TW201248332A

TW201248332A - Method for forming pattern using photosensitive resin composition, pattern obtained by the method, color filter, and image display device with the color filter

Info

Publication number: TW201248332A
Application number: TW101116564A
Authority: TW
Inventors: Kou Takeuchi
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2011-05-09
Filing date: 2012-05-09
Publication date: 2012-12-01
Also published as: WO2012153777A1; JP2012252328A

Description

201248332 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明疋有關於一種使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法以及圖案、彩色濾光片與影像顯示裝置。【先前技術】液晶顯示裝置之彩色濾光片或印刷電路基板之圖案化抗姓劑通常使用感光性樹脂組成物。該些彩色遽光片或印刷電路基板可藉由如下方式而獲得：（1)藉由將感光性樹脂組成物層塗佈於基板上之方法、或者使用具有感光性樹脂組成物層之轉印材料而轉印於基板上的方法等，於基板上形成感光性樹脂組成物層，然後（2)介隔與所形成之圖案對應之光罩進行影像狀之曝光、或者藉由具有掃描功能的雷射光直接進行影像狀之曝光，於曝光部分之感光性樹脂組成物層上形成潛影，（3)使用處理液對曝光部分以外 (負型感光性樹脂組成物之情形）或者曝光部分（正型感光性樹脂組成物之情形）進行顯影將其除去而形成圖案，然後視需要而進行整個面曝光或烘烤處理。藉由此種方法而製成之感光性樹脂組成物圖案亦可使用於液晶顯示裝置中所使用之彩色濾光片之黑色矩陣、著色晝素、平坦化^、液晶配向控制用突起以及間隔件等中。而且，近年來，於銀行之ATM、自動售票機、移動終端等中所見之搭載有觸控面板之液晶顯示裝置的需要不斷擴大。觸控面板之方式已知有超音波方式、電阻膜方式、靜電容方式等，自耐久性之觀點考慮，預料靜電容方式之 4 201248332 tyif 觸控面板之需要會進-步擴大。靜電容方式觸控面板元件可猎由於透明電極圖案間夹持絕緣層而形成電容器，進一步藉由保護層（GV_at la㈣等進行覆蓋而製^。於其製作步驟中，利用溶劑、酸、或驗溶液等而進行顒示元件之浸潰處理，而且於進行用以形成配線電極層之滅鍛時，表面局部性地暴絲高溫下。為了防止由概種處理而造成凡件劣化或減，餘魅触而言具有耐纽之透明絕緣層及於其上所積層之保護層為必須的。上述保護層或於透明電_賴賴置找緣層亦可骑域光性樹脂組成物之圖案而形成者。為了製作此種感光性樹脂組成物之圖案，必須於形成圖案之基板之至少一個面設置感光性樹脂組成物層。 '^為於基板上设置感光性樹脂組成物層之方法，已知有使用^ 縫狀官嘴（nozzle)等將感光性樹脂組成物直接塗佈於美板上的方法。而且，亦提出了如下之方法：使預先於臨二支撐體上設有感光性樹脂組成物層之轉印材料的感光性脂組成物層與基板對向’使用積層輥（laminater〇u)而轉印於基板上，從而於基板上形成感光性樹脂組成物層的方法。利用轉印之錢具有如下之特徵：由於未使用^劑而於作業現場並無溶劑氣味，可維持適宜之作業環境；容於輥狀基板上連續地形成感光性樹脂組成物之圖案等。關於使於臨時支撐體上設有感光性樹脂組成物層之印材料的感光性樹脂組成物層與基板對向，使用積層輥而轉印於基板上，從而於紐上軸感光性樹脂組成物層之 201248332 方法，於日本專利3_513號說明書及日本專利特開 2007-304403號公報等中記載為液晶顯示裝置之彩色滤光片之製作方法。*且，於日本專鄉開·8聰％號公報及日本專利特開厕损％號公報等中記載了該方法而作為7 V >卜配線版用抗蝕劑圖案製作方法。形成感光性圖案之基板未必僅限於平坦之基板，有時產生如下之必要.於藉由刚步驟而預先製作之具有階差之基板上轉印感紐細旨組錢層。於液晶顯示裝置之情形時通常使用如下之方法：首絲成作為遮光材料之黑色矩陣後’其次於黑色矩陣之開σ部分形成與RGB對應之著色晝素。於此情形時’黑色矩_成於平坦之基板丄，但 RGB等感光性樹脂組成物層變為轉印於預先具有圖案、亦即具有凹凸之基板上。同樣地，於形成RGB著色畫素後，彩色遽光片上所設置之光間隔件用感光性樹脂組成物層等亦變得轉印於具有凹凸之基板上。於靜電容方式之觸控面板之情形時，存在有如下之方法：將基板自身作為絕緣層，祕基板之兩個面形成互相直行之一對電極圖案的方法；於基板之單面側一對電極圖案的方法。於後者之方法中，設於交叉的電極間的絕緣層圖案通常具有1 μιη〜3 μιΠ2厚度因此用以形成上部電極之抗_圖案或成為最上層之保護層的感光性樹脂組成物層變為轉印於具有凹凸之基板上。關於印刷電路板，亦於近年來提出了以小型化為目的之多層結構的印刷電路板。於設置用以使多個導電層絕緣 6 201248332 I A ·/ «/ f ⑽从倾上部之導電層的抗㈣感光丨生树月曰組成物層變為轉印於具有凹凸之基板上。土然而’於欲在如上所述之具有凹凸的基板上轉印感光層之情形時，存在如下之問題:感光性樹脂 ^物層縣完全填埋基板之凹凸，於積層時於基板上預先存在之圖案（稱為先前圖案）之周邊產生氣泡。、若於所轉印之感光性樹脂組成物層之—部分存在氣法確保對於該部分基板之密接性，於積層後之曝 t中，即使對氣泡周邊進行曝光、使其硬化，於顯影時乳泡周邊之圖案亦脫落，從而於圖案上產生缺陷。於液晶顯不裝置之彩色濾、光片之情形時，圖案之脫落部分會使光透過，從而無法正確地顯示影像。而且，於印刷電ς基板用抗鋪等非永久膜之情形時，亦產生如下之問題：於缺陷部分觸由則而除去之金屬膜無法受聽護，因此本來應該如勤】_狀金屬賴除去之斷線等》 |王电峪如此·，作為抑制積層時之氣泡產生的方法，進行了如由提高積層時之壓力或輥溫度、或者降低積層t度而提㊣感紐樹驗成物層對先前圖案之追隨性。然而部存在如下之問題：由於積層時賴之影響，產生光性樹脂組成物層之硬化（由於熱而部分性聚合），導致於基板上產生麵之弊端，從而使制之處理量⑽咖讲）降低而造成生產性降低。 201248332 對此，於曰本專利3800513號說明書等中提出了如下之提案：將熱塑性樹脂層設置於感光性樹脂組成物層與臨時支撐體之中間，於積層時吸收先前圖案之影響。此種熱塑性樹脂層較佳的是軟化點為80。(：以下者。於通常情況下，感光性樹脂組成物層藉由使用鹼性顯影液而進行顯影，為了進行未曝光部分（負型感光性樹脂組成物之情形）或曝光部分（正型感光性樹脂組成物之情形）的除去，必須於感光性樹脂組成物層之顯影之前，藉由顯影將在形成感光性樹脂組成物層圖案之感光性樹脂組成物層、與臨時支樓體之間所設置之熱塑性樹脂層除去。於曰本專利3800513號說明書及曰本專利特開 2007-304403號公報中揭示了如下之方法：將熱塑性樹脂層之顯影除去與感光性樹脂組成物層之顯影除去分開進行，於不同之處理液中進行熱塑性樹脂層之顯影與感光性樹脂組成物層之顯影。因此，存在如下之製造上的問題：顯影處理裝置變大，生產成本提高。而且，由於使用了多種處理液（顯影液）’因此亦兼具如下之處理液之管理變煩雜的問題：變得必須要多個通常進行稀釋所使用之處理液之調製裝置等。而且’顯影所使用之處理液例如已知有：鹼成分為破酸鈉、氫氧化鈉及四曱基氫氧化銨，且包含非離子系界^ 活性劑之處理液（參照曰本專利特開平9_171261'號公報）;於有機鹼與無機鹼之混合物中包含非離子系界面活^ 劑之處理液（參照曰本專利特開平7_12〇935號公報）；包 8 201248332. /pif 含鹼成分與乙烯基吡咯啶酮系化合物之處理專利2748〇57號說明書於陳物質中包含 ς照工本開？韻則公報）；及使 (alkanolamme)之處理液（參照日本專 2007-304403號公報）等。特開千然而，將具有熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層之感光性樹脂轉印材料轉印至基板上而進行曝光後，即使使用該些處理液而進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂电成物層之潛f彡之⑽彡處理而形成_，亦無法·的顯影時間在由於先前圖案等而具有凹凸之基板上設置無圖案缺陷、顯影雜、及異物之附著的感光性_組成物層圖案。' 【發明内容】本發明是基於如上所述之背景而成者。本發明之課題在於提供一種圖案形成方法，其是使用於臨時支撐體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂經成物層的感光性樹脂轉印材料’於基板上形成使用感光性樹脂組成物之圖案的方法’即使於基板上存在由於先前圖案等所造成之凹凸，亦可藉由簡易之顯影步驟，以較短之顯影時間而獲得無圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的使用感光性樹脂組成物之圖案，生產效率高。另外’本發明之課題在於提供一種藉由所述圖案形成方法而形成之感光性樹脂組成物之圖案、包含該圖案之彩色濾光片、及影像顯示裝置。 201248332 上述課題可藉由以下之手段而達成。 <1> 一種方法，其是使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法，其依序包含：將於臨時支撐體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少 1層感光性樹脂組成物層的感光性樹脂轉印材料積層於基板上的步驟； ' i 依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨時支撐體之剝離的步驟；以及於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由1種處理液進行所述熱塑性樹脂層之除去、與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由丨種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去、與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。 <2>如<1>所述之方法，其中，所述處理液含有有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑以及非離子系界面活性劑。 <3>如<2>所述之方法，其中，所述處理液中所含之有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑以及非離子系界面活性劑於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言為下述範圍：有機鹼成分〇.5質量。/〇〜15質量％無機鹼成分 0.2質量％〜10質量％陰離子系界面活性劑0.1質量％〜1〇質量％ 201248332 4iyD/pif =:子系界面活性劑0.01質量%〜2質量。/〇。 n:4>如<2>或<3>中任一項所述之方法，其中，、乂处理液巾所含之有機驗成分、無機驗成分、陰離子系二面活性#j以及非離子系界面活性劑於在顯影巾使用時之地理液中的各含量，相對於處理液之總量而言為下述範圍：有機驗成分 1質量％〜10質量％無機驗成分 0.5質量％〜5質量％陰離子系界面活_ Q 2質量％〜5質量％非離子系界面活性齊1 0.02質量％〜1質量〇/〇。 <5>如<2>〜<4>中任一項所述之方法，其中，所述處理液巾所含之有機鹼成分是選自鑛胺、氣氧化四烧基叙（tetraalkyl ammonium hydroxide )以及燒基胺 (alkylamine)之至少 1 種。 <6>如<2>〜<5>中任一項所述之方法，其中，所述處理液中所含之無機鹼成分是選自碳酸鈉、碳酸氮鈉、氫氧化鈉以及氫氧化鉀之至少1種。 <7>如<1>〜<6>中任一項所述之方法，其中，所述基板是可撓性支撐體。 ' <8>如<7>所述之方法，其中，所述可撓性支撐體是連續搬送之網狀。 <9>如<2>〜<8>中任一項所述之方法，其中，所述處理液進一步含有選自聚合性化合物以及含後基之聚合物的至少1種。 <1〇>如<9>所述之方法，其中’所述選自聚合性 11 20124833¾ 化合物以及含叛基之聚合物的至少1種化合物於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言為 0.01質量％〜20質量％。 D… <11>如<1>〜<1〇>中任一項所述之方法，其中，所述感光性樹脂組成物包含：（A)於側鏈具有酸性基之樹脂、（B)聚合性化合物以及（c)光聚合起始劑。 < 12 >如< 11 >所述之方法，其中，所述（a )於側鏈具有酸性基之樹脂進一步包含：具有具分支及/或脂環結構之基的侧鏈，以及具乙烯性不飽和基之基。 <13> —種圖案，其藉由如<1;>〜<12>中任一項所述之方法而形成。 <14> 一種彩色濾光片，其包含如<13>所述之案。 <15> —種影像顯示裝置，其包含如<14>所述之彩色濾光片。 [發明的效果] 藉由本發明可提供一種圖案形成方法，其是使用於臨時支撐體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層的感光性樹脂轉印材料’於基板上形献减級細旨組成物層之圖案的方法’即使於基板上存在由於先前圖案等所造成之凹凸，亦可藉由簡易之顯影步驟，以較短之顯影時間而獲得無圖案缺陷、顯影殘清、及異物之附著的使用感光性樹脂組成物之圖案，生產效率高。而且’藉由本發明可提供一種藉由所述圖案形成方法 12 201248332 /pif 而形成之感光性樹脂組成物之圖案、包含該圖案之彩色渡光片及影像顯示裝置。【實施方式】本發明之圖案形成方法是使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法’其依序包含如下步驟：將感光性樹脂轉印材料積層於基板上的步驟，上述感光性樹脂轉印材料於臨時支撐體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少1層感光性樹脂組成物層；依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨時支撐體之剝離的步驟；以及於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時’藉由1種處理液進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟’或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由 1種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。於本發明中，可藉由1種處理液而進行通常使用至少 2種或3種不同之處理液而分數次進行的顯影。首先，對進行如下操作時所使用之處理液加以說明：於感光性樹脂組成物為負型之情形時，進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去，或者於感光性樹脂組成物為正型之情形時，進行熱塑性樹知層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去。本發明中可使用之處理液可藉由1種處理液而進行熱塑性樹脂層之除去解光後的感紐_組成物層之未曝 13 201248332 光部分（負型感光性樹脂組成物之情形）之除去、或者熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝‘光部分（正型感光性樹脂組成物之情形）之除去，I若為可進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去、或熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組^物層之曝光部分之除去的處理液，則處理液之種類、處理液中所含之成分可為任意者。於熱塑性樹脂層及感光性樹脂組成物層中可如後所述地使用具有酸成分者，因此作為處理液，可較佳地使用包含有機鹼性化合物作為有機鹼成分之處理液、包含無機鹼性化合物作為無機鹼成分之處理液、及包含該些之混合物之處理液。 σ 另外，較佳的是本發明中所使用之處理液包含陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑。本發明中之處理液中所含之有機鹼性化合物例如可列舉烧醇胺（更佳的是三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺）；四甲基氫氧化錢（tetramethylammonium hydroxide)、或四乙基氫氧化銨等氫氧化四烷基銨；三烷基胺、二烷基胺、及單烷基胺等。該些化合物中較佳的是三乙醇胺、二乙醇胺、及四甲基氫氧化銨。而且’無機鹼性化合物例如可列舉碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、及氫氧化卸等。本發明中之處理液中所含之陰離子系界面活性劑並無特別限定地可為任意種陰軒彡界面活_。例如可列舉 201248332 4iy57pif 脂肪酸鹽類、松香酸（abietic acid)鹽類、羥基烧煙橫酸 (hydroxy alkane sulfonic acid)鹽類、烧烴續酸鹽類、二烧基續基破拍酸鹽類、直鍵烧基苯續酸鹽類、分支烧基苯橫酸鹽類、院基萘續酸鹽類、烧基二苯基趟續酸鹽類、统基苯軋基聚氧乙烯丙基讀酸鹽類、聚氧乙烯丙基績酸鹽類、聚氧乙稀烧基續基苯基醚鹽類、N-曱基油基牛石黃酸鈉（sodium oleyl taurine)類、N-烷基磺基琥珀酸單醯胺二鈉鹽類、石油磺酸鹽類、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛腳油、月曰肪酸烧基醋之硫酸醋鹽類、烧基硫駿g旨鹽類、聚氧乙稀烷基醚硫酸酯鹽類、脂肪族單甘油酯硫酸醋鹽類、聚氧乙稀烧基苯基醚硫酸酯鹽類、聚氧乙烯苯乙婦基苯基醚硫酸酯鹽類、烷基磷酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基醚磷酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯鹽類、苯乙烯-馬來酸酐^聚物之部分鹼化物類、烯烴-馬來酸酐共聚物之部分鹼化物類、及萘磺酸鹽福馬林縮合物類等。該些陰離子系界面活性'劑可單獨使用一種，且亦可將該些化合物之二種以上组合使用。。該些陰離子系界面活性射特佳的是絲萘確酸鹽類、烷基二苯基醚磺酸鹽類、直鏈烷基笨磺酸鹽類、及聚氧乙稀烧基苯基趟硫酸酯鹽類等。硫酸醋鹽系界面活性劑例如可列舉高級醇硫酸酿鹽 (例如十二醇硫酸酯之鈉鹽、十八醇硫酸酯之鈉鹽、辛醇硫酸酯之銨鹽、十二醇硫酸酯之銨鹽、第二十卜u々厶· Α牛小寸A 7工一卜等）、及甘油單g旨碎L酸鹽（例如 15 201248332 CH2(OCOR)CH(OH)CH2(OS03Na)[其中，R 為烷基]等）。而且，磺酸鹽系界面活性劑可列舉芳基磺酸鹽（例★ 十二烷基苯磺酸鈉鹽、異丙基萘磺酸鈉鹽、二萘確酸納魄間硝基苯磺酸鈉鹽等）、烷基醯胺基續酸鹽（例 C17H35CON(CH3)-CH2CH2s〇3Na 等）、二鹽基脂肪^族於之 ^ 酸鹽（例如續基破拍酸二辛醋鈉、磺基琥珀酸二9 ，等）、烷基萘磺酸鹽之曱醛縮合物（例如二 w知鈉 ::合物等）、以及以苯并料俩^屬。而且，磷酸酯鹽系界面活性劑例如可酸酯鹽（例如鯨蠟醇磷酸酯之鈉鹽等）。曰肪族醇磷作為磺酸鹼金屬鹽系界面活性劑舉下述化合物。例’例如可列 201248332 斗ΐϊθ/pif [化i] (S-1)

(Λ 之烷基〉

17 201248332 [化2] (S-4)

(_

NaO,S—^ Ρ-—0'5^ιι • .....·.. 'v7· ·. . . h · · (S-7)

18 201248332 [化3] (S，8):

(S·

R3 : H、Ci〜13之烷基、CW8之烷氧基或羥基）本發明中所使用之處理液中所亦可包含之非離子系界面活性劑並無特別限定，可為任意非離子系界面活性劑。1 例如可列舉聚氡乙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基苯基醚類、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚類、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚類、聚氧乙烯·聚氧丙烯嵌段聚合物類、甘油脂肪酸部分酯 (glycerin fatty acid partial ester)類、山梨醇酐脂肪酸部分酯（sorbitan fatty acid partial ester)類、季戊四醇脂肪酸部 19

201248332 A ^曰類、丙-醉早脂肪酸賴、蔗糖脂肪酸部分醋類、聚 ^乙^山裂_脂肪酸部分_、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酷類、聚乙二醇脂肪_類、聚甘油脂肪酸部分醋類、聚氧乙稀化、聚氧乙烯甘油脂職部分醋類、月旨肪酸二乙醇胺類、叫雙趣基絲胺類、聚氧乙婦烧基胺類、三乙_脂肪_類、及三院基胺氧化物（trialkyl amine oxide)類等。其中，較佳的是聚氧乙烯烧基苯基_、及聚氧乙稀聚氧丙烯紐聚合物類等，的是聚氧乙烯絲苯基驗類中之於烧基部位具有經基者。該些非離子系界面活性劑可單獨使用一種，而且亦可將該些之兩種以上組合使用。而且，作為有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面 f性劑、及非離子轉面活彳i#j之較佳組合，例如可列舉 ^乙醇胺與碳酸鈉及碳酸氫鈉之組合、烷基萘磺酸鹽類與聚氧乙烯烷基苯基醚之組合'三乙醇胺與碳酸鈉及碳酸氫納，組合、及聚氧乙烯烷基笨基醚硫酸酯鹽與聚氧乙烯烷基苯基醚之組合等。本發明中所使用之處理液較佳的是包含有機鹼成分、無機驗成分、陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑。該些各成分可單獨包含—種，亦可包含兩種以上。作為於顯影中使用時之處理液中的各成分之含量，較。佳的是相對於處理液之總量而言，有機鹼成分為0.5質量 Μ質里％、無機驗成分為0.2質量％〜1〇質量％、陰 20 201248332 離子系界面活性劑為（U質量％〜1〇質。·01質量%〜2質量%之範圍内，更佳4 ΤίΓ量而言，有機驗成分為1質量。,。〜ι〇ΐ 里0、無機驗成分為0.5質量％〜5質量％淨離活性劑為0.2質量％〜5質量％、及非離 =1面〇.〇2質量質量％。及非離子糸界面活性劑為若，機驗成分為上述範圍内，則熱塑性樹脂層之 i為級樹敝成物層之钱關影時間變短。荷=增1撞下，則__，顯爾處理之負之未上述範_，則感光性樹脂組成物層成物層中所含的聚合性化::=::的: 、—產生5玄析出物再次附著於基板上之問題。之離子系界面活性劑為αι質量％以上，則顯讀以:邊=;若為〜下= 内之基板4變:不由於泡之影響而使顯影裝置顯影後:::=::_為_質量%以上之情形時’ 則雖秋2案邊邊之殘渣變少；若為2質量。/。以下，產生i體種類或顯影液之溫度而異，但難以 /單濁而使顯影性降低之問題。而且’本發明中之處理液較佳的是包含：選自於感光 21 201248332 性樹脂組成物之項中所述之聚合性化合物及包含羧基之合物的至少1種。 1 a 藉由包含該些化合物，可減小處理液之變動，因此可容易地控制顯影時間等顯影條件，變得可容易地使所得之感光性樹驗祕賴案之尺寸、為顧佳。選自聚合性化合物及包含絲之聚合物的至少ι種化合物於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言較佳的是0.01質量％〜2〇質量％，更佳 0.1質量％〜10質量％。疋於本發明中，使用於臨時支撑體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層之感光性樹脂轉印材料，於基板2 形成感紐频城物層之_案的方法巾，將感光性樹脂轉印材料神於基板上如博光後，藉由丨種處理液進^ 顯影處理㈣行熱龍獅狀除去域紐概址成物層之潛影之顯影，從而形成圖案。亦即，使用同一組成之處理液進行熱塑性樹脂層讀去與感光性樹脂組成物層之潛影=顯影。藉此，在由於先前圖案等而具有凹凸之基板上，藉由簡易之顯影步驟而以短的顯影時間獲得並無圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的感光性樹脂組成物層^ 圖案，因此可提供生產效率高的圖案形成方法。、特別是由於所述處理液包含有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑，因此由於該些成分之相乘效果而使上述效果變得顯著。 22 201248332 4iy3/pif 表現該效果的機理尚不明確，推測如下。處理液首先所接觸的熱塑性樹脂層由於無機及有機驗成分而溶解，但一般情況下需要時間去溶解。然而，於本發明中’於部分性溶解之部分滲透有機鹼成分，而促進熱塑性樹脂之溶解。陰離子系及非離子系界面活性劑辅助機驗成分之滲透，促進有機鹼成分之滲透，從而促進熱塑性樹脂層之溶解。另一方面，無機鹼成分之鹼性比有&驗成分強’因此可使熱塑性樹脂迅速溶解。滲透至熱塑性樹脂的有機鹼成分獲得陰離子系及非離子系界面活性劑、特別是陰離子系界面活性劑之辅助，滲透至感光性樹脂纽成物層中’使感光性樹脂組成物膨潤而使其溶解。使膨潤之感光性樹脂組成物層與作為強鹼之無機驗成分接觸，而使感光性樹脂組成物層溶解。陰離子系及非離子系界面活性劑、特別是非離子系界面活性劑使溶解之熱塑性樹脂及感光性樹脂組成物乳化，使溶解穩定化，從而防止再附著於基板上。認為正是藉由以上之/力而獲得效果。其次，對本發明中的臨時支撐體、熱塑性樹脂層、感光性樹脂組成物層、及具有該些層之感光性樹脂轉印材料加以說明，且對本發明之感光性樹脂組成物層圖案之形成方法加以詳細說明，而進一步對具有所得之感光性樹脂組成物圖案的液晶顯示裝置加以詳細說明。 [臨時支撐體] 感光性樹脂轉印材料之臨時支撐體例如可使用日本專利第3800513號說明書之段落[0016]中所記載之可撓性物 23 201248332 質。二，而β ▼列舉聚對苯二曱酸乙二_⑽了）、聚四 H (商品名為峨龍（註冊商標）等）、及聚乙烯等作為例子。而且，該些臨時切體亦可視需要具有下塗電層。 [熱塑性樹脂層] 感光性樹脂轉印材料之臨時支撐體上所設之孰塑性樹脂層例如可使用日本專利第襲犯號說明書之_9]〜 [0022]中所記載之構成的熱塑性樹脂層。熱塑性樹脂層之厚度較佳的是1 μιη以上，更佳的是3 μ 乂上若為1 以上，則容易排除先前圖案之影響。於感光性樹脂轉印材料中，熱塑性樹脂層與後述之感光性樹脂組成物層之間亦可視需要而設置中間層。此種中間層例如可使用日本專利第38觀3號說明書之[〇 [0024]中所記載之構成的中間層。 [感光性樹脂組成物層] 感光性樹脂組成物層可使用負型、正型之兩方性樹脂組成物層。正型感光性樹脂組成物層例如可使用日本專利特開平 7-侧9號公報等中所記载之驗可溶性祕清漆樹脂系。而且，例如亦可使用日本專利特開平6_148888號公報、、及曰本專利特開平5_262850號公報中所記載之組成物。作為負型感光性樹脂組成物層，雖然詳細於後述但 24 201248332 4iyy/pif 例如可使用日本專利特開2〇〇4_24〇〇39號公報中所記構成的負型感光性树脂組成物層。該些中所兮己載之戌来樹脂組成物層包含著色劑，但於本發明中，‘含作; 劑之顏料或染料的透明之感光性樹脂組成物層亦可同樣地使用。而且，較佳的是於感光性樹脂組成物層上設置薄的保護膜’以保護其免受保管時之污染或損失。保護膜可使用與臨時支撐體相同或類似之材料，但必須容易自感光性脂組成物層上分離。保護膜之材質例如可列舉矽酮薄板、聚烯烴膜、及聚四氟乙烯薄板等。以下，對感光性樹脂轉印材料中之感光性樹脂組成物層所較佳地使用的負型感光性樹脂組成物之例子加以說明。。負型感光性樹脂組成物例如包含（A)於側鏈具有酸性基之樹脂、（B)聚合性化合物、及（c)光聚合起始劑，亦可進一步根據需要而包含其他成分。 (A)於侧鏈具有酸性基之樹脂感光性樹脂組成物亦可含有（A)於側鏈具有酸性基之樹脂[以下適宜稱為（A)特定樹脂]。土 (A)特定樹脂若為於側鏈具有酸性基者，則並無特別限制，較佳的疋除了具有酸性基Y ( y m〇l% )之側鍵以外，進一步含有··具有具分支及/或脂環結構之基Χ (χ mol%)的侧鏈、及/或具有具乙稀性不飽和基之基ζ (ζ 25 201248332 mol%)的側鏈。亦可視需要而具有其他基Ε (1 而且，亦可組合多個X、γ及z而包含於（A)特定樹脂中之一個基中。所述酸性基並無特別限制，可自公知之酸性基中適宜選擇，例如可列舉羧基、磺酸基、磺醯胺基、磷酸基、及紛性經基等。自顯影性、及硬化膜之耐水性優異之方面考慮，該些酸性基中較佳的是羧基或酚性羥基。用以於所述（A)特定樹脂之側鏈導入酸性基之單體 (具有酸性基之單體）並無特別限制，例如可列舉於苯乙烯類、（甲基）丙稀酸酯類、乙稀醚類、乙烯酯類、及（甲基) 丙烯醯胺類等中導入有上述羧基等酸性基而成者。該些^中較佳的是於（曱基)丙烯酸酯類、乙烯酯類、及（甲基)丙烯醯胺類中導人有酸性基而成者，更佳的是於（甲基）丙稀酸醋類中導入酸性基而成者。另外，於本說明書中，於指代「丙烯醯基」及「T基丙烯醯基」之兩方或者任意者之情形時，記述為「（曱其）丙稀醯基」，於指代「丙稀_旨」及「甲基丙烯酸酿」之土兩方或任意者之情形時，記述為「（甲基)丙稀酸醋」。所述具有酸性基之單體可自公知之具有酸性基之單體中適宜選擇。其具體例可列舉（甲基)丙烯酸、乙婦基苯甲酸、馬來酸、馬來酸單絲s旨、f馬酸、伊康酸、巴豆酸、肉桂酸、己二烯酸、α-氰基肉桂酸、丙稀酸二聚物、且有經基之單體與環狀酸肝之加成反應物、及〜縣·聚=内醋單（甲基)丙稀_旨等。該些化合物可使用適宜製造者， 26 201248332 4iy57pif 亦可使用市售品。於所述具有羥基之單體與環狀酸酐之加成反應物中所使，之具有羥基之單體例如可列舉（曱基）丙烯酸-2 -羥基乙酉曰4。所述環狀酸酐例如可列舉馬來酸酐、鄰苯二曱酸酐、及5衣己二甲酸酐（cyclohexanedicarboxylic anhydride)等。於顯影性優異、低成本之方面而言，該些化合物中較佳的是（甲基)丙烯酸等。作為（A)特定樹脂中之具有酸性基之單體的導入量，相對於（A)特定樹脂之合成中所使用之所有單體而言，較，的是5 mol%〜70 mol%，更佳的是1〇则1%〜6〇 mol%，特佳的是2〇 m〇1%〜5〇 m〇1%。若具有酸性基之單體於（A)特定樹脂巾之導人量為所述範圍内，則獲得良好之硬化性、顯影性。

