TW201239971A - Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, manufacturing apparatus of display device and manufacturing method of display device - Google Patents

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201239971 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於洗淨液晶用的玻璃製之基板或半導體晶 圓等基板之基板洗淨裝置、基板洗淨方法，顯示裝置之製 造裝置及顯示裝置之製造方法。 【先前技術】 於液晶顯示裝置或半導體裝置之製造步驟，要求以高 的洗淨度洗淨液晶用玻璃製之基板或半導體晶圓等基板。 作爲洗淨基板之洗淨裝置，例如已知有記載於下列專 利文獻1者。記載於專利文獻1的洗淨裝置，具備：搬送 基板之搬送機構、對被搬送的基板供給洗淨液的噴嘴體， 以及接觸於被供給洗淨液的基板進行旋轉之洗淨刷。 [專利文獻1]日本特開2002-23 948 5號公報 物體間，摩擦2個物體的場合，有容易帶正電者與容 易帶負電者，如圖5所示，存在「摩擦帶電列」的關係存 在，玻璃或尼龍或金屬等容易帶正電。但是，摩擦原本容 易帶正電的2個物體，例如玻璃與尼龍的場合，更容易帶 正電的玻璃帶正電，而尼龍帶負電。 亦即，旋轉刷的刷毛爲尼龍材質的場合，此旋轉刷接 觸於玻璃製的基板而旋轉時’基板帶正電’而旋轉刷帶負 電。 藉由洗淨而由基板上除去的對象物之污染粒子，爲鋁 或銅等金屬或矽，金屬容易帶正電，而矽則容易帶負電。 -5- 201239971 因此，爲了除去玻璃製的基板上的污染粒子而使尼龍 製的旋轉刷接觸於基板而使其旋轉的話，會發生旋轉刷帶 負電，基板帶正電，而帶正電的污染粒子被靜電吸附於旋 轉刷的問題。 【發明內容】 本發明係有鑑於前述問題而完成之發明，目的在於提 供對洗淨基板的旋轉刷，可以防止污染粒子被靜電吸附之 基板洗淨裝置、基板洗淨方法，顯示裝置之製造裝置及顯 示裝置之製造方法。 相關於本發明的實施形態之第1特徵，係於基板洗淨 裝置，具備：搬送基板的搬送機構、以藉由與前述基板之 摩擦而帶負電的材料所形成，藉由接觸前述基板而旋轉除 去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，以及將包含帶負 電的微小氣泡之洗淨液朝向前述旋轉刷供給之第1洗淨液 供給部。 相關於本發明的實施形態之第2特徵，係於基板洗淨 裝置，具備：搬送玻璃製的基板之搬送機構、以藉由與前 述基板之摩擦而帶負電的尼龍所形成，藉由接觸前述基板 而旋轉除去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，以及將 包含帶負電的微小氣泡之洗淨液朝向前述旋轉刷供給之第 1洗淨液供給部。 相關於本發明的實施形態之第3特徵，係於基板洗淨 方法，具備：搬送基板的步驟、以藉由與前述基板之摩擦 -6- 201239971 而帶負電的材料所形成，朝向藉由接觸前述基板而旋轉除 去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，供給包含帶負電 的微小氣泡之洗淨液的步驟。 相關於本發明的實施形態之第4特徵，係於基板洗淨 方法，具備：搬送玻璃製的基板的步驟、以藉由與前述基 板之摩擦而帶負電的尼龍所形成，朝向藉由接觸前述基板 而旋轉除去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，供給包 含帶負電的微小氣泡之洗淨液的步驟。 相關於本發明的實施形態之第5特徵，係於具備洗淨 被搬送的顯示裝置用的基板之基板洗淨裝置的顯示裝置之 製造裝置，前述基板洗淨裝置，係相關於前述第1或第2 特徵之基板洗淨裝置。 