦系複合氧化物者，例如，摻有氧化矽、摻有氧化鋁之氧化鋅等。此等無機系紫外線吸收劑可各自使用1種類，亦可併用其它1種類以上。再者，亦可將有機系紫外線吸收劑與無機系紫外線吸收劑併用。
再者，聚對酞酸乙二酯系樹脂，視需要可含有上述紫外線吸收劑以外之添加劑。添加劑者，例如，潤滑劑、抗結塊劑、熱安定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐衝擊性改良劑等。其添加量，以對光學物性無不良影響之範圍為佳。
為了如此之添加劑的調配，與為了後述薄膜成形，聚對酞酸乙二酯系樹脂通常係使用壓出機造粒為顆粒狀。顆粒大小及形狀，無特別限制，但通常，高度、直徑均為5mm以下之圓柱狀、球狀、或扁平球狀。
上述聚對酞酸乙二酯系樹脂，藉由成形為薄膜狀並進行延伸處理，可製成透明均質的機械強度高之聚對酞酸乙二酯薄膜。其製造方法者，例如，可採用以下所述方法。
首先，將由乾燥之聚對酞酸乙二酯樹脂而成之顆粒供給至熔融壓出裝置，加熱至融點以上而熔融。其次，將熔融樹脂由模具壓出，在旋轉冷卻轉筒上急速冷卻至玻璃轉移溫度以下之溫度而固化，實質上得到非晶狀態之未延伸 薄膜。此熔融溫度，視聚對酞酸乙二酯系樹脂之融點及壓出機而適當決定，一般為250至350℃。
聚對酞酸乙二酯系樹脂，可視需要而混合2種以上之樹脂結構或組成相異的樹脂，可例如，將經調配作為抗結塊劑之粒狀填料、紫外線吸收劑、或抗靜電劑等之顆粒，與無調配之顆粒混合使用等。
再者，壓出薄膜之積層數，亦可視需要作成2層以上。例如，準備調配有作為抗結塊劑之粒狀填料之顆粒，與無調配之顆粒，由不同的壓出機供給至同一模具，而壓出由「調配有填料/無調配/調配有填料」之2種3層所形成的薄膜等。
獲得二軸延伸薄膜時，上述未延伸薄膜，於玻璃轉移溫度以上之溫度中，通常，首先向壓出方向縱向延伸。延伸溫度，一般為70至150℃，以80至130℃為佳，90至120℃更佳。再者，延伸倍率，一般為1.1至6倍，以2至5.5倍為佳。此延伸倍率未達1.1倍時，延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之長度方向的強度在實用上有不足的情況。再者，超過6倍時，橫向方向之強度在實用上有不足情況。此延伸可於1次結束，亦可視需要分成複數次進行。通常，進行複數次延伸時，合計延伸倍率以上述範圍為佳。
如此所得之縱向延伸薄膜，此後，可進行熱處理。其次，亦可依需要進行鬆緩處理。此熱處理溫度，一般為150至250℃，以180至245℃為佳，以200至230℃更佳。再者，熱處理時間，一般為1至600秒間，以1至300秒間 為佳，以1至60秒間更佳。
鬆緩處理之溫度，一般為90至200℃，以120至180℃為佳。再者，鬆緩量，一般為0.1至20%，以2至5%為佳。
此鬆緩處理之溫度及鬆緩量係，使鬆緩處理後之聚對酞酸乙二酯薄膜於150℃中之熱收縮率成為2%以下之方式而設定鬆緩量及鬆緩處理時之溫度者為更佳。
在獲得二軸延伸薄膜時，通常，係在縱向延伸處理後，或視需要經過熱處理或鬆緩處理後，以拉幅機進行橫向延伸。此延伸溫度，一般為70至150℃，以80至130℃為佳，以90至120℃更佳。再者，延伸倍率，一般為1.1至6倍，以2至5.5倍為佳。
在橫向延伸中之延伸倍率未達1.1倍時，橫向方向之強度在實用上有不足之情況。再者，此延伸倍率超過6倍時，與縱向方向之強度的平衡惡化，有不耐於實用性之情況。
此後，可施行熱處理與視需要之鬆緩處理。熱處理溫度，一般為150至250℃，以180至245℃為佳，以200至220℃更佳。熱處理時間，一般為1至600秒間，以至300秒間為佳，以1至60秒間更佳。
鬆緩處理之溫度，一般為100至230℃，以110至210℃為佳，以120至180℃更佳。再者，鬆緩量，一般為0.1至20%，以1至10%為佳，以2至5%更佳。此鬆緩處理之溫度及鬆緩量係使鬆緩處理後之聚對酞酸乙二酯薄膜於 150℃中之熱收縮率成為2%以下之方式而設定鬆緩量及鬆緩處理時之溫度者為佳。
在單軸延伸及二軸延伸處理中，其延伸處理溫度超過250℃時，會有樹脂發生熱劣化，且因結晶化的過度進行而有光學性能降低之情況。再者，延伸處理溫度未達70℃時，延伸受過大壓力，而有薄膜固化而無法進行延伸本身之情況。
再者，在單軸延伸及二軸延伸處理中，為求緩和以曲折(bowing)為代表的定向主軸相對於延伸方向之應變(strain)，可再度進行熱處理，及進行延伸處理。因曲折引起之定向主軸相對於延伸方向的應變的最大值，一般為45°以內，以向30°以內緩和為佳，15°以內更佳。定向主軸之應變最大值超過45°時，於其後步驟構成偏光板使其形成片狀時，在片之間會產生光學特性不均一之情況。
在此，延伸方向係指在縱向延伸或橫向延伸中之延伸倍率大的方向。在聚對酞酸乙二酯薄膜之二軸延伸中，通常，橫向延伸倍率較縱向延伸倍率稍大，故此情況，延伸方向係指對薄膜之長度方向為垂直之方向。再者，單軸延伸，通常如上述係朝橫方向延伸，故此情況，延伸方向係同樣指對長度方向為垂直之方向。
再者，定向主軸者，係指延伸聚對酞酸乙二酯薄膜上之任意點中的分子定向方向。再者，定向主軸相對於延伸方向之應變者，係指定向主軸及延伸方向之角度差。更且，其最大值，係指在對長度方向為垂直之方向上之值的最大 值。
定向主軸，例如，可使用相位差薄膜/光學材料檢查裝置RETS(大塚電子株式會社製)或分子定向計MOA(王子計測機器株式會社製)等測定。
延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，可容易由市售品獲得，例如，各種商品名分別為「Diafoil」、「Hostaphan」、「Fusion」(以上，三菱樹脂株式會社製)、「Teijin Tetron film」、「Melinex」、「Mylar」、「Teleflex」(以上，帝人杜邦薄膜株式會社製)、「東洋紡Ester film」、「東洋紡S Pet film」、「Cosmo shine」、「Crisper」(以上，東洋紡績株式會社製)、「Lumirror」(Toray Film加工株式會社製)、「Emblon」、「Emblet」(Unitika株式會社製)、「Skyroll」(S．K．C社製)、「Cofill」(株式會社高合製)、「瑞通Polyesterfilm」(株式會社瑞通製)、「太閤Polyesterfilm」(Futamura化學株式會社製)等。即使此等之中，由生產性及廉價性之觀點，本發明中以使用二軸延伸品為佳。
(塗佈層)
本發明使用之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，只要不妨礙本發明之效果，以在與偏光薄膜接著之面賦予具有接著功能之塗佈層(易接著層)為佳。藉由易接著層的形成，可提升偏光薄膜及延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之密著性。
構成易接著層之成分，無特別限定之物。列舉如，係在架構上具有極性基之較低分子量且玻璃轉移溫度低的聚酯系樹脂、胺甲酸乙酯(urethane)系樹脂、或丙烯酸系樹 脂等。再者，可視需要含有交聯劑、有機或無機填料、界面活性劑、潤滑劑等。
於延伸聚對酞酸乙二酯薄膜形成上述易接著層之方法，無特別限定方法，惟可採用例如，在結束所有延伸步驟之薄膜上形成之方法；在延伸聚對酞酸乙二酯系樹脂之步驟中，例如在縱向延伸及橫向延伸之步驟間形成的方法；即將與偏光薄膜接著之前或接著後形成之方法等。其中，由生產性之觀點，以將聚對酞酸乙二酯系樹脂在縱向延伸後形成，接著進橫向延伸之方法為佳。
易接著層之厚度，作為乾燥後之厚度者，一般為0.01至5μm，以0.03至0.6μm為佳。厚度未達0.01μm，會有與延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之密著性低劣的情況。再者，厚度超過5μm，會有塗佈層之親水性過剩而有積層體之耐水性低劣的情況。
於上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜形成之塗佈層，只要不妨礙本發明之效果，可層積上述易接著層以外之功能層之。被積層之功能層，列舉如，導電層、硬塗佈層、平滑層、滑移層、抗結塊層等。
(對延伸聚對酞酸乙二酯薄膜賦予防眩性)