而且（A)特疋樹脂之酸值的較佳範圍因可採用之分子結構而_般情況下難狀2GmgKQH/g以上，更佳的是5GmgKOH/g以上，特㈣是7QmgKQH/g~13Q mgKOH/g。若酸值為所述較佳之範圍0，則獲得絕緣性、透明性、耐水性、碰性、喊性優異之絕緣層及保護層。因，’以酸值成為上述範圍内之方式而決定（A)特定樹脂中之具有酸性基的單體之導入量即可。而且，（A)特定樹脂可如上所述地進—步於側鍵且有具分支及/或脂環結構之基、及/或乙稀性不飽和基。八亦即’自改善所形成之樹關案之絕緣性、土透明性、耐水性、耐驗性及耐酸性，減低顯影_、以及防止產生 27 201248332 -rx /^if 網狀組織（reticulation)之觀點考慮，本發明中之（a)特定樹脂較佳的是分別於不同之聚合單元中具有所述具分支及/或脂環結構之基X (X mol%)、具酸性基之基γ (y mol%)、具乙烯性不飽和基之基2； (z m〇1%)的至少3元共聚以上之共聚物。具體而言，（A)特定樹脂較佳的是使具有所述X之單體、具有所述γ之單體、具有所述Z之單體之各個至少各1種共聚而成的共聚物。以下，對具分支及/或脂環結構之基加以說明。具分支之基例如可列舉碳原子數為3個〜丨2個之分支狀炫基。具體而言，例如可列舉異丙基、異丁基、第二丁基、第二丁基、異戊基、新戊基、2-曱基丁基、異己基、 2-乙基己基、2-甲基己基、異戊基、第三戊基、％辛基、及第三辛基等。該些中較佳的是異丙基、第二丁基、第三丁基:及異戊基等，更佳的是異丙基、第二丁基及第三丁基等。具脂每結構之基例如可列舉碳原子數為5個〜2 〇個之月曰J衣族n作為其具體例，例如 =基、環辛基、降冰片基、異冰片基、金剛坑基、;環焊基、二環戊基、三環戊稀基、及三環戊基是環己^基、二環戊烯基、及三環戊基等，更佳的疋壞3、降冰片基、異冰片基、及三環戊稀基等。舉苯及^旨環結構之基的單體例如可列 (甲基）丙烯酸酯類、乙烯醚類、乙烯酯類、 28 201248332 传 iy;>/pif 及（曱基)丙烯醯胺類等°該些單體中較佳的是（曱基）丙烯酸酯類、乙烯酯類、及（曱基）丙烯醯胺類’更佳的是（曱基）丙烯酸酯類。含有所述具分支結構之基的單體之具體例可列舉（甲基）丙烯酸異丙酯、（曱基）丙烯酸異丁酯、（曱基）丙烯酸第二丁酯、（甲基)丙烯酸第三丁酯、（曱基)丙烯酸異戊酯、（甲基)丙烯酸第三戊酯、（曱基)丙烯酸第二異戊酯、（曱基）内烯酸-2-辛酯、（曱基）丙烯酸-3-辛酯、及（曱基）丙烯酸第三辛酯等。該些單體中較佳的是（曱基)丙烯酸異丙酯、（甲基) 丙烯酸異丁酯、及甲基丙烯酸第三丁酯等，更佳的是甲基丙烯酸異丙酯、及曱基丙烯酸第三丁酯等。其次，作為含有所述具脂環結構之基的單體之具體例，例如可列舉具有碳原子數為5個〜2〇個之脂環族烴基的（甲基)丙烯酸g旨。具體例可列舉（甲基)丙烯酸(雙環[2 2丄1 庚烷-2-基)酯、（曱基)丙烯酸金剛烷基酯、（曱基)丙烯酸 -2-金剛烷基酯、（曱基）丙烯酸_3_曱基q —金剛烷基酯、基)丙烯酸-3,5_二曱基-1·金剛烷基酯、（甲基)丙烯酸乙基金剛院基§旨、（甲基)丙稀酸·3·曱基_5·乙基小金剛院基酿、 (甲基)丙烯酸_3,5,8-三乙基小金剛院基醋、（甲基)兩烯酸 _3,5_二曱基木乙基」金剛烷基醋、（甲基)丙烯酸_2_甲基么金J1J烧基酉曰、（曱基)丙烯駿_2_乙基·2_金剛烧基醋、（甲 :烯，羥基小金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸八氫-4，'甲；印5 土酉曰、（甲基)丙烯酸八氫-4,7-甲橋節-1-基曱醋、（甲義、丙稀酸小曱_、（甲基)丙烯酸三環癸基醋、（曱基)丙烯酸Γ3_ 29 201248332 經基-2,6,6-三甲基雙環[3.U]庚基酯、（曱基)丙烯酸_3,7,7-三曱基-4-羥基雙環[4.1.0]庚基酯、（甲基)丙烯酸(降)冰片基醋、（曱基）丙烯酸異冰片基酯、（曱基）丙烯酸苯乙酯、（甲基）丙烯酸-2,2,5-三曱基環己酯、及（曱基)丙烯酸環己酯等。該些（曱基）丙烯酸酯中較佳的是（曱基）丙烯酸環己酯、 (曱基)丙烯酸(降)冰片基酯、（甲基)丙烯酸異冰片基酯、（甲基)丙烯酸-1-金剛烷基酯、（曱基)丙烯酸金剛烷基酯、(〆夕）U小酸7工 >千小、（甲基）丙烯酸曱酯、及（曱基）丙烯酸三環癸基酯等，特佳的是（曱基）丙烯酸環己酯、 (曱基)丙烯酸(降)冰片基酯、（甲基)丙烯酸異冰片基酯、及 (曱基)丙烯酸-2-金剛烷基酯。關於所述（A)特定樹脂之所述各成分之共聚組成比，可考慮玻璃轉移溫度與酸值而決定，不能一概而論，相對於（A)特定樹脂之合成中所使用之所有單體而言，（a) 特定樹脂中之具分支及/或脂環結構的單體之導又量較佳的是10111〇1%〜70„1〇1%，更佳的是15_%〜65_%，，佳的是20 mol%〜60 mol%。若具分支及/或脂環結構之早體的導人量為所述範圍内’職得良好像部之耐顯影液性亦良好。 i〜所述乙烯性不飽和基並無特別限制，較佳的是（曱基丙烯酿基。而且，乙烯性不飽和基與單體之連結若土絲、胺㈣基等2價連結基者職她於側鏈導人乙烯料飽和基之方法可自公知之方 ^ 選擇，例如可鱗：於具核縣认合物 f且 201248332 甲基丙婦酸、乙稀基笨甲酸、馬來酸、馬來酸單炫基酯、富馬酸、伊康酸、巴豆酸、肉桂酸、己二烯酸、α_氰基肉桂酸專）上加成具有環氧基之（甲基）丙烯酸醋的方法、於具有羥基之基（例如甲基丙烯酸_2_羥基乙酯、丙烯酸羥基乙酯等）上加成具有異氰酸酯基之（曱基）丙烯酸酯之方法、及於具有異氰酸酯基之基上加成具有羥基之（曱基) 丙烯酸酯的方法等。其中，於最谷易製造、成本低之方面而言，較佳的是於具有酸性基之重鮮元上域具有軌基之酸酯的方法。且亡i有，性不飽和鍵及環氧基之(甲基)丙稀酸醋若為具有该些者則並無特別限制。所，（A)特定樹脂中之具有乙烯性不飽和基的巧入-二目對於⑷特定樹脂中之所有單體而 %〜70m〇1% ’更佳的是2〇祕〜7〇讀〜70m〇1%。若具有乙烯性不飽和基之單體，為所㈣_，則顯影性及硬化性亦良好。於（A)特定樹脂中，除了所述3 所述具有X之單糾㈣i ㈣後早凡（源自 in复單元、、二f複早心源自所述具有y之單體的可包含源自1 具有Z之單體的重複單元）以外，亦限制元。此種其他單體並無特別醋、苯乙烯了Γ戈脂環結構之(甲基)_ y二轉 _讀軒、乙烯酉旨、炭化水素μ 20124833¾ 例如可列舉丁基乙烯基醚，例如可列舉馬來酸酐、所述乙；0迷並無特別限制，等。所述二元酸酐並無特別限制伊康酸酐等。所述乙烯醋並無特別限制，例如

所述炭化水素平㈣乙卿曰和二烯、異戊二鱗。絲_關，例如可列舉 4相對，(A)特定樹脂之合成中所使用之所有單體而 S ’所述（A)特定樹脂中之其他單體之導入量較佳的是〇如〇1%〜30 m〇1% ’ 更佳的是〇 mol%〜20 mol%。作為（A)特定樹脂之具體例，例如可列舉日本專利特開2008-146018號公報之段落編號[〇〇57]〜栽之以化合物化合物p_35所表示二2中所5己所述（A)特定樹脂可由如下之兩個階段之步驟而製作.單體之（共）聚合反應之步驟與導入乙烯性不飽和基之步驟。（共）聚合反應可藉由各種單體之（共）聚合反應而進行’可並無特別限制地自公知之單體中適宜選擇。例如，關於聚合之活性種，可適宜選擇自由基聚合、陽離子聚合、陰離子聚合、或配位聚合等。自合成容易、成本低之方面而言，該些中較佳的是自由基聚合。而且，關於聚合方法’可並無特別限制地自公知之聚合方法中適宜選擇。例如可適宜選擇塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法、或溶液聚合法等。該些中更佳的是溶液聚合法。作為（A)特定樹脂而適宜之所述共聚物的重量平均 32 201248332. Hiyj /pif 为子里較佳的是l〇,〇〇〇〜1〇萬，更佳的是l2 〇⑼〜6萬，特佳的，15,000〜4.5萬。若重量平均分子量為1〇〇〇〇以上，則樹脂之強度變大，絕緣層及保護層變得難以凝聚破展而且顯衫速度並不過於變快，樹脂圖案變得難以自基板上脫落。若重量平均分子量為1〇萬以下，則顯影殘渣變少而較佳。 (A)特定樹脂之玻璃轉移溫度較佳的是4〇t：〜180°C，更佳的是45〇C〜140°C，特佳的是5〇°C〜130°C。若玻璃轉移溫度（Tg)為所述較佳之範圍内，則可獲得良好之絕緣性、透明性、耐水性、财驗性、耐酸性優異之絕緣層及保護層。於獲得良好之絕緣性、透明性、耐水性、耐鹼性、耐酸性優異之絕緣層及保護層之方面而言，較佳的是所述 (A)特定樹脂之玻璃轉移溫度（Tg)為4(rc〜18(rc，且重量平均分子量為10,000〜1〇〇,〇〇〇。另外’所述（A)特定樹脂更佳的是其分子量、玻璃轉移溫度（Tg)、及酸值之任意者均為所述較佳之範圍内的樹脂。所述（A)特定樹脂之含量相對於所述感光性樹脂組成物之所有固形物而言較佳的是5質量％〜70質量％，更佳的是10質量％〜5〇質量％。另外，此處所謂所有固形物是指於感光性樹脂組成物中除去溶劑之其他成分的合計量。感光性樹脂組成物除了（A)特定樹脂以外，亦可於 33 201248332 不損及本發明之效果的範圍内脂以外之樹脂(其他樹脂) 具有酸性基之樹含量相對於⑷較_旨之含H他^之情形時，其是3〇質量份以下’自效果之觀點 ⑷特定频作騎脂之態樣。^更㈣疋僅僅包含 (B)聚合性化合物 ==成=:上包=述通式(⑷所表些化合物不同之其他聚合;生=成物亦可包含結構與該 (bl) (X-0-CH2)3-C-0-C(CH2-0-X), (於所述通式（bl)中，χ表示氫原子或 H2C-C(R)-C(0)-。多個存在之χ可相互相同亦可不同。其中，於-分子中之X中，至少4個表示H2C=C⑻_c(〇)_。 R表示氫原子或碳數為1〜4之烴基。） [以通式（M)而表示之聚合性化合物] 以通式（Μ)而表示之聚合性化合物中的χ表示氫原子或H2〇C(R)_C(0)- ’於一分子聚合性化合物中所含之 H2C=C(R)-C(0)-為4個以上。更佳的是5個以上，最佳的疋5.5個及6個。另外，存在以平均值表示該數之情形，例如，於一分子中包含5個H2C=C⑻·(：(0)-之聚合性化合物與一分子中包含6個H2C=C(R)-C(0)-之聚合性化合物的等量混合物成為於一分子中包含5.5個H2C=C(R)-C(0)-之 34 201248332 聚合性化合物。而且，R為氫原子或者甲基等碳數為4以下之低級烴基。R更佳的是氫原子或甲基等碳數為2以T之低級烴基’最佳的是氫原子或甲基。一分子中所含之 H2C-C(R)-C(0)-中之多個R可相互相同亦可不同，於合成適合性上而言較佳的是相同。以通式（bl)所表示之聚合性化合物具體而言例如可列舉一季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六曱基丙烯酸酯、二季戊四靜四丙稀酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及該些之混合物。其中更佳的是二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六曱基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及該些之混合物。 -其他聚合性化合物- 感光性樹脂組成物亦可包含結構與所述以通式（bl) 而表示之聚合性化合物不同的其他聚合性化合物。此處，其他聚合性化合物例如可列舉日本專利特開2〇〇6_236% 號公報之段落編號[0011]中所記載之成分、或日本專利特開2〇〇6_64921號公報之段落編號_〇卜段落編號[〇〇49] 中所記載之成分中的不包含於所述以通式（bl)而表示之聚合性化合物中者。此種聚合性化合物例如可列舉於分子中具有至少i個可加成聚合之乙嫦性不飽和基’且沸點於常壓下為l〇〇〇c 35 201248332 以上之化合物。 t，為具體例，例如可列舉聚乙二醇單（甲基）丙烯酸 =聚丙二醇單（甲基)丙烯酸醋及(甲基)丙騎苯氧基乙醋等皁官能丙烯酸醋或單官能甲基丙婦酸基)丙馳旨、聚丙二醇二（甲基)丙婦酸醋一丙烤酉夂酉曰、二經甲基丙燒三（曱基）丙稀酸酯、三經甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基)丙烯酸酯、己二醇二（甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二（丙烯醯氧基丙基)醚、異氰尿酸三（丙烯醯氧基乙基）酯、氰尿酸三（丙烯醯氧基乙基）酯、甘油三（甲基）丙烯酸酯；及於三羥甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成環氧乙烷或環氧丙烷之後（甲基）丙烯酸酯化而成者等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯等。而且，亦可使用市售品，例如（曱基）丙稀酸胺基甲酸酯可列舉新中村化學工業股份有限公司製造之U_6HA、 U-6LPA、UA-1100H、UA-53H、UA-33H、U-200PA、 UA-4200、UA-7100、UA-32P 及 UA-7200(以上為商品名）。於與所述（A)特定樹脂之關係中，較佳的是感光性樹脂組成物中所含之聚合性化合物之總量相對於（A)特定樹脂之含量的質量比率[聚合性化合物之總含量/(A)之含量]為0·45〜1.6。於將感光性樹脂組成物塗佈於玻璃基板等最終基板上而形成圖案之情形時，[聚合性化合物之總含量/ (Α)之含量]更佳的是0.5〜1.2，特佳的是0.55〜0.9。若[聚合性化 36 201248332 合物之總含量/ (A)之含量]比為上述範圍内，則可適宜地維持顯影速度’抑制顯影殘渣之增加，且難以產生圖案缺損或圖案脫落’即使於15〇°c#下進行烘烤之情形時，所形成之樹脂圖案與基板之密接亦變良好。 (C)光聚合起始劑感光性樹脂組成物含有（C)光聚合起始劑。（C)光聚合起始劑可使用公知之化合物。較佳之起始劑例如可列舉一秦衍生物、鳴'二唾衍生物、月亏系起始劑、苯乙酮系起始劑、二茂鈦系起始劑、及醯基膦氧化物系起始劑等。

h、或段落具體而言’例如可列舉日本專利特開2006 23 696號公爾现LUU：)j」T所記載之成分。可於本發明申梯田夕~、

37 201248332 ~rx 基)苯基]丁烷-1-酮、2,4,6-三曱基苯曱醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、雙05_2,4_環戊二烯基)雙[2,6-二氟-3_(lH-t各-1-基)-苯基]鈦、ι_[4_(苯硫基) 苯基]-1，2-辛二酮2-(0-苯甲醯月亏）、ι_[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-〇_乙醯肟、及氧基苯乙酸 -2·[2-側氧基-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙酯與氧基苯乙酸 -2-(2-羥基乙氧基）乙酯之混合物等。其中，特佳的是2-三氣曱基_5_(對苯乙烯基曱基)-1，3,4-噁二唑、2,4-雙(三氣曱基)_6_[4_(N，N_二乙氧基羰基曱基)-3-溴苯基]-均三嗪、7_{2-[4-(3-羥基曱基哌啶基）6- —乙基胺基]二嘻基胺基}-3-苯基香豆素、2,2-二曱氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、^羥基環己基苯基酮、2_羥基-2_ 甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1·[4·(2_羥乙氧基)苯基羥基_2_ 甲基丙烷-1-酮、2-曱基-1-[4-(甲硫基)苯基]_2_Ν_嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-(二甲基胺基)_ι_(4_ν·嗎啉基苯基)丁烷小^、2仁曱基胺基)_2·[(4_曱基苯基）曱基]小[4 (4嗎啉基)苯基]丁烷-1-酮、1_[4-(苯硫基)苯基Η，2_辛二_ 2_(〇_ 苯曱醯肟）、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯曱醯基)_9Η-咔唑_3_基] 乙酮·0-乙醯肟、及氧基苯乙酸_2_[2_側氧基苯基乙醯氧基乙氧基]乙酯與氧基苯乙酸_2-(2-羥乙氧基）乙酯之混合物，但並不限定於此。 σ 所述（C)光聚合起始劑之含量相對於（Β)聚合性化合物之總含量的比率[(C) /⑻]較佳的是〇 6以上且不足5 ’更佳的是0.75以上3以下。若比率[(c) / (Β)] 38 201248332 /pif 為於上述範圍内，則可抑制感光性樹脂組成物圖案之脫落、導電層舉離（lift_〇ff)時之耐鹼性之降低，且可抑制顯影殘渣之惡化、或者圖案曝光之後的密接惡化，即使於 15 0 °C以下進行烘烤時，亦可良好地維持感光性樹脂組成物圖案與基板之密接。 _其他成分- 感光性樹脂組成物除了上述（A)成分〜（C)成分以外’可在不損及本發明之效果的範圍内視需要使用公知之添加劑等而作為其他成分。其他成分例如可列舉有機溶劑（例如乙酸甲氧基_2_ 丙酯、1-甲氧基丙醇、乙酸_3_乙氧基乙酯、環己酮等），顏料、染料等著色劑，顏料分散劑、增感劑、界面活性劑、聚合抑制劑、密接劑、交聯劑等。而且’作為其他成分，例如可列舉曰本專利特開 2006-23696號公報之段落編號[0012]〜段落編號[0020]中所記載之成分、或日本專利特開2〇〇6_64921號公報之段落編號[0050]〜段落編號[0〇53]中所記載之成分。 <感光性樹脂轉印材料> 感光性樹脂轉印材料於臨時支樓體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少1層感光性樹脂組成物層。感光性樹脂組成物層之膜厚可視需要而適宜選擇，一般情況下較佳的是如後述那樣為〇7 μπι〜3〇 μιη之範圍内。於製作感光性樹脂轉印材料之情形時，於感光性樹脂 39 201248332 物層與臨時支倾之間，除了用以提高轉印性的具有緩衝f生之别述熱塑性樹脂層以外，亦可進一步設置隔氧層 2下亦稱為「隔氧膜」或「中間層」)。藉此，可提高i 光感光度。熱塑性樹脂層亦可兼作隔氧層。士關於升^成5玄感光性樹脂轉印材料之臨時支樓體、熱塑 ! 生樹月曰層、隔氧層、感光性樹脂組成物層、其他層光性樹脂轉印材料之製作方法’例如可使用日本專利特 2006-23696號公報之段落編號[〇〇29]〜段落編號[〇所S己載之方法。 <使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法> 其次，對本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案方法加以說明。 v 本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法是依序包3如下步驟之方法：將前述感光性樹脂轉印材料積層於基板上之步驟；依序或者倒序進行f彡像狀之曝光及臨; 支樓體之獅的步驟；以及於所述感級樹驗成物為負型之情形時’藉由1種處理液進行所述熱紐樹脂層之除去與曝光後的感紐樹驗成物狀未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由1種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。而且，上述方法亦可包含對藉由顯影而所得之圖案狀感光性樹脂組成物層進行加熱的加熱步驟。 /、藉由本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案形成方 40 201248332 41957pif 法’可容易地製造絕緣性、透明性、顯影性、耐鹼性等耐受性優異之用於觸控面板元件中的絕緣層及保護層等之樹脂圖案。 [感光性樹脂轉印材料之積層] 本發明之圖案形成方法中的感光性樹脂轉印材料之積層方法例如較佳的是於成為支撐體之基板上，藉由轉印法積層於臨時支撐體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少1 層感光性樹脂組成物層之感光性樹脂轉印材料的方法。藉由加熱及/或加壓之輥或平板將所述感光性樹脂轉印材料壓接或加熱壓接於基板上而將其貼合後，剝離臨時支撐體而將感光性樹脂組成物層轉印於基板上。積層機 (laminator)及積層方法具體而言，例如可列舉日本^利特開平7-110575號公報、日本專利特開平11-77942號公報、日本專利特開2000-334836號公報、及日本專利特開聰-丨彻4號公報中所記載者。於異物少之觀點考慮，較佳的是使用日本專利特開平7•⑽575號公報中所記载感光性樹脂組成物層之膜厚較佳的是〇〜3〇 Γ ’更佳的是°.9卿〜2帅。若膜厚為上述範圍内，則可抑制如下減：卿㈣紐樹驗祕 f烤後之密接，、顯影殘邊增加，從而於適宜之顯景條件下形成良好之感光性雜組成物之 K条 [基板] 八形成感光性樹脂組成物層之基板例如可列舉透明基板 201248332. (例如玻璃基板或塑膠基板）、附有透明導電膜（例如IT〇膜）之基板.、附有彩色滤光片之基板（亦稱為彩色遽光片基板$ A及附有驅動元件（例如薄膜電晶體[TFT])之驅動基板等。而Ί板例如亦可列舉可撓性之⑪基板及聚碳酸醋、聚自旨、芳香族雜胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等之塑膠基板等。較佳的是塑膠基板於其表面具有阻氣層及/ 或财溶劑性層。基板之厚度一般較佳的是700 μιη〜12⑼μιη。而且’於使用塑膠基板等可撓性支樓體作為基板之情形時，基板亦可為裁斷為―定大小的薄板狀基板，但較佳的是連續搬送之網狀基板。 [曝光] 對包含如上所述而轉印於基板上之感光性樹脂址成物層及熱塑性樹脂層之基板實施影像狀之曝光。可於曝光前進行與臨時支擇體之剝離進行與臨時支顧之_。、曝7^ 於影像狀之曝光中，介隔規定之光軍圖案而進行曝先，形成潛影。於曝光時所使用之線源較佳的各種雷軸，特佳的是g線、h線、i線、」線_紫外^。 =形成液晶顯示裝置用彩色遽光片時，較佳的是藉由近接式曝光機、或鏡面投影曝光機而進行主要使用h線、 =光。而且藉由利用#射之掃描而形成潛影的方法亦而且’其他曝光光源可使用超高壓、高壓、中壓、低 42 201248332 壓之各水銀燈’化學燈、碳孤燈、氤氣燈、金燈、各種雷射光源等。曝光裝置並無特別限制，例如市售之曝光裝置可使用