相關於本發明的實施形態之第6特徵，係於具有洗淨 被搬送的顯示裝置用的基板之基板洗淨步驟的顯示裝置之 製造方法，前述基板洗淨步驟，具有以藉由與前述基板之 摩擦而帶負電的材料所形成，朝向藉由接觸前述基板而旋 轉以除去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，供給包含 帶負電的微小氣泡之洗淨液的步驟。 相關於本發明的實施形態之第7特徵，係於具有洗淨 被搬送的顯示裝置用的玻璃製的基板之基板洗淨步驟的顯 示裝置之製造方法，前述基板洗淨步驟，具有以藉由與前 述基板之摩擦而帶負電的尼龍所形成，朝向藉由接觸前述 基板而旋轉以除去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷， 供給包含帶負電的微小氣泡之洗淨液的步驟。 201239971 根據前述第1至第7之任一特徵，在使用旋轉刷洗淨 基板的場合，可以防止污染粒子往旋轉刷之附著。 【實施方式】 (第1實施形態） 根據圖1至圖5說明本發明之第1實施形態。如圖1 及圖2所示，相關於第1實施形態之基板洗淨裝置1，具 備：搬送機構2、旋轉刷3、洗淨液槽4、微小氣泡產生部 5、第1洗淨液供給部6、第2洗淨液供給部7、控制基板 洗淨裝置1的全體之微電腦構成的控制部8。 搬送機構2，係把液晶顯示裝置或半導體裝置之製造 步驟使用的基板，例如玻璃製的基板9搬送於箭頭A方向 的機構，係由沿著箭頭A方向排列的複數搬送輥1 0，及 旋轉驅動這些搬送輥10的搬送馬達11所構成。搬送馬達 1 1被連接於控制部8，藉由控制部8被控制開關（ON/OFF) 〇 旋轉刷3，在沿著基板9的搬送方向上於特定位置設 置一對，以由表背雙面來夾住被搬送的基板9的方式被配 置爲平行。旋轉刷3，係由旋轉軸3a、及被植毛於旋轉軸 3a的外周部的刷毛3b所構成，刷毛3b是由尼龍所形成。 於旋轉軸3 a，被連接著使旋轉刷3繞著旋轉軸3 a的中心 線周圍旋轉驅動的旋轉馬達1 2。旋轉馬達1 2被連接於控 制部8，藉由控制部8被控制開_ (ΟΝ/OFF)。 於洗淨液槽4，貯留洗淨基板9時使用的純水或鹼性 -8- 201239971 水溶液所構成的洗淨液。 微小氣泡發生部5，係於洗淨液中產生微小氣泡的裝 置，設於連接吸起洗淨液槽4內的洗淨液的泵13與第1 洗淨液供給部6、第2洗淨液供給部7之配管15的途中。 泵1 3的上游側且係洗淨液槽4內的洗淨液到泵1 3爲止的 配管16的途中，被連接著供給氣體（空氣）的氣體供給管 17。於微小氣泡產生部5內，設有藉由加壓以泵13吸起 的洗淨液與經由氣體供給管17供給的氣體，而使氣體溶 解於洗淨液中的加壓溶解手段、以及藉由減壓溶解有氣體 的洗淨液而在洗淨液中產生微小氣泡的減壓手段。由微小 氣泡產生部5送出包含微小氣泡的洗淨液，包含被送出的 微小氣泡的洗淨液經由配管15內由第1洗淨液供給部6、 第2洗淨液供給部7被供給至旋轉刷3或基板9。又，藉 由微小氣泡產生部5內的減壓手段減壓而產生微小氣泡的 場合，此時引起的空泡化導致微小氣泡被摩擦帶有負電。 作爲微小氣泡產生部的其他形態，亦可以是藉由設在 泵1 3與第1洗淨液供給部6、第2洗淨液供給部7之間而 加壓洗淨液與氣體的加壓部，以及設在第1洗淨液供給部 6、第2洗淨液供給部7的出口側而減壓被加壓的洗淨液 之減壓部所構成。 此外，作爲微小氣泡的產生方式，不限於前述之加壓 溶解方式，例如，採用藉由微小氣泡產生部等預先產生包 含微小氣泡的洗淨液的旋轉方式之氣泡產生方式，通過配 管1 5內由第1洗淨液供給部6、第2洗淨液供給部7對旋 -9- 201239971 轉刷3或基板9供給該洗淨液亦可。或者是，在第1洗淨 液供給部6、第2洗淨液供給部7的內部等，於洗淨液的 渦流中捲入氣體產生微小氣泡，而將包含該微小氣泡的洗 淨液往旋轉刷3或基板9噴射的方式亦可採用。 