延伸聚對酞酸乙二酯薄膜中，其薄膜用於偏光板可視側時，以具有霾(haze)者為佳。賦予防眩性之方法者，例如，採用在上述聚對酞酸乙二酯系樹脂中將無機微粒子或有機微粒子混合而薄膜化之方法；依照上述多層薄膜之製法，由一側具有無機微粒子或有機微粒子混合層之未延伸 薄膜進行延伸而薄膜化之方法等。再者，亦可藉由在延伸聚對酞酸乙二酯薄膜與偏光薄膜接著之面的反面，塗佈無機微粒子或有機微粒子與硬化性黏結劑樹脂混合而成之塗佈液，使黏結劑樹脂硬化等而積層防眩層之方法並賦予防眩性。
無機微粒子者，列舉如，氧化矽(silica)、氧化矽溶膠、氧化鋁、氧化鋁溶膠、鋁矽酸鹽、氧化鋁-氧化矽複合氧化物、高嶺土、滑石、雲母、碳酸鈣、磷酸鈣等。再者，有機微粒子者，列舉如，交聯聚丙烯酸粒子、甲丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚合體樹脂粒子、交聯聚苯乙烯粒子、交聯聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate)粒子、聚矽氧(silicone)樹脂粒子、聚醯亞胺(polyimide)粒子等。
具有防眩性之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，或於延伸聚對酞酸乙二酯薄膜上積層防眩層而賦予防眩性之薄膜的霾(haze)值，以3至45%範圍內為佳。haze值低於3%，則有無法表現充分之防眩效果的情況。再者，超過45%，則使用此薄膜之液晶顯示裝置之畫面泛白，而有招致畫質低下的情況。尚且，此霾值，依據JIS K 7136，例如，可使用haze．透過率計HM-150(株式會社村上色彩技術研究所製)測定。測定霾值時，為防止薄膜翹曲，例如，以使用光學上透明黏著劑賦予防眩性面使成為表面之方式將薄膜面貼合於玻璃基板之測定試樣為佳。
尚且，延伸聚對酞酸乙二酯薄膜使用於偏光板之背光側時，亦可不賦予防眩性。此時，其霾值，通常未達6%。
在賦予防眩性之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，或於延伸聚對酞酸乙二酯薄膜積層防眩層以賦予防眩性之薄膜上，可進一步積層導電層、硬塗佈層、低反射層、平滑層、滑移層、及抗結塊層等之防眩層以外的功能層。再者，形成防眩層之樹脂組成物(塗佈液)者，亦可選擇兼備該等任一種功能之樹脂組成物。
在延伸聚對酞酸乙二酯薄膜與偏光薄膜接著之面的反面積層上述防眩層等之功能層時，延伸聚對酞酸乙二酯薄膜積層功能層之面，為求提升與功能層之密著性，可以形成與上述同樣之塗佈層。
(接著劑層)
本發明之偏光板所具備之接著劑層，為擔任偏光薄膜及保護薄膜之接著的層，係由含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所成者。藉由使用含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物，除了可提高偏光薄膜與保護薄膜之密著性，同時可作成無溶劑之接著劑，此情況，因為不需要使接著劑層乾燥之步驟，可使生產性提高。在使用含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物作為接著劑時，偏光薄膜與保護薄膜介由該接著劑積層後，由延伸聚對酞酸乙二酯薄膜於其相反側積層之保護薄膜面側將紫外線照射使該接著劑硬化，藉此而形成由該紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所成之接著劑層。
環氧化合物，宜使用脂環式環氧化合物。藉由使用含有脂環式環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物作為接著 劑，可較提升偏光薄膜與延伸聚對酞酸乙二酯薄膜間之密著性與在嚴苛環境下的偏光板之耐久性。
在此，脂環式環氧化合物，係指在飽和環狀化合物之環上直接含有環氧基形成者，以及飽和環狀化合物環上直接或介由伸烷基(alkylene)與環氧丙氧基(glycidyloxy)或環氧乙基(epoxy ethyl)鍵結者。尚且，亦可在結構內含有其它環氧基。
飽和環狀化合物之環上直接含有環氧基而形成之脂環式環氧化合物，係將環上含有C-C雙鍵的環狀化合物之C-C雙鍵，使用過氧化物在鹼性條件下使環氧化所獲得之物。
環上含有C-C雙鍵之環狀化合物者，列舉如，含有環戊烯環之化合物、含有環己烯環化合物、與其等之多環式化合物等。環上含有C-C雙鍵之環狀化合物，亦可於環外含有C-C雙鍵，此種化合物者，列舉如，1-乙烯基-3-環己烯與單環式單萜烯(monoterpene)之薴烯(limonene)及α-蒎烯(α-pinene)等。
再者，飽和環狀化合物之環上直接含有環氧基形成之脂環式環氧化合物，可為上述所得環氧化物介由適當官能基成為二聚物(dimer)結構之化合物。由其官能基而成之鍵結構造者，列舉如，酯鍵(-COO-)、醚鍵(-O-)、及藉由伸烷基而鍵結(-(CH2)n-等，n為1以上之整數)等。再者，上述環氧化物之二聚化(dimerization)結構，亦可有複數個此等鍵結。
上述飽和環狀化合物之環上直接含有環氧基而成之脂環式環氧化合物之製造方法者，採用如，將環上含有C-C雙鍵之環狀化合物合成後，進行環氧化之方法；將C-C雙鍵經環氧化之化合物，更將如上述使官能基反應進行合成為目的結構之方法等。由抑制環氧基的副反應等之觀點，通常，宜採用環上含有C-C雙鍵之環狀化合物經合成後再進行環氧化之方法。
環上含有C-C雙鍵的環狀化合物之合成法，係因應目的之環氧化合物的架構而變更，並無特別限定，二聚化之環狀化合物的合成例者，可舉如，由3-環己烯-1-甲醛使用適當觸媒藉由Tishchenko反應，獲得酯化合物之3-環己烯基甲基3-環己烯羧酸酯的方法。
更且，將上述酯化合物與，二羧酸化合物或其酯、二醇化合物或其酯、聚烷二醇(polyalkylene glycol)化合物或其酯、或者羥羧酸化合物或其酯等，因應必要使用觸媒進行酯交換反應，獲得在兩端含有環己烯基之化合物。
二羧酸化合物及其酯者，列舉如，草酸、己二酸(adipic acid)、癸二酸(sebacic acid)、及其等之二甲酯等。再者，二醇化合物及其酯者，列舉如，乙二醇、二乙二醇、1,2-丙二醇、聚乙二醇、1,4-環己二醇、1,4-環己二甲醇、及其等之二甲酯等。再者，羥羧酸化合物及其酯者，列舉如，乳酸、3-羥丁酸、檸檬酸、及其等之二甲酯．乙酸酯等、乳酸交酯(lactide)、丙內酯(propiolactone)、丁內酯、己內酯等。
將因此得到之環上含有C-C雙鍵的環狀化合物，藉由使用過氧化物進行環氧化，可獲得飽和環狀化合物之環上直接含有環氧基而成之脂環式環氧化合物。過氧化物者，列舉如，過氧化氫、過氧乙酸、及tert-丁基氫過氧化物(tert-butylhydro peroxide)等。
由紫外線硬化性樹脂組成物作成之接著劑中良好使用之飽和環狀化合物的環上直接含有環氧基所成的脂環式環氧化合物者，列舉如，3,4-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷碳酸酯(3,4-epoxy cyclohexylmethyl 3,4-epoxy cyclohexane carboxylate)、1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、1,2-環氧基-1-甲基-4-(1-甲基環氧乙基)環己烷、3,4-環氧基環己基甲基 甲基丙烯酸酯(methacrylate)、2,2-雙(羥甲基)-1-丁醇之4-(1,2-環氧乙基)-1,2-環氧基環己烷加成物、伸乙基 雙(3,4-環氧基環己烷碳酸酯)、氧二伸乙基 雙(3,4-環氧基環己烷碳酸酯)、1,4-環己烷二甲基雙(3,4-環氧基環己烷碳酸酯)、3-(3,4-環氧基環己基甲氧羰基)丙基3,4-環氧基環己烷碳酸酯等。
飽和環狀化合物之環上直接或介由伸烷基結合環氧丙氧基或環氧乙基之脂環式環氧化合物，可為後述含有羥基之芳香族化合物之環氧丙基醚化物其芳香環被氫化之化合物、含有羥基之飽和環狀化合物之環氧丙基醚化物、及含有乙烯基之飽和環狀化合物之環氧化物等。
含有羥基之芳香族化合物之環氧丙基醚化物者，列舉如，雙酚A之環氧丙基醚化物及其寡聚物、與雙酚F之環 氧丙基醚化物及其寡聚物等。將此等芳香據環氧丙基醚化物之前驅物的雙酚A及雙酚F，在觸媒存在下加壓下進行選擇性核氫化反應，對所得氫化雙酚A及氫化雙酚F使環氧氯丙烷(epichlorohydrin)反應，則形成飽和環狀化合物之環上直接環鍵結氧丙氧基之脂環式環氧化合物。
