JP5053115B2 - 基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents
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内部に上記基板が保持される処理槽と、
この処理槽に保持された基板の少なくとも被処理面にナノバブルを含む処理液を供給する液体供給手段と、
この液体供給手段から処理液が供給された上記基板の被処理面に向けて流体を噴射する噴射手段と、
この噴射手段から噴射される流体にマイナスイオンを帯電させそのマイナスイオンによって上記処理液に含まれるナノバブルを破裂させその破裂によって生じるエネルギで上記基板の被処理面を洗浄処理させる帯電手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記帯電手段は気液2流体の気体にマイナスイオンを付与することが好ましい。
基板の被処理面にナノバブルを含む処理液を供給する工程と、
上記基板の被処理面にマイナスイオンを帯電させた流体を供給し、そのマイナスイオンによって上記ナノバブルを破裂させて上記被処理面を洗浄処理する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。
図1に示すこの発明の処理装置は処理槽1を備えている。この処理槽1内には内槽2が設けられている。この内槽2の内部には載置テーブル3が設けられ、この載置テーブル3は処理槽1の下方に設けられたZ駆動機構3aによって上下方向に駆動可能となっている。Z駆動機構3aの駆動軸3bは処理槽1の底部に設けられたシール性を有するスラスト軸受3cによって軸方向に移動可能に支持されている。上記載置テーブル3の上面には半導体ウエハやガラス基板などの基板Wが図示しない回路パターンが形成された被処理面としてのデバイス面を上に向けてして供給載置される。
載置テーブル3をZ駆動機構3aによって上昇方向に駆動し、その上面を内槽2の処理液Lの液面から露出させたならば、その上面にデバイス面を上にして基板Wを供給載置する。
Claims (4)
- 基板を洗浄処理する処理装置であって、
内部に上記基板が保持される処理槽と、
この処理槽に保持された基板の少なくとも被処理面にナノバブルを含む処理液を供給する液体供給手段と、
この液体供給手段から処理液が供給された上記基板の被処理面に向けて流体を噴射する噴射手段と、
この噴射手段から噴射される流体にマイナスイオンを帯電させそのマイナスイオンによって上記処理液に含まれるナノバブルを破裂させその破裂によって生じるエネルギで上記基板の被処理面を洗浄処理させる帯電手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記噴射手段に供給される流体は気体と液体が混合した気液2流体であって、
上記帯電手段は気液2流体の気体にマイナスイオンを付与することを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記基板は上記処理槽に貯えられた処理液に浸漬され、この処理槽には処理液の液面が上記基板の被処理面よりもわずかに高くなるよう制御する液面制御手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 基板を洗浄処理する処理方法であって、
基板の被処理面にナノバブルを含む処理液を供給する工程と、
上記基板の被処理面にマイナスイオンを帯電させた流体を供給し、そのマイナスイオンによって上記ナノバブルを破裂させて上記被処理面を洗浄処理する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法。
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