微小氣泡產生部5被連接於控制部8，藉由控制部8 被控制開關（ΟΝ/OFF)。又，本發明之微小氣泡，是包含微 泡（micro-bubble, MB)或微奈米泡（micro-nano-bubble，MNB) 、奈米泡（nana-bubble，NB)等槪念之細微氣泡。例如，微 泡是具有ΙΟμιη〜數十μηι直徑的氣泡，微奈米泡爲具有數 百nm〜ΙΟμιη直徑之氣泡，奈米泡微具有數百nm以下的 直徑的氣泡，這些尺寸的氣泡帶有負電。 第1洗淨液供給部6，係把洗淨液槽4內的洗淨液被 供給至微小氣泡產生部5而產生的包含微小氣泡的洗淨液 朝向旋轉刷3供給之噴嘴，藉由泵1 3被驅動同時打開電 磁閥14a而供給洗淨液。泵13與電磁閥14a被連接於控 制部8，藉由控制部8被控制開關（ΟΝ/OFF)。 第2洗淨液供給部7，係把洗淨液槽4內的洗淨液被 供給至微小氣泡產生部5而產生的包含微小氣泡的洗淨液 朝向位在與旋轉刷3之接觸位置的基板9供給之噴嘴，於 沿著基板9的搬送方向之旋轉刷3的上游側與下游側對向 於基板9的表背兩側而設置的。藉由泵1 3被驅動同時打 開電磁閥1 4b，供應洗淨液。泵1 3與電磁閥1 4b被連接於 控制部8，藉由控制部8被控制開關（ΟΝ/OFF)。 圖3係說明於使玻璃製的基板9與尼龍製的旋轉刷3 -10- 201239971 接觸同時供給洗淨液洗淨基板9的場合，使由基板9除去 的污染粒子被靜電吸附於基板9或旋轉刷3而再附著的情 形，藉由帶負電的微小氣泡來防止的機制之模式圖。又， 作爲此處產生於洗淨液中的微小氣泡，以微奈米泡爲例來 進行說明，但奈米泡或微泡等也是相同的。 圖3之（a)係顯示於基板9之洗淨時，供給不含微小氣 泡的洗淨液，及基板9與旋轉刷3接觸之前的狀態。基板 9與旋轉刷3 —同帶有正電，由基板9除去而浮游於洗淨 液中的被帶有正電的污染粒子（例如，A1粒子），對於基板 9或旋轉刷3反彈。另一方面，由基板9除去而浮游於洗 淨液中的帶有負電的污染粒子（例如，Si粒子）被靜電吸附 於基板9或旋轉刷3。 圖3(b)顯示由圖3(a)所示的狀態起基板9與旋轉刷3 接觸而被摩擦的狀態。藉由基板9與旋轉刷3接觸而被摩 擦，根據圖5所示之「摩擦帶電列」，使基板9被維持於 帶正電的狀態，而旋轉刷3帶負電。藉此，由基板9除去 而浮游於洗淨液中的帶有正電的污染粒子（例如，A1粒子） 被靜電吸附於旋轉刷3，由基板9除去而浮游於洗淨液中 的帶有負電的污染粒子（例如，Si粒子）被靜電吸附於基板 9 〇 圖3之（c)係顯示於基板9之洗淨時，供給包含帶負電 的微小氣泡之微奈米泡的洗淨液，而基板9與旋轉刷3接 觸被摩擦的狀態。帶有負電的微小氣泡，附著於帶正電的 基板9的表面，或是由基板9除去而浮游於洗淨液中的被 -11 - 201239971 帶有正電的污染粒子（例如，A1粒子）的表面。藉此，防止 帶有負電的微小氣泡附著於表面的污染粒子（例如，A1粒 子）被靜電吸附而再附著於基板9或旋轉刷3。此外，防止 由基板9除去而浮游於洗淨液中的帶有負電的污染粒子（ 例如，Si粒子）被靜電吸附而再附著於表面帶有負電的微 小氣泡附著的基板9或負極性的旋轉刷3。 亦即，使用旋轉刷3之基板9洗淨時，藉由供給包含 帶負電的微小氣泡之洗淨液，可以防止由基板9除去而浮 游於洗淨液中的污染粒子被靜電吸附而再附著於基板9或 旋轉刷3，可以提高基板9的洗淨度。 根據圖4之流程圖說明基板9的洗淨步驟。首先，判 斷洗淨作業是否開始（步驟S 1 )，開始按鈕被打開開始洗淨 作業的場合（步驟S 1之YES)，搬送馬達1 1被驅動（步驟 S2)，微小氣泡產生部5被驅動（步驟S3)，由第1洗淨液 供給部6與第2洗淨液供給部7供給洗淨液（步驟S4)。 藉由搬送馬達11被驅動，搬送輥10被旋轉驅動而可 以進行基板9的搬送。此外，藉由微小氣泡產生部5被驅 動，開始在微小氣泡產生部5內之洗淨液中產生微小氣泡 。