含有羥基之飽和環狀化合物之環氧丙基醚化物者，列舉如，1,4-環己烷二甲醇二環氧丙基醚等。
含有乙烯基之飽和環狀化合物之環氧化物者，列舉如，1,3-雙(環氧乙基)環己烷、1,2,4-三(環氧乙基)環己烷、2,4-雙(環氧乙基)-1-乙烯基環己烷等。
上述脂環式環氧化合物之中，為使提升偏光板之耐久性上顯示良好的硬化物特性，或具有適度的硬化性，同時可比較廉價地獲得緣故，以3,4-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷碳酸酯與氫化雙酚A之環氧丙基醚化物為佳，以3,4-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷碳酸酯更佳。
此等脂環式環氧化合物可各各單獨使用，亦可與其它1種以上混合使用。
此種脂環式環氧化合物，可由市售品容易獲得，列舉如，各各商品名為，「Celloxide」、「Cyclomer」(以上，Daicel化學工業株式會社製)、「Cyracure」(Dow Chemical社製)等。
由上述紫外線硬化性樹脂組成物作成接著劑時，可調配脂環式環氧化合物以外之紫外線硬化性化合物。此種紫 外線硬化性化合物者，可使用脂環式環氧化合物以外之環氧化合物。藉由併用脂環式環氧化合物以外之環氧化合物，可較提升偏光薄膜及延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之密著性。
脂環式環氧化合物以外之環氧化合物者，列舉如，含有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物之環氧丙基醚化物、含有胺基之化合物之環氧丙基胺化物、與含有C-C雙鍵之鏈狀化合物之環氧化物等。
含有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物之環氧丙基醚化物，係對芳香族化合物或鏈狀化合物之羥基將環氧氯丙烷等化合物在鹼性條件下使行加成縮合所獲得之物。列舉如，雙酚型環氧樹脂、多芳香環型環氧樹脂、烷二醇(alkylene glycol)型環氧樹脂等。
雙酚型環氧樹脂者，列舉如，雙酚A之環氧丙基醚化物及其寡聚物、雙酚F之環氧丙基醚化物及其寡聚物、與3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-雙酚之環氧丙基醚化物及其寡聚物等。
再者，多芳香環型環氧樹脂者，列舉如，酚酚醛(novolak)樹脂之環氧丙基醚化物、甲酚酚醛樹脂之環氧丙基醚化物、酚芳烷(aralkyl)樹脂之環氧丙基醚化物、萘酚(naphthol)芳烷樹脂之環氧丙基醚化物、酚二環戊二烯樹脂之環氧丙基醚化物等。更且，亦列舉三羥苯基甲烷之環氧丙基醚化物及其寡聚物、三酚PA之環氧丙基醚化物及其寡聚物等。
再者，烷二醇型環氧樹脂者，列舉如，乙二醇之環氧丙基醚化物、二乙二醇之環氧丙基醚化物、1,4-丁二醇之環氧丙基醚化物、1,6-己二醇之環氧丙基醚化物等。
含有胺基之化合物之環氧丙基胺化物，係對其胺基將環氧氯丙烷等化合物在鹼性條件下使行加成縮合所獲得之物。
含有胺基之化合物，亦可同時含有羥基。列舉如，1,3-苯二胺(phenylenediamine)之環氧丙基胺化物及其寡聚物、1,4-苯二胺之環氧丙基胺化物及其寡聚物、3-胺基酚(aminophenol)之環氧丙基胺化物與環氧丙基醚化物以及其寡聚物、與、4-胺基酚之環氧丙基胺化物及環氧丙基醚化物以及其寡聚物等。
含有C-C雙鍵之鏈狀化合物之環氧化物，係將含有C-C雙鍵之鏈狀化合物之C-C雙鍵，使用過氧化物在鹼性條件下使行環氧化所獲得之物。含有C-C雙鍵之鏈狀化合物者，列舉如，丁二烯、聚丁二烯、異戊二烯(isoprene)、戊二烯、己二烯等。再者，亦可使用含有雙鍵萜烯(terpene)類。列舉如，非環式單萜烯之沈香醇(linalool)等。過氧化物者，列舉如，過氧化氫、過氧乙酸、及tert-丁基氫過氧化物等。
此等脂環式環氧化合物以外之環氧化合物及其寡聚物等可各各單獨使用，亦可與其它1種以上併用。
此類脂環式環氧化合物以外之環氧化合物，以及其寡聚物等，可由市售品容易獲得，列舉如，各各商品名為， 「Epikote」(Japan Epoxy Resin株式會社製)、「Epiclon」(DIC株式會社製)、「Epototo」(東都化成株式會社製)、「AdekaResin」(株式會社ADEKA製)、「Denacol」(Nagase Chemtex株式會社製)、「Dow Epoxy」(Dow Chemical社製)、「Tepic」(日產化學工業株式會社製)等。
在本發明使用之環氧化合物之環氧當量，通常，係30至2,000g/eq，以50至1,500g/eq為佳，70至1,000g/eq更佳。環氧當量低於30g/eq，則有接著劑層之可撓性低下，同時接著強度低下之情況。一方面，超過2,000g/eq，則有硬化速度低下，硬化之接著劑層必要的剛性及強度不足之情況。尚且，此環氧當量，係依據JIS K 7236(ISO 3001)所測定之值。
再者，上述脂環式環氧化合物以外之紫外線硬化性化合物者，亦可使用氧環丁烷(oxetane)化合物。藉由併用氧環丁烷化合物，可提升紫外線硬化性樹脂組成物之硬化速度。
氧環丁烷化合物者，為含有氧環丁烷之環化合物，如有紫外線硬化性則無特別限定物，列舉如，1,4-雙{[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}苯、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧環丁烷、雙(3-乙基-3-氧環丁基甲基)醚、3-乙基-3-(苯氧甲基)氧環丁烷、3-乙基-3-(環己氧基甲基)氧環丁烷、酚酚醛氧環丁烷、1,3-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]苯等。
氧環丁烷化合物，可由市售品容易獲得，列舉如，各 各商品名為，「Aron oxetane」(東亞合成株式會社製)、「ETERNACOLL」(宇部興產株式會社製)等。
在紫外線硬化性樹脂組成物中之脂環式環氧化合物之調配比，相對於紫外線硬化性化合物(脂環式環氧化合物、脂環式環氧化合物以外之環氧化合物與氧環丁烷化合物)之合計100重量份，脂環式環氧化合物以30至95重量份為佳，50至90重量份更佳，70至85重量份為更佳。相對於紫外線硬化性化合物之總量100重量份，脂環式環氧化合物以30重量份以上調配時，則藉由紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物接著形成之偏光板之耐久性有提升效果。再者，超過95重量份，則有硬化物層韌性低劣，同時紫外線硬化性樹脂組成物之硬化速度降低之情況。
紫外線硬化性化合物者，使用不以有機溶劑等稀釋之物為佳。再者，後述構成活性能線硬化性樹脂組成物之光聚合起始劑及增敏劑等少量成分方面，亦比溶解於有機溶劑之物，以使用除去、乾燥有機溶劑之該化合物單獨粉末或液體為佳。
在本發明使用之含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物，係藉由紫外線照射而硬化，並賦予挾著該硬化物層之薄膜間的接著力之硬化性組成物。含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物，以調配陽離子聚合起始劑者為佳。
陽離子聚合起始劑，係藉由紫外線照射產生陽離子物種或路易斯酸(Lewis acid)而開始環氧基之聚合反應之 物。此陽離子聚合起始劑，以潛在性賦予者為佳。藉由潛在性賦予本發明中使用紫外線硬化性組成物的適用期(pot life)變長，作業性亦變良好。
藉由紫外線照射產生陽離子物種或路易斯酸之化合物者，並無特別限定物，可列舉如，芳香族重氮(diazonium)鹽、芳香族錪(iodonium)鹽及芳香族鋶(sulfonium)鹽之鎓(onium)鹽；以及鐵-芳烴(Arene)錯合物等。
芳香族重氮鹽者，列舉如，重氮苯 六氟銻酸鹽、重氮苯 六氟磷酸鹽、重氮苯 六氟硼酸鹽等。