Callisto ( V Technology Co” Ltd.製造）或 EGIS ( V

Technology Co.，Ltd.製造）或DF2200G (大日本網屏股份有限公司製造）等。而且亦可適宜使用上述以外之裝置。 -使用雷射光源之曝光步驟- 於使用雷射光源之曝光方式中，照射光較佳的是波長為300 nm〜410 nm之範圍的紫外光雷射，更佳的是波長為300 nm〜360 nm之範圍的紫外光雷射。具體而言，特別是可適宜使用輸出功率大、比較廉價之固體雷射之^^ : YAG雷射之第三譜波（355 nm)或準分子雷射之xeci(3〇8 nm)、XeF (353 nm)。自生產性之觀點考慮，圖案曝光量較佳的是1 mJ/cm2〜100 mJ/cm2之範圍内，更佳的是夏 mJ/cm2〜50 mJ/cm2之範圍内。 [顯影處理] 於本發明之圖案形成方法中’使用1種處理液對具有熱塑性樹脂層與形成潛影之感光性樹脂組成物層的基板進行顯影’進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去（負型之情形）、或熱塑性樹脂層之除去與曝光部分之除去（正型之情形）。 ' 於該步驟中’較佳的是使用於搬送所述基板之搬送機構上具有多個喷淋管嘴之喷淋型處理槽。而且，亦可併用浸潰於處理液槽中之方法、或使基板振盪之方法、及/或賦 43 201248332 l 予超聲波振動之方法等。此處，所謂「使用1種處理液」，於感光性樹脂組成物為負型之情形時，是指藉由同一組成之處理液而進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去；或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，是指藉由同一組成之處理液而進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去。可於不同之處理裝置（浴槽）中進行主要用以除去熱塑性樹脂層之處理、主要於感光性樹脂組成物為負型之情形時用以除去曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之處理、或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時用以除去曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之處理。顯影處理之時間較佳的是1〇秒〜2〇〇秒，更佳的是1〇秒〜150秒’進一步更佳的是1〇秒〜1〇〇秒。而且，所處理之基板之形狀較佳的是連續搬送之網狀基板。基板亦可為經裁斷之薄板狀基板，於此情形時對每 1牧基板進行顯影處理即可。 [加熱步驟] 藉由上述步驟而獲得圖案狀之感光性樹脂組成物層。此處，為了提咼圖案之強度及與基板之密接性，較佳的是對所得之圖案狀感光性樹脂組成物層進行加熱。加熱方法可使用如下方法：使用對流烘箱（c〇nvecU〇n oven)之加熱、使用力^7熱板之加熱、紅外線力σ熱等任意方法0 44 201248332 Hiyj /pif 加熱條件可鑒於所使用之基板的耐熱性而適宜選擇，於使用玻璃作為基板之情形時，加熱溫度較佳的是15〇。〇〜250°c之範圍内，於使用塑膠基板之情形時，加=溫度較佳的是10(TC〜200°C之範圍内。加熱處理時間較佳1〇分鐘〜60分鐘。如上所述形成感光性樹脂組成物圖案的本發明之圖案形成方法可用作觸控面板元件之絕緣層或保護層等之形成方法’或者用作液晶顯示裝置等影像顯示裝置之彩色遽光片之遮光層、著色畫素或光間隔件等之形成方法。以下，對觸控面板元件、液晶顯示裝置等加以敍述。 <觸控面板元件> 使用形成有圖案之絕緣層及於其上積層之形成有圖案之保護層的觸控面板元件之製作，例如可藉由以下之方式而進行。例如，可於觸控面板用基板透明基板（例如玻璃基板或塑膠基板、於背面具有薄膜電晶體[TFT]之基板）上形成第一導電性層圖案（金屬及ITO等），進一步形成絕緣層圖案，進一步形成第二導電性圖案而形成電容器，繼而形成保護層（所述保護詹形成有圖案）而製作觸控面板元件。具體而言，可如下所述地依序形成各圖案。〜第一導電性層圖案〜第一導電性層圖案形成方法例如可列舉如下2種方法。 —種是利用姓刻之導電性層圖案之形成方法。藉由蒸 45 201248332 ^等而於基板上均—成膜金屬層或ITO層之後，使用具有抗姓劑層之轉印材料㈣層抗_層。繼而，對抗儀劑層進订曝光’藉φ本發明之圖案形成方法進行㈣而形成圖案。另-種是利用舉離之導電性層圖案之形成方法。使用具有抗侧層之轉印材料而使抗_層積層於基板上。繼，，對杬蝕劑層進行曝光，藉由本發明之圖案形成方法進行顯影而形成圖案。較佳的是該圖案之形狀為倒錐狀。〜絕緣層圖案〜於使用本發明之圖案形成方法而形成有第一導電性層圖案之基板上’㈣紐樹脂轉印材料進行加熱、廢接而形成感光性樹脂層之後，進行曝光、顯影、烘烤而形成絕緣層圖案。〜第二導電性層圖案〜第二導電性層圖案可藉由與上述第一導電性層圖案之形成方法同樣的方法而形成於形成有絕緣層圖案之基板上。〜保護層〜保護層可藉由與上述絕緣層圖案之形成方法同樣的方法而形成於形成有第二導電性層圖案之基板上。 <液晶顯示裝置用基板> 液晶顯示裝置用基板較佳的是包含黑色遮蔽部及著色部以及光間隔件者。光間隔件較佳的是形成於支撲體上所形成之黑色矩陣等黑色遮光部之上、及/或TFT等驅動元 46 201248332 件上。而且:於黑色矩陣等黑色遮光部與光間隔件之間、及/或TFT等驅動元件與光間隔件之間，亦可存在有ιτ〇等透明導電層（透明電極）或聚酿亞胺等液晶配向膜。例如於將光間隔件設於顯示用遮光部或驅動元件之上之情形時，可藉由使用本發日狀_形成方法’以覆蓋該支撐體上預先配設之顯示用遮光部（黑色矩陣（⑴沉化 matrix)等）或TFT驅動元件的方式，將感光性樹脂轉印膜之感光性樹脂層積層於支撐體面上，於進行剝離轉印而形成感光性樹脂組成物層之後，對其進行曝光，實施顯影、加熱處理等而形成光間隔件，從而製作液晶顯示裝置用基板。土 <液晶顯示元件> 液晶顯示元件包含所述液晶顯示裝置用基板。作為液晶顯示元件之例子，可列舉於至少一方為透光性之一對支撐體（包括本發明之液晶顯示裝置用基板）之間至少包含液晶層與液晶驅動機構（包括單純矩陣驅動方式及主動矩陣驅動方式）之液晶顯示元件。於此情形時，液晶顯示裝置用基板亦可為如下之彩濾光片基板：具有多個RGB晝素群，構成該晝素群I 晝素相互之間被黑色矩陣隔離之彩色濾光片基板。於參濾光片基板上設有高度均一且變形回復性優異之件，因此具有該彩色濾光片基板之液晶顯示元件可色濾光片基板與對向基板之間產生單元間隙不均」度變動）’而可有效地防止色彩不均等顯示不均之產二 201248332 此可使所製作之液晶顯示元件顯示鮮豔之影像。而且，液晶顯示元件之其他態樣可列舉如下者：於至 ^方為透光性的一對支撐體（包含本發明之液晶顯示裝置用基板）之間至少包含液晶層與液晶驅動機構，所述液晶驅動機構具有主動元件（例如TFT)，且—對基板間被高度均一且變形回復性優異之光間隔件控制為規定寬度。於此情形時，液晶顯示裝置用基板亦可為如下之彩色濾光片基板：具有多個RGB晝素群，構成該晝素群之各晝素相互之間被黑色矩陣隔離之彩色濾光片基板。可於本發明中使用的液晶例如可列舉向列型液晶、膽固醇型液晶、層列型液晶、及鐵電液晶。而且，所述彩色濾光片基板之所述畫素群可為包含呈現出相互不同顏色之2色晝素者，亦可為包含3色畫素、4 色以上晝素者。例如於包含3色晝素之畫素群之情形時，包含紅（R)、綠（G)及藍（B)之3種色調。於配置RGB 3色之晝素群之情形時，較佳的是馬赛克型、三角型等配置，於配置4色以上之晝素群之情形時，可為任意配置。彩色濾光片基板例如可於形成2色以上之晝素群之後，如上所述地形成黑色矩陣而製作，亦可相反地以形成黑色矩陣之後再形成晝素群的方式製作。關於RGB晝素之形成，例如可參考日本專利特開2〇〇4_3478M號公報等。 <液晶顯示裝置> 液晶顯示裝置包含所述液晶顯示元件及觸控面板元件。亦即，液晶顯示裝置包含：液晶顯示元件，將相互相 48 201248332 ^ ^ TFT _基板與彩色濾、光片基板之間，如肖由光間隔件將單元間隙控制為規定寬度，將於、n ^之間隙中封人液晶材料（將封人部位稱為液晶層）、，所仔的液晶層之厚度（單元厚度）保持為所期望之均一尽度’以及觸控面板元件，設於該液晶顯示動基板側。 1· 丄駆所述觸控面板元件亦可為於TFT驅動基板之設有TFT 之面的相反面直接依序積層第一導電層圖案、絕緣層圖案、第二導電層圖案、保護層而製作的觸控面板元件。於此情形時，觸控面板元件必須於TFT驅動基板與彩色濾光片基板之間封入液晶前的液晶顯示裝置用基板上，於密封材料等之耐熱溫度以下的溫度下而製作。

液晶顯示裝置中之液晶顯示模式例如可列舉STN

(Super TwistedNematic，超扭轉向列）型、TN (Twisted Nematic，扭轉向列）型、GH ( Guest Host，賓主）型、;gcB (Electrically Controlled Birefringence，電控雙折射）型、鐵電液晶、反鐵電液晶、VA ( Vertical Aligned，垂直配向）型、IPS (In-Plane Switching，橫向電場切換）型、〇cb (Optical Compensated Birefringence，光學補償雙折射）型、ASM ( Axially Symmetric Aligned MicroceU，軸對稱排列微單元）型、其他各種液晶顯示模式。其中，作為本發明之液晶顯不裝置中之液晶顯不模式’自最有效地起到本發明之效果的觀點考慮，理想的是容易因液晶單元之單元厚度變動而產生顯示不均之顯示模式，較佳的是單元厚度 49 201248332 為2 μιη〜4 μιη之VA型顯示模式、Ips型顯示模 OCB型顯示模式。基本的液晶顯示裝置例如可列舉：（a)介隔光而將排列有薄膜電晶體（TFT)等驅動元件與晝素電極電層）而形成之驅動側基板、與包含對向電極（導電層之對向基板對向配置’於其間隙部封人液晶材料二晶顯示裝置；（b)介隔光f摘件而將驅動基板、盘向電極（導電層）之對向基板對向配置，於其間隙部封入液晶材料而液晶_裝置等。具有❹本發明之性樹脂組成物之_的液晶顯示裝置可適宜地制於么液晶顯示機器中。、裡關於液晶顯不裝置，例如於「次世代液晶顯示器 (内田龍男編輯、側工業調査會、1994年發行）」中有記載f本發明之液晶顯示裝置除了包含本發明之^晶顯示凡件以外並無特別限制，例如可作為所述「次世 =器技術」中所記載之各種方式之液晶顯示裝置而使^ 其中’本發明讀晶顯錢置制是於作為彩色啦之液晶顯示裝置而使用時有效。關於彩色TFT方式之液x曰 :員示裝置’例如於「耗TFT液晶顯示器（共立:股：有限公司、1996年發行）」中有所記载。又知液晶顯示裝置除了包含所述液晶顯示元件以外，情況下使用電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件, =角補伽、抗反射膜、光擴散膜、防眩膜等各種構件而構成。關於該些構件，例如於「,94液晶顯示器周邊材料、 50 201248332 4iy5/pif :市場（島健太郎、CMC股份有限公司、199 ^、及「2〇〇3液晶相關市場之現狀與將來展 (表良吉（Ryoldchi 〇m〇te)、富士總研（

Rese=pute，ΐη〇、等發行）」等有所記载lmera 以下，藉由實例對本發明加以更具體說明，只不超出其主旨，則並不限定於以下實例」無特別限制，則「％」及「份」是質量基準。，只要 [實例1] 之製作觸控面板用絕緣層及保護層用感光性樹脂轉印材料 α^2=5μηι之聚對苯二甲酸乙二_臨時支撐體樹脂層用+佈/體^上’塗佈包含下聽方A1之熱塑性進行2分鐘之乾燥，然後進之熱塑性樹脂層。m乾燥，形成絲層厚為15叫「1机」均絲無條件中之溫度「10叱」及相同。，、‘、由風之溫度。以下之乾燥條件中之溫度亦 [熱塑性樹脂層用塗佈液之配方Ai] 醋/曱酸㈣丙烯n乙基己_基丙烯酸节丙稀酸共聚物（=55/1 均分子量90,000) L呆斗比〗垔里十 • · · · * 58 4 分子量物料（=63/37[莫叫、重量平均 .....136 份 51 201248332 氣基)苯基]丙烷 • 2,2-雙[4-(甲基丙稀酿氧基聚己 • · 90.7 份 •界面活性劑1(下述結構物1之丁酮溶液) 5·4份 111份 63.4 份 534份 30% 70% • f醇 .p甲氧基-2-丙醇 (界面活性劑1之組成） •下述結構物1 • "f酮 [化4] 結搆物1

(CHa^^W - Q^C OGHjiC^CnF^+i ^(P〇)vH (η^'.β.； ..x^r'5. 5：> y*5.v M w 3 3 S 4 Q V M W./lyi rt P〇 :環氧丙烧、EO :環氧乙貌）

0-6 I .... . .. 〇(EO)7H = 2.55 其-人，於所形成之熱塑性樹脂層上調製包含下述配 B之中間層用塗佈液，於8叱下進行ι分進行1分鐘之乾燥，從而積層=二 1.6 μιη之中間層。 [中間層用塗佈液之配方Β] •聚乙烯醇（Ρ.205、皂化度88%、日本可樂麗股 52 201248332 4iy>/pif • · 3.22 份、ISP Japan股份有限公 • · 1.49 份份有限公司製造） · · •聚乙烯°比咯咬酮（PVPK_3〇司製造） •曱酉孚 · · · · 42.9份蒸顧水 · · . .52.4份其次，於所形成之中間層上進一步塗佈包含下述配方 1之感光性樹脂組成物層用塗佈液，然後於1〇〇它下進行2 分鐘之乾燥’然後進—步於12(rc下進行丨分鐘之乾燥（乾燥條件A) ’從而積層乾燥層厚為138 μιη之透明感光性樹脂組成物層。 599份 238份 • 1.88 份 [感光性樹脂組成物層用塗佈液配方1 ] •乙酸-1-甲氧基-2-丙基g旨 · · · •丁酮 ··· • Solsperse 20000 ( Lubrizol 公司製造）· •聚合物之45%溶液（曰本專利特開2〇〇8146〇18號公報之段落編號[〇〇61]中所記载之結構式p_25 :重量平均分子量=3.5萬、固形物為45%、乙酸_ι·曱氧基_2_丙基酯為 15%、1-甲氧基-2-丙醇為40%) [ (A)特定樹脂] • · · 114 份 •聚合性化合物之混合物：DPHA液（二季戊四醇六丙烯酸S旨：48%、一季戊四醇五丙烯酸醋：28%、ι_甲氧義 -2-丙基乙酸酯：24%) [ (B)以通式（bl)而表示之聚二性化合物] · · · 16.3份 •下述聚合性化合物（b2-l) : (η=ι為85%、n=2及 53 201248332 ~r 1 / n-3之成分之合計為15%) · · · · 20.5份 •胺基甲酸酯系單體（NK01ig〇UA-32P新中村化學股份有限公司製造：不揮發成分為75〇/〇、乙酸_丨甲氧基_2· 丙基Sa為25%) [ (B)其他聚合性化合物]· · · 7 72份 • 2,4-雙-(三氯甲基)-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基甲基胺基）3溴本基均二嗪[(c)光聚合起始劑]· · · 1 份 • 2-三氣曱基-5-(對苯乙烯基苯乙稀基H，3,4_喔二唑 [(C)光聚合起始劑] 八 •對苯二酚單甲醚[溶劑] ·· . 0.072份劑]) • Megafac F-784-F(DIC股份有限公司製造[界面活性 [化5] • · · 0.51 份

聚合性化合物（b2-l) 於上述式中，X均為丙烯醯基，〜以如上方式進行而形成pET臨時3之屍合物。層/中間層/感光性樹餘成物層之積；f熱塑性樹脂谓增結構後，於感光性 54 ,ιί' 201248332 i橋接電極之製成）使用濺鍍裝置（ULVAr八由丨 =!，之玻璃基板進^ :二濺置；6 CCm、預錢鍍時間；2 min、速度；85〇 mm/min、基板溫度，loot：)而製成橋接電極。 (絕緣層之形成）將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料（υ之露出的感光性樹脂組成物層與預先加熱至表面溫度為 90°C的上述已製成了橋接電極之紐對向，使㈣層機LamicII型 [曰立產業股份有限公司製造]，於積層壓力為2 MPa (藉由昌士軟片公司製造之Prescale而測定）、上輥為90°C、下輥為12(TC之加壓、加熱條件下，以2 m/min之搬送速度而進行貼合。將PET臨時支撐體剝離，使用具有超高壓水銀燈之近接型曝光機（曰立高新電子工程股份有限公司製造），介隔以覆蓋橋接電極之一部分之方式而設計的絕緣層圖案製作用遮罩（具有影像圖案之石英曝光遮罩），自熱塑性樹脂層側以i線50 mJ/cm2之曝光量而進行近接式曝光。 [處理液A] 55 201248332 於如下成分中加入純水使其成為1000份而調製處理液A : 30份 11.2 份 7.1份有機鹼成分：三乙醇胺無機鹼成分：碳酸鈉無機鹼成分：碳酸氫鈉陰離子系界面活性劑：萘磺酸鈉16份非離子系界面活性劑（ADEKA公司製造、商品名為 ND550) 2 份。。〇將上述處理液A保溫為25°C，於具有多個搬送用輥 (其於同軸上设有支撐基板之多個滾軸）之顯影槽中進行基板之搬送，自基板之上方對基板面喷灑處理液而進行顯影。此處，將顯影槽中搬送基板之高度（滾軸之上部）稱為基板搬送線。於顯影槽中’在喷淋壓力為〇丨MPa1r^處理液8〇秒。其後，藉由純水進行10秒之沖洗，將基板上所殘存之處理液成分除去，使其乾燥。藉此而獲得將橋接電極部分性地覆蓋之絕緣層圖案。 (感測器電極之形成）介隔與橋接電極形成用遮罩不同之遮罩，使用濺鍍裝置（ULVAC公司製造之SIH3030)，進行厚度為36 nm之 ITO濺鍍（主電流；2 A、預濺鍍電流；丨A、預熱溫度； 100C、濺鍍溫度；i〇crc、預熱時間；3〇min、^流量； 80 seem、〇2流量；6 ccm、預濺鍍時間；2 _、速度；85〇 mm/min、基板溫度；1〇〇。〇)，而製成感測器電極。感測器 56 201248332 4iyy/pif 電極包含與橋接電極之未被絕緣層覆蓋的部分重疊的元件 A、位於絕緣層上且並不與橋接電極重疊的元件 B，由此可確定接觸時之位置。 (保護層之形成）、，將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料⑴之露出的感光11¼¾組成物層與預先加熱至表面溫度為卯。〇之上述已製成了感測n電極之基板對向，使用積層機

LamicII 聖[_日立產業股份有限公司製造]，於積層壓力為2 Mpa(藉由富士軟片公司製造之Prescale而測定）、上輥為赃、下親為120C之加壓、加熱條件下，^ m/min之搬送速度而進行貼合。將PET臨時支撐體剝離，使用具有超高壓水銀燈之近接，曝光機（日立高新電子卫紐份有限公司製造），介隔保屢層圖案製作帛遮罩（具有影像_案之^英曝光遮罩），自熱塑性树脂層側以！線5〇 mj/cm2之曝光量而進行近曝光。將所述處理液A保溫為25°C，於喷淋壓力為〇.丨MPa 下對已曝光之基板喷灑80秒’然後藉由純水進行1〇秒之沖洗y除去基板上所齡之處理液成分，使其乾燥。藉此而獲得於最上層具有保護層之靜電容觸控面板用感測器。 (處理液B〜處理液〇之調製）八於如下述表1中所記載之成分之組成（量表示份）中 ^別加入純水而使其成為1〇〇〇份，與處理液A同樣地订而_處理液B〜處理液〇。記載有2種無機鹼成分之 57 201248332r 情形表示使用2種。 58 201248332 J-a§l 寸 1 非離子系界面活性劑丨 (Ν CN <N CN CN «ν 〇 CS CS CS CN CS JQ 0.05 騷頟 /•—S 〇 i * i«i 遛<5 ω S-X /·—Ν 〇 i f w f if *球糾π ® <·5 m Vw/ /—S in Q 之 *鉍 ^ (ΪΓ 遛<4 ω 蘅 /-"'Ν 沄 V) Q 烹濟 * m ω 难 /-N 沄 tn Q f *1 *敏 *Ί ΠΓ V—/ Q 2 f *孩剧ΓΓ ® <5 ω '—^ /"S 〇 Q Ζ 5 w f m $藏到ITT 山 /—\ »〇 i f ν f ?£f *鉍 Π? s<< V—/ 〇 ίϊ 1 * w f ^ *孩 ^ tm* ® <4 W S—/ 沄 Q f w r贺昶热到ΓΓ ® « ω Ν—✓ *Ti Q f ν 昶鹖 Μ Π7 If << ω •s—/ /—V 沄 ι〇 g Jf W 昶莪 ^ tm* S << ω Vw^ ft vg ML Ό 〇 VO 〇 v〇 \〇 ^o \〇 § U-i ο ο VO 鄉磁 ΐΤ ύ Φ 链磁苍磁签韶 ύ 塚键 ύ 湓苍韶苍臀 ίφ 冻湓赞苍翻 W I 無機驗成分 φή CS CN 卜: ΙΓΪ <s 〇 CN CN (Ν CN 1> >ri v〇 ο 寸〇 iS (Ν Γ^ <Ν Γ^ (N Γ^ 鞔鄉眾 S 苍苍磁难苍韶簽怒谅苍键够签韶答键 § 键苍窗苍韶茶餡苍键苍窗苍键够签链苍韶够窩菟键谅苍磁苍链楚苍湓苍键窜有機驗成分 ♦) 〇 Ο (Ν 寸發娌敏〇四甲基氫氧化敍筚姓〇 »Ί 雄鮏〇、，1 缕鮏〇 'Ί 铧 * ιΟ 鮏 Ο … 雄 (0 »Ί a ο '»1 铤敏〇 »Ί 绪 a 〇 »Ί 铝 a tO ，，1 铤鮏〇、'1 集鮏〇 »，1 < 喊 CQ W 喊〇 Sif 喊 Q R! m 趄喊 PL, 趄 S? 喊 α 赵 sj) 喊 X 喊挺喊 W 喊 U 挺劫呦 -1 喊喊挺刦〇 W 嗔