包含微小氣泡的洗淨液由第1洗淨液供給部6朝向旋轉 刷3供給，包含微小氣泡的洗淨液由第2洗淨液供給部7 朝向沿著基板9的搬送方向之旋轉刷3的上游側與下游側 供給。此外，這些洗淨液的供給，係在基板9被搬送到與 旋轉刷3之接觸位置之前就開始。 洗淨作業開始後，判斷基板9是否被搬送到與旋轉刷 -12- 201239971 3之接觸位置（步驟S 5)，在基板9被搬送到與旋轉刷3之 接觸位置的場合，停止來自第1洗淨液供給部6的洗淨 '液 的供給同時繼續來自第2洗淨液供給部7的洗淨液的供給 (步驟S6) » 此處，基板9被搬送到與旋轉刷3之接觸位置之前開 始由洗淨液供給部6往旋轉刷3之洗淨液的供給，所以在 與基板9接觸而摩擦之前帶有正電的旋轉刷3，會有帶負 電的微小氣泡附著。因此，藉由旋轉刷3接觸於基板9而 使帶負電的污染粒子（例如，Si粒子）由基板9除去的場合 ’可以確實防止該污染粒子再附著於旋轉刷3。 此外，洗淨裝置之處理室或是內部構成零件多半是以 容易帶負電的氯化乙烯形成的。基板9被搬送到與旋轉刷 3之接觸位置之前開始由第1洗淨液供給部6往旋轉刷3 之洗淨液的供給而使旋轉刷帶有負電的話，可以防止由洗 淨裝置的處理室或內部構成零件所剝離的氯化乙烯等污染 粒子（帶有負電）被靜電吸附於旋轉刷3。 在本實施形態，基板9被搬送到與旋轉刷3之接觸位 置的場合，由第2洗淨液供給部7之洗淨液的供給會繼續 同時停止由第1洗淨液供給部6供給洗淨液。因此，可以 減少洗淨液的消耗量。如先前所述，旋轉刷3接觸於基板 9的場合帶有負電。亦即，即使停止由第1洗淨液供給部 6供給洗淨液，也防止帶有負電的污染粒子附著於旋轉刷 3。此外，預先設定由第2洗淨液供給部7供給的洗淨液 的流速、流量爲洗淨液沖至基板9後朝向旋轉刷3反彈$ -13- 201239971 程度的話，可得到相同於對旋轉刷3繼續供給洗淨液的狀 能。

/Ill'S 又，基板9被搬送到與旋轉刷3之接觸位置爲止的期 間，不由第2洗淨液供給部7供給洗淨液，僅由第1洗淨 液供給部6進行洗淨液供給，基板9搬送到與旋轉刷3之 接觸位置的話，停止由第1洗淨液供給部6供給洗淨液， 而開始由第2洗淨液供給部7供給洗淨液的方式亦可。 .此外，在根據旋轉刷3的洗淨結束之後使來自第2洗 淨液供給部7之洗淨液暫時停止，直到次一基板9到達旋 轉刷3爲止的期間內再度開始由第1洗淨液供給部6供給 包含帶負電的微小氣泡的洗淨液之供給，在未與基板9接 觸的期間，使帶正電的旋轉刷3繼續帶有負電的方式來控 制亦可。如先前所述，可以防止在此期間內，由洗淨裝置 的處理室或內部構成零件剝離的氯化乙烯等污染粒子（帶 有負電）被靜電吸附於旋轉刷3。 又，來自第1洗淨液供給部6之洗淨液的供給，亦可 在基板9被搬送到與旋轉刷3之接觸位置後繼續進行。藉 此，可以提高洗淨精度。此外，因應於旋轉刷3的旋轉速 度改變洗淨液的供給量，旋轉速度快的場合增多供給量， 旋轉速度慢的場合減少供給量亦可。藉此，可以謀求洗淨 液的供給量之最佳化。 在本實施形態，舉例說明第2洗淨液供給部7設於沿 著基板9的搬送方向之旋轉刷3的上游側與下游側的場合 ，但僅設於任一方亦可。藉此，可以減少洗淨液的消耗量 -14- 201239971 此外，在本實施形態，舉例說明把旋轉刷3、第1洗 淨液供給部6、第2洗淨液供給部7配置於被搬送的基板 9的上下兩側的場合，但因應於處理的必要性而僅設於其 中任一方亦可。 (第2實施形態） 根據圖6及圖7說明本發明之第2實施形態。又，針 對與在第1實施形態說明之構成要素相同的構成要素賦予 相同符號，省略重複的說明。 