芳香族錪鹽者，列舉如，二苯錪 四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯錪 六氟磷酸鹽、二苯錪 六氟銻酸鹽、二(4-壬苯基)錪 六氟磷酸鹽等。
芳香族鋶鹽者，列舉如，三苯鋶 六氟磷酸鹽、三苯鋶 六氟銻酸鹽、三苯鋶四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基[4-(苯硫基)苯基]鋶 六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二苯二氫硫基]二苯硫化物 雙六氟磷酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥乙氧基)苯基二氫硫基]二苯硫化物 雙六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥乙氧基)苯基二氫硫基]二苯硫化物 雙六氟磷酸鹽、7-[二(p-甲苯基)二氫硫基]-2-異丙基氧硫六氟銻酸鹽、7-[二(p-甲苯基)二氫硫基]-2-異丙基氧硫四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯羰基-4’-二苯基二氫硫基-二苯硫化物 六氟磷酸鹽、4-(p-tert-丁苯基羰基)-4’-二苯二氫硫基-二苯硫化物 六氟銻酸鹽、4-(p-tert-丁苯基羰基)-4’-二(p-甲苯基)二氫硫基-二苯硫化物 四(五氟苯基)硼酸鹽 等。
鐵-芳烴錯合物者，列舉如，二甲苯-環戊二烯鐵(II)六氟銻酸鹽、異丙苯(cumene)-環戊二烯鐵(II)六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯鐵(II)三(三氟甲磺醯基)甲烷化物(methanide)等。
此等陽離子聚合起始劑可各各單獨使用，亦可與其它1種以上混合使用。其中，特別是芳香族鋶鹽，由於即使在300nm以上波長範圍亦具有紫外線吸收特性，可提供硬化性優良，良好的機械強度及接著強度之硬化物層，故使用上為佳。
陽離子聚合起始劑之調配量，相對於紫外線硬化性化合物之合計100重量份，一般為0.5至20重量份，以1至15重量份為佳。其量低於0.5重量份，則有硬化不充分，硬化物層之機械強度及接著強度降低之情況。再者，其量超過20重量份，則有硬化物層中之離子性物質增加使硬化物層吸濕性變高，所得偏光板之耐久性能降低之情況。
此等陽離子聚合起始劑，可由市售品容易獲得，列舉如，各各商品名為，「Kayarad」(日本化藥株式會社製)、「Cyracure」(Union Carbide社製)、光酸產生劑「CPI」(San-apro株式會社製)、光酸產生劑「TAZ」、「BBI」、「DTS」(以上，Midori化學株式會社製)、「Adeka Optoma」(株式會社ADEKA製)、「RHODORSIL」(Rhodia社製)等。
紫外線硬化性樹脂組成物，只要無損於本發明之效果，可調配各種添加劑。添加劑者，列舉如，離子捕捉劑、 抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。離子捕捉劑者，列舉如，粉末狀鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系、與此等之混合系等之無機化合物。抗氧化劑者，列舉如，受阻酚(hindered phenol)系抗氧化劑等。
在硬化前之紫外線硬化性樹脂組成物於25℃之黏度，如可以適當方法塗佈在薄膜之黏度者並無特別限制，以10至30,000mPa．S之範圍為佳，以50至6,000mPa．S之範圍更佳。活性能線硬化性樹脂組成物之黏度低於10mPa．s，則可塗佈裝置受限，即使可塗佈亦有未能得到無不均勻之均質塗膜的情況。再者，超過30,000mPa．s，因為流動困難，相同地塗佈裝置受限，則未能得到無不均勻之均質塗膜的情況。尚且，活性能線硬化性樹脂組成物之黏度，係使用B型黏度計將該組成物調溫至25℃後以60rpm測定之值。
在偏光薄膜兩面具備之接著劑層，可使用同種紫外線硬化性樹脂組成物，再者，亦可使用各各異種紫外線硬化性樹脂組成物。使用同一紫外線硬化性樹脂組成物時，以一種類接著劑即可完成，故步驟變得簡便。
由以上所示紫外線硬化性樹脂組成物而成之接著劑層(硬化前之接著劑層)將其在偏光薄膜或積層之保護薄膜上形成之方法者，採用如，將該組成物於偏光薄膜或積層之保護薄膜上塗佈之方法、將該組成物噴吹之方法，或將預先成形為薄膜狀之該組成物貼合之方法等。其中，將組 成物塗佈之方法或將薄膜狀組成物貼合之方法比較上塗膜均質性較高而佳，將組成物塗佈之方法比較上生產性較高而更佳。
塗佈方法者，採用如，狹縫塗佈機(die coater)、缺角輪塗佈機(comma coater)、逆向輥塗機(reverse roll coater)、凹印塗佈機(gravure coater)、棒塗佈機、線棒(wire bar coater)塗佈機、刮刀塗佈機(doctor blade coater)、與氣刀塗布機(air doctor coater)等。
接著劑層之厚度，一般為0.1至20μm，0.2至10μm為佳，0.5至5μm更佳。厚度低於0.1μm，則藉由硬化之接著劑層在偏光薄膜及積層之保護薄膜間的密著力有不足情況。再者，厚度超過20μm，則接著劑層之硬化進行不充分，即使硬化其厚度引起薄膜之彎曲性惡化，會有無法得到薄化效果之情況。
對於介由上述接著劑層積層之偏光薄膜及保護薄膜的積層體以紫外線照射，使接著劑層硬化，藉此可獲得本發明之偏光板。
光源者，列舉如，在波長400nm以下具有發光分布之低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
照射強度，係依據紫外線硬化性樹脂組成物及照射時間決定，無特別限制，例如，對起始劑之活性化有效的波長範圍其照射強度係以0.1至1,000mW/cm2為佳。
照射時間，係依據活性能線硬化性樹脂組成物及照射 強度決定，無特別限制，例如，以照射強度及照射時間之積所表示之累積光量以設定成為10至2,000mJ/cm2者為佳。對活性能線硬化性樹脂組成物之累積光量未達10mJ/cm2，則起始劑來源之活性物種的產生不充分，而有所得接著劑層硬化不足夠的情況。
再者，超過2,000mJ/cm2，則有照射紫外線引起保護薄膜與紫外線硬化型接著劑、偏光薄膜之劣化的情況。
(保護薄膜、光學補償薄膜)
本發明之偏光板，於與偏光薄膜之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所積層之面的反對側之面，具備介由接著劑層在320nm範圍之光線透過率為60%以上之保護薄膜或光學補償薄膜。
保護薄膜或光學補償薄膜，只要達到上述在320nm範圍之光線透過率60%以上，即可適宜使用合於目的要求的具有作為光學薄膜之光學特性者，並無特別限定，保護薄膜者，列舉如，由三乙醯纖維素(triacetyl cellulose TAC)等形成之纖維素系樹脂薄膜、烯烴(olefin)系樹脂薄膜、丙烯酸系樹脂薄膜、聚碳酸酯(polycarbonate)系樹脂薄膜、聚酯系(polyester)系樹脂薄膜等之透明薄膜。
再者，光學補償薄膜者，列舉如，將上述保護薄膜所舉之薄膜延伸使具有折射率各向異性(anisotropy)之物、調配有賦予光學各向異性添加劑之物、以及在表面形成光學各向異性層之物等。
再者，此等保護薄膜或光學補償薄膜，如後述般，可 一方面將光學功能性薄膜積層，另方面將光學功能層塗佈。
再者，保護薄膜或光學補償薄膜，如後述般，可一方面將光學機能性薄膜積層，另方面將光學機能層塗佈。
纖維素系樹脂薄膜，係由纖維素之部分或完全酯化物形成之薄膜，列舉如，由纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、其等之混合酯等所成之薄膜。其中，三乙醯纖維素薄膜、二乙醯纖維素薄膜、乙酸丙酸纖維素(cellulose acetate propionate)薄膜、與乙酸丁酸纖維素薄膜為適用。
烯烴系樹脂薄膜，例如，將乙烯及丙烯等鏈狀烯烴單體，或降莰烯(norbornene)及其它之環戊二烯(cyclopentadiene)衍生物等環狀烯烴單體，使用聚合用觸媒進行聚合而得樹脂所形成之薄膜。
由鏈狀烯烴單體所成之烯烴系樹脂者，列舉如聚乙烯或聚丙烯系樹脂。其中，以丙烯均聚物(homopolymer)而成之聚丙烯系樹脂為佳。再者，丙烯作主體，可與其共聚的共聚單體，一般以1至20重量%之比率(以3至10重量%之比率為佳)使其共聚之聚丙烯系樹脂為佳。