6S 201248332 [實例2] 使用處理液B作為處理液，除此以外藉由與實例^同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕緣之大小或密接性變得與實例丨同等之方式調整處理&之嗔 >麗時間。 [實例3] 使用處理液C作為處理液，除此以外藉由與實例丄同樣之方法而製成靜電容触面板贼測器。m緣層之大小或密接性變得與實例i同等之方式調整哈邋a#簡。狀心噴 [實例4] 將玻璃變更為150 μιη厚之聚對笨二曱酸乙二酉旨膜作為基材，除此以外藉由與實例1同樣之方法而製成靜電容觸控面板贼泰。以絕緣層_之大小或密接性變得^ 貫例1同等之方式調整顯影液之嘴灑時間。 [實例5] 將於處理液Α中預先溶解有感光性樹脂組成物層（相當於實例1中所記載之感光性樹脂轉印材料之1 m2之面積之量）之處理液作為處理液而進行顯影，除此以外藉由與實例1同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以^邑緣層圖案之大小或密接性變得與實例1同等之方式調卷声理液之喷灑時間。免 [比較例1] 於感光性樹脂轉印材料之調製中並未設置熱塑性樹脂 201248332 4iyD/pif 層，除此以外藉由與實例丨同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕緣層圖案之大小或密接性變得與實例 1同等之方式調整處理液之喷灑時間。 [比較例2] 於比較例1中，將感光性樹脂轉印材料之轉印條件設為基板預熱140°C、積層機之上下輥溫度i4〇°C、積層壓力為2 MPa (藉由富士軟片公司製造之Prescale而測定）、搬送速度為1 m/min而進行，除此以外藉由與實例丄同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕緣層圖案之大小或密接性變得與實例丨同等之方式調整處理液之喷灑時間。 [比較例3] 使用與貫例1相同之感光性樹脂轉印材料，藉由如下方式而實施絕緣層與保護層之顯影，除此以外藉由與實例 1同樣之方法而製成靜電容驗面㈣感_。以絕緣層圖案之大小或密接性變得與實例丨同等之方之喷灑時間。欣 (絕緣層與保護層之顯影）首先’將三乙醇胺系顯影液（藉由純水將含有3〇0/ : 乙醇胺的商品名T_PD2 (富士軟片股份有限公司製釋為10倍（以T.PD2為1份與純水為9份之比例進行、,3 合）之液體）保溫為30ΐ，於噴淋壓力為〇λ m : 60秒之喷灑，將熱塑性樹脂層與中間層除去。繼而，= 玻璃基板之上表面衫氣而進行雌後，藉由純水進行^ 20124833¾ 秒之沖洗。繼而，將奴酸鈉系顯影液（藉由純水將含有〇 38 m〇1/1 之碳酸氫鈉、0.47 mol/1之碳酸鈉、5%之磺酸鈉系陰離子界面活性劑、消泡劑、及穩定劑之商品名T CD1 (富士軟片股份有限公司製造）稀釋為5倍之液體）保溫為27¾，於噴淋壓力為o.l MPa下進行45秒之喷灑，除去感光性樹脂層之未曝光部分。繼而，對該玻璃基板之上表面吹空氣而進行脫液後，藉由純水進行1〇秒之沖洗。繼而，將清洗劑（藉由純水將含有磷酸鹽、矽酸鹽、非離子界面活性劑、消泡劑 '穩定劑之商品名tsd3 (富士軟片股份有限公司製造））稀釋為1G倍之液體保溫為 33 C ’於喷淋壓力為0.1 MPa下進行4〇秒之噴灌而進行圖案影像之周邊的殘渣之除去。 [實例6〜實例17] 分別使用處理液D〜處理液〇作為處理液，除此以外耠由與實例1同樣之方法而製成實例6〜實例17之靜電容，控面板用制ϋ。以絕緣層_之大小或密接性變得與貫例1同4之方式調整處理液之噴灑時間。 (評價）器，如下所關於所得t實例及比較例之觸#面板感測迷地進行性能評價。將結果示於表2中。 •顯影殘渣- 於上述絕緣層随之形成及保護層之形成中，於近接 62 201248332 式t光後，藉由與各實例及比較例之顯影條件同 =丁顯影’進行所形成之矩形狀圖案部分之SEM觀/ 確認於周邊是否殘存絲。實用水準為c以上。不’ <評價基準> A:完全未發現殘渣。 B:於圖案之隅角部分發現微量殘渣。 c :於圖案邊緣（4邊）發現微量殘渣。 D. 於圖案附近之基板上發現殘渣。 E. 於基板上隨處可確認殘渣。積層性- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，於積層感光性樹㈣特料之後，藉由光學顯微鏡觀察而確認i 板上之氣泡產生狀況。實用水準為c以上。另外，所謂先前圖案，於絕緣層之情形時是指橋接電極（圖案之階差厚度為36 nm)’於保護層之情形時是指絕緣層（厚度為ι 38 μηι)及橋接電極（圖案之階差厚度為36nm)。 <評價基準> A:完全未發現氣泡。 B :於先前圖案周邊發現微小之氣泡，但無法藉由目視觀察而視認。 C :於先前圖案邊緣（4邊）發現微小之氣泡，但無法藉由目視觀察而視認。 ’ D:可目視觀察到且亦可視認到先前圖案邊緣周邊之氣泡。 63 201248332 E:於基板上隨處可目視觀察到且亦可視認到氣泡。 -圖案脫落- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由光學顯微鏡觀察絕緣層之圖案，計測每10000個圖案之脫落數。實用水準為c以上。 <評價基準> A :無脫落 B : 1個以上且不足5個 C : 5個以上且不足10個 D : 10個以上且不足100個 E : 100個以上 -異物附著- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由光學顯微鏡觀察形成保護層後之基板表面，計測每1 m2之異物附著數。實用水準為C以上。 <評價基準> A :無異物附著 B : 1個以上且不足5個 C : 5個以上且不足10個 D : 10個以上且不足100個 E : 100個以上 -顯影時之搬送性- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由目視觀察顯影時之基板搬送狀態。實用水準為B以上。 64 201248332 外iwpif <評價基準> A:無搬送異常。 B :存在處理液發泡現象，但並不對基板搬送造成影響。 C :處理液之發泡到達至基板搬送線上，基板搬送變得不穩定。於表2中，實例14劇烈起泡，基板之搬送變得不穩定，但所得之圖案並無異常。而且，於實例16中起泡較多，但並不對基板之搬送造成影響。 [表2]

實例1 顯影殘渣 A 積層性 ~A^ 顯影時間（秒） (包含沖洗10秒）圖案脫落異物附著顯影時之基板搬送性 90 A A A 實例2 A A 80 A A A 實例3 A A 85 A A A 實例4 A A 90 A A A 實例5 比較例1 比較例2 A A B A 1 _ 92 A A A E 1" 〜 D 50 A A A 55 A A A _tt(較例3 A A 175 A A A 實例6 C A 210 B A A — 實例7 C A 180 B A A 頁例0 實例9 C C A A^ 90 B A A 90 A A A Μΐχ·] 1U A A 70 C A A 11 實例12 實例13 列 14 A A C A ------ A —--—. 一- 18〇 — c B A 一 55 c c A _m. _______ B A A 實例15 C A〜 — ——^-. A 75 C A B 實例16 π A A A A -___?0_ C A B ---- 一 90 A c A 根據表2可知如下者。 65 201248332 ，由本發明之感光性樹脂組成物之圖案 ==_、、積層性良好、且異物之附著少的觸控面 =膜圖案。且本發明之感光性樹脂组成物之圖案形疋顯影時間短，因此可縮短顯影槽之長度，且生性高的圖案形成方法。又 M 可知：藉由將處理液之組成調整為有機驗成分； %、降離二7量％、無機驗成分；G.2 f量％〜10質量子李it 性劑；ο.1質量％〜10質量％、及非離圖案密接性、異物附著變得更適宜。H為査或之聚Hi 1卩使於處理液含有選自聚合性化合物及含絲層H至少1種的實例5 ’亦可獲得顯影殘潰少、積例1=異物之附著少的觸控面板用絕緣膜圖案。脂轉=::，用彩色濾光片之光間隔件用感光性樹為75卿之聚對苯二曱酸乙二醋膜臨時支樓體月旨層用體）上塗佈包含所述配方A1之熱塑性樹步於12〇。(：下之佳於1〇0 C下進行2分鐘之乾燥，然後進一之執塑性^^ 1 ^鐘之乾燥’職絲層厚為15 _ 、。二=':Γ_之溫度「_」及相同。钱風之/i度。以下之乾燥條件中之溫度亦其次’於所形成之熱塑性樹脂層上塗佈包含所述配方 66 201248332 /pif B之中間層用塗佈液，於8〇χ： -步於12(TC下進行！分鐘之仃1分鐘之乾燥後，進 1·6μηα之中間層。械’從而積層乾燥層厚為具次 1之成光性樹中間層上進—步塗佈包含所述配方分鐘====後於靴下進行2 燥條件A)，從而積層乾燥=行1分鐘之乾燥（乾成物層。、、. Μ<ηι之感光性樹脂組而形成PET臨時支撐體/熱塑性樹脂 f/匕中間層/M縣跑成物層之積層結構後，於之表面進一步對作為覆蓋膜之厚度為12帅 ^丙烯製的膜進行加熱、加壓而將其貼附，獲得^ 件用感光性樹脂轉印材料（2 )。 (彩色濾光片之製成）藉由日本專利特開2007-304403號公報實例丨中所記載之方法而製作具有黑色矩陣、紅色晝素、綠色晝素、藍色晝素之彩色濾光片。對所製作之彩色濾光片進行清洗後，使用濺鍍裝置（ULVAC公司製造之SIH3030 )而二行厚度為150nm之ΙΤΟ濺鍍（主電流；2Α、預濺鍍電流； 1 A、預熱溫度；i〇〇°c、濺鍍溫度；i〇(rc、預熱時間； min、Ar流量；80 seem、〇2流量；6 ccm、預賤鍍時間；2 min、速度；250 mm/min、基板溫度；100°C )，於彩色淚光片上積層ITO層。〜 (光間隔件之形成） 67 201248332 將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料（2)之露出的感光性樹脂組成物層與預先加熱至表面溫度為9〇°c的上述之已經形成了彩色濾光片及ITO層的基板對向，使用積層機LamicII型[日立產業股份有限公司製造]，於線性壓力；lOON/cm、上輥；90°C、下親；12〇。(：之加壓、加熱條件下，以搬送速度；2 m/min進行貼合。將PET臨時支樓體剝離，使用具有超高壓水銀燈之近接型曝光機（日立高新電子工程股份有限公司製造），介隔光間隔件圖案製作用遮罩（具有影像圖案之石英曝光遮罩），自熱塑性樹脂層側以i線5〇 mj/cm2之曝光量而進近接式曝光。

將所述處理液A保溫為25t，於喷淋壓力為〇丨Mpa :對已進行了曝光之基板進行8Q秒之喷灑後，藉由純水進 ^ 10+移之沖洗，將基板上所殘存之處理液除去使其乾燥。藉由而於彩色Μ片之所顧之部㈣成光間隔件用L

[比較例4] ^感光性樹脂轉印材料之調製中未設置熱塑外Λ由财例18囉之方法而製_有光^ 實例^隔件随之从或_性變得」實例18同权料健處賴之倾_。 - [比較例5] 方式18相同之感光性樹脂轉印材料，藉由如_ ^ 、絶緣層與保護層之顯影，除此以外藉由與實名 68 201248332 Hiyj /pif 18同樣之方法而製成附有光間隔件之彩色濾光片。以光間隔件圖案之大小或密接性變得與實例6同等之方式調整處理液之喷灑時間。首先，將三乙醇胺系顯影液（藉由純水將含有3〇〇/〇三乙醇胺的商品名T_PD2 (富士軟片股份有限公司製造）稀釋為10倍（以T-PD2為1份與純水為9份之比例進行混合）之液體）保溫為30。(： ’於噴淋壓力為〇·ι MPa下進行 60秒之噴丨麗，將熱塑性樹脂層與中間層除去。繼而，對該玻璃基板之上表面吹空氣而進行脫液後，藉由純水進行1〇秒之沖洗。繼而’將碳酸鈉系顯影液（藉由純水將含有〇 38 m〇1/1 之碳酸氫鈉、〇·47 mol/1之碳酸鈉、5%之磺酸鈉陰離子系界面活性劑、消泡劑、及穩定劑之商品名T-CD1 (富士軟片股份有限公司製造）稀釋為5倍之液體）保溫為28。〇， ^喷淋壓力為G1 MPa下進行5()秒之喷灑，除去感光性樹物層之未曝光部分。繼而，對該玻璃基板之上表面吹空氣而進行脫液後，藉由純水進行10秒之沖洗。繼而，將清洗劑（藉由純水將含有磷酸鹽、矽酸鹽、非=子系界面活性劑、消泡劑、穩定劑之商品名T_SD3 (富車人片股+伤有限公司製造））稀釋為10倍之液體保溫為 C，於噴淋壓力為〇」Mpa下進行4〇秒之噴灑而進行圖案影像之周邊的殘渣之除去。 (評價）關於所得之實例18、比較例4、比較例5之彩色濾光 69 201248332 片，如卞所述地進行性能評價。將結果匯總表示於 -顯影殘渣- ' " 於實例18之項巾所記叙「附有糾隔件之彩片之製作」中，於近接式曝光後，糾與各實例之“條件同樣之方法進仃顯影，進行所形成之間隔件圖案呷八之 SEM觀察’確認於周邊是否殘存殘渣。實用水準為' <評價基準> A ·元全未發現殘潰。 B:於圖案之隅角部分發現微量殘渣。 C ·於圖案邊緣（4邊）發現微量殘渣。 D:於圖案附近之基板上發現殘渣。 E:於基板上隨處可確認殘渣。 -積層性- 於實例18之射航狀「_光咖叙彩色遽光片之製作」中，於積層感光性樹脂轉印材料之後，藉由光，顯微鏡觀察而確認彩色濾光片基板上之氣泡產生狀況。實用水準為C以上。另外，所謂先前圖案，是指由於彩色遽光片上之黑色矩陣與紅、綠、藍畫素之厚度分別不同所產生之基板上之凹凸，及於黑色矩陣上部分重疊而形成之紅、綠、藍晝素之畫素外周部分（通稱為隅角）之兩方。 ^另外’藉由觸針式膜厚計（TENCOR公司製造）定顯影後之光間隔件之高度。 <評價1基準〉而測 A:完全未發現氣泡。且顯影後之光間隔件之高度無 201248332 4iy^/pif 異常於光間件设置部分周邊以外之部分產生耽泡’且顯影後之光間隔件之高度無異常。於光間隔件設置部分周邊附近產生微小之氣泡，仁.，、、員衫後之光間隔件之高度無異常。 B ： D :於光間隔件設置部分㈣附近產生氣泡，且於該邛为中，顯影後之光間隔件之高度產生異常。一 E.於基板上到處產生氣泡，且顯影後之光間隔件面度產生異常。 •間隔件高度均一性_ 藉由TENCOR公司製造之觸針式膜厚計（p_1〇)而對 _個樣品測定光間隔件之自底部至頂關高度，求出其 =均值與最大值、最小值。藉由最大值最小值而求出高度刀佈之範圍，藉由該範圍除以平均值而所得之值（值越小則均一性越高）而進行評價。實用水準為C以上。 <評價基準> A :不足1% B : 1以上且不足2% C : 2以上且不足3〇/〇 D : 3以上且不足4% E : 4%以上另外，於比較例4中，於產生氣泡之部分的周邊產生間隔件高度極其高或低之現象，且產生間隔件脫落之異常。 -圖案脫落- 71 201248332 於實例18之項中所記載之附有光間隔件之彩色清片之製作中，藉由光學顯微鏡觀察光間隔件之圖案，每10000個圖案之脫落數。實用水準為C以上。°測 <評價基準> A :無脫落。 B : 1個以上且不足5個。 C : 5個以上且不足1〇個。 D : 10個以上且不足1〇〇個。 E : 100個以上。 •異物附著- 於實例18之項中所記載之附有光間隔件之彩片之製作中，藉由光學顯微鏡觀察形成光間隔件後之'義= 表面，計測每1 m2之異物附著數。實用水準為c以上 <評價基準> ° A:無異物附著。 B : 1個以上且不足5個。 C : 5個以上且不足1〇個。 D : 10個以上且不足ι00個。 E : 100個以上。 -顯影時之搬送性- 於實例U之項中所記載之附有光間隔件之彩片之製作巾’藉由目錢察!u彡時之基板 ^ 水準為B以上。〜、貫用 <評價基準> 72 201248332

Hiyj /pif A :無搬送異常。響 β :存麵歸發誠象，妓不縣《送造成影基板搬送變 C :顯影液之發泡職至基板得不穩定。深上 [表3] 顯影殘逢實例18 A 比較例4 A 比較例5 A 積層性顯影時間（秒） (包含沖洗1〇耖、

間隔件高度均 —性

根據表3可知如下者。獲得成物之圖案形成方法，可 =*有顯影殘渣少彩㈡==二且本:明之感光性樹脂組成物之且=高的圖案;=:因此可縮短顯影槽之長度’ ^合表2之結果進行考慮可知本發明方法可有效地兼顧:受積層時所存在:先二縮短。= 也=質之_^^ 生產效率顯之㈣朗所帶來之高的 1月辑中。將本說明書中所記载之所有文獻、 73 201248332

L 專利申請及技術規格，與具體且各個地記載引用此處之文獻、專利申請及技術規格之情形同等程度地引用至本說明書中。【圖式簡單說明】益。【主要元件符號說明】無0 74

Claims

201248332 /pif 七、申請專利範圍：的圖案形成 .一種方法，其是使用感光性樹脂組成物方法，其依序包含：將於臨時支撐體上包含至少U熱塑性樹脂層盘至少 1層感光性織組成__紐義轉特料板上的步驟；、土的步料行影綠之曝紋_支碰之剝離於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由i種 5液進行所賴雜概狀除去、與曝級的感光性樹脂纽成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由1種處理液而進行所述熱塑輯脂層之除去、鱗級的感絲細旨組成物層之曝光部分之除去的步驟。 2. 如申凊專利範圍第1項所述之方法，其中，所述處液含有有機驗成分、無機驗成分、陰離子系界面活性劑以及非離子系界面活性劑。 3. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，所述處理液中所含之有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑以及非離子系界面活性劑於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言為下述範圍：有機鹼成分 0.5質量％〜15質量％無機鹼成分 0.2質量％〜1〇質量％陰離子系界面活性劑 0.1質量％〜10質量％ 75 201248332 非離子系界面活性劑0.01質量〇/〇〜2質量％。 4_如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，。所述處理液中所含續述麵驗成分、料軸喊分、所述陰離子系界面活性_及所述非料⑽岐性劑於在顯影為下述範圍：有機驗成分無機驗成分陰離子系界面活性劑非離子系界面活性齊|J 中使用時之處雌中的各含量，彳晴於處職之總量而; 為下述範圍： ° 1質量〇/〇〜10質量％ 0.5質量％〜5質量％〇.2質量％〜5質量％ 0.02質量％〜；^質量0/〇 … π 主/U一 1 貝▼ …如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，所述理液中所含之所述有機鹼成分是選自烷醇胺、氫氧化= 基銨以及烷基胺之至少1種。 6.如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，所述产，液中所含之所述無機鹼成分是選自碳酸鈉、碳酸氫^处虱氧化納以及氫氧化鉀之至少1種。 7·如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，所述其板是可橈性支撐體。 I 8, 如申請專利範圍第7項所述之方法，其中，所撓性支撐體是連續搬送之網狀。 9. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中’所述斤理液進-步含有選自聚合性化合物以及含縣之聚 ^ 至少1種。叩 10.如申請專利範圍第9項所述之方法，其中，所述 76 201248332 pif 選自聚合性化合物以及含鲮基之聚合物的至少丨種化入物於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對二總量而言為0.01質量％〜2〇質量％。、處 11·如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，所述感光性樹脂組成物包含··（A)於側鏈具有酸性基之樹脂、 (B)聚合性化合物以及（C)光聚合起始劑。 12. 如申請專利範圍第u項所述之方法，其中，所述 (A)於侧鏈具有酸性基之樹脂進一步包含：具^有具分支及/或脂環結構之基的側鏈，以及具乙烯性不飽和基之1。 13. —種圖案，其藉由如申請專利範圍第1項至2 項中任一項所述之方法而形成。、14. 一種彩色濾光片’其包含如申請專利範圍第^項圍第14 15. —種影像顯示裝置，其包含如申請專利範項所述之彩色濾光片。 77 201248332 TX^w/ /pif 四、指定代表圖： (一）本案指定代表圖為：無。 (二）本代表圖之元件符號簡單說明：無。五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：無。 201248332 ▲〆 v a ▲ <L 修正曰期:1〇丨年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本發明專利說明書 (本說明書格式、順序，請勿任意更動，※記號部分請勿填寫） (f(6Jr^ ㈣ %。 (2〇〇6. 〇1) 006. ：' 心.'w- ※申請案號： ※申請曰： π“r <j 分類：一、發明名稱：（中文/英文） %、况下、使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法以及圖案、彩/ 色濾光片與影像顯示裝置 METHOD FOR FORMING PATTERN USING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN ,v OBTAINED BY THE METHOD, COLOR FILTER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE WITH THE COLOR FILTER 二、中文發明摘要·· 一種使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法，其依序包含如下步驟：將感光性樹脂轉印材料積層於基板上的步驟；依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨時支撐體之剝離〇的步驟；以及於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由1種處理液進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由1種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。三、英文發明摘要： A method for forming pattern using photosensitive resin 1 201248332 X a 修正曰期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明是有關於一種使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法以及圖案、彩色濾光片與影像顯示裝置。【先前技術】 ❹ 液晶顯示裝置之彩色遽光片或印刷電路基板之圖案化抗餃劑通常使用感光性樹脂組成物。該些彩色濾光片或印刷電路基板可藉由如下方式而獲得··⑴#由將感光性樹脂組成物層塗佈錄板上之方法、或者制具械光性樹脂組成物層之轉印材料而轉印於基板上的方法等，於基板上形成感光性樹脂組成物層，然後（2)介隔與所形成^ 案對應之鮮it行影像狀H或錢的雷射光賴進彳博·之曝光，料切分=== 成潛影，⑴使用處理液對曝光負里感光性娜組成物之情形）或者曝光部正光性樹脂組成物之情形）進行㈣彡將其除“ 二 Ο 然後視需要而it行整個轉絲烘烤翁 ;===成__用於二= 液晶配向控制用突起以中耆色晝素、平坦化層、而且，近年來，於銀行之ΑΤΜ、自動隹西端等中所見之搭載有觸控面板之液晶顯示動終靜電容方式等’自耐久性之觀點】以之 4 201248332 修正曰期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本