第2實施形態之基板洗淨裝置21，係作爲製造顯示裝 置之液晶顯示器的製造裝置的一部分而設置的，此顯示裝 置之製造裝置，具備：於基板9上製作液晶驅動用的TFT 電路及電極圖案之製造裝置（未圖示），在被形成TFT電路 及電極圖案等的基板9上形成配向膜之配向膜形成裝置（ 未圖示），於被形成配向膜的基板9上形成包圍各胞單位 的顯不區域之框狀的密封之密封形成裝置（未圖示），於被 形成密封的基板9之各胞單位的顯示區域上使液晶材料滴 下的液晶供給裝置（未圖示），使被滴下液晶材料的基板9 與其他基板貼合的基板貼合裝置（未圖示），在貼合基板後 使密封硬化之密封硬化裝置（未圖示）等，以及，於各製造 裝置內及裝置間的基板移動步驟之必要的地點具備進行毛 刷洗淨之基板洗淨裝置2 1。 基板洗淨裝置21，具備搬送機構22，毛刷洗淨部23 -15- 201239971 、純水洗淨部24，與乾燥部25。被洗淨的基板9，如箭頭 B所示，依序被搬送通過毛刷洗淨部23、純水洗淨部24 、乾燥部2 5。 搬送機構22，具備搬送基板9的複數搬送輥26、與 被旋轉驅動這些搬送輥26的搬送馬達（未圖示）。 毛刷洗淨部23，具備旋轉刷3、第1洗淨液供給部27 、第2洗淨液供給部28a、28b、洗淨液槽4、微小氣泡產 生部5、泵1 3、與控制毛刷洗淨部23全體的控制部（未圖 示）等。 在此基板洗淨裝置21，藉由搬送機構22搬送的基板 9被搬往毛刷洗淨部23後，洗淨液，由第2洗淨液供.給部 2 8a往與旋轉刷3之接觸位置搬送的基板9供給。 又，於毛刷洗淨部23由第1洗淨液供給部27及第2 洗淨液供給部2 8a、28b供給的洗淨液，藉由微小氣泡產 生部5成爲包含微小氣泡的洗淨液，此包含微小氣泡的洗 淨液朝向旋轉刷3或基板9供給。 此洗淨液的供給，係在基板9之往毛刷洗淨部23搬 送的同時或在搬送之前進行的，帶正電的旋轉刷3上附著 帶負電的微小氣泡。 於毛刷洗淨部23，帶正電的污染粒子，以包圍該污染 粒子的方式吸引帶負電的微小氣泡，成爲在外觀上以帶負 電的物質表現於外的狀態。因此，防止往藉由帶負電的微 小氣泡的附著而成爲負的極性之旋轉刷3及基板9表面上 之再附著。 -16- 201239971 另一方面，防止帶負電的污染粒子，往負極性之旋轉 刷3或帶負電的微小氣泡附著的基板9表面上之再附著。 在本實施形態’係於以枚葉式（single wafer processing) 供給的基板9之洗淨方法，於供給洗淨液時，由第1洗淨 液供給部2 7及第2洗淨液供給部2 8 a、2 8 b同時供給洗淨 液的場合來進行說明，但旋轉刷3接觸於基板9的場合， 因爲旋轉刷3帶負電，防止帶負電的污染粒子附著於旋轉 刷3，所以停止由第1洗淨液供給部27供給洗淨液亦可。 藉此停止，可以減少洗淨液的消耗量。 在此場合，在根據旋轉刷3的洗淨結束之後使來自第 2洗淨液供給部28a、28b之洗淨液供給暫時停止，直到次 一基板9到達旋轉刷3爲止的期間內再度開始由第1洗淨 液供給部27供給包含帶負電的微小氣泡的洗淨液之供給 ’在未與基板9接觸的期間，使帶正電的旋轉刷3繼續帶 有負電的方式來控制亦可。藉由如此因應必要而切換對旋 轉刷3之洗淨液的供給與停止供給，可以減少洗淨液的消 耗量。 又，洗淨液的供給計時，可以與第一實施形態同樣， 在基板9之開始搬送的同時開始由所有的噴嘴供給，亦可 在基板9與毛刷3接觸的時間點，控制開始/停止。 此外，構成本實施形態的毛刷洗淨部2 3的第2洗淨 液供給部28a，具有切換洗淨液供給方向爲基板9方向與 旋轉刷3方向的機構，不使用第1洗淨液供給部2 7，而切 換來自第2洗淨液供給部28a的洗淨液供給方向也可以得 -17- 201239971 到同樣的效果。 又，在本實施形態，舉例說明旋轉刷3爲1根的場合 ，但爲了對應基板9的污染狀況及基板搬送速度的高速化 ，亦可設置複數根旋轉刷3» 在連接於毛刷洗淨部23的純水洗淨部24，對於被搬 送來的基板9，由設有純水淋浴、兆頻超音波（megasonic) 淋浴、二流體等之洗淨效果的供給部29供給純水，除去 無法以毛刷洗淨部23除去的污染粒子。此時，以毛刷洗 淨部23由基板9除去，藉由微小氣泡的效果防止再附著 的基板9上的污染粒子可容易的藉由從純水洗淨部24供 給的多量純水而容易洗掉。 