可與丙烯共聚的共聚單體者，以乙烯、1-丁烯、或1-己烯為佳。其中，在透明性及延伸加工性比較優良者係使乙烯以3至10重量%之比率共聚合者為佳。使乙烯共聚合之比率為1重量%以上，則表現提高透明性及延伸加工性之效果。一方面，其比率超過20重量%時，樹脂融點降低會有損及保護薄膜及光學補償薄膜所要求耐熱性之情況。
將環狀烯烴單體聚合而成之烯烴系樹脂，一般係指環狀(聚)烯烴系樹脂、脂環式(聚)烯烴系樹脂、或降莰烯系樹脂。在此係指環狀烯烴系樹脂。
環狀烯烴系樹脂者，列舉如，環戊二烯及烯烴類藉由Diels-Alder反應所得降莰烯或其衍生物作為單體進行開環移位(metathesis)聚合，其次續行氫化獲得之樹脂；二環戊二烯及烯烴類或甲基丙烯酸酯類藉由Diels-Alder反應所得之四環十二烯(tetracyclododecene)或其衍生物作為單體進行開環移位聚合，其次續行氫化而獲得之樹脂；使用降莰烯、四環十二烯、其等衍生物類、或其它環狀烯烴單體以2種以上同樣進行開環移位共聚合，其次續行氫化獲得之樹脂；將上述降莰烯、四環十二烯、其等衍生物類、與含有乙烯基之芳香族化合物等使加成共聚合獲得之樹脂等。
此種環狀烯烴系樹脂，可由市售品容易獲得，列舉如，各各商品名為，「Topas」(Topas Advanced Polymers GmbH製)、「Arton」(JSR株式會社製)、「Zeonor」、「Zeonex」(以上，日本Zeon株式會社製)、「Apel」(三井化學株式會社製)等。
丙烯酸系樹脂薄膜之較佳的具體例者，可舉由甲基丙烯酸甲酯系樹脂而成之薄膜。甲基丙烯酸甲酯系樹脂，為含有甲基丙烯酸甲酯單位50重量%以上之聚合體。甲基丙烯酸甲酯單位含有量，係70重量%以上為佳，亦可為100重量%。甲基丙烯酸甲酯單位100重量%之聚合體，係以 甲基丙烯酸甲酯使單獨聚合所得之甲基丙烯酸甲酯均聚物。
此甲基丙烯酸甲酯系樹脂，通常，可藉由將甲基丙烯酸甲酯作為主成分之單官能單體以及視需要使用之多官能單體，在自由基聚合起始劑與視需要使用之鏈轉移劑之共存下進行聚合而獲得。
可與甲基丙烯酸甲酯共聚合所得之單官能單體者，可列舉如，甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-乙己酯、與甲基丙烯酸2-羥乙酯等甲基丙烯酸甲酯以外之甲基丙烯酸酯類；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-乙己酯、丙烯酸2-羥乙酯等丙烯酸酯類；2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、3-(羥乙基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥甲基)丙烯酸丁酯等丙烯酸羥酯類；甲基丙烯酸、丙烯酸等不飽和酸類；氯苯乙烯(chlorostyrene)、溴苯乙烯等鹵化苯乙烯類；乙烯甲苯(vinyl toluene)、α-甲基苯乙烯(α-methyl styrene)等取代苯乙烯類；丙烯腈(acrylonitrile)、甲基丙烯腈等不飽和腈類；順丁烯二酸酐、檸康酸酐等不飽和酸酐類；苯基順丁烯二醯亞胺(phenyl maleimide)、環己基順丁烯二醯亞胺等不飽和醯亞胺類等。此類單體可各各單獨使用，亦可與其它1種以上組合使用。
可與甲基丙烯酸甲酯共聚合所得之多官能單體者，列 舉如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十四乙二醇(甲基)丙烯酸酯等之乙二醇或其寡聚物之兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸酯化之物；丙二醇或其寡聚物之兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸酯化之物；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等之2價醇之羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸酯化之物；雙酚A、雙酚A之環氧烷(alkylene oxide)加成物、或此等鹵取代體之兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸酯化之物；三羥甲基(methylol)丙烷、新戊四醇(pentaerythritol)等多元醇以丙烯酸或甲基丙烯酸酯化之物；與在此等末端羥基將丙烯酸環氧丙酯或甲基丙烯酸環氧丙酯之環氧基使開環加成之物；在琥珀酸、己二酸、對酞酸、酞酸、此等鹵取代體等之二元酸、與此等環氧烷加成物等將丙烯酸環氧丙酯或甲基丙烯酸環氧丙酯之環氧基使開環加成之物；(甲基)丙烯酸烯丙酯；二乙烯苯等之二烯丙基化合物等。其中，以乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯與新戊二醇二甲基丙烯酸酯為適用。
甲基丙烯酸甲酯系樹脂，可為藉由該樹脂含有官能基間進行反應使變性之變性甲基丙烯酸甲酯系樹脂。其反應者，列舉如，丙烯酸甲酯之甲酯基及2-(羥甲基)丙烯酸甲酯之羥基行高分子鏈內脫甲醇縮合反應，與，丙烯酸之羧基及2-(羥甲基)丙烯酸甲酯之羥基行高分子鏈內脫水縮 合反應等。
構成聚碳酸酯系樹脂薄膜之聚碳酸酯系樹脂，通常，係2價酚與光氣(phosgene)或碳酸二苯酯類等之碳酸酯前驅物行界面縮聚法，或以熔融酯交換法反應獲得之物，一般為使用雙酚A作2價酚之芳香族聚碳酸酯樹脂。其它，列舉將碳酸酯預聚合物藉由固相酯交換法聚合之物，或將環狀碳酸酯化合物使開環聚合之物等。
2價酚者，如不損及光學用透明樹脂之性能者，並無特別限定，例如雙酚A(2,2-雙(4-羥苯基)丙烷)之外，其它列舉如，氫醌(hydroquinone)、間苯二酚(resorcinol)、4,4’-二羥基聯苯、雙(4-羥苯基)甲烷、雙{(4-羥基-3,5-二甲基)苯基}甲烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷、1,1-雙(4-羥苯基)-1-苯基乙烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)-4-異丙基環己烷、2,2-雙{(4-羥基-3-甲基)苯基}丙烷、2,2-雙{(4-羥基-3,5-二甲基)苯基}丙烷、2,2-雙{(4-羥基-3,5-二溴)苯基}丙烷、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥苯基)-3-甲基丁烷、2,4-雙(4-羥苯基)-2-甲基丁烷、2,2-雙(4-羥苯基)戊烷、2,2-雙(4-羥苯基)-4-甲基戊烷、9,9-雙(4-羥苯基)茀(fluorene)、9,9-雙{(4-羥基-3-甲基)苯基}茀、9,9-雙{(4-羥基-3,5-二甲基)苯基}茀、9,9-雙{(4-羥基-3,5-二溴)苯基}茀、α,α’-雙(4-羥苯基)-o-二異丙苯、α,α’-雙(4-羥苯基)-m-二異丙苯、α,α’-雙(4-羥苯基)-p-二異丙苯、4,4’-二羥基二苯碸(sulfone)、4,4’-二羥基二苯酮、4,4’-二羥基二苯 醚等，此等可各各單獨使用，或可與其它1種以上併用。
再者，為一面調整分子量至適當範圍，一面將高分子鏈之羥基末端封閉，亦可併用1價酚化合物。1價酚者，如有封端劑功能之化合物者，並無特別限定，列舉如，酚、4-tert-丁酚、1-苯基-1-(4-羥苯基)丙烷等。
將鏈狀烯烴系樹脂、環狀烯烴系樹脂、甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等，成形為保護薄膜之方法者，係採用如，將溶解於溶媒之樹脂對金屬製帶或桶(drum)進行流鑄(flow casting)，乾燥除去溶媒獲得薄膜之溶媒澆鑄法；與使樹脂在其熔融溫度以上加熱．混練並藉由模具壓出、冷卻獲得薄膜之熔融壓出法。其中，由生產性觀點，以採用熔融壓出法為佳。