觸控面板之需要會進一步擴大。靜電容方式觸控面板元件可藉由於透明電極圖案間夾持絕緣層而形成電容器，進一步藉由保護層（overcoat layer)等進行覆蓋而製作。於其製作步驟中，利用溶劑、酸、或鹼溶液等而進行顯示元件之浸潰處理，而且於進行用以形成配線電極層之濺鍍時，表面局部性地暴露於高溫下。為了防止由於此種處理而造成疋件劣化或損傷，對於該些處理而言具有耐受性之透明絕緣層及於其上所積層之保護層為必須的。上述保護層或於透明電極目案間所設置之崎層亦可列舉㈣光性樹脂組成物之圖案而形成者。為了製作此種感光性樹脂組成物之圖案，必須於形成圖案之基板之至少-個面設置感光性樹脂組成物層。作為於基板上設置感光性樹脂組成物層之方法，已知有使用狹缝狀管嘴（nozzle)等將感光性樹脂組成物直接塗佈於美板上的方法。而且’亦提出了如下之方法：使預先於臨^ 支撐體上设有感紐樹脂組成物層之轉印脂組成㈣細請向，制_輥（laminate^ = 從而於基板上形成感光性樹脂組成物層的方法。利用轉印之方法具有如下之特徵：由於未於作業現場並無溶織味，可轉適宜之作产二於輥狀基板上連續地形絲紐樹驗絲之圖關於使於臨時支撐體上設有感光性樹脂組成物叙 Ρ材料的感光性樹脂組成物層與基板對向轉印於基板上，從而於基板上形成感光性樹脂組成 201248332 x l 修正日期年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本方法，於日本專利3800513號說明書及日本專利特開 2007-3 044〇3 <公報等巾記載為液晶,料裝置之彩色滤光片之製作方法。而且，於日本專利特開2〇〇81〇2326號公報及日本專利特開2009_91458號公報等中記載了該方法而作為印刷電路板用抗敍劑圖案製作方法。形成感光’賴案之基板未必僅限於平坦之基板，有時產生如下之必要.於藉由前步驟而預先製作之具有階差之 ❹ 基板上轉印感光性樹脂組成物層。於液晶顯示裝置之情形 =常使用如下之方法：首先形成作為遮光材料之黑色矩陣後，其次於黑色矩陣之開口部分形成與腦對應之著色畫素。於此情形時，黑色矩陣形成於平坦之基板上，但 RGB等感光性樹脂組成物層變為轉印於預先具有圖案、亦即具有凹凸之基板上。同樣地，於形成輸著色晝素後，片上所設置之光間隔件用感光性樹脂組成物層等亦一侍轉印於具有凹凸之基板上。於靜電容方式之觸控面板之情形時，存在有如下 ❹ =將基板自身作為絕緣層，秘基板之_面形成互相一的方法；於基板之單面側積層交又之間=者之？中，設於交又的電極 I曆口系通常具有1 μηι〜3 μπι之厚度，因此用部電極之抗韻劑圖案或成為最上層之保護層的感光树知組成物層變為轉印於具有凹凸之基板上。、之夕ΓΐΓ彳電路板’祕近年來提出了則、型化為目的之夕層結構的印刷電路板。於設置用以使多個導電層絕緣 6 201248332^ • J. ^ X 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:101年8月27日 ^ = 時，用以形成位於上部之導電層的抗姓劑圖术用感光性树脂組成物層變為轉印於具有凹凸之基板然而於欲在如上所述之具有凹凸的基板上轉印感光 Γΐΐί成物層之情形時，存在如下之問題：感光性樹脂 j物層並未完全填埋基板之凹凸，於積層時於基板上預先存在之圖案（稱為先前圖案）之周邊產生氣泡。

〇若於所轉印之感光性樹脂組成物層之」部分存在氣泡，則無法確保對於該部分基板之密接性，於積層後之曝光步驟中，即使對氣泡周邊進行曝光、使其硬化，於顯影時氣泡周邊之圖案亦脫落，從而於_上產生缺陷。於液晶顯示裝置之彩⑽光片之情形時，圖案之脫落部分會使光透過，從而無法正確地顯示影像。而且，於印刷電路基板用抗蝕劑等非永久膜之情形時，亦產生如下之問題：二缺陷部分應藉由蝕刻而殘存之金屬膜無法受到保護，因此本來應該藉由蝕刻而殘存之金屬膜被除去，從而產生電路之斷線等。如此’作為抑制積層時之氣泡產生的方法，進行了如下之嘗試：藉由提高積層時之壓力或輥溫度、或者降低積層速度而提高感光性樹脂組成物層對先前圖案之追隨性。然而卻存在如下之問題：由於積層時的熱之影響，產生感光性樹脂組成物層之硬化（由於熱而部分性聚合），導致於基板上產生殘渣之弊端，從而使積層之處理量（throughput) 降低而造成生產性降低。 201248332 修正日期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本對此，於曰本專利3800513號說明書等中提出了如下之提案：將熱塑性樹脂層設置於感光性樹脂組成物層與臨時支撐體之中間，於積層時吸收先前圖案之影響。此種熱塑性樹脂層較佳的是軟化點為80〇C以下者。〇於通常情況下’感光性樹脂組成物層藉由使用鹼性顯影液而進行顯影，為了進行未曝光部分（負型感光性樹脂組成物之情形）或曝光部分（正型感光性樹脂組成物之情形）的除去，必須於感光性樹脂組成物層之顯影之前，藉由顯影將在形成感光性樹脂組成物層圖案之感光性樹脂組成物層、與臨時支撐體之間所設置之熱塑性樹脂層除去。 ❹ 於曰本專利3800513號說明書及日本專利特開 2007-304403號公報中揭示了如下之方法：將熱塑性樹脂層之顯影除去與感光性樹脂組成物層之顯影除去分開進打，於不同之處理液中進行熱塑性樹脂層之顯影與感光性樹脂組成物層之顯影。因此，存在如下製顯影處理衫變大，生產成本提高。而且，由於種處理液（顯絲），因此亦兼具如下之處理液之管理變煩雜的問題：變得必多筒常騎稀_使狀液之調製裝置等。而且，顯影所使用之處理液例如已知有：驗成分酸鈉、氫氧仙及四甲基缝倾，且包含_子系界面活性劑之處理液（參照日本專利特開平9_171261號八報）;於有鑛與無錄之齡物巾包含_子纟界面ςς 劑之處理液（參照日本專利特開平7_120935號公報 8 201248332 —rx / j / _ρ·ΐχ 1 爲第麵號蚊___崎粧瞧响则含驗成分與乙烯基°比洛咬自同系化合物之處理液（參照曰本專利2748057號說明書）;於鹼性物質中包含陰離子系界面活性劑與非離子系界面活性劑之混合物的處理液（參照曰本專利特開平5-188602號公報）；及使用烷醇胺 (alkanolamine)之處理液（參照曰本專利特開2〇〇7 3〇44〇3 號公報）等。然而，將具有熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層之 0 感光性樹脂轉印材料轉印至基板上而進行曝光後，即使使用該些處理液而進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之潛影之顯影處理而形成圖案，亦無法以短的顯影時間在由於先前圖案等而具有凹凸之基板上設置無圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的感光性樹脂組成物層圖案。' 【發明内容】本發明是基於如上所述之背景而成者。本發明之課題在於提供一種圖案形成方法，其是使用於臨時支撐體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層的感光性樹脂轉印〇材料，於基板上形成使用感光性樹脂組成物之圖案的方法，即使於基板上存在由於先前圖案等所造成之凹凸，亦可藉由簡易之顯影步驟，以較短之顯影時間而獲得無圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的使用感光性樹脂組成物之圖案，生產效率高。另外，本發明之課題在於提供一種藉由所述圖案形成方法而形成之感光性樹脂組成物之圖案、包含該圖案=彩色濾光片、及影像顯示裝置。 / 9 20124833¾ 爲第101116564號中文說明書無0線_^ 修正日期:丨01年8月27日上述課題可藉由以下之手段而達成。 <i>種方法，其是使用感光性樹脂組成物的圖幸形成方法，其依序包含·· 將於u夺支撐體上包含至少】層熱塑性樹脂層與至少 1層感光性樹敝成物相感紐樹轉印㈣積層於基板上的步驟；依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨的步驟，·以及又牙瓶離於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由^ 性樹脂層之除去、與曝光後的感光性 ^曰，成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感月曰組成物為正型之情形時，藉由i種處理液而騎生樹脂層之除去、與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。有機ΓΛ如〈丨〉所述之方法，其中，所述處理液含有、無機驗成分、陰離子系界面活性劑以于糸界面活性劑。含之:Li<2>所述之方法’其中，所述處理液中所非離ΐϊί 無機驗成分、陰離子系界面活性劑以及旦，糸界面活性劑於在顯影中使用時之處理液中的各含里相對於處理液之總量而言為下述範圍·· 有機鹼成分〇.5質量％〜15質量％無機鹼成分〇.2質量°/〇〜10質量％陰離子系界面活性劑（U質量％〜1〇質量％ 201248332 ~r ^ ι ^αχΊ 爲第101116564號中文_____ 修正曰期年8月η日二質量%，量%。液中所含之有機驗成分、無機鹼咸:法二:夺:述處理劑以及非離子系界面活性 :離子糸界面活性的各含量，相對於處理液之她量!時之處理液中有機驗齡就口二為下述範圍：丄貝〜10質量％〇，、、、機鹼成分 0.5質量％〜5質量％陰離子系界面活性劑〇.2質量％〜5質量％非離子系界面活性劑〇〇2質量％〜i質量^。 =5>如<2>〜<4>中任一項所述之方法，盆中，所述處理液中所含之有機鹼成分是選自烧醇胺、氯^ 烧基銨（tetraalkyl ammonium hydr〇xide )以 (alkylamine)之至少！種。泰版 <6>如<2>〜<5>中任一項所述之方法，其中，所述處理液中所含之無機鹼成分是選自碳酸鈉、^酸氫納、氫氧化納以及氫氧化鉀之至少1種。 <7>如<1>〜<6>中任一項所述之方法，其中，所述基板是可撓性支撐體。 ~ <8>如<7>所述之方法，其中，所述可撓性支撐體是連續搬送之網狀。 <9>如<2>〜<8>中任一項所述之方法，立中，所述處理液進一步含有選自聚合性化合物以及含竣基之聚合物的至少1種。 <10>如<9>所述之方法，其中，所述選自聚合性 11 201248332 • ^ «.λ. X 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日化合物以及含誠之聚合物的至少1#化合物於在顯使用時之處理液中的各含量’相斜於處理液之總量而言 0.01質量％〜20質量％。 <11>如<1>〜<1〇>中任—項所述之方法，1 中，所述感光性樹脂組成物包含：（Α)於侧鍵具有酸性^ 之樹脂、（Β)聚合性化合物以及（c)光聚合起始劑。 <12〉如<11；>所述之方法’其中，所述（a)於侧鍵具有酸性基之樹脂進-步包含：具有具分支及/或脂環结構之基的侧鏈，以及具有具乙馳不飽和基之基的側鍵。〇 <13> —種圖案，其藉由如中任一項所述之方法而形成。 ' <14> 一種彩色濾光片，其包含如<13>所述之圖案。 <15> 種衫像顯示裝置，其包含如< 14>所述之彩色濾光片。 [發明的效果] ，由本發明可提供—麵案形成方法，其是制於㉟〇時支稽體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層的感光性樹脂轉印材料’於基板上形成使用感光性樹脂組成物層之圖案的方法，即使於基板上存在由於先前圖案等所造成之I凸，亦可藉由簡易之顯影步驟，以較短之顯影時間而獲付無圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的使用感光性樹脂組成物之圖案，生產效率高。而且藉由本發明可提供一種藉由所述圖案形成方法 12 201248332 修正日期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本而形成之感光性樹脂組成物之圖案、包含該圖案之彩色濾光片及影像顯示裝置。一【實施方式】 /本發明之圖絲成方法是使㈣光性樹脂組成物的圖案形成方法，其依序包含如下步驟：將感光性樹脂轉印材料積層於基板上的步驟，上述感光性樹脂轉印材料於臨時 ^撐體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少1層感光性樹〇驗賴層；鱗或者瓣進行影像狀之曝紋臨時支擇體之剝離的步驟；以及於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由1種處理液進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由 1種處理液而進行所賴錄樹蘭之除去純光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。〜於本發明中，可藉由1種處理液而進行通常使用至少 2種或3種不同之處理液而分數錢行的顯影。首先，對進行如下操作時所使用之處理液加以說明：於感光性樹脂組成物為負型之情形時，進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性雛組成物層之未曝光部分之^ 去’或者於感光性樹脂組成物為正型之情形時，進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝分之除去。本發明中可使用之處理液可藉由i種處理液而進行孰塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝 13 201248332 修正曰期:1〇1年8月27日爲第1(^1116564號中文說明書無劃線修正本光部分（負型感光性樹脂組成物之情形）之除去、或者熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分（正型感光性樹脂組成物之情形）之除去，且若為可進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去、或熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的處理液’則處理液之種類、處理液中所含之成分可為任意者。於熱塑性樹脂層及感光性樹脂組成物層中可如後所述地使用具有酸成分者，因此作為處理液，可較佳地使用包含有機驗性化合物作為有機鹼成分之處理液、包含無機鹼性化合物作為無機驗成分之處理液、及包含該些之混合物之處理液。另外，較佳的是本發明中所使用之處理液包含陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑。本發明中之處理液中所含之有機鹼性化合物例如可列舉烧醇，（更佳的是三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺）；四甲基氫氧化銨（tetramethylammcmiiim hydroxide；)、& Eg & ，氫氧化銨等氫氧化四絲銨；4基胺、二絲胺、及單烧基胺等。該些化合物巾較佳的是三乙雜、二乙醇胺、及四甲基氫氧化銨。而且’無機鹼性化合物例如可列舉碳酸納、碳酸氣納、氫氧化鈉、及氫氧化鉀等。本，明中之處理液中所含之陰離子系界面活性劑並無、職疋地可為任意種陰離子系界面活性劑。例如可列^ 201248332ί ~r i. u I L/xxl 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期.⑻年&月27日脂肪酸鹽類、松香酸（abietic acid)鹽類、經基烧煙錯酸 (hydroxy alkane sulfonic acid)鹽類、烧烴續酸鹽類、二烧基續基號拍酸鹽類、直鍵炊基苯確酸鹽類、分支烧基苯磺酸鹽類、烷基萘磺酸鹽類、烷基二苯基醚磺酸鹽類、烧基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸鹽類、聚氧乙烯丙基續酸鹽類、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚鹽類、N-甲基-N-油基牛石黃酸鈉（sodium oleyl taurine)類、N-烷基磺基琥珀酸單醯胺二 0 鈉鹽類、石油續酸鹽類、硫睃化蓖麻油、硫酸化牛聊油、脂肪酸烷基酯之硫酸酯鹽類、烧基硫酸酯鹽類、聚氧乙稀烷基醚硫酸酯鹽類、脂肪族單甘油酯硫酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯鹽類、聚氧乙烯苯乙烯基苯基喊硫酸酯鹽類、烷基磷酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基醚磷酸醋鹽類、聚氧乙稀烧基苯基鍵麟酸醋鹽類、苯乙稀-馬來酸肝共聚物之部分鹼化物類、烯烴•馬來酸酐共聚物之部分鹼化物類、及萘磺酸鹽福馬林縮合物類等。該些陰離子系界面活性劑可單獨使用一種，且亦可將該些化合物之二種以上纟且合使〇用。、σ 該些陰離子系界面活性劑中特佳的是烷基萘續酸鹽類、烷基二苯基醚磺酸鹽類、直鏈烷基苯磺酸鹽類、及聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯鹽類等。硫酸酯鹽系界面活性劑例如可列舉高級醇硫酸醋鹽 (例如十二醇硫酸酯之鈉鹽、十八醇硫酸酯之鈉鹽、辛醇硫酸S旨之錢鹽、十二醇硫酸醋之銨鹽、硫酸燒基醋納等）、及甘油皁醋硫酸鹽（例如 15 201248332 .1 修正日期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 CH2(0C0R)CH(0H)CH2(0S03Na)[其中，R 為烷基]等）。而且，磺酸鹽系界面活性劑可列舉芳基磺酸鹽（例如十一烧基本％酸鈉鹽、異丙基奈續酸鈉鹽、二萘績酸納鹽、間硝基苯磺酸鈉鹽等）、烷基醯胺基磺酸鹽（例Π1'如等）、二鹽基脂肪族酯之確酸鹽（例如石黃基琥賴二辛軸、項基號_二己醋納等）、烧基萘績酸鹽之曱義合物（例士Q二丁基蔡墙 ❹ 合物等）、以及以苯并咪料酸驗金屬鹽為骨架ί化而且，填酸醋鹽系界面活性劑例如可列舉脂酉文酯鹽（例如鯨蠟醇磷酸酯之鈉鹽等）。两族醇科作為磺酸鹼金屬鹽系界面活性劑之舉下述化合物。社具_’例如可列

16 201248332 ~Γ 丄J / piil 修正日期:1〇丨年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 [化1] (S-1)

-11 sOjNa 侦1: e卜l a之烷基) 〇 (S-2)

SO^Na G (S-3)

17 201248332 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日 [化2]

(S-6) (S-7) P—CSH11 m：

18 201248332 •T i. ✓ / 修正日期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 [化3] (㈣)

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m S03Ka (m：0^8 ❹ R3 : H、kn之烷基、之烷氧基或羥基）本發明中所使用之處理液中所亦可包含之非離子系界面活性劑並無特別限定，可為任意非離子系界面活性劑。例如可列舉聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基苯基醚類、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚類、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基峻類、聚氧乙稀-聚氧丙稀散段聚合物類、甘油脂肪酸部分酯 (glycerin fatty acid partial ester )類、山梨醇酐脂肪酸部分醋（sorbitan fatty acid partial ester)類、季戊四醇脂肪酸部 19 201248332 修正日期:1〇1年8月27日爲第ΐίΐ 116564號中文說明書無劃線修正# 分酯類、丙二料脂肪_旨_ 氧乙烯山梨醇，肪酸部分_類、聚氧酸部分_、聚乙二醇脂肪酸_、聚甘油脂肪酸^分酉旨類、聚乳乙細化I麻油類、聚氧乙烯甘油脂肪酸部分醋類、脂肪酸二乙_類、n，N|2_錄錄義、聚氧乙稀烧基月女類、二乙醇胺脂肪酸s_、及三絲胺氧化物㈤卿 amine oxide )類等。

其中’較佳的是聚氧乙埽燒基苯基_、及聚氧乙婦_ 聚氧丙烯嵌段聚合物類等’特佳的是魏乙烯絲苯基醚類中之於烷基部位具有羥基者。該些非離子系界面活性劑可單獨使用一種，而且亦可將該些之兩種以上組合使用。

而且，作為有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑之較佳組合，例如可列舉二乙醇胺與碳酸鈉及碳酸氫納之組合、烧基萘橫酸鹽類與聚氧乙浠烷基苯基醚之組合、三乙醇胺與碳酸鈉及碳酸氫鈉之組合、及聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯鹽與聚氧乙烯烷基苯基瞇之組合等。本發明中所使用之處理液較佳的是包含有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑。該些各成分可單獨包含一種，亦可包含兩種以上。作為於顯影中使用時之處理液中的各成分之含量，較佳的是相對於處理液之總量而言，有機驗成分為〇·5質量 %〜15質量％、無機鹼成分為〇2質量％〜1〇質量％、陰 20 201248332 η· 1t inxl 爲第1 (H116564號中文說明書無畫jj線修正本修正曰期:1〇1年8月 27日離子系界面活性劑為質量％〜1〇質量％、及 ^ 界面活性劑為G.G1質量％〜2質量％之範園内 = =於處理液之總量而言，有機鹼成分為丨f量％〜=: 里。、無機鹼成分為0.5質量％〜5質量％、陰貝 :::丨”.2質量%〜5質量%、及非離子系；面活性:： υ.〇2質量％〜ι質量％。 |王別马〇變快右ΐίί成分為上述範圍内’則熱塑性樹脂層之溶解若為成物狀全體_科間變短。荷難ϋ 則效果難以飽和，顯影廢液處理之負若無顧成分為上述範_，誠光_脂之未曝光部（負型之情形）之溶解變快，、$曰較隹。甚Aln暂旦0/、 /合解艾㊉顯衫時間變短而光性朽ri 下’則分散於處理液巾而溶解的感而===所含的聚合性化合物等難以析出，從雖u產生捕出物再切著於基板上之問題。〇之圖ί=ίίΠ性劑為°，1質量%以上，則顯影後少;若為1〇_則内之基板搬送變;4;泡，由於泡之影響而使顯影裝置於非離子系界面活性劑為0 顯影後之圖案邊緣周邊之殘;杳變少^形時’ 產生液體渾濁而使顯影性溫度而異’但難以本毛种之處理液較佳的是包含：選自於感光 21 201248332 爲第10^6564號中文說明書無劃線修正本修正日期:丨01年8肋日性樹脂組成物之項中所述之聚合性化合物及包含羧基之聚合物的至少1種。藉由包含該些化合物，可減小處理液之變動，因此可容易地控制顯影時間等顯影條件，變得可容易地使所得之感光性樹脂組成物層圖案之尺寸、形狀為一定範圍内而較佳。選自聚合性化合物及包含羧基之聚合物的至少i種化合物於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言較佳的是〇·01質量％〜20質量％，更佳的是〇 0·1質量％〜10質量％。於本發明中，使用於臨時支撐體上包含熱塑性樹脂層與感光性樹脂組成物層之感光性樹脂轉印材料，於基板上形成感光性樹脂組成物層之圖案的方法中，將感光性樹脂轉印材料轉印於基板上進行曝光後，藉由i種處理液進行顯影處理而進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之潛影之顯影，從而形成圖案。亦即，使用同一組成之處理液進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物狀 ◎ 潛影之顯影。藉此，在由於先前圖案等而具有凹凸之基板上，藉由簡易之顯影步驟而以短的顯影時間獲得並益圖案缺陷、顯影殘渣、及異物之附著的感光性樹脂組成物層之圖案，因此可提供生產效率高的圖案形成方法。，是由於所述處理液包含有機鹼成分、無機鹼成分、陰離子系界面活性劑、及非離子系界面活性劑，因此由於該些成分之相乘效果而使上述效果變得顯著。 22 201248332 爲第iom mm號中文說明書無劃線修正本修正曰期:1〇1年8月27日表現該效果的機理尚不明確，推測如下。、處理液首先所接觸的熱塑性樹脂層由於無機及有機鹼成分而溶解，但一般情況下需要時間去溶解。然而，於本發明中’於部分性溶解之部分滲透有機鹼成分，、而促進熱塑性樹脂之溶解。陰離子系及非離子系界面活性劑辅助有機驗成分之滲透，促進有機驗成分之渗透，從而促進熱塑性，脂層之溶解。另一方面，無機驗成分之驗性比有機驗〇成分強，因此可使熱塑性樹脂迅速溶解。滲透至熱塑性樹脂，有機驗成分獲得陰離子系及非離子轉面活性劑、特別是陰離子系界面活性劑之辅助，渗透至感光性樹脂組成物層中，使感光性樹脂組成物膨潤而使其溶解。使胗潤之感光性樹脂組成物層與作為強驗之無機驗成分接觸Γ而使感光性樹脂組成物層溶解。陰離子系及非離子系界面活性劑、特別是非離子系界面活性劑使溶解之熱塑性樹脂及感光性樹脂組成物乳化，使溶解穩定化，從而防止再附著於〇基板上。認為正是藉由以上之機理而獲得效果。其次’對本發财的臨時支撐體、熱紐樹脂層、感光性，脂組成物層、及具有該些層之感光性樹脂轉印材料加以姻且對本發明之感光性樹脂組成物層圖案之形成 T法加以詳細說明’而進一步對具有所得之感光性樹脂組成物圖案的液晶顯示裝置加以詳細說明。 [臨時支撐體] 感光性樹脂轉印材料之臨時支撐體例如可使用日本專利第3800513號說明書之段落[〇〇16]中所記载之可挽性物 23 201248332 爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本修正日期，年8月27日質。具體而言’可列舉聚對苯二曱酸乙二酯（PET)、聚四氟乙烯（商品名為鐵氟龍（註冊商標）等）、及聚乙烯等作為例子。而且’該些臨時支撐體亦可視需要具有下塗層或抗靜電層。 [熱塑性樹脂層]

感光性樹脂轉印材料之臨時支撐體上所設之熱塑性樹脂層例如可使用曰本專利第38〇〇513號說明書之[〇〇19；|〜 [0022]中所§己載之構成的熱塑性樹脂層。熱塑性樹脂層之厚度較佳的是1 μιη以上，更佳的是3 μιη以上。若為1 μηι以上，則容易排除先前圖案之影響。於感光性樹脂轉印材料中，熱塑性樹脂層與後述之感光性樹脂組成物層之間亦可視需要而設置中間層。此種中間層例如可使用日本專利第3800513號說明書之[〇〇23]〜 [0024]中所記載之構成的中間層。

[感光性樹脂組成物層] 感光性樹脂組成物層可使用負型、正型之兩方的感光性樹脂組成物層。正型感光性概組成物層例如可使用日本專利特 7_43899號公報等巾所記載之驗可溶性祕清漆樹脂系。而且，例如亦可制日本專觸開平6]侧日本開平5_26285G號公報中所記載之組成物。作為負型感光性樹脂組成物層，雖輯細於後述，但 24 201248332 I i 〆 J f 1 爲第1〇U16564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:1〇1年8月27日例如可使用日本專利特開2〇〇4 ^的負型感光性樹脂組成•該些中所== 樹脂組成物層包含著色劑，但於本發明中，不 =顏料錢料的剌之感紐樹餘成_亦可同樣地而且’較佳的是於感光性樹脂組成物層〇，，以保護其免受保管時之污染或損失。保護支顧相同或類似之材料，但必須容易自感光性樹月曰組成物層上分離。保濩膜之材質例如可列舉矽酮薄板、聚烯烴膜、及四氟乙烯薄板等。、♦ 以下’對感光性樹脂轉印材料中之感光性樹脂組成物層戶斤較佳地使用的負型感光性樹脂組成物之例子力口以說明0 負型感光性樹脂組成物例如包含（A)於侧鏈具有酸性基之樹脂、（B)聚合性化合物、及（C)光聚合起始劑，亦可進一步根據需要而包含其他成分。 (A)於侧鏈具有酸性基之樹脂感光性樹脂組成物亦可含有（A)於侧鏈具有酸性基之樹脂[以下適宜稱為（A)特定樹脂]。 (A)特定樹脂若為於側鏈具有酸性基者，則並無特別限制，較佳的是除了具有酸性基Y (y mol%)之侧鏈以外’進一步含有：具有具分支及/或脂環結構之基X (x ^101%)的側鏈、及/或具有具乙烯性不飽和基之基Z (Z 25 201248332 X丄修正日期:⑼年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修 m〇1%)的側鏈。亦可視需要而具有其他基“ 而且，亦可組合多個X、Y及z而包含於 ^ 中之一個基中。行疋樹月曰所述酸性基並無特別限制，可自公知之酸性基選擇，例如可列舉叛基、續酸基、續酿胺基、鱗酸基酚性羥基等。自顯影性、及硬化膜之耐水性優異之$面慮，该些酸性基中較佳的是緩基或紛性經基。