於毛刷洗淨部23及純水洗淨部24被除去污染粒子的 基板9，被搬送至乾燥部25，藉著吹出藉由泵30加壓的 空氣等而除去基板9上的水分之氣刀31來除去/乾燥水分 。被除去水份乾燥的基板9，藉由搬送機構22被搬送至供 製造顯示裝置之次一步驟，例如，於基板9上形成電極圖 案的步驟。 又，在本實施形態，舉例說明對形成電極圖案之前的 基板9進行基板9的洗淨的場合，但對於形成電極圖案之 後的基板9也可得到同樣的洗淨效果。 圖7係顯示本發明的效果之一例之圖。 作爲顯示裝置之1例，於液晶顯示器的製造過程，在 驅動液晶顯示器的薄膜電晶體（以下，簡稱爲TFT)之生產 過程的基板洗淨步驟之中，於圖7之（a)及圖7之（b)顯示 -18- 201239971 實驗本發明之適用的基板洗淨效果的結果。 作爲玻璃製的基板使用68〇x88〇x〇.7t(mm)，以20枚 爲1批次之洗淨實驗實施了 5批次，進行了本發明之適用 /非適用之洗淨效果的比較。 圖7之（a)，係比較TFT步驟之最初的洗淨步驟，在 玻璃基板的收取洗淨步驟（形成電極圖案之前的洗淨步驟） ，使用在第2實施形態詳細說明的基板洗淨裝置，在往旋 轉刷3供給不含帶負電的微小氣泡的洗淨液的場合，與由 第1洗淨液供給部27與第2洗淨液供給部2 8a、2 8b常時 供給包含微小氣泡的洗淨液的場合（洗淨液供給部常時爲 打開），與在旋轉刷3與基板9接觸的場合停止來自第1 洗淨液供給部27之包含微小氣泡的洗淨液的供給僅由第2 洗淨液供給部28a、28b供給包含微小氣泡的洗淨液的場 合（洗淨液供給部ΟΝ/OFF控制）之洗淨後的基板9上所殘 留的污染粒子的個數的平均値之結果。 此外，圖7之（b)係使用收取洗淨後的玻璃基板上以真 空蒸鍍法蒸鍍、濺鍍成膜法等形成成爲閘極電極的金屬膜 ，以黃光製程進行電極的圖案化後之基板，以與前述同樣 的方式進行適用本實施形態之洗淨實驗的場合之殘留污染 粒子個數的平均値之比較結果。又，圖7之（b)的場合，洗 淨液使用純水。 於圖7之（a)於電極圖案形成前洗淨作爲由基板9除去 的污染粒子，應該有基板9操作時所附著的環境或人爲的 有機物及玻璃屑等，附著於旋轉刷3而摩擦基板9的污染 -19- 201239971 粒子或者除去後再附著的污染粒子，藉由帶負電的微小氣 泡之電荷效果等，減低往旋轉刷3之附著以及往基板9的 再附著的結果，確認了殘留於洗淨後的基板9的污染粒子 個數減少。 在圖7之（b)，於電極圖案形成後洗淨作爲由基板9除 去的污染粒子，應該有電極金屬粉及光阻殘渣等，與電極 圖案形成前洗淨的實驗結果相比，有污染粒子的殘留個數 可以更爲減低的傾向，應該是具有明確極性的電極金屬粉 的再附著防止效果所致。 此外，可知即使是把洗淨液的供給方法變更爲在藉由 旋轉刷3洗淨基板9時關掉洗淨液供給部27之省能源方 式，也可以得到同等級之改善效果。 於電極圖案形成前及形成後之任一實施結果，都可謀 求藉由對旋轉刷3或基板9供給包含帶負電的微小氣泡的 洗淨液而減低殘留污染粒子，確認了本實施形態的有用性 〇 結果，於液晶顯示器的生產步驟，在前面詳細說明的 顯示裝置之製造裝置群之各製造裝置內及裝置間的基板移 動步驟之必要處所進行毛刷洗淨的基板洗淨步驟後的殘留 污染粒子導致之電極配線的斷線發生、電極間漏電、伴隨 著絕緣膜的絕緣不良等之TFT性能不良以及在基板貼合步 驟產生的異物夾入導致的顯示不良等的發生處所數目可以 大幅減低，所以生產性的提高，及作爲不良對策之修理作 業時間也可以縮短，可以謀求生產效率的改善。 -20- 201239971 又，本實施形態詳細說明液晶顯示器的製造步驟，但 對於電漿顯示器及有機EL顯示器等的基板洗淨步驟，矽 晶圓或薄膜太陽電池等的製造步驟也是有效的》 〔其他實施形態〕 在第1實施形態舉例說明設置旋轉刷3專用的洗淨液 供給部之第1洗淨液供給部6與基板9專用的洗淨液供給 部之第2洗淨液供給部7的場合，以及在第2實施形態舉 例說明設置旋轉刷3專用的洗淨液供給部之第1洗淨液供 給部27與基板9專用的洗淨液供給部之第2洗淨液供給 部28a、28b的場合，但是設置單一之洗淨液供給部，把 此洗淨液供給部的洗淨液供給方向設爲可以切換亦可。