再者，就可作為在偏光薄膜中之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所積層之側的反向側介由接著劑層設置的保護薄膜而使用之聚酯系樹脂薄膜而言，只要在上述320nm範圍之光線透過率達60%以上，則可使用與構成該延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之聚對酞酸乙二酯系樹脂同種之物。
再者，由纖維素系樹脂薄膜形成之光學補償薄膜，如果具有合於目的之折射率特性則無特別限定，列舉如，將上述所舉纖維素系樹脂薄膜經單軸或二軸延伸獲得之薄膜；或使纖維素系樹脂薄膜含有具備相位差調整功能之化合物之薄膜，於纖維素系樹脂薄膜表面塗佈具有相位差調整功能化合物之薄膜，使其等薄膜進一步進行單軸或二軸延伸而獲得薄膜等。
由纖維素系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜，可由市售品容易獲得，列舉如，商品名分別為「FujitacWV」(富士Film株式會社製)、「Konica Minolta TAC Film KC8UCR」(Konica Minolta Opto株式會社製)等者。
再者，保護薄膜所例示之烯烴系樹脂薄膜、丙烯酸系樹脂薄膜、聚碳酸酯系樹脂薄膜、及聚對酞酸乙二酯系樹脂薄膜、與由其等所成之多層壓出薄膜等使用為光學補償薄膜時，通常，將其未延伸薄膜行延伸，使在薄膜持有折射率各向異性。延伸方法，係視需要之射折率各向異性而選擇者，並無特別限定，通常，採用縱向單軸延伸、橫向單軸延伸、或縱、橫向逐次二軸延伸。
以烯烴系樹脂及聚碳酸酯系樹脂開始之多數樹脂具有正的折射率各向異性，以應力施加方向變成最大折射率，故其等縱向單軸延伸之薄膜，通常賦予nx>ny=nz之折射率各向異性。在此，nx為薄膜面內慢(遲相)軸方向(在面內折射率最大之方向)之折射率，ny為薄膜快(進相)軸方向(在面內與快軸正交之方向)之折射率，nz為薄膜之法線方向之折射率。此等樹脂經橫向單軸延伸之薄膜，通常賦予nx>ny≒nz之折射率各向異性。一方面，如丙烯酸系樹脂之具有負的折射率各向異性樹脂，以應力施加方向變成最小折射率緣故，其縱向單軸延伸薄膜，通常賦予nx=nz>ny之折射率各向異性，其橫向單軸延伸薄膜，通常賦予nx≒nz>ny之折射率各向異性。具有正的折射率各向異性樹脂之逐次二軸延伸薄膜，通常賦予nx>ny>nz之折射率各 向異性。
再者，為賦予所期望之折射率特性，進行將熱收縮性薄膜貼合至目的薄膜，代替延伸加工，或與延伸加工同時，或延伸加工之後使薄膜收縮。通常，此操作，係用以求得折射率各向異性成為nx>nz>ny或nz>nx≧ny之光學補償薄膜而進行。
關於此等光學補償薄膜，將厚度作為d時，面內相位差值R0與厚度方向之相位差值R0h分別以(nx-ny)×d與[(nx+ny)/2-nz]×d表示。
光學補償薄膜，可由市售品容易獲得，列舉如，由環狀聚烯烴系樹脂而成之光學補償薄膜者，商品名分別為「Zeonor Film」(日本ZEON株式會社製)、「Arton Film」(JSR株式會社製)、「S Sheena相位差Film」(積水化學工業株式會社製)、「Pure-AceER」(帝人化成株式會社製)等。再者，由聚碳酸酯系樹脂成為光學補償薄膜者，列舉如，「Pure-AceWR」(帝人化成株式會社製)等。
更且，介由接著劑層積層在偏光薄膜之保護薄膜或光學補償薄膜，可積層光學功能性薄膜，或塗佈光學功能層。此光學功能性薄膜及光學功能層者，列舉如，防眩層、導電層、硬塗佈層、抗反射層等。
(黏著劑層)
本發明之偏光板，在與上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜的相反側積層之透明樹脂薄膜上積層有偏光薄膜之面的相反對之面可含有黏著劑層。此種黏著劑層，可用於貼合 液晶胞(liquid crystal cell)。
構成黏著劑層之黏著劑，如果達到作為光學薄膜用途之諸特性(透明性、耐久性、重工性等)則無特別限定，可使用如，以(甲基)丙烯酸酯作主成分，將少量含有具官能基之(甲基)丙烯酸單體之丙烯酸單體組成物在聚合起始劑之存在下進行游離基聚合所形成的玻璃轉移溫度(Tg)在0℃以下之丙烯酸系樹脂、及交聯劑之丙烯酸系黏著劑。
在此，成為丙烯酸系樹脂的主成分之(甲基)丙烯酸酯，可以下述式表示：CH2=C(R1)COOR2式中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳原子數1至14之烷基或芳烷基，R2之烷基之氫原子，或芳烷基之氫原子，亦可以碳原子數1至10之烷氧基取代。
此種丙烯酸酯者，列舉如，R1為H，R2為n-丁基之丙烯酸n-丁酯、R1為H，R2為2-乙己基之丙烯酸2-乙己酯等。再者，如R1為H，R2為以烷氧基取代之烷基時，列舉丙烯酸2-甲氧乙酯、丙烯酸乙氧甲酯等。
再者，具有官能基之(甲基)丙烯酸單體，為分子內含有羥基、羧基、醯胺(amide)基、胺基、及環氧基等極性官能基，與1個烯烴性雙鍵(通常為(甲基)丙烯醯基)之物。
此種具有官能基之丙烯酸單體者，列舉含有羥基之物，具體而言，以使用丙烯酸2-羥乙酯為佳。再者，含有羧基之物者，以使用丙烯酸為佳。
再者，丙烯酸單體組成物，亦可更含有(甲基)丙烯酸 酯及具有官能基之(甲基)丙烯酸單體以外之單體。其例可列舉如，在分子內具有1個烯烴性雙鍵及至少1個芳香環之單體、苯乙烯系單體、在分子內具有脂環式結構之(甲基)丙烯酸酯、乙烯系單體、在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體等。
其中，在分子內具有1個烯烴性雙鍵及至少1個芳香環之單體者，以下述式：CH2=C(R3)-COO-(CH2(CH2O)n-Ar-R4表示之單體為佳。
上述式中，R3表示氫原子或甲基，n為1至8之整數，Ar為伸芳(arylene)基、R4表示氫原子、碳原子數1至9之烷基、碳原子數7至11之芳烷基、或碳原子數6至10之芳基。
此種單體者，列舉如，(甲基)丙烯酸2-苯氧乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧乙氧基)乙酯、環氧乙烷變性壬酚之(甲基)丙烯酸酯、2-(o-苯基苯氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯等。此等之中，以丙烯酸2-苯氧乙酯為佳。
(甲基)丙烯酸酯及具有官能基之(甲基)丙烯酸單體以外之單體，可各各單獨使用，亦可與相異之複數種併用。源自此單體之結構單位，相對於丙烯酸系樹脂全體的含有量，通常為0至20重量%，以0至10重量%為佳。
丙烯酸系黏著劑中所含有之丙烯酸系樹脂的分子量，藉由凝膠滲透層析術(gel permeation chromatography)(GPA)以標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)表示值 者，以100萬至200萬為佳。重量平均分子量為100萬以上，由於在高溫高濕下有接著性提升，玻璃基板及黏著劑層間發生浮起及剝離之可能性變低之傾向，而且有重工性提升之傾向，因而為佳。再者，重量平均分子量為200萬以下，貼合在其黏著劑層之透明樹脂薄膜之尺寸即使變化，則黏著劑層隨著其尺寸變化而變動，故液晶胞周邊部的亮度與中心部的亮度之間變得無差別，有抑制泛白及色不均勻之傾向而屬良好。更且，以重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)表示之分子量分布，係以3至7之範圍為佳。
在丙烯酸系黏著劑含有之丙烯酸系樹脂，可只由如上述之較高的分子量者所構成，亦可由與其相異之丙烯酸系樹脂之混合物所構成。混合用之丙烯酸系樹脂者，可列舉如，以源自上述式表示之(甲基)丙烯酸酯的結構單位作主成分，重量平均分子量為5萬至30萬之範圍者。
丙烯酸系黏著劑中所含之丙烯酸系樹脂之製造方法者，採用如，溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法等公開眾知之各種方法。此丙烯酸系樹脂之製造上，通常，使用聚合起始劑。聚合起始劑者，列舉如：偶氮系化合物、有機過氧化物、無機過氧化物、過氧化物及還原劑併用之氧化還原系起始劑等。其中，以2,2’-偶氮雙異丁腈(2,2’-azobis isobutyro nitrile)、過氧化苄醯(benzoyl peroxide)、及過硫酸銨之使用為佳。此種聚合起始劑之調配量者，相對於丙烯酸單體總量100重量 份，一般為0.001至5重量份左右。