用以於所述（Α)特定樹脂之側鏈導入酸性基之單體 (具有酸性基之單體）並無特別限制，例如可列舉於苯乙烯類、（曱基)丙烯酸酯類、乙烯醚類、乙烯酯類、及（甲基) 丙烯醯胺類等中導入有上述羧基等酸性基而成者。該些"中較佳的是於（曱基）丙烯酸酯類、乙烯酯類、及（甲基)丙&醯胺類中導入有酸性基而成者，更佳的是於（甲基）丙烯酸酯類中導入酸性基而成者。

另外’於本說明書中’於指代「丙烯醯基」及「曱基丙烯酿基」之兩方或者任意者之情形時，記述為「（曱基) 丙烯醯基」’於指代「丙烯酸酯」及「曱基丙烯酸酯」之兩方或任意者之情形時，記述為「（曱基)丙烯酸酯」。所述具有酸性基之單體可自公知之具有酸性基之單體中適宜選擇。其具體例可列舉（曱基）丙烯酸、乙烯基苯曱酸、馬來酸、馬來酸單烷基酯、富馬酸、伊康酸、巴豆酸、肉桂酸、己二烯酸、α-氰基肉桂酸、丙烯酸二聚物、具有羥基之單體與環狀酸酐之加成反應物、及ω-羧基-聚己内酯單（曱基)丙烯酸酯等。該些化合物可使用適宜製造者， 26 201248332 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:i〇i年8月27日亦可使用市售品。於所述具有羥基之單體與環狀酸酐之加成反應物中所使用之具有羥基之單體例如可列舉（曱基）丙烯酸_2_羥基乙酯等。所述環狀酸酐例如可列舉馬來酸酐、鄰苯二曱酸酐、及環己二曱酸酐（cyclohexanedicarboxylic anhydride)等。於顯影性優異、低成本之方面而言，該些化合物中較佳的是（曱基)丙烯酸等。 ❹ 作為（A)特定樹脂中之具有酸性基之單體的導入量，相對於（A)特定樹脂之合成中所使用之所有單體而言，較佳的是5 mol%〜70 mol%，更佳的是1〇 m〇i〇/。〜60 mol%，特佳的是2〇 m〇i%〜5〇 m〇i%。若具有酸性基之單體於（A)特定樹脂中之導入量為所述範圍内，則獲得良好之硬化性、顯影性。而且，（A)特定樹脂之酸值的較佳範圍因可採用之分子結構而變動’ 一般情況下較佳的是20 mgKOH/g以上，更佳的是50 mgKOH/g以上，特佳的是7〇 mgK〇H/g〜13〇 mgKOH/g。若酸值為所述較佳之範圍内，則獲得絕緣性、透明性、耐水性、耐鹼性、耐酸性優異之絕緣層及保護層。因此，以酸值成為上述範圍内之方式而決定（A)特定樹脂中之具有酸性基的單體之導入量即可.。而且，（A)特定樹脂可如上所述地進一步於侧鏈具有具分支及/或脂環結構之基、及/或乙烯性不飽和基。亦即，自改善所形成之樹脂圖案之絕緣性、透明性、耐水性、耐鹼性及耐酸性，減低顯影殘渣、以及防止產生 27 201248332 爲第ΙΟ〗〗〗6564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日網狀組織（reticulation)之觀點考慮，本發明中之（A)特定樹脂較佳的是分別於不同之聚合單元中具有所述具分支及/或脂環結構之基X (X mol%)、具酸性基之基γ (y mol%)、具乙烯性不飽和基之基z (z m〇i%)的至少3元共聚以上之共聚物。具體而言，（A)特定樹脂較佳的是使具有所述X之單體、具有所述γ之單體、具有所述z之單體之各個至少各1種共聚而成的共聚物。以下，對具分支及/或脂環結構之基加以說明。

具分支之基例如可列舉碳原子數為3個〜12個之分支狀烧基。具體而言，例如可列舉異丙基、異丁基、第二丁基、第二丁基、異戊基、新戊基、2_曱基丁基、異己基、 K基己基、2_甲基己基、異戊基、第三戊基' 3、_辛^、及第三辛基等。該些巾較佳的是異丙基、第二丁基三丁基:及異戊鱗，更佳的是異丙基、第二Τ基、及第三丁基等。一具脂環結叙基例如可贿碳原子數為5個

體例，例如可列舉環戊I: 土一王衣戊基、二環戊烯基、及二A A =的是，、降冰片基、異 0rP 二一墩戊烯基、及三環戊基等，更佳的是极己基、降冰片基、異冰絲、及三環戊=更佳的舉苯結構之基的單體例如可列土)丙埽酸酯類、乙烯醚類、乙烯酯類、 28 201248332 -r i / ^Ί-L X 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:1〇1年8月27日及（甲基)丙烯醯胺類等。該些單體令較佳的是（甲基)丙稀酸酯類、乙烯酯類、及（曱基）丙烯醯胺類，更佳的是（曱基）丙烯酸酯類。 1 3有所述具为支結構之基的單體之具體例可列舉（曱基）丙烯酸異丙酯、（曱基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸第二丁酯、（曱基）丙烯酸第三丁酯、（甲基）丙烯酸異戊酯、（甲基）丙烯酸第二戊酯、（甲基)丙烯酸異戊酯、（曱基)丙烯酸〇 _2_辛酯、（曱基）丙烯酸辛酯、及（甲基）丙烯酸第三辛酯等。該些單體中較佳的是（曱基)丙烯酸異丙酯、（甲基)丙烯酸異丁酯、及甲基丙烯酸第三丁酯等，更佳的是甲基丙烯酸異丙酯、及甲基丙烯酸第三丁酯等。其-人，作為含有所述具脂環結構之基的單體之具體例’例如可列舉具有碳原子數為5個〜2〇個之脂環族烴基的（曱基)丙烯酸醋。具體例可列舉（曱基)丙烯酸(雙環[2 21] 庚烷-2-基)酯、（曱基)丙烯酸_1_金剛烷基酯、（曱基)丙烯酸金剛烷基酯、（甲基）丙烯酸曱基-1-金剛烷基酯、（甲 ◎ 基)丙烯酸_3,5-二曱基-1-金剛烷基酯、（甲基)丙烯酸·3·乙基金剛烷基酯、（曱基)丙烯酸-3-甲基-5·乙基-1_金剛烷基酯t (曱基）丙烯酸-3,5,8-三乙基-1-金剛烷基酯、（甲基）丙婦酸 _3,5-二曱基-8-乙基-1-金剛烧基酯、（曱基）丙烯酸_2_曱基金剛烧基酯、（曱基）丙烯酸-2-乙基-2-金剛烧基酯、（曱基) 丙稀酸-3-經基-1-金剛烧基g旨、（甲基)丙稀酸八氫_4,7_甲橋茚-5-基酯、（甲基)丙烯酸八氫_4,7-曱橋茚-1 _基曱酯、（曱基) 丙烯酸三環癸基酯、（曱基）丙烯酸羥基-2,6,6-三甲基雙 29 201248332 ----r—l 修正日期:1〇丨年8月27日爲第丨01116564號中文說明書無劃線修正本環[3丄1]庚基酯、（甲基）丙烯酸_3,7,7-三甲基-4-羥基雙環 [4.1.0]庚基醋、（甲基)丙烯酸(降)冰片基酯、（甲基)丙烯酸異冰片基醋、（甲基)丙婦酸苯乙醋、（甲基)丙稀酸_2,2,5_三甲基環己酯、及（甲基)丙烯酸環己黯等。

該些（甲基）丙烯酸酯中較佳的是（甲基）丙烯酸環己醋、（甲基)丙稀酸(降)冰片基醋、（甲基)丙烯酸異冰片基醋、（甲基)丙烯酸-1-金剛烧基醋、（曱基)丙稀酸_2_金剛烧 ^醋、（曱基)丙稀酸苯乙g旨、及（甲基)丙婦酸三環癸基醋 :’特佳的是（甲基)丙烯酸環己g旨、（曱基)丙婦酸(降)冰片 =旨、（甲基)丙烯酸異冰片基酿、及（甲基)丙稀酸_2_金剛烧基醋。 ! ^Λ(Α)特定細旨之㈣各成分之共聚組成比可考慮玻鄉移溫度舰值科定H㈣論，祀 ^ (Α)特定樹脂之合成中所使用之所有單體而言，（Α、 5樹脂k具分支及/或脂_構的賴紹

ΐ佳的是2G祕〜⑼祕。若具分支蝴 =的為所述範圍内，則獲得良好之顯影性H 像部之耐顯影液性亦良好。 ' ㈣佳的是㈣輯基、磁、%1 於侧鍵導4職不姊^方自選擇，例何解：料械性基之化合物^法中適 30 201248332 修正曰期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本甲基丙烯酸、乙烯基苯〒酸、馬來酸、馬來酸單烷基醋、富馬酸、伊康酸、巴豆酸、肉桂酸、己二烯酸、α_氰基肉桂酸等）上加成具有環氧基之（甲基)丙烯酸酯的方法t於具有羥基之化合物（例如甲基丙烯酸_2_羥基乙酯、丙烯酸 -2-羥基乙酯等）上加成具有異氰酸酯基之（甲基)丙烯酸酯之方法、及於具有異氰酸酯基之化合物上加成具有經基之 (曱基）丙烯酸酯的方法等。 & 〇〇其中，於敢容易製造、成本低之方面而言，較佳的是於具有酸性基之重複單元上加成具有環氧基之（曱基) 酸醋的方法。具有乙稀性不飽和鍵及環氧基之（甲基)_酸醋具有該些者則並無特別限制。所述⑷特定樹脂中之具有乙烯性不飽和基的單體之導入量相對於（A)特定樹脂中之所有單體而言較佳的是10 mol%〜70 mol%，更佳的是2〇 _%〜7〇 _% 佳的是30m〇1%〜70mol%。若具有乙稀性不飽和基體之導入量為所述範圍内’則顯影性及硬化性亦良好。於⑷特定樹脂中，除了所述3種 ^具有X之單體的重複單元、源自所述重複單元、源自所述具有Z之單體物复單元)以:體可包含源自其他單體之重複單元。卜 β '、限制，例如可列舉不具分支及/戈二早體並無特別嘴、苯乙稀、乙_^構之㈣)丙稀酸义酐、乙稀酯、歸煙等。所遂乙_並無特別限制，例如可列舉丁基乙歸基鍵 20124833¾ 爲第ώ 116564號中文說明書無劃線修修正日期:1〇1年8月27日等伊元親無特別限制，例如可列舉馬來酸酐、所述乙烯酿並無特別_ 婦等所述婦煙並無特別限制，例如可_丁 ^異戍二相對於（A)特定樹脂之合成中所使用之所有單 m〇1%〜30mol%，更佳的日之f他早體之導入量較佳的是〇 ...,A w± 的疋〇 mol%〜20 m〇i%。姓问為）特定樹脂之具體例，例如可列舉日本專刺 ::—㈣號公報之段 = =P:: 一简示之丄作··單體之⑷脂可由如下之兩個階段之步驟而製而進：，可、丄可藉由各種單體之⑻ 如，關於聚合:活性種=公知之單體中適宜選擇。例聚合、陰離子聚合、擇陽離子之方；二+ 一-位荨。自合成谷易、成本低擇。例如可適宜選==八自公知之聚合方法中適宜選法、人?鬼肖聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合 =液聚合法等。該些中更佳的是溶液聚合法。分子a特定樹脂而適宜之所述共聚物的重量平均子讀佳的是1G，_〜10萬，更佳的是12，_〜6萬^ 201248332 • Λ ^ / ^ΤΜ,Λ. X 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日特佳的是15,〇〇〇〜4.5萬。若重量平均分子量為10,000以上，則樹脂之強度變大，絕緣層及保護層變得難以凝聚破壞。而且，顯影速度並不過於變快，樹脂圖案變得難以自基板上脫落。若重量平均分子量為10萬以下，則顯影殘渣變少而較佳。 (A)特定樹脂之玻璃轉移溫度（Tg)較佳的是40°C 〜180°C，更佳的是45°C〜140°C，特佳的是50°C〜130°C。 0 若玻璃轉移溫度（Tg)為所述較佳之範圍内，則可獲得良好之絕緣性、透明性、耐水性、耐鹼性、耐酸性優異之絕緣層及保護層。於獲得良好之絕緣性、透明性、耐水性、耐驗性、财酸性優異之絕緣層及保護層之方面而言，較佳的是所述 (A)特定樹脂之玻璃轉移溫度（Tg)為4〇^〜i8〇°c，且重量平均分子量為10,000〜100,000。另外，所述（A)特定樹脂更佳的是其分子量、玻璃轉移溫度（Tg)、及酸值之任意者均為所述較佳之範圍内的樹脂。所述（A)特定樹脂之含量相對於所述感光性樹脂組成物之所有固形物而言較佳的是5質量0/〇〜7〇質量％，更佳的是10質量％〜50質量％。另外，此處所謂所有固形物是指於感光性樹脂組成物中除去溶劑之其他成分的合計量。感光性樹脂組成物除了（A)特定樹脂以外，亦可於不損及本發明之效果的範圍内包含於側鏈具有酸性基之樹 33 201248332 ▲ L 爲第10U16564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:丨〇1年8月27日脂以外之樹脂（其他樹脂）。於含有其他樹脂之情形時，其含量相對於（A)特定樹脂之含量1〇〇質量份而言較佳的是30質量份以下，自效果之觀點考慮，更佳的是僅僅包含 (A)特定樹脂作為樹脂之態樣。 (B)聚合性化合物感光性樹脂組成物較佳的是包含下述通式（bl)所表示之聚合性化合物。感光性樹脂組成物亦可包含結構與該些化合物不同之其他聚合性化合物。〇 (X-0-CH2)3-C-0-C(CH2-0-X)3· · · (bl) (於所述通式（bl)中，X表示氫原子或 H2〇=C(R)-C(0)-。多個存在之X可相互相同亦可不同。其中’於一分子中之X中，至少4個表示H2C=C(R)-C(0)-。 R表示氫原子或碳數為1〜4之烴基。） [以通式（bl)而表示之聚合性化合物] 以通式（bl)而表示之聚合性化合物中的X表示氫原〇子或H2C=C(R)-C(〇)- ’於一分子聚合性化合物中所含之 22〇C(R)-C(〇)-為4個以上。更佳的是5個以上，最佳的疋5.5個及6個。另外’存在以平均值表示該數之情形，例如’於一分子中包含5個H2OC(R)-C(0)-之聚合性化合，與一分子中包含6個H2C=C⑻-C(O)·之聚合性化合物的等1混合物成為於一分子中包含5 5個H2C=c(R) c(〇)之聚合性化合物。 34 201248332 * Λ. / 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 ^正曰期:101年8月27日而且，R為氫原子或者甲基等碳數為4以下之低級烴基。R更佳的是氫原子或甲基等碳數為2以下之低級烴基’最佳的是氫原子或甲基。一分子中所含之 H2C=C(R)-C(0)-中之多個r可相互相同亦可不同，於合成適合性上而言較佳的是相同。以通式（bl)所表示之聚合性化合物具體而言例如可列舉二季戊四醇四曱基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯 0 酸酯、一季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酉曰、一季戊四醇五丙婦酸醋、二季戊四醇六丙烯酸醋及該些之混合物。其中更佳的是二季戊四醇五曱基丙烯酸酯、二季戊四醇六曱基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙稀酸自旨及該些之混合物。 -其他聚合性化合物- 感光性樹脂組成物亦可包含結構與所述以通式（bl) 而表示之聚合性化合物不同的其他聚合性化合物。此處，〇其他聚合性化合物例如可列舉日本專利特開2006_23696 號公報之段落編號[0011]中所記載之成分、或日本專利特開2006-64921號公報之段落編號[〇〇4〇]〜段落編號[0049] 中所記載之成分中的不包含於所述以通式（bl)而表示之聚合性化合物中者。此種聚合性化合物例如可列舉於分子中具有至少i個可加成聚合之乙烯性不飽和基，且沸點於常壓下為以上之化合物。 35 201248332 X l 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期年g月π日作為具體例’例如可列舉聚乙二醇單（曱基）丙烯酸醋、聚丙二醇單（甲基)丙烯酸酯及（甲基)丙烯酸苯氧基乙酉旨等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二（甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三（曱基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烧二（甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、己二醇二（曱基）丙烯酸酯、三經甲基丙炫二（丙稀醯氧基丙基)謎、異氰尿酸三（丙烯酿氣基乙基)酯、氰尿酸三（丙烯醯氧基乙基)酯、甘油三（甲基）〇丙烯酸酯；及於三羥甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成^ 氧乙烷或環氧丙烷之後（甲基）丙烯酸酯化而成者等多官能丙稀酸酯或多官能甲基丙烯酸酯等。而且，亦可使用市售品，例如（甲基）丙烯酸胺基甲酸酯可列舉新中村化學工業股份有限公司製造之U 6HA、 U-6LPA、UA_ll〇〇H、UA-53H、UA-33H、U-200PA、 UA-4200、UA-7100、UA-32P 及 UA-7200(以上為商品名）。於與所述（A)特定樹脂之關係中，較佳的是感光性 ❹ 樹脂組成物中所含之聚合性化合物之總量相對於（A)特定樹脂之含量的質量比率[聚合性化合物之總含量/(A)之含量]為0.45〜1.6。於將感光性樹脂組成物塗佈於玻璃基板等最終基板上而形成圖案之情形時，[聚合性化合物之總含量/ (A)之含量]更佳的是0.5〜1.2，特佳的是〇.55〜0.9。若[聚合性化合物之總含量/(A)之含量]比為上述範圍内，則可適宜地 36 201248332 .一一· x—1 修正曰期:101年8月27日爲第1〇111挪4號中文說明書無劃線修正本，持顯影速度，抑制顯影殘渣之增加，且難以產生圖案缺損或圖案脫落，即使於15〇。〇以下進行供烤之情形時，所形成之樹脂圖案與基板之密接亦變良好。 (C)光聚合起始劑感光性樹脂組成物含有（C)光聚合起始劑。（C)光聚合起始劑可使用公知之化合物。較佳之起始劑例如可列舉三嗪衍生物、嗔二唾衍生物、肪系起始劑、苯乙嗣系起〇始劑、二茂鈦系起始劑、及醯基膦氧化物系起始劑等。具體而言，例如可列舉日本專利特開2006 23 696號公報之段落編號[0012]〜段落編號[0013]中所記載之成分:或曰本專利特開2006-64921號公報之段落編號[〇〇5〇]〜段落編號[0053]中所記載之成分。可於本發明中使用之較佳之（c)光聚合起始劑例如可列舉2-三氯曱基-5-(對苯乙烯基曱基从认噪二唾、2,4_ 雙(二氣曱基)-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基曱基)_3_溴苯基]-均二嘹、7]2_[4_(3_經基甲基-N-派咬基)各二乙基胺基]三嗪〇基胺基}-3_苯基香豆素、12-二曱氧基-^—二苯基乙烷酮、1-羥基環己基苯基酮、2_羥基_2_甲基—丨_苯基丙烷β1_ 酮、1-[4-(2-經基乙氧基)苯基]_2_羥基_2_甲基丙烧小酮、2_ 羥基-1-{4-[4-(2·羥基-2_甲基丙醯基)苄基]苯基卜2_甲基丙烷-1-酮、2-曱基小[4_(甲硫基）苯基]__2·Ν_嗎啉基丙烷小酮、2_苄基_2_(二曱基胺基M-(4-N-嗎淋基苯基）丁烧酮、2仁甲基胺基)_2_[(4_甲基苯基)甲基卜冲⑷嗎啉基) 苯基]丁烷-1-酮、2,4,6-三曱基苯曱醯基二苯基氧化膦、雙 37 201248332 A ι 修正日期:丨〇丨年8月27日爲第101116564號中文說明書無畫([線修正本卩/力-三甲基苯甲醯^苯基氧化鱗^^二心環戊二婦基) 雙[2,6_二氟_3_(lH-吡咯-ι-基)苯基]鈦、丨·!^(苯硫基）苯基]-1，2-辛二酿I 2-(〇-苯甲醯月亏）、ι_[9_乙基_6-(2-甲基苯甲酸基)-9H-咔唑-3-基]乙酮_〇_乙醯肟、及氧基苯乙酸_2_[2_ 侧氧基-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙酯與氧基苯乙酸_2_(2-羥基乙氧基）乙醋之混合物等。其中，特佳的是2-三氯甲基_5_(對苯乙烯基甲基H，3,4-嗔二嗤、2,4_雙(三氯甲基)_6_[4_(n，N-二乙氧基羰

基甲基)-3-溴苯基]-均三嗪、7_{2_[4_(3羥基曱基—N-哌啶基)-6-二基胺基]三嗪基胺基}_3_苯基香豆素、2，：二曱氧基-1，2-二苯基乙烷酮、丨_羥基環己基苯基酮、2_羥基-2_ 甲基_1-苯基丙燒小酮、H4-(2邊乙氧基)苯基]_2_羥基_2_ 甲基丙烧小酮、2-甲基小[4_(甲硫基)苯基]_2_Ν嗎啉基丙烧1嗣、2-节基-2-(二甲基胺基)嗎琳基苯基)丁烧小綱、2-(二曱基胺基)_2_[(4_曱基苯基）甲基]小Μ4嗎啉基)苯基]丁烧小_、H4_(苯硫基)苯基H，2-辛二酮2-(0-

本曱醯肪）、H9-乙基冬(2_甲基苯曱醯基) 9Η_π卡唾_3_基] =㈣-乙醯將、及氧基苯乙酸_2_[2_側氧基_2_苯基乙醯氧二乙乳基]乙醋與氧基苯乙酸_2_㈣乙氧基）乙醋之混合物’但並不限定於此。所述（C)光聚合起始劑之含量相對於⑻聚合性化、。各篁的匕率[(C)/(B)]較佳的是 0.6以上且不為於上ϊ=^·75以上3以下。絲率[(〇 /⑻] "、、、 & 則可抑制感光性樹脂組成物圖案之脫 38 201248332 \ Λ. ^ ^ t 修正日期:101年8月27 爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本落、導電層舉離（lift-off)時之耐鹼性之降低，且可抑制顯影殘渣之惡化、或者圖案曝光之後的密接惡化，即使於 15 0 C以下進行烘烤時’亦可良好地維持感光性樹脂組成物圖案與基板之密接。 -其他成分- 感光性樹脂組成物除了上述（A)成分〜（C)成分以〇外，可在不損及本發明之絲職_視需要使用公知之添加劑等而作為其他成分。其他成分例如可列舉有機溶劑（例如乙酸小甲氧基_2_ 丙醋、1-曱氧基丙醇、乙酸1乙氧基乙醋、環己嗣等），顏料、染料㈣色#卜_分散劑、增㈣、界面活性劑、聚合抑制劑、密接劑、交聯劑等。而且作為其他成 >，例如可列舉日本專利特開 2獅_^3696紅報之段落編號陳2]〜段、落編號[0020]中 ms分、或日本專利特開2〇〇6_64921號公報之段落編说[0050]〜段落編號[〇〇53]中所記載之成分。 <感光性樹脂轉印材料> ^光性樹脂轉印㈣於_支撐體上包含至少【雜塑性^脂層與至少1層感紐樹脂組成物層。般情可視需要而適宜選擇’- 』疋如後达那樣為〇·7 μιη〜3·〇 μιη之範圍 f J 组成物性樹脂轉印材料之情形時，於感光性樹脂組成物層與臨時支擔興文塚體之間，除了用以提高轉印性的具有 39 201248332 修正曰期:1〇1年8月27曰爲第101116564號中文說明書無劃線修正本緩衝性之如述熱塑性樹脂層以外，亦可進一步設置隔氧層 (以下亦稱為「隔氧膜」或「中間層」）。藉此，可提高曝光感光度。熱塑性樹脂層亦可兼作隔氧層。關於形成該感光性樹脂轉印材料之臨時支撐體、熱塑性樹脂層、隔氧層、感光性樹脂組成物層、其他層或該感光性樹脂轉印材料之製作方法，例如可使用日本專利特開 2006-23696號公報之段落編號[〇〇29]〜段落編號[〇〇3〇]中所記載之方法。

<使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法> 其次，對本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法加以說明。