藉 由洗淨液供給方向的切換，可以構成爲具有往旋轉刷3之 洗淨液供給與往基板9之洗淨液供給等2個態樣，在基板 9被搬送到與旋轉刷3接觸的位置爲止對旋轉刷3供給洗 淨液，在基板9被搬送到與旋轉刷3接觸的位置的場合， 朝向位在與旋轉刷3接觸的位置之基板9供給洗淨液。 此處，關於洗淨液的消耗量，例如由3系統之洗淨液 供給部（第1實施形態之6、7 ;第2實施形態之27、28a 、28b)之各個，供給10L/分鐘的洗淨液的條件下，藉由在 旋轉刷3與基板9接觸時停止對旋轉刷3供給的洗淨液之 手法，約有10L/分鐘的洗淨液可以省下，在設置單一洗淨 液供給部而切換洗淨液的供給方向的場合，可以省下20L/ 分鐘的洗淨液供給。 -21 - 201239971 此外，關於洗淨液的供給量，例如，亦可使3系統的 洗淨液供給部（第1實施形態之6、7 :第2實施形態之27 、2 8a、2 8b)之各個的液供給量，亦即來自3個噴嘴的液 供給量分別爲不同》 雖然說明了本發明之幾個實施形態，但這些實施形態 ，僅係作爲例子而提示的，並未意圖限定發明的範圍。這 些新穎的實施形態，可以在其他種種形態被實施，在不逸 脫於本發明要旨的範圍，可以進行種種的省略、置換、變 更。這些實施形態或其變形，包含於本發明的範圍或要旨 ，同時也包含與記載於申請專利範圍的發明均等的範圍。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示相關於本發明的第1實施形態之基板洗淨 裝置的槪略構成之側面圖。 圖2係顯示基板洗淨裝置的控制系統的構成之方塊圖 〇 圖3係說明於基板洗淨時，防止帶負電的微小氣泡導 致污染粒子往基板與旋轉刷之附著的機制之模式圖。 圖4係供說明基板洗淨的動作步驟之流程圖。 圖5係顯示物體間的摩擦帶電列的關係之圖。 圖6係顯示相關於本發明的第2實施形態之基板洗淨 裝置的槪略構成之側面圖。 圖7係顯示本發明的效果之一例之圖。 -22- 201239971 【主要元件符號說明】 1 :基板洗淨裝置 2 :搬送機構 3 :旋轉刷 3 a :旋轉軸 3 b :刷毛 4 :洗淨液槽 5 :微小氣泡產生部 6 :第1洗淨液供給部 7 :第2洗淨液供給部 8 :控制部 9 :基板 1 0 :搬送輥 1 1 :搬送馬達 1 2 :旋轉馬達 13 :泵 1 4 a，1 4 b :電磁閥 1 5 :配管 1 6 :配管 1 7 :氣體供給管 -23-

Claims (1)

1. 201239971 七、申請專利範圍： 1. —種基板洗淨裝置，其特徵爲具備： 搬送基板的搬送機構、 以藉由與前述基板之摩擦而帶負電的材料所形成，藉 由接觸前述基板而旋轉除去附著於前述基板的污染粒子的 旋轉刷，以及 將包含帶負電的微小氣泡之洗淨液朝向前述旋轉刷供 給之第1洗淨液供給部。 2. —種基板洗淨裝置，其特徵爲具備： 搬送玻璃製的基板之搬送機構、 以藉由與前述基板之摩擦而帶負電的尼龍所形成，藉 由接觸前述基板而旋轉除去附著於前述S板的污染粒子的 旋轉刷，以及 將包含帶負電的微小氣泡之洗淨液朝向前述旋轉刷供 給之第1洗淨液供給部。 3. 如申請專利範圍第1或2項之基板洗淨裝置，其中 前述第1洗淨液供給部，在前述基板被搬送到與前述 旋轉刷之接觸位置之前就對前述旋轉刷供給前述洗淨液。 4. 如申請專利範圍第1或2項之基板洗淨裝置，其中 除了前述第1洗淨液供給部外，還具備朝向位在與前 述旋轉刷之接觸位置的前述基板供給前述洗淨液的第2洗 淨液供給部； 在前述基板被搬送到與前述旋轉刷之接觸位置的場合 ，前述第1洗淨液供給部停止前述洗淨液的供給，前述第 -24- 201239971 2洗淨液供給部供給前述洗淨液。 