在如此所得之丙烯酸系樹脂中調配交聯劑作成黏著劑組成物。交聯劑，係分子內至少含有2個可與源自丙烯酸系樹脂中的具有極性官能基之單體的結構單位進行交聯反應之官能基之化合物，列舉如，異氰酸酯(isocyanate)系化合物、環氧系化合物、金屬螯合劑系化合物、氮環丙烷(aziridine)系化合物等。
此等交聯劑之中，以使用異氰酸酯系化合物為佳，異氰酸酯系化合物者，在分子內至少含有2個異氰酸基(-NCO)之化合物其自體以外，其與多元醇等反應之加成物，可使用其二聚物、三聚物等之形式，列舉如，二異氰酸甲苯酯(tolylene diisocyanate)、二異氰酸甲苯酯與多元醇反應獲得之加成物、二異氰酸甲苯酯之二聚物、及二異氰酸甲苯酯之三聚物、與(hexamethylene)六亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯與多元醇反應獲得之加成物、六亞甲基二異氰酸酯之二聚物、六亞甲基二異氰酸酯之三聚物等。
交聯劑相對於丙烯酸系樹脂100重量份之調配量，一般為0.01至5重量份，以0.1至5重量份為佳，0.2至3重量份更佳。相對於丙烯酸系樹脂100重量份之交聯劑量在0.01重量份以上，特別是0.1重量份以上，則有提高黏著劑層之耐久性的傾向。再者，5重量份以下，則附有黏著劑層之偏光板適用於液晶顯示裝置時泛白有變得無法看出之傾向。
在本發明使用之黏著劑層，為了除去偏光板帶電之靜 電，以具有抗靜電性者為佳。偏光板，將保護黏著劑層之剝離薄膜(離層；separate layer)剝離後貼合至液晶胞時等屢屢帶有靜電，如果黏著劑層具有抗靜電性，其靜電便快速除電，而抑制液晶胞顯示回路受到破壞，與液晶分子之定向的紊亂。
對黏著劑層賦予抗靜電性，一般而言係採用，對黏著劑，使含有金屬微粒子、金屬氧化物微粒子、或塗佈金屬等之微粒子的方法；使含有由電解質鹽及有機聚矽氧烷而成之離子導電性組成物的方法；使調配有機鹽系抗靜電劑的方法等。一方面，求得抗靜電性之保持時間者，一般而言由偏光薄膜之製造、流通及保管期間之觀點，至少6個月左右係屬必要。
因此，對本發明使用之黏著劑賦予抗靜電性，係採用使含有融點為30至80℃，具有有機陽離子之離子性化合物的方法為佳。此離子性化合物之融點，係35至70℃者更佳。融點超過80℃，則離子性化合物與丙烯酸系樹脂之相溶性會有變差之情況。再者，融點未達30℃，則抗靜電性之長期安定性有變差之情況。
構成融點為30至80℃的離子性化合物之有機陽離子成分者，由於將剝離薄膜剝離時不易帶電，故以吡啶鎓(pyridinium)陽離子及咪唑鎓(imidazolium)陽離子為佳。一方面，成為有機陽離子成分的相對離子(counter ion)之陰離子成分者，可為無機陰離子，亦可為有機陰離子。其中，由賦予抗靜電性能優良之離子性化合物觀之，以含 有氟原子之陰離子成分為佳，以六氟磷酸鹽陰離子更佳。
離子性化合物之具體例，係N-己基吡啶鎓 六氟磷酸鹽、N-辛基吡啶鎓 六氟磷酸鹽、N-辛基-4-甲基吡啶鎓 六氟磷酸鹽、N-丁基-4-甲基吡啶鎓 六氟磷酸鹽、N-甲基-4-己基吡啶鎓 六氟磷酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓 六氟磷酸鹽等。此類離子性化合物可各各單獨使用，亦可與其它1種以上併用。
離子性化合物相對於丙烯酸系樹脂100重量份之含有量，以0.2至8重量份為佳，0.5至3重量份更佳。相對於丙烯酸系樹脂100重量份，離子性化合物含有0.2重量份以上時，則使用此黏著劑組成物之黏著劑層，由於提升抗靜電性能而佳。再者，其含有量為8重量份以下，則黏著劑層之耐久性由於保持容易而佳。
此類離子性化合物亦有市售品，列舉如，吡啶鎓陽離子型離子性化合物(光榮化學株式會社製)、咪唑鎓陽離子型離子性化合物(日本合成化學工業株式會社製)、脂肪族4級銨陽離子性化合物(日清紡績株式會社製)等。
黏著劑組成物，視需要，可調配矽烷偶合劑、交聯觸媒、耐候安定劑、增黏劑、塑化劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑、及上述丙烯酸系樹脂以外之樹脂等、與有機珠等光擴散性微粒子。再者，於黏著劑組成物調配紫外線硬化性化合物，在黏著劑層形成後照射紫外線使硬化，製成較硬黏著劑層亦為有用。
構成黏著劑組成物之此等各成分，以在乙酸乙酯等溶 解於適當溶劑之狀態塗佈於適當基材上，使乾燥，成為黏著劑層。
將黏著劑層在透明樹脂薄膜上形成之方法者，採用如，使用剝離薄膜作為上述基材，將上述黏著劑組成物塗佈形成黏著劑層，將所得黏著劑層於透明樹脂薄膜表面積層之方法，以及於透明樹脂薄膜表面將黏著劑組成物塗佈形成黏著劑層，在其黏著劑面將剝離薄膜貼合之方法等。再者，於剝離薄膜上得到黏著劑層後，更且將剝離薄膜貼合，可獲得無光學薄膜(例如，保護薄膜或光學補償薄膜)支撐之兩面隔離層型之黏著劑片。此種兩面隔離層型黏著劑片，必要時候將單面之剝離薄膜剝離，用於與透明樹脂薄膜貼合。兩面隔離層型黏著劑片之市售品者，列舉如，Noncareer黏著劑薄膜．片(Lintec株式會社製、日東電工株式會社製)。
尚且，剝離薄膜，係例如，將聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸脂、聚丙烯或聚乙烯等各種樹脂所成之薄膜作為基材，在與此基材的黏著劑層之接合面施予聚矽氧處理等之離型處理之物，亦稱呼為隔離薄膜或隔離片。
如此經塗佈、乾燥之黏著劑層，通常，例如在溫度23℃、濕度65%使熟成3至20日左右，進行充分的交聯劑反應後，用於貼合液晶胞及其它之光學薄膜。
黏著劑層厚度以10至30μm為佳，15至25μm更佳。黏著劑層厚度為30μm以下，則有在高溫高濕下之接著性 提升，玻璃基板及黏著劑層間發生浮起或剝離之可能性有變低傾向，而且有重工性提升之傾向。再者，其厚度為10μm以上，在其處貼合之透明樹脂薄膜的尺寸即使變化，由於黏著劑層隨其尺寸變化而變動，故液晶胞周邊部之亮度與中心部之亮度間變得無差別，有抑制泛白及色不均勻之傾向。
<液晶顯示裝置>
如以上製成之偏光板，亦即，具有含紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜/接著劑層/偏光薄膜/接著劑層/透明樹脂薄膜/黏著劑層/剝離薄膜之積層結構的偏光板，由黏著劑層將剝離薄膜剝離，貼合至液晶胞之單面或兩面，可做成液晶面板。此液晶面板，可適用於液晶顯示裝置。
本發明之偏光板，例如，在液晶顯示裝置中，可使用作為配置於能見側之偏光板。特別地，在構成本發明之偏光板之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜積層有防眩層時，本發明之偏光板配置於能見側。能見側，係指以液晶顯示裝置之液晶胞作基準，與背光側為相反側者。在液晶顯示裝置之背光側配置之偏光板，可為本發明之偏光板，亦可為歷來眾所周知之偏光板。
液晶胞之作動模式，並無特別限定，由本發明之偏光板特徵之薄型、高生產性等之觀點，以透過型VA模式或IPS模式液晶胞為佳，其中，以彼等模式之較大型的電視用液晶胞更佳。
實施例
以下，以實施例表示更具體說明本發明，但本發明不限定於此等例。尚且，此等例中，表示含有量或使用量之%及份，除另有註明外係為重量基準。如以下進行評價。
<光線透過率>
關於在偏光薄膜積層之保護薄膜，使用株式會社島津製作所社製之分光光度計UV2450測定320mn及380mn之光線透過率。
<耐光性評價>
將所得偏光板切取40mm×40mm，在延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之相反側積層之保護薄膜外面介由黏著劑貼合至玻璃基板。其後，在Sunshine weather meter(Suga試驗機(株)製S80)由延伸聚對酞酸乙二酯薄膜使照射紫外線方式投入之，照射500小時後取出，從初期有無變色進行外觀目視評價。
<耐濕熱性評價>
將所得偏光板切取40mm×40mm，在延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之相反側積層之保護薄膜外面介由黏著劑貼合至玻璃基板。其後，在60度90%RH烘箱中投入1000小時，取出後，由外觀目視評價有無由紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所成之接著劑層因反應不足所引起之偏光薄膜的脫色。