本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法是依序包含如下步驟之方法：將前述感光性樹脂轉印材料積層於基板上之轉；依序或者辦進行f彡像狀之曝光及臨時支撐體之獅的步驟；以及於所贼紐旨組成物為負型之情形時，藉由1種處理液進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由1種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。、而且，上述方法亦可包含對藉由顯影而所得之圖案狀感光性樹脂組成物層進行加熱的加熱步驟。藉由本發明之使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法’可容易地製造絕緣性、透職、顯影性、耐驗性等耐 40 201248332 • Α ^ A 1 爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本修正日期謂年8月2 受性優異之用於觸控面板元件中的絕緣層及保護層等脂圖案。 3，封 [感光性樹脂轉印材料之積層] 本發明之圖案形成方法中的感光性樹脂轉印材料之積層方法例如較佳的是於成為支撐體之基板上，藉由轉印法積層於臨時支撐體上包含至少丨層熱塑性樹脂層與至少1 層感光性樹脂組成物層之感光性樹脂轉印材料的方法。 ο 藉由加熱及/或加壓之輥或平板將所述感光性樹脂印材料壓接或加熱壓接於基板上而將其貼合後，剝離臨時支撐體而將感光性樹脂組成物層轉印於基板上。積層機 (laminator)及積層方法具體而言，例如可列舉日^ 特開平7-11〇575號公報、日本專利特開平叫胸號公報、日本專利特開2000_334836號公報、及日本專利特^ 2002-M8794號公報中所記載者。於異物少之觀點考慮，〇較佳的是使用日本專利特開平7_11〇575號公報中所記載之方法。感光性樹脂組成物層之膜厚較佳的是〇7 ^ ’更佳的是0.9 μιη〜2，。若膜厚為上述範圍内，則可卩制如下現象：於形成感光性樹脂組成物層時產生針孔、 =烤後之密接降低、㈣殘輯加，從而件下形成良好之感光性樹脂組成物之圖案。之^條 [基板] 形成感光性樹脂組成物層之& (例如玻璃基板或轉餘）、附有_導電3m 201248332 修正日期:1〇1年8月27日爲第ώ 116564號中文說明書無劃線膜）之基板、附有彩色濾光片之基板（亦稱為彩色濾光片基板）、及附有驅動元件（例如薄膜電晶體[Τ]ρΤ])之驅動基板等。而且’基板例如亦可列舉可撓性之矽基板及聚碳酸酯、聚酯、芳香族聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等之塑膠基板等。較佳的是塑膠基板於其表面具有阻氣層及/ 或耐溶劑性層。基板之厚度一般較佳的是7〇〇 μιη〜12〇〇 μιη。 Ο 而且，於使用塑膠基板等可撓性支撐體作為基板之情形時，基板亦可為裁斷為一定大小的薄板狀基板，但較佳的是連續搬送之網狀基板。 [曝光] 對包含如上所述而轉印於基板上層及熱塑性樹脂層之基板實施影像狀之曝光。成物可於曝光前進行與臨時支撐體之剝離進行與臨時支撐體之_。 &曝先後〇於影像狀之曝光中’介隔規定之光罩光，形成潛影。於曝光時所使用m ^進仃曝各種雷射光，特佳的是線、於形成液晶顯示裝置用彩色遽光片時紫外線。式曝光機、或鏡面投料光機而進行㈤^由近接 =光。而且，藉由利用雷射之掃插而形成潛影^方^ =，其他曝光光源可使用超高屢墨之各水銀燈，化學燈、碳弧燈中屋、低山1花/且、金鹵燈、各種 42 201248332 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:1〇1年8月27日雷射光源等。曝光裝置並無特別限制，例如市售之曝光裝置可使用 Callisto ( V Technology Co” Ltd，製造）或 EGIS ( V Technology Co.，Ltd.製造）或DF2200G (大日本網屏股份有限公司製造）等。而且亦可適宜使用上述以外之裝置。 _使用雷射光源之曝光步驟- 於使用雷射光源之曝光方式中，照射光較佳的是波長〇為300 nm〜410 nm之範圍的紫外光雷射，更佳的是波長為300 nm〜360 nm之範圍的紫外光雷射。具體而言，特別是可適宜使用輸出功率大、比較廉價之固體雷射之Nd : YAG雷射之第三諧波（355 nm)或準分子雷射之XeC1(；3〇8 nm)、XeF (353 nm)。自生產性之觀點考慮，圖案曝光量較佳的是1 mJ/cm2〜1〇〇 mJ/cm2之範圍内，更佳的是1 mJ/cm2〜50 mJ/cm2之範圍内。 [顯影處理] 於本發明之圖案形成方法中，使用1種處理液對具有〇熱塑性樹脂層與形成潛影之感光性樹脂組成物層的基板進行顯影’進行熱塑性樹脂層之除去與感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去（負型之情形）、或熱塑性樹脂層之除去與曝光部分之除去（正型之情形）。於該步驟中，較佳的是使用於搬送所述基板之搬送機構上具有多個噴淋管嘴之噴淋型處理槽。而且，亦可併用浸潰於處理液槽中之方法、或使基板振盪之方法、及/或賦予超聲波振動之方法等。 43 201248332 修正日斯丨01年8月27日爲第1 (Τι 116564號中文說明書無劃線修正本也二處^V，1種處理液」，於感光性樹脂組成物為負i之I#形時，疋指糟由同一組成之處理液而進行執塑 ❹ 性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去，·或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時’是指藉由同-組成之處理液而進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去。可柯同之處理健（浴槽）巾進行主要㈣除去熱塑性樹月曰層之處理、主要於感紐樹脂組成物為負型之情形時用以除去曝光後的感紐樹脂組成物層之未曝光部分之處理或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時用以除去曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之處理。顯影處理之時間較佳的是10秒〜200秒，更佳秒〜150秒’進一步更佳的是10秒〜議秒。而且，所處理之基板之形狀較佳的是連續搬送之網狀。基板亦可為經裁斷之薄板狀基板，於此情形時對每i 牧基板進行顯影處理即可。 ❹ [加熱步驟] 藉由上述步驟而獲得圖案狀之感光性樹脂組成物層。此處丄為了提高圖案之強度及與基板之密接性’較佳的是對所彳于之圖案狀感光性樹脂組成物層進行加熱。加熱方法可使用如下方法：使用對流供箱（convection η)之加熱、使用加熱板之加熱、紅外線加熱等任意方法。加熱條件可鑒於所使用之基板的耐熱性而適宜選擇， 44 Jl 201248332 修正日期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本於使用玻璃作為基板之情形時，加熱溫度較佳的是15〇。匸〜250°C之範圍内，於使用塑膠基板之情形時，加熱溫度較佳的是100°C〜200°c之範圍内。加熱處理時間較佳的是1〇分鐘〜60分鐘。

如上所述形成感光性樹脂組成物圖案的本發明之圖案形成方法可用作觸控面板元件之絕緣層或保護層等之形成方法，或者用作液晶顯示裝置等影像顯示裝置之彩色濾片之遮光層、著色晝素或光間隔件等之形成方法。以下，對觸控面板元件、液晶顯示裝置等加以敍述。 <觸控面板元件> 使用形成有圖案之絕緣層及於其上積層之形成有圖案之保護層_控面板树之製作，例如可藉由以下之方式，進行。例如’可於觸控面板用透明基板（例如玻璃基板 ^塑朦基板、於背面具有薄膜電晶體[TFT]之基板）上形成導電性層®案（金屬及ΙΊΌ等），進—步形成絕緣層進步形成第二導電性圖案而形成電容11，繼而形呆叹層（所述保濩層形成有圖案）而製作觸控面板元件。具體而言，可如下所述地依序形成各圖案。〜第一導電性層圖案〜第^電生層圖案开;成方法例如可列舉如下2種方鑛等爛之導紐層_之軸方法。藉由蒸二劑層膜金屬層或1Τ〇層之後，使用具有材枓而積層抗蝕劑層。繼而，對抗蝕劑層 45 201248332 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本日期:101年8月27日進行曝光，藉由本發明之圖案形成方法安„ ^丁顯影而形成圖另一種是利用舉離之導電性層圖案之形具有抗蝕劑層之轉印材料而使抗蝕劑層積^ ^。使用而，對抗_層進行曝光，藉由本發明之。ς^、、。繼行顯影而形賴案。較麵是該圖案之形狀為^法進 j 4?*Srr CSe* Γ5.Ι ^ ίΛ * 於使用本發明之圖案形成方法而形成有圖案之基板上，對感光性樹脂轉印材料進行形成感光性樹脂層之後，進行曝光、顯影、緣層圖案。第—導電性層加熱、壓接而烘烤而形成絕

〜第二導電性層圖案〜第二導電性層圖案可藉由與上述第一導電性形成方法同樣的方法—成於形成有絕緣層^之基上。土〜保護層〜保護層可藉由與上述絕緣層圖案之形成方法同樣的方法而形成於形成有第二導電性層圖案之基板上。〈液晶顯示裝置用基板> 液晶顯示裝置用基板較佳的是包含黑色遮蔽部及著色部以及光間隔件者。光間隔件較佳的是形成於支撐體上所形成之黑色矩陣等黑色遮光部之上、及/或TFT等驅動元件上而且，於黑色矩陣等黑色遮光部與光間隔件之間、及/或TFT等驅動元件與光間隔件之間，亦可存在有订〇

46 201248332 τ 1 J / ριιΤ. 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:丨01年8月27日等透月^電層（，透明電極）或㈣亞胺等液晶配向膜。〇夕，⑽±於將光間隔件設於顯相遮光部祕動元件之上支上預可/s由使用本發明之圖案形成絲，以覆蓋該 t· \> 先又之顯示用遮先部（黑色矩陣（black TFT购元件的方式，減綠樹脂轉印層積層於支撐體面上，於進行剝離轉印而 ==樹脂組成物層之後，對其進行曝光，實施顯影、 ^、。、、^而械光間隔件，從而製作液晶顯示裝置用基 <液晶顯示元件> 液Β曰顯不7U牛包含所述液晶顯示 f員示元件之例子，可列舉於至少-方為透級之樓體（包括本發明之液晶_裝置用基板）之間至少包含 f晶層與液晶驅動機構（包括單純矩_動陣驅動方式）之液晶顯示元件。王動矩〇於此情形時，液晶顯示裝置用基板亦可為如下之，、光片基板：具有多個RGB晝素群，構成該畫素群^ 旦素相互m色矩陣隔離之彩色濾料基板。於滤光片基板上設有高度均—^變形回復性優異之光( 件金因此具有該彩色遽光片基板之液晶顯示元件可抑^ 色濾、光片基板與對向基板之難生單元聰不 ^ 度變動），而可纽地防止色彩不均等辭不均 70: 此可使所製作之液晶顯示元件顯示鮮豔之影像。错而且，液晶顯示元件之其他態樣可列舉如下者： •々主* 47 201248332 修正日期:丨01年8月27日爲第101116564號中文說明書無麵修正本少一方為透光性的一對支樓體（包含本發明之液晶顯示裝置用基板）之間至少包含液晶層與液晶驅動機構，所述液晶驅動機構具有主動元件（例如TFT)，且-對基板間被高度均-且變形回復性優異之光間隔件控制為規定寬度。、、；此隋^/日寸，液晶顯示裝置用基板亦可為如下之彩色 =片基板：具有多個刪晝素群，構成該晝素群之各旦素^互之間被黑色矩陣隔離之彩色濾光片基板。〇可於本發明中使用的液晶例如可列舉向列型液晶固醇型液晶、層列型液晶、及鐵電液晶。而且’所述彩色濾、如基板之所述晝素群可為包含呈，相互不同顏色之2色晝素者，亦可為包含3色書辛、4 =素者。例如於包含3色畫素之畫素群之情形素時， 3 Γ i ):綠⑹及藍⑻之3種色調。於配置RGB 置· 情n較佳的是馬賽克型、三角型等配來色清m色以上之晝素群之情形時，可為任意配置。 '乂、先片基板例如可於形成2色以上之書辛群之後，如〇二=:==作亦可相反地 *可參考；' <液晶顯示裝置> 件。：;ρθ<Ι:ί置包含所述液晶顯示元件及觸控面板元向地對向配hTFT 件，將相互相上所述肺ίί 板與彩色濾^基板之間，如所这地猎由光間隔件將單元間隙控 48 201248332 r A / JJ4.il 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日經控制之間隙中封入液晶材料（將封入部位稱為液晶層）而所得的液晶層之厚度（單元厚度）保持為所期望之均一厚度；以及觸控面板元件，設於該液晶顯示元件之抓驅動基板侧。所述觸控面板元件亦可為於TFT驅動基板之設有TFT 之面的相反面直接依序積層第一導電層圖案、絕緣層圖案、第二導電層圖案、保護層而製作的觸控面板元件。於〇此情形時，觸控面板元件必須於TF T驅動基板與彩色濾光片基板之間封入液晶前的液晶顯示裝置用基板上，於密封材料等之耐熱溫度以下的溫度下而製作。液晶顯示裝置中之液晶顯示模式例如可列舉 (Super TwistedNematic，超扭轉向列）型、TN (Twisted Nematic ’ 扭轉向列）型、GH ( Guest Host，賓主）型、ECB (Electrically Controlled Birefringence，電控雙折射）型、鐵電液晶、反鐵電液晶、VA ( Vertical Aligned，垂直配向）型、1pS (In-Plane Switching，橫向電場切換）型、〇CB liJ , (Optical Compensated Birefringence，光學補償雙折射）型、ASM (Axially Symmetric Aligned Microcell，軸對稱排列微單元）型、其他各種液晶顯示模式。其中，作為本發明之液晶顯示裝置中之液晶顯示模式，自最有效地起到本發明之效果的觀點考慮，理想的是容易因液晶單元之單元厚度變動而產生顯示不均之顯示模式，較佳的是單元厚度為2 μιη〜4 μπι之VA型顯示模式、IPS型顯示模式、及 OCB型顯示模式。 49 201248332 T 上 / -/ / pAi I 修正日期:⑻年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正丨基本的液晶顯示裝置例如可列舉：（a)介隔光間隔件而將排列有薄膜電晶體（TFT)等驅動元件與畫素電極（導電層）而形成之驅動側基板、與包含對向電極（導電層） f對向基㈣向配置’於其間隙部封入液晶材料而成的液晶顯不裝置；（b)介隔光間隔件而將驅動基板、與包含對向電極（導電層）之對向基板對向配置，於其間隙部封入液晶材料而成的液晶顯示裝置等。具有使用本發明之感光性樹脂組成物之圖案的液晶顯示裝置可適宜地適用於各種液晶顯不機器中。 ❹ 關於液晶顯不裝置’例如於「次世代液晶顯示器技術 ,(内田龍男編輯、工業調査會股份有限公司、1994年發行）」中有所記載。本發明之液晶顯示裝置除了包含本發明之液晶顯示元件以外並無特別限制，例如可作為所述「次世代液晶顯示器技術」中所記載之各種方式之液晶顯示裝置而使用。其中，本發明之液晶顯示裝置特別是於作為彩色TFT方式之液晶顯示裝置而使用時有效。關於彩色τρτ 方式之液晶顯示裝置，例如於「彩色TFT液晶顯示器（丘 ❹ 立出版股份有限公司、1996年發行）」中有所記載。° ’、液晶顯示裝置除了包含所述液晶顯示元件以外，一般情況下使用電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件、視角補償膜、抗反射膜、光擴散膜、防眩膜等各種構件而構成。關於該些構件，例如於「，94液晶顯示器周邊材料、化學品之市場（島健太郎、CMC股份有限公司、19料年發行）」、及「2003液晶相關市場之現狀與將來展望（下卷） 50 201248332 修IE日期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無晝彳線修正本 (表良吉（Ryokichi Omote )、富士妯讲广 t?.. D 田士、'心研(Fuj! Chimem Resea^h lns_e，Inc.)、2003年發行）」等有所記載。 ’但本發明另外，只要以下，藉由實例對本發明加以更具體部只要不超出其主旨，則並不限定於以下實例。無特別限制，則「％」及「份」是質量基準。 [實例1] Ο -觸控面板用絕緣層及保護層用感光性樹之製作- 轉印材料於厚度為75μιη之聚對苯二甲酸乙二酯膜臨時支樓體 (PET臨日夺支樓體）上’塗佈包含下述配方之熱塑性樹脂層用塗佈液，於1G(rc下進行2分鐘之乾燥，然後進一步於12〇t：下進行1分鐘之乾燥’形成乾燥層厚為、Μ μπι 之熱塑性樹脂層。此處，乾燥條件中之溫度「1〇〇它」及「120 C」均為乾燥風之溫度。以下之乾燥條件中之溫度亦相同。 [熱塑性樹脂層用塗佈液之配方Α1] •甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸_2_乙基己酯/甲基丙烯酸苄醋/甲基丙烯酸共聚物（=55/11 7/4·5/28 8[莫耳比]、重量平均分子量90,000) ..... 58.4份 •笨乙烯/丙烯酸共聚物（=63/37[莫耳比]、重量平均分子量8,〇〇〇) .....136份 • 2,2-雙[4_(曱基丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基]丙烷 .....90.7 份 51 201248332 ——Γ__1 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:丨01年8月27日 •界面活性劑1(下述結構物1 酮溶液） •甲醇 • 1-曱氧基-2-丙醇 •丁酮 (界面活性劑1之組成） • 5.4 份 • 111 份 • 63.4 份 • 534 份 •下述結構物1 •丁酮 [化4] • · 30% • · 70%

結構物1 G^G：ά_Η2__ —(CH^-CHV^ 0<；ip〇>?H .{ rt'：ss ΐ； δ. y^S；v M#-® 3 3 9 Mw/M n=：g e « PO :環氧丙烷、EO :環氧乙烧） " 其次，於所形成之熱塑性樹脂層上塗佈包含下述配方 B之中間層用塗佈液’於8〇ΐ下進行i分鐘之乾操後，進 -步於l2〇C下進行1分鐘之乾燥，從而積層乾燥廣厚為 1.6 μιη之中間層。

[中間層用塗佈液之配方Β] •聚乙稀吼略唆酮（PVP Κ-30、ISP Japan股份有限公 •聚乙烯醇（PVA-205 份有限公司製造）、皂化度88%、日本可欒麗股 • · · · 3.22 份 52 201248332 I Λ. ^ I ^/ΑΛ. 1 爲第1〇1116564號中文說明書無劃線修正本司製造）修正日期:101年8月27日 • · · · 1.49 份 •曱醇 · · · · 42.9份 •蒸餾水 · · · · 52.4份其次，於所形成之中間層上進一步塗佈包含下述配方 1之感光性樹脂組成物層用塗佈液，然後於1〇(rc下進行2 分鐘之乾燥，然後進—步於12(rc下進行i分鐘之乾燥（乾〇燥條件A)’從而積層乾燥層厚為之透明感光性樹脂組成物層。 [感光性樹脂組成物層用塗佈液配方U •乙酉文-1-曱氧基-2-丙基g旨 · · · · 599份 •丁嗣 · · · · 238 份 • Solsperse 20000 ( Lubrizol 公司製造）· ·工 88 份 G •聚合物之45%溶液（日本專利特開厕⑽⑽號公報之段落編號[GG61]中所記載之結構式p_25 :重量平均分子量=3.5萬、固形物為45%、乙酸七甲氧基·2•丙基酉旨為 15%、1-甲氧基-2-丙醇為40%) [ (A)特定樹脂] • · · 114 份 DPHA液（二季戊四醇六丙烯酸酯：48%、二季戊四醇五丙烯峻酯：曱氧某 -2-丙基乙_旨：24%)[⑻以料（Μ)而表示之聚合性化合物] · · ·16.3份 •下述聚合性化合物（b2-l):(叫之成分為85%、 n=2及n=3之成分之合計為15%) · · · · 20 5 份 53 201248332 爲第“1116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:丨〇丨年8月27日 •胺基曱酸酯系單體（NK01igoUA-32P新中村化學股份有限公司製造：不揮發成分為75%、乙酸-1-曱氧基_2_ 丙基醋為25%) [ (B)其他聚合性化合物]· · · 7 72份 • 2,4-雙-(三氯曱基)-6-[4-(N,N-二乙氧基羰基甲基胺基)-3-溴苯基]-均三嗪[(C)光聚合起始劑]· · · ^巧份 • 2-三氣曱基-5-(對苯乙烯基甲基噁二唑[(c) 光聚合起始劑] .· · 0.635份 •對苯二紛亭甲喊[溶劑] · · · 0.072份

• Megafac F-784-F(DIC股份有限公司製造[界面活性劑]) · · · 0·51 份 [化5]

聚合性化合物（b2-l)

於上述式中，X均為丙烯醯基，旧丨〜3之混合物。厚如上方式進行Γ形成PET臨時切體/熱塑口性樹脂二日層/感光性樹脂組成物層之積層結構後，樹脂組成物層之表面進一步對作為覆蓋膜、、4尤性厚度為12 μηι 54 .1 201248332 修正日期:101年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本之聚丙烯製的膜進行加熱、加壓而將其貼附，獲得感光性樹脂轉印材料（1)。 (橋接電極之製成）使用濺鍍褽置（ULVAC公司製造之SIH3030)，介隔遮罩對清洗後之玻璃基板進行厚度為36 nm之IT〇濺鍍 ❸ G (主電流：2Α、預濺鍍電流：1 Α、預熱溫度：lOOt、濺鍵溫度：10(TC、預熱時間：3〇 min、Ar流量：8〇 sccm、〇2 ail 里.6 ccm、預歲鍍時間：2 min、速度：85〇 mm/min、基板溫度：1〇〇。〇)而製成橋接電極。 (絕緣層之形成） _、將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料（丨）之露出的感光性樹脂組成物層與預先加熱至表面溫度為9〇t：的上述已衣成了橋接電極之基板對向，使用積層機LamicII型 [日^產業股份有限公司製造]，於積層壓力為2 MPa (藉由田士軟片公司製造之Preseale而測定）、上棍為贼、 :輥為120t：之加壓、加熱條件下，以2 之搬送速度而進行貼合。將PET臨時支撐體剝離，使用具有超高壓水銀燈之近機（日立高新電子工程股份有限公司製造），介隔 ^橋，極之一部分之方式而設計的絕緣層圖案製作侧以、具杨像f案之石英曝光料），自齡性樹脂層術^峨式曝光。 ;如下成刀中加入純水使其成為励0份而調製處理 55 201248332 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:101年8月27日液A · 有機鹼成分：三乙醇胺 30份無機驗成分：碳酸鋼 11.2 份無機驗成分：碳酸氫鈉 7_1份陰離子系界面活性劑：萘磺酸鈉 16份非離子系界面活性劑（ADEKA公司製造、商品名為 ND550) 2份。將上述處理液A保溫為25°C，於具有多個搬送用輥 (其於同軸上設有支撐基板之多個滾轴）之顯影槽中進行基板之搬送’自基板之上方對基板面噴灑處理液而進行顯影。此處’將顯影槽中搬送基板之高度（滾軸之上部）稱為基板搬送線。

於顯影槽中，在喷淋壓力為0.1 MPa下噴灑處理液80 秒。其後’藉由純水進行10秒之沖洗，將基板上所殘存之處理液成分除去，使其乾燥。藉此而獲得將橋接電極部分性地覆蓋之絕緣層圖案。

(感測器電極之形成）介隔與橋接電極形成用遮罩不同之遮罩，使用滅鍵裝置（ULVAC公司製造之Sffl3030)，進行厚度為36 nmi ITO濺鍍（主電流：2 A、預濺鍍電流：1 A、預熱溫度： 100°C、濺鍍溫度：lOOt：、預熱時間·· 30 min、Ar流量： 80 seem、02流量：6 ccm、預濺鍍時間：2 min、速度：850 mm/min、基板溫度：l〇〇°C )，而製成感測器電極。感測器電極包含與橋接電極之未被絕緣層覆蓋的部分重疊的元件 56 201248332 修正日期:丨〇1年8月27日的元件B，由此爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 A、位於絕緣層上且並不與橋接電極重疊可確定接觸時之位置。 (保護層之形成）將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料⑴之露出的感光性樹脂組成物層與預先加熱至表面溫度為卯〇c之上述已製成了感測器電極之基板對向，使^層機型[一日立產業股份有限公司製造]，於鋪壓力為2術（藉〇