5.如申請專利範圍第1或2項之基板洗淨裝置，其中 前述第1洗淨液供給部將洗淨液供給方向設爲可以切 換，在前述基板被搬送到與前述旋轉刷之接觸位置爲止， 對前述旋轉刷供給前述洗淨液，前述基板被搬送到與前述 旋轉刷之接觸位置的場合，切換洗淨液供給方向朝向位在 與前述旋轉刷之接觸位置的前述基板供給前述洗淨液。 6·—種基板洗淨方法，其特徵爲具備： 搬送基板的步驟、 以藉由與前述基板之摩擦而帶負電的材料所形成，朝 向藉由接觸前述基板而旋轉以除去附著於前述基板的污染 粒子的旋轉刷，供給包含帶負電的微小氣泡之洗淨液的步 驟。 7.—種基板洗淨方法，其特徵爲具備： 搬送玻璃製的基板之步驟、 以藉由與前述基板之摩擦而帶負電的尼龍所形成，朝 向藉由接觸前述基板而旋轉以除去附著於前述基板的污染 粒子的旋轉刷，供給包含帶負電的微小氣泡之洗淨液的步 8 _如申請專利範圍第6或7項之基板洗淨方法，其中 對前述旋轉刷之前述洗淨液的供給，是從前述基板被 搬送到與前述旋轉刷之接觸位置之前進行的。 9.如申請專利範圍第6或7項之基板洗淨方法，其中 具備朝向位在與前述旋轉刷之接觸位置的前述基板供 -25- 201239971 給前述洗淨液的步驟，在前述基板被搬送到與前述旋轉刷 之接觸位置的場合停止朝向前述旋轉刷之前述洗淨液的供 給’同時進行朝向前述基板之前述洗淨液的供給。 10. 如申請專利範圍第6或7項之基板洗淨方法，其 中 切換前述洗淨液的供給方向，在前述基板被搬送·到與 前述旋轉刷之接觸位置爲止，對前述旋轉刷供給前述洗淨 液，前述基板被搬送到與前述旋轉刷之接觸位置的場合， 朝向位在與前述旋轉刷之接觸位置的前述基板供給前述洗 淨液。 11. —種顯示裝置之製造裝置，其特徵爲具備洗淨被 搬送的顯示裝置用的基板之基板洗淨裝置， 前述基板洗淨裝置，爲申請專利範圍第1或2項所記 載之基板洗淨裝置。 12. —種顯示裝置之製造方法，係具有洗淨被搬送的 顯示裝置用的基板之基板洗淨步驟，其特徵爲： 前述基板洗淨步驟，具有以藉由與前述基板之摩擦而 帶負電的材料所形成，朝向藉由接觸前述基板而旋轉以除 去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，供給包含帶負電 的微小氣泡之洗淨液的步驟。 13. —種顯示裝置之製造方法，係具有洗淨被搬送的 顯示裝置用的玻璃製的基板之基板洗淨步驟，其特徵爲： 前述基板洗淨步驟，具有以藉由與前述基板之摩擦而 帶負電的尼龍所形成，朝向藉由接觸前述基板而旋轉以除 -26- 201239971 去附著於前述基板的污染粒子的旋轉刷，供給包含帶負電 的微小氣泡之洗淨液的步驟。 14. 如申請專利範圍第12或13項之顯示裝置之製造 方法，其中 對前述旋轉刷之前述洗淨液的供給，是從前述基板被 搬送到與前述旋轉刷之接觸位置之前進行的。 15. 如申請專利範圍第12或13項之顯示裝置之製造 方法，其中 具備朝向位在與前述旋轉刷之接觸位置的前述基板供 給前述洗淨液的步驟，在前述基板被搬送到與前述旋轉刷 之接觸位置的場合停止朝向前述旋轉刷之前述洗淨液的供 給，同時進行朝向前述基板之前述洗淨液的供給。 16. 如申請專利範圍第12或13項之顯示裝置之製造 方法，其中 藉由切換由朝向位在與前述旋轉刷之接觸位置的前述 基板供給前述洗淨液的第2洗淨液供給部的洗淨液供給方 向，在前述基板被搬送到與前述旋轉刷之接觸位置爲止， 對前述旋轉刷供給前述洗淨液，在前述基板-被搬送到與前 述旋轉刷之接觸位置的場合，切換洗淨液供給方向朝向位 在與前述旋轉刷之接觸位置的前述基板由前述第2洗淨液 供給部供給前述洗淨液。 17. 如申請專利範圍第12或13項之顯·示裝置之製造 方法，其中 前述基板洗淨步驟，是在對形成電極圖案之前的前述 -27- 201239971 基板的場合，以及在對形成電極圖案之後的前述基板的場 合進行的。