<密著性評價>
所得偏光板之偏光薄膜及兩面保護薄膜在各各界面 以切刀刀刃切入，切刀刀刃直接進入於保護薄膜及偏光薄膜間以是否產生剝離進行保護薄膜及偏光薄膜之密著性的評價。
[製造例1]偏光薄膜之製作
將平均聚合度約2,400，皂化度為99.9mol%以上的厚度75μm之聚乙烯醇薄膜，在30℃純水中浸漬後，於碘/碘化鉀/純水之重量比0.02/2/100之水溶液在30℃浸漬。其後，於碘化鉀/硼酸/純水之重量比12/5/100之水溶液在56.5℃浸漬，繼續，以8℃純水洗淨後，在65℃乾燥，獲得聚乙烯醇經碘吸附定向之偏光薄膜。延伸主要在碘染色及硼酸處理之步驟中進行，步驟中合計之延伸倍率為5.3倍。
[製造例2]紫外線硬化性接著劑組成物之製作
將如次各成分混合，製作液狀之接著劑組成物。
[製造例3]水系接著劑之製作
將如次各成分混合，製作水系接著劑。
resin650](由住化Chemtex株式會社取得) 1.5份
<實施例1>
將具有380nm之光線透過率1%的紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，其貼合面施行電暈(corona)處理後，以製造例2所得之紫外線硬化性接著劑組成物，藉由具備箱型刮刀(chamber doctor)之塗佈裝置塗佈成厚度3μm。再者，由320nm之光線透過率90%環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜，其貼合面施行電暈(corona)處理後，同樣地將在製造例2所得紫外線硬化性接著劑組成物塗佈成厚度3μm。
對各薄膜塗佈接著劑組成物後，介由各各接著劑組成物之塗佈面立即在製造例1所得偏光薄膜單面以貼合輥貼合延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，在另一面以貼合輥貼合環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜，。其後，在線速度20m/分鐘，金屬鹵素燈於280至320nm波長使累積光量成為320mJ/cm2由環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜側照射，使兩面接著劑硬化而獲得偏光板。評價結果表示於表1。
<實施例2>
在實施例1取代延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，使用具有380nm之光線透過率9%的紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜以外，與實施例1同樣進行獲得偏光板。評價結果表示於表1。
<實施例3>
在實施例1取代由環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜，使用在320nm之光線透過率86%的纖維素系樹脂所成薄膜形成之光學補償薄膜以外，與實施例1同樣進行獲得偏光板。評價結果表示於表1。
<實施例4>
在實施例1取代由環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜，使用在320nm之光線透過率60%的聚對酞酸乙二酯薄膜形成之保護薄膜，更且，藉著金屬鹵素燈於280至320nm波長照射使累積光量成為450mJ/cm2以外，與實施例1同樣進行獲得偏光板。評價結果表示於表1。
<比較例1>
在實施例1取代延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，使用具有380nm之光線透過率31%的紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜以外，與實施例1同樣進行獲得偏光板。評價結果表示於表1。
<比較例2>
在實施例4取代在320nm之光線透過率59%的聚對酞酸乙二酯薄膜所成之保護薄膜，使用在320nm之光線透過率30%的聚對酞酸乙二酯薄膜所成之保護薄膜以外，與實施例4同樣進行獲得偏光板。評價結果表示於表1。
由表1結果亦明瞭，本實施例之偏光板，具有優良的紫外線吸收能，同時偏光薄膜與延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所成之保護薄膜之密著性優良，同時在濕熱環境下亦具有高耐久性。再者，在任何實施例中之外觀皆為良好。
<比較例3>
將具有在380nm之光線透過率1%的紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜與在320nm之光線透過率90%的環狀烯烴系樹脂薄膜所成之光學補償薄膜於各個偏光薄膜之貼合面側施予電暈處理後，各個塗佈製造例3所得水系接著劑，並分別貼合在偏光薄膜兩面。
其後，立即在設定80℃之熱風循環式乾燥機進行乾燥5分鐘後獲得偏光板。
本比較例之偏光板，在偏光薄膜及保護薄膜間容易剝離，係密著性差劣之物。
<實施例5> (a)能見側偏光板之製作
在實施例1取代延伸聚對酞酸乙二酯薄膜，使用具有380nm之光線透過率1%的紫外線吸收劑之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜在其與偏光薄膜接著面之相反側之面使用具有由防眩層形成用樹脂組成物之硬化物層所成的防眩層之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜以外，與實施例1同樣進行獲得偏光板。如此所得偏光板之由環狀烯烴系樹脂薄膜所成的光學補償薄膜之外面施予電暈處理，設有厚度20μm之丙烯酸系黏著劑之層，獲得附有黏著劑層之可見側偏光板。其後，對後述液晶電視之畫面尺寸將吸收軸對長邊方向併合裁斷之，獲得可見側偏光板片。
(b)背光側偏光板之製作
在實施例1所得的偏光板之由環狀烯烴系樹脂薄膜所成的光學補償薄膜之外面施予電暈處理，設有厚度20μm之丙烯酸系黏著劑之層，獲得附有黏著劑層之背光側偏光板。其後，對後述液晶電視之畫面尺寸將吸收軸對短邊方向併合裁斷之，獲得背光側偏光板片。
(c)液晶顯示裝置之製作
安裝有具備垂直定向模式液晶胞之液晶面板的市售液晶電視之液晶面板，將兩面之偏光板剝離並取出液晶胞。在該液晶胞前面(可見側)將上述可見側偏光板片，在背面(背光側)將上述背光側偏光板片，介由各個黏著劑層貼合而製作液晶面板。
其次，將此液晶面板，以背光/光擴散板/擴散片/液晶面板之構成組裝，製作液晶顯示裝置。使此液晶顯示裝 置作動時，沒有觀察到色不均勻等瑕疵。

Claims (5)

  1. 一種偏光板，係包含聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜，及在該偏光薄膜之兩面介由接著劑層而積層之保護薄膜者，其中，一面之保護薄膜係由含有紫外線吸收劑且波長380nm中之光線透過率為10%以下之延伸聚對酞酸乙二酯薄膜所構成；另一面保護膜在波長320nm中之光線透過率為60%以上；接著劑層係由含有環氧化合物之紫外線硬化性樹脂組成物之硬化物層所構成。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜具有防眩性，或者，在上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜之與上述偏光薄膜接著之面的相反側之面積層著防眩層。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中積層在上述偏光薄膜之與上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜為相反側的保護薄膜為光學補償薄膜。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之偏光板，其中積層在上述偏光薄膜之與上述延伸聚對酞酸乙二酯薄膜為相反側之保護薄膜，係在積層於上述偏光薄膜之面的相反側之面具備黏著劑層。
  5. 一種液晶顯示裝置，係具備：如申請專利範圍第4項所述之偏光板係介由其黏著劑層貼合在液晶胞之液晶面板。
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