由虽士軟片公司製造之P職ale而測定）、上輕為贼、下輥為1赃之加壓、加熱條件下，以2 m/min之搬送速唐而携杆目λ备。將PET臨時支撐體剝離，使用具有超高壓水銀燈之近接型曝光機（日立高新電子工程股份有限公司製造），介隔保遵層圖案製作用遮罩（具有影像圖案之石$曝光遮罩），自熱塑性樹脂層侧以i線50 mJ/cm2之曝光量而進行近接曝光。將所述處理液A保溫為25°C，於喷淋壓力為〇.〗MPa 下對已曝光之基板喷灑80秒，然後藉由純水進行1〇秒之沖洗，除去基板上所殘存之處理液成分，使其乾燥。藉此而獲得於最上層具有保護層之靜電容觸控面板用感測器。 (處理液B〜處理液〇之調製）於如下述表1中所記載之成分之組成（量表示份）中分別加入純水而使其成為1〇〇〇份，與處理液A同樣地進 ^而調製處理液B〜處理液〇。記載有2種無機鹼成分之情形表示使用2種。 57 201248332 UUST—I寸【1<】 w 'k vB 韁 aii. •m^ φ{ CS <N CN <N CN (Ν 〇 CS (N CM (N (Ν <Ν 0.05 S 鄕〇 § 蘅W f -Μ -¾ W4 S <5 ω /^N Ο i 5 w 剧n? » << V·_·/· W 鉍 ΙΤί Ο 5 w 昶鉍剧ί57 S<4 ω s_/ I 聚醚型活性劑 1 /—Ν 〇 Q ^ W »<5 W 碟 /~N m i 5 w f *1 ® « ω /~\ 〇 *n ir> Q ji对 ® P；别Πό* » <5 W Nw^ /—N 〇 Q Z 5 W .¾轫 ^ Π? » << ω /•—N *Τ) Ρ 5 ^ 谀轾 Μ << ω 沄 Q f ^ f η 昶藏到ΓΪΓ s« 鉍二 ω r-s Ο ϊί Ρ ^； f W 别ΠΓ « << ω /—V 〇 Ρ ζ f ^ * ^ Μ Π7 »« ω \_/ /-N 〇 1 * w * ¢^ 莉 1Ϊ5* S << ω w si 岭锩 VO ^〇 VO i2 ^〇〇 MD VO VO ^ο r-^ Ο 2 \〇戥想 ύ 塚键赞 ύ « 毽 ύ 苍键赞碡磁臀 ★ 苍资 ύ 茶键资雜窗势 ύ 潜 ύ 毽 ύ 綦遨棘键窗资 W 無機驗成分 I φΗ CN (Ν in (S 卜：〇 CN 卜^ CS 1> es cs |T1 νο ο 对〇 (Ν rJ CN (Ν ψ-^ 卜^ 截鄉 « 潜苍毽窜 « 象 jO 苍罐 « 盤窜苍 Μ 馇苍毽窜键苍键窜 « 毽镑铋梦阳綦磁綦盤 « 键茶齧窜 « 毽嬸 ¥ 齧韶替塚潜窜谘舊键 Φ φ| 〇〇 CN 寸骤鄉筚鮏〇 n( 四甲基氫氧化銨鮏〇 'Ί 墉敏〇 W 筚鮏〇 * 〇 'Ί 鮏〇 H| * 〇 ''1 缕 3& 〇 ί'Ι 鮏〇 'Ί 鮏 Ο 丨丨1 鍥鮏〇 1'1 缕鮏 tO 'Ί 鮏 1〇丨，1 C 疼 W CQ 赵 W 喊 U 疼 W 喊 P 赵 R! ω 挺 ®) 挺 W α ttul 勒喊挺敦挺敦喊 t—Ϊ 餐 W 趄 W 嶙 -J 朝喊 S 嚷 W 喊敦喊〇挺 W 喊 201248332 ~Τ Λ. ^ f Ι^ϋΊ 爲第101116564號中文說明書無劃線修正日期:101年8月27丨 [實例2] 使用處理液B作為處理液樣之方法而製成靜電容觸田匕场藉由與實例1同之大小或密接性變得鱼每用感測器。以絕緣層圖案灑時間。 μ例1同等之方式調整處理液之嘴 [實例3] 使用處理液C作a #饰、— 〇樣之方法而製成靜電容觸控:二:二卜藉由與實例1同之大小或密接性變得與實例緣層圖案灑時間。 j寻之方式調整處理液之噴 [實例4] 將玻璃變更為15〇 μιη y 一為基材，除此以外藉由與、丨】^本二甲酸乙二酯臈作觸控面板用感測ft。以“層/之方法而製成靜電容實例1 _之方_之大小絲接性變得與只例1Π4之方式調整顯影液之〇 [實例5] 當於轉«絲麟减物層（相 =)之處理液作為處理液而進行顯影，除此以外藉= 樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕理液之喷灑日夺^ 變仔與貫例1同等之方式調整處 [比較例1] 於感光性樹月旨轉印材料之調製中並未設置熱塑性樹脂 59 201248332 修正日期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本層，除此以外藉由與實例1同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕緣層圖案之大小或密接性變得與實例 1同等之方式調整處理液之噴灑時間。 [比較例2] 於比較例1中，將感光性樹脂轉印材料之轉印條件設為基板預熱140°C、積層機之上下輥溫度、積層壓力為2 MPa (藉由富士軟片公司製造之prescale而測定）、搬送速度為1 m/min而進行，除此以外藉由與實例丨同樣之方法而製成靜電容觸控面板用感測器。以絕緣層圖案之大 ^或密接性變得與實例丨_之方式輕處理液之噴灑時 LtG 牧 1 夕'j 使：，1相同之感光性樹脂轉印材料方式而實施絕緣層與倾層之顯影，除纽補由: 1 =樣之料㈣成靜電容_面板絕圖案之大小或密接性變得鱼實乂絕緣層之喷。 u例1冋权料調整處理液 (絕緣層與保護層之顯影） :商=將一釋為ίο倍（以丁姻為5片有限公司製造）稀合）之液體）保溫為30c，為9份之比例進行混 60秒之喷灑，將熱塑性樹脂層:中= ::1 :a下進行玻璃基板之上表面吹空氣而進行脫二二： 201248332 • Λ ^ # ^Λ,Λ. X 修正日期:1〇1年8月27日爲桌1〇1116564號中文說明書無劃線修正本秒之沖洗。

繼而，將碳酸鈉系顯影液（藉由純水將含有〇.38m()1/1 之碳酸氫納、0.47 mol/1之破酸鈉、5%之石黃酸鈉系陰離子界面活性劑、消泡劑、及穩定劑之商品名T_CD1 (富士軟片股份有限公司製造）稀釋為5倍之液體）保溫為27。〇，於喷淋壓力為0.1 MPa下進行45秒之喷灑，除去感光性樹脂層之未曝光部分。繼而，對該玻璃基板之上表面吹空氣而進行脫液後，藉由純水進行1〇秒之沖洗。繼而，將清洗劑（藉由純水將含有磷酸鹽、矽酸鹽、非離子界面活性劑、消泡劑、穩定劑之商品名T_SD3'^富士軟片股份有限公司製造）稀釋為1()倍之液體）保溫^ 33。(：，於喷淋壓力為（U MPa下進行4〇秒之喷灑而進案影像之周邊的殘潰之除去。 [實例6〜實例17] 分別使用處理液D〜處理液〇作為處理液，除此以外耩由與實例1同樣之方法而製成實例6〜實例17之靜，控面板用感測.以絕緣層_之大小或密接性變得與貫例1同#之方式調*處理液之嘴麗時間。 ” (評價），如下所關於所得之實例及比較例之觸控述地進行性能評價。將結果示於表2中。 -顯影殘渣- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成巾，於近接 61 201248332 爲第ΐίΐ 116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:101年8月27日式曝光後，藉由與各實例及比較例之顯影條件同樣之方法進行顯影，進行所形成之矩形狀圖案部分之SEM觀察，確認於周邊是否殘存殘渣。實用水準為C以上。 <評價基準> A:完全未發現殘渣。 B:於圖案之隅角部分發現微量殘渣。 C :於圖案邊緣（4邊）發現微量殘渣。 D:於圖案附近之基板上發現殘渣。 E:於基板上隨處可確認殘渣。 u -積層性- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，於積層感光性樹脂轉印材料之後，藉由光學顯微鏡觀察而確認基板上之氣泡產生狀況。實用水準為C以上。另外，所謂先前圖案，於絕緣層之情形時是指橋接電極（圖案之階差厚度為36 nm)，於保護層之情形時是指絕緣層（厚度為1.38 μιη)及橋接電極（圖案之階差厚度為36 nm)。 <評價基準〉 Ο A:完全未發現氣泡。 B :於先前圖案周邊發現微小之氣泡，但無法藉由目視觀察而視認。 C:於先前圖案邊緣（4邊）發現微小之氣泡，但無法藉由目視觀察而視認。 D :可目視觀察到且亦可視認到先前圖案邊緣周邊之氣泡。 62 201248332, • A〆W / A丄丄爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日 E:於基板上隨處可目視觀察到且亦可視認到氣泡。 -圖案脫洛- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由光學顯微鏡觀察絕緣層之圖案，計測每10000個圖案之脫落數。實用水準為C以上。 <評價基準> A :無脫落 0 B : 1個以上且不足5個 C : 5個以上且不足10個 D : 10個以上且不足100個 E : 100個以上 -異物附著- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由光學顯微鏡觀察形成保護層後之基板表面，計測每1 m2之異物附著數。實用水準為C以上。 <評價基準> Ο A:無異物附著 B : 1個以上且不足5個 C : 5個以上且不足10個 D : 10個以上且不足100個 E : 100個以上 -顯影時之搬送性- 於上述絕緣層圖案之形成及保護層之形成中，藉由目視觀察顯影時之基板搬送狀態。實用水準為B以上。 63 201248332 爲第ΐίΐ116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:1〇1年8月27日 <評價基準> A:無搬送異常。 B :存在處理液發泡現象，但並不對基板搬送造成影響。 C ··處理液之發泡到達至基板搬送線上，基板搬送變得不穩定。於表2中，實例14劇烈起泡，基板之搬送變得不穩定，但所付之圖案並無異$。而且，於實例16中起泡較多，但並不對基板之搬送造成影響。〇 [表2] 顯影殘渣積層性顯影時間（秒）. —秒） Q〇圖案脫落 A 異物附著顯影時之基板 __^送性實例1 A A 實例2 —實例3 A A ———. A A A - 八 A 實例4 A A A A 實例5 A A -- A A A 比較例1 A E - A A • A A 比較例2 比較例3 B A D A A A A A A 實例6 C A A A A 實例7 C A ϋΡ B A A 實例8 c A —------------i8〇 B A A 實例9 c B A A 實例10 A A --- A A A 實例11 A A -- C A A 實例12 A A -------- C B A 實例13 C A --~~~ C C A 實例14 A A B A A 實例15 C A --——Z? C A B 實例16 A A —- A A — A 實例17 C A --------- C A B A C A 根據表2可知如下者。 64 201248332 * Λ- ^ I J-»Aa1 修正曰期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本 ,糟由本發明之感光性樹脂組成物之圖案形成方法，可，付顯影少、積層性良好、且異物之附著少的觸控面板用絕緣膜_。且本發明之感光性樹脂組成物之带成方法是轉時間短，g此可驗彡槽之長产，且^ 性高的圖案形成方法。又屋可知：藉，將處理液之組成難為有機驗成分：〇〇 •里。〜15質量％、無機驗成分：0.2質量％〜1〇質量 /。、陰離子系界面活性劑：G1質量％〜圖案雄、接性、異物附著變得更適宜。貫而且，即使於處理液含有選自聚合性化合物及含羧基之聚合物之至少1種的實例5，亦可獲得顯影殘渣少、積層性良好、且異物之附著少的觸控面板用絕緣膜圖案。 [實例18] (液晶顯林置用彩色縣狀光咖件用感光性樹脂轉印材料之製作）於厚度為75 μιη之聚對苯二曱酸乙二酯膜臨時支撐體 (PET臨時切體）上塗佈包含所述配方Μ之熱塑性樹脂層用塗佈液，於l〇〇°C下進行2分鐘之乾燥，然後進一步於12GC_F進行1分鐘之乾燥，形成乾燥層厚為 15 μιη ^熱塑性樹脂層。此處，乾燥條件中之溫度「loot」及 120 C」均為乾燥風之溫度。以下之乾燥條件中之溫度亦相同。其次’於所形成之熱塑性樹脂層上塗佈包含所述配方 65 201248332 *·-»—. £--— L mi0in6564m^^m»mm& 修正日期:101年8月27日 B之中間層用塗伟液，於_ 一步於12(TC下進行i分鐘仃1分鐘之乾燥後，進 1·6μηι之中間層。木，從而積層乾燥層厚為其次，於所形成之令間層上 1之感光性樹脂組成物層用塗 ^塗佈包含所述配方分鐘之乾燥，然後進一步於i “、、後於100°C下進行2 燥條件A)，從而積層乾燥層厚為*，行1分j童之乾燥（乾成物層。 ’、.μιη之感光性樹脂組

以如上方式進行而形成PET g 脂組成物層之=== ，面進一步對作為覆蓋膜之厚度為12 _ 件：感光ί樹脂苡=:2加)壓而將其貼附’獲得光間隔 (彩色濾光片之製成）

藉由日本專利特開2007_3〇44〇3號公報實例丨中所記載之方法而製作具有黑色矩陣、紅色晝素、綠色畫素、藍色晝素之彩色濾光片。對所製作之彩色濾光片進行清洗後，使用濺鑛裝置（ULVAC公司製造之SIH3030)而進行厚度為150 nm之ITO濺鍍（主電流：2 A、預濺鍍電流： 1 A、預熱溫度：i〇〇°c、濺鍍溫度：i〇(TC、預熱時間：3〇 min、Ar流量：80 seem、02流量：6 ccm、預賤鍍時間：2 min、速度：250 mm/min、基板溫度：l〇〇°c )，於彩色渡光片上積層ITO層。 (光間隔件之形成） 66 201248332 爲第贿職號中文說明書無劃線修正本修正日期:1Q刺27日、將覆蓋膜剝離，使感光性樹脂轉印材料（2)之露出的感光性樹脂組成物層與預先加熱至表面溫度為9〇它的上述之已經形成了彩色渡光片及IT〇層的基板對向，使型[曰立產業股份有限公司製造]，於線性壓 100 N/em、埃：贼、下輥：12(rc之加壓、加件下，以搬送速度：2 m/min進行貼合。 …條 0 將PET臨時支樓體剝離，使用具有超高壓水銀 =:(宰曰製I高新電子工程股份有_ ΐ Λ 作用遮罩（具有影像圖案之石英曝光遮 )’自…塑性樹脂層侧以i、線50 mJ/cm2 杆近接式曝光。 <嗯尤里而進仃將所述處理液A保溫為坑，於 i 光之基板進行崎之_，藉烽- ，將基板上所殘存之處理液除去，使1乾 Ο Ξ案猎由而於彩色㈣之所期望之部位形成光間隔;Γ [比較例4] 於感光性樹脂轉印材料之調實例18同等之方式調整處理液之案喷，麗^間或讀性變得與 !_比較例5] 方式之先:樹脂轉印材料，藉由如下層”保5蔓層之顯影，除此以外藉由與實例 67 201248332 ^ 1 修正日期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本 18同樣之方法而製成附有光間隔件之彩色濾光片。以光隔件圖案之大小或密接性變得與實例6同等之方式調整二理液之喷灑時間。 "Ε'处

首先，將三乙醇胺系顯影液（藉由純水將含有3〇〇/。二乙醇胺的商品名T-PD2 (富士軟片股份有限公司製造）釋為10倍（以T-PD2為1份與純水為9份之比例進行混合）之液體）保溫為30°C，於噴淋壓力為〇1MPa下進f 秒之喷灑，將熱塑性樹脂層與中間層除去。繼而，對2 玻璃基板之上表面吹空氣㈣行職後，藉由 = 秒之沖洗。 U 繼而

肘峽陂奶尔孅彩肷I藉由純水將含有〇 38 m〇] 之碳酸氫鈉、0.47 mol/1之碳酸鈉、5%之磺酸鈉陰離子界面活性劑、消泡劑、及穩定劑之商品名t_cdi^舍士 ] 片股份有限公司製造）稀釋為5倍之液體）保溫為。於噴淋壓力為G.l MPa下進行50秒之倾，除去咸光性一，組成物層之未曝光部分。繼而，對該玻璃基板d 口人空氣而進行脫液後，藉由純水進行10秒之沖洗。繼而，將清洗劑（藉由純水將含有磷_、/石夕酸鹽非離子系界面活性劑、消泡劑、穩定劑之商品名T_ s f 有限公司製造）稀釋為1G倍之液m 下妨㈣、之魏而進相 (評價）關於所得之實例18、比較例4、比較例$之彩色㈣ 68 201248332 爲第lil;16564號攸說___正本修正曰期:、月27日片’如下職地進行性能評價。減果匯總表* 日 -顯影殘渣- 3中。於實例18之項巾所記載之「附有光咖件之片之製作」巾’於近接式曝光後，藉由與各實例廣先件同樣之方法進行顯影，進行所賴之間 ^條 SEM觀察，確認於周邊是硕存錢。實用水料^分气 <評價基準> 以上。 A:完全未發現殘渣。 B.於圖案之隅角部分發現微量殘渣。 C .於圖案邊緣（4邊）發現微量殘渣。 D:於圖案附近之基板上發現殘渣。 E:於基板上隨處可確認殘渣。 -積層性- 於實例18之項中所記載之「附有光間隔件之彩色滤光片之製作」中，於積層感光性樹脂轉印材料之後，藉由光學顯微鏡觀察而確認彩色渡光片基板上之氣泡產生^兄。 ϋ 實用水準為C以上。另外，所謂先前圖案，是指由於彩色滤光片上之黑色矩陣與紅、、綠、藍晝素之厚度分別不同所產生之基板上之凹凸，及於黑色矩陣上部分重疊而形成之紅、綠、藍畫素之晝素外周部分（通稱為隅角）之兩方。另外，藉由觸針式膜厚計（TENC〇R&司製造）而測定顯影後之光間隔件之高度。 <評價基準> A:完全未發現氣泡。且顯影後之光間隔件之高度無 69 201248332 修正日期:1〇丨年8月27日爲第ώ 116564號中文說明書無劃線修正本異常。氣泡，輸生微小之 _=====嶋編、之氣泡，部二氣泡，該高度1生1基常板上到處產生氣泡，影後之糾隔件之 -間隔件高度均一性- =TENcxm公司製造之觸針式膜厚計⑻〇)而對平均光Γ隔件之自底部至頂點的高度，求出其八说值：最大值、最小值。藉錢大值·最小值而求出高度 =之範圍，藉由該範圍除以平均值而所得之值（值越小則均一性越高）而進行評價。實用水準為C以上。 <評價基準> A :不足1% B : 1%以上且不足2% C : 2%以上且不足3〇/〇 D : 3%以上且不足4〇/〇 E : 4%以上另外’於比較例4中，於產生氣泡之部分的周邊產生間隔件高度極其高或低之現象，且產生間隔件脫落之異常。 ••圖案脫落- 2012483 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:⑻年8月27日於實例18之項中所記載之附有光間隔件之彩色濾光片之製作中’藉由光學顯微鏡觀察光間隔件之圖案，計測每10000個圖案之脫落數。實用水準為c以上。 <評價基準> A:無脫落。 B : 1個以上且不足5個。 C : 5個以上且不足1〇個。〇 D : 10個以上且不足1〇〇個。 E : 1〇〇個以上。 -異物附著_ 於實例18之項中所記载之附有光間隔件之彩色濾光片之製作中，藉由光學顯微鏡觀察形成光間隔件後之基板表面’計測每1 m2之異物附著數。實用水準為c以上。 <評價基準> A:無異物附著。 B : 1個以上且不足5個。 O C : 5個以上且不足10個。 D: 10個以上且不足100個。 E : 100個以上。 -顯影時之搬送性- 於實例18之項中所記载之附有光間隔件之彩色濾光片之製作中，藉由目視觀察顯影時之基板搬送狀態。^用水準為B以上。 ' <評價基準〉 71 201248332 -----1 l 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日 A :無搬送異常。響 B .存在卿液發泡現象，但並不縣板搬送造成影基板搬送變 C:顯影液之發泡到達至基板搬送線上，得不穩定。 [表3] 顯影殘渔積層性實例18 A A 比較例4 A E 比較例5 A _A 顯影時間（秒） (包含沖洗10秒、顯影時之基板搬送性根據表3可知如下者。藉由本發明之感光性樹脂組成物之〇且士高的因此可縮短顯影槽之長度，有==本=== 72 201248332i 爲第ώΐ16564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:101年8月27日專利申請及技術規格，與具體且各個地記載引用此處之文獻、專利申請及技術規格之情形同等程度地引用至本說明書中。【圖式簡單說明】無。【主要元件符號說明】〇

73 201248332 ▲〆 v a ▲ <L 修正曰期:1〇丨年8月27日爲第101116564號中文說明書無劃線修正本發明專利說明書 (本說明書格式、順序，請勿任意更動，※記號部分請勿填寫） (f(6Jr^ ㈣ %。 (2〇〇6. 〇1) 006. ：' 心.'w- ※申請案號： ※申請曰： π“r <j 分類：一、發明名稱：（中文/英文） %、况下、使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法以及圖案、彩/ 色濾光片與影像顯示裝置 METHOD FOR FORMING PATTERN USING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN ,v OBTAINED BY THE METHOD, COLOR FILTER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE WITH THE COLOR FILTER 二、中文發明摘要·· 一種使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法，其依序包含如下步驟：將感光性樹脂轉印材料積層於基板上的步驟；依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨時支撐體之剝離〇的步驟；以及於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，藉由1種處理液進行熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之未曝光部分之除去的步驟，或者於所述感光性樹脂組成物為正型之情形時，藉由1種處理液而進行所述熱塑性樹脂層之除去與曝光後的感光性樹脂組成物層之曝光部分之除去的步驟。三、英文發明摘要： A method for forming pattern using photosensitive resin 1 201248332 爲第ώΐ 116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日 composition is provided. The method includes following procedures in sequence: laminating a photosensitive resin transfer material on a substrate, conducting an image-shaped exposure and stripping of a temporary support member in order or in reverse order, and removing a thermoplastic resin and an unexposed portion of the photosensitive resin composition layer after exposure by one kind of treatment solution when the photosensitive resin composition is negative-type, or removing the thermoplastic resin and an exposed portion of the photosensitive resin composition layer after exposure by one kind of treatment solution when the photosensitive resin composition is positive-type. 201248332 Λ I 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正曰期:丨〇丨年8月27日七、申請專利範圍： 1.—種圖案形成方法，其是使用感光性樹脂組成物的圖案形成方法，其依序包含：將於臨時支撐體上包含至少1層熱塑性樹脂層與至少 1層感光性樹脂組成物層的感光性樹脂轉印材料積層'於基板上的步驟；、土體之剝離依序或者倒序進行影像狀之曝光及臨時支撐的步驟；以及 # 於所述感光性樹脂組成物為負型之情形時，樹脂層之除去、與曝光“感光性光性樹脂組成物為正型之情科，#由丨種=液祕感 ==::二與曝光後的感光性樹餘成;: t ^ ^ * 界面活性劑以及非離子系界面活性劑機驗成分、陰離子系 3.如申請專利範圍第2 中，所述處理液中所含之有 =之圖案形成方法，其子系界面活性劑以及非離子、刀、無機鹼成分、陰離時之處理液巾的各含量，彳丨於在顯影中使用範圍： f於處理液之總量而言為下述有機鹼成分無機驗成分 α5質量％〜Π質量％ 0·2質量％〜1〇質量％ 201248332n 修正臼期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本陰離子系界面活性劑 0.1質量％〜10質量0/〇非離子系界面活性劑 0.01質量％〜2質量％。 4. 如申請專利範圍第2項所述之圖案形、成方°法，其中，所述處理液中所含之所述有機鹼成分、所述無機驗成分、所述陰離子系界面活性劑以及所述非離子系界面活性劑於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處之總量而言為下述範圍：〇有機驗成分 1質量％〜1〇質量％無機鹼成分 0.5質量％〜5質量〇/〇陰離子系界面活性劑 0.2質量％〜5質量％非離子系界面活性劑 0.02質量％〜1質量〇/0。 5. 如申請專利範圍第2項所述之圖案形成方法，其 =二所述處理液中所含之所述有機鹼成分是選自烷醇胺、氫氧化四烷基録以及烷基胺之至少丨種。 6·如申請專利範圍第2項所述之圖案形成方法，其 t，所述處理液中所含之所述無機鹼成分是選自碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉以及氫氧化鉀之至少1種。 7. 如申請專利範圍第1項所述之圖案形成方法，其中，所述基板是可撓性支撐體。 8. 如申請專利範圍第7項所述之圖案形成方法，其中，所述可撓性支撐體是連續搬送之網狀。八 9. 如申請專利範圍第2項所述之圖案形成方法，其中，所述處理液進一步含有選自聚合性化合物以及含羧基之聚合物的至少1種。 75 201248332 修正曰期:1〇1年8月27日爲第101116564號中文說明書無畫臟修正本 10.如申請專利範圍第9項所述之圖案形成方法，其中，所述選自聚合性化合物以及含羧基之聚合物的至少i 種化合物於在顯影中使用時之處理液中的各含量，相對於處理液之總量而言為〇·〇1質量％〜2〇質量0/〇。 U·如申請專職圍第丨項所述之_職方法，其中，所述感光性樹月旨組成物包含：⑷於側鍵具有酸性基之樹脂、⑻聚合性化合_及⑹枝合起始劑。〇 *，請專利範圍第11項所述之圖案形成方法’其处（）於側鏈具有酸性基之樹脂進一步包含：具飽結構之基的侧鏈，以及具有具乙烯性不項中任案’其藉*如申料利範圍第1項至第12 貝中任貞所奴圖案形成方法而形成。所述之圖案種衫色濾H其包含如申請專利範圍第U項項所裝置’其包含如申料職圍第Η ❹ 76 201248332 I 丄/··^ / 上/AiJL 爲第101116564號中文說明書無劃線修正本修正日期:101年8月27日四、栺定代表圖： (一）本案指定代表圖為：無。 (二）本代表圖之元件符號簡單說明：無。